TW504392B - Composite deodorization system and ion deodorization system - Google Patents

Description

A7 __ —__ B7 五、發明説明（i ) 發明背景 發明範圍 本發明係、目於組合纟分子月兒臭、|氧脫臭及離子脫臭方 法I複合脫臭方法，及複合脫臭系統，及關於離子脫臭系 統’其將經處理之氣體游離成為負離子及經由將臭味成分 吸附於光催化劑鑲板因而經由氧化之分解反應而將彼等分 解而移除。 相關技藝之說明 直到此時，作為將含臭味成夯之氣體脫臭之方法，已知 具有水分子脫臭方法 '臭氧脫夏方法、及離子脫臭方法及 /、一員似方法母種之此等方法係用於有效地回收於氣體中 包含又臭味成分以達成脫臭。水脫臭方法移除於氣體中之 水因而移除水中溶解之臭味成分，臭氧脫臭方法產生電漿 臭氧以經由氧化作用而分解臭味成分因而達成脫臭。於起 居罜或其類似場所中使用臭氧脫臭方法以移除臭味成分之 更氣清潔器係揭示於，例如，曰本專利申請案特許公開第 6-262098號中。根據該公告，敘述，於起居室或其類似場所 中之空氣係吸收入清潔器中、脫臭及滅菌係經由臭氧脫臭 催化劑而進行、及過量之臭氧係經由酸氣吸收劑而移除。 離子脫臭方法係將氣體游離成為負離子；將於氣體中之 臭味成分吸收於光催化劑，及經由氧化作用而分解臭味成 分。於起居室或其類似場所中使用離子脫臭方法以移除臭 味成分之空氣清潔器係揭示於，例如，曰本專利申請案特 許公開第3-109953號中。根據該公告，敘述一種方法，=中 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21Qx297公爱） '" --- A7

對於流動通過集塵過遽器及催化劑層之經處-用電暈效電以將氣ft游離成為貞料 、缸1 之空間諸如起居室或其類似場所中將:之::：閉 氣體脫臭。 里<、·工處理< ^催:作用意表’當於空氣中之氧或水蒸氣接觸光催化 W時’其經由光能量而改變成為活性之氧物種，堂、 物質與活性之氧物種重複氧化之分解反應以分解該有= 物質成為水及二氧化碳。例如’已知當使用以氧化欽為主 《光催化劑塗料塗饰之光催化劑鑲板表面加工内部及外部 時，獲得防污、滅菌、防霉.、及1 兒臭之效果。 當利用光催化之作用而進行起居室或其類似場所之空氣 清潔時，僅經由自然地黏附於光催化劑之臭味成分之氧化 义分解作用而將預定數量之氣體脫臭係不可能的。因此， 例如，於日本專利申請案特許公開第11-6〇2〇8號中敘述一種 方法，其中具有氧化鈦之光催化劑塗層之光催化劑鑲板係 用於紫外線照射以氧化及再活化光催化劑以促進光催化之 作用。根據此公告，敘述於具有針形狀之電極及圓筒電極 之離子及臭氧產生器中，紫外線係自針形狀之電極發射及 產生離子及臭氧以達成脫臭。此外，將包含臭味成分之經 處理之氣體游離成為負離子以使臭味成分有效地吸收進入 光4佳化劑鑲板中之系統係於，例如，日本專利申請案特許 公開第3-109953號中敘述。根據此公告，敘述一種方法，其 中 >瓦動通過集塵過滤器及催化劑層之經處理之氣體係使用 電暈放電而帶負電荷地游離。在另一方面，已知一種方法 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)

