TW469480B - Processing system - Google Patents

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A7 469480 五、發明說明（ [發明的背景] 本發明是關於在例如使用於半導體及液晶顯示器 (Liquid Crystal DisPlay:LCD)的基板上，進行光刻工序的 處理系統。 在玻璃基板上形成TFT陣列的工序中，要經過薄膜形 成前的清洗工序—薄膜形成工序—光阻劑塗敷工序—曝光 工序—顯影工序—蝕刻工序—光阻劑剝離工序，對於】張 玻璃基板而言，只為構成陣列膜層數，就要重複上述工序 6次》 一般來說’上述清洗工序、光阻劑剝離工序、薄膜形 成工序、蝕刻工序、光阻劑塗敷、顯影工序以及曝光工序 分別由清洗裝置、光阻劑剝離設備、成膜設備、姓刻設備 、塗敷.顯影裝置、曝光裝置進行處理。各設備間之玻璃 基板的搬送’係利用AGV(自動傳送車）傳送。 然而’例如塗敷*顯影裝置是由多台光阻劑塗敷設備 、顯影處理設備及加熱處理設備組成，該等設備間之玻璃 基板的傳送’係由傳送裝置完成，藉此，要求設備集中布 置。 [發明概要] 但是’將上述設備集中布置時，存在不易於增設設備 的問題。即生產能力擴大時，將以某道工序所需全部裝置 為單位，增加設備。例如，假設塗敷•顯影裝置的生產能 力為5000張/月，就將以5000張/月為單位，增加設備，這 就產生出現閒置設備、設備投資效率低的問題。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2】0 x 297公笼） (請先M讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -n n I» i— n n I» I I i aw MI MM Mb MM Μ* aa* MM mb I ) 4 經濟·部智慧財產局具工消费合作社印袈 A7 ___B7____ 五、發明說明（2 ) 另外’例如塗敷·顯影裝置的處理能力數倍於其它裝 置’裝置之間處理能力也有差異，這也會出現閒置的設備 本發明為了解決如是之課題，其目的是提供一種能分 階段增加處理能力’空閒設備少、高效的處理系統β 為解決該課題，本發明的處理系統由以下部分構成： 主傳送通道；與上述主傳送通道略垂直的若干條輔助傳送 通道；沿上述各條輔助傳送通道分開設置的'對被處理體 實施規定處理的處理設備：在主傳送通道上可移動的、與 上述各輔助傳送通道之間傳送被處理體的主傳送裝置；在 上述各輔助傳送通道上可移動的、與位於各輔助傳送通道 上的處理設備及主傳送通道之間傳送被處理逋的輔助傳送 裝置。本發明，可以沿輔助傳送通道分階段地增設處理設 備，在必要的時期，提高所需規模的處理能力。處理設備 的處理内容按每條輔助傳送通道分開，在各傳送通道上分 別增設通用處理設備，這可以避免進行不同處理時由處理 β又備間藥液干擾導致的問題。兩且，由於各輔助傳送道路 與主傳送道路略垂直，所以整個系統可佈置高密度化β 本發明的處理系統由以下部分構成：主傳送通道；與 上述主傳送通道略垂直的若干條輔助傳送通道；沿上述各 輔助傳送通道分開設置的、按處理順序沿主傳送通道排列 的各輔助傳送通道上對被處理體實施規定處理的處理設備 ，在上述主傳送通道上可移動的、與上述各輔助傳送通道 之間傳送被處理體的主傳送裝置；在上述各輔助傳送通道 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2】〇 * 297公* )

— — 1ιιιιίι1ι* . 1 I <請先《讀背面之注意事項再填寫本頁> 訂‘ --線· A7 469480 _____ B7 _ 五、發明說明（3 ) 上可移動的、與位於上述各輔助傳送通道上的處理設備及 上述主傳送通道之間傳送被處理體的輔助傳送裝置，本發 明，可以沿輔助傳送通道分階段增設處理設備，需要時， 只提向所需規模的處理能力*處理設備的處理内容按每條 輔助傳送通道分開’在各傳送通道上分別增設通用處理設 備’這可以避免進行不同處理時由處理設備間藥液干擾導 致的問題《而且，由於各輔助傳送道路與主傳送道路略垂 直’所以整個系統可配置高密度化。另外，輔助傳送通道 沿主傳送通道根據處理工序順序依次排列，所以可以提高 整個系統的傳送效率。這裡的所謂根據處理順序沿主傳送 通道依次排列’並非規定要排列在一條直線上，例如，如 果在輔助傳送通道上處理的同時，又要至主傳送通道端部 ，返回後，再到其它輔助傳送通道上處理，會造成按處理 工序分開的輔助傳送通道在主傳送通道上混雜在一起。本 發明同時還可以解決這一問題。 本發明的處理系統由以下部分構成··主傳送通道；與 上述主傳送通道略垂直的若干條輔助傳送通道；沿上述各 輔助傳送通道分開設置的對被處理體進行不同處理的處理 設備；在上述主傳送通道上可移動的、與各輔助傳送通道 之間傳送被處理體的士傳送裝置；在上述各輔助傳送通道 上可移動的、與位於上述各輔助傳送通道上的處理設備及 主傳送通道之間傳送被處理體的輔助傳送裝置。本發明， 可以沿輔助傳送通道分階段增設處理設備，需要時，只提 高所需規模的處理能力6另外，由於在各傳送通道上可以 本紙張尺度適用中囡國家楳準（CNS)A4規格（2]〇x297公发） (請先閲讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁} 訂· .線 經濟部智慧財產局具工消費合作社印製 6 經濟鄞智慧財產局員工消費合作杜印製 Α7 Β7 五、發明說明（4 ) 分別獨立地進行一系列處理，所以可與各輔助傳送通道分 別對應，例如有多層骐的被處理體各層可與各輔助傳送通 道分別對應，因而易於控制和設定條件。更由於各輔助傳 送通道與主傳送通道略垂直，所以整個系統可以高密度布 置。 本發明的處理系統由以下部分組成：主傳送通道；可 在上述主傳送通道一端沿垂直於主傳送通道方向延長設置 的向系統内搬入搬出被處理逋的搬出入裝置；可在上述主 傳送通道另一端的兩側沿垂直於主傳送通道方向延長設置 的若干條辅助傳送通道；沿上述各輔助傳送通道設置、在 上述主傳送通道上可移動的、與對被處理體實施規定處理 的處理設備、上述搬出入裝置及各輔助傳送通道之間傳送 被處理體的主傳送裝置；在上述各輔助傳送通道上可移動 的、與位於輔助傳送通道上的處理設備及主傳送通道之間 傳送被處理體的輔助傳送裝置。本發明可沿補助傳送通道 分階段增設處理設備’需要時，增加提高規模的處理能力 。另外，由於系統各部分沿略垂直於主傳送通道的延長方 向設置’所以無須改變系統的中心-主傳送通道，就可以 增設各個部分。再加上各輔助傳送通道等略垂直於主傳送 通道，所以可以大密度配置整個系統。 本發明由以下部分組成··主傳送通道；位於上述主傳 送通道兩側、略垂直於主傳送通道的輔助傳送通道：沿各 輔助傳送通道設置、對被處理體實施規定處理的處理設備 ;在主傳送通道上可移動的、與輔助傳送通道之間傳送被 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格<210 * 297公爱） — — 1ΙΙΙΙΙΙΙ11- - I I I I I 1 I «ιίιιι — — — <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ο 9 48 Ο Α7 — __Β7五、發明說明（5 ) 處理體的主傳送裝置，可在主傳送通道一側的輔助傳送通 道上移動、與位於上述各輔助傳送通道上的處理設備及主 傳送通道之間傳送被處理體的全程傳送機械手式輔助傳送 裝置；可在主傳送通道另一側的輔助傳送通道上·移動、與 位於上述各輔助傳送通道上的處理設備及主傳送通道之間 傳送被處理體的分段傳送機械手式輔助傳送裝置。