JP2002534563A - 水素処理器及び水素添加分解器からのパージガスの再生利用 - Google Patents

水素処理器及び水素添加分解器からのパージガスの再生利用

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JP2002534563A JP2000593543A JP2000593543A JP2002534563A JP 2002534563 A JP2002534563 A JP 2002534563A JP 2000593543 A JP2000593543 A JP 2000593543A JP 2000593543 A JP2000593543 A JP 2000593543A JP 2002534563 A JP2002534563 A JP 2002534563A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、水素処理器から出るパージガスストリームからの高圧水素を多く含んだガスストリームを回復する工程である。パージガスストリームは、ガス状混合物を形成する水素の供給源である合成ガスと混合される。混合されたガスは、パージガス及び酸性ガスと可能な他の不純物の除去に有用に処置される合成ガスを含む。混合されたガスは、次いで水素を多く含むガス及び水素が枯渇したガスを、例えば、膜を使用して抽出する処置がされる。水素を多く含むガスの少なくとも一部分が、次いで熱せられ、必要に応じて圧縮され、水素処理器へと再生利用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 1999年1月11日に出願した米国仮特許出願番号60/115,391に
先行して請求されている。
【0002】 発明の背景 固形及び液体炭質燃料、例えば、石炭、コークス、及び液体状炭酸水素フィー
ドからなる合成ガスの生成物は、長期間利用され、エネルギーの需要の増大と低
価値の炭質物質に変るクリーンな使用の必要性によって今日大々的な改善を余儀
なくされている。合成ガスは、炭質燃料をガス化反応器中において水蒸気や水と
して存在する空気や酸素のような活性気体と共に熱することによって生成され、
ガス化反応器から回収されて合成ガスを得ることができる。
【0003】 ガス化及び続いて起こるある炭質物質の燃焼は、環境にやさしく力のある燃料
を生産する方法を提供し、環境にやさしくない供給源からの化学物質を必要とす
る。石炭、石油を基にした供給源が含んでいるコークス及び他の炭質物質、廃炭
水化物、残存油、及び重い原油からの副産物が一般的にガス化反応に使用される
【0004】 合成ガスの混合物は、一酸化炭素と水素から構成される。水素は、水素化反応
にとって商業的に重要な反応物である。合成ガスはまた、環境的に受け入れられ
なくなった燃料源から力の生成に使用することができ、炭化水素生成のためのフ
ィードガスの源として、酸素を含んだ有機化合物として、若しくはアンモニアと
して使用することができる。
【0005】 合成ガスでしばしば見受けられる他の物質は、硫酸、二酸化炭素、アンモニア
、炭化水素、シアン化物、並びに炭素の形状及び痕跡金属の粒子を含んでいる。
供給源中の異物の中身は、供給源の種類及び工程状態と同様に使用される特異的
なガス化工程によって決められる。いずれの状態でも、不純物の除去は、ガス化
を実行可能な工程にするために重要である。
【0006】 生成ガスは、ガス化器から排出されるため、通常、洗浄集じん技術を含む冷却
及び洗浄作業を受け、ガスはスクラッバーに通され、ガスを冷却するウォーター
スプレーに接し、合成ガスから粒子及びイオン化成分を除去する。初期段階で冷
却されたガスは、合成ガスへの使用に先立って、脱硫処理がされる。
【0007】 所望の生成物が水素であるならば、ガス化器からの合成ガスは、水素を形成す
るための触媒を使用するように転換され、下記に示す。
【0008】 HO+CO⇒H+CO ウォーターガス変換工程(water gas shift process
)若しくは蒸気再形成と呼ばれる変換工程は、水と一酸化炭素を水素と二酸化炭
素に変換する。例えば、上述の変換工程は米国特許番号5,472,986にて
開示され、参照文献としてここに含まれている。
【0009】 水素ガスは、続く工程、特に水素処理法でしばしば用いられる。多くの応用例
