TW461000B - An improved system and method for automated defect inspection of photomasks - Google Patents

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4 61 0 0 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ______B7______ 五、發明說明（< ) 發明背景 1 .發明頜域 本發明有關一種半導體裝配工具，且更特別的是有關一 種用於光罩之自動缺陷檢查的改良式系統及方法。 2 .相關枝術說明 半導體裝配方法通常包含對半導體裝置表面的圖案® 積施行照相微影印刷處理，半導體裝配方法通常包含在半 導體裝置表面上施加光阻材料的程序，光阻層的圖案製作 通常是藉由將光阻層曝露在光線（通常是紫外光）中以便 使光阻材料產生交聯，這種交聯現象會防止與顯影劑的反 應，此顯影劑會使光阻層上未因曝露在紫外光下而產生交 聯.的面積顯影，其他型式的光阻層會於曝露在紫外光下時 '防止產生交聯的現象。 光阻層是利用光罩進行圖寒製作。光罩的功能是當作 防護罩以防止光線於照相微影印刷期間通過其內的預定面 積，這個光罩通常會提供一種由通常是鉻或鉻合金材料構 成且其圖案製作是根據圖案設計而投射到光阻層之上的 黑色或高吸收劑層，這個吸數劑層是形成於一個可包含玻 璃或石英材料的基板上。 在半導體元件之特性尺寸日益減小的情況下，愈來愈難 施行光罩的裝配和檢查作業以確保可接受的結果。這些 光罩的缺陷檢查能力是受限於某些最小特性尺寸，這個最 小特性尺寸通常是利用此光罩所製造各特性的基本規則， 亦即以1 5 0毫微米的最小特性尺寸用於一倍遮罩放大率 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

461000 A7 B7 五、發明說明（z) 或是以6QD毫撤米的最小特性尺寸用於四倍遮罩放大 率。 由於光罩包含多數個具有微米尺寸的特性，故光罩的檢 查作業是利用自動檢査裝置而執行的，參照第1圖，一種 量測裝置10包含一橱用來為待測光罩16定位的平蠆14， 能量源18會以預定的光強度照射光罩16,光敏裝置或感 測器20會收集光的反射及/或透射強度並將資料儲存於 儲存裝置22内，利用處理器24而根據光的反射及/或透射 強度以執行用於決定正確特性尺寸的計算作業，處理器 2 4包含一锢資料組以便與待檢光罩的強度輪廓作比較， 基本上是利用兩種檢査条統以檢査光罩，其中一種是模 -對-模趨近法，模-對模趨近法會對照相同光罩上的類似 特性以比較光罩的各特性以決定是苔存在有任何缺陷， 通常，是以紫外線雷射當作會穿透待檢光罩以及主光單的 光源，量測光的反射及/或透射強度以比較兩個光罩的圖 案。第二種趨近法包含一種模-對-資料庫的量測条統，處 理器24内包含了 一個參考資料庫電腦（R DC)以提供一個數 位影像而用來對照待檢光罩進行比較，在能正確地將原始 電路傳送到光罩上的事實驗證下得知這是一種最準確的 技術，令雷射射束行經或自待檢光罩反射回來並將特殊 位置上的強度與數位影像作比較。 兩種趨近法都具有檢査複雜網線圖案的能力，其中包含 具有窄小幾何、緊密光學鄰近校正（〇 P C )、以及相位平移 遮罩（PSM)的圖案。0PC有助於補僂所耗損的光線以確保 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -I vv·^ -------------------n' — — — — — — — — — —--— — — — — — — — — — 4 6 1 〇 η 〇 Α7 _____Β7____ 五、發明說明（々） (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 能將精確的圖案形成於半導體晶圓上《例如，在沒有0PC 的情況下，可因為光線會在各邊線有圓鈍化傾向而使晶•圓1 上的矩形看起來像橢圓形。會校正這個現象，亦即藉 由在各角落上添加極小的細體（線）以確保各角落不致圖 鈍化或是移動特性邊緣而更準確地定出晶_特性的尺寸 。