本發明 可以沿輔助傳送通道分階段增設處理設備，在需要時，增 加所需規模的處理能力。另外，主傳送通道一側為全程傳 送機械手式輔助傳送裝置，另一侧為分段傳送機械手式輔 助傳送裝置，可以增設傳送裝置，這樣既能保持增設的靈 活性’又能抑制成本增加。另外，各輔助傳送通道與主傳 送通道略垂直，所以可以大密度配置整個系統。 本發明的處理系統在上述主傳送通道的至少一側設置 與相鄰輔助傳送通道上的處理設備進行同一處理的處理設 備。由此’可以更加大密度地配置整個系統。 本發明的處理系統可在與上述輔助傳送通道略垂直方 向上增設傳送通道和處理設備。由此，可以更加大密度地 配置整個系統。 本發明的處理系統的上述新增設傳送通道及處理設備 丨和相鄰的輔助傳動通道連接。由此，可以提高傳送效率。 本發明的處理系統在上述部分或整條主傳送通道上、 i 丨裝有在該主傳送通道範圍内形成垂直層流的裝由此， 可以防止微粒浮游於主傳送通道内。 本發明的處理系統在上述部分或整條主傳送通道上、 ------------良--------訂---- H I ^1 I 線Τ . ί - i (請先《讀背面之注意事項再填寫*頁》 本紙張尺度適用中國®家標準（CNS)A4規格（2j0 x 297公轚> 經濟部智.«·財爰局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（6 ) 裝有吸引該主傳送通道範圃内空氣的吸風裝置。由此，可 以在系統單元内形成強大的垂直層流。 本發明的處理系統可以將上述吸風裝置的氣體在該系 統内再利用。由此，可以降低成本。 本發明的處理系統在上述主傳送通道和上述辅助傳送 通道的連接處設有暫時保存被處理體的中轉站。由此，可 使傳送裝置無待機狀態》 本發明的處理系統的上述中轉站還裝有使被保持住的 被處理體旋轉大約90度的裝置。由此，處理設備不必旋轉 被處理體’被處理體可在主傳送通道和輔助傳送通道上向 同一方向傳送。 本發明的處理系統在上述主傳送通道上設有暫時保存 被處理體的中轉站。因此，可使在主傳送通道上出現待機 狀態的被處理體保存在傳送裝置以外的地方。 [發明的實施方式] 下面，參照圓式就本發明的實施方式加以說明。 第1圖為本發明的一實施方式，形成TFT陣列的處理 系統平面圖。 如第1圖所示’主傳送通道10呈直線形位於系統丨的大 致中心處。主傳送通道H)的一端為向系統内搬入、同時向 系統外搬出作為被處理體玻璃基板G的搬出入裝置20，以 及處於主傳送通道10的另一端、與曝光裝置2之間傳送玻 璃基板G的介面部30»另外’從主傳送通道—端的兩側 開始’依次為剝離•清洗工序用輔助傳送通道4〇、成膜工 本紙張尺度適用辛國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公轚> 9 — — — — — — — * I I I 1 I I I — — — — — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本I) 4 〇 9 4 8 0 A7 _— - _ B7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印M 五、發明說明（7 ) 序用辅助傳送通道50、蝕刻工序用輔助傳送通道60、塗敷 *顯影工序用輔助傳送通道70，它們與主傳送通道1〇略垂 直。 在主傳送通道10中，傳送玻璃基板G用主傳送裝置11( 假如有4台）經由暫時保存玻璃基板的中轉站12直線連接β 主傳送通道10和輔助傳送通道40、50、60、70之間也經由 中轉站12相連接。主傳送通道1〇中間的中轉站上裝有如上 下兩層的傳送台（圖略），其中至少有一層是冷卻玻璃基板 G用之冷卻板。另一方面，主傳送通道10和輔助傳送通道 40、50、60、70之間的中轉站，如第2圖所示，主傳送通 道10和輔助傳送通道40、50、60、70兩側由有開口面的箱 艘丨2a構成。此相體丨2a的左右内壁各有一組成對的把玻璃 基板G放入箱體12a中保存用引導構件12b，假如有20對引 導構件12b ’則可以暫時保存20張玻璃基板G。另外，最 下層是冷卻所保存玻璃基板G用冷卻板12c»如上所述，中 轉站12具有暫存和冷卻玻璃基板〇的功能。另外，在中轉 站12附加向玻璃基板G吹送冷氣的冷卻裝置也可以。如第 3(a)和（b)圈所示，可將主傳送通道1〇的部分或全部設在單 元18内’在單元18上部設置1^1119，形成垂直層流。因此 ，可以防止微粒浮游於主傳送通道内。但是，如第9圊所 示’也可以在單元内不設置FFijl9，而是採用其它方法形 成垂直層流。 第4圖為上述主傳送通道裝置η的一例斜視圖。 如第4圖所示，主傳送裝置由可沿主傳送通道1〇移 <請先閱讀背面之注帝？事項再填寫本I) 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2】0*297公龙） 10 A7 B7 五、發明說明（ 動的本體13、可以相對於本體13上下移動及旋轉的基座14 和在基座14上沿水平方向能分別獨立移動的上下2個基板 支架15a、15b構成。基座14的中央處和本體13經由連接桿 16連接。本體13中的内置發動機（®中未示）可使連接桿16 和基座14上下移動或旋轉《於是，藉由基座14的上下和旋 轉運動，以及基板支架15a、15b的水平移動，傳送玻璃基 板G ^參考符號17a、17b分別是基板支架15a、15b的導軌 。主傳送裝置11在搬出入裝置20、介面部30、輔助傳送通 道40〜70、中轉站12之間傳送玻璃基板G» 在搬出入裝置20上設有與主傳送通道〗0略垂直的傳送 通道21。隔著傳送通道21在主運動通道10的對側裝有可以 並排放置例如4個玻璃基板G的基板箱C(例如1盒能放25張） 的基板箱平台23»同時，在傳送通道21上還有可移動的傳 送裝置22，它從各基板箱C中將要處理的玻璃基板G取出 ，傳送給主傳送通道10,再把處理完的玻璃基板G從主傳 送通道上接過來送回各基板箱C。傳送裝置22的結構與第 4圊所示的主傳送裝置丨丨大略相同。在搬出入裝置2〇的兩 端，可以沿垂直於主傳送通道10方向增設内部結構相同的 搬出入裝置20。 剝離•清洗工序用輔助傳送通道40經由暫時保存玻璃 基板G的中轉站12與主傳送通道連接β剝離•清洗工序用 輔助傳送通道40的一側裝有用水刷洗玻璃基板G的若干台 擦洗機41。剝離•清洗工序用輔助運動通道4〇的另一侧， 裝有若干台在真空狀態下對玻璃基板G進行灰化處理的灰 本紙張尺度適用中國國家標準（Cns>A4規格（210 X 297公釐）

