TW517002B - Electromagnetic shielding multi-layered structure and method of making the same - Google Patents
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517002 五、發明說明(1) 本發明係有關於一種防電磁波干擾之多層構造,特別 係有關於可避免表面浮纖現象、且對於低頻電磁波有良好 屏敝效果(〉40 dB)的一種多層構造。 近年來,由於工業技術的進步及曰常生活水準的提 高,使得一些電子、電機、資訊及通訊等電器設備急劇增 加’這些電器設備所產生的高密度電磁波已形成一個新的 公害問題,包括電器線路本身散發電磁輻射以及其本身接 收外界傳來的電磁輻射,這些電磁輻射若無法加以有效隔 將會造成電器設備間的相互干擾,導致運作錯誤甚至 糸、、、先失效,而人體長期曝露在此電磁韓射環境下,亦可能 =成生理的危害;而且這些電磁波干擾所形成的問題,隨 I Ϊ器f品的朝向小體積、高功能、低功率與低電位發展 蔽電磁 以有效 工,較 因此, 加導電 喷塗導 電解電 電性碳 面無電 鏽鋼纖 1鱗片( 雖然可 不易力ϋ 趨勢。 表面施 包括: 錢、無 添加導 纖維表 維、不 鎳粉) 狄的方法 達到電磁屏蔽作用’但其重量大、複雜开 難符合目前電器用品要求輕、巧、小' ^ 目前工業上普遍採用的方法,主i 3Λ 土要疋在|
層以及在塑膠内部添加導電性填充料,』 電漆、被覆金屬層(熔射、蒸鍍、錢錢、月 鍍等)以及黏貼金屬箔等方式,後者^二 黑、碳纖維、表面鍍金屬之纖維(例2匕 解電鍍鎳)、金屬纖維(例如:铭纖維'· 維)、金屬粉末(例如:鋁粉、銅粉、2 例如:銘鱗片)、鑛有金屬層之絕緣物:
517002 五 發明說明(2) 如:在雲母片、破 、 纖維表面施加金屬,、中空玻璃球、玻璃纖維、 質 如上述,關理)等方式。 導電性複合材料之防2内部添加導電性填充料以製造出 造遠比輩蚰么Μ 方電磁波干擾構造’其優點e 、遂比早純金屬外殼 1 u疋所得之構 層的方法相比,不备輕:而| ’和塑膠表面施加導電 造導電性複合材料‘面導電層剝落之虞。j見今_般製 末、纖維等型式與= 導電性填充材料以粉 射出成型為各種電磁^ =、、工匕此、,、後,直接熱壓模製或 但电磁屏蔽塑膠製品。 俱衣凡 第5 R71了改進防電磁波效果,High· et al在盖、 = 57U91號及第5,7ΐ4,ι〇2號中揭露.:在果國專1 波干擾構造。方法為蔣古 一層的防電磁 -共射出分則、鍍鎳之石墨纖維置入 ,之外射嘴料斗内,將高分子材料以及羰 ί:Γ : ron)粉末置入共射出成型裝置之内射嘴 ”:二/、射出成型後,得到三層的構造,*面兩層為 问刀子材料和鍍鎳之石墨纖維,作為導電層,而内層為高 分子材料和羰基鐵粉末,作為導磁層。 雉 然而在上述Highum的三層構造中,會有鍍鎳之石墨纖 浮至表面的浮纖(f 1 0 a t i n g )現象發生,而需再作表面塗 装處理’相對增加生產成本及降低生產速率。而且,此構 造對於低頻(10 kHz至30 MHz)電磁波的防電磁波干擾效果 不佳。 因此,本發明之目的即為解決上述缺點,而提供一種 新穎之防電磁波干擾之多層構造,其可避免表面浮纖現
第7頁 5l7〇〇2 五、發明說明(3) 象’對於低頻(10 kHz至30 MHz)電磁波的防電磁波干擾效 果很好’而且,本發明之製程中由内射嘴料斗射出的成份 中’可使用回收料,製造成本可大幅降低。 為達成本發明之目的,本發明防電磁波干擾之多層構 造共包括以下依序排列的七層: 第一層包括碳黑及高分子基材; ^二層包括鍍有金屬的纖維及高分子基材; ,二層包括金屬粉末及高分子基材; 第四層包括導電性纖維及/或金屬粉末,以及高分 基材; 第五層 第六層 第七層 其中第一層 本發明 將碳黑 射出成型裝 將導電 置之内射嘴 藉由外 内,且藉由 具内,使得 層構造之第 提供之成份 〇 π貧 包括鑛 包括破 和第七 製造防 、鍍有 置之外 性纖維 料斗内 射嘴而 内射嘴 外射嘴 有金屬 黑及高 層為最 電磁波 金屬的 射嘴料 、以及 ;以及 將外射 而將内 料斗所 及高分子基材; 的纖維及高分子基材;以及 分子基材, 外層’而第四層為最内層。 干擾多層構造的方法包括: 纖維、以及高分子基材置入一共 斗内; 局分子基材置入該共射出成型裝 嘴料斗所提供之成份射入該模具 射嘴料斗所提供之成份射入該模 提供之成份分成六層而成為該多 m層,而内射嘴料斗所 造之第四層。
成為該多層構
第8頁 517002 五、發明說明(4) 為了降低製造成本,上述置入内射 為含右導雷栂綸飨夺/十人M t Α料斗t的成^分可 馮3有V電性纖維和/或金屬粉末之高 碳纖維。 W子回收料、以及 為了使本發明之方法、特徵及優點 以下特舉具體實施例並配合圖示以更譁 1懂 圖式之簡單說明: 、、句呪明。 第1圖顯不依據本發明具體實施例 多層構造的共射出成型裝置之示意圖。衣&防電磁波干擾 標號說明: 11〜模穴’12〜射口,13〜外射嘴,14 内射 10〜模具 嘴’ 1 5〜外射嘴料斗,1 β〜内射嘴料斗 圖,顯示依據本發明具體實施例製造防電 磁波干擾夕層構造的共射出成型裝置之示竟此 ^裝置包括模具10、外射嘴13 '和内射嘴^ 2 出-模穴11,·穴11的形狀就是欲成型 5具10疋義 具…有一射口12,高分子組成物可經由:=。模 入杈穴11中進而成型。外射嘴13和内射嘴丨 、口 2而射 (concentric)射嘴,外射嘴13的原料是由鉍^心的 提供,而内射嘴14的原料是由内射嘴料斗丨^料斗15所 以下說明本發明之共射出成型製程。將碳2二 屬之纖維、以及高分子基材,共同置入共射鍍有金 =嘴料斗15内。將含有導電性纖維和/ 广表置, =回收料、以及碳纖維,纟同置人共射 末之南 射嘴料斗16内。 災衣置之内 517002 五、發明說明(6) 層’提供對於高頻(30 MHz至1 500 MHz)電磁波的遮蔽效 果,其中的纖維排列為網狀結構; 第三層包括金屬粉末及高分子基材,為電磁波吸收 層’提供對於電磁波的吸收作用,其中的金屬粉末可為由 鑛有金屬的纖維上所剝落的金屬粉末,亦可為另外添加的 金屬粉末; 第四層包括導電性纖維及//或金屬粉末,以及高分子 基材,此層的原料可由含有導電性纖維和/或金屬粉末之 咼分子回收料,以及另外添加的碳纖維來提供; # 第五層成份和第三層相同 第六層成份和第二層相同 第七層成份和第一層相同 其中第一層和第七層為最外層,而第四層為最内層。 如上所述,由於碳黑在最外層,而不是纖維在最外 層,因而可避免浮纖現象。此外,内射嘴中的原料可採用 含有導電性纖維和/或金屬粉末之高分子回收料,而不需 使用新鮮的高分子原料,因此成本可大幅降低。然而,由 於回收料中的導電性纖維已是較短的纖維,縱橫比报低, 因此’有必要添加新的縱橫比較高的碳纖維,以使纖維外 排列形成導電網狀結構’提昇電磁波遮蔽效果。新添加$ 碳纖維最好含有5至15重量%的長纖,所謂的長纖表示縱^ 比(L/D ratio)為2, 000至5, 000之間的纖維。 知、 適用於本發明之高分子基材最好為熱塑性樹脂, 聚碳酸酯(PC ; polycarbonate)、丙烯腈—丁二稀—笨 °
第11頁 517002 五、發明說明(7) (ABS; acrylonitrile-butadiene-styrene)、或聚碳酸酉旨 /丙烯腈-丁二烯-苯乙烯摻合物(PC/ABS Blend)等。 在本發明防電磁波干擾多層構造中的第一層及第七層 中所使用之碳黑,最好是高導電性碳黑。 第二層及第六層中鍍有金屬的纖維之縱橫比(L / D比 值)最好為2,0 0 0至5,0 〇 〇之間,以使得纖維排列可形成 電網狀結構,以提供較佳的電磁屏蔽。鍍有金屬的 為鍍有金屬的石墨纖維或鍍有金屬的碳纖維,該金可 N^-Cu-Ni三層金屬、或純鎳。