TW452876B - Method and apparatus for drying washed objects - Google Patents
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Description
五、發明說明（1) [發明背景] 本發明 有關一種已 洗及乾燥方 精密基 滌後的乾燥 響。鑑於該 有機溶劑蒸 係以第1 0圖 置包含乾燥 器41。乾燥 溶劑加熱至 有機溶劑42 之物件43如 劑比水更輕 物件43的表 = 洗淨物之乾燥方法及裝置，尤其β 法及裝置。+導體日日圓，玻璃基材等之沖 材如精細地形& + β 在自其移除满= 玻璃基材等在洗 種情形，為此目的=處逐漸地受到重大影 氣之乾燥裝置。使用有機5 = 用其中使用 使用有機溶劑蒸乳之乾燥裝置 不為列之方式構成。丨明確地說，此乾燥裝 槽40及安置在乾燥⑽底部之外表面上的加熱 槽40中置入有機溶劑42，藉由加熱器41將有機 其沸點，因而可在槽4〇之上區域或部份中形成 的蒸氣。然後，將已使用水等予以洗滌及沖洗 晶圓等放置在蒸氣令。此導致經氣化之有機溶 易地冷凝在物件43的表面上同時取代水黏附至 面。 蒸氣中之物件43的溫度逐漸增加至有機溶劑42的蒸氣 溫度或沸點，然後自蒸氣氣圍下取出，由於降低其潛熱而造 成黏附至物件43之溶劑快速地蒸發，導致物件43之乾燥完 成。乾燥槽40具有配置在其上部份中之冷却線圈44，其功 能為冷凝因加熱而蒸發的有機溶劑。由此冷凝的有機溶劑 滴入液體接收器45中，然後回收再使用。同樣地，藉由另一 個液體接收器46回收含有自物件43滴落的水之液狀的有機 溶劑。
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不幸地，在由此構成的習知乾燥裝置中由於加熱有機 溶劑，操作者需高度小心火。而且，由於加熱及冷却有機溶 劑造成能量消耗實質地增加。再者，由於加熱有機溶劑以 形成蒸氣層而需要較多的乾燥時間且由於蒸發之損失而增 加有機溶劑之消耗。此外，當使物件與蒸氣層接觸時，由物 件移除蒸氣（氣相）之熱，造成有機溶劑由氣相至液相之快 速相變化。此減少蒸氣層，因而造成物件曝露於周圍氣氛 中，導致問題如物件的沾污，乾燥失敗等。而且，似乎有機 溶劑因含於周圍氣氛中之塵土而沾污，導致物件沾污。 [發明概述]
本發明係鑑於先前技藝之前述缺點而完成D 因此，本發明之目的係提供一種能夠在減少的時間内 令人滿意地乾燥物件之洗淨物的乾燥方法及裝置。 本發明之另一目的係提供一種能夠有效地防止在乾燥 期間物件沾污之洗淨物的乾燥方法及裝置。 本發明之再一目的係提供一種能夠獲致能量節省並減 少所使用的化學藥品之消耗的洗淨物之乾燥方法及裝置。 本發明之又一目的係提供一種能夠在低溫時有效率地 產生作為乾燥劑之有機溶劑霧之洗淨物的乾燥方法及裝 置。 依據本發明之一形態，係提供一種洗淨物之乾燥方 法。此乾燥方法包括下述步驟：沖洗浸泡在純水槽之純水 中的物件；藉由以超音波激發有機溶劑而在有機溶劑產生 槽中於常溫產生有機溶劑霧；自有機溶劑霧產生槽供應有
C:\ProgramFiles\Patent\310543.ptd 第 6 頁 4 5 2 8 / l 五、 發明說明 ；3) 機 溶 劑霧 至純 水 槽同 時 以 預定速率自純水槽排放純水，因 而 將 物件 放置 在 有機 溶 劑 霧之氣圍下；以及將氮氣饋入純 水 槽 以利 用氮 氣 吹拂 有 機 溶劑霧。 本發 明之 較 佳實 例 中 ，乾燥方法進一步包括使有機溶 劑 之 溫度 保持 於 常溫 的 步 驟。 本發 明之 較 佳實 例 ，藉由具有兆赫範圍之頻率的超 音 波 激發 有機 溶 劑而 有 機 溶劑霧吸附在物件表面上。 本發 明之 較 佳實 例 中 ，藉由具0.5MHz至10MHz範圍之頻 率 的 超音 波振 盪 有機 溶 劑 ，有機溶劑霧的溫度選自20 °C至 50 °C ，及有機溶劑霧滴具有不大於的直徑。 本發 明之 較 佳實 例 中 ，選擇自純水槽排放純水之預定 速 率 ，使得在物件表面上形成純水及有機溶劑滴或厚度為 1 Onm 至1 /z m之 純 水及 有 機 溶劑的液體膜，不會在純水之表 面 上 形成 純水 與 有機 溶 劑 的混合層。 依據 本發 明 之另 形 態，係提供一種洗淨物的乾燥裝 置 0 此乾 燥裝 置 包含裝 配 成使純水可導入其中及可自其排 放 的 純水 槽，因而沖洗浸泡於純水中之物件；配置成於其上 部 份 選擇 性地 與 純水 槽 相 通且裝配成可藉由超音波振盪放 置 於 其中 的有 機 溶劑 之 有 機溶劑霧產生槽，园而在有機溶 劑 霧 產生 槽中 於 常溫 產 生 有機溶劑霧；自有機溶劑霧產生 槽 供 應有 機溶 劑 霧至 純 水 槽之有機溶劑霧供應機構；以預 定 速 率自 純水 槽 排放 純 水 同時操作純水槽及有機溶劑霧產 生 槽 而使 彼此 相 通因 而 將 #件放置在有機溶劑霧氣氛中的 純 水排放 機構 ;以及將氮氣饋入純水槽以利用氮氣吹拂有
C:\Program Files\Patent\310543. ptd 第 7 頁 五、發明說明（4) 機溶劑霧之氮氣饋入機構。 =發明之較佳實例中，有機溶劑霧產生槽具有包含内 僧構件及外槽構件之雙槽結構，外槽構件安置在具備具有 黏附其上的超音波變換器之振動板之其底部外表面上内 ^構件具有以使超音波能量能穿透其間的厚度所形成的底 A將内槽構件與外槽構件配置成使溫度節調用的循環水 在界定於内槽構件與外槽構件間之空間内流動内槽構件 中置入有機溶劑，有機溶劑在配置於循環水中的導管中循 環。 本發明之較佳實例中，將純水槽裝配成其上部份選擇 性地完全閉合。 本發明之較佳實例中，藉由具有兆赫範圍頻率的超音 波振盪有機溶劑並使有機溶劑霧吸附在物件表面上。 本發明之較佳實例中，藉由具有〇. 5MHz至10MHz範圍頻 率的超音波振盪有機溶劑，有機溶劑霧的溫度選擇為2〇 °c 至5〇°C，及有機溶劑霧滴具有不大於ι〇〇μιη之直徑。 本發明之較佳實例中，選擇藉由純水排放機構排放純 水之預定速率，使得在純水表面上不會形成純水與有機溶 劑之混合層，在物件表面上形成純水及有機溶劑滴或厚度 為l〇nm至1以m之純水及有機溶劑的液體膜。 [圖式之簡單說明] 藉由參照附圖之下述詳細說明將更清楚了解本發明之 此等及其他目的以及多種意圖之優點；其中： 第1圖為顯示依據本發明之洗淨物之乾燥裝置實例的 C:\Program Files\Patent\310543. ptd 第 8 頁 452876 五、發明說明（5) 說明圖； 第2圖為顯示將洗淨物置入乾燥裝置純水槽之步驟的 說明圖； 第3圖為顯示將純水及有機溶劑霧饋入純水槽中之步 驊的說明圖； 第4圖為顯示自純水槽排放純水及將物件置入有機溶 劑霧氣氛中之步驟的說明圖； 第5圖為顯示將氮氣饋入純水槽以吹拂有機溶劑霧而 完成物件表面乾燥之步驟的說明圖； 第6圖為顯示自純水槽移除物件之說明圖； 第7圖為說明有機溶劑霧產生原理之說明圖； 第8圖為顯示邊修刀之透視圖； 第9圖為顯示邊修刀與物件邊緣部份上之液滴接觸的 說明圖；以及 第10圖為顯示習知乾燥裝置之說明圖。 [較佳實例的詳細說明] 現在，依據本發明之洗淨物之乾燥方法及裝置將參照 第1至9圖說明於後文。 首先參照第1圖，說明依據本發明之洗淨物之乾燥裴置 的實例。通常以參考數10表示的說明實例之乾燥裝置通常 包含純水槽20及產生有機溶劑霧用之有機溶劑霧產生槽 30。霧產生槽30具有包含内槽構件31a及外槽構件3ib之雙 槽結構。外槽構件31b形成在具備具有黏附其上的超音波 變換器之振動板32之其底部的外表面上。内槽構件gia之
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底部係以能使超音波能量穿透其間的厚度所形成。而且 霧產生槽30裝配成使溫度調節用之循環水33在界定於内槽 構件31 a與外槽構件3 1 b間之空間内流動。 内槽構件31a中置入有機溶劑34,其係經由部份安置在 循環水33中的導管35循環地被引導，因而被冷却或加熱導 致有機溶劑34之溫度被調節於預定溫度，例如，2(TC至5|j °C。說明實例中，使用異丙醇（IPA)作為有機溶劑34。而 且，内槽構件31a中以位於内槽構件31a的中心之方式具備 飛滅防護板36。再者，内槽構件31a中以位於稍微低於其中 心位置之方式具備氮氣饋入口 37。此外，内槽構件3la裝配 成經由相通通道38於其上部份與純水槽2〇之上部份相通。 相通通道38中具備裝配成僅在由内槽構件31a向純水槽2〇 之方向流動而開放的閥39。 純水槽20在其下部份上具備純水饋入與排放閥21及以 第一預定流動速率排放純水用的第一及第二排放閥22a和 2 2b。說明實例中，純水饋入及排放閥21包括包含閥口 21ι， 212及2la之三向閥。或者，其可包括四向閥。因此，純水槽 20中經由純水饋入與排放閥21之閥口 21及212饋入純水，使 得當純水槽20中純水到達預定程度時，會使過量純水溢出 純水槽此造成氣體或蒸氣相空間23被界定在純水槽20之 上部份t。蒸氣相空間23中具備氮氣饋入口 24及連接至其 上的排氣管25(經由排氣管可使蒸氣相空間23與周圍大氣 相通）。排氣管25中具備安置成僅在由純水槽2〇向周圍大 氣之方向流動而開放的閥26。而且，純水槽2〇在其上部份
310543.ptc 第10頁 2001.06.12.010
r、 ο 4528 —___案號 88105895 年《月卞曰_修正 五、 具 内 撐 發明說明（7) 傷完全閉合型之可開啟蓋27,經由此蓋可自純水槽2〇之 部取得及移出洗淨物50。再者，純水槽20中具備用於支 其上物件50之支撐物28,如第1圖所示。 純水槽20中以位於與自第一排放閥22a延伸至純水槽 20之第一導管的開放端實質上相同高度或水平及實質上與 物件或晶圓50之下端相同水平或稍微低下的方式於其下部 份具備液位感測器29。安置成由第二排放閥2 2b延伸至純 水槽20之第二導管位於高於第一導管之開放端1至2πηη的水 平處具有開放端。 現在，後文將說明由此裝配的說明實例之乾燥裝置10 的操作方式。 首先，使純水槽20之蓋27開啟，由而經洗淨及/或施加 預先沖洗的物件或晶圓50支撐在支撐物28上，如第2圖所 示。支撐物28可放置在純水槽20中同時具有先前支撐於其 上之物件50。 然後，將預定量之有機溶劑（IPA)34置入有機溶劑霧產 生槽30之内槽構件3la中以具有5mm或更小的深度，再對安 置於外槽構件31b上之振動板32的超音波變換器施加高如 0. 5MHz或更高，更明確的說〇5|〇2至1〇|〇2頻率之高頻率電 麼，及〇. 5W/Cm2或更大的電力，導致變換器振盪。此造成藉 由毛細波之發生而於内槽構件31&中於2〇艺至50°C之常溫 產生有機溶劑霧。有機溶劑霧滴具有不大於1〇〇只之直 徑。 藉由毛細波C產生有機溶劑霧將參照第7圖說明之。當
4 528 7 五、發明說明（8) 藉由超音波變換器T使液體L中的超音波振動強烈時聲音 之輻射壓增加’而若振動頻率高則聲壓集中在一方向上。 此造成液體L部份地提昇以形成液體管柱。同時，在液體表 面上發生表面波，而在具有作為反射邊界之液體管柱周邊 的液體管柱表面上發上干擾波。當液體管柱表面上之液體 的碰撞及撕裂能量超過液體L之表面張力時，液體轉換成於 空氣中飛揚的精細顆粒Μ。 溫度調節用之循環水33在内槽構件31a與外槽構件31b 間之空間内循環，因而經由内槽構件31a的底部冷却或加熱 有機溶劑3 4。有機溶劑3 4亦藉由經由浸泡於循環水3 3中之 導管35部份循環之而予以冷却或加熱。儘管乾燥裝置1〇歷 經長時間的操作’該種裝配仍有效地保持内槽構件31a中之 有機溶劑34的溫度於2〇。(：至50 t，故而即使在内槽構件3ia 中無有機/容劑34時而無液體存在的狀態亦能正面地防止超 音波變換器之操作。 接著’閉合蓋27再將純水饋入純水槽2〇中以使物件 浸泡於純水中，造成對物件5〇施加最後沖洗β然後經由第 一及第二排放閥22a及22b以第一流動速率排放純水槽2〇令 的純水。純水槽2〇中的壓力隨著經由閥22&及22b之純水排 放的進行而逐漸降低，由而造成於安置在純水槽2〇與有機 溶劑霧產生槽30間之相通通道38中之閥39自動地開啟，使 得增加濃度中的有機溶劑霧可自有機溶劑霧產生槽3〇進入 純水槽20’如第3及4圖所示。選擇經由第一及第二閥22a及 22b之純水排放的第一流動速率，使得在純水表面上不形成
C:\ProgramFiles\Patent\310543.ptd 第 12 頁 V. 4528 7 五、發明說明（9) 純水與有機溶劑之混合物層而在物件50的表面上形成純水 及有機溶劑滴或厚度為1 〇nm至1私m之純水及有機溶劑的液 體膜。該種有機溶劑霧之進入使物件50上的水膜被有機溶 劑霧取代。冷凝並滴下由此被取代的水膜同時與有機溶劑 混合。 當純水槽20中的純水之水平低於連接至第二排放閥 2 2b之導管的開放端之下時，經由第二排放閥22b之純水的 排放被中斷，造成僅經由第一排放閥22a進行純水的排放， 導致純水排放速率降低《說明實例中，經由第一及第二兩 個排放閥22a及22b之純水的排放造成水位較低時之速度約 為2至4mm/sec;而當僅經由第二排放閥22a進行排放時，速 度低至約lmm/sec。 當進一步降低液位至足以使液位感測器29偵測到液位 的程度時，開啟閥21之閥口 212及213以確保排放速率增加。 該種純水排放速率之控制提供物件或晶園50的確實乾 燥。由於與晶圓50接觸的水易於殘留在晶圓5〇之下邊緣部 份，當液位低至晶圓50之下部份時純水的排放速率降低。 當晶圓50完全浮現純水時，無需以低速率排放純水而是經 由已開啟的二向閥21以增加的速率排放純水。 經過預定時間後，經由氮氣饋入口 24將加熱至約5〇 之氣氣錢入純水槽20中，如第5圖所示，以利用氮氣吹拂純 水槽20中的有機溶劑霧，由而有機溶劑霧經由閥26自排氣 管25向外排出，造成物件5〇被放置在加熱氮氣之氣圍下。 此使得自於氮氣氛中之物件50上移除任何濕氣或水及有機
C:\ProgramFiles\Patent\310543.ptd 第 13 頁 4 5 2 8 7 五、發明說明（10) 溶劑，接著開啟蓋27以自純水槽20移出物件50，如第6圖所 示。 說明實例之實際應用中，液滴易於殘留在物件50之支 撐部份上。為避免該種問題，可使用如第8圖所示具有於尖 銳邊緣磨銳利的末梢端60a之邊修刀60。邊修刀60，如第9 圖所示，安置成末梢端60a易於接近殘留在各物件5〇之邊緣 部份的液滴5 0a。於此例中，當邊修刀60係由親水性材料或 其表面係由親水性材料所製成的材料製得時經由邊修刀 60正面地向下引導殘留在物件50之邊緣部份上的液滴5〇a， 因而確保液滴自其快速移除。 ’ 如上所述，說明實例之乾燥裝置使用有機溶劑使物件 50於常溫施加乾燥，因而消除有機溶劑之加熱及冷却兩者 而促進能量節省。而且，由於操作者無需小心火，故能促進 乾燥操作。再者，即使當使物件舆霧接觸時，說明實例中於 常溫之乾燥操作亦不會造成欲藉由物件移除的有機溶谢霧 的熱，因而消除霧之任何相改變及使物件曝露於周圍大 氣。此外，說明實例以增加的濃度於有機溶劑氣氛中快速 地冷凝濕氣或水，因而呈現優異的乾燥特性。再者，說明實 例t，以惰氣或氮氣氛取代有機溶劑霧，因而有效地排除 氧，造成防止任何水痕之形成。而且，說明實例消除使用加 熱器加熱’因而使乾燥操作在短時間内進行，導致生產率增 加。再者，在密閉環境中發生乾燥操作，因而防止物件之沾 污。 依據本發明之一實例，藉由具有兆赫範圍頻率之超音
C:\Program Files\Patent\310543· ptd 第 14 頁 4 528 五、發明說明（11) 波振盪有機溶劑3 4以產生大量有機溶劑霧並藉由以相當高 流動速率排放純水在物件50表面上吸附有機溶劑霧，由而 防止在純水表面上形成純水與有機溶劑之混合物層。能藉 由加熱氮氣乾燥形成在物件50表面上之純水及有機溶劑的 液滴或厚度為1 Onm至1以m之純水及有機溶劑的液體膜。 再者，依據本發明之實例，藉由具有兆赫範圍頻率之超 音波振盪有機溶劑34，因而立即於常溫有效率地產生足夠 量的有機溶劑霧。習知裝置中，加熱有機溶劑，如IPA(其為 可燃液體）至沸點（大約82 °C)，且單一乾燥操作IPA的消耗 量約為600ml，而本發明實例能將有機溶劑34之消耗量降至 200ml或更少，造成成本降低。此外，與需約iq分鐘之習知 裝置相較下，單一乾燥操作所需的時間減少至約6分鐘因 而整體提昇。而且，若使超音波輸出為可變則能控制有機 溶劑霧之產生量。說明實例中，於惰性或氮氣氛中在2〇艺 至50 C之低溫中使用有機溶劑如ιρΑ,因而防止火。 說明實例中，自二十五（25)個晶圓中選擇兩個，亦即， 第一個晶圓S1及第二十五個晶圓S2,在於乾燥裝置1〇中施 加乾燥操作之前與之後，計算直徑為02"^或更大且黏附 至晶圓50表面之沾污顆粒的數目。晶圓在乾燥操作前與乾 燥操作後之顆粒數目差異不大如表所示。
4 5 2 8 7、
晶圓數 顆粒數目 (直徑>0.2 "」m") 乾燥撫作德 S1 15〇 143 S25 1 50 no 應注意物件表面之乾燥度或濕潤度與形成在物件表面 上之液體膜的厚度間的關係說明於日本機械協合等第W 至49頁j 1 994年3月之”環境製程工業1 993高技術移轉之研 究報告。依據此文獻，具有小於1〇nm厚度之液體膜表示乾 燥狀態；具有lOnm至l#m厚度之液體膜表示吸附液體的狀 態；及具有超過1 //m厚度之液體膜表示濕潤狀態。本發明 之實例中，由於當晶圓50曝露於有機溶劑或IpA霧時形成在 晶圓50表面上之液體膜具有例如Q802 yjj的平均厚度故 該種液艘膜被sS為係由物件50表面上的吸附所造成而非由 IPA之冷凝所造成。 此外，有機溶劑或ΪΡΑ與純水之混合物的形成係被發現 在IPA霧進入純水槽20後約1〇秒在純水表面上容易發生。 因此，當自純水槽20之純水的排放在IPA霧初始導入純水槽 20後10秒内完成時，在純水表面上即不會形成混合物層。 說明實例中’係使用晶圓為例作為洗淨物5 〇。當然說 明實例同樣可有效地應用於平坦材料如液晶顯示玻璃硬 碟基材，小尺寸材料如透鏡等的乾燥。如上所述，純水饋入 及排放閥21可由二向閥或四向·閥構成。使用四向閥可使欲 C:\Prograra Files\Patent\310543. ptd 第 16 頁 4 5 2 8 7 匕 五、發明說明（13) -- 饋入的化學藥品及純水進行任何希望之化學處理。 由前述可知，本發明係由在有機溶劑霧產生 超音波產生有機溶劑霧並使洗淨物浸泡於純水槽s之純水 中’然後操作純水槽及有機溶劑霧產生槽使彼此相通而排 放純水及將物件放置在有機溶劑霧的氣圍下然後將氮氣 饋=純水槽中以利用氮氣吹拂有機溶劑霧而構成。該種構 成消除加熱及冷却有機溶劑之需求，因而促使能量節省。 ，且，由於乾燥操作期間操作者無需小心火而有助於乾燥 操作，因而確保生產率之改善。又，乾燥操作係在密閉環境 中進行，因而減少有機溶劑之消耗並防止物件受沾污^此 外’濕氣或水以增加的濃度在有機溶劑氣圍下快速地冷凝， 導致呈現優異的乾燥特性。而且，以惰氣或氮氣氛取代有 機溶劑霧，因而有效地排除氧，導致防止任何水痕的形成。
C:\ProgramFiles\Patent\310543.ptd 第 17 頁 馈入的化學藥品及純水進行任 案號 88105895 五、發明說明（13)
由前述可知，本發明係由在有 之化學處理。 超音波產生有機溶劑霧並使洗淨機溶劑霧產生槽中藉由 中，然後操作純水槽及有機溶劑霧浸泡於純水槽之純水 放純水及將物件放置在有機溶割 生槽使彼此相通而排 饋入純水槽中以利用氮氣吹拂有的氣圍下，然後將氮氣 成消除加熱及冷却有機溶劑之需灰心劑霧而構成。該種構 而且，由於乾燥操作期間操作者I宏因而促使能量節省。 操作，因而確保生產率之改善。;心火而有助於乾 人，乾燥操作係在密閉環境 中進行，因而減少有機溶劑之消耗並防止物件受沾污。此 外’濕、氣或水以增加的濃度在有機溶劑氣圍下快速地冷凝， 導致呈現優異的乾燥特性。而且，以惰氣或氮氣氛取代有 機溶劑霧，因而有效地排除氧’導致防止任何水痕的形成。 [元件符號] 10 乾 燥 裝 置 20 純 水 槽 21 排 放 閥 21] 閥 Ώ 2“ 閥 口 213 閥 U 22a 第 一 排 放 闊 22b 第 — 排 放 23 蒸 氣 相 空 間 24 氮 氣 餵 入 25 排 氣 管 26 閥 27 蓋 28 支 撐 物 29 液 位 感 測 器 30 霧 產 生 槽 31a 内 槽 構 件 31b 外 槽 構 件 32 振 動 板 33 循 環 水
ύ 528 7 6 _案號88105895 年 <月曰_修正 五、發明說明（14) 34 有機溶劑 35 導管 36 飛濺防護板 37 氮氣餵入口 38 相通通道 39 閥 40 乾燥槽 41 加熱器 42 有機溶劑 43 物件 44 線圈 45 液體接收器 46 液體接收 器 50 物件、晶圓 50a 液滴 60 邊修刀 60a 末梢端 C 毛細波 T 超音波變 換器 L 液體 Μ 精細顆粒
310543.ptc 第17-1頁 2001.06.12.018
Claims (1)
- 案號 88105895 ft?年（^月/〆曰 修正 >、由培皇夺丨益衝 1. 一種洗淨物之乾燥方法，包括下述步驟： 沖洗浸泡於純水槽之純水中的物件； 藉由以超音波振盪有機溶劑而在有機溶劑霧產生 槽中於常溫產生有機溶劑霧； 自該有機溶劑霧產生槽供應有機溶劑霧至該純水 槽同時以預定速率自該純水槽排放純水，因而將物件放 置在有機溶劑霧之氣圍下；以及 將氮氣饋入該純水槽t以利用氮氣吹拂有機溶劑 霧。 2. 如申請專利範圍第1項之乾燥方法，進一步包括使有機 溶劑之溫度保持於常溫之步驟。 3. 如申請專利範圍第1或2項之乾燥方法，其中係藉由具有 兆赫範圍頻率之超音波振盪有機溶劑並使有機溶劑霧 吸附在物件表面上。 4. 如申請專利範圍第3項之乾燥方法，其中係藉由具有 0. 5MHz至10MHz範圍頻率之超音波振盪有機溶劑，選擇 有機溶劑霧之溫度為2 0 °C至5 0 °C，及有機溶劑霧滴具有 不大於100/zffi之直徑。 5. 如申請專利範圍第3項之乾燥方法，其中選擇自該純水 槽排放純水之預定速率，使得在物件表面上形成純水及 有機溶劑的液滴或厚度為1 Οποί至1 # m之純水及有機溶 劑的液體膜而不致在純水表面上形成純水與有機溶劑 之混合層。 6. 如申請專利範圍第4項之乾燥方法，其中選擇自該純水310543.ptc 2001.06. 12.019 第1頁 4 528 7 6 88105895_9〇 车 月申請專利範圍 水之預^速率，使得在物件表面上形成純水及 Si:液滴”度為—至1…純水及有機溶 媒而不致在純水表面上形成純水與有機溶劑 —種洗淨物之乾燥裝置，包括： 沖洗配/使純水導入其中及自其排放，因而 洗次泡於純水中之物件； 該純1$ Γ劑霧產生槽，配置成於其上部份選擇性地與 音波予二』ί並田裝配/1使置於其中之有機溶劑藉由超 生有機溶劑霧； 冑機-劑霧產生槽中於常温產 二：溶劑霧供應機構，用以自胃有機溶劑霧產生槽 供應有機溶劑霧至該純水槽； 钟太放機構，用以以預定速率自胃純水槽排放該 操作該純水槽及有機溶劑霧產生槽以使彼此 相通，因而將物件放置在有機溶劑霧的氣 以及 氮氣饋入機構，用以將氮氣健 ’ 氣氣吹拂有機溶劑霧。饋入該純水槽中以利用 之Λ燥裝置，其中該有機溶劑霧 產生槽具有包含内槽構件及外槽構件之雙 該外槽構件安置在具備具有黏附其上的超音波變 換器之振動板之其底部的外表面上； 該内槽構件具有使超音波能量能穿透其間的厚度 所形成之底部；4528 7 6 案號 88105895 曰 申請專利範圍 該内槽構件及外槽構件配置成使溫度調節用之循 環水在界定於該内槽構件與外槽構件間的空間内流動； 該内槽構件中置入有機溶劑’有機溶劑經由配置在 循環水中的導管循環之。 9 如申請專利範圍第7或8項之乾燥裝置，其中該純水槽 裝配成其上部份選擇性地完全閉人。 〃 如申請專利範圍第7或8項之乾燥;置，其中藉由具有 赫範圍頻率之超音波振盪有機溶劑並使有機溶劑霧吸 附在物件表面上。 11. 如申請專利範圍第9項之乾焊奘罟甘士过丄目士 &滞衷置，其中藉由具有兆赫 範圍頻率之超音波振盪有楼变為丨# + m ^ ^ ^ ^ L 啕機溶劑並使有機溶劑霧吸附 在物件表面上。 12. 如申請專利範圍第1〇項之耔 該有機溶劑霧之溫度為2^5^振盈有機溶劑，選擇 具有不大於剛Ρ之直^至5〇C及該有機溶劑霧滴 13‘如申請專利範圍第11項之乾燥 0, 5MHz至10MHz範圍頻率之超立置，「中藉由具有 該有機溶劑霧之溫度為2 〇 3 ^。振盪有機溶劑，選擇 具有不大於ΙΟΟμιη之直徑。 C及該有機溶劑霧滴 14·如申請專利範圍第7或8項之 純水排放機構排放之兮妯士 、裝置’其中選擇藉由該 面上不形成純水與有機溶劑的1速率，使得在純水表 成純水及有機溶劑的液滴 Λ 。層’在物件表面上形 ^ 度為lOnm至1以m之純水2001. 06.12. 021 ^528 ^528 修正 曰 .案號 88105叩5 ?£> 、申請專利範圍 及有‘溶劑的液體膜。 15, 如申凊專利範圍第g項之乾燥裝置，其中選擇藉由該纯 水排放機構排放該純水之預定速率，使得在純水表面上 不形成純水與有機溶劑的混合層在物件表面上形成純 水及有機溶劑的液滴或厚度為1〇ηΒ111/ζπι之純水及有 機溶劑的液體膜。 16. 如申請專利範圍第1〇項之乾燥裝置，其中選擇藉由該純 水排放機構排放該純水之預定速率，使得在純水表 、 不形成純水與有機溶劑的混合層，在物件表面上，、上 水及有機溶劑的液滴或厚度為1 〇 nm至形成純 機溶劑的液體膜。 水及有2001.06.12. 〇22
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