TW526169B - Process to recover hydrogen from hydrotreater effluent gas purge - Google Patents
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Description
526169 A7 B7 五、發明説明(1 ) 發明之背景 自固態及液態含碳燃料,特別是煤、焦炭及液態烴進料 製造合成氣體已長期利用,近來由於能源需求增加及乾淨 利用低價含碳物質之需要,而受到顯著改良。合成氣體可 藉加熱含碳燃料與反應性氣體如空氣或氧氣而產生,時常 在蒸氣及/或水存在下於氣化反應器中以得自氣化反應器 回收之合成氣體。 某種含碳物質之氣化及後續燃燒提供產生電力用之燃料 之環境上適合之方法及自此等環境上不適合之進料的所需 化學品。煤、石油基礎之進料包括石油焦炭及其他含碳物 質、殘餘油及來自重原油之副產物一般用於氣化反應。 合成氣體混合物包含一氧化碳與氫。氫為氫化反應之商 用重要反應物。合成氣體亦可用以自環境上無法接受之燃 料源產生電力,以及作為烴、含氧有機化合物或氨之合成 用之進給氣體源。 時常發現於合成氣體之其他物質包括硫化氫、二氧化 碳、氨、烴類、氰化物類及碳與微量金屬形式之微粒。進 給物中污染物之程度係由進給物類型,所用特殊氣化過程 及操作條件而定。無論如何,污染物之去除對使氣化成為 可行方法極重要。 關於自氣化器排出之產物氣體,通常實施冷卻及清潔操 作,包括擦洗技術,其中氣體被導入擦洗器中並與水噴霧 接觸,其可冷卻氣體並自合成氣體除去微粒及離子組份。 最初冷卻之氣體可被處理以在利用合成氣體前將氣體脫 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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526169 A7 B7 五、發明説明(2 ) 石瓦。 當所欲產物為氫時,來自氣化器之合成氣體使用觸媒轉 換以形成下示之氫。 h2o + co => h2 + co2 轉換方法(shift process),亦稱為水氣體轉換法或蒸 氣重整法,可轉化水與一氧化碳成為氫與二氧化碳。轉換 法述於’例如,美國專利5,472,986,其揭示併入本文供參 考0 氫氣時常用於後續過程中,特別是加氫處理。至於許多 應用’尤其是加氫處理烴類,需要氫在較高純度下及在壓 力為約 1000 psi (6895 kPa)與約 3000 psi (20,684 kPa)之間。 因此’轉換的合成氣體必須被純化以符合產物規格。 合成氣體被加工以提供富氫氣流及富一氧化碳/二氧化 碳氣流。氣體中其他雜質通常在富一氧化碳/二氧化碳氣 流之後。純化氣體之一方法為壓力回轉吸收法。此法昂貴 且需大量的資本支出。 隔膜系統亦可用以進行分離。隔膜容許小分子如氫通過 (滲透)’而較大分子(c〇2,C〇)不會通過。隔膜對壓力回 轉吸收單元為成本上有效之替代物。隔膜減少產物氫之壓 力’因此其必須在使用前壓縮。例如,產物氫的壓力,當 使用隔膜純化時,實質上低於加氫處理裝置所需者。 發明之概述 本發明為一種自加氫處理裝置之釋放氣流回收氫之方 法。加氫處理裝置之氣體與液態烴流在加氫處理裝置内反 _ __ -5- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公董)
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線 526169 A7 B7 五、發明説明(3 ) 應。 加 氫 處理裝 置流出氣體被分開,館份與氫混合 以形 成 加氫 處 理 裝置之 氣體,爾後被導入加氫處 理裝置内 。含加 氮處 理 裝 置之流 出氣體之釋放氣流與合成 氣體摻合 〇 釋 放氣 體 與合成氣 體之混合氣體被有利地處 理以除去酸性氣 體及 其他 可能的 雜質。然後將混合氣體處 理以使用 如隔 膜 萃取 氫 氣 流及殘餘一氧化碳/氫氣流。氫 氣流被再循環 至 加氫 處 理 裝置。· 發明之細節說明 本發 明 涉及油 精煉與氣化之整合,特別是溶劑 脫瀝 青 質、 氣化 及加氫 處理之整合。特別是,本發明為一 種自 加 氮處 理 裝 置之釋 放氣流回收氫之方法,其 中氣化及 附加 氣 體處 理 設備可行 〇 白 加 氫 處理裝 置流出氣體釋放回收氫之 方法包括 自加 氫 處理 裝 置 除去加 氫處理裝置之流出氣體, 及將標示 為釋 放 氣體 之 部份與標 示為再循環加氫處理裝置 流出氣體 之剩 餘 部份分 開 。然後 釋放氣流與合成氣流摻合 ,以產生 混合氣 流。 生 產 合成氣 體之氣化工廠具有酸性氣 體移除之 設備 及 生產 分 離 氫與燃 料氣流之設備。混合氣體 經歷此過程, 氫 與再循 環 加氮處 理裝置之流出氣體摻合以 形成加處 理裝 置 之氣 體 〇 此加氫處理裝置之氣體隨後導/ 人加氫處 理裝 置 内0 在 本發 明之一 具體例中,脫瀝青質之油 係經溶劑 萃取 白 重質 原 油 分離。 萃取底部,瀝青質為低價 含烴物質 。該 物 質可 被有 利地氣化以產生氫、電力、蒸氣 及合成氣 體供 化 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 526169 A7 B7 五、發明説明(4 ) 學製造。該方法有利地具有氣體處理設備,其可有利地用 於本發明之方法。脫瀝青質之油可被加工成流化催化裂解 單元中高價柴油之源。脫瀝青質之油通常包含相當量之含 硫及氮之化合物。此脫瀝青質之油亦可包含長鏈烴類。為 了符合環保規定及產物規格以及延長觸媒之壽命,流化催 化裂解單元之進給物首先被加氫處理以除去硫化合物。本 發明為一種處理並自此加氫處理法回收部份釋放氣體之方 法。 本文所用之術語’’加氫處理”,”加氫裂解,,及,,氫化,,可互 相交換使用,意指氫氣與烴混合物反應,其中烴混合物通 常包含硫及其他不當成份。 在加氫處理時,氫視需要在觸媒存在下與烴混合物接 觸。觸媒有利於碳-碳、碳-硫、碳-氮及-氫鏈之破裂及與 氫之鍵合。加氫處理之目的為藉除去硫、減少酸度及產生 較短烴分子來增加烴流之值。 本文所用之術語”氫”意指一種氣體,包含大於約8 〇莫耳 %,較佳為大於約9 〇莫耳%分子氫氣。 需要完成氫化反應之壓力、溫度、流速及觸媒為習知技 藝已知者。熱加氫裂解之典型條件如下:反應溫度為約 300 °C至約480 °C ;氫之分壓為約3〇 kg/Cm2至約200 kg/cm2 ;液體空間速度為約每小時〇1至每小時2 〇 ^觸媒 通苇了在約與流體重量〇 · 〇 1至〇 · 3 〇重量被有利地加入。 當煙混合物與相當純的氫接觸時,加氫處理最有效。加 氫處理需要含大約80莫耳%氫氣之富氫氣體。加氫處理產
526169 A7 B7 五、發明説明(5 ) 生揮發性烴、揮發性含硫及氮之烴、硫化氫及其他氣態污 染物。雖然如此,離開加氫處理裝置之氣體主要為氫。此 氣體較好再循環至加氫處理裝置。 過量氫在反應時存在。在加氫處理過程時,形成硫化氫 及短鏈烴如甲烷、乙烷、丙烷、丁烷及戊烷。當氣流離開 反應器時,主要仍為氫。氣流亦含蒸氣化烴、氣態烴如甲 烷及乙烷、硫化氫及其他污染物。處理此氣流以除去可冷 凝物,然後再循環至加氫處理反應器。除去可冷凝物需要 冷卻加氫處理裝置流出氣體至約〇它與約l〇(rc之間,較佳 為約〇°c與約3〇t:之間。然而,加氫處理反應之非可冷凝 副產物累積,而釋放流必須離開再循環氣流以避免雜質累 積至會抑制加氫處理反應之濃度。 此釋放氣流與合成氣體(其為氫之最初源)摻合。 本又所用之術語”合成氣體,,意指氣體包含氫氣與一氧化 碳,其量各超過約5莫耳%。氫對一氧化碳之莫耳比可為 但非必要為約1比1。時常有一些惰性氣體於合成氣體中, 特別是氮及一氧化碳。時常有污染物如硫化氫及C〇S。合 成氣體係藉局部燃燒含烴燃料及氧於反應器,通常在蒸氣 及/或水之存在下,以產生含一氧化碳與氫之混合物於反 應器内之比例製備。 本文所用說明各種適當進料之術語,,含烴的”意指包括氣 態、液態及固態烴、含碳物質及其混合物。事實上,實質 上任何可燃燒含碳有機物質或其淤漿可包括在術語”含烴 的π定義内。固態、氣態及液態進給物可同時混合及使 •8«· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格 526169 A7
炔的、環燒 用;其可按任何比例包括石蠟的、缔烴的 的、瀝青的及芳香的化合物。 含烴燃料係與反應性含氧氣體,如空氣,或具有大於私 9〇莫耳%氧之實質上純粹氧,或具有大於仙莫耳%氧之 富氧空氣反應。以實質上純粹氧較佳。含烴物質之局部氧 化係視需要在溫度控制緩和劑存在下於氣化區内完成,以 得熱局部氧化合成氣體。
裝 、合成氣體可藉任何局部氧化方法製造。較佳的是,氣化 方法貝貝上使用具有在約9 5莫耳〇/0氧以上之實質上純粹 氧。氣化方法為習知技藝已知者。參照,例如,u s專利 4,〇99,382及4,178,758,其揭示併入本文供參考。 在氣化反應器中,含烴燃料係視需要在溫度緩和劑存在 下與不含氧之氣體接觸。在反應區内,内含物共同達到溫 度範圍為900 C至1700。(:,通常為約丨丨⑼它至約15〇〇c。 壓力之範圍通常為約1氣壓(1〇1 325 kpa)至約25〇氣壓 (25,331 kPa),更通常為約15氣壓(1519 kpa)至約15〇氣壓
線 (15,190 kPa),甚至為約 800 pSi (5516 kPa)至約 2000 psi (13,789 kPa)。 合成氣體被冷卻及污染物之洗滌,較佳用能量回收如汽 化蒸發及/或条氣起熱。可接於較低等級熱回收之後,如 傳統合成氣製造。釋放氣體通常但非必要在有些熱自合成 氣體萃取後與合成氣體摻合。亦可有其他傳統氣體處理步 驟如蒸氣移除及適當時組合物之調整。 若氫氣為所欲產物時,最好將合成氣體或混合氣體實施 _ ·9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐) 526169 A7 B7 五、發明説明(7 ) 蒸氣重整以增加氫氣之相對產率。蒸氣重整為一種加水, 或使用含於氣體中之水及經蒸氣重整觸媒絕熱反應所得氣 體混合物之方法。蒸氣重整之主要目的為增加氫於氣體混 合物中之量。合成氣體包含硫化氫(H2S)及COS,自進給物 中之硫至氣化器形成。cos在蒸氣重整裝置中依照如一氧 化碳相同反應途徑轉換以形成硫化氫及二氧化碳。 氣化反應之合成氣體組合物通常為25至45莫耳%氫氣、 4 0至5 0莫耳% —氧化碳氣體、1 0至3 5莫耳%二氧化碳氣 體及微量污染物。在蒸氣重整之合成氣體中,典型組合物 為35至65莫耳%氫氣、0.2至10莫耳%—氧化碳、30至60 莫耳%二氧化碳及微量污染物。此等範圍並非絕對,但可 隨氣化之燃料及氣化參數而改變。 蒸氣重整之觸媒為耐熱載體上一或多種VIII族金屬。傳 統無規填充陶瓷載體上觸媒件,如用於第二重整裝置中, 可使用,但由於其施加相當壓降至氣體,較好使用具有通 常平行於反應物流動方向之貫穿通道之單體觸媒。 在蒸氣重整時之氣體溫度通常範圍為750 °F (398 °C )至 1050°F(565°C)。此過程可在熱自合成氣體回收前發生。 合成氣體及其胺或物性溶劑之酸性氣體移除設備可自混 合合成氣體/釋放氣流除去酸性氣體特別是硫化氫。酸性 氣體移除設備通常在較低溫度下操作。在合成氣體冷卻在 約130°C以下,較佳在約9 0 °C以下後,氣體中之污染物尤 其是硫化合物及酸性氣體可容易地除去。 