にとって、特に炭化水素の水素処理法では、水素は高い純度及び1000psi
(6895kPa)から3000psi(20,684kPa)間の圧力が要求
される。変換した合成ガスは生成物の規格に合致するように精製されなければな
らない。
【0010】 合成ガスは、水素が豊富なガスストリーム(gas stream)及び一酸
化炭素/ニ酸化炭素が豊富なガスストリームを供給するように工程が進行される
。ガス中の他の不純物は、一酸化炭素/ニ酸化炭素が豊富なガスストリームに続
いて来る。ガスを精製する他の方法は、吸収工程を振幅する圧力による。この方
法は、高価でかなりの出費が必要とされる。
【0011】 膜システムもまた、分離効果に使用される。膜は、水素のように小さい分子は
通り抜けさせ、一方で大きな分子(CO、CO)は通させない。膜は、吸収工
程を振幅する圧力に替わり安価である。膜は、生成した水素の圧力を減少するた
め、使用に先立った圧縮が必要である。例えば、生成した水素圧力は、膜によっ
て精製されると実質的に水素処理に必要な圧力よりも低くなってしまう。
【0012】 発明の概要 本発明は、水素処理から取り出したパージガスストリームから出る水素を回復
する工程である。水素処理のガス及び液体炭化水素ストリームは、水素処理器内
にて反応する。水素処理の放出ガスは、水素処理のガスを形成する水素を伴って
混合されている分率で分離され、次いで、水素処理器へと導かれる。水素処理の
放出ガスからなるパージガスストリームは、合成ガスと共に混合される。パージ
ガスと合成ガスからなる混合ガスは、酸性ガス及び可能である他の不純物を取り
除くために有利に処置される。混合ガスは、次いで水素ガスストリームを排出す
るために処理され、例えば、膜を使用した場合、一酸化炭素/水素ガスストリー
ムはそのまま残る。水素ガスストリームは、水素処理器へと再生利用される。
【0013】 発明の詳細 本発明は、油の精製及びガス化の統合を含み、より詳細には、脱歴溶媒、ガス
化、水素処理法の統合である。より詳しくは、本発明は、水素処理から取り出し
たパージガスストリームから出る水素を回復する工程で、ガス化及び伴っている
ガス処理設備が利用可能である。
【0014】 水素処理から放出されたガスパージより出る水素の回復工程は、水素処理から
の水素処理の放出ガス除去及びデザインされた水素処理の放出ガスを再生利用す
るように設計された残存を伴うパージガスの一部分の分離から成る。次いで、パ
ージガスストリームは、合成ガスストリームと混合されて、混合ガスストリーム
を創り出す。合成ガスを生成するガス化プラントは、酸化ガスの除去の施設を持
ち、水素と燃料ガスストリームを分離生成する施設を持つ。混合ガスは、この工
程を受け、水素は再生利用する水素処理の放出ガスと混合され、水素処理のガス
を形成する。この水素処理のガスは、次いで水素処理器へと導かれる。
【0015】 本発明の1つの具体例において、脱歴された油は、重い原油から溶媒抽出を通
して分離される。分離物の底から取得できるのは、アスファルテンで、価値の低
い炭化水素物質である。そのような物質は、水素、力、蒸気、及び化学的合成さ
れる合成ガスを生成するために有用にガス化される。そのような有用な工程は、
本発明の工程において有用に使用できるガスを処理する施設を持っている。脱歴
された油は、流体した触媒の熱分解ユニットにおいて、高価値のディーゼル油源
に工程化できる。脱歴された油は、通常、かなり大量の硫黄及び窒素含有化合物
を含んでいる。脱歴された油はまた、長い鎖の炭化水素を含んでいる。環境規制
法及び生成物の明細の規格に適合するように、触媒の有効期限を延長するのと同
様に、流体した触媒の熱分解ユニット供給源は、最初に水素処理され、硫黄成分
を除去される。本発明は、水素処理工程からのパージガスの一部分を処理及び回
復する工程である。
【0016】 ここで使用される、用語としての“水素処理法”、“水素添加分解法”、及び
“水素添加”は、水素ガスが、硫黄および他の望まない成分を含んでいる炭化水
素混合物と反応する意味において交互に使用される。
【0017】 水素処理の間、水素は、任意で触媒の存在下において、炭化水素混合物と接触
する。触媒は、炭素間、炭素硫黄間、炭素窒素間、及び炭素酸素間結合の分解と
水素との結合を容易にする。水素処理の目的は、硫黄を除去することによる炭化
水素ストリームの値を上げ、酸化を減少させ、短い炭化水素分子を合成すること