鍍有金屬的; 為鍍有鎳-銅-鎳(Ni-Cu-Ni)之石墨=體例子 ^至心,之間。另一且體例子為=其直徑最好為1 徑最好為…至1〇…間例子為鑛有鎳之碳纖維,其直 第三層及第五層中之金屬粉末可為銀、 或其混合物,其平均粒徑最好為1〇 ^^至岵、鎳、 第四層中之導電性纖維可為鍍有金。 維、碳纖維、或其混合物。當第四層芝纖維、石墨纖 導電性纖維和/或金屬粉末之高分子"回 用之原料為含有 長纖維,最好另外添加較便宜的碳纖料,為了補充較 整體導電性纖維中最好具有5至丨5重量。/。^時,第四層中 之縱橫比(L/D比值)最好為2,〇〇〇至5,⑽〇之蛟纖維,碳纖維 銅、鎳 本發明防電磁波干擾之多層構造^的 ~ γ的各層厚度, 當第四層中所用之導電性纖維包括 時,其可為鍍有金屬的石墨纖維或鍍:金屬的纖維 金屬可為鎳、銅、鎳三層金屬、或純鎳金屬的碳纖維,此 可藉
Claims (1)
- 517002 _ 案號 8811177 n ! 條正 六、申諳專利範園 la ^種防電磁波干擾之多層構造,其共包括以下依序排列 的七層: 第一層包括碳黑及高分子基材; 第二層包括鍍有金屬的纖維及高分子基材; 第三層包括金屬粉末及高分子基材; 第四層包括導電性纖維及/或金屬粉末,以及高分子 基讨; 第五層包括金屬粉末及高分手基材; 第六層包括鍍有金屬的纖維及高分子基材;以及 第七層包括破黑及高分子基材’ 其中第一層和第七層為最外層,而第四層為最内層b 2·如申請專利範圍第1項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其中該高分子基材為熱塑性樹脂。 3·如申請專利範圍第2項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其中該高分子基材係擇自由聚碳酸酯(PC)、丙 婦 -丁二烯-笨乙烯(ABS)、以及聚碳酸酯/丙烯 -丁二 棘-笨乙烯摻合物(PC/ABS Blend)所絚成之族群中 4·如申請專利範圍第1項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其中該第二層及第六層中鍍有金屬的纖維之縱 橫比(L/D比值)為2,000至5,0 00。 5. 如申請專利範圍第1項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其中該第二層及第六層中鍍有金屬的纖維為鍍 有金屈的石墨纖維或鍍有金屬的碳纖維β 6. 如申請專利範圍第5項所述之一種防電磁波干擾之第19頁 517002 __ 銮號 88111771__午d Θ日_修早__ 六、申請專利範園 多層構造,其中該鍍有金屬的纖維中之金屬為鎳-銅-鎳三 層金屬,或純鎮。 7.如申諳專利範圍苐6項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其中該鍍有金屬的纖維為鍍有鎳-鋼-鎳之石墨 纖維。 8 ·如申請專利範圍第7項所述之一種防電磁液千擾之 多層構造,其中該鍍有鎳-鋼-鎳之石墨纖維具有1^111至1〇 Am的直徑。 9·如申請專利範圍第6項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造’其中該链有金屬的纖維為鍵有.錄之碳纖維^ 1 0 ·如申請專利範圍第9項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其中該鍍有鎳之碳纖維具有的直 徑0 11.如申請專利範園第1項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其中該第三層及第玉層中之金屬粉末係擇自 銀、錮、鈷、鎳、及其混合物所組成之族群中。 12·如申請專利範圍笫η項所述之構造,其中該金屬 粉末之平均粒徑為10 至50 。 13.如申請專利範圍第1項所述之一種防電磁波千擾之 多層構造,其中該第四層中之導電性纖維係擇自由鍍有金 · 屬之纖維、石墨纖維、竣纖維、和其混合物所組成之族群 中。 14.如申請專利範圍笫13項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造,其中該第四層中之導電性纖維具有5至15重第20頁 517002曰 修正 15_如申請專利範圍第項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造,其中該碳纖維之縱横比(L/D比值)為2,000至 5,0 〇 〇。 16_如申請專利範圍第13項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造,其中該錢有金屬的纖維為鐘有金屬的石墨纖 維或鍍有金屬的碳纖維。 17·如申讀^專利範圍第η項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造,其中該鍍有金屬的纖維中之金屬為鎳-銅-鎳 三層金屬,或純錄6 18·如申請專利範圍第1項所述之一種防電磁波干擾之 多層構造,其對於1〇 kHz至1 500 MHz頻率之電磁波具有40 dB以上的遮蔽率。 1 9.如申請專利範圍第1 8項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造,其對於10 kHz至30 MHz頻率之電磁波具有40 dLB以上的遮蔽率〇 20· —種防電磁波干擾之多層構造之製造方法,其包 括: 將碳黑、鍍有金屬的纖維、以及高分子基材置入一共 射出成型裝置之外射嘴料斗内; 將導電性纖維、以及高分子基材置入該共射出成型裝 置之内射嘴料斗内;以及 藉由外射嘴而將外射嘴料斗所提供之成份射入該模具 内,且藉由内射嘴而將内射嘴料斗所提供之成份射入該模第21頁 517002 案雒 88111771 曰 修正 六、申請專利範圍 具内,使得外射嘴料斗所提供之成份分成六層而成為該多 層構造之第一、二、三、五、六、七層,而内射嘴料斗所 提供之成份成為該多層構造之第四層。 21· —種防電磁波千擾之多層構造之製造方法,其包 括: 將破黑、鍵有金屬的纖維、以及高分子基材置入一共 射出成型裝置之外射嘴料斗内; 將含有導電性纖維和/或金屬粉東之高分子回收料、 以及碳纖維置入該共射出成型裝置之内射嘴料斗内;以及 藉由外射嘴而將外射嘴料斗所提供之成份射入該模具 内,X藉由内射嘴而將内射嘴料斗所提供之成份射入該模 具内,使得外射嘴料斗所提供之成份分成六層而成為該多 層構造之第一、二、三、五 '六、七層,而内射嘴料斗所 提供之成份成為該多層構造之第四層。 2 2.如申請專利範圍笫21項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造之製造方法,其中該高分子回收料佔内射嘴料 斗中總成份的85至95重量%。 23_如申請專利範圍第21項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造之製造方法,其中該碳纖維之縱橫比(L/D比 值)為2, 000 至5, 000。 24·如申請專利範園第21項所述之一種防電磁波干擾 之多層構造之製造方法,其中該外射嘴料斗内之碳黑佔外 射嘴料斗中總成份的3至1〇重量%。 25·如申請專利範圍第21項所述之一種防電磁波干擾第22 I 517002 ___________ 桊號88〗Π 771 六、申請專利施園之多層構造之製造方法,其中該外射嘴科斗内之鍍有 的纖維佔外射嘴料斗中總成份的6至1 7重量%。 m 26·如申請專利範園第21項述之一種防電磁波干擾之 多層構造之製造方法,其中置入外射嘴料斗中的成份更包 括3至8重量%之金屬粉束,以外射嘴料斗中總成份重量為 基準。笫23頁
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