t S I 之 注 意 U X 訂 ▲ 經濟.部智慧財產局員Η消f合作社印製 11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ...9 4 8 0 at ______Β7____ 五、發明說明（9 ) 化裝置42。在剝離•清洗工序用輔助傳送通道4〇上，設有 在中轉站12和各處理設備之間傳送玻璃基板G的可移動輔 助傳送裝置40a :輔助傳送裝置40a與第4圖所示主傳送裝 置11的結構大略相同〇 第5圖為灰化裝置42的實例水平剖面圖。 如第5圖所示，灰化裝置42由設在輔助傳送通道4〇的 加載定位室43、位於其内側的傳送室44和設備傳送室44兩 側的灰化裝置室45構成。在加載定位室43和傳送室44之間 ’傳送室44和各處理設備室45之間，裝有既可以使他們之 間密閉，又可打開的閘閥V »加載定位室45和外界大氣環 境連通的開口處也裝有閘閱V。 灰化處理室45設有放置玻璃基板G的擺放台45a,其 内部可以真空排風。灰化處理室45可以通入灰化氣體（如 臭氧）’利用灰化氣體除去經過蝕刻處理的光阻劑。 傳送室44的構成也可進行真空排風，其内部裝有基板 傳送部件46。基板傳送部件46為多關節機械手，由基座46a 、中間機械手46b和端部的基板支撐機械手46c組成，該等 關節部分可以旋轉。基板傳送部件46在加載定位室43、灰 化處理室45之間傳送玻璃基板G。在基板傳送部件46基座 46a的中間機械手46b和對側上設有可以保存玻璃基板G的 框形暫存台46d，利用它可以暫時保存玻璃基板G，可以 提高生產能力。 加載定位室43也可真空排風，其中裝有放置玻璃基板 G的架台47和定位玻璃基板G位置的定位器48。定位 丨丨丨丨丨|丨丨丨丨丨丨-义‘丨丨1_丨—訂-!-線-1 (請先Μ讀背面之注意事項再填窝本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNSXA4規格（2〗〇κ297公釐） 12 經濟，部智慧財產局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明說明（10) 按標記A方向移動，玻璃基板G2個對角處分別裝有2個滾 轴49 ’藉由它們在哭台47上定位玻璃基板為了確認定 位是否完成’還裝有圖中未示的光學傳感器。加載定位室 43件與輔助傳送通道4〇之間傳送玻璃基板G時，其中為大 氣環境，將玻璃基板G傳送至處理室45處時，為真空環境 〇 成膜工序用輔助傳送通道50也經由暫時保存玻璃基板 G的中轉站12與主傳送通道1〇相連。成膜工序用輔助傳送 通道5 0兩側沿該傳送通道分別設置有作為處理設備的若干 台成膜設備51。另外，在成膜工序用輔助傳送通道5〇上還 設有在中轉站12及各處理設備之間傳送玻璃基板G的可移 動輔助傳送裝置50a。輔助傳送裝置50a與第4圖所示主傳 送裝置11結構大略相同= 成膜設備51將第5圖所示灰化裝置中灰化處理室45換 成’在真空中將放在擺玟台上的玻璃基板表面，利用CVD 形成所需膜的成膜室。 蝕刻工序用輔助傳送通道60也經由暫時保存玻璃基板 G的中轉站12與主傳送通道1〇相連β蝕刻用輔助傳送通道 60的兩側’沿該傳送通道分別設有作為處理設備的若干台 蝕刻設備61。同時，在蝕刻工序用輔助傳送通道6〇上還設 有在中轉站和各處理設備之間傳送玻璃基板G的可移動輔 助傳送裝置60a。輔助傳送裝置60a結構與第4圖所示主傳 送通道11大略相同。 蝕刻設備61是將第5圓所示灰化裝置中灰化處理室45 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS>A4規格<2〗〇x297公釐） n n .^1 n n n I · I ^1 1 ^1 n 1 f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 13 469480 A7 B7__ 五、發明說明（U) 換成在真空中對擺放台上的玻璃基板G進行蝕刻處理的蝕 刻處理室。蝕刻處理室内，可以通入規定的蝕刻氣體，或 附加高頻電場，因此形成電漿，藉此，對玻璃基板G規定 的膜按照顯影圖形進行蝕刻* 塗敷•顯影工序用輔助傳送通道70也經由暫時保存 玻璃基板G的中轉站12與主傳送通道1〇相連。塗敷、顯影 工序用輔助傳送通道70—側，設有清洗設備71、除去玻璃 基板G周圍邊緣處光阻劑的到片機72、光阻劑塗敷設備73 、顯影處理設備74。塗敷、顯影工序用輔助傳送通道另一 侧，裝有加熱處理設備和冷卻處理設備上下分層設置的加 熱處理 '冷卻設備75，分上下兩層設置的加熱處理設備76 ，黏著處理設備和冷卻設備上下分層設置的黏著處理、冷 卻設備77。另外’塗敷、顯影工序用輔助傳送通道70上還 設有在中轉站與各處理設備之間傳送玻璃基板G的可移動 輔助傳送裝置70a»輔助傳送裝置70a與第4圖所示主傳送 裝置11結構大略相同。 介面部30中，傳送玻璃基板G用傳送通道31位於與主 傳送通道基本垂直的方向上。此傳送通道31經由暫時保存 玻璃基板G的中轉站12與主傳送通道1〇連接。中轉站12的 兩側’有擺放暫存基板箱的擺放台32。另外，在主傳送通 道10上’裝有在相鄰的曝光裝置2之間搬入搬出玻璃基板 G的傳送裝置33。傳送裝置33與第4圊所示主傳送裝置u 結構大略相同。在介面部3〇兩端，可以增設結構相同的介 面部30。 本紙張尺度適財關i^^NS)A4規格咖x 297公爱） I— n n el n 1· n Is n I XI mi A— I ϋ ϋ t n n I 1« 9 • i 、 > · 我-— <靖先w讀背面之注意事項再填寫本I) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^ 14 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明說明（12> 下面’介紹由上述各部分組成的處理系統的處理流程 〇 從搬出入裝置20的基板箱C中，被運至傳送裝置22的 玻璃基板G被傳給主傳送通道1〇上的主傳送裝置11。主傳 送裝置11經由中轉站12把該玻璃基板G傳給剝離、清洗工 序用輔助傳送通道40上的輔助傳送裝置40a。輔助傳送裝 置40a把此玻璃基板G運入擦片機41、用擦片機41對其進 行薄膜形成前清洗。 清洗過的玻璃基板G被送到輔助傳送裝置40a。輔助 傳送裝置40a經由中轉站12將此玻璃基板G傳給主傳送通 道10上的主傳送裝置11。主傳送裝置Η經由中轉站丨2再把 此玻璃基板G傳送給成骐工序用輔助傳送通道50上的輔助 傳送裝置50a。輔助傳送裝置50a把此玻璃基板G搬入成膜 設備51。然後，在成膜設備51中形成薄膜。’ 形成薄膜後的玻璃基板G再傳給輔助傳送裝置5〇a。 輔助傳送裝置50a經過中轉站12把玻璃基板G傳給主傳送 通道10上的主傳送裝置11。主傳送裝置Η把此玻璃基板G 經由中轉站傳給塗敷、顯影工序用輔助傳送通道7〇上的輔 助傳送裝置70a。玻璃基板G用清洗設備71擦片清洗並在 加熱、冷卻設備75的加熱處理設備中加熱乾燥後，在冷卻 設備中冷卻。之後，為提高光阻劑的定影，用黏著處理、 冷卻設備77上層的黏著處理設備進行除水處理（Hmds處 理）’冷卻設備冷卻後，在光阻劑塗敷設備73處塗光阻劑 ，再用刮片機72除去玻璃基板(3周圍多餘的光阻劑*之後 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x297公爱） -------------裝 « If n t— 訂.1 n n I 線 <請先M讀背面之注意事項再填寫本頁) 15 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 4 6 9 4 8 0 at _____B7_____ 五、發明說明（〗3> ，在其中一台加熱處理設備76内進行預乾燥處理，再在任 意一台加熱處理設備下層的冷卻設備中冷卻。 上述塗完先阻劑的玻璃基板G經過中轉站12從輔助傳 送裝置7〇a傳送到主傳送通道10的主傳送裝置丨丨。之後， 玻璃基板G在主傳送裝置口上經由介面部30被傳送到曝光 裝置2’在那裡曝光成規定的圖形。然後，玻璃基板〇再 次經由介面部30傳送給主傳送裝置11。 被曝光的玻璃基板G經由中轉站12從主傳送裝置11向 塗敷 '顯影工序的輔助傳送通道70的輔助傳送裝置7〇a傳 送。並利用顯影處理設備74進行顯影，形成規定的電路圖 形。顯影處理過的玻璃基板G經加熱處理設偫進行乾燥處 理後，採用冷卻設備進行冷卻。 經上述顯影處理的玻璃基板G經由中轉站〗2從輔助傳 送裝置70a傳送到主傳送通道1〇的主傳送裝置丨丨。主傳送 裝置11經由中轉站12將該玻璃基板G傳送到蝕刻工序的輔 助傳送通道60的輔助傳送裝置6〇a»輔助傳送裝置60a將該 玻璃基板G傳送給姓刻設備61 ·然後，利用轻刻設備61進 行姓刻處理。 經過上述蝕刻處理的玻璃基板〇再次被傳送給輔助傳 送裝置60a。輔助傳送裝置6〇a經由中轉站12把玻璃基板G 傳送到主傳送通道10的主傳送裝置11〇玄傳送裝置丨丨經過 中轉站12將該玻璃基板G傳送給剝離、清洗工序的輔助傳 送通道40的輔助傳送裝置40ae輔助傳送裝置4〇a把該玻璃 基板G傳送給灰化裝置42之後，利用灰化裝置42進行剝離 ί請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁>

-J 本紙張尺度朝中國國家標準（CNS)A4規格⑵〇 X 297公釐_)_

' I I 1 I I I I ^ *1111111 1( — — — —— - I --- - — II - I - III _ ! _ I 16 經濟部智.€財產局負工消費合作社印絮 Α7 一 —__Β7__ 五、發明說明（Μ ) 處理6 重複上述處理的次數與構成TFT陣列的膜層數相同》 之後，該玻璃基板G被從主傳送裝置1丨傳送給搬出入裝置20 ，傳送給基板箱C·在這種結構方式的處理系統1中，在擴 大生產能力時，最好是沿著各輔助傳送通道只增設處理設 備需要的部分設備》因此，不會發生像習知那樣在擴大生 產能力時停機待工的問題，設備投資效率非常高。並且， 對於通用處理部分按每個輔助傳送通道分別增設設備，所 以可防止進行不同藥液處理時由處理設備之間的藥液相互 干擾導致的問題。在此基礎上，對於主傳送通道，輔助傳 送通道按處理順序排列。因此，可提高整個系統的傳送效 率- 第6囷為與本發明有關的其它實施形態的處理系統平 面圈。 如第6圊所示，在該處理系統中，主傳送通道丨丨的兩 側，也設置作為處理部分之各種設僙。在該情況下，作為 處理設備設置與位於相鄰輔助傳送通道上的同一處理設備 ，例如，分別在剝離、清洗工序用輔助傳送通道4〇相鄰的 主傳送通道丨1兩側’配置了擦片機41、灰化裝置42，在成 膜工序用輔助傳送通道5〇相鄰的主傳送通道η兩侧，配置 了成膜設備51 ,在蝕刻工序用輔助傳送通道6〇相鄰的主傳 送通道11兩侧，配置了蝕刻設備6丨，在塗敷、顯影工序用 輔助傳送通道70相鄰主傳送通道丨〗兩侧，配置了光阻劑塗 敷設備73和顯影處理設備74等。這樣，可更高密度地配 !!1 裝.I! I t I I 訂.！ •線 (請先閲讀背面之注*事項再填寫本頁)

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-—S 五、發明說明（15) 處理設備"處理設備最初配置在該傳送通道〗】上，後來， 將其配置在輔助傳送通道上，進而可進一步提高増設效率 0 此外，在該處理工序也向與輔助傳送通道約略正交的 方向增設了傳送通道和處理設俄。例如，向與塗敷、顯影 工序的輔助傳送通道70正交的方向延長設置了輔助傳送通 道70，同時在其兩側配置了光阻劑塗敷設備73和顯影處理 設備74等。這樣可更密地配置處理設備β並且，將延長設 置的輔助傳送通道70連接到介面部30，藉此，可提高傳送 此力。傳送通道為雙通道’因此當通道發生故障時，可作 為迂迴通道使用* 而且，在該處理系統中’還可將主傳送通道η一側的 輔助傳送通道40〜70上的輔助傳送裝置4〇a〜7〇a作為全程 傳送機械手’將另一側的輔助傳送通道4〇〜47上的輔助傳 送裝置40a〜70a作為分段傳送機械手來增設，所以既具有 增sx靈’ΐ•性，又能控制成本增加β於此所謂的全程傳送機 械手是指在_條輔助傳送通道上I台傳送裝置來回移動， 在處理設備之間進行玻璃基板(3的傳送。而分段傳送機械 手指的是通過中轉站將一條輔助傳送通道分成幾個輔助傳 送通道，各個的傳送裝置分別在分段的各輔助傳送通道上 移動’在處理設備之間進行玻璃基板G的傳送。 第7圖為在本發明的其他實施形態的處理系統的平面 圖。 如第7圖所示，在此，處理系統沿著各輔助傳送通道 I n l I ·1 ί n n n ^ IT l> I » n ^ 1 if ^ I 一_^· 1· 1 ^ n n 1· t ·. * - . * ( (請先Mtt背面之注意事項再填巧本頁)

J 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A? —----—,—si_______ 五、發明說明（i〇 配置諸如蝕刻設備61、成膜設備51、擦片機41及灰化裝置 42等處理設備。這樣每個傳送通道都能分別進行連續的處 理，例如，對於具有幾層的玻璃基板G各層可以與各輔助 傳送通道相對應，控制、條件的設定等變得容易。 第8圈為表示將本發明用於塗敷、顯影處理工序時的 實施方式的平面圖。 如第8圊所示，在該處理工序9〇的大致中心處，呈直 線形設置了主傳送通道91。為將玻璃基板G搬入處理系統 ’同時再搬出處理系統，在該主傳送通道91的一端，設置 搬出入裝置92，在主傳送通道91的另一端，設置了為與曝 光設備93之間進行玻璃基板g傳送的介面部94。而且，在 主傳送通道91的兩側，從主傳送通道91的一端起設置了光 阻劑塗敷工序的輔助傳送通道95、顯影工序的輔助傳送通 道96及顯影工序的輔助傳送通道97，使其與主傳送通道91 約略正交。並在各輔助傳送通道95〜97上設置了必要的處 理設備。 第10圖為表示已設備化的主傳送通道的其他實例圈， (a)為斜視圖，（b)為側面圈。 如該等圖所示，在設備18的下部，經由形成多個透孔 的多孔板98，形成了回風口 99。回風口 99利用圓上未示的 排氣裝置進行排氣，或者再利用在設備内形成垂流空氣流 〇 第11圖為表示中轉站12的變形實例圖。 如第11圊所示，該中轉站12被配置在與主傳送通道11 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS)A4規格（2]0 X 297公釐） 19 I — ml — — — ! i — — — — — — — — — — — ί靖先¾¾背面之注意事項再填寫本I > A7 B7 169480 五、發明說明（17) 上的輔助傳送通道40〜70交叉位置上，利用未圊示的轉動 裝置，在輔助傳送通道40〜70之間進行傳送玻璃基板(3時 ，使玻璃基板旋轉大约90度。這樣，在主傳送通道丨丨和輔 助傳送通道40〜70上可以按同一方向傳送玻璃基板G。 第12圊為可設置在主傳送通道或輔助傳送通道上任何 一個通道上的存放裝置的平面圖，第13囷為其側面囫。 如該等圆所示，存放裝置118在其中央部設置了縱向 配置的走廊形狀的傳送通道133，在該傳送通道133的兩側 ’為存放玻璃基板G，設置了多個基板箱。 例如，在傳送通道133的一側配置了幾台暫時存放玻 璃基板G的第1基板箱134〜139，如配置了相當於玻璃基 板G的處理膜層數量的基板箱，即，於此並排設置了6台 。並且’在隔著傳送通道133的對面也同樣設置了暫時存 放玻璃基板G的第2基板箱140〜145，例如，相當於玻璃 基板G的處理膜層數量，即，於此設置了6台。如後文詳 述’這種第1基板箱134〜139與第2基板箱140〜145作為卸 載和裝載用可以互相切換使用。 各第1基板箱134〜139及第2基板箱140〜145，如第μ 圖所示，由在傳送通道133侧具有基板搬出入口的箱體146 構成。從該箱體146的傳送通道133側看，在左右内壁上設 有用以把玻璃基板G通入箱體146内進行存放的引導構件 147。引導構件147為左右一組為一對，箱體146裝了若干 對’如有20對、這樣’可以存放玻璃基板G2〇張。這裡規 定批量單位為20張。但是，基板箱的存放張數不—定與規 -I J H ϋ ^ n ϋ It n tf n n · . . -.. (請先M讀背面之注意事項冉填寫本！ 訂· •線· 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 20 A7 -^ --—__B7 五、發明說明（l8) 定的批量單位一致。 此外，在第I基板箱134〜139中，例如，第1基板箱134 存放第一層膜處理的玻璃基板G，第1基板箱135存放為進 行第2 一層膜處理的玻璃基板G’第.1基板箱136為存放第 二層膜處理的玻璃基板G’第1基板箱137為存放第四層膜 處理的玻璃基板G，第1基板箱138為存放第五層膜處理的 玻璃基板G，第1基板箱139為存放第六層膜處理的玻璃基 板G。同樣，在第2基板箱140〜145中，第2基板箱140為 存放第一層膜處理的玻璃基板G，第2基板箱141為存放第 二層膜處理的玻璃基板G’第2基板箱142為存放第三層膜 處理的玻璃基板G，第2基板箱143為存放第四層膜處理的 玻璃基板G，第2基板箱144為存放第五層膜處理的玻璃基 板G’第2基板箱145為存放第六層膜處理的玻璃基板G» 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且’機械手傳送裝置148在傳送通道133上移動。該 傳送裝置148有一對機械手149和149，利用這一對機械手 149和149夾持玻瑀基板G。這一對機械手149和149利用未 圖示的驅動裝置，沿著傳送通道133進行移動，同時上下 升降，還可在平而内轉動，並能前後移動。這樣，機械手 在兩側的各第1基板箱134〜139、第2基板箱140〜145之間 進行玻璃基板G的傳送〃另外，傳送裝置148也可以如是 構成。即將這一對機械手149和149分成上下2組或3組以上 〇 例如 > 在傳送裝置148上設置了讀出裝置，該裝置是 為讀出和識別在玻璃基板G上形成的表示現正在處理中的 21 本紙張尺度適用中固國家標準<CNS〉A4規格（2】〇 X 297公爱） 469480 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印5取 五、發明說明（19) 膜層的資訊。將該讀出裝置150設置在傳送裝置148上，藉 此，設備側接收玻璃基板G後，可以馬上識別其基板G現 處理過程中的膜層’並能迅速且順利地將玻璃基板G放入 基板箱内。但是’當由設備側傳送過來的各個玻璃基板G 的膜層資訊’或者玻璃基板G被設備側規則地傳送過來時 ，也就是說’按預先規定的順序傳送過來時，不一定需要 這種讀出裝置150。此外*存放裝置118把得到的這種膜層 資訊作為膜層資訊使用，根據該膜層資訊把玻璃基板G存 放到相應的基板箱内，同時’圈上末示的存儲設備存儲下 該膜層資訊’在從基板箱側向設備側反送玻璃基板G時， 利用存儲的膜層資訊按由設備側向存放裝直118傳送過來 的順序把玻璃基板G送往設備側。這方面内容將在下面說 明中詳細論述。 下面就該構成方式的存放裝置1丨8加以論述。 首先，一旦玻璃基板G從設備側被傳送到存放裝置π 8 ’則傳送裝置148便收下此玻璃基板G，利用讀出裝置150 識別此玻璃基板G現在正在處理的膜層。然後，傳送裝置 148把此玻璃基板G送往與識別的膜層相對應的第丨基板箱 134〜139 ^例如’如果識別的膜層為第三層的玻璃基板〇 ’那麼，傳送裝置148就將該玻璃基板G送到第1基板箱136 存放。 反覆上述的存放動作，若將20張玻璃基板G分別存放 到各第1基板箱134〜139中，則按膜層連續地對玻璃基板 G進行光阻劑塗敷處理，然後，送到曝光設備在曝光 (猜先Mit背面之it意事項再填寫本1*0 -^1 «I Mat i I / i -言 線Ί 本紙張尺度適用中國國.家標準（CNS)A4規格<21〇 χ 297公芨） 22 經 濟 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 A7 __B7__ 五、發明說明（2〇) 設備2上根據送過來的玻璃基板G的膜層依次交換中間板 ’進行曝光。這些玻璃基板G經顯影處理後被送往存放裝 置118。另外在這期間，由設備侧送往存放裝置1丨8的玻璃 基板G以與第1基板箱的同樣動作被依次存放到相·應的第2 基板箱140〜145。 由第1基板箱134〜139向曝光裝置2傳送，處理過的玻 璃基板G被分別依次存放到原來的各第1基板箱134〜139中 。並且，當20張玻璃基板G已被分別存放到所有的各第1基 板箱134〜139時’傳送裝置148按從設備側向存放裝 傳送過來的玻璃基板G的順序而設備側反送這些玻璃基板 G »另一方面’在此期間，第2基板箱140〜145以與第1基 板箱同樣的動作按不同膜層對玻璃基板G進行光阻劑塗敷 處理’再送到曝光裝置2進行曝光處理，待顯影處理後， 分別反送到原來的各第2基板箱140〜145。 當第1基板箱134-13 9如上述那樣正在進行裝載工作時 ’第2基板箱140〜145進行卸載工作，與其相反，當第2基 板箱140〜145正在進行裝載工作時，第！基板箱134〜139 進行卸載工作，下面是反覆進行這樣的工作。 於此，例如，將正在處理第一層骐過程中的玻璃基板 G設為A ’將正在處理第二層膜過程中的玻璃基板〇設為b ’將正在處理第三層膜過程中的玻璃基板G設為c，將正 在處理第四層膜過程中的玻璃基板G設為D，將正在處理 第五層膜過fe中的玻璃基板G設為E，將正在處理第6廣膜 過程中的玻璃基板G設為F，在此添加的A〜F數字就是表 本紙張尺度適用中國國家棵準（CNS)A4規格（210*297公釐） ---------— — I— ----—11— --I — I I <請先閱讀背面之注意事項再填寫本Ϊ 23 9 48 0

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 示其膜層為第幾層膜。 如此，例如’從設備側按A丨、則、Β2、α、C2、卬 、A2、A3、B3、C3、D2、D3、m、…、n、⑴、^、 …的順序向存放裝置傳送。而從基板箱向曝光裝置2的傳 送是按 Al、A2、…BI、B2.....Q、C2、C3.....Dl、 02.....F1、F2.....G丨順序進行。從存放裝置向設備 侧的搬出與從設備側向存放裝置丨丨8的搬入順序相同是 以 Al、BI、B2、a、C2、〇卜 A2、A3、B3、C3 ' D2、⑴ 、D4.....F卜G卜F2·..的順序進行。 如果像上述那樣採用這種實施方式，可給曝光裝置2 連續地提供同一膜層的玻璃基板G。因此，曝光裝置2每2 張玻瑀基板交換一次中間板即可，可縮短曝光時間。還可 以在曝光裝置2與設備側之間插入具有這種大容量緩衝功 能的存放裝置118’以減少因該等設備生產節拍的變化而 導致的時間損失β 由於該存放裝置118可容納多張玻璃基板G，當TFT陣 列形成工序的某處發生異常時，可作為基板退回用的暫存 裝置使用。例如，在設備某處發生問題時，其發生問題的 處理設備機組停止生產而其餘處理設備機組繼續生產。並 且’將發生故障的處理設備機组處理過的玻璃基板暫時存 放到該存放裝置118内。 下面’就本項發明的其他實施形態加以說明。 關於其他實施形態如第15圖所示，蝕刻工序的輔助傳 送通道60和成膜工序的輔助傳送通道5〇的各個傳送通道被 本紙張尺度刺中國國豕標準（CNS)A4規格⑵ο x 297公釐） 24 I ---—— — ·ί_·-—·-ι I β !1!!_ ^ <請先Μ讀背面之注意事項再填寫本f ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明（22) 設定成負壓環境。這是因為蝕刻工序或成膜工序的處理一 般情況下都是在負壓環境下進行處理，傳送系統也因設定 成負壓環境，使玻璃基板G從大氣壓到負壓的時間影響處 理能力。由於這種構成方式，主傳送裝置Π被設定成大氣 環境或正壓環境，所以，在上述的輔助傳送通道50、60傳 送基板時，需要接通大氣及減壓。

