TW466337B - Via inspection in optical inspection system - Google Patents

Via inspection in optical inspection system Download PDF

Info

Publication number
TW466337B
TW466337B TW89123397A TW89123397A TW466337B TW 466337 B TW466337 B TW 466337B TW 89123397 A TW89123397 A TW 89123397A TW 89123397 A TW89123397 A TW 89123397A TW 466337 B TW466337 B TW 466337B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
diffuser
patent application
item
scope
camera
Prior art date
Application number
TW89123397A
Other languages
English (en)
Inventor
Gary E Frame
Original Assignee
Midas Vision Systems Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Midas Vision Systems Inc filed Critical Midas Vision Systems Inc
Application granted granted Critical
Publication of TW466337B publication Critical patent/TW466337B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95692Patterns showing hole parts, e.g. honeycomb filtering structures

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

46 633 T_ 五、發明說明(l) ' ' "" 發明背景: 本發明係有關於一種光學檢視系統。 光學檢視系統係用以檢視標的物,例如印刷電路板。 這類系統一般包括一照相機以及照射印刷電路板的一光 源。上述照相機係用以產生一電視影像信號,其被處理後 決定印刷電路板檢視及格或檢視不及格。這類系統可包括 _遠心鏡頭。上述遠心鏡頭係設置於照相機及其構件之 間’盡可能與光源一樣寬。許多檢視規則系統已知包括一 般稱為樣板符合(template matching)、像素統計(pixel counting)以及设規則檢視處理(design rule inspect ion processing)。 發明概要: 當利用光學檢視系統檢查連通柱(通過印刷電路板的 孔洞)時,可能產生問題。因為藉由使用照相機捕捉光的 方法’當系統使用具有更大的可視開口’位於週邊上的通 道可能出現遺漏或者僅僅部分通過。此系統提供—種檢視 通道的技術,同時對於照相機可以使用更大的可視開口, 使付檢視過程更迅速。因為具有更少的動作,例如需要照 相機掃描’因此檢視過程更迅速。此系統可省略考慮調整 畸變像差(distortion)過程而處理影像。 根據本發明之一型態,一種光學檢視裝置包括一平 台’其用以於檢視下方支撐一元件;以及一光源,其設置 用以照射上述元件之背面部位。上述檢視裝置亦包括一照 相機,其設置於上述元件之前面部位之上方,並接收穿透
1057-3554-P!F;ahddub.ptd 第5頁 4 6 633 7 五、發明說明(2) 上述元件之光學能直,以及一散光器,設置於上述元件之 月'J面部位之上方,此散光器於散光器之下表面上用以處理 經由照相機產生的影像。 此裝置依此設置排列,因此’元件之影像特徵係自穿 透元件的光產生。此裝置可以用以檢視於印刷電路板内的 通道、陶瓷基底(ceramic substrate)或者具有高外觀比 例通道的通道陣列的基底。此裝置可以使用一準直光源。 散光器可為磨平的玻璃板或具有侵蝕表面的塑膠薄板。上 述裴置亦可包括一處理器,用以處理來自照相機的電視影 像信说’並判定上述元件通過一檢視。 一種光學檢視具有通孔的基底的方法,其包括於檢視 時,設置一散光器於用以支撐一基底的平台之間;利用一 光源照射基底之背面部位,並且於上述散光器之下表面上 產生一影像’處理經由設置於上述基底之前面上方的一照 相機接收的光學能量,其穿透上述基底。 圖式簡單說明: 第1圖係一機械檢視系統之概略圖式,於檢視時,其 具有設置於元件上方的一散光器; ' 第2圖係第1圖之系統輪廓圖式; 第3圖係經由第1圖之系統檢視具有通道的印刷電路 的平面圖式; 第3Α圖係沿著第3圖中的3Α-3Α線形成的剖面囷式. 第4圖係設置於第3圖之PC板上方的散光器夕瓜工 〈干面圖
4 6 633 7--- 五、發明說明(3) 第4A圖係沿著第4圖中的4A-4A線形成的剖面圖式; 第5圖係第4圖之局部放大圖式; 第5A圖係第4A圖中的局部放大圖式; 第6圖係一流程圖式,說明於第1圖之系統中檢視通道 的步驟^ 符號說明: 1 0〜檢視系統; 1 2〜照相機; 1 2 a〜透鏡; 12b〜檢測器; 14〜平台; 15〜基座; 1 6 ~光源; 16’〜準直光源; 1 6a〜光; 17〜準直透鏡; 18〜處理器; 3 0〜配件; 32〜元件; 33a〜通道; 3 3 b *通道; 3 3 c〜通道; 36〜擴散器; 37〜影像。 實施例說明: 現在參考第1圖,顯示一機械檢視系統10。此機械檢 視系統10包括一照相機12,設置於一平台14之上方。 平台14藉由一基座(st and )15支撐。此平台14支撐一 配件30 ’其包括一元件,例如一印刷電路板32(PCB),接 受檢視,並且於上述印刷電路板3 2之表面上設置一散光器 36。散光器36進一步於相關的第2圖中說明之。系統1〇亦 包括一光源16,其設置於平台14之下方,因此光照射於配 件30之表面上,此表面與具有散光器36之配件30之另一表
1057-3554-PF;ahddub.ptd 第7頁 >,/| G PiM 7 五、發明說明(4) 面相對。除了印刷電路板之外’此檢視系統丨〇可用以檢視 陶瓷基底、或者任何其他封料。對於包含通道陣列的電路 板特別有用,其中通道具有高外觀比例,例如深度相對於 寬度’例如3 - 5或更大。 、; 如圖所示’平台1 4與其上侧咬合配件3〇。其它排列〇 要不遮蔽光自PC板底下通過通道即可。光源μ設置於平心 14下方’因此光線16a照射於板32之下表面上,並且照射 通過板32内之通道以及散光器’光線ι61)經由照相機12棚 截。照相機1 2產生一電視影像信號,其提供至處理器丨8。 於處理器1 8中’電視影像信號處理成一影像信號。影像可 以被顯示於顯示元件2 0上,來自電視影像信號或影像的資 料可經由各式各樣的技術檢視配件,例如已揭露於美國專 利4, 648, 0 53的設計規則、像素統計或樣板符合等等的範 例,在此提供做為參考。光學檢視步驟之詳細說明為一般 已知的步驟,並且在此不進一步討論。 參考第2圖,照相機12具有一可視開口,其較透鏡之 直徑大。照相機包括透鏡1 2 a,其係光學系統與檢測器1 2 b 之一部份。藉由使用具有許多個檢測元件的檢測器,例如 2 0 48個元件、4096個元件或8192個元件,提供大的可視開 口。每一元件可以可以描述一既定的面積,例如0.001英 忖或0.002英对。因此,8192個元件的檢測器可具有8. 192 或16. 384英吋的可視開口。此類的檢測器12b提供大可視 開口,使得檢視過程更迅速。例如於第1圖中,經由三個 虚線位置說明照相機遍及元件各處檢視的掃描,因為具有
1057-3554-PF;ahddub.ptd 第8頁
46 633 7 五、發明說明(5) '----- 較少的動作,因此過 «丄 程更迅速。 藉由具有大| + 1件的照相機提供更大的可視開口使得 才双視更快,块而, ^ ^ ’’、、 将別當檢視通道時產生與排列相關的問 題。與較小的可葙叫 .^ Bs 优開D相比較,愈來愈大的可視開口惡化 .^ 具有更大的可視開口的照相機時,因為 光被照相機捕极,於1,
Mi 於可視開口之周圍上的通道會出現畸 變。 JL f二$尚外觀比例通道’例如此等通道具有深度大體較 二叫二α、大(例如卜20或者更大的外觀比例)時’可視開口 、二—、為特別重要。於此等排列中,單單通過通道的光 以平行於通道軸的直線前進。來自於板的邊緣的通道的光 將不會進入照相機内的透鏡丨2a,因為其相對較小。例 如,f有6英吋的可視開口,照相機之透鏡1 2a —般為1英 吋直徑。來自板的邊緣通道的光將不會進入透鏡,並且因 此通道不會被照相機看見。 除了具有高外觀比例的通道外,一些印刷電路板亦可 具有大通道。因為通道愈來愈大,光可以較寬的角度範圍 進入。因為更多光以更廣的角度範圍進入較寬的通道,使 得於大通道中心處出現更量的光強度。 現在參考第3圖、第3A圖’印刷電路板32包括複數通 道,例如三個通道33a-33c,鑿穿或以其它方式設置於板 32上。如同於第3人圖中所示,通道33a設置於板32的邊 緣’另外’通道3 3b設置於板32之中央。不用進一步提及 通道3 3c,因為其顯示於隨後的剩餘圖的剖面圖式。於第ι
1057-3554-PF;ahddub,ptd 第9頁
4 6 63 3 T 五、發明說明(6) 圖中顯示的照相機1 2具有一大可視開口以及一相對較高的 放大倍數,通過設置於開口周圍的通道3 3 a,進入照相機 的光產生畸變,使得通道3 3a呈現橢圓形,實際上,其為 圓形。但是不會影響到位於可視開口中心的通道。因為來 自通道3 3 a的光被照相機捕捉,因此可能出現部分瑕疵的 通道3 3a。通道33a可具有一高外觀比例,例如,電路板的 厚度可以是通道3 3 a的十倍或更多倍。通道3 3a愈來愈小, 通過通道3 3 a的光很可能愈來愈少的照射於透鏡上,並且 於製造機器1 8中’藉由檢視過程,很可能將通道33a誤認 為變形或瑕疵的通道》 第二種問題係出現影像的背光。非準直光的使用於影 像中心產生熱點。因此’當光筆直進入照相機鏡頭時,產 生一非均勻的光強度圖案使更小的孔洞以及位於影像邊緣 的孔洞惡化《於孔洞表面上方的非均勻的光強度圖案,亦 可造成檢視處理機器18解釋變形通道的出現。 現在參考第4圖、第4A圖,配件30包括設置於pc電路 板3 2上的擴散器。許多實施例具有上述擴散器。於範例中 的擴散器36包括一磨平的玻璃基板與一張塑膠薄膜,例如 聚酯薄膜,其一表面被蚀刻,此外,商業上於製圖供應商 店中隨手可得。其它樣品亦可以。擴散器36提供擴散通過 通道3 3a-3 3c的光’並且將擴散器’例如玻璃基板或聚酯 /專膜’底部上的影像光投射。基板具有任何合理的厚度, 例如0. 1至0. 5英吋或其它厚度,並且塑膠薄片可為一至數 個,例如大約1 〇密爾厚。
l〇57-3554-PF;ahddub.ptd 第ίο頁 46 633 7 -------- 五、發明說明(7) ---- 一 >參考第5圖與第5A圖,擴散器36於其底部表面上產生 t/像3 7,可以自表面觀看。當光完全地通過通道抵達照 相機1 2時’藉由照相機1 2觀看影像37不具有伴隨的畴變*。 磨平的破璃於一表面上產生影像37,因此可以自另外 面觀看。聚酯薄膜的實施例,於一表面具有非常小量的 表面粗链’使得聚酯薄膜產生朦朧的現象。磨平的玻璃亦 具有相同的特徵。聚酯薄膜係一種較薄且較不貴,並且隨 處可大量獲得。 擴散器36於電路板上方提供一影像平面t»所有通過通 道的光照射於影像平面上,並且實際地於擴散面產生避免 畸變的影像37。對於磨平的玻璃或聚酯薄膜,影像產生於 擴散器36之底部’同時照相機透過玻璃或聚醋薄膜於其上 表面捕捉影像。以此方式捕捉影像37可以免除藉由光角度 造成的限制。因此’可視開口的限制並未對於影像平面上 投影影像3 7造成問題。 再次參考第2圖’為了進一步減少崎變’藉由照相機 12觀看畸變’背光源16最好為一準直光源16,。因此,光 源1 6可以是一種非準直光源,具有一準直透鏡1 7配置於其 上方或其它種類的配置。準直光源16’產生彼此平行的光 線,因此所有的光以相同的角度進入通道,並且對於任何 尺寸的孔洞以相同的強度收聚於磨平的玻璃上或蝕刻的表 面上。 現在參考第6圖’顯示使用第1圖之系統用以檢視通道 的一處理器60。處理器60包括,於檢視時’於元件,例如
1057-3554-H7;ahddub.ptd 第11頁 .4 6 6 3 3 7
元:弓丨朝向元件之背 形成〜擴散器36。 器之& Γ象。此影像藉 例如4:位接收影 ,趂判=可u和一樣板 斷通道對應的影 五、發明說明(8) 具有通道的印刷電路板,之上表面 於檢視時,最好來自準直光源的光 側,並且通過通道以及通過設置钤 通過通道的光於擴散器之下表面上 由照相機1 2捕捉。照相機1 2自擴散 像,接著使用已知技術處理影像, 比較’或者其它電視圖像辨識處埋 像是否完全地通過孔洞。 其它實施例 應了解雖然本發明已經伴隨軔 坪細的却 述說明僅用以說明’並未用以限制本發明=明說明之,上 藉由附加的申請專利範圍定義之。其它型範圍’其範圍 在不脫離本發明申請專利範圍當受保護之。優點與改良
lOST-SSS^ITjahddub.ptd 第12頁

Claims (1)

  1. 46 633 7 六、申請專利範圍 1. 一種光學檢視裝置,包括: 一平台,於檢視時,用以支撐一元件; 一光源,設置用以照射上述元件之背側部位; 一照相機,設置於上述元件之正面側部位上方,用以 接收穿過上述元件的光學能量:以及 一擴散器’設置於上述元件之正面側部位上方,該擴 散器於該擴散器之底部表面上產生一影像,並藉由上述照 相機處理。 2. 如申請專利範圍第1項所述的裝置,其中上述影像 之特徵在於自通過上述元件,之光產生。 3. 如申請專利範圍第1項所述的裝置,其中上述裝置 檢視於印刷電路基板中的通道。 4. 如申請專利範圍第1項所述的裝置,其中上述裝置 檢視於印刷陶瓷基板中的通道。 5‘如申請專利範圍第1項所述的裝置,其中上述裝置 檢視具有高外觀比例通道陣列的基板中的通道。 6 _如申請專利範圍第1項所述的裝置,其中光源係一 種準直光源。 7.如申請專利範圍第1項所述的裝置,其中上述擴散 器係一磨平的玻璃基板。 8.如申清專利範圍第1項所述的裝置’其中上述擴散 器係具有一蝕刻表面的塑膠薄板,配置於上述元件上。 9.如申請專利範圍第1項所述的襄置,更包括: 一處理器,用以處理來自照相機的電視影0像信號,用
    1057-3554-PF;ahddub.ptd 第13頁 46 633 7 六、申請專利範圍 以判斷上述元件是否通過檢視。 10. —種用以光學地檢梘具有通道的基底的方法,包 括: 於一平台之間,設置一擴散器’於檢視時,用以支揮 一基板; 利用一光源,照射上述基底之背側部位; 於該擴散器之之底部表面上產生一影像,藉由配置於 上述基底之前端側的照相機處理對於穿過基板接收的光學 能量。 1 U如申請專利範圍第1 〇項所述的方法,其中上述光 源係一準直的光源。 1 2.如申請專利範圍第1 〇項所述的方法,其中上述擴 散器係一磨平的玻璃基板<= 13. 如申請專利範圍第1〇項所述的方法’其中上述擴 散器係一塑膠薄膜,其具有一蝕刻的表面,設置於上述元 件上。 14. 如申請專利範圍第1〇項所述的方法’更包括處理 來自上述照相機的電視影像信號’用以判斷上述元件是否 通過檢視。
    l〇57-3554-I¥;ahddub.ptd 第14頁
TW89123397A 1999-11-05 2001-05-07 Via inspection in optical inspection system TW466337B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US43488599A 1999-11-05 1999-11-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW466337B true TW466337B (en) 2001-12-01

Family

ID=23726097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW89123397A TW466337B (en) 1999-11-05 2001-05-07 Via inspection in optical inspection system

Country Status (3)

Country Link
AU (1) AU2751101A (zh)
TW (1) TW466337B (zh)
WO (1) WO2001036929A2 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111795954B (zh) * 2020-09-09 2020-11-24 苏州鼎纳自动化技术有限公司 一种透光度精密检测机构

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4560273A (en) * 1982-11-30 1985-12-24 Fujitsu Limited Method and apparatus for inspecting plated through holes in printed circuit boards
US4655349A (en) * 1984-12-27 1987-04-07 Brockway, Inc. System for automatically inspecting transparent containers for sidewall and dimensional defects
ZA875450B (en) * 1986-07-28 1988-04-27 Saint Gobain Cinematique Inspection of transparent bodies
US4818617A (en) * 1986-08-14 1989-04-04 Stock Larry A Method and material for checking drilled printed circuit boards
US5301012A (en) * 1992-10-30 1994-04-05 International Business Machines Corporation Optical technique for rapid inspection of via underetch and contamination

Also Published As

Publication number Publication date
AU2751101A (en) 2001-05-30
WO2001036929A3 (en) 2001-12-06
WO2001036929A2 (en) 2001-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2010024082A1 (ja) 欠陥検査システムおよび欠陥検査方法
TWI773032B (zh) 一種拱形照明裝置、具有其之成像系統及成像方法
US8514385B2 (en) Device and method for inspecting an object
JP2006292412A (ja) 表面検査装置、表面検査方法、及び基板の製造方法
US20020031250A1 (en) Method and apparatus for examining through holes
TW466337B (en) Via inspection in optical inspection system
JP2001280935A (ja) 光学検査方法及び光学検査装置
JP7175214B2 (ja) 検査装置
JP2001004348A (ja) ガラス容器外周面の凹凸検査方法及び装置
JP3149336B2 (ja) 光学部材検査装置
JP3231582B2 (ja) 光学部材検査装置
JP2007127486A (ja) プリント基板のスルーホール壁面欠陥検査装置
JPH095247A (ja) 刻印分離方法および光学部材検査装置
JP3523411B2 (ja) 光学部材検査装置および検査方法
JPH09218162A (ja) 表面欠陥検査装置
JP2002014058A (ja) 検査方法及び装置
KR101103347B1 (ko) 평판 유리 표면 이물질 검사 장치
TW577163B (en) A shadow-creating apparatus
JP3222729B2 (ja) 倍率調整機能を備えた光学部材検査装置
JPH11296657A (ja) 画像処理装置の撮像光学系
JPH05307007A (ja) 表面検査方法
JP4522570B2 (ja) パターン検査用照明装置
JP3102362U (ja) 鏡面検査装置
TW202215143A (zh) 攝像模組測試系統
CN114363601A (zh) 摄像模块测试系统

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees