JP4500179B2 - 回路部品の製法 - Google Patents
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Description
図1(A)に示すように、絶縁性磁性体材料から一次射出成形により所定形状の絶縁性磁性体基体1を形成する。そこで、図1(B)に示す用に、所定形状に形成された絶縁性磁性体基体1の全表面に一次めっき(下地めっき)として無電解めっきにより導電性材料からなる導電体層2を形成する。この時、基体1は絶縁性磁性体で形成してあるため、下地めっき用の触媒の附与は不要である。
CuSO4・5H2O 75g/l
H2SO4 190g/l
Cl− 60ppm
添加剤 適量
である。その性質は強酸性である。
さらに、陰極電流密度は2.5A/dm2、陽極材料は含リン銅、浴温度は25℃で、めっき皮膜の物性は抗張力=30〜35kg/mm2、延び率=12〜20%で、光沢,レベリンクの評価は優である。
また、高スペクト比基板対応の硫酸銅めっき条件は次の表の通りである。
陰極電流密度 浴組成(g/l)
(A/dm2) CuSO4・5H2O H2SO4
高電流浴 2.1〜3.0 60〜80 170〜190
中電流浴 1.0〜2.0 50〜60 180〜200
低電流浴 0.5〜1.0 40〜50 230〜280
2 導電体層
3 樹脂マスク
4 導体層
Claims (2)
- 絶縁性磁性体材料からなる所定形状の電磁波ノイズ吸収性の絶縁性磁性体基体(1)の表面上に、導電性材料からなる所定パターンの導電層を形成する回路部品の製法であって、
上記絶縁性磁性体材料から前記所定形状の絶縁性磁性体基体(1)を形成する工程と、
上記所定形状に形成された絶縁性磁性体基体の全表面に一次めっきとして無電解めっきにより上記導電性材料からなる導電体層(2)を形成する工程と、
上記導電体層が形成された絶縁性磁性体基体の全表面に、上記所定パターンの導体層(4)が形成されるべき部分を露出させた状態で、上記絶縁性磁性体基体に生分解性素材の樹脂マスク(3)を一体に形成する工程と、
上記露出部分に二次めっきとして酸性浴組成による電解めっきの導体層(4)を積層する工程と、
上記樹脂マスクを除去する工程と、
上記一次めっきの導電体層(2)を化学エッチングで除去することにより上記絶縁性磁性体基体(1)の表面上に上記所定パターンの導体層(4)を形成する工程とを含み、
上記絶縁性磁性体材料は、熱可塑性樹脂ポリマーに、扁平状の鉄、シリコン、及びアルミニウムからなる合金粉末を、重量比で60〜95%分散混合したものであって、
上記一次めっきとして無電解めっきにより導電体層(2)を形成する工程において触媒の付与工程を不要にした
ことを特徴とする回路部品の製法。 - 絶縁性磁性体材料からなる所定形状の電磁波ノイズ吸収性の絶縁性磁性体基体(1)の表面上に、導電性材料からなる所定パターンの導電層を形成する回路部品の製法であって、
上記絶縁性磁性体材料から前記所定形状の絶縁性磁性体基体(1)を形成する工程と、
上記所定形状に形成された絶縁性磁性体基体の全表面に一次めっきとして無電解めっきにより上記導電性材料からなる導電体層(2)を形成する工程と、
上記導電体層が形成された絶縁性磁性体基体の全表面のうち一方の面に、上記所定パターンの導体層(4)が形成されるべき部分を露出させた状態で、上記絶縁性磁性体基体に生分解性素材の樹脂マスク(3)を一体に形成する工程と、
上記露出部分に二次めっきとして酸性浴組成による電解めっきの導体層(4)を積層する工程と、
上記樹脂マスクを除去する工程と、
上記一次めっきの導電体層(2)を化学エッチングで除去することにより上記絶縁性磁性体基体(1)の表面上の一方の面に上記所定パターンの導体層(4)を形成する工程を含み、
上記絶縁性磁性体材料は、熱可塑性樹脂ポリマーに、扁平状の鉄、シリコン、及びアルミニウムからなる合金粉末を、重量比で60〜95%分散混合したものであって、
上記一次めっきとして無電解めっきにより導電体層(2)を形成する工程において触媒の付与工程を不要にした
ことを特徴とする回路部品の製法。
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