相位平移遮罩會改變穿過光罩之光的相位，而容許改 良晶圖上的聚焦深度以及解析度。相位-平移作用會有助 降低對晶圓表面不規則性之線解析度的干接。 於習知自動条統中，某些數目的次-基本規節J特性可能 導致光軍的檢査作業失誤。為了成功地使次-撤米特性在 矽晶圖上成像，則愈益容易在光罩上形成一些次-基本規 則特性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於某一實例中，是利用活性面積遮單（光蓽）以形成用於 溝渠式DRAM (動態隨機存取記億體）設計的活性面積 (ΑΑ) β為了平衡因角落圓鈍化而縮短的特性長度，而在設 計於光罩上的特性施加不對稱偏移作用。這類偏移作用 包含透遇資料庫操縱（資料庫偏移作用）或透過程序控制 (程序偏移作用）縮減或增長幾何。在減小基本規則下，這 些偏移作用會有變大的傾向。如第2圔所示，顯示的是一 種偏移作用的實例。用於線40的設計圖案具有175毫米 的基本規則並期望其長度為1Q50毫米且位於離開另一個 線42(其長度也是1 0 5 0毫微米）350毫撤米處。令光罩的 資料偏移200毫微米使線4(Γ和42'逹到線40和42的設 計長度β不過，1250毫微米的長度會形成一锢150毫撤 -5 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 461000 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（4) 米的空間亦即一個次-基本規則特性。 取決於一個未經使用的單元設計，這類偏移作用經常會 在成像方法中使用的個別光罩上造成次-基本規則特性尺 寸。對1 5 0毫微米的基本規則而言，例如所儲存用於各設 計尺度的資料中沿某一軸的相鄰AA特性之間的空間是大 約300毫微米。於每一個形狀上產生大於75毫微米的長 度偏移都會在遮罩上造成一個次-基本規則特性（也參見 第2圖）。也可能因爲由用來校正光學鄰近效應的資料組 所書寫的遮罩內出現了細體以及因爲玻璃（COG )或相位平 移遮罩上鉻黃內出現了輔助特性而發生類似的狀況。 如第3圖所示，細體5 0和5 2是依用於遮罩的圖解方式 加以顯示的。細體50和52以及線53分別是用來製造線 + 5 4和5 6。吾人也可以使用其他輔助特性，例如可以分別 使用輔助特性5 8，6 0 ,和6 2以提供如第4圖所示的結構6 4 和66。這些細體和輔助特性經常會在光罩上產生一些次 -基本規則特性。 因爲這些裝配於光罩上的次-基本規則特性，則光罩都 是無法施行缺陷檢查的。所以，存在著對一種能夠排除因 爲光罩上良性次-基本規則特性而造成之光罩缺陷失誤的 系統及方法。 發明槪沭 根據本發明而提供的一種用於檢查光罩的方法，此方法 包括的步驟有：提供一個用於裝配光罩的設計資料組；搜 尋設計資料組內的基本規則特性；排除來自該資料組的次 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -n ^^1 n n B —^i ^^1 ϋ n ^^1 ^^1 I I 1 ϋ ^^1 n l ϋ 1^1 i^i ^^1 n ^^1 B^i —i _ 4 6 1 0 0 0 A7 B7 五、發明說明（Γ ) -基本規則特性以形成一個檢查資料組並藉由使用該檢查 資料組以檢查根據該設計資料組而裝配成的光罩。 另一種用於檢查光罩的方法包括的步驟有：提供一個用 於裝配光罩的設計資料組；·在該設計資料組中辨識出一些 符合預定尺寸臨界値的基本規則特性；藉由從該設計資料 組中排除所辨識出的基本規則特性而形成一個檢查資料 組；提供一個檢査工具而用於比較根據該設計資料組裝配 成的光罩與該檢査資料組的資料；調整該檢查工具以便檢 閱所辨識出的基本規則格性i错由使用該檢查資料組以檢査 所裝配的光罩。一種可藉機械讀取的程式儲存裝置淸楚 地收錄了可藉機械執行之指令構成的程式以履行用於檢 査光罩的方法步驟，這些方法步驟包含：提供一個用於裝 配光罩的設計資料組；搜尋設計資料組內的基本規格特性； 排除來自該資料組的次-基本規則特性以形成一個檢査資 料組並藉由使用該檢查資料組以檢查根據該設計資料組 而裝配成的光罩。