である。
【0018】 ここで使用される用語“水素”の意味は、80モルパーセントより高い水素ガ
ス分子から成り、好ましくは90モルパーセントより高い水素ガス分子から成る
【0019】 水素添加反応を完成させるために必要な圧力、温度、流速率、及び触媒は、当
業者によって知られている。熱水素添加分解の典型的な条件は、以下である:反
応温度は約300℃から480℃;水素の部分的圧力は、1立方センチメートル
あたり約30kgから約200kg;約0.1/時間から0.2/時間の液体空
間速度である。触媒は、有利的に加えられ、しばしば約0.01から0.30重
量/液体重量である。
【0020】 水素処理法は、炭化水素混合が比較的純粋な水素と接触する時に最も効果的で
ある。水素処理法は、約80モルパーセントより多い水素ガスからなる水素が多
く含まれるガスを必要とする。水素処理法は、揮発性炭化水素、揮発性硫黄含有
及び窒素含有炭化水素、硫化水素、及びその他ガス化異物を生成する。それにも
かかわらず、水素処理の残留ガスは、主に水素である。このガスは、水素処理で
の再利用に有用である。
【0021】 この反応の間、余分量の水素が存在する。水素処理法工程の間、硫化水素及び
メタン、エタン、プロパン、ブタン及びペンタンのような短い鎖の炭化水素が形
成される。ガスストリームが反応器中に残留した時もまた、それは、主に水素で
ある。ガスストリームはまた、気化性炭化水素、メタン、エタン、硫化水素、及
びその他異物のようなガス化炭化水素を含んでいる。このガスストリームは、除
去して圧縮できるように処理され、次いで水素処理法反応器にて再利用される。
圧縮可能な除去は、水素処理の放出ガスを約0℃から約100℃の間に冷却する
必要があり、好ましくは0℃から30℃である。しかしながら、水素処理法反応
の圧縮できない副産物が合成され、パージガスは、水素処理法反応を抑制する合
成した濃縮から不純を保つ再生利用ガスストリームを取り除けられなければなら
ない。
【0022】 パージガスストリームは、水素の供給源としての合成ガスと混合させられる。
【0023】 ここで使用する用語“合成ガス”は、それぞれ5モルパーセントより多い水素
ガス及び一酸化炭素ガスを含む事を意味する。水素対一酸化炭素のモル比は、必
要ではないが、約1対1である。しばしば合成ガス中に、特に、窒素や二酸化炭
素の不活性ガスがある。それらは、しばしば硫化水素やCOSのような不純物を
含んでいる。合成ガスは、しばしば蒸気及び/若しくは水の存在下において、反
応器において一酸化炭素及び水素を含んでいる混合物の生成物の一部分において
、炭素質水素燃料及び酸素を反応器中で燃焼することによって部分的に合成され
る。
【0024】 ここで使用される“炭素質水素”は、ガス化、液体、固形炭化水素、炭素質物
質、及びそれらの混合物を含むことを意図する多種の適切な供給源を記述してい
る。実際、実質的に任意の燃えやすい炭素を含んでいる有機物質、若しくはそれ
らのスラリーは、“炭素質水素”の定義を伴って含んでいる。固形、ガス化、及
び液状供給源は混合されて同時に使用され、それらは、パラフィン、オレフィン
、アセチレン、ナフタレン、アスファルト、及び芳香化合物を任意の比率で含ん
でいる。
【0025】 炭素質水素燃料は、例えば、空気、若しくは約90モルパーセントより多い酸
素を含む実質的な純粋な酸素、若しくは約21モルパーセントより多い酸素を含
む酸素を多く含む空気のような活性化酸素を含んでいるガスと反応される。実質
的な純粋酸素が好まれる。炭素質水素物質の部分的な酸化が完了し、蒸気のよう
な任意な温度制御減速体の存在下において、ガス化域にて部分的に熱い酸化合成
ガスが得られる。
【0026】 合成ガスは、任意の部分的酸化方法によって作り出すことができる。好ましく
は、ガス化工程は、約95モルパーセントの酸素を含んだ実質的な純粋酸素が使
用される。ガス化工程は当業者によって知られている。例えば、開示している米
国特許番号4,099,382及び米国特許番号4,178,758は、ここで
参照によって関連している。
【0027】 ガス化反応器内において、任意に温度モジュレーターの存在下で、炭素質水素
燃料は遊酸素を含むガスと接する。反応域において、含有物は一般的に約900
℃から1700℃の範囲の温度に届き、より好ましくは、約1100℃から約1
500℃の範囲が典型的である。圧力は、典型的に約1気圧(101.325k
Pa)から約250気圧(25,331kPa)の範囲であり、より好ましくは
、約15気圧(1519kPa)から約150気圧(15,190kPa)の範
囲で、さらにより典型的な範囲は、約800psi(5516kPa)から約2
000psi(13,789kPa)である。
【0028】 合成ガスは、好ましくはエネルギーの回復と共に、蒸気の上昇及び/若しくは
蒸気の超高熱化などによって冷却され、異物の洗浄がされる。慣習的な合成ガス
の生成のように、低いレベルの熱回復が続く。必要ではないが、パージガスは典
型的には、合成ガスからいくらかの熱が抽出後に合成ガスと混合される。適切な
処置において、含有物調製の蒸気除去のような他の通常のガス処置があるであろ
う。
【0029】 水素ガスが所望の生成物ならば、比較的高い比率で水素ガスを蒸気として再生
する合成ガス、若しくは混合ガスに関して有用である。蒸気での再生は、水を追
加するか、若しくはガス中に含まれる水を使用する工程であり、及び蒸気の再生
触媒を断熱的に通した混合ガスの反応である。蒸気による再生の主な目的は、混
合ガスにおける水素量を上げることである。硫化水素及びCOSを含む合成ガス
は、供給源の硫黄から形成され、ガス化器へと送られる。COSは、蒸気による
再生器にて変換され、続いて同じ反応経路を経て一酸化炭素から硫化水素及び二
酸化炭素を形成する。
【0030】 ガス化反応の合成ガス含有物は、典型的には25から45モルパーセントの水
素、40から50モルパーセントの一酸化炭素、10から35モルパーセントの
二酸化炭素、及び痕跡異物である。蒸気で再生された合成ガスの典型的な含有物
は、35から65モルパーセントの水素、0.3から10モルパーセントの一酸
化炭素、30から60モルパーセントの二酸化炭素、及び痕跡異物である。それ
らの幅は絶対的ではないが、ガス化パラメーターを伴うのと同様に、ガス化燃料
を伴って変る。
【0031】 蒸気を再生する触媒は、熱耐性支持体における1つ以上のVIII金属族であ
る。二次的な再生者として実施例で使用された通常のランダムに詰められたセラ
ミックで支持された触媒破片は使用することができるが、それらの適用はガスへ
の著しい圧力の低下となり、しばしば反応物の流れの方向に対して一般的に平行
な経路を持つモノリス触媒の使用が有用である。
【0032】 蒸気での再生間におけるガス温度の典型的な範囲は、750F°(398℃)
から1050F°(565℃)である。この工程は、合成ガスからの熱が回復す
る前に発生するであろう。
【0033】 合成ガスのアミン若しくは物理的な溶媒を持つ合成ガスにおける酸性ガスを除
去する設備は、混合されたガス/パージガスストリームから酸性ガスを取り除き
、それは特に硫化水素である。酸性ガス除去設備は、典型的には低温度にて制御
される。合成ガスが、130℃よりも低く冷却された時、好ましくは90℃より
も低い場合は、ガス中における異物、特に硫黄化合物と酸性ガスは容易に除去す
ることができる。
【0034】 酸性ガスである硫化水素は、合成ガスから容易に除去することができる。酸性
ガスと反応する流体の種類は重要ではない。MDEAのような通常のアミン溶媒
が、硫化水素を除去するために使用することができる。SELEXOL(TM)
及びRECTIXOL(TM)のような物理的な溶媒もまた、使用することがで
きる。流体は、メタノールのような低級一価アルコール若しくはエチレングリコ
ール及び類似のような多価アルコールのような溶媒である。流体は、ジエタノー
ルアミン、メタノール、N−メチル−ピロリドンのようなアミン若しくはポリエ
チレングリコールのジメチルエステルを含んでいるかもしれない。高圧力での制
御が好ましいため、物理的な溶媒が一般的には使用される。酸性ガス除去接触器
において、合成ガスが溶媒と接する。トレイ若しくは詰められたカラムを含むこ
こにおける接触器は、当業者によって知られている。そのような酸性除去接触器
の制御は、当業者によって知られている。
【0035】 酸性ガス除去ユニットの設計及び制御が圧力低下を最小限とする結果が好まし
い。合成ガスの圧力は、それゆえ保存される。
【0036】 合成ガスを酸性ガス除去ユニットに通して行うのに先立って、パージストリー
ムを合成ガスに加えるのは有用である。限定してはいないが、利点として、特に