硫化氫,一種酸性氣體,容易自合成氣體除去。與酸性 -10- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 526169 A7 B7 五、發明説明(8 ) 反應之流體類型不重要。傳統胺溶^y^DEA可用以 硫化氫。亦可使用物性溶劑^ν__Χ〇ΜΤΜ)及 \/SSriXOL(TM) 〇流體可為溶劑如較低響參,如甲醇, 或多元醇如乙二醇等。流體可含胺如二#胺、甲醇、N- 甲基-吡咯烷酮或聚乙二醇之二甲醚。通常使用物性溶 劑,因為其在高壓下較好操作。合成氣體係與酸性氣體移 除接觸器中之溶劑接觸。該接觸器可為習知技藝任何已知 類型,包括盤或填充柱。該酸性移除接觸器之操作為習知 技藝中已知者。 較佳的是,酸性氣體移除單元之設計及操作導致最少之 壓降。因此合成氣體之壓力得以保留。 有利的是,在經由酸性氣體移除單元進行氣體合成之前 將釋放流加入合成氣體中。其優點包括但不限於具有一個 單元操作供移除污染氣體尤其是酸性氣體如硫化氫之經濟 性,及合成氣體中富含之氫濃度。在本發明之較佳具體例 中,至少一部份來自加氫處理裝置之釋放氣體經由合成氣 體酸性氣體移除單元,然後經由分離單元如隔膜進行,以 除去污染物並增加再循環富氫之釋放氣體中氫濃度。 混合的釋放氣體/合成氣流之壓力為約500 psi (3447 kPa) 至約 2000 psi (13789 kPa),通常為約 800 psi (5516 kPa)與 1200 psi (8274 kPa)之間。混合氣體之溫度變化極大。 混合釋放氣體/合成氣體進入氣體分離單元中,例如隔 膜,其設計可使氫分子通過但可阻止較大分子如一氧化 碳。隔膜可為任何類型,其可優先滲透氫氣勝於二氧化碳 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 526169 A7 B7 五、發明説明(9 ) 及一氧化碳。許多類型隔膜物質為習知技藝中已知者,其 高度優先於擴散氫(比較氮)。該隔膜物質包括由矽橡膠、 丁基橡膠、聚破酸酯、聚(氧化伸苯)、尼龍6,6、聚苯乙 晞、聚磺酸酯、聚醯胺、聚亞胺、聚醚、聚氧化伸芳、聚 脲烷、聚酯等。隔膜單元可為任何傳統結構,以中空纖維 型結構較佳。 富氫氣體透過隔膜滲透氣體。滲透物通過隔膜時經歷實 質壓降為約 500 psi (3447 kPa)與700 psi (4826 kPa)之間。然 後將此富氫氣體加熱且必要時壓縮,至少一部份再循環至 加氫處理裝置。 富氫氣體較好包含大於約8Ό莫耳%,更佳為大於約9 0莫 耳%氫氣。 來自隔膜之非滲透氣體包括二氧化碳、一氧化碳及一些 氫。其他化合物,特別是揮發性烴亦會存在。此非滲透物 成為燃燒渦輪之良好燃料。非滲透物之壓力實際上不受隔 膜所影響。此滲透物之壓力較好在燃燒滿輪燃燒前減少。 在本發明之一重要具體例中,來自後續加氫處理過程之 釋放氣體係在氣體混合物與胺溶劑或物性溶劑接觸前,但 在蒸氣重整後與合成氣體組合。 在本發明之另一具體例中,氣流在蒸氣重整單元内處理 前摻合。COS可轉換為硫化氫及一氧化碳。一氧化碳當然 可被轉化成氫及二氧化碳。此對本發明不需要一烴及一氧 化碳亦可有利地用於作為燃料之非滲透物内。 氫與自壓縮至適當壓力之加氫處理裝置之再循環氫混 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 526169 A7 B7 五、發明説明(10 ) 合。 來自酸性氣體移除單元之硫化氫按路線至送至硫回收過 程之酸性氣流。 鑒於上述揭示,一般熟悉此技藝者當可明白本發明之至 少一個具體例包括自加氫處理裝置流出氣體釋放回收氫之 方法。該本發明方法之具體例包括: a)在加氫處理裝置中反應烴流與加氫處理裝置之氣體, 藉以形成加氫處理裝置之氣體及液態產物; b )除去加氫處理裝置之流出氣體; c )分離一部份加氫處理裝置之流出氣體,藉以產生再循 環加氫處理裝置之流出氣流及釋放氣流; d )將加氫處理裝置之流出氣體釋放與合成氣流,藉以產 生混合氣流; e )處理該混合氣流以產生分離氫及燃料氣流;及 f)將再循環加氫處理裝置之流出氣體與至少一部份氫流 以形成加氫處理裝置氣體,其中該加氫處理裝置氣體被導 入加氫處理裝置中。較佳的是,加氫處理裝置之流出氣體 包括氫氣、硫化氫及曱烷。在一較佳具體例中,加氫處理 裝置之流出氣體冷卻至溫度為約0 °C與約100°C之間,以在 步驟(c)前除去可冷凝物,更佳的是冷卻至溫度約0 °C與約 5 0 °C之間,俾可在步驟(c)前除去可冷凝物。該法更包括 在分離混合氣體成為氫與燃料氣流前自步驟(e)之摻合氣體 除去酸性氣體。通常酸性氣體由硫化氫所組成。希望是除 去酸性氣體之方法包括將摻合氣體與一種或以上 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 526169 A7 B7 五隱明說明(” m _ ^pLEXOL(TM),"^|<:1[1又01^丁1^),二乙醇胺、甲醇、N -甲 基-p比嘻燒酮或聚艺二醇之二甲醚接觸。該方法較好用由 大於約80莫耳%氫氣組成之加氫處理裝置氣體實施。在一 較佳具體例中,合成氣體係由約2 5莫耳%至約4 5莫耳%氫 氣、約4 0莫耳%至約5 0莫耳% —氧化碳氣體與約1 0莫耳% 至約3 5莫耳%二氧化碳氣體所組成。該方法較佳可包括一 種合成氣體,其為蒸氣重整之合成氣體,其包含約35莫耳 %至約6 5莫耳%氫氣,約0.2莫耳%至約1 0莫耳%,一氧化 碳氣體及約30莫耳%至約60莫耳%二氧化碳氣體。 在本發明之另一具體例中,該方法為混合氣體成為氫與 燃料氣流之分離,其包括將混合氣體與設計以使氫分子通 但阻止較大分子之隔膜接觸。隔膜較好由一種或以上矽橡 膠、丁基橡膠、聚碳酸酯、聚(氫化伸苯)、尼龍6,6、聚苯 乙晞、聚續酸醋、聚酿胺、聚亞胺、聚醚、聚氧化伸芳、 聚脲烷及聚酯所組成。該法可更包括在導入至少一部份氣 體入加氫處理裝置前加熱及壓縮氫氣。較佳的是,氫應由 大於約9 0莫耳%氫氣所組成。該法更包括在分離混合氣體 成為氫與燃料氣流前蒸氣重整步驟(e)之混合氣體,其中蒸 氣重整包括藉由蒸氣重整觸媒反應水與氣體混合物。較佳 的是,蒸氣重整觸媒為一種或以上VIII族金屬在耐熱載體 上,且其中氣體溫度為约750°F(398°C)至1050°F(565°C)之 間。 雖然本發明之組合物及方法已根據較佳具體例說明,熟 悉此技藝者當可明白在不脫離本發明之概念及範圍内可對 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 526169 A7 B7 五、發明説明(12 ) 本文所述之過程作改變。所有熟悉此技藝者明白之類似取 代物及改良應視為本發明之範圍與概念内,如下列申請專 利範圍所闡明。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- V ο 1A B c D •=據中請專利範圍第5項之方法,纟中酸性氣體包括硫 7》氫。 /參 申請專利範圍第5項之方法,其酸性氣體包 摻合氣體與-種或以秦^^x〇L(TM), ^TlX〇L(TM),二乙醇胺、甲醇、N-甲基_吡咯烷酮 或聚乙二醇之二甲醚接觸。 8·申請專利範圍第丨項之方法,其中加氫處理裝置之 氣體包含大於8〇莫耳%氫氣。 9· j據申請專利範圍第i項之方法,其中合成氣體包含2 5 ^ : A 土 4 5莫耳%氫氣,4 〇莫耳。/°至5 〇莫耳% 一氧化碳 氣體及1 0莫耳%至3 5莫耳%二氧化碳氣體。 10·根據中請專利範圍第β之方法,纟中合成氣體為蒸氣 重整合成氣體,其包含35莫耳%至65莫耳%氫氣,1〇莫 =%至2 0莫耳% 一氧化碳氣體及3 〇莫耳%至6 〇莫耳%二 氧化碳氣體。 η. ^據中請專利範圍第μ之方法,纟中分離步驟⑷之混 =氣體成為氫與燃料氣流包括將混合氣體與設計以使氫 分子通過但阻止較大分子之隔膜接觸。 12. 根據申請專利範圍第"項之方法,其中隔膜係由—種或 以上矽橡膠、丁基橡膠 '聚碳酸酯、聚(氧化伸苯)、尼 龍6:6、聚苯乙烯 '聚磺酸酯' 聚醯胺、聚亞胺、聚醚、 聚氧化伸芳、聚脲烷及聚酯所組成。 13. 根據申請專利範圍第丨丨項之方法,更包括在導入至少一 部份氣體至加氫處理裝置前加熱並壓縮氫氣。 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 526169 A8 B8 C8 D8 「、申請專利範圍 14. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中氫包括大於9 0莫 耳%氫氣。 15. 根據申請專利範圍第1項之方法,更包括在分離混合氣 體成為氫與燃料氣流前蒸氣重整步驟(e)之混合氣體,其 中蒸氣重整包括藉由蒸氣重整觸媒反應水與氣體混合 物。 16. 根據申請專利範圍第1 5項之方法,其中蒸氣重整觸媒為 一種或以上VIII族金屬在耐熱載體上,且其中氣體溫度 為750°C至1050°C之間。 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)^^各襴由本局填註) 中文說明書修正本(9〇年12月)526169SI專利説明書 、弩明 新型 名稱 發明 創作人 中 文 英 文 自加氫處理裝置流出氣體釋放回收氫之方法 -------------- "PROCESS TO RECOVER HYDROGEN FROM HYDROTREATER EFFLUENT GAS PURGE'1 姓 名 1·保羅s·瓦拉斯 2.凱安德森強森 國 籍 均美國 住 、居所 1.美國德州卡堤市契尼米斗路1110號 2·美國德州米蘇里市南西貝爾巷292;7號姓 义 (名稱) 美商德士古開發公司 國 籍 美國 裝 線 三、申請人 住 2表 名 美國域州懷特布蘭市維契斯特大街2_號 爾·弗瑞德·威爾森 (CNS) Α4規格(210X297公釐)A8 B8 v:C8 •—種自加氫處理裝置流出氣體釋放回收氫之方法,該法 包括: a)在加氳處理裝置中反應烴流及加氫處理裝置之氣 體’藉以形成加氫處理裝置流出氣體及液態產物; b )除去加氫處理裝置之流出氣體; c )分離一部份加氫處理裝置之流出氣體,藉以產生再 循環加氳處理裝置之流出氣流及釋放氣流; d)將加氫處理裝置之流出氣體釋放與合成氣流摻合, 藉以產生混合氣流; e )處理該混合氣流以產生分離氫及燃料氣流;及 Π將再循環加氫處理裝置之流出氣體與至少一部份氫 流摻合以形成加氫處理裝置之氣體,其中該加氫處理裝 置之氣體被導入加氫處理裝置内。 2·根據申請專利範圍第1項之方法,其中加氫處理裝置之 流出氣體包括氫氣、硫化氫、甲烷及其他輕質烴。 3·根據申請專利範圍第1項之方法,更包括冷卻加氫處理 裝置之流出氣體至〇°C與100°C之間,以在步驟(c)前除去 可冷凝物。 4·根據申請專利範圍第1項之方法’更包括冷卻加氫處理 裝置之流出氣體至〇°C與50°C之間,以在步驟(c)前除去 可冷凝物。 5·根據申請專利範圍第1項之方法’更包括在分離混合氣 體成為氫與燃料氣流前,自步騾(e)之摻合氣體除去酸性 氣體。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(€^3) A4規格(210 X 297公爱)
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