TW528645B - Composition for polishing magnetic disk substrate - Google Patents

Description

528645 A7 ___ B7 五、發明説明（i) 〔發明之詳細說明〕 〔發明所屬之技術領域〕 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明爲關於電腦等記憶裝置中所使用之磁碟基板製 造中的硏磨用組成物’更詳言之，爲關於可提供適於磁頭 爲以低浮起量飛行之硏磨精度高之磁碟表面的磁碟基板硏 磨用組成物及其製造方法。 〔先前之技術〕 於電腦和文字處理機之外部記憶裝置中，以高速通過 之手段乃廣泛使用磁碟（記憶硬碟）。此磁碟之代表例爲 以A 1合金基板表面將N i P無電解鍍層者做爲基板，並 將此基板予以表面硏磨後，將C I*合金頭道膜，C 〇合金 磁性膜，碳保護膜依序形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印髮 但是，於磁碟表面若殘留具有磁頭浮起量以上高度之 突起，則一邊以指定高度浮起且一邊使得高速飛行之磁頭 衝撞此突起並且成爲損傷之原因。又，於磁碟基板若具有 突起和硏磨損傷等，則在形成C I*合金頭道膜和C 〇合金 磁性膜時，於此些膜表面出現突起，且基於硏磨損傷而產 生缺陷，並且令磁碟表面無法成爲精細度高的平滑面，故 於提高碟片表面之精細度上，必須將基板予以精密地硏磨 〇 因此，於磁碟基板之硏磨中，無突起物，或儘可能減 低突起物高度，且難發生硏磨損傷之硏磨用組成物已有許 多提案。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐] 71^ 528645 A7 B7 五、發明説明（2) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其中於特開平1 0 — 1 2 1 0 3 5號公報中，揭示於 二氧化鈦中添加硝酸鋁（硏磨促進劑）之組成物的使用， 該公報爲使用亞微細粒之二氧化鈦粒子做爲硏磨粒。將其 使用於磁碟基板之硏磨時，比先前較易達成高的面精細度 ，硏磨速度。但是，若考慮此硏磨粒物質的硬度，則在達 成最近要求之面精細度程度上爲呈困難之狀況。 又，於特開平9 一 2 0 4 6 5 7號公報中揭示於膠體 矽石中添加硝酸鋁，防膠化劑之組成物的使用，又，於特 開平9 一 2 0 4 6 5 8號公報中揭示於煙霧矽石中添加硝 酸鋁之組成物的使用。此些公報所揭示之組成物因爲於硏 磨粒使用硬度小之氧化矽微粒子，故可輕易取得面精細度 ，但難以達成現狀之實際生產中可使用的硏磨速度。 更且，於特開平1 0 — 2 044 1 6號公報中，提高 •硏磨速度之手段分別提案使用許多氧化劑及使用F e鹽。 但是，其均比現狀之實際生產中可使用之硏磨速度仍爲不 夠充分。 經濟部智慧时產苟員工消費合作社印製 〔發明所欲解決之課題〕 對於可高密度磁性記錄之鋁磁碟基板硏磨用組成物所 要求之品質爲達成令磁頭可低浮起之高精細度的磁碟面。 因此，本發明之目的爲在於提供磁碟基板之表面粗度 小，且不會發生突起和硏磨損傷，可達成高密度記錄，並 且以經濟之速度硏磨之磁碟基板的硏磨用組成物。 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 528645 A7 B7 五、發明説明（3) 〔用以解決課題之手段〕 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明者等人，對於達成低浮起量型鋁磁碟所要求之 高精細度硏磨面所用之硏磨劑進行致力硏究，結果發現於 特別施以N i - P鍍層之鋁磁碟硏磨中顯示優良性能的硏 磨用組成物並且完成本發明。 即，本發明基本上爲由以下之各發明所構成。 (1 ) 一種硏磨用組成物，其特徵爲於水性介質中 含有鹼金屬離子，硏磨粒，羧酸，氧化劑，防膠化劑。 (2) 如（1)記載之硏磨用組成物，其中鹼金屬 離子含量爲0·001〜5質量％之範圍。 (3 ) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物，其 中鹼金屬離子爲由鹼金屬之氫氧化物所供給。 (4 ) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物，其 中鹼金屬爲由鋰，鈉，鉀，鉚，鉋所組成群中選出至少一 種。 (5 ) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物，其 中鹼金屬爲鉀。 