硫化水素のような酸性ガスのような異物ガスの除去のためのユニット制御を伴う
経済的な利点を含んでおり、水素濃度における合成ガスの濃縮である。水素処理
器から出たパージガスの少なくとも一部分である本発明の好ましい具体例は、合
成ガスの酸性ガス除去ユニットを通って決められ、次いで膜のような分離ユニッ
トを通過して、異物を除去し、再生利用水素含有が高いパージガスにおいて水素
濃度を引き上げる。
【0037】 導き出たパージガス/合成ガスストリームの圧力は、約500psi(344
7kPa)から約2000psi(13789kPa)で、典型的には約800
psi(5516kPa)から1200psi(8274kPa)である。導き
出たガスの温度は、非常に変動的である。
【0038】 混合されたパージガス/合成ガスは、水素分子を通過させ一酸化炭素などのよ
うな大きな分子を留めるようにデザインされた膜のようなガス分離ユニットへ入
る。膜は、水素ガスが一酸化炭素と二酸化炭素を優先して通過する任意の種類の
膜が可能である。膜物質の多くの種類は当業者によって知られており、それらは
窒素に比べて水素の拡散に高い優先度があるものである。そのような膜物質は、
シリコンラバー、ブチルラバー、ポリカーボネート、ポリ(フェニレンオキシド
)、ナイロン6,6、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリアミド、ポリイミド、
ポリエーテル、ポリアリーレンオキシド、ポリウレタン、ポリエステル、及び類
似の含有を含む。膜ユニットは、任意の通常の構成であり、へこみのある繊維種
の構成が好ましい。
【0039】 水素が多く含まれるガスは、膜を浸透する。浸透によって、実質的な圧力の低
下が約500psi(3447kPa)から700psi(4826kPa)間
になる。次いで、水素を多く含むガスは、熱せられ、必要に応じて圧縮され、少
なくとも一部分は水素処理器へと再生利用される。
【0040】 水素を多く含んだガスは、約80モルパーセントより多い水素ガスを有利に含
んでおり、より好ましくは約90モルパーセントより多い水素ガスを含んでいる
【0041】 膜を浸透しないガスストリームは、二酸化炭素、一酸化炭素、及びいくらかの
水素を含んでいる。他の化合物、例えば揮発性炭化水素もまた存在するであろう
。この浸透しないものは、燃焼タービンにとって良い燃料となる。浸透しない圧
力は、膜によって影響されない。浸透圧は、燃焼タービンにおける燃焼に先立っ
て、優位に減少する。
【0042】 本発明のある1つの重要な具体例は、続いて起こる水素処理工程からのパージ
ガスが、蒸気による再生後のガス混合物がアミン溶媒若しくは物理的な溶媒と接
するのに先立って、合成ガスと組み合わされる。
【0043】 本発明の他の具体例では、ガスストリームが、蒸気による再生ユニットでの処
置に先立って混合される。COSは、硫化水素及び一酸化炭素に変換できる。も
ちろん、一酸化炭素は、水素と二酸化炭素に変換できる。これは、本発明には必
要ではないが、炭化水素及び一酸化炭素は、浸透しない燃料として使用すること
が可能である。
【0044】 水素は、適切な圧力に圧縮された水素処理器から出た再生利用水素と混合され
る。
【0045】 酸性ガス除去ユニットから出る硫化水素は、硫黄回復工程へと送られる酸性ガ
スストリームを決定される。
【0046】 上述の観点から、本技術における通常の1つが理解され、本発明の少なくとも
1つの具体例において、水素処理の放出ガスパージからの水素の回復工程を含ん
でいる。本発明のそのような具体例における工程は、以下を含む: a)水素処理における炭化水素ストリーム及び水素処理のガスの反応、それに
よって水素処理の放出ガス及び液体生成物が形成される。
【0047】 b)水素処理の放出ガスの除去。
【0048】 c)水素処理の放出ガスの一部分の分離、それによって水素処理の放出ガスス
トリーム及びパージガスストリームの再生利用の合成。
【0049】 d)水素処理の放出ガスパージと合成ガスストリームの混合、それによって混
合されたガスストリームの合成。
【0050】 e)水素と燃料ガスストリームを分離して生成する混合されたガスストリーム
の処置;及び f)再利用する水素処理の放出ガスと水素処理へと導かれる水素処理のガスを
形成する水素ストリームの少なくとも一部分との混合。水素処理の放出ガスは、
水素ガス、硫化水素、及びメタンを含むことが好ましい。1つの好ましい具体例
において、(c)工程に先立って水素処理の放出ガスを冷却する温度は約0℃か
ら約100℃の範囲にて圧縮を除去し、より好ましくは、(c)工程に先立って
除去する温度は約0℃から約50℃の範囲である。この工程は、さらに混合され
たガスの水素と燃料ガスストリームへの分離に先立って、工程(e)の混合され
たガスからの酸性ガスの除去を含んでいる。典型的には、酸性ガスは硫化水素を
含んでいる。酸性ガスを除去する工程は、混合されたガスと、1つ以上のSEL
EXOL(TM)、RECTIXOL(TM)、ジエタノールアミン、メタノー
ル、N−メチル−ピロリドン、若しくはポリエチレングリコールのジメチルエー
テルの接触を含んでいる。この工程は、好ましくは80モルパーセントより多い
水素ガスからなる水素処理ガスを伴って実行される。ある好ましい具体例におい
て、合成ガスは、約25モルパーセントから約45モルパーセントの水素ガス、
約40モルパーセントから約50モルパーセントの一酸化炭素ガス、及び約10
モルパーセントから約35モルパーセントの二酸化炭素ガスを含む。この工程は
、好ましくは蒸気にて再生される合成ガスを含み、約35モルパーセントから約
65モルパーセントの水素ガス、約0.2モルパーセントから約10モルパーセ
ントの一酸化炭素ガス、及び約30モルパーセントから約60モルパーセントの
二酸化炭素ガスを含む。
【0051】 本発明の他の具体例において、工程は、混合されたガスを水素と混合されたガ
スと大きな分子が留められて、水素分子が通過できるようにデザインされた膜と
の接触による燃料ガスストリームへの分離である。膜は、好ましくは1つ以上の
シリコンラバー、ブチルラバー、ポリカーボネート、ポリ(フェニレンオキシド
)、ナイロン6,6、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリアミド、ポリイミド、
ポリエーテル、ポリアリーレンオキシド、ポリウレタン、及びポリエステルから
なる。工程は、さらに熱処理、及びガスの少なくとも一部分を水素処理へ導く以
前の水素ガスの圧縮を含む。水素は、90モルパーセントより多い水素ガスを含
むことが好ましい。工程は、さらに混合されたガスの水素と燃料ガスストリーム
への分離に先立って、工程(e)の混合されたガスの蒸気による再生(蒸気で再
生する触媒存在下における水とガス混合物の反応からなる蒸気による再生)を含
むかもしれない。蒸気で再生する触媒は、熱耐性支持における1つ以上の金属V
III族であり、ガス温度が約750°F(398℃)から1050°F(56
5℃)の範囲であることが好ましい。
【0052】 本発明の構成及び方法を好ましい具体例にしたがって記載したが、本発明の概
念及び範囲から逸脱しない工程において様々な適用は当業者によって明らかであ
る。請求項にて提示しているように本発明の範囲及び概念内においてみなされる
すべての同様な代替及び修正は当業者にとって明らかである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 71/48 B01D 71/50 71/50 71/52 71/52 71/54 71/54 71/56 71/56 71/64 71/64 71/68 71/68 C01B 3/56 Z C01B 3/56 C10L 3/00 A (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA ,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ, PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG ,UZ,VN,YU,ZA,ZW Fターム(参考) 4D006 GA41 KA01 KB30 MC24 MC45 MC46 MC48 MC49 MC53 MC54 MC55 MC58 MC62 MC68 PA01 PB18 PB66 4D020 AA04 BA16 BA19 BB04 CB08 DA03 DB03 4G040 EB32 FA02 FB01 FC01

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a)炭化水素ストリーム及び水素処理のガスが水素処理器で
    反応して水素処理の放出ガス及び液状生成物の形成と、 b)該水素処理の放出ガスの除去と、 c)該水素処理の放出ガスの一部分を分離し、水素処理の放出ガスストリーム及
    びパージガスストリームの再生利用の創造と、 d)水素処理の放出ガスパージを合成ガスストリームと混合して混合されたガス
    ストリームの創造と、 e)該混合されたガスストリームの処理から分離した水素及び燃料ガスストリー
    ムの生成と、及び f)再生利用の水素処理の放出ガスを水素ストリームの少なくとも一部分と混合
    して水素処理器に案内される水素処理のガスの形成とから成る水素処理の放出ガ
    スパージからの水素を回復する工程。
  2. 【請求項2】 前記水素処理の放出ガスが水素ガス、硫化水素、メタン、及
    びその他軽い炭化水素からなる請求項1に記載の工程。
  3. 【請求項3】 工程(c)に先立って圧縮物を除去するための前記水素処理
    の放出ガスを約0℃乃至約100℃間の冷却からさらに構成される請求項1に記
    載の工程。
  4. 【請求項4】 工程(c)に先立って圧縮物を除去するための前記水素処理
    の放出ガスを約0℃乃至約50℃間の冷却からさらに構成される請求項1に記載
    の工程。
  5. 【請求項5】 前記混合ガスの水素及び燃料ガスストリームへの分離に先立
    って工程(e)の混合されたガスから出る酸性ガスの除去からさらに構成される
    請求項1に記載の工程。
  6. 【請求項6】 前記酸性ガスが硫化水素を含む請求項5に記載の工程。
  7. 【請求項7】 前記混合されたガスが1つ以上のSELEXOL(TM)、
    RECTIXOL(TM)、ジエタノールアミン、メタノール、N−メチル−ピ
    ロリドン、若しくはポリエチレングリコールのジメチルエーテルの接触を含んで
    いる酸性ガスの除去である請求項5に記載の工程。
  8. 【請求項8】 前記水素処理のガスが80モルパーセントより多い水素ガス
    を含む請求項1に記載の工程。
  9. 【請求項9】 前記合成ガスが、約25モルパーセントから約45モルパー
    セントの水素ガス、約40モルパーセントから約50モルパーセントの一酸化炭
    素ガス、及び約10モルパーセントから約35モルパーセントの二酸化炭素ガス
    を含む請求項1に記載の工程。
  10. 【請求項10】 前記合成ガスが蒸気にて再生される合成ガスであって、約
    35モルパーセントから約65モルパーセントの水素ガス、約0.2モルパーセ
    ントから約10モルパーセントの一酸化炭素ガス、及び約30モルパーセントか
    ら約60モルパーセントの二酸化炭素ガスを含む請求項1に記載の工程。
  11. 【請求項11】 大きい分子が留められ、水素分子が通過できるように設計
    された膜への混合ガスの接触によって工程(e)の混合ガスが水素及び燃料ガス
    ストリームに分離する請求項1に記載の工程。
  12. 【請求項12】 前記膜が1つ以上のシリコンラバー、ブチルラバー、ポリ
    カーボネート、ポリ(フェニレンオキシド)、ナイロン6,6、ポリスチレン、
    ポリスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアリーレンオキシ
    ド、ポリウレタン、及びポリエステルからなる請求項11に記載の工程。
  13. 【請求項13】 前記ガスの少なくとも一部を水素処理器へ導く以前の前記
    水素ガスの加熱及び圧縮からさらに構成される請求項11に記載の工程。
  14. 【請求項14】 前記水素が90モルパーセントより多い水素ガスを含む請
    求項1に記載の工程。
  15. 【請求項15】 蒸気による再生が蒸気再生触媒を通して反応水とガス混合
    物からなり、前記混合ガスが水素及び燃料ガスストリームになる分離に先立って
    工程(e)の混合ガスを蒸気による再生からさらに構成される請求項1に記載の
    工程。
  16. 【請求項16】 前記蒸気再生触媒は、熱耐性支持における1つ以上の金属
    VIII族であり、ガス温度が約750℃から1050℃の範囲である請求項1
    5に記載の工程。
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