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 於替代方法中，可藉機械執行以履行用於檢查光罩的方 法步驟，次·基本規則特性可能包含次-基本規則特性，而 排除次-基本規則特性的步驟可能也包含使用設計資料組 中與各空間相鄰之各特性的合倂步驟以便排除檢查資料 組內的空間。合倂特性的步驟可包含藉由一種偏移方法 以合倂特性的步驟。這個光罩可包含一些次-基本規則線， 而排除次-基本規則特性的步驟也可包含從設計資料組去 除這些次-基本規則線以提供一個檢查資料組的步驟。搜 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 461000 Α7 Β7 五、發明說明（4 ) 尋設計資料組内之基本規則特性的步驟可包含根據預定 特性尺寸臨界值捜尋設計資料組内之基本規則特性的步 驟❶藉由使用該該設計資料組檢査根據該設計資料組裝 配成光罩的步驟可包含調整檢査工具靈敏度的步驟以檢 閲該次-基本規則特性。提供用於裝配光罩的設計資料組 的步驟可包含提供一個電腦而形成用於裝配該光罩的數 位圖案的步驟。 於其他方法中，形成檢査資料組的步驟可能也包含使設 計資料組中與各空間相鄰之各特性的合併步驟以便排除 檢査資料組内空間的步驟及/或從設計資料組去除這些次 -基本規則線以提供一値檢査資料組❶捜尋設計資料組内 之基本規則特性的步驟可能包含根據預定特性尺寸臨界 值搜尋設計資料組内之基本規則特性的步驟。 本發明的這些及其他目的、特性、及優點將會因為以 下參照所附圖示對顯示用實施例的詳細說明而變得更明 顯〇 H α Μ Μ & B月 以下將參照下列圖示對本發明的較佳實施例作更詳細 的説明。 第1圖傺用以顯示一種用於檢査光罩之習知檢査糸統 的方塊圖》 第2圖傜依圖解方式描繪一種根據習知設計的偏移實 例。 第3圖像依圖解方式描繪一種根據習知設計之細體的 -8 ~ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 i I I r---—訂--- ----，乂---I I I I---— II--— — — — —— — — 4 6 1 0 0 0 A7 B7 五、發明說明（？） 應用。 第4圖係依圖解方式描繪一種根據習知設計之輔助特 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 性的應用。 第5圖係用以顯示一種根據本發明用於檢査光罩之檢 查系統的方塊圖。 . 第6圖係用以顯示形成於設計資料組内老软大光罩特性的 俯視平面圖示，且顯示了一種將要根據本發明而去除的次 -基本規則空間。 第7圖係經過修正之第6圖放大光罩特性的俯視平面 圖示，其中藉由合倂特性而產生檢查資料組以便根據本發 明去除該空間。 .第S圖係用以顯示形成於設計資料組內之放大光罩特 •性的俯視平面圖示.，且顯示了 一種將要根據本發明而去除 的次-基本規則空間。 第9圖係經過修正之第8圖放大光罩特性的俯視平面 圖示，其中藉由合倂特性而產生檢查資料組以便根據本發 明去除該線。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第1 0圖係用以顯示一種根據本發明用於檢查光罩之檢 査系統/方法的方塊/流程圖。 較佳實施例的說明 本發明係有關一種半導體裝配工具，且更特別的是有關 一種用於光罩之自動缺陷檢査的改良式系統及方法。本 發明包含一些用於從一個用來當作參考以便與實際光罩 特性作比較的資料組中排除次-基本規則的方法。本發明 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 461000 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（r) 也提供了一種糸統以便施行這些方法。於某一實施例中1 因為降低其偵测蚕敏度以致那些小於預定尺寸的特性不 再是可偵測的〇依這種方法，由於次-基本規則特性不再 是可凳察且會導致檢査失誤的，故使光罩變得更可以檢査 的。能夠提供本發明之有利結果的一種方式是操縱一個 用來當作參考的檢査資料組或是設計資料組以便與光罩 待性作比較。對資料組的操縱會提供用來合併特性以排 除一些次-基本規則空間並清除次-基本規則的列印形 狀。 現在依特別詳細的方式參照附圖，其中以相同的參考 標碼在各圖中辨識出類似或完全相同的元件，第5圖傜用 以顯示一種根據本發明之条統10 0的方塊圖。糸統1〇〇包 含一値光頫102會提供用於穿透待檢光罩104的光。光罩 104包含一個含有將要用於半導體裝置撤影印刷之形狀 或特性的菌案。 其中包含了一個感測器1 0 6偽分別量測自光軍1 0 4反 射及透射的光強度，其中包含了一個處理器1D8條計算反 射及透射光的強度以便為光罩104的光軍圖案解碼，處理 器108則包含了 一個用於儲存強度資料等的記憶體110， 記億體110包含一個由將要用來與光罩1D4上的裝配圖 案作比較之檢査圖案構成的檢査資料組112,這個檢査資 料組11 2最好是藉由使用一個根據本發明的設計資料組 113而産生的，記億體11〇中也包含一掴軟髏應用11 4並 由處理器108執行以履行檢査作業，平臺或是自動裝置 -1 0 _ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------I----:/——l· ί 訂---------線！) ^/ίν\ ,___\ (請先閲讀背面之注音？事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 6 1 0 0 0 A7 _______B7__ 五、發明說明（9 ) 11 6是在有光源1〇2(最好是雷射源，更好的是像激態雙原 子分子輻射放射雷射之類的紫外線雷射）出現的情況下接 受處理器108的控制。可替代地，雷射源可能是可移動的 而光罩1 0 4可能是靜態的。軟體應用11 4最好是在含有 光罩104之數位影像的資料組112與光罩104本身之間 執行光強度的比較作業。 因為受到這個比較小基本規則的影礬，例如當基本規則 小於一微米時，光罩1M會包含一個次-基本規則特性以改 良光罩104的裝配作業。逭些持性可包含細體、線、空 間等。此外，為了考量角落圓鈍化現象，使光罩的各特性 偏移且也可包含一些次-基本規則形狀或是如上所述的形 狀。 根據本發明，自資料組112内清除像形狀之類次-基本 規則特性，並藉由使各相鄰特性偏移而排除各空間以合 併到該空間内因此自資料組112内将該空間清除掉。 參照第6和7圔，分別是根據本發明依圖解方式顯示 的設計圖案以及檢査圖案。第6圖顯示的是光罩104上由 空間152分開的兩個Η段150。其尺度為「a」的空間152 是颺於一値次-基本規則特性。於較佳實施例中，Η段150 和空間152是依數位方式利用電腦輔助設計工具或是藉由 産生實際光罩的強度圖表現於設計資料組内。在依數位 方式形成之後，吾人便能夠根據本發明操縱設計資料組。 最好是以代表如第6圔所示之次-基本規則特性的設計資 料當作參考資料或資料組1 12 (參見第5圖）。於第7圖 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -I V - n n I I I I I )SJ· n — — — — — — — I J Ί - - - - 4 6 10 0 0 A7 _____B7____ 五、發明說明（、。） 中，使片段1 5 0產生長度偏移以排除其間的空間1 5 2。在 合倂片段1 5 0之後，將資料儲存於資料組]〗2內以便用於 光罩丨〇4的檢査作業。依這種方式，吾.人能夠於光罩1 〇4 的檢查作業期間遇到空間_ 1 5 2時有利地不致偵測到缺 陷。這是因爲吾人已從資料組1 1 2內排除了空間1 5 2的 緣故β在提供設計資料組時，最好運轉一個提供於軟體應 用114(參見第5圖）內的搜尋邏輯運算程式以搜尋像輔 助特性及細體等之類的次-基本規則特性。這種搜尋作業 可以特性的尺寸或面積爲基礎以便使所辨識出的特性自 動從資料組1 1 2內排除掉。 參照第8和9圖，分別是根據本發明依圖解方式顯示的 設計圖案以及檢査圖案。第8圖顯示的是光罩1〇4上由 空間1 5 6分開的兩個片段1 5 4以及一個次-基本規則線段 1 5 8 »其尺度爲「b」的線段1 5 8是屬於一個次-基本規則 特性。