經濟部智慧时產局員工消費合作社印製 (6 ) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物，其 中硏磨粒爲由氧化鋁，二氧化鈦，矽石，氧化锆所組成群 中選出至少一種。 (7 ) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物，其 中硏磨粒之二級粒子的平均粒徑爲0 · 03〜0 . 5 //m 〇 (8 ) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物，其 -6- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29*7公釐） 528645 Α7 Β7 五、發明説明（4) 中硏磨粒爲膠體粒子。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (9) 如（1)或（2)記載之硏磨用組成物，其 中羧酸爲於分子中具有至少一個C〇0H基或C〇〇—基之 有機羧酸。 (10) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物， 其中羧酸爲由葡萄糖酸、乳酸、酒石酸、乙醇酸、甘油酸 、蘋果酸、檸檬酸、甲酸、醋酸、丙酸、丙烯酸、草酸、 丙二酸、琥珀酸、己二酸、順丁烯二酸、衣康酸、甘胺酸 、離胺酸、天冬胺酸、麩胺酸所組成群中選出至少一種。 (11) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物， 其中氧化劑爲由過氧化物、過硫酸鹽、硝酸鹽、氧酸鹽、 鐵鹽中選出至少一種。 (12) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物， 其中氧化劑爲含有過氧化氫。 (13) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物， 其中防膠化劑爲由膦酸系化合物，菲，乙醯丙酮鋁鹽所組 成群中選出至少一種。 經濟部智慧时4苟員工消費合作fi印製 (14) 如（1)或（2)記載之硏磨用組成物， 其中防膠化劑爲由磷酸，1一羥基乙烷一1， 1一二膦酸 ，胺基伸丙基膦酸，菲，乙醯丙酮銨鹽所組成群中選出至 少一種。 (15) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物， 其中pH爲約1〜約5。 (16) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） Ί · 528645 A7 ____B7_ 五、發明説明（5) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其中硏磨粒之含量爲3〜3 0質量％之範圍內，羧酸之含 量爲0 · 1〜8質量％之範圍內，氧化劑之含量爲〇 · 2 〜5質量％之範圍內。 (17) 如（1 )或（2 )記載之硏磨用組成物， 其中硏磨用組成物爲磁碟基板硏磨用組成物。 (1 8 ) —種硏磨用組成物之製造方法，其特徵爲於 含有硏磨粒，羧酸，氧化劑，防膠化劑之水性介質中添加 氫氧化鉀且將該水性介質之P Η調整至約1〜約5。 〔發明之實施形態〕 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 本發明之硏磨用組成物爲於水性介質中含有鹼金屬離 子，硏磨粒，羧酸氧化劑，防膠化劑爲其特徵之硏磨用組 成物，較佳爲於該組成物中含有0 . 0 0 1〜5質量％範 圍之鹼金屬離子爲其特徵。又，本發明爲關於於其製造方 法中，較佳使用鹼金屬之氫氧化物做爲鹼金屬離子種，並 且添加令水性介質中含有分散之硏磨性、羧酸、氧化劑、 防膠化劑爲其特徵之硏磨用組成物之製造方法。又，鹼金 屬離子除了添加鹼金屬之氫氧化物以外，亦可由含有羧酸 和驗金屬離子之氧化劑中供給’且特別經由紳離子之添加 ，特別爲氫氧化鉀之添加則可有效抑制微細刮痕的發生。 又，對硏磨粒若使用膠狀粒子，則其效果可更加明瞭 確認。雖然關於詳細效果之機構並不明，但推測係經由適 量添加鹼金屬離子，特別經由適量添加鹼金屬之氫氧化物 ，則可令硏磨組成物之分散狀態良好。 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 528645 A7 ___B7_ 五、發明説明（6) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於本發明之硏磨用組成物中，鹼金屬離子之添加量如 前述以0 · 001〜5質量％，較佳爲0 · 01〜3質量 %，更佳爲0·05〜1質量％之範圍。鹼金屬離子之添 加量未滿0 · 0 0 1質量％，則未察見微細刮痕之抑制效 果。又，於5質量％以上，則具有硏磨速度降低之問題。 本發明之硏磨用組成物中含有硏磨粒做爲硏磨材，並 無特別限定，且可使用例如氧化鋁，二氧化鈦，矽石，氧 化锆等。又，此些結晶型並無限定。例如，氧化鋁之結晶 型爲α型，r型，（5型，7/型，Θ型，k型，X型、二氧 化鈦之結晶型爲金紅石型、銳鈦礦型、Bluekite型等、矽石 (氧化矽）爲膠體矽石、煙霧矽石、白碳等、氧化鉻爲單 斜晶系、正方晶系、非晶質等爲較佳使用。 前述硏磨粒之二級粒子的平均粒徑通常爲0 . 0 3〜 0 . 5//m之範圍，較佳爲0 · 04〜0 · 2#m之範圍 ，更且若爲膠體狀粒子爲更佳。此處，二級粒子之平均粒 徑爲應用激光都卜勒周波數解析式粒度分佈測定器， Microtrack UPA 150 (Honeywell 公司製）所測定之値。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 硏磨粒之二級粒徑若變大，則易抑制細孔的膠化，凝 集，但因粗粒子之存在或然率亦變高，成爲硏磨損傷發生 的原因。又，二級粒徑若變小，則易引起前述之膠化，凝 集，成爲硏磨損傷發生的原因。因此，本發明之硏磨用組 成物中之硏磨材料，例如使用氧化矽時之二級粒子之平均 粒徑爲0 · 03〜0 · 5//m之範圍，且以0 · 04〜 0 . 2 // m爲更佳。 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 528645 A7 B7 五、發明説明（7) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之硏磨用組成物中所含之羧酸爲於分子中具有 至少一個一 C〇0H或一 C〇〇_基官能基之所有公知的有 機羧酸，例如較佳含有葡萄糖酸、乳酸、酒石酸、乙醇酸 、甘油酸、蘋果酸、檸檬酸、甲酸、醋酸、丙酸、丙烯酸 、草酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、順丁烯二酸、衣康酸 、甘胺酸、離胺酸、天冬胺酸、麩胺酸等之低分子和聚丙 烯酸、聚甲基丙烯酸等之聚羧酸中任意選出至少一種羧酸 。本發明之硏磨用組成物特別以多價羧酸爲佳，且更佳爲 草酸，蘋果酸。前述羧酸分子中之- C 00—基爲經由 一 C〇〇Η基的部分解離或羧酸鹼金屬鹽之解離而存在的 〇 關於羧酸於硏磨用組成物中之效果並未明確闡明，但 認爲係因爲其有助於硏磨作用中之酸的蝕刻效果，更且關 於多價數酸亦具有做爲嵌合作用之效果。 更且，本發明之硏磨用組成物除了前述之羧酸以外， 亦可含有碳數1至1 0個之直鏈狀或分支狀之有機磺酸， 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 其可列舉例如甲烷磺酸，乙烷磺酸，丙烷磺酸，丁烷磺酸 ，苯磺酸，甲苯磺酸。該硏磨用組成物中之有機磺酸含量 可應用同於羧酸之含量。 於本發明之硏磨用組成物中，pH之範圍爲約1〜約 5爲佳，且更佳爲約2〜約4，再佳爲約2〜約3。此處 ，Ρ Η値之「約」之範圍爲指土 1 〇 %之範圍。將液性做 爲酸性下，則可促進N i之氧化且令硏磨速度提高，但 pH若過低則亦具有裝置腐蝕等問題，故PH以2〜3爲 本紙張尺度適用巾關家鮮（CNS )八4驗（210X297公釐) ~ " 528645 A7 ___B7__ 五、發明説明（8) 更佳。於P Η之調整上可使用氫氧化鉀。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之硏磨用組成物中之硏磨粒濃度未滿3質量％ (以下之％之意指質量％)時之硏磨速度顯著降低。又， 隨著濃度變高雖令硏磨速度變高，但若超過3 0%則不僅 未見硏磨速度之上升，且特別令膠體狀粒子易膠化。若考 慮經濟性，則實用上爲以3 0 %爲上限。因此，硏磨粒於 組成物中之濃度爲3〜3 0%之範圍爲佳，更佳爲5〜 1 5 % 〇 本發明之硏磨用組成物中之羧酸量爲0.1〜8%爲 佳，且更佳爲0·5〜5%。羧酸之添加量未滿0.1% 則促進硏磨之效果變低。又，羧酸之添加量即使超過5 % 亦不會令促進硏磨之效果變高。 本發明之硏磨用組成物中所用之氧化劑（例如，過氧 人氫）的添加量爲0.2〜5%爲佳，且更佳爲0.5〜 3%。過氧化氫之添加量未滿0.2%則促進硏磨之效果 變低。又，過氧化氫之添加量即使超過5%亦不會令促進 硏磨之效果變高。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明所用之防膠化劑較佳爲由膦酸系化合物，菲及 乙醯丙酮鋁鹽中選出至少一種。具體而言，膦酸系化合物 可例示磷酸，1 一羥基乙烷一 1，1 —二膦酸（ C2H6〇7P2)或胺基伸丙基膦酸（C2H12〇9p3N )。菲可例示1，1 0 —菲一水合物（C i 2 Η 8 N 2 . Η 2 Ο )，乙醯丙酮鋁鹽可例示乙醯丙酮之鋁錯鹽 (Al2〔CH (C〇CH3) 3〕）。其較佳添加2%以 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 528645 A7 B7 五、發明説明（9) 內。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 尙，上述各成分濃度爲硏磨磁碟基板時之濃度。於製 造，搬運硏磨用組成物時爲呈現比上述濃度更濃之組成物 ，於使用時其有效爲稀釋至上述濃度供使用。 本發明之磁碟基板之硏磨用組成物除了前述各成分以 外，亦可添加界面活性劑及防腐劑等。但是，其種類及添 加量必須細心注意不會引起膠化。 本發明之硏磨用組成物爲同先前之硏磨用組成物，將 硏磨粒懸浮於水中，例如，於其中添加草酸等之羧酸，過 氧化氫，防膠化劑等，並以氫氧化鉀調整P Η則可調製。 使用時，可將全部成分混合之組成物予以稀釋供使用，且 亦可將添加成分分開2組準備，例如，將水，硏磨粒，羧 酸，氫氧化鉀與水，過氧化氫，防膠化劑分開準備，並且 混合此二組之方法。 經濟部智慧財1局員工消費合作钍印製 本發明之硏磨用組成物可有利應用於例如利用磁電阻 (MR)效果之磁頭用磁碟所代表之高記錄密度用之基板 (通常，具有3G b i t/i nch以上之記錄密度） ，且對於具有更低記錄密度之磁碟由提高信賴性之觀點而 言亦可有效應用。 應用本發明硏磨用組成物之磁性硬碟基板並無特別限 定，但若令鋁基板（包含合金），特別爲N i P所無電解 鍍層之鋁基板應用本發明之組成物，則可工業上有利地取 得高品質之硏磨面。 硏磨方法一般爲將流漿狀硏磨材所用之硏磨墊於磁碟 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 528645 A7 ___B7_ 五、發明説明（β 基板上摺合，並於墊與基板之間一邊供給流漿一邊令墊或 基板迴轉之方法。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 由本發明硏磨用組成物所硏磨之基板作成之磁碟爲微 細坑槽，微細刮痕等微細缺陷的發生頻率爲非常低，且表 面粗度（Ra)亦爲2〜3Α左右，平滑性爲非常優良。 〔實施例〕 以下，具體說明本發明之實施例，但本發明不被此些 實施例所限定。 實施例，比較例中所用之硏磨粒及其特徵示於表1。 (實施例1〜14，20〜22) 經濟部智慧时4苟員工消費合作社印製 於Dupont (株）製之膠體矽石（Si ton HT-5 0F )中將 水、羧酸、氧化劑、防膠化劑、鹼金屬之氫氧化物以表2 所示之比例添加，調製各種之水性硏磨用組成物，並以下 列所示之硏磨裝置及硏磨條件進行硏磨。於鹼金屬之氫氧 化物爲使用氫氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化铷。 其結果示於表2。尙，表2中之鹼金屬氫氧化物之添加量 爲以鹼金屬離子含量表示。 粒徑爲以激光都卜勒周波數解析式粒度分佈測定器， Microtrack UPA 150(Honeywell公司製）測定。其粒度測定値 示於表1。組成物之P Η爲以（株）堀場製作所製D -1 3玻璃電極式氫離子濃度計予以測定。 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 528645 A7 _*_B7_ 五、發明説明（11) (實施例1 5，1 6 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 將曰本Silica工業（株）製之白碳（E — 1 5 0 J )及 曰本Aerosil (株）製之煙霧矽石（AEROSIL-50 )以媒體 攪拌磨予以粉碎，整粒除去粗粒子，則可首先取得二級粒 子之平均粒徑爲0 · 1 /i m之氧化矽。其次，將水、羧酸 、氧化劑、防膠化劑、氫氧化鉀以表2所示之比例添加， 調製各種水性硏磨用組成物，並以下列所示之硏磨裝置及 硏磨條件進行硏磨。其結果示於表2。 (實施例1 7〜1 9 ) 將昭和Titanium (株）製之氧化鈦（Super Titanium F-4 )，氧化鋁，氧化鉻以媒體攪拌磨予以粉碎，整粒除去粗 粒子，則可首先取得二級粒子之平均粒徑爲0 / 2 // m之 氧化鈦。其次，將水、羧酸、氧化劑、防膠化劑、氫氧化 鉀以表2所示之比例添加，調製各種水性硏磨用組成物， 並以下列所示之硏磨裝置及硏磨條件進行硏磨。其結果示 於表2。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 (硏磨條件） 基板爲使用N i P無電解鍍層之3 · 5吋大小之鋁碟 (硏磨裝置及硏磨條件） 硏磨試驗機……4道式兩面拋光機 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 528645 A7 _B7____ 五、發明説明（ii 硏磨墊............絨面皮革型（Polytex DG，Rodel製） 下定盤迴轉速度......6 0 r pm (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 流漿供給速度……5 0 m 1 /m i η 硏磨時間............5分鐘 加工加壓............5 0 g / c m 2 (硏磨特性之評價） 硏磨速度……由鋁碟硏磨前後之重量減少而換算

表面粗度......使用 Talystep，Talydata 2000(LANCTARA

Hobson公司製） 硏磨損傷之深度爲以觸針式表面解析裝置P - 1 2 ( TENCOR公司製）之三次元型解析形狀並測出深度。 硏磨特性之評價結果示於表2。表2中之硏磨傷A爲 硏磨傷深度爲2 nm以下。硏磨傷B爲硏磨傷深度爲2〜 1 0 nm。硏磨傷深度爲大於1 〇 nm者於實施例，比較 例中均未發生。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (比較例1，2 ) 於DuPont (株）製之膠體矽石（Siton HT-50F )中將 水，硝酸銨，過氧化氫以表2所示之比例添加，調製水性 硏磨用組成物，並同實施例硏磨。其結果示於表2。 (比較例3 ) 將昭和Titanium (株）製之氧化鈦（Super Titanium F- -15- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐〉 528645 A7 B7 五、發明説明（ 2 )，以媒體攪拌磨予以粉碎，整粒除去粗粒子，則首先取 得二級粒子之平均粒徑爲〇 · 3 //m之氧化鈦。其次，將 水，硝酸鋁以表2所示之比例添加，調製水性硏磨用組成 物，且同實施例硏磨。其結果示於表2。 (比較例4 ) 將昭和Titanium (株）製之氧化鈦（Super Titanium F-4 )以媒體攪拌磨序以粉碎，整粒除去粗粒子，則首先取得 二級粒子之平均粒徑爲0 · 2 // m之氧化鈦。其次，將水 ，硝酸鋁以表2所示之比例添加，調製水性硏磨用組成物 ，且同實施例硏磨。其結果示於表2。 〔表1〕 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 硏 磨粒 ( 表 2 中 之簡稱 ) 商品名 二級粒徑（// m ) 氧 化矽 素 ① ( 矽 石①） Siton HT-50 0.05 氧 化矽 素 ② ( 矽 石②） E-150J 0.1 氧 化矽 素 ③ ( 矽 石③） AER0SIL 50 0.1 氧 化鈦 ① ( 二 氧 化鈦① ) F-2 0.3 氧 化鈦 ② ( 二 氧 化鈦② ) F-4 0.2 氧 化鋁 0.2 氧 化鉻 0.2 16- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29*7公釐） 528645 A7 B7 五、發明説明（4 ) i

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Claims (1)

1. 528645 A8 B8 C8 D8 夂、申請專利範圍 1 · 一種硏磨用組成物，其特徵爲於水性介質中含有 驗金屬離子、硏磨粒、羧酸、氧化劑、防膠化劑。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 ·如申請專利範圍第1項記載之硏磨用組成物，其 中驗金屬離子含量爲〇·〇〇1〜5質量％之範圍。 3 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成物 ’其中鹼金屬離子爲由鹼金屬之氫氧化物所供給。 4 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成物 ’其中鹼金屬爲由鋰、鈉、鉀、鉚、鉋所組成群中選出至 少一種。 5 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成物 ’其中鹼金屬爲鉀。 6 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成物 ’其中硏磨粒爲由氧化鋁、二氧化鈦、矽石、氧化鉻所組 成群中選出至少一種。 7 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成物 ’其中硏磨粒之二級粒子的平均粒徑爲0·03〜0.5 β m 。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 8·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成物 ，其中硏磨粒爲膠體粒子。 9 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成物 ，其中羧酸爲於分子中具有至少一個C〇〇Η基或C〇〇-基之有機羧酸。 1 〇 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中羧酸爲由葡萄糖酸、乳酸、酒石酸、乙醇酸、甘 -19 - 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 經濟部智慧財產局員工消骨合作社印製 528645 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 油酸、蘋果酸、檸檬酸、甲酸、醋酸、丙酸、丙烯酸 '草 酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、順丁烯二酸、衣康酸、甘 胺酸、離胺酸、天冬胺酸、麩胺酸所組成群中選出至少一 種。 i i .如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中氧化劑爲由過氧化物，過硫酸鹽，硝酸鹽，氧酸 鹽，鐵鹽中選出至少一種。 i 2 .如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中氧化劑爲含有過氧化氫。 1 3 .如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中防膠化劑爲由膦酸系化合物，菲，乙醯丙酮鋁鹽 所組成群中選出至少一種。 1 4 .如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中防膠化劑爲由磷酸，1 —羥基乙烷一 1 ，1 一二 膦酸，胺基伸丙基膦酸，菲，乙醯丙酮銨鹽所組成群中選 出至少一種。 1 5 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中p Η爲約1〜約5。 1 6 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中硏磨粒之含量爲3〜3 0質量％之範圍內，羧酸 之含量爲0·1〜8質量％之範圍內，氧化劑之含量爲 0 · 2〜5質量％之範圍內。 1 7 ·如申請專利範圍第1或2項記載之硏磨用組成 物，其中硏磨用組成物爲磁碟基板硏磨用組成物。 本紙張尺度逍用中國國家橾準（CNS ) Α4规格（210X29*7公釐） -20· ----：--'---Φ------1Τ------線· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 528645 Α8 Β8 C8 D8 々、申請專利範圍 1 8 . —種硏磨用組成物之製造方法，其特徵爲於含 有硏磨粒、羧酸、氧化劑、防膠化劑之水性介質中添加氫 氧化鉀且將該水性介質之P Η調整至約1〜約5。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -21 - 本纸張尺度適用中國國家梂準（CNS ) Α4規格（210X29*7公釐）