裝 訂 禮 五、 發明説明（

，其中將負離子直接地照射至於妳# 於比々々丄 、、、·工處理足氧體中之空氣。 ;匕寺中，使用電子輻射針 、 社委& ' T <私于輻射态係於日本專中 %案特許公開第9_232068號中敘述。 甲 二另-方面，於撥酵系統中’其中處理有機之殘渣以製 之Μ f生大數！之包含與好氧性醱酵相關之臭味成分 2姐。當進行大數量之含臭味成分之氣體之脫臭時，由 万息經由水分子脫臭方法，僅可將溶於水中之臭味成分脫 ’’因此已具有問題。此外，於臭氧脫臭方法中，由於地 =¾境保謾’ 4 了處理產生之魏，處理大數量之氣體之 置造成成本增加。此外，已夏有-項問題，丨中僅經由 離子脫臭方法，僅自動地黏附於光催化劑之臭味成分係氧 化地刀解，因此為了將大數量之氣體脫臭需要大表面積之 光催化劑，其致使裝置大尺寸。 考慮到於離子脫臭方法中之脫臭功能，僅經由光催化劑 鑲板（裝置，僅自動地黏附於光催化劑鑲板之臭味成分係 氧化地分解，及因此將大數量之含臭味成分之空氣有效地 脫臭係不可能的。縱然當光催化劑鑲板係以紫外線照射以 促進光催化劑時，脫臭容量仍然係受限制，如到達具有固 足之表面積之光催化劑鑲板之程度。 然後’進行經處理之氣體之脫臭，其係經由電暈放電而 V負笔^地游離以致使臭味成分有效地黏附於光催化劑鑲 板’然而，由於使用電暈放電之方法係低之負離子製造容 量’因此已具有一項問題，其中將臭味成分有效地黏附於 光催化劑鑲板之容量係低的。在另一方面，於使用電暈放 -6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS) A4規格(210X 297公釐) 504392 A7 B7 五、發明説明（ 電4方法中，由於產生臭氧，因此具有一項問題，其中光 催化劑之氧化之分解反應係受到干擾。此外，由於地球環 境保護，為了避免臭氧自系統釋出，其之處理係必要的， 其造成大尺寸之脫臭系統及增加之成本。 發明概要 本發明之一項目的係提供複合脫臭方法，其中於水分子 脫臭之後進行臭氧脫臭、然後進行離子脫臭以將大數^之 含臭味成分之經處理之氣體有效地脫臭，及用於該方=之 系統。 - 本發明之另一項目的係提供雨子脫臭系統，其中將負離 子直接地照射經處理之氣體以促進臭味成分之黏附於光催 化劑，以使連同光催化劑經由紫外線照射之促進作用， 效地移除大量數之臭味。 獲得以上目的之本發明之特徵為包含水分子脫臭步驟， 以自經處理之氣體移除水，以料經處理之氣體中溶解於 水中之臭味成分係、移除；臭氧脫臭步驟，以將於水八子脫 臭步驟中處理之經處理之氣體與„臭氧混合及將二 理之氣體中包含之臭味成分氧化地分解；及離予脫臭；驟 ，以將於臭氧脫臭步驟中處理之經處理之氣體帶 游離及將於經處理之氣體中包含之臭味成分黏⑽氧化之 分解。 ， 此外，水分子脫臭步驟包括輻射處 啊W知理步騾以降低 臭味成分之經處理之氣體之溫度，係 -’除 此外， 臭氧脫臭步驟包括臭氧移除步驗 以移除於已氧化

504392 A7 B7 五、發明説明（5 ) 地分解臭味成分之經處理之氣體中包含之電漿臭氧，係可 能的。 此外，本發明之特徵為包含具有以經處理之氣體供應之 一氣體引進開口之第一室、與第一室相通之第二室、及與 第二室相通之第三室，其中第一室包括用於冷凝於經處理 之氣體中之水之一冷卻鑲板及用於排出冷卻鑲板上冷凝之 水滴連同於經處理之氣體中溶解於水中之臭味成分之一排 水鑲板，及第二室包括用於產生電漿臭氧之一臭氧產生器 及用於經由以臭氧產生器之電衆臭氧而氧化地分解於經處 理之氣體中包含之臭味成分之二反應室，及第二室包括用 於帶負電荷地游離經處理之氣體之一電子輻射器、用於吸 收及氧化地分解於經處理之氣體中包含之臭味成分之一光 催化劑鑲板、及用於排出經處理之氣體之一氣體排出開口 。此外，經由冷卻鑲板而處理之經處理之氣體之相對濕度 係比第一室之外部濕度較低。 此外，第一室可包括一熱輕射鑲板以降低流動通過冷卻 鑲板之經處理之氣體之溫度。此外，由熱輻射鑲板處理之 經處理之氣體之溫度係比第一室之外部溫度較低。 第一室與第二室係以一流動通路管而連接，及一臭氧產 生器可係安置於第一室與流動通路管之連接位置。此外， 第二室可包括一臭氧移除過濾器以移除於經處理之氣體中 包含之臭氧。 電子輻射器直接輻射電子至空間中以將經處理之氣體帶 負電荷地游離。此外，第三室可包括一紫外線照射器以照 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 504392 A7 B7 五、發明説明（6 ) 射紫外線至光催化劑鑲板。 此外，經處理之氣體係於有機之殘渣之好氧性醱酵之期 間產生之氣體。 此外，本發明係用於吸收於經處理之氣體中包含之臭味 成分及經由氧化之分解反應而移除臭味成分之離子脫臭系 統，其特徵為包含用於將經處理之氣體帶負電荷地游離之 一電子輻射跆、及用於照射紫外線至光催化劑鑲板之一紫 外線照射器。此外，電子輻射器直接地輻射電子至空間中 以將經處理之氣體帶負電荷地游i離。 此外，本發明係用於吸收於經處理之氣體中包含之臭味 成分及經氧化之分解反應而移除臭味成分之離子脫臭系統 ，其特徵為包含用於將經處理之氣體帶負電荷地游離之一 電子輻射器，其中電子輻射器直接地輻射電子至空間中， 因而將經處理之氣體帶負電荷地游離。 自下列採用之本發明之具體實施例之說明連同附隨之圖 式，本發明之以上及其他目的、效應、特性及優點將變成 較明顯的。 圖示之簡要說明 圖1係顯示根據本發明之具體實施例之複合脫臭系統之結 構圖； 圖2係顯示根據本發明之具體實、施例之複合脫臭系統之第 一室之結構圖； 圖3 A係顯示根據本發明之具體實施例之複合脫臭系統之 第三室之側面圖； -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐）

裝 訂

…㈣係顯示根據本發明之具體實施例之複合脫臭系统之 弟二室之平面圖；及 圖4係顯示—電子輕射器之硬體結構之方塊圖。 較佳具體實施例之詳細說明 万、下列中，本發明之—種具體實施例將係參考圖而詳細 地說明。 圖〜丁根據本發明之具體實施例之複合脫臭系統之簡要 結構。複合脫臭系統1⑽包含用於進行水分子脫臭之第-室 101L用於進行臭氧脫臭之第'二、室1G2、及用於進行離子脫 臭足第二至1 〇3。第一室1 〇 1係^由一氣體引進開口 i i丨而 與一釀酵系統104連接以來自醱酵系統104之含臭味成分之 、’二處理之氣髌供應。第一室丨0丨與第二室10 2係以一流動通 路吕U2連接，及一臭氧發生器121係安置於第一室101與 流動通路管112之連接位置。第二室1〇2與第三室1〇3係以 連接管Π3連接’及一臭氧過濾器122係於第二室1〇2與 連接管113之連接位置組合入。第三室1〇3具有一氣體排出 開口 1 1 4以排出經處理之氣體。 以此種結構’自第一室丨之氣體引進開口 n丨流動進入 之含臭味成分之經處理之氣體係，於第一室丨〇丨中，經由冷 凝而移除水、及溶解於經處理之氣體之水中之臭味成分係 於同時排出。關於經由臭氧及光催化劑之氧化分解反應， 臭味成分本身係於比結合於水分子之臭味成分較高之分解 也力。此外，當冷凝係於光催化劑之多孔表面上發生時， 由於氧化分解能力係較劣，因此具有一項問題。然後，於 ____________~ 10 - 本紙張尺度適财g國g_CNS) A4規格(21GX撕公爱) 8 五、發明説明（ 用於進行臭氧脫臭之第二室102及用於進行離子脫臭之第三 室1 0 3之前，經由進行水分子脫臭以將經處理之氣體除濕而 增進臭氧及光催化劑之氧化分解能力，係可能的。 於第一室1 0 1中處理之經處理之氣體係引導至用於連接第 一室1 0 1與第二室1 〇 2之流動通路管1 1 2。自於第一室1 〇 1 與>£動通路管112之連接位置安置之臭氧產生器121產生之 臭氧’於包含流動通路管112及第二室102之一反應室中， 接觸經處理之氣體以經由氧化分解而移除臭味成分。 於第二室102中處理之經處瑄〜乏氣體係引導至用於連接第 二室102與第三室1〇3之連接管^13。於第二室1〇2與連接 官U3之連接位置，組合入一臭氧過濾器122，其自於第二 立102中處理之經處理之氣體移除殘餘之臭氧。臭氧具有干 擾光催化劑之氧化分解、及自地球環境保護之觀點臭氧自 複合脫臭系統1 〇 〇之排出係不受歡迎之問題。因此，於用於 進仃離子脫臭之第三室103之前，經由安置一臭氧過濾器 1 2 2，可解決此問題。 於第二室1 〇 2中處理之經處理之氣體係引導進入第三室 1 0 3中’其中臭味成分係經由光催化劑而氧化地分解及移除 由於，為了處理大數量之氣體，因此將臭味成分有效地 黏附於光催化劑鑲板、將經處理之氣體帶負電荷地游離（其 將於後又中詳細地敘述）係必要的。於第三室丨〇 3中處理之 経處理之氣體係自氣體排出開口 1 1 4排出。 圖2顯不根據本發明之一種具體實施例之複合脫臭系統之 第一至足結構。第一室1〇1包含用於冷卻經處理之氣體以致 丨X 297公釐） 504392 A7 B7 五、發明説明（9 ) 使冷凝之一冷卻鑲板201、用於降低經處理之氣體之溫度之 一熱輻射鑲板2 0 2、用於排出冷凝之水之一排水鑲板2 0 3、 及用於將冷卻鑲板201及熱輻射鑲板202冷卻之冷凍機 204a及204b ° 以此結構，自第一室1 0 1之氣體引進開口 1 1 1流動詮入之 含臭味成分之經處理之氣體係，於第一室101中經由冷卻鑲 板20 1而冷卻以於冷卻鑲板201上將水冷凝。溶解於經處理 ,之氣體之水中之臭味成分係連同冷凝之水自排水鑲板2 0 3排 出及移除。此外，由於溫度愈也；則臭氧脫臭之氧化分解效 率愈佳，因此提供一熱輻射鑲板 1〇2以降低經處理之氣體之 溫度。自流動通路管1 1 2排出之經處理之氣體之溫度係冷卻 至低於其中安置根據本具體實施例之複合脫臭系統之環境 之外邵溫度。此外，如以上敘述，為了增進臭氧及光催化 劑之氧化分解能力，將來自流動通路管丨丨2之經處理之氣體 之濕度除濕至低於其中安置根據本具體實施例之複合脫臭 系統之環境中之外部濕度。於第一室丨〇丨中處理之經處理之 氣體係引導至流動通路管1 1 2。 圖3A及圖3B顯示根據本發明之一種具體實施例之複合脫 臭系統足第三室之結構。第三室103包含用於氧化地分解臭 味成分之一光催化劑鑲板300、用於發射負離子之電子輻射 扣3 0 1 a至3 0 1 d、用於氧化地再活化光催化劑之紫外線輻射 燈3 02a至3 02c、及用於分布於内部中之空氣流動通路之隔 板3 03 a至3 03 c。光催化劑鑲板係於第三室中之整個壁表面 及隔板3 03 a至3 03 d之壁表面上提供。

此：構’於第二室102中處理之經處理之氣體自連接管 :?進入第三室103中及經由自電子輻射器30“至 直接地輕射之電子而帶負電荷地游離。帶負電荷地游 離<臭味成分係由光催化劑鑲板吸收及經由氧化分解反 2分解。於第三室103中處理之經處理之氣體係自氣體排 开口 114排出。f外線燈如……促進光催化劑镶板 催化劑之氧化再活化作用。隔板3_至3()3£1係分 布於弟三室1G3之内之空氣流通通路，以促進經處理之氣體 與光催化劑鑲板3 〇 〇之接觸 根據本發明，由於經處理.之[體係經由電子ϋ射器301a L03d而帶負電荷地游離，因此帶負電荷地游離之臭味成 分:係有效轉附於錢化舰板则。此外n經處理 《氣體係、經由自電子輕射器3Gla至3()ld直接地發射電子而 帶^電荷地游離’因此不產生臭氧。由於光催化劑鑲板3〇〇 之氧化再活化反應未受到干擾、及不釋出臭氧，因此自地 球環境保護之觀點，其具有有用之效應。 圖4顯不私子||射器之硬體結構。電子輕射器川係於由 本專利申請人先前揭示之曰本專利申請案特許公開第、 232068號中敘述。電子輻射器3〇1包含用於發射負離子之一 電子輻射針401、用於以電子供應電子輻射針4〇1之一離子 產生备402、及用於連接電子餐射針4〇1與離子產生器4〇2 之一電子導體金屬線403。此外，用於保護電子輻射針4〇1 之一電子噴射百葉窗及一裝置件405係於一托架（m〇unting base)結構4 0 6或其類似物上提供及安置。 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公爱） 504392 A7 B7 五、發明説明（u 以此結構’電子輻射器301經由離子產生器402而產生數 千伏特之高電壓，及經由電子導體金屬線403而傳導此電壓 至電子輻射針401。電子輻射針4〇1對應於一負電極。經由 開啟一正電極，電子係自電子輻射針403發射及發射之電子 向刖行進而同時撞擊空氣分子之電子，於電子噴射百葉窗 404之鄰近產生電子突崩現象（。 ^ 將敘述，對於經由處理有機廢棄物而製造堆肥，使用根 據本發明之複合脫臭系統之—㈣酵系統之㈣脫臭裝置 。排氣脫臭裝置，考慮約1〇〇]1〜岁米每分鐘之經處理之氣體 之脫臭三具有約220立方米之第一一室1〇1之體積 '約1〇〇〇立 万米之第二室1〇2之體積、及約1400立方米之第三室1〇3之 體積。排氣脫臭裝置包括150千瓦（kw)冷；東機2〇以及 204b、660個電漿臭氧管作為臭氧產生器121、5〇〇個電子 輻射器301(超過3百萬個離子分子/立方厘米/力距）、及 100個單位之150瓦（W)紫外線燈3〇2、及於第三室1〇3中 之光催化劑鑲板300之表面積係約14,〇〇〇平方米。使用以上 排氣脫臭裝置而進行之脫臭實驗之結構係於表丨及表2中顯 示。 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董) 504392 A7 B7 五、發明説明（ ,2 ) [表1] 單位·· p p m (百萬分點） 臭味 醱酵系統 本系統 系統 防止法案 成分 出π 出π 界限 參考值 氨 360 6.4 <0.1 1 硫化氫 0.03 < 0.02 < 0.002 0.02 甲硫醇 0.36 < 0.00£ < 0.0002 0.002 二甲硫 3.8 0.01 ^ <0.001 0.0 1 二甲硫 0.0 15 < 0.002 < 0.0009 0.009 表1摘述5個項目之惡臭測量結果 。己證實， 於醱酵系統 及排氣脫臭裝置之界限之測量值係比惡臭防止參考值很較 低。 [表2] 測量方法： 3 -點比較臭味袋方法 醱酵系統 本系統 系統 指導 出π 出π 界限 參考值 感覺之 3 1000 1 7 0 <10 80 臭味濃度 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） 504392

表2顯4由3_難較臭味❹法之測量結果。3_點比幹 &味袋万法係用於經由空氣稀釋而測量臭味指數之方法广 亦万、此種Λ例巾’己證貫’於撥酵系統及排氣脫臭裝置之 界限之測量值係比政府之指導參考值很較低。 万、本具只她例中，已敘述以上之實驗系統。本發明可 係經由於有機廢棄物處理系統或其類似系統之工廠（自用於 脫臭約1G0立方米每分鐘之經處理之氣體之系統至用於脫臭 〇.i立方米每分鐘之經處理之氣體之家用空氣清潔機）中變 動各種參數而應用。 ---二 本發明係已關於較佳具體實藏例詳細地敘述，及自前述 之說明，於本發明之較寬廣之態樣中可作改變及修飾而不 脫離本發明，此對於熟習此項技藝者目前將係明白的，及 因此企圖於附隨之申請專利範圍中涵蓋如於本發明之真實 精神之範圍内之所有此等改變及修飾。 16 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐)

Claims (1)

1. AS B8 C8 D8

   、申請專利範圍 1 . 一種複合脫臭方法，其特徵為包含： -種水分子脫臭步驟，α自經處理之氣體移除水，以 使於孩經處理之氣體中溶解於水中之臭味成分係移除； 一種臭氧脫臭步驟，以將於該水分子脫臭步驟中處理 之經處理之氣體與電t臭氧混合及將於該經處理之氣體 中包含之臭味成分氧化地分解；及 一種離子脫臭步騾，以將於該臭氧脫臭步驟中處理之 經處理足氣體帶負電荷地游離及將於該經處理之氣體中 包含之臭味成分吸收至光催I劑以以氧化之分解。 2·根據申請專利範圍第1項之霞合脫臭方法，其中該水分 子脫臭步驟包括輻射處理步驟以降低已移除臭味成分之 該經處理之氣體之溫度。 3 .根據申請專利範圍第丨項之複合脫臭方法，其中該臭氧 脫臭步驟包括臭氧移除步驟以移除於己氧化地分解臭味 成分之該經處理之氣體中包含之電漿臭氧。 4.根據申請專利範圍第丨項之複合脫臭方法，其中該經處 理I氣體係於有機之殘渣之好氧性醱酵之期間產生之氣 體。 5· —種複合脫臭系統，其特徵為包含： 具有以經處理之氣體供應之一氣體引進開口之第一室 、與该第一室相通之第二室、及與該第二室相通之第三 室； _ ' 其中該第一室包括用於冷凝於該經處理之氣體中之水 之一冷卻鑲板及用於排出於該冷卻鑲板上冷凝之水滴連 -17- 本紙張尺度適财S S雜--

   .=該經處理之氣體中溶解於水中之臭味成分之一排水 壤板； 孩第二室包括用於產生電漿臭氧之—臭氧產生器及用 工由以Θ臭氧產生器產生之電装臭氧而氧化地分解於 琢經處理之氣體中包含之臭味成分之一反應室；及 —I第三室包括用於帶負電荷地游離該經處理之氣體之 2電子輻射器、用於吸收及氧化地分解於該經處理之氣 中G 3之臭味成分之一光催化劑鑲板、及用於排出該 經處理之氣體之一氣體排出7為口。 6·根據申請專利範圍第5項之覆合脫臭系統，其中由該冷 卻鑲板處理之該經處理之氣體之相對濕度係比該第一室 之外部濕度較低。 7·=據申請專利範圍第5項之複合脫臭系統，其中該第一 至包括一熱輻射鑲板以降低流通過該冷卻鑲板之該經處 理之氣體之溫度。 8·根據申請專利範圍第5項之複合脫臭系統，其中由該熱 輻射鑲板處理之該經處理之氣體之溫度比該第一室之外 部溫度較低。 9·根據申請專利範圍第5項之複合脫臭系統，其中該第一 立與違第二室係以一流動通路管而連接，及該臭氧產生 器係安置於該第一室與該流動通路管之連接位置。 1 0 ·根據申請專利範圍第5項之複合脫臭系統，其中該第二 皇包括一臭氧移除過濾器以移除於該經處理之氣體中包 含之臭氧。 -18 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇X297公釐） A BCD 504392 六、申請專利範圍 1 1 .根據申請專利範圍第5項之複合脫臭系統，其中該電子 輻射器直接地輻射電子至空間中以將該經處理之氣體帶 負電荷地游離。 1 2 .根據申請專利範圍第5項之複合脫臭系統，其中該第三 室包括一紫外線照射器以照射紫外線至該光催化劑鑲板 〇 1 3 .根據申請專利範圍第5項之複合脫臭系統，其中該經處 理之氣體係於有機之殘渣之好氧性醱酵之期間產生之氣 體。 - 1 4 . 一種離子脫臭系統，用於吸於經處理之氣體中包含之 臭味成分及經由氧化之分解反應而移除該臭味成分，其 特徵為包含： 用於將該經處理之氣體帶負電荷地游離之一電子輻射 器；及 用於照射紫外線至該光催化劑鑲板之一紫外線照射器 〇 1 5 .根據申請專利範圍第1 4項之離子脫臭系_羞，其中該電子 輻射器直接地輻射電子至空間中以將該經處理之氣體帶 負電荷地游離。 1 6 . —種離子脫臭系統，用於吸收於經處理之氣體中包含之 臭味成分及經由氧化之分解反應而移除該臭味成分，其 特徵為包含： _ 用於將該經處理之氣體帶負電荷地游離之一電子輻射 备， -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐）

   504392 8 8 8 8 A BCD 申請專利範圍 其中該電子輻射器直接地輻射電子至空間中 該經處理之氣體帶負電荷地游離。 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 因而將