於較佳實施例中，片段1 5 4和空間1 5 6以及線段1 5 8 都是依數位方式利用電腦輔助設計工具或是藉由產生實 際光罩的強度圖表現於設計資料組內。在依數位方式形 成之後，吾人便能夠根據本發明操縱設計資料組。最好是 以代表如第8圖所示之次-基本規則特性的設計資料當作 參考資料或資料組1 1 2 (參見第5圖）。於第9圖中，係將 片段1 5 4維持在定位上而將線段丨5 8排除排。更改資料 組1 1 2內的資料以反映線段丨5 8的排除作業。依這種方 式，吾人能於光罩1 04的檢查作業期間遇到線段I 58時有 利地不致偵測到缺陷。這是因爲吾人已從檢查用的資料 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210 X 297公釐〉 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

!1 訂------!· ^·--^ --— — — — — — — — — — —--- I I I I 4 6 1 Q Ο Ο Α7 B7 五、發明說明（"） 時捜次 ^ AH 料内類 資η)之 計 5 等 設第體 供見細 提參及 4(性 11特 用 應輔 體像 軟晷 於搜 供以 提式 個程 1 算 轉蓮 蓮輯 好邏 最尋 組 在 ο 故 緣 的 2 5 間 空 了 除 排 内 2 性使 特便 則以 規礎 本基 類為 尋 搜 51* 種 這 這 將 旦1 ο 掉 的 出 識徽 辨特 所些 積 面 或 寸 尺11 的組 性料 特資 以從 能動 可自 業性 作特 方 逑 所 上 如 依 則 位 了 定 料 除資 排改 内更 2 1 式 fa 種 各 依 以 可 件 元 各 C 的 業示 作所 査圖 檢10 的第 L04如 I是 的 解 了 以該 11人 組吾 罩 光 行 執 體 0 的 式 形是 8 钃 軟 以 是 都 件 元 些 這 好 最 〇' 行 施 以 加 例 施 實 各 的 中 其 •Isa 或 般1 的 剌 規 式 程 當 適 經 個 多 ec § 或 個 各 理照 處參 锢在 1 現 含 0 包面 腦介 I UU 霉 UU 類輸 這/ 的輸 行値 施一 以及 加以 體 、 硬體 的億 上記 腦艇 電一 位 、 數器 全 完檢 或於 似用 類明 出發 識本 辨據 中根 圖種 各一 在示 碼顯 標以 考用 參條 的圖 I ο 同 1 相第 圖同 附相 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .c 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 査光罩之檢査糸統/方法的方塊/流程圖。於方塊202中， 提供了一値条統例如糸統1〇〇(參見第5圖）以便檢蜜光罩 。於方塊204中，提供或産生一掴用於光罩的設計資料組 並將之儲存記億體内。於方塊206中，執行一個捜尋逸輯 蓮算程式且最好是藉由一個利用處理器的軟體應用以辨 識出次-基本規則特性。這個搜尋邏輯蓮算程式會捜尋設 計資料組中包含於光罩内像各輔肋待性或是在偏移影_ 下用來抵擋角落圓鈍化效應的量測之類的次-基本規則特 性。這種搜尋作業可以利用像特性面積、特性的最+胃 度、或是各特性間的最小距離（空間）之類的預定尺寸181 -1 3-

I - I I I n I I^eJ I I I ^ n I I I I ^ i n I I I — — — — — I ^ I I I n I ^ I I I 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 4 6 1 0 0 Ο A7 _— B7 五、發明說明（R) 界値加以執行。於方塊208中，藉由使空間偏移及/或藉 由使用處理器以排除各線或面積以便使辨識出的特性合 倂。於方塊2 1 0中，以經過修正的設計資料爲基礎產生一 個檢查資料組。於方塊2 1 2中，調整檢查臨界値使得出現 在根據設計資料而製造之光罩上的次-基本規則特性不致 爲檢查工具（系統100)認出。依這種方式，光罩會在接近 次-基本規則特性尺寸的臨界値時變成是可檢査的。於方 塊2 1 4中，在經過修正的檢查資料以排除根據本發明的次 -基宇規則特性情況下，藉由使用系統1 〇〇以檢査利用設 計資料裝配成的實際光罩。 有了上述用於光罩之自動缺陷檢查的改良式系統及方 法的各較佳實施例（意在顯示而不是當作極限），吾人應該 '注意的是熟悉習知設計的人能在上述技術的觀點下作修 正和改變。所以，吾人應該了解的是能在不偏離本發明所 附申請專利範圍之精神及架構下作各種變化。以上已詳 盡地特別是在專利法要求下說明了本發明，並將期望受到 文字專利法保護的申請專利範圍列舉如下。 符號之說明 10....量測裝置 1 4....平臺 1 6，1 04....光罩 1 8….能量源 20，1 06....感測器 2 2....儲存裝置 "14 * 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

—— — — — — II 11111111 I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -ϋ .1 n ϋ ϋ 1 n 1« ϋ n I I- 461 〇〇 ο Α7 _Β7 五、發明說明（d ) 24 , 1 08....處理器 40，40,，42，42,，53，54，56....線 50，5 2....細體 58，60，6 2....輔助特性 6 4，6 6 ....結構 1 00 ....系統 1 02 ....光源 1 1 0 ....記憶體 1 1 2 ....檢查資料組 1 1 3 ....設計資料組 1 14....軟體應用 1 16···.自動裝置（平臺） '1 50, 1 54....片段 1 5 2 , 1 5 6 ....空間 1 58 ....線段 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

1. 461000 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 Βδ C8 D8六、申請專利範圍 1. 一種用於檢查光罩的方法，該方法包括的步驟有： 提供一個用於裝配光罩的設計資料組； 搜尋設計資料組內的基本規則特性； 排除來自該資料組的次-基本規則特性以形成一個檢查 資料組；以及 藉由使用該檢查資料組以檢查根據該設計資料組而裝 配成的光罩。 2 .如申請專利範圍第1項之方法，其中該次-基本規則特 性可包含次-基本規則空間，而排除次-基本規則特性的 該步驟包可包含使設計資料組中與各空間相鄰之各特 性的合倂步驟以便排除檢查資料組內的空間。 3 .如申請專利範圍第2項之方法，其中合倂特性的該步驟 可包含藉由一種偏移方法以合倂特性的步驟》 4.如申請專利範圍第1項之方法，其中該光罩可包含一些 次-基本規則線，而排除次-基本規則特性的步驟也可包 含從設計資料組去除這些次-基本規則線以提供一個檢 査資料組的步驟。 5 ·如申請專利範圍第1項之方法，其中搜尋設計資料組內 之基本規則特性的該步驟可包含根據預定特性尺寸臨 界値搜尋設計資料組內之基本規則特性的步驟。 6 .如申請專利範圍第1項之方法，其中藉由使用該設計資 料組檢査根據該設計資料組裝配成光罩的該步驟可包 含調整檢查工具靈敏度的步驟以檢閱該次-基本規則特 性。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） _ (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 6 1 0〇〇 as B8 C8 D8 六、申請專利範圍 罩用 光成 配形 裝而 於腦 用電 供個 提叫 中供 其提 法含 方包 之可 項驟 1 步 第該 圍的 範組 利料 專資 請計 申設 如的 的 案法 圖方 位的 數罩 的光 罩查 光檢 該於 配用 裝種 於一 8 驟 步 有 驟 步 的 括 包 的 値 界 臨 寸 尺 定 •， 頁組” 斗合；符 f 些 設一 的出 罩識 光辨 配中 裝組.， 於料性 用資特 個計則 1 設規 供該本 提於基 性 特 則 規 本 基 的 出 識 辨 所 除. 秽 ; 中組 組料 料資 資查 計.