接通大氣及減壓的系統如第16圖所示，在主傳送裝置 11和輔助傳送裝置50、60之間設置大氣減壓室200。在該 大氣減壓室200的主傳送裝置1〗及輔助傳送通道50、60側 ，設有分別設置的可移動的開關門201、202和為保持開關 門201、202與大氣減壓室200密封的〇形環〇。此外，在大 氣減壓室200設置了可容納多張玻璃基板g的貨箱i2a的擺 放台203。還在大氣減壓室200的上方位置備有向大氣減壓 室200内通入規定氣體的通氣口 204，例如，通入惰性氣體 N2。該通氣口 204經由開關閥與氣體供給裝置2〇6連接D 在大氣減壓室200的下方位置，備有對在該大氣減壓 室200室内進行排氣的排氣口 210，該排氣口 21〇經由壓力 計211和開關閥212連接到真空裝置213上。 若說明上述構成方式的大氣減壓室2〇〇的動作，則首 先，在開放開關門201的狀態下，採用主傳送裝置1丨給貨 箱12a傳過來規定張數的玻璃基板g。這時，開關門202關 著。 之後，關上開關門201，打開開關閥212，開動真空裝 置213。壓力計上顯示達到規定的壓力（第丨壓力），並抽完 本紙張又度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公;ί ) — —— — — — — — — — — — — 48^ ·1111111 ·1111111» <請先鬩讀背面之注意事項再填寫本買) 25 469480 A7 _B7__ **1«·«··^___ 五、發明說明（23) 真空後’壓力南於上述的第1壓力，為達到與輔助傳送通 道50、60的同等壓力’打開開關閥205，由氣艘供給裝置2〇6 通入N2。然後，打開間關門202，從輔助傳送通道5〇、6〇 傳出玻璃基板G。 藉由上述構成’可在負壓的環境下進行蝕刻工序的輔 助傳送通道60和成膜工序的辅助傳送通道5〇的傳送，且向 各自的處理室的存取不需要暫時減壓，所以可提高處理能 力。還由於是在負壓的環境下傳送玻璃基板G，因此，可 抑制黏附微粒，提高良率。 就本發明的其他實施形態加以說明。 關於除此之外的實施力式如第17圈所示，在剝離、清 洗工序的輔助傳送通道4〇、成膜工序的輔助傳送通道5〇、 蝕蝕工序的輔助傳送通道60、塗敷、顯影工序的輔助傳送 通道70的右側’備有第2主傳送裝置220，設置了使其環境 保持負壓的負壓傳送通道221。 在該負壓傳送通道221的剝離、清洗工序的輔助傳送 通道40、成膜工序的輔助傳送通道5〇、蝕刻工序的輔助傳 送通道60、塗敷、顯影工序的輔助傳送通道7〇的各自傳送 經濟部智慧財產局員工消費合作社印- (請先閱讀背面之注4事項再填寫本買> 通道所對應的位置上，如第18圏所示，設有擺放基板箱222 的移載機223，該基板箱的結構可一張一張地存放玻璃基 板G 〇 這種移載機223是如是構成的。即，可以擺放多個上 述的基板箱222，例如，在垂直方向上層晏起來擺放2個。 該等基板箱222可分別獨立利用主傳送裝置22〇進行傳

經濟部智慧財產局員工消f合作社印製 A7 B7__ 五、發明說明（24) 基板箱222如第18圖所示’具有打開單側的開口部， 其内部備有夾持玻璃基板G的載放構件225。 由於負壓傳送通道221的環境壓力被設定成與成膜工 序的輔助傳送通道50、蝕刻工序的輔助傳送通道60相同壓 力，成膜工序的輔助傳送通道50、蚀刻工序的輔助傳送通 道60的輔助傳送裝置50a、60a可對裝在負壓傳送通道221 上的基板箱直接進行存取*但是，由於剥離、清洗工序的 輔助傳送通道40、塗敷、顯影工序的輔助傳送通道7〇的各 傳送通道被設定成與負壓傳送通道221的不同壓力（如，大 氣壓或高於正壓）’所以剝離、清洗工序的輔助傳送通道40 、塗敷、顯影工序的輔助傳送通道70的輔助傳送裝置40a 、70a不能直接存取》為了可以直接存取，利用第19圊對 第17圖中的X部分進行詳細的說明。 在剝離、清洗工序的輔助傳送通道40、塗敷、顯影工 序的輔助傳送通道70的負壓傳送通道221侧，設置了具有 開口部250的隔斷25卜為開關此開口部250,裝有開關板252 〇 在該開關板上設有氣體喷出口 253和排氣口 254 β氣體 喷出口 253經由開關板252連接規定氣體供給裝置，如，連 接供給惰性氣體的Ν2氣體供給裝置。經由開關閥257將真 空裝置258連接到排氣口 254。在隔斷251上分別設有使開 關板252與基板箱222接觸時保持密封的Ο型環0。 若對如是構成方式的系統進行說明，則首先利用輔助 傳送通道60的輔助傳送裝置60a，將經蝕刻處理過的玻璃 本紙張尺度適用中固國家標準（CNS)A4規格（210*297公* > 27 — — — — — — — — — 麵 — l_ — — — — · — —1111·· <請先《讀背面之注意事項再填寫本頁> A7 469 48 0 B7 五、發明說明（25) 基板G傳入基板箱222，該基板箱設置在蝕刻工序的輔助 傳送通道60側的移載機223上。 然後’其移載機223，利用負壓傳送通道22〗的主傳送 裝置220將基板箱傳送給下一道工序，如傳送到剝離、清 洗工序的輔助傳送通道40的移載機223上擺放。並且，被 傳送的基板箱222採用未囷示的按壓力法把開口部按壓在 隔斷251上，利用隔斷251的Ο型環〇保持密封。此時，開 關板252被關閉著。 爾後’打開開關板252，藉由開動氣體供給裝置256， 向基板箱222内通入N2。藉由通入N2，使基板箱222内設 定成與剝離 '清洗工序的輔助傳送通道40基本相同的環境 壓力後打開開關板252，藉由剝離、清洗工序的輔助傳送 通道40的辅助傳送通道40a將玻璃基板G從基板箱中移出 〇 反過來，從剝離、清洗工序的輔助傳送通道40將玻璃 基板G傳送給蝕刻系統的輔助傳送通道60時，不言而喻， 採用真空裝置258將基板箱222内抽成規定的壓力後再進行 傳送。 由於如是的構成方式，可以在負壓的環境下把玻璃基 板G —張一張地傳送到下道工序，並能防止黏附微粒，可 以提高良率。能將處理過的玻璃基板G—張張地傳送到下 一道工序，無需等待其他末處理的基板，從而提高處理能 力。 負壓系統和其它按大氣壓或正壓設定的系統混在一起 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2]〇 χ 297公爱） I n n n ·1 a— I I t— I - 1 I n I 一-A · t 1 n n n I (請先M讀背面之注意事項再填s(本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 28 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 η A7 B7 五、發明說明（26) ’當然傳送系統處於負壓系統與負壓系統之間比較理想。 本發明並不限於上述實施形態，在該技術思想的範圍 内，可進行各種變化。 例如，本發明已以TFT陣列破璃基板的處理系統為例 ’加以閣述》自然也適用於彩色濾膜乃至半導體晶圓等的 其它基板處理系統。如上所述，本發明由以下部分組成： 主傳送通道；與主傳送通道略成正交的若干條輔助傳 送通道；沿各輔助傳送通道設置的對分送到各輔助傳送通 道上的被處理體，進行規定處理的處理設備部分；在主傳 送通道上設置的可移動的、在與各補助傳送通路之間傳送 被處理體的主傳送裝置；在各輔助傳送通道上設曼的可移 動的、在各輔助傳送通道上設置的處理設備和主傳送通道 之間’傳送被處理體的輔助傳送裝置β必要時，可提高所 需規模的處理能力。並可避免不同處理設備之間的藥液相 互影響，使整個系統配置實現高密度化。 本發明由以下部分組成：主傳送通道；與主傳送通道 略成正交的若干條輔助傳送通道；沿各輔助傳送通道設置 的、對主傳送通道分送到各輔助傳送通道上的被處理 體’按處理順序進行規定處理的處理設備部分：在主傳送 通道上設置的可移動的、在與各輔助傳送通道之間傳送被 處理體的主傳送裝置；在各輔助傳送通道上設置的可移動 的、在各輔助傳送通道上設置的處理設備及主傳送通道之 間’傳送被處理體的輔助傳送裝置β必要時，可提高所需 規模的處理能力。並能防止進行不同處理的處理設備之間 --------------裝--- {請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 29 469480 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A7 --------- B7 五、發明說明（27 ) 的藥液相互影饗，使整個系統配置實現高密度化，提高整 個系統的傳送效率。 本發明由以下部分組成：主傳送通道；與主傳送通道 略成正交的若干條輔助通道；沿各輔助傳送通道設置的對 被處理體進行各種不同處理的處理設備部分；在主傳送通 道上設置的可移動的、在與各辅助傳送通道之間，傳送被 處理逋的主傳送裝置；在各輔助傳送通道上設置的可移動 的、在各輔助傳送通道上設置的處理設備和主傳送通道之 間，傳送被處理髖的輔助傳送裝置。必要時，可提高所需 規模的處理能力。另外，藉由採用各層分開和專用輔助傳 送通道對策，能滿足多層被處理體的要求，並且控制和條 件設定簡單’使整個系統配置實現高密度化。 本發明由以下部分構成：主傳送通道；在主傳送通道 的一端，與該玄傳送通道略成正交的方向上，可延長增設 將被處理體搬入、搬出系統的搬出入裝置；在主傳送通道 的另一端和主傳送通道的兩側，在與主傳送通道略成正交 的方向上’可延長增設的若干條輔助傳送通道：沿各輔助 傳送通道設置的對被處理體進行規定處理的處理設備；在 主傳送通道上設置的可移動的、在搬出入裝置之間，傳送 被處理想的主傳送裝置；在各輔助傳送通道上設置的可移 動的、在各輔助傳送通道上設置的處理設備及主傳送通道 之間，傳送被處理體的輔助傳送裝置。必要時，可提高所 需規模的處理能力。並且無需改變系統核心的主傳送通道 ，便可增設各部分設備，進而使整個系統實現高密度化。 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2J〇x297公釐） !—！！--- i — — —— — — — — — — ^ (請先Μ讀背面之注惠事項再填t頁) Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（28〉 本發明由以下部分構成：主傳送通道；在主傳送通道 的兩侧’與其略成正交的輔助傳送通道；沿各輔助傳送通 道設置的、對被處理體進行規定處理的處理設備部分：在 主傳送通道上設置的可移動的、在與主傳送通道之間，傳 送被處理體的主傳送裝置；在主傳送通道—例的輔助傳送 通道上設置的可移動的、在各輔助傳送通道上設置的處理 設備和主傳送通道之間’傳送被處理體的全程傳送機械手 式輔助傳送裝置；在主傳送通道另一側的輔助傳送通道上 設置的可移動的、在各輔助傳送通道設置的處理設備及主 傳送通道之間’傳送被處理想的分段傳送機械手式輔助傳 送裝置。必要時’可提高所需規模的處理能力，並且增設 靈活，降低成本，使整個系統布置實現高密度化。 本發明至少在主傳送通道的一側，能設置與就近的輔 助傳送通道上配置的處理設備進行相同處理的處理設備， 因此整個系統可進行高密度布置。 本發明在與輔助傳送通道略成正交的方向上，可增設 傳送通道和處理設備，使整個系統的配置實現高密度化。 根據本發明，上述增設的傳送通道和處理設備，能與 相鄰的輔助傳送通道連接，從而提高傳送效率。 本發明在局部或整個主傳送通道上設置設備，使主傳 送通道區域形成垂直層流，防止微粒在主傳送通道内浮游 〇 本發明在局部或整個主傳送通道上設置設備，在主傳 送通道的範圍内回風，使設備内形成強有力的垂直層流β 本紙張尺度適用中圉國家標準（CNS)A4規格（210x297公* ) 31 (請先Μίι背面之注意事W再填寫本I) 裝 訂 •線 A7 4 6 9 4 8 0 B7___ 五、發明說明（29 ) 本發明利用上述回風設備，在該系統内可循環利用回 風’從而降低成本。 本發明在主傳送通道和輔助傳送通道的連接部位，設 置暫時存放被處理體的中轉站，可使傳送裝置處於無待機 狀態。 根據本發明’上述中轉站能將存放的被處理體大致旋 轉90度’因此，處理裝置無需旋轉被處理體，在主傳送通 道和輔助傳送通道上，便可按同一方向傳送被處理體。 本發明在主傳送通道上’可配置暫時存放被處理體的 中轉站，在傳送裝置之外，存放主傳送通道上處於待機狀 態的被處理體。 [圊式之簡單說明] 第1圖本發明一實施形態之形成TFT陣列的處理系統 平面圖。 第2圖為第1囷所示的中轉站構成斜視圖。 第3圊為第1圖所示的主傳送通道構成圓，（a)是斜視 圖，（b)是側面圖。 第4圖為第1圖所示的主傳送通道裝置一例的斜視圖。 第5圖為第1圖所示的灰化裝置—例的水平斷面圖。 第6圖表示本發明其它實施形態的處理系統平面圓。 第7圖表示本發明其它實施形態的處理系統平向圈β 第8圖表不塗敷、顯影處理系統採用本發明的平面圈 〇 第9圖為第3圖所示的主傳送通道其它例的斜視圖。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 >；__297公^ - -----n^i. -----— 11^-----1!«^^ <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 32 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ____B7________ 五、發明說明（3〇) 第10圖為第3圓所示的主傳送通道的其它例圖，（a)是 斜視圊，（b)側面圖。 第U圖表示中轉站的變換例斜視圈。 第12圖為第1圊所示的在主傳送通道或輔助傳送通道 上配置的存放裝置平面圖。 第13圖為第12圖中所示的存放裝置側面圖D 第14圖為第12及13囷中所示的基板箱斜視圖。 第15圖表示第1圈的其它實施形態之平面圖。 第16圖表示第15圖的主要部分斷面困。 第17圖表示第15圖的其它實施形態之平面圈。 第18圖表示第17圖的主要部分斷面圖。 第19圖表示第17圖的主要部分斷面圖。 [符號說明） 10…主傳送通道 11…主傳送裝置 40〜70…辅助傳送通道 40a〜70a…輔助傳送通道裝置 41…擦片機 42…灰化裝置 51…成膜設備 61…蝕刻設備 7 3…塗光阻劑機 74…顯影處理設備 本紙張尺度適用中固國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公« > 33 — — III — — — — — — — — ·)11!111 — — — — — — — — — (請先wtft背面之注意事項再填寫本I)

Claims (1)

1. 4 8 0 as B8 年g月7日修正/更止/補充__^ 六、申請專利範圍 第88116533號申請案申請專利範圍修正本 90年8月？曰 1. 一種處理系統，包含：主傳送通道；與主傳送通道略成 正交的若干條輔助傳送通道；沿各輔助傳送通道設置， 且對分送到各輔助傳送通道上的被處理體，進行規定史 理的處理設備；可移動地設置在主傳送通道上’且在與 各輔助傳送通道之間，傳送被處理體的主傳送裝置：及 ，可移動地設置在各輔助傳送通道上，且在各輔助傳送 通道上設置的處理設備和主傳送通道之間，傳送被處理 體的輔助傳送裝置。 2. —種處理系統，包含，·主傳送通道；與主傳送通道略成 正交的若干條輔助傳送通道；沿各輔助傳送通道設置， 且對主傳送通道按處理順序傳送到各輔助傳送通道上 的被處理體’進行規定處理的處理設備；可移動地設置 在主傳送通道上’且在與各輔助傳送通道之間，傳送被 處理體的主傳送通道；及，可移動地設置在各輔助傳送 通道上，且在各輔助傳送通道上設置的處理設備和主傳 送通道之間，傳送被處理體的輔助傳送裝置。 3. —種處理系統，包含：主傳送通道；與主傳送通道略成 正交的若干條輔助傳送通道：沿各輔助傳送通道設置， 且對被處理體進行各種處理的各種處理設備；可移動地 設置在主傳送通道上，且在與各輔助傳送通道之間，傳 送被處理體的主傳送裝置；及，可移動地設置在各輔助 傳送通道，且在各輔助傳送通道上設置的處理設備及主 本紙張尺度逋用中固困家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (靖先閱讀背面之注意事頊再填寫本頁j -訂 i. 1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 34 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 傳送通道之間，傳送被處理體的輔助傳送裝置。 4. 一種處理系統，包含：主傳送通道；在主傳送通道的一 知’與主傳送通道略成正交的方向上，可延長設置，用 以將被處理體搬入、搬出系統的搬出入裝置；在主傳送 通道的另一端及主傳送通道的兩側，在與該主傳送通道 略成正交的方向上，可延長設置的若干條辅助傳送通道 :沿各輔助傳送通道設置，且對被處理體進行規定處理 的處理設備；可移動地設置在主傳送通道上，且在搬出 入裝置和各輔助傳送通道之間，傳送被處理體的主傳送 裝置；及，可移動地設置在各輔助傳送通道上，且在各 輔助傳送通道上設置的處理設備和主傳送通道之間，傳 送被處理體的輔助傳送裝置。 5. -種處理系統’包含：主傳送通道；在主傳送通道的兩 側，與該主傳送通道略成正交的輔助傳送通道；沿各輔 助傳送通道設置，且對被處㈣進行収處㈣處理設 備；可移動地設置在主傳送通道上，且在與輔助傳送通 道之間，傳送被處理體的主傳送裝置；可移動地設置在 主傳送通道-㈣輔助傳送通道上，且在各輔助傳送通 道上設置的處料備和主傳送通道之間，傳送被處理體 的全程傳送機械手式的輔助傳送通道：及，可移動地設 置在主傳送通道的另一側的輔助傳送通道上且在各輔 助傳送通道上設置的處理設傷和主傳送通道之間，傳送 被處理體的分段傳送機械手式輔助傳送裝置。 6.如申請專利範圍第1、2、3 ' 4哎5想祕“油.々认A 5項所記載之處理系統 本紙張尺度適用中國國家標^(CNsJa4規格（210X297公釐 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 -»^1 -I 1 I * 35 ο8 4 9 64 ABCD 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 "~'— ，至少在主傳送通道的一側，設置與配置在相鄰輔助傳 送通道上的處理設備進行相同處理的處理設備。 7·如申請專利範圍第1、2、3、4或5項所記載之處理系統 ’在與輔助傳送通道略成正交的方向上，增設傳送通道 和處理設備。 8*如申請專利範圍第7項所記載之處理系統，上述增設的 傳送通道和處理設備與相鄰的輔助傳送通道連接。 9‘如申請專利範圍第丨、2、3、4或5項所記載之處理系統 ，更具有：設在局部或整個主傳送通道上，使主傳送通 道範圍形成垂直層流之設備。 10·如申請專利範圍第9項所記载之處理系統，更具有：設 在局部或整個主傳送通道上’由主傳送通道上之領域， 吸引氣體之回風設備。 11. 如申請專利範圍第10項所記載之處理系統，利用上述回 風吸引之氣體，在該系統内，循環再利用。 12. 如申請專利範圍第i、2、3 ' 4或5項所記載之處理系統 ’在主傳送通道和輔助傳送通道的連接部位，設置用以 暫時存放被處理體的中轉站。 13. 如申s奮專利被圍第12項所記載之處理系統，該中轉站更 設有將存放的被處理體旋轉90度之設備。 14. 如申請專利範圍第1、2、3、4或5項所記載之處理系統 ，在主傳送通道上，設置用以暫時存放被處理體的中轉 站。 15. —種處理系統’包含：主傳送通道：與主傳送通道略成 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) In I I --- » -I 訂 &.—. 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS ) A4現格（210X297公釐） 36 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 AS BS C8 ----------D8 六、申請專利範圍 正交的若干條輔助傳送通道；沿各輔助傳送通道設置， 且對分送到各輔助傳送通道上的被處理體，進行規定處 理的處理設備：可移動地設置在主傳送通道上，且在與 各輔助傳送通道之間，傳送被處理體的主傳送裝置；可 移動地設置在各輔助傳送通道，且在各輔助傳送通道上 叹置的處理設備和主傳送通道之間，傳送被處理體的輔 助傳送裝置；及，在若干條輔助傳送通道内規定的辅助 傳送通道之間，負壓傳送被處理趙的負壓傳送通道。 16.如申請專利範圍第丨5項所記載之處理系統，至少在主傳 送通道的一側，設置與配置在相鄰輔助傳送通道上的處 理設備進行相同處理的處理設備β 17·如申請專利範圍第15或16項所記載之處理系統，在與輔 助傳送通道略成正交的方向上，增設傳送通道及處理設 備。 18.如申請專利範圍第丨7項所記載之處理系統，上述增設的 傳送通道及處理設備’與相鄰的輔助傳送通道連接。 19_如申請專利範圍第μ或丨6項所記載之處理系統，更具有 :設在局部或整個主傳送通道上，使主傳送通道領域形 成垂直層流。 20. 如申請專利範圍第19項所記載之處理系統，更具有：設 在局部或整個主傳送通道上’由該主傳送通道之領域吸 引氣體之回風設備。 21. 如申請專利範圍第20項所記載之處理系統，利用上述回 風設備所吸引之氣體，在該系統内再利用。 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） ---------^------1Τ------0 (請先閱讀背面之注意事項、再填寫本頁) 37 469480 μ Oo C8 D8 六、申請專利範圍 22. 如申請專利範圍第15或16項所記載之處理系統，在主傳 送通道和輔助傳送通道的連接部位，設置暫時存放被處 理體的中轉站。 23. 如申請專利範圍第22項所記載之處理系統，上述中轉站 更設有將存放的被處理體旋轉90度之設借。 24. 如申請專利範圍第15或16項所記載之處理系統，在主傳 送通道上，設置暫時存放被處理體的中轉站。 25. 如申請專利範圍第15或16項所記載之處理系統，該負壓 傳送通道能傳送被處理體的基板箱，該被處理體可一張 一張地存放於該基板箱。 26. 如申請專利範圍第15或16項所記載之處理系統，上述若 干條輔助傳送通道中之至少一個輔助傳送通道，設定成 負壓狀態。 27. 如申請專利範圍第22項所記載之處理系統，上述若干個 中轉站中之至少一個中轉站在結構上，將數張被處理體 同時設定成負壓狀態。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本育) 訂 " 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中_家揉準（CNS )从祕（21()>(；297公着）---- -38 -