TW548425B - Antiglare film, method for producing the same, polarizer and liquid crystal display - Google Patents
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Description
548425 五、發明說明(1 ) 發明背景 發明領域 ' · 本發明係有關一種抗閃耀膜,用於製造該膜之方法, 偏光鏡以及使用該偏光鏡的液晶顯示器。 相關技術說明 於諸如CRT、PDP、及LCD之類影像顯示器中,一般 而言係將抗閃耀膜以及抗閃耀性抗反射膜配置在顯示器 的最外側表面上,目的是防止肇因於外部光線之反射作 用以及影像之反射作用而減低其反差。 於該塗料溶液中使用由無機或有機聚合物構成的粒子 ,以便形成具有抗閃耀膜或抗閃耀性抗反射膜的抗閃耀 硬式外罩層以便給出抗閃耀性質。當使用腫脹且溶解有 三乙醯基纖維素載體的溶劑當作用於抗閃耀硬式外罩層 之塗料溶液內的溶劑組成以便得到該三乙醯基纖維素載 體與該抗閃耀硬式外罩層之黏著性時,用於給出抗閃耀 性質的粒子是局部地埋藏於該載體內,因此無法獲致充 分的抗閃耀性質。在以其內未溶解有三乙醯基纖維素載 體的溶劑製備抗閃耀硬式外罩層之塗料溶液時,也無法 獲致充分的黏著性,雖然能夠得到抗閃耀性質,以致在 任一例子裡都存在著問題。 發明之扼要說明 本發明的目的是提供一種抗閃耀膜,係僅僅藉由將抗 閃耀硬式外罩層形成於三乙醯基纖維素透明載體上而有 足夠抗閃耀性質,且和載體與抗閃耀硬式外罩層之充分 548425 五、發明説明(2) 黏著度相容,此外提供一種藉由提供低折射指數層而具 有抗反射能力的抗閃耀膜。 本發明的目的是利用上述膜提供一種偏光器及液晶顯 示器。 本發明的上述目的已藉由各含有說明如下組成的抗閃 耀膜、偏光器、及液晶顯示器而達成。 1 · 一種抗閃耀膜,係包括三乙醯基纖維素透明載體,其 上已提供有一層或更多層包含抗閃耀硬式外罩層之硬 式外罩層,其中接觸該三乙醯基纖維素透明載體的該 硬式外罩層係由包括含有一種或更多種會溶解該三乙 醯基纖維素載體之溶劑以及一種或更多種不會溶解該 三乙醯基纖維素載體之溶劑的塗料溶液形成的。 2·如上述第1項之抗閃耀膜,其中至少該不會溶解該H 乙醯基纖維素載體之溶劑之一的沸點會比至少該會溶 解該三乙醯基纖維素載體之溶劑之一的沸點更高。 3 ·如上述第2項之抗閃耀膜,其中在該不會溶解該三乙 醯基纖維素載體之溶劑中具有最高沸點之溶劑與該會 溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最高沸點白勺 溶劑之間沸點的溫度差異爲30°C或更大。 4. 如上述第1、第2、或第3項之抗閃耀膜,其中該抗 閃耀硬式外罩層係藉由游離化輻射的交聯作用而形成 的。 5. 如上述第1、第2、第3、或第4項之抗閃耀膜,其中 至少使用因游離化輻射而交聯的含五個或更多個官能 -4- " '----- 548425 五、發明説明(3) 基之丙烯酸酯單體當作用於形成該抗閃耀硬式外罩層 的成份。 6 ·如上述第1到5項之抗閃耀膜,其中該三乙醯基纖維 素透明載體係藉由單層鑄造法對將三乙醯基織維素溶 解於實質上不含二氯甲烷之溶劑內所製備之三乙醯基 纖維素塗料施行鑄造而形成的三乙醯基織維素膜。 7 ·如上述第1到5項之抗閃耀膜,其中該三乙醯基纖維 素透明載體係藉由多層鑄造法對將三乙醯基纖維素溶 解於溶劑內所製備之三乙醯基纖維素塗料施行鑄造而 形成約三乙醯基纖維素膜。 8. 如上述第1到7項之抗閃耀膜,其中係將其平均粒子 尺寸爲從1.0到5.0微米的粒子散佈於該抗閃耀硬式 外罩層內。 9. 如上述第8項之抗閃耀膜,其中散佈於該抗閃耀硬式 外罩層內的粒子皆係球形有機聚合物粒子。 1 0.如上述第1到9項之抗閃耀膜,其中該抗閃耀硬式 外罩層係具有從1.5 0到2.0 0的折射指數。 1 1 ·如上述第1到1 0項之抗閃耀膜,其中該抗閃耀硬式 外罩層係包括由含有具兩種或更多種乙烯不飽和基之 單體,以及具有至少一種選自由鈦、鋁、銦、鋅、錫 、銻、及錮組成之族群的金屬且其粒子尺寸爲0.1微 米或更小之氧化物構成的熟化產物。 1 2 ·如上述第1到1 1項之抗閃耀膜,其中係提供有其折 射指數爲1 · 3 5到1 · 4 5之低折射性層當作其上提供有至 548425 五、發明説明(4 ) 少一層硬式外罩層之最外層上的抗反射膜,且該抗閃 耀膜的霧度是3.0%或更大。 1 3.如上述第1 2項之抗閃耀膜,其中該低折射性層係包 括由因熱能或游離化輻射而交聯的含氟化合物組成以 及無機微細粒子構成的熟化產物,且其厚度爲450到 650奈米之該抗閃耀膜的含倂球體平均反射率爲2.3% 或更低。 1 4.如上述第1 3項之抗閃耀膜,其中該無機微細粒子的 平均粒子尺寸爲從0.001到0.1微米。 1 5.如上述第1 3或第1 4項之抗閃耀膜,其中該無機微 細粒子皆係由矽石構成的。 16. 如上述第1 3、第14、或第1 5項之抗閃耀膜,其中 該含氟化合物係一種藉由使含氟之乙烯基單體聚合化 而得到的聚合物。 17. 如上述第1到16項之抗閃耀膜,其中該三乙醯基纖 維素透明載體係藉由多層鑄造法對三乙醯基纖維素施 行鑄造而形成的三乙醯基織維素。 1 8. —種用於製造抗閃耀膜的方法,該抗閃耀膜係包括 三乙醯基纖維素透明載體,其上已提供有一層或更多 層包含抗閃耀硬式外罩層之硬式外罩層,其中接觸該 三乙醯基織維素透明載體的該硬式外罩層係由包括含 有一種或更多種會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑 以及一種或更多種不會溶解該三乙醯基纖維素載體之 溶劑的塗料溶液形成的。 548425 五、發明説明() 1 9·如上述第1 8項之用於製造抗閃耀膜的方法,其中至 少該不會溶解該三乙醯基織維素載體之溶劑之一的沸 點會比至少該會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑之 一*的沸點更局。 20.如上述第1 9項之用於製造抗閃耀膜的方法,其中在 該不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最高 沸點之溶劑與該會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑 中具有最高沸點的溶劑之間沸點的溫度差異爲3 〇它或 更大。 2 1 ·如上述第1 8、第1 9、或第20項之用於製造抗閃耀 膜的方法,其中該抗閃耀硬式外罩層係藉由游離化輻 射的交聯作用而形成的。 22.如上述第18、第19、第20、或第21項之用於製造 抗閃耀膜的方法,其中至少使用因游離化輻射而交聯 的含五個或更多個官能基之丙烯酸酯單體當作用於形 成該抗閃耀硬式外罩層的成份。 2 3.如上述第18到22項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中該三乙醯基纖維素透明載體係藉由單層鑄造法對 將三乙醯基纖維素溶解於實質上不含二氯甲烷之溶劑 內所製備之三乙醯基纖維素塗料施行鑄造而形成的三 乙醯基纖維素膜。 24.如上述第1 8到22項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中該三乙醯基纖維素透明載體係藉由多層鑄造法對 將三乙醯基纖維素溶解於溶劑內所製備之三乙醯基纖 -7- 548425 五、發明説明(6 ) 維素塗料施行鑄造而形成的三乙醯基纖維素膜。 25. 如上述第18到24項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中係將其平均粒子尺寸爲從1.0到5,0微米的粒子 散佈於該抗閃耀硬式外罩層內。 26. 如上述第1 8到25項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中該抗閃耀硬式外罩層係具有從1 · 5 0到2.00的折射 指數。 27. —種偏光器,其中係使用如上述第1到1 7項中任意 一項之抗閃耀膜當作偏光層上至少兩層保護膜之一。 28. —種偏光器,其中係使用如上述第1到17項中任意 一項之抗閃耀膜當作偏光層上至少兩層保護膜之一, 且係使用一種含有光學各向異性之光學補償膜當作另 一保護膜。 29· —種液晶顯示器,其中係使用如上述第1到17項中 任葸一項之抗閃耀膜或是如上述第2 7或2 8項之偏光 器當作該顯示器的最外層。 圖式簡述 第1圖係用以顯示一種抗閃耀性抗反射膜之層膜組成 的截面示意圖。 較佳實施例的詳細說明 本發明的抗閃耀膜係包括其上已提供有一層或更多層 包含抗閃耀硬式外罩層之硬式外罩層的三乙醯基纖維素 透明載體,且在該抗閃耀膜需要抗反射功能時另外提供 一低折射指數層。 548425 五、發明説明(7 ) 本發明之抗閃耀膜的基礎組成係參照各附圖說明如下 〇 如第1圖所示之實施例顯示的是本發明之抗閃耀膜的 實例。抗閃耀膜1的層膜組成依序爲:包括三乙醯基纖維 素的透明載體2;抗閃耀硬式外罩層3 ;及低折射指數層4 。無光澤粒子5係散佈於該抗閃耀硬式外罩層3內。該 抗閃耀硬式外罩層3可能包括許多層。此外,可能塗覆 有不具抗閃耀性質的硬式外罩層(圖中未標示)以提供薄 膜強度,雖則並非總是必需的。 本發明中使用的「硬式外罩層」係同時包含抗閃耀硬 式外罩層以及不具抗閃耀性質的硬式外罩層。 較佳的是上述抗閃耀硬式外罩層的折射指數是從1.5 0 到2·00,且較佳的是該低折射指數層的折射指數是從 1.35到1.45。用來當作透明載體之三乙醯基纖維素的折 射指數是1.48。 較佳的是本發明的抗閃耀膜具有3.0 %或更大的霧度( 更佳的是從3到1 5 %)。抗閃耀性質及霧度不需要呈線性 對應,但是若其霧度是小於3 %,則無法獲致具有足夠 抗閃耀性質的抗閃耀膜。另一方面,若其霧度是過大的 。則該表面上或是該薄膜內側的光散射是很強的,結果 會產生諸如減低影像淸晰度及白化程度之類的問題。 本發明之抗閃耀膜的每一層膜組成係說明如下。 載體 根據本發明之抗閃耀膜中使用的透明載體係一種三乙 - 9· 548425 五、發明説明(8 ) 醯基纖維素載體(其折射指數爲1.48),更佳的是一種包 括許多層的三乙醯基纖維素載體。 在於液晶顯示器中使用本潑明之抗閃耀膜時,係藉由 於某一側上提供黏著層等方式將該抗閃耀膜配置在液晶 顯示器的最外層表面上。由於係使用三乙醯基纖維素當 作用於保護偏光器之偏光層的保護膜,故本發明中以三 乙醯基纖維素當作載體之抗閃耀膜能夠依其原樣以經濟 而非常有利的形式用來當作保護膜。 至於本發明之抗閃耀膜的透明載體,較佳的是藉由任 意一種單層鑄造法或多層鑄造法對將三乙醯基纖維素溶 解於溶劑內所製備之三乙醯基纖維素塗料施行共同鑄造 而形成的三乙醯基纖維素膜。特別是從環境保護的觀點 ,較佳的是藉由低溫溶解方法或是高溫溶解方法對將三 乙醯基纖維素溶解於實質上不含二氯甲烷之溶劑內所製 備之三乙醯基纖維素塗料施行鑄造而形成的三乙醯基纖 維素膜。 一種單層三乙醯基纖維素膜係藉由日本專利申請案第 JP-A-7- 1 1 05 5號文件(此中「JP-A」指的是「未驗證的已 發表日本專利申請案」)中所揭示的鼓狀鑄造方法或是 帶狀鑄造方法形成的,而一種包括許多層的多層三乙醯 基纖維素膜係藉由日本專利申請案第JP-A-6 1 -94725號 及第JP-B-62-43 846號文件(此中「jp-B,指的是「未驗 證的曰本專利申請案」」中所揭示的共同鑄造方法形成 的。也就是說,係以溶劑溶解原料薄片,且依需求於該 -10- 548425 五、發明説明(9 ) 溶液內添加例如塑化劑、紫外線吸收劑、降解防止作用 劑、滑動作用劑、及剝除加速劑之類的各種添加物,然 後再藉由塗料供應機制在由水平的無端點金屬帶或是旋 轉鼓構成的載體上對該溶液(此係稱爲塗料)施行鑄造而 形成的。此時,若該鑄造法是一種單層鑄造法,則係將 單一塗料鑄造成一單層,且若該鑄造法是一種多層鑄造 法,則係藉由共同鑄造法在高濃度纖維素酯類塗料的兩 側鑄造出低濃度塗料,於載體上對鑄造溶液施行某一程 度的乾燥,從該載體上將具有給定僵硬度的薄膜剝除, 然後再藉由各種輸送機制使該薄膜穿過一乾燥區以去除 該溶劑。 藉由共同鑄造法所製造之各三乙醯基纖維素膜的特徵 爲它們具有絕佳的薄膜表面平滑度以及產量,由於係藉 由共同鑄造法在高濃度纖維素酯類塗料的兩側鑄造出低 濃度塗料的緣故。藉由使用這種載體,能夠顯著地改良 在對根據本發明之抗閃耀性抗反射膜的抗閃耀層施行溼 塗覆時所造成歸因於載體之平面缺陷的條紋狀塗覆不平 坦度,如是能夠得到某絕佳的透射影像淸晰度與溼塗覆 法之均勻平面性質相容的抗閃耀性抗反射膜。 此外,儘管藉由共同鑄造法製造出之三乙醯基纖維素 膜包括有許多層’在每一層之間並未出現淸楚的介面且 使各層相互間形成了 一種連續層,如是不致在介面上肇 因於反射之類作用發生光學損耗。 此外,特別是沿著橫軸方向改良了藉由共同鑄造法製 -11- 548425 五、發明説明(10) 造出之三乙醯基纖維素膜的表面不平坦度,因此在藉由 渔塗覆法形成其上層時能夠沿著橫軸方向在表面不平坦 度上產生極大的改良效應。沿著橫軸方向對這種平滑度 的評估,能夠藉由以雷射位移計量器量測表面位移而於 寬廣(從數厘米到大約1 〇厘米)的量測範圍內圍繞每一個 節距組成的表面不平坦度加以執行。至於對依各種方法 製備之各三乙醯基纖維素膜進行類似評估的結果,各表 面性質上的缺陷會變得很淸楚,特別是在提供抗閃耀硬 式外罩層及低折射指數層時沿著機器方向發生的條紋狀 缺陷,係與其節距爲從3到1 0毫米之表面不平坦度的 高度有關的。 能夠藉由上述方法得到具有其節距爲從3到1 0毫米 之表面不平坦度之很低高度的載體,且能夠藉由依序形 成抗閃耀層及低折射指數層,得到幾乎不會造成諸如條 紋狀缺陷之類表面性質缺點的抗閃耀性抗反射膜。 至於如上所述用於溶解三乙醯基纖維素的溶劑是以二 氯甲烷爲代表。能夠在沒有任何技術問題下使用諸如二 氯甲烷之類的烴鹵化物,不過從全球環境保護及工作環 境的觀點,較佳的是使用實質上不含諸如二氯甲烷之類 烴鹵化物的溶劑。「實質上不含」一詞指的是該有機溶 劑內所含烴鹵化物的比例是少於5重量%(較佳的是少於 2重量%)。特別較佳的是在單層鑄造法的例子裡使用的 溶劑是實質上不含二氯甲烷的。在共同鑄造法的例子裡 ,即使係藉由多層共同鑄造法對利用實質上不含二氯甲 -12- 548425 五、發明説明(11 ) 烷之溶劑所製備的塗料施行鑄造,由於能夠使用含有比 外部鑄造層更高濃度之三乙醯基纖維素的塗料當作內部 鑄造層,故能夠減少釋放到空氣中的二氯甲烷量額。於 本發明中,較佳的是即使在使用共同鑄造法的例子裡也 不使用含有諸如二氯甲烷之類烴鹵化物的溶劑。此外, 能夠增加共同鑄造法的鑄造速率,如是也能夠使共同鑄 造法具有絕佳的產量。 當藉由使用實質上不含諸如二氯甲烷之類烴鹵化物溶 劑製備三乙醯基纖維素塗料時,基本上使用的是說明如 下的獨特溶解方法。 將稱作冷卻溶解法的第一種溶解法說明如下。第一步 ,在室溫左右的溫度(從-10到40°C )下以攬拌方式逐漸 將三乙醯基纖維素加到溶劑內。下一步,將該混合產物 冷卻到從-100到-10°c (較佳的是從-80到-10°C,更佳的 是從-50到-20°C,且最佳的是從_50到-30°C )。能夠於乾 燥的冰甲醇浴(-75。C)或是經冷藏的二甘醇(從-30到-20 °C )內執行冷藏。藉由冷藏使由三乙醯基纖維素及溶劑 構成的混合產物固化。此外’在將這種固體產物從〇°C 加熱到200t (較佳的是從0到150°C,更佳的是從0到 120°C,且最佳的是從0到50°C )時,該產物會變成一種 其中有三乙醯基纖維素在溶劑內流動的溶液。吾人能夠 藉由只允許固體產物留置在室溫下或者可能在熱浴內對 固體產物進行加熱而執行溫度的增加。 將稱作高溫溶解法的第二種溶解法說明如下。第一步 -13- 548425 五、發明説明(12) ,在室溫左右的溫度(從-10到40°C )下以攬拌方式逐漸 將三乙醯基纖維素加到溶劑內。較佳的是,根據本發明 的三乙醯基纖維素溶液係包括含有各種溶劑的混合溶劑 以及添加其上且預先使之腫脹的三乙醯基纖維素。較佳 的是這種方法中所用三乙醯基纖維素溶液的濃度爲30 重量%或更低,但是依薄膜,形成時之乾燥效率的觀點 ’較佳的是該三乙醯基纖維素溶液的濃度是愈筒愈好。 下一步,在從0.2到30 PMa的壓力下以從7〇到24(TC 的溫度(較佳的是從80到220°C,更佳的是從1〇〇到220 °C,且最佳的是從1 00到1 90°C )對含有機溶劑的混合溶 液進行加熱。由於無法依其原樣塗覆經加熱的溶液,必 要的是應該使該溶液冷卻到不高於所用溶劑之最低沸點 的溫度。在這種例子裡,一般而言係將該溶液冷卻爲-1 0 到50°C的溫度然後再回到正常的壓力。吾人可能只允許 其內含有三乙醯基纖維素溶液的高壓及高溫容器或管線 靜置在室溫下以啓動冷藏作用,較佳的是可能以諸如冷 卻水之類的冷卻媒體使該容器或管線接受冷藏。 當於液晶顯示器中使用本發明的抗閃耀膜時,係藉由 於某一側上提供黏著層等方式將該抗閃耀膜配置在液晶 顯示器的最外層表面上。由於係使用三乙醯基纖維素當 作用於保護偏光器之偏光層的保護膜,故本發明中以三 乙醯基纖維素當作載體之抗閃耀膜能夠依其原樣用來當 作保護膜,因此是非常令人喜愛的方法。 爲了使用本發明的抗閃耀膜當作偏光層的保護膜,必 -14- 548425 五、發明説明(13) 要的是從黏著性的觀點使該保護膜接受皂化處理。由於 本發明的抗閃耀膜對皂化作用具有阻抗能力,故能夠正 好在將之黏貼於該保護膜上之前爲該膜進行皂化處理。 吾人可以直接在該三乙醯基纖維素膜上或是在已形成抗 閃耀硬式外罩層之後執行該皂化處理,但是從產量的觀 點較佳的是在已完全形成該層之後執行該皂化處理。 抗閃耀硬式外罝層
抗閃耀硬式外罩層係一種用來爲本發明之抗閃耀膜提 供抗閃耀性質的層,而各無光澤粒子則係散佈於高折射 指數材料內。 較佳的是該抗閃耀硬式外罩層的折射指數爲從1.50 到2,00,更佳的是其折射指數爲1.57到1.90,且又更佳 的是其折射指數爲1.64到1.80。該抗閃耀硬式外罩層的 折射指數是在不含無光澤粒子的狀態中量測得的數値。
抗反射性質會在其折射指數太小時降低,而當其折射 指數太大時本發明之抗閃耀膜的反射光色調會變強,這 不是吾人所偏好的情形。 此外,由於歸因於表面不平坦度的光散射現象係肇因 於於抗閃耀硬式外罩層內散佈於高折射指數材料內之無 光澤粒子造成的,故光學干涉現象的影響並不是在該抗 閃耀膜內造成的。於具有高折射指數而不含無光澤粒子 的硬式外罩層內,能夠藉由肇因於在硬式外罩層與載體 之間的折射指數差異而產生的光學干涉作用在反射率的 波長依賴度上看出反射率內具有極大的振幅,結果防止 -15- 548425 五、發明説明(14) 反射的效應會受到破壞,同時發生了彩色不均句度。不 過於本發明的抗閃耀膜內,這類問題係藉由因爲該抗閃 耀膜之表面不平坦度所造成之散射效應而解決的。 較佳的是該抗閃耀硬式外罩層內使用的黏結劑係一種 取不飽和烴基或是聚醚類當作主鏈的聚合物,更佳的是 一種以不飽和烴基當作主鏈的聚合物。此外,較佳的是 該黏結劑係經過交聯作用的。較佳的是得到一種藉由含 不飽和乙烯基之單體的聚合化反應以不飽和烴基當作主 鏈的聚合物。爲了得到經過交聯作用的黏結劑,較佳的 是使用含有兩或多個不飽和乙烯基的單體。 含有兩或多個不飽和乙烯基之單體實例係包含:由多 烴基醇與甲基丙烯酸形成之酯類(例如乙二醇二甲丙酸 酯、1,4-環己烷二丙烯酸酯、季戊四醇基四甲丙酸酯、 季戊四醇基三甲丙酸酯、三羥甲基丙烷三甲丙酸酯、三 羥甲基乙烷三甲丙酸酯、二季戊四醇基四甲丙酸酯、二 季戊四醇基五甲丙酸酯、二季戊四醇基六甲丙酸酯、 1,3,5-環己三醇三甲丙酸酯、聚氨基甲酸酯聚丙烯酸酯 、及聚酯聚丙烯酸酯);乙烯苯衍生物(例如1,4-二乙烯苯 、4-乙烯苯酸-2-丙烯醯乙酯、及M-二乙烯基環己酮); 乙烯基(例如二乙烯基);丙烯醯胺(例如甲撐雙丙烯醯胺 及甲基丙烯醯胺)。這類單體中,從薄膜硬度亦即刮痕 阻抗的觀點較佳的是含五或多個官能基的丙烯酸酯。由 二季戊四醇基五丙烯酸酯和二季戊四醇基六丙烯酸酯構 成的混合物係商業上可取得且係特別依較佳方式用到的。 -16- 548425 五、發明説明(15) 這類含有乙烯的不飽和基的單體係溶解於具有各種聚 合作用起始劑以及其他添加劑的溶劑內,施行塗覆及乾 燥’然後再藉由游離輻射或熱聚合化反應進行烘烤。 用來取代或加到含有兩或多個不飽和乙烯基的單體, 吾人能夠藉由可交聯官能基的反應將交聯結構引進黏結 劑之內。可交聯官能基的實例係包含異氰酸酯基、環氧 基,1-氮雜環丙烯基、1,3-氧氮雜環戊烯基、醛基、羰 基、聯氨基、羧基、三羥甲基、以及活性甲撐基。吾人 能夠使用乙烯磺酸、酸酐、氰基丙烯酸酯衍生物、三聚 氰醯胺、醚化羥甲基、酯類、和氨基甲酸酯以及諸如四 甲氧基矽烷之類的醇鹽金屬當作單體以便引進交聯結構 。吾人也可以使用因爲分解反應的結果而顯示出交聯性 質的官能基例如封鎖的異氰酸酯基,亦即即使它們在某 一瞬間未顯示出反應性吾人也可以於本發明中使用因爲 分解反應的結果而顯示出反應性的交聯性官能基。 具有這類可交聯官能基的黏結劑能夠在塗覆之後藉由 加熱而形成交聯性結構。 除了上述黏結劑聚合物之外,該抗閃耀硬式外罩層的 黏結劑係由藉著對上述黏結劑以及具有高折射指數的單 體及/或具有高折射指數之金屬氧化物超微細粒子等施 行共聚合化得到之聚合物形成的。 具有高折射指數之單體實例係包含雙(4-甲基丙烯醯苯 硫基)硫化物、乙烯基、乙烯苯基硫化物、及4-甲基丙 烯氧(基)苯基,4^甲氧苯基硫醚等。 -17- 548425 五、發明説明(16) 較佳的是含有其粒子尺寸爲1 〇 〇奈米或更小(更佳的 是5 0奈米或更小)的微細粒子而具有高折射指數的金屬 氧化物超微細粒子,係包括至少一種選自由銷、鈦、鋁 、銦、鋅、錫、及銻構成之族群的金屬氧化物。至於各 微細粒子的實例,較佳的是二氧化鉻、二氧化鈦、三氧 化二鋁、三氧化二銦、氧化鋅、二氧化錫、及三氧化二 銻,其中特別較佳的是二氧化鍩。 較佳的是該金屬氧化物超微細粒子的添加量額爲在該 抗閃耀硬式外罩層的全部重量中佔有從1 0到90重量% ,更佳的是佔有從20到80重量%。 爲了分配抗閃耀性質並防止肇因於硬式外罩層與載體 之間的干涉現象對反射率產生破壞,且爲了防止產生不 規則的顏色,而將無機或有機聚合物粒予散佈於該抗閃 耀硬式外罩層內當作無光澤粒子。各無光澤粒子的形狀 並未特別加以限制,但是較佳的是正球體形狀以便給出 均勻的抗閃耀性質。此外,從粒子在塗料溶液內之散佈 穩定度的觀點,更佳的是有機聚合物粒子。依Ccnilter 方法得到的平均粒子尺寸:較佳的是各無光澤粒子的平 均粒子尺寸爲從1.01到5.0微米,更佳的是從1.5到4.0 微米,且又更佳的是從2.0到3.0微米。若其平均粒子 尺寸小於1.0微米,其抗閃耀性質是不足的;且若其平均 粒子尺寸超過5.0微米,則其透射影像淸晰度會受到破 壞。 至於該抗閃耀硬式外罩層內使用的無光澤粒子’從平 -18- 548425 五、發明説明(17) 均粒子尺寸、折射指數、及散佈容易度的觀點較佳的是 使用非晶體矽土粒子、已交聯的PMMA系列粒子、已交 聯的聚苯乙烯系列粒子、以及已交聯的2,4-二胺基6苯 基S三氮陸圜系列粒子。這類粒子中,特別較佳的是球 形的有機聚合物粒子。 在該抗閃耀硬式外罩層與載體接觸時,形成該抗閃耀 硬式外罩層用途液的溶劑係包括一種或更多種會溶解該 三乙醯基纖維素載體之溶劑以及一種或更多種不會溶解 該三乙醯基纖維素載體之溶劑,以便進行設計使抗閃耀 性質以及該載體對抗閃耀層的黏著性呈現一致。更佳的 是,至少該不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑之一 的沸點會比至少該會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑 之一的沸點更高。另外更佳的是,在該不會溶解該三乙 醯基纖維素載體之溶劑中具有最高沸點之溶劑與該會溶 解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最高沸點的溶劑 之間沸點的溫度差異爲3(TC或更大;且最佳的是’其溫 度差異爲50°C或更大。 至於會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑,吾人能夠 以下列溶劑加以解釋: 一含有從3到1 2個碳原子的乙醚類,特別是二丁基醚 、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、丙 烯氧化物、1,4-二氧雜環己烷、1,3-二噚茂院、I,3,5·三 噚烷、四氫呋喃、苯甲醚、及苯乙醚等; 一含有從3到1 2個碳原子的酮類,特別是丙酮、甲乙 -19- 548425 五、發明説明(18) 酮、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、環戊酮、環 己酮、甲基環己酮等; 一含有從3到1 2個碳原子的酯類,特別是乙基甲酸酯 、丙基甲酸酯、正戊基甲酸酯、甲基乙酸酯、乙基乙 酸酯、甲基丙酸酯、乙基丙酸酯、及正戊基乙酸酯、 r-丁內酯等; 一含有兩個或更多個官能基的有機溶劑,特別是2-甲氧 甲基乙酸酯、2-乙氧甲基乙酸酯、2-乙氧乙基乙酸酯 、2-乙氧乙基丙酸酯、2-甲氧基乙醇、2-丙氧基乙醇 、二丁氧基乙醇、1,2 -二乙酿氧基丙酮、乙醯丙銅、 雙丙酮醇、甲基乙醯乙酸酯、及乙基乙醯乙酸酯等。 這類溶劑能夠單獨使用或是依兩個或更多個的組合形 式使用。 至於不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑,吾人能 夠以甲醇、乙醇、1-丙醇、2·丙醇、1-丁醇、2-丁醇、 特·丁醇、1-戊醇、2-甲基-2-丁醇、環己醇、異丁基乙酸 酯、異丁基甲酮、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-戊酮、3-庚酮、及4-庚酮加以解釋。 這類溶劑能夠單獨使用或是依兩個或更多個的組合形 式使用。 較佳的是,會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑總量 額(A)對不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑總量額(B) 的比例(A/B)是從5/95到50/50,更佳的是從10/9〇到 40/60,且又更佳的是從15/85到30/70。 -20- 548425 五、發明説明(19) 不具抗閃耀件質的硬式外置層 於本發明的抗閃耀膜中,若必要時爲了改良薄膜強度 的目的,可能在該透明載體與該抗閃耀層之間塗覆有不 具抗閃耀性質的硬式外罩層,但是此層並不是必要的層 。較佳的是,該不具抗閃耀性質之硬式外罩層的折射指 數是從1.50到1.60。 吾人能夠將構成抗閃耀硬式外罩層之黏結劑相同的組 成用在不具抗閃耀性質的硬式外罩層上,除了其內未散 佈有無光澤粒子之外,且能夠藉由調整其組成使其折射 指數落在上述範圍之內。 當該不具抗閃耀性質的硬式外罩層係與該載體接觸時 ,係將與該抗閃耀硬式外罩層中所說明之溶劑具有相同 意義的溶劑,依其原樣應用在形成該不具抗閃耀性質之 硬式外罩層用塗料溶液的溶劑上。 低折射指數層 在載體中提供有硬式外罩層的一側上提供低折射指數 層當作最外層的抗反射膜,其目的是爲本發明的抗閃耀 膜提供抗反射能力。 較佳的是,該低折射指數層的折射指數是從1.35到 1.45。 較佳的是’該低折射指數層的折射指數應該滿足下列 方程式(I): (m λ /4)x0.7<mdi<(m λ /4)χ1.3 (ι) 其中m代表的是正奇數(一般而言是1),旧代表的是 -21- 548425 五、發明説明(2G) 該低折射指數層的折射指數,而dl代表的是該低折射指 數層的薄膜厚度。;i代表的是一種可見射線的波長,且 其數値係落在從450到560奈米的範圍內。 滿足上述方程式(I)指的是會在上述波長範圍內出現滿 足方程式(I)的m(正奇數,一般而言是1)。 吾人係將具有熱烘烤型式或是游離輻射型式之可交聯 含氟化合物的熱化含氟樹脂用在該低折射指數層上。較 佳的是,一種熟化合氟樹脂的動態靜摩擦係數是從〇.〇3 到0.15,且較佳的是其與水的接觸角度是從90°到120°。 至於可交聯的含氟化合物,吾人能夠以含過氟烷基的 矽烷化合物,例如(十七碳氟基-1,1,2,2 -四基)三乙氧基 矽烷、以及由含氟單體以及用來提供交聯性質當作組成 單位之單體構成的含氟共聚物加以解釋。 含氟單體的特定實例包含:例如氟化(長鏈)烯(烴)(例如 氟化乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙 烯、過氟-2,2-二甲基-1,3-二噚茂等);具有甲基丙烯酸之 部分或完全氟化的烷基酯類衍生物(例如Bis cote bFM (由 Osaka Yuki Kagaku 公司製造的產品)及 M-2020(由 Daikin Kogyo公司製造的產品));以及完全或部分氟化約乙烯基 醚類等。 至於用來提供交聯性質的單體,吾人能夠以預先在模 具內含有可交聯官能基的甲丙酸酯單體(例如縮水甘油 基丙烯酸甲酯);含有羧基、羥基、氨基、或磺酸基的甲 丙酸酯單體(例如甲基丙烯酸、三羥醇基甲丙酸酯、羥 •22- 548425 五、發明説明(21) 烷基甲丙酸酯、及烯丙基丙烯酸酯等)加以解釋。於稍 後的例子裡,昔人能夠在施行如日本專利申請案第JP-A- 1 0-253 8 8號和第JP-A- 1 0- 1 47739號文件中所揭示的共 聚合化作用之後引進交聯性結構。 不僅能夠將上述由含氟單體以及用來提供交聯性質當 作組成單位之單體構成的含氟共聚物,而且能夠將由這 類單體與其他單體產生共聚合作用而形成的聚合物用在 該低折射指數層上。 能夠產生共聚合作用的其他單體並未特別加以限制, 吾人能夠以例如烯烴(例如乙烯、丙烯、異戊間二烯、 氯化乙烯、及偏二氯乙烯);丙烯酸酯類(例如甲丙酸酯、 乙基丙烯酸酯、及2-乙基己基丙烯酸酯);甲丙酸酯類(例 如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯 、及乙二醇二甲丙酸酯);苯乙烯衍生物(例如苯乙烯、二 乙烯基苯、乙烯基甲苯、及α-甲基苯乙烯);乙烯醚(例 如甲基乙烯醚);乙烯酯(例如乙烯基乙酸酯、乙烯基丙酸 酯、及乙烯基肉桂酸酯);丙烯醯胺(例如Ν-特丁基丙烯醯 胺、及Ν-環己基丙烯醯胺);甲基丙烯醯胺和丙烯的衍生 物加以解釋。 爲了給出抗刮性質,較佳的是將平均粒子尺寸爲0. 1 微米或更小且更佳的是平均粒子尺寸爲從0.001到0.05 微米的氧化矽超微細粒子加到該低折射指數層內使用的 含氟樹脂上。依防止反射的觀點’較佳的是比較低的折 射指數,但是當降低含氟樹脂之折射指數時,其抗刮性 •23- 548425 五、發明説明(22) 會受到破壞。據此,吾人能夠藉由使含氟樹脂之折射指 數最佳化以及氧化矽超微細粒子的添加量額找出抗刮性 與低折射指數的最佳平衡點。至於氧化矽超微細粒子, 吾人可以依其原樣將散佈於商業上可取得有機溶劑內的 矽土溶膠加到塗料溶液內,或者可以使用各種商業上可 取得而散佈於有機溶劑內的矽土粉末。 每一層的形成 該抗閃耀膜的每一層都能夠藉由根據諸如浸蘸塗覆法 、空氣刀塗覆法、簾幕塗覆法、滾筒塗覆法、線棒塗覆 法、凹版印刷塗覆法、及擠壓塗覆法(美國專利第 2,68 1,2 94號文件中所揭示)之類各種塗覆方法的塗覆作 業而形成。吾人可以同時塗覆兩層或更多層。同時塗覆 多層的方法係揭示於例如美國專利第2,761,791號、第 2,941,898 號、第 3,508,947 號、第 3,526,5 28 號文件以及 丫幻11^1^3匕所著「塗覆工程學」一書第25 3頁 (Asakura Shoten 公司印行,1973 年版)。 液晶顯示器及偏光器上的應用 吾人能夠將本發明的抗閃耀膜應在例如液晶顯示器 (LCD)、電漿顯示面板(PDP)、電發光顯示器(ELD)、及 陰極射線管(CRT)之類的影像顯示器上。本發明之抗閃 耀膜的使用係藉由將該膜的透明載體側黏著於影像顯示 器之影像顯示面上,但是當吾人在LCD的表面或內側上 使用該抗閃耀膜時,更佳的是依原樣使用該膜當作兩層 保護膜某一側上的薄膜以保護偏光器的偏光層。另外在 -24- 548425 五、發明説明(23 ) 能夠提供可見角度之拓寬效應的觀點下,更佳的是使用 一種在另一側上具有光學各向異性的光學補償膜。 於本發明的抗閃耀膜中,只藉由將抗閃耀硬式外罩層 形成於三乙醯基纖維素透明載體上,使充分的抗閃耀性 質會和載體與抗閃耀硬式外罩層的充分黏著度相容。此 外’包括本發明之抗閃耀膜而提供有低折射指數層當作 抗反射層的薄膜擁有的不只是抗閃耀性質還有抗反射能 力。 此外,利用上述包括本發明之抗閃耀膜而提供有低折 射指數層當作抗反射層之薄膜的偏光器和液晶顯示器不 會使外來光產生任何反射,因此能夠得到絕佳的反差。 這類偏光器和液晶顯示器具有絕佳的可見度及影像淸晰 度,因爲經反射的影像會肇因於其抗閃耀性質而變得不 顯著。 以下將參照各實例更淸楚地說明本發明,但是不應該 解釋爲本發明係受限於這些實例。 實例1
製備三乙醯基纖維素塗料A 以攪拌方式混合包括1 7 · 4重量份之三乙醯基纖維素 、2.6重量份之三苯基磷酸酯、66重量份之二氯甲院、 9 · 8重量份之甲醇、以及8.2重量份之n _ 丁醇的起始材 料,並使之溶解以製備三乙醯基纖維素塗料A。
製備三乙醯某纖維素塗料B 以攪拌方式混合包括244重量份之三乙醯基纖維素、 - 25- 548425 五、發明説明(24) 4重量份之三苯基磷酸酯、66重量份之二氯甲烷、以及 6重量份之甲醇的起始材料,並使之溶解以製備三乙醯 基纖維素塗料B。
製備三乙醯基纖維素塗feU 一種不均勻的凝膠態溶液係藉由攬拌20重量份之三 乙醯基纖維素、4 8重量份之甲基乙酸酯、2 0重量份之 環己酮、5重量份之甲醇、5重量份之乙醇、2重量份之 三苯基磷酸酯/聯苯二苯基磷酸酯(1/2)、0.1重量份之矽 土(粒子尺寸爲20奈米)、〇.2重量份之2,4 -雙正硫代辛 基-6·(4-羥基-3,5-二特丁替苯胺- 三連氮)使之在-70 °C下冷卻6個小時而得到的,然後在5 0 °C下進行加熱並 加以攪拌以製備三乙醯基纖維素塗料C。 製備三乙醯某纖維素塗料Γ) 在IMpa及180°C下於不鏽鋼密封容器內使依製備三 乙醯基纖維素塗料C的相同方式得到的不均勻的凝膠態 溶液加熱5分鐘,然後再將該容器放進56°C的水浴內進 行冷卻,因此製備了三乙醯基纖維素塗料D。 製備用於杭閃耀硬式外置層的塗料溶液 至於構成該抗閃耀硬式外罩層的黏結劑,使用的是二 季戊四醇基五丙烯酸酯和二季戊四醇基六丙烯酸酯的混 合物(由NipponKayaku公司製造其型號爲DPHA的產品) 。至於光聚合化起始劑,係加入適當量額的I n g a c u r e (由 Ciba Fine Chemicals公司製造的產品)。至於用來將局折 射指數分配到該抗閃耀硬式外罩層上的高折射指數材料 -26- 548425 五、發明説明(25 ) ,係藉著溶劑對其粒子尺寸爲30奈米的氧化锆微細粒 子施行分散-液化作用,並將之加到該抗閃耀硬式外罩 層的塗料溶液上。此外,至於用來分配抗閃耀性質的球 形粒子,係藉著溶劑對Eposter MS(由Nippon shokubai 公司製造的產品亦即已交聯的2,4-二胺基6苯基S三氮 陸圜粒子,其粒子尺寸爲大約2微米,其折射指數爲 1.68)施行分散-液化作用,並將之加到該抗閃耀硬式外 罩層的塗料溶液上。調整含有上述固態內含物之該抗閃 耀硬式外罩層的塗料溶液濃度,以致當潮溼塗覆量額爲 5.2毫升/平方米時該抗閃耀硬式外罩層之折射指數(由該 黏結劑及氧化鉻構成之複合層的折射指數)會在接受乾 燥及UV-烘烤之後變爲1.68,其薄膜厚度爲1.4微米, 其的霧度是14%(與粒子濃度有關)。此時該抗閃耀硬式 外罩層塗料溶液的溶劑組成只有甲乙酮(100%)。在塗覆 之前透過其孔洞直徑爲3微米的聚丙烯濾紙(PPE-03)預 先對該抗閃耀硬式外罩層的塗料溶液進行過濾。 製備用於低析射指數層的塗料溶液 在2,240公克其折射指數爲1.42的熱學可交聯含氟聚 合物(由:ISR公司製造其型號爲JN-7228的一種甲乙酮溶 液,其固體內含物的濃度爲:6重量%)中加入192公克的 MEK-ST(由 Nissan Chemical Industries 公司製造,其平 均粒子尺寸爲從1 0到20奈米,而具有其固體內含物濃 度爲30重量%之二氧化矽溶膠的甲乙酮分散物)、2,240 公克的甲乙酮、以及1 44公克的環己酮,加以攪拌然後 -27- 548425 五、發明説明(26 ) 再透過其孔洞直徑爲1微米的聚丙烯濾紙(ΡΡΕ-〇ι)進行 過濾,因此製備了用於低折射指數層的塗料溶液。在將 這種塗料溶液塗覆於上述霧度爲1 4 %之抗閃耀硬式外罩 層上時,最後會使所得到塗層的霧度變成12 %。 比較用樣品1 藉由桿狀塗覆器將上述抗閃耀硬式外罩層用途液塗覆 於厚度爲80微米的三乙醯基纖維素膜(由富士像紙公司 製造其型號爲TAC-TD80U的產品)上並在120°C下進行 乾燥,然後利用其容量爲16〇瓦/厘米的氣冷式金屬鹵化 物燈(由I Graphics公司製造)以400毫瓦/平方厘米及輻 射量爲300毫焦/平方厘米的照度的紫外線照射作用使該 塗層接受烘烤,如是形成了厚度爲1.4微米的抗閃耀硬 式外罩層。 以桿狀塗覆器塗覆上述低折射指數層用塗液並在80t 下進行乾燥,且在120°C下接受8分鐘的交聯作用,因 此形成了厚度爲0.096微米的低折射指數層。 比較用樣品2到1 2以及本發明的樣品1到1 2 依與比較用樣品1相同的方式製備比較用樣品2到1 2 以及本發明的樣品1到1 2,除了依如表1所示的條件改 變該抗閃耀硬式外罩層用途液的最後塗料溶液的溶劑,組 成之外。 對透明載體之表面位移的評估 藉由每一種鑄造方法製備成之透明載體的平滑度係根 據下列方法加以評估的。 -28- 548425 五、發明説明(27 ) 依垂直於鑄造方向的方式將每一個透明載體切割成 1 70毫米x4毫米的尺寸,該載體的兩個端點係藉由黏貼 於丙烯基平板上而加以固定的。使用雷射位移計量器( 由Andtsu公司製造其型號爲KL130A的產品)以便量測 表面位移,且在雷射的射線-接收部位上提供遮罩以致 只能在其量測範圍爲1 35毫米及量測間隔爲1 〇〇微米的 條件上量測其表面反射率。所量測的表面位移係依二維 座標資料的方式加以接收。下一步,爲了去除肇因於該 基礎膜摺縫之波動的成份,分別將從該二維座標資料之 中央線的向上和向下位移說明成正和負的位移,其中係 以該二維座標資料之中央線當作由七倍公式套用的曲線 ,且繪製各個別位置上該薄膜的表面位移。自圖上讀取 其節距爲從3到1 0毫米之表面不平坦度的高度,並計 算出其高度對節距的比例。 對抗閃耀性抗反射膜的評估 對所製備的抗閃耀性抗反射膜執行以下每一項評估作 業。 (1) 霧度 所得到薄膜的霧度係利用型號爲1 00 1 DP之霧度計(由 Nippon Denshoku Kogyo公司製造)加以量測的。 (2) 透射影像淸晰度的評估 所製備的抗閃耀性抗反射膜之透射影像淸晰度的數値 係藉由利用型號爲ICM-2D之影像淸晰度測試計(由Suga Slnkenki公司製造)以寬度爲0.5毫米的光梳加以量測的 -29- 548425 五、發明説明(28 ) 。吾人已發現該透射影像淸晰度的數値對開發符合商定 義LCD監視器的抗閃耀性抗反射膜而言是一種重要指標 。其數値愈大,則吾人能夠說該膜係對應到高精密度的 。其目的係將本發明的數値設定成30%或更大。 (3) 抗閃耀性質的評估 使不具有任何羽板結構的裸露螢光燈(8,〇 〇 0燭光/平方 厘米)在所製備的抗閃耀性抗反射膜上產生反射,並藉 由下列規範評估經反射影像的模糊程度。 ◎:完全無法或幾乎無法辨認出該螢光燈的輪廓。 〇:能夠稍微辨認出該螢光燈的輪廓。 △:該螢光燈是模糊的但是能夠辨認出該螢光燈的輪廓 〇 X:該螢光燈是幾乎不模糊的。 (4) 黏著性質的評估 在該抗閃耀性抗反射膜的表面上,以單刃刀在2 5毫 米的方塊部分上刻劃以製作出25個方塊部分(一個方塊 是5毫米x5毫米),以1公斤的負載將商業上可取得的 玻璃紙黏性膠帶加到該薄膜的表面上,並藉由在剝除該 玻璃紙膠帶時該薄膜是否與該玻璃紙膠帶一起被剝除進 行黏著度的評估。重複五次測試,並藉由下列規範評估 其黏著度。 ◎:該薄膜完全不會剝除。 〇:平均而言有少於一個方塊會被剝除掉。 △:平均而言有從一個到少於五個方塊會被剝除掉。 -30- 548425 五、發明説明(29) X :平均而言有五個或更多個方塊會被剝除掉。 將各比較用樣品的結果顯示於表1中,且將本發明中 各樣品的結果顯不於表2中。 如表1所示,當構成抗閃耀硬式外罩層之塗料溶液的 溶劑組成只包括一種不會溶解三乙醯基纖維素載體的溶 劑時,會在黏著度上產生問題。 而在該溶劑組成只包括一種會溶解三乙醯基纖維素載 體的溶劑時,埋藏於該載體內用來給出抗閃耀性質的粒 子會溶解掉,產生了無法得到抗閃耀性質的問題。 另一方面從表2可以淸楚地看出,在該溶劑組成同時 包括會溶解三乙醯基纖維素載體的溶劑以及不會溶解三 乙醯基纖維素載體的溶劑時,黏著度最與抗閃耀性質相 容的。此外,當不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑 的沸點比會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑的沸點更 高且其沸點差異愈大時其效應愈大。 -31- 548425 五、發明説明(30) 表1
比較用樣品 抗閃耀硬式外罩層 的溶劑組成 (重量%) TAC溶劑 的溶解度 沸點(°C) 抗閃耀 性質 黏著 性 1 MEK(IOO) 〇 80 X ◎ 2 MC(100) 〇 39 X ◎ 3 AC(100) 〇 56 X ◎ 4 MA(IOO) 〇 56 X ◎ 5 DOK(IOO) 〇 101 X ◎ 6 CH(100) 〇 156 X ◎ 7 DAA(IOO) 〇 168 X ◎ 8 MT(100) X 65 ◎ X 9 PR(100) X 97 ◎ X 10 MIBK(IOO) X 116 ◎ X 11 iBA(100) X 118 ◎ X 12 OC(IOO) X 173 ◎ X 於溶解度一行中〇指的是可溶而X指的是不可溶的 表2 本發明 的樣品 抗閃耀硬式外罩層 的溶劑組成 (重量%) TAC溶劑 的溶解度 沸點(°C) 抗閃耀 性質 黏著 性 1 CH/MIBK(30/70) 〇/x 156/116 〇 ◎ 2 DAA/MIBK(30/70) 〇/x 168/116 〇 ◎ 3 MEK/CH/MIBK(15/15/70) O/O/x 80/156/116 〇 ◎ 4 MA/MIBK(30/70) 〇/x 56/116 ◎ ◎ 5 MEK/MIBK(30/70) 〇/x 80/116 ◎ ◎ 6 MA/OC(30/70) 〇/x 56/173 ◎。 ◎ 7 MEK/〇C(30/70) 〇/x 80/173 ◎。 ◎ 8 CH/〇C(30/70) 〇/x 156/173 ◎ ◎ 9 DAA/〇C(30/70) 〇/ 168/173 ◎ ◎ 10 MEK/MA/MIBK(15/15/70) O/O/x 80/56/1 16 ◎ ◎ 11 MEK/CH/OC(15/15/70) O/O/x 80/156/173 ◎ ◎ 12 MEK/MA/OC(15/15/70) O/O/x 80/56/173 ◎。 ◎ -32- 548425 五、發明説明(31 ) 於溶解度一行中,〇指的是可溶而X指的是不可溶 於抗閃耀性質一行中,是比◎好一個等級 表1和表2中的縮寫如下: AC :丙酮 ιΒΑ :異丁基乙酸酯 CH :環己酮 DAA :雙丙酮醇 DOK :二氧雜環己烷 MA :甲基乙酸酯 MC :二氯甲院 MEK :甲乙酮 MIBK :異丁基甲酮 MT :甲醇 〇C : 2-辛酮 PR : 1-丙醇 -33- 548425 五、發明説明(32) 本發明的樣品1 3到1 5 如表3所示,本發明的抗閃耀性抗反射膜樣品1 3、1 4 、和1 5係依製備本發明樣品7相同的方式製備的,除 了只改變聚合物粒子的粒子尺寸以及該抗閃耀硬式外罩 層的厚度之外,其方式是使該抗閃耀硬式外罩層的厚度 對用來給定抗閃耀性質之粒子之平均粒子尺寸的比例保 持定常(1.4/2.0 = 0.7)且使該抗閃耀性抗反射膜的霧度 1 2 %保持不變。 從表3可以淸楚地看出,本發明的所有樣品都會滿足 所需要的性能,但是在透射影像淸晰度及抗閃耀性質的 觀點下,較佳的是其粒子尺寸爲從2到3微米。 表3 本發的樣 品 抗閃耀層的 厚度(微米) 粒子尺寸( 微米) 抗閃耀性 質 黏著度 透射影像 淸晰度 13 0.7 1.0 ◎ ◎ 30或更多 ⑺ (1.4) (2.0) (◎。) (◎) (30或更多) 14 2.1 3.0 ◎。 ◎ 30或更多 15 3.5 5.0 ◎。 ◎ 10 一 主的樣品1 6到1只 本發明的抗閃耀性抗反射膜樣品1 6、1 7、和1 8係依 製備本發明樣品7相同的方式製備的,除了將三乙醯基 纖維素載體取代爲下列三乙醯基纖維素載體I、π、或 III之外。 醯_基纖維素y, ft τ 根據日本專利申請案第JP-A- 1 1 -254594號文件,藉由 二層共同鑄造用鑄模執行多層鑄造法,其配置方式是將 -34- 548425 五、發明説明(33) 塗料A鑄造在塗料B的兩側上,且同時在金屬鼓上釋出 各塗料,從鼓上將鑄造薄膜剝除下來並加以乾燥’因此 形成了自該鼓側邊之厚度爲1 〇微米、60微米、及1 0微 米的三層共同鑄造性三乙醯基纖維素薄膜。
2. 製備三乙醯基纖維素載體II 根據日本專利申請案第JP-A-7- 1 1 055號文件’藉由單 層鼓形鑄造法對上述三乙醯基纖維素塗料C施行鑄造’ 且形成了厚度爲80微米的三乙醯基纖維素載體11。
3. 製備三乙醯基纖維素載體III 根據日本專利申請案第JP-A-7- 1 1 055號文件,藉由單 層鼓形鑄造法對上述三乙醯基纖維素塗料D施行鑄造, 且形成了厚度爲80微米的三乙醯基纖維素載體III。 在根據利用稍後會加以說明之雷射位移計量器的量測 方法,量測上述每一値三乙醯基纖維素載體I、II、和 III之薄膜表面上沿著橫軸方向的位移時,沒有任何一 種樣品在其節距爲從3到1 0毫米之表面不平坦度的高 度上惠等於其節距的1/1〇,〇〇〇或更大。 巧合地,當以雷射位移計量器量測TAC-TD80U薄膜 表面上沿著橫軸方向的位移時,其節距爲大約3毫米之 表面不平坦度的高度是從0.3到0.4微米,且出現很小 的不平坦度。 由於樣品1 6、1 7、和1 8具有絕佳的載體平滑度,故 該抗閃耀硬式外罩層的塗覆狀態還是比本發明樣品7的 塗覆狀態更好,因此能夠得到絕佳的抗閃耀性抗反射膜 -35- 548425 五、發明説明(34) 。其他評估結果都是與本發明樣品7的評估結果相同。 下一步,利用其上已提供有根據本發明之抗閃耀層之 抗閃耀膜製造出一種抗閃耀性抗反射偏光器。當利用上 述偏光器製造出一種液晶顯示器時,由於排除了外來光 的反射作用而得到絕佳的反差。可見度及影像淸晰度也 是絕佳的,因爲反射影像會肇因於其抗閃耀性質而變得 不顯著。 雖則已參照各特定實施例詳細說明了本發明,然對熟 悉習用技術的人而言很明顯地吾人能夠在不偏離本發明 所附申請專利範圍之精神及架構下作各種改變及修正。 符號說明 1…抗閃耀膜 2…透明載體 3…抗閃耀硬式外罩層 4…低折射指數層 5…無光澤粒子 -36-
Claims (1)
- 548425. ( 6/>年1月心曰修正/更^« 六、申請專利範圍 第90 1 23 1 82號「抗閃耀膜,製造該膜之方法,偏光鏡及液 晶顯示器」專利案 (92年2月6日修正) 六、申請專利範圍: 1 · 一種抗閃耀膜,係包括提供有一層或更多層包含抗閃 耀硬式外罩層之硬式外罩層於其上方之三乙醯基纖維 素透明載體,其中與該三乙醯基纖維素透明載體相鄰 接之硬式外罩層,係由包括含有一種或更多種會溶解 該三乙醯基纖維素載體之溶劑,以及一種或更多種不 會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑的塗料溶液所形 成;其中不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中之 至少一種,其沸點係高於該會溶解該三乙醯基纖維素 載體之溶劑中之至少一種之沸點。 2 ·如申請專利範圍第2項之抗閃耀膜,其中該不會溶解 該Ξ乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最高沸點之溶劑 ’與該會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最 高沸點之溶劑,其沸點間之溫度差爲5°C或更大。 3 ·如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其中該不會溶解 該Ξ乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最高沸點之溶劑 ’與該會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最 问沸點之溶劑,其沸點間之溫度差爲3 0 C或更大。 4 ·如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其中抗閃耀硬式 外罩層係藉由游離化輻射交聯作用而形成。 548425 5 .如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其中形成該抗閃 耀硬式外罩層之成分,係爲至少使用因游離化輻射而 交聯的含五個或更多個官能基之丙烯酸酯單體。 6 .如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其中該三乙醯基 纖維素透明載體係藉由單層鑄造法,將三乙醯基纖維 素載體溶解於實質上不含二氯甲烷之溶劑內所製得之 三乙醯基纖維素載體塗料予以鑄造而形成。 7 .如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其中該三乙醯基 纖維素透明載體係藉由多層鑄造法,將三乙醯基纖維 素載體溶解於溶劑內所製備之三乙醯基纖維素塗料予 以鑄造而形成。 8 ·如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其係將平均粒子 尺寸爲1 · 0到5 · 0微米的粒子散佈於該抗閃耀硬式外 罩層內。 9 ·如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其中抗閃耀硬式 外罩層係具有從1 · 50到2 . 00的折射指數。 1 〇 ·如申請專利範圍第1項之抗閃耀膜,其中具有折射指 數爲1 · 3 5到1 · 4 5之低折射性層係用來做爲在至少提 供有一層硬式外罩層之載體最外層上的抗反射膜,且 該抗閃耀膜的霧度是3 . 0%或更大。 1 1 · 一種用於製造抗閃耀膜的方法,該抗閃耀膜係包括提 供有一層或更多層包含抗閃耀硬式外罩層之硬式外罩 層於其上之三乙醯基纖維素透明載體,其中與該三乙 548425 釀基纖維素透明載體相鄰接的該硬式外罩層,係由包 ί舌含有一種或更多種會溶解該三乙醯基纖維素載體之 ί谷劑’以及一種或更多種不會溶解該三乙醯基纖維素 載體之溶劑的塗料溶液所形成;其中不會溶解該三乙 _基纖維素載體之溶劑中之至少一種,其沸點係高於 會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中之至少一種的 沸點。 1 2 ·如申請專利範圍第1 2項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最 高沸點之溶劑,與該會溶解該三乙醯基纖維素載體之 溶齊!I中具有最高沸點的溶劑,其沸點間的溫度差爲 5 C或更大。 1 3 ·如申請專利範圍第1 1項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中不會溶解該三乙醯基纖維素載體之溶劑中具有最 高沸點之溶劑,與該會溶解該三乙醯基纖維素載體之 溶劑中具有最高沸點的溶劑,其沸點間的溫度差爲 3 0 °C或更大。 1 4 ·如申請專利範圍第丨丨項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中該抗閃耀硬式外罩層係藉由游離化輻射的交聯作 用而形成。 1 5 ·如申請專利範圍第1 1項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中形成該抗閃耀硬式外罩層的成分,係爲至少使用 因游離化輻射而交聯的含五個或更多個官能基之丙烯 548425 酸酯單體。 1 6 ·如申請專利範圍第丨丨項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中該三乙醯基纖維素透明載體係藉由單體鑄造法’ 將三乙醯基纖維素載體溶解於實質上不含二氯甲烷之 溶劑內所製備之三乙醯基纖維素載體塗料予以鑄造而 形成。 1 7 ·如申請專利範圍第丨丨項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中該三乙醯基纖維素透明載體係藉由多層鑄造法’ 將三乙醯基纖維素載體溶解於溶劑內所製備之三乙醯 基纖維素載體塗料予以禱造而形成。 1 8 ·如申請專利範圍第11項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其係將平均粒子尺寸爲從1 · 〇到5 · 0微米的粒子散佈 於該抗閃耀硬式外罩層內。 1 9 .如申請專利範圍第11項之用於製造抗閃耀膜的方法, 其中抗閃耀硬式外罩層係具有從1.50到2·00的折射 指數。 20. —種偏光器,其係使用如上述第1項之抗閃耀膜來當 做偏光層上至少兩層保護膜之一。 21. —種偏光器,其係使用如上述第1項之抗閃耀膜來當 做偏光層上至少兩層保護膜之一,且係使用一種含有 光學各向異性之光學補償膜來當做另一保護膜。 22. —種液晶顯示器,其係使用如上述第1項之抗閃耀膜或 是如上述第20項之偏光器來當做該顯示器的最外層。
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