檢 設個 該一 從成 由形 藉而 配 裝 組 料 資 計 設 該 據’ 根料 較資 比的 於組 用料 而資 具查 工檢 査該 檢與 個罩 1 光 供的 提成 以 性 特 則 規 本 基 的 出 識 辨 所 閱 檢 便 以 具 X 查 檢 該 整 調及 法 方 之 i項 組 料8 資第 查圍 檢範 該利 用專 使請 由申 藉如 9 查 檢 以 特 則 規 本 。-基 罩 - 光次 的該 配中 裝其 所， 間 空 的 內 組 料 而組資 ， 1、、\ 南料査 資愈 III設排 ^ ^ 0 本含以基包Ϊ 次可步 含也倂 包驟 口 可步的 性該性 •111. 中 的特 性各 特之 7SV 貝粼 規相 本間 基空 次各 除與 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、va. _ 緣 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 利 專 請 串 如 由 藉 含 包 可 驟 合 的 中性 其特 > 方以 之法 項方 9 移 第偏目-a 範 步 該 的 性 特 併 驟 步 則特 規則 本規 基本 次基 該次 中除 其排 ’而 法 ， 方線 之則 項規 〇〇本 基 第· 圍次 範些 利一 專含 請包 申可 如性 .特 則 規 本 基 t 次 些 這 除 去 。 組驟 料步 資..的 計組 設料 從資 含査 包檢 可個 也一 驟供 步提 的以 性線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2ι〇Χ297公董） 4 6 1 0 0 0 Α8 Β8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範園 1 2 .如申請專利範圍第8項之方法，其中搜尋設計資料組 之基本規則特性的該步驟可包含根據.預定特性尺寸臨 界値搜尋設計資料組內之基本規則特性的步驟。 1 3 .如申請專利範圍第8項之方法，其中提供用於裝配光 罩的設計資料組的該步驟可包含提供一個電腦而形成 用於裝配該光罩的數位圖案的步驟 1 4 .—種可藉機械讀取的程式儲存裝楚地收錄了由 可藉機械執行之指令構成的程式以用於檢査光罩 的方法步驟，這些方法步驟包含： 提供一個用於裝配光罩的設計資料組；' / 搜尋設計資料組內的基本規則特性； 排除來自該資料組的次·基本規則特性以形成一個檢查 資料組；以及 藉由使用該檢查資料組以檢查根據該設計資料組而裝 配成的光罩。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之程式儲存裝置(，其中該次_ 基本規則特性可包含次·基本規則空間，而排\除次-基本 規則特性的該步驟也可包含使設計資料組中與各空間 相鄰之各特性的合倂步驟以便排除檢查資料組內的空 間。 1 6 ·如申請專利範圍第1 5項之程式儲存裝置，其中合倂 特性的該步驟可包含藉由一種偏移方法以合倂特性的 步驟。 1 7 .如申請專利範圍第1 4項之程式儲存裝置，其中該光 -18- 本紙張尺度逋用中國國家操準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐） ' 一 訂 線' /ί . ,/ίνν (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 6 10 0 0 as C8 D8 六、申請專利範圍 罩可包含一些次-基本規則線，而排除次-基本規則特性 的步驟也可包含從設計資料組去除這些次-基本規則線 以提供一個檢查資料組的步驟。 丨8 .如申請專利範圍第1 4項之程式儲存裝置，其中搜尋 設計資料組內之基本規則特性的該步驟可包含根據預 定特性尺寸臨界値搜尋設計資料組內之基本規則特性 的步驟。 1 9 .如申請專利範圍第1 4項之程式儲存裝置，其中藉由 使用該設計資料組檢查根據該設計資料組裝配成光罩 的該步驟可能包含調整檢査工具靈敏度的步驟以檢閱 該次-基本規則特性。 2 0 .如申請專利範圍第1 4項之程式儲存裝置，其中提供 用於裝配光罩的設計資料組的該步驟可包含提供一個 電腦而形成用於裝配該光罩的數位圖案的步驟。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐）