TW417111B - Semiconductor memory device with data sensing scheme regardless of bit line to bit line coupling - Google Patents

Semiconductor memory device with data sensing scheme regardless of bit line to bit line coupling Download PDF

Info

Publication number
TW417111B
TW417111B TW087100222A TW87100222A TW417111B TW 417111 B TW417111 B TW 417111B TW 087100222 A TW087100222 A TW 087100222A TW 87100222 A TW87100222 A TW 87100222A TW 417111 B TW417111 B TW 417111B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
bit line
data
voltage
circuit
control signal
Prior art date
Application number
TW087100222A
Other languages
English (en)
Inventor
Byeng-Sun Choi
Young-Ho Lim
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW417111B publication Critical patent/TW417111B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/12Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Description

2529twt'l .doc/002 A7 B7 經濟部t夬標率局員工消費合作社印製 五、發明説明(I ) 本發明係有關於一種半導體記憶體元件,且特別係有 關於一種能讀取串列資料之唯讀記憶體(ROM)元件。 隨著記憶體元件密度愈來愈高,內部的位元線空間將 降低。爲了獲得高密度積集度,內部位元線的靜電容量 (capacitance)變得較位兀線本身與邊緣的靜電容量局, 使得容電的位元線間稱合(caPacitive bit line-to-line coupling)變得更加嚴重。 第1圖繪示一種半導體記憶體元件作爲讀取串列資料 之一分隔罩幕唯讀記憶體(burst mask ROM)。參照圖1, ROM元件包含一記憶胞(未繪示)陣列12,以及多數個 位元線BLi ( i=l,2,…,64)。記憶胞陣列12分成8個記憶 胞區塊12-〗至12-8,每一記憶胞區塊具有8個位元線。ROM 元件如習知可區分成NAND型或NOR型,取決於記憶胞 的佈局(layout)。一般而言,NAND型ROM較NOR型 ROM能降低記憶胞陣列大小,雖然未繪示於圖中,記憶胞 陣列12可爲NAND結構或NOR結構。記憶體元件更包含 一位元線放電電路14、一位元線充電電路16、一預先充電 位準偵測電路18、一資料感測電路20、行選擇電路22和 24以及一資料輸出電路26。 雖然未繪示於圖中,但根據本習知例之記憶體元件更 包含一行預先解碼電路以及一資料讀取控制電路,如熟知 係分散於記憶胞陣列12附近。如圖所示,記憶胞元件結構 係以16位元行選擇訊號ΥΑ0至YA7與ΥΒ0至YB7選取 位元線 BLi(i=l,2,…,64)。 I---------士表------.玎 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2! 0 X 297公釐) ψ 417111 2 5 2,t\vf、】 d〇c/0〇2 A7 B7 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印製 五、發明説明(l) 此外,記憶胞陣列12之聯合電路14、16、18、20與 22分別對應記憶胞區塊12-1至12-8,每一皆分成8個區 塊(14-1 至 14-8 ’ 16-1 至 16-8,18-1 至 18-8’20-1 至 20-8, 以及22-1至22-8)。例如,位元線放電區塊14-1、位元線 充電區塊16-1、預先放電位準偵測區塊18-1、資料感測區 塊20-1與行選擇區塊22-1皆散佈在記憶胞區塊12_1附 近,每一聯合區塊14-1至14-8以及18-1至18-8由8個 NMOS形成,而其它的每一聯合區塊16_丨至16_8、 至20-8以及22-1至22-8則由8個PMOS形成。 一放電控制訊號Pdis在位元線放電電路I4內施於 NMOS電晶體之聞極;一預先充電控制訊號Pbpre在位兀 線充電電路16內供給PMOS電晶體之閘極;一預先充電位 準控制訊號Vbias在預先充電位準偵測電路18內供給 NMOS電晶體之閘極。 對於每一行選擇區塊22-1,22-2,···,或22-8 ’行選擇訊 號ΥΑ0至YA7被施於PMOS內;行選擇電路24包含8個 分別供應有行選擇訊號YB0至YB7的PM〇S;行選擇電路 24之電晶體分別對應至行選擇區塊22_1至22_8。在行選 擇電路24內PMOS電晶體之汲極通常連接至一資料線 DL,資料輸出電路26包括一 NMOS電晶體27與一 NAND 閘極28,電晶體27之閘極自一熟知的讀取控制電路(未 繪示)供有一控制訊號Sirf’且其源/汲通道連接在資料 線DL與接地電壓Vss間。NAND閘極具有一輸入以接 收資料線之資料訊號,其另一輸入用以接收來自讀取 6 (祷先閱讀背面之注$項再填寫本頁) -裝. ,-b 本紙張尺度適用中圃國家樣準(CNS > A4規格(210X W7公瘦) '1- '1- :5 29t\vfl .doc/002 A7 B7 五、發明説明(> ) 控制電路(未繪示)的一控制訊號SAfc,以及一輸出以輸 出有效的資料訊號PLj(j=0,l,…,7)。 (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第2A圖繪示產生圖1之預先充電控制電壓Pbpre之電 路圖。參照圖2A,預先充電控制電壓產生電路包含PMOS 電晶體 30、34 和 36,反相器(inverter) 32、42 和 48,一 NAND閘極48,以及NMOS電晶體40、50和52。 • 來自資料讀取控制電路之一控制訊號PRE被施於 PMOS電晶體30之閘極;反相器32和42之輸入接收來自 資料讀取控制電路之控制訊號STB和PRE。另一來自資料 讀取控制電路之控制訊號Vref施於NMOS電晶體40之閘 極;電晶體52閘極上提供有控制訊號PRE。 第2B圖繪示產生圖1之預先充電位準控制電壓Vbias 之電路圖。參照圖2B,預先充電位準控制電壓產生電路包 含一反相器54、一差動放大器區域56、一上拉(pull-up ) 電晶體64、一電壓驅動器區域66以及一下拉(pull-down) 電晶體68。 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 差動放大器區域56具有一第一輸入58以接收來自熟 知的資料讀取控制電路之控制訊號Vref,一第二輸入60 耦接至電壓驅動器區域56,以及一輸出62耦接於上拉電 晶體64之閘極。電晶體76和80之閘極通常供應有控制訊 號Vref,電晶體78之閘極耦接於電壓驅動器區域67,控 制訊號STB則經由反相器54被供應至電晶體68和82之 閘極。 電壓驅動器區域66由兩個電阻器84和86組成,其串 7 本紙張尺度i用中國國家標準(CNS ) A4規格(2I0X297公釐> " ψ 41711 1 Α7 2529twt'l ,d〇-e/00 2 Α/ Β7 五、發明説明(Υ) 聯在一節點70之間以輸出Vbias至電晶體68,電阻器84 和86連接至差動放大器區域56之輸出60。 第3圖繪示具有圖1、2A與2B電路之半導記憶體元 件在讀取操作時的時序圖。此後,所舉範例之ROM元件 的資料讀取操作都是以此些圖示來描述。 於等待(stand by )時段 Tl ’ Pdis 設成 Vcc(如 3.3 volts, 或5 volts)使所有位元線BLi (i=l,2,…,64)經由放電電 路14放電成接地電壓Vss (即0 volts)。在圖2A之預先 充電控制電壓產生電路情況下,因PMOS電晶體30、34 和36被啓動而NMOS電晶體50和52不被啓動使Pbpre 升至Vcc ;而在圖2B之預先充電位準控制電壓產生電路情 況下,因NMOS電晶體82和68不被啓動,Vbias藉由上 拉電晶體64升至Vec。因此,所有介於位元線充電電路16 與資料感測電路20間之節點N1至N64的電壓位準皆與位 元線BL1至BL64相等。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 I--------1------ΪΤ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在位元線預先充電時段T2間,STB和Pdis被拉下成 VSS,PRE和Vref分別升至Vcc和一預定電壓位準VREF1(如 1.2 volts);因此,放電電路14阻止位元線再放電,而Vss 之Pbpre與一預定電壓位準VREF2 (如2 volts)分別自圖 2A與2B被產生。結果,在位元線充電電路16內的PM0S 電晶體被打開使源電流自 Vcc流入位元線BLi (i=l,2,…,64 )。 時段T2內,差動放大器區域56因STB自Vcc被拉下 至Vss而啓動,此時,因施於差動放大器區域56之輸入58 8 本紙乐尺度適用中國國家標準(CNS ) ΛΑ規格(210X297公釐) 2529twfl doc/-0 02 A7 B7 五、發明説明(ζ:) 的Vref爲常數(即vREF| ),放大器56之輸出電壓取決於 施於其輸入節點60的輸入電壓。Vbias之電壓位準由電晶 體64之即時電阻率(rati〇 〇f the on_resistance)與電壓驅 動器區域66之總電阻決定。 如上所述,在時段T2內,Pbpr與Vbias分別被拉下至 乂55與VRnF2,介於位元線充電電路16與資料感測電路20 間之節點N1至N64提升至Vcc。.然而,若位元線BL1至 BL64皆達到VREF2-Vtn(其中‘Vtn’代表每一 NMOS電晶 體在預先充電位準偵測電路18內之起始電壓(threshold voltage)),電路18內之電晶體被關閉以致於位元線之充 電操作將停止,緊接著所有位元線將以VREF2-Vtn被預先充 電。同樣地,在時段T2內,Siref維持在VREF3,VREF3使 資料線在至少節點Ni (i=l至64)之一升至Vss時變得較 NAND閘極28之開啓電壓(trip voltage)還高。也就是說, 當高位準資料(或‘1’ )經由行選擇電路22和24轉換成 資料線DL,NAND閘極28僅在SAfc位於高位準(如Vcc) 時才會輸出有效的資料PLj(j=0至7)。 接著,在資料感測時段T3內,當STB和Vref維持在 如位元線預充電時段T2內相同之狀態時PRE再度升至 Vss。因此,在圖2A電路之情況下,所有電晶體30、36、 40、50與52除了電晶體34之外將被啓動,使Pbpre自Vss 被拉升至VREF4 « VRRF4使得約一半的即時記憶胞(tm-cell) 電流自充電電路16流向每一位元線。此時段間,若所選定 之記憶胞爲具有一電流槽路徑(current sink path)之即時 9 本紙張尺度適用中國國家榉隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) <諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) i 經濟部中央榡隼局貝工消費合作祍印製 2 5 2 9 tw f I .d 〇cy〇 A7 B7 五、發明説明(& ) 記憶胞,對應的位元線BLi將變得較VREF2-Vtn還低,且對 應之節點將提升至與對應的位元線位準相同;但是若所選 定之記憶胞爲不具電流槽路徑之離線記憶胞(0ff-cell), 位元線與節點將分別維持在預先充電電壓vREF2_Vtn與 vcc °之後,在資料輸出時段T4,SAfc升至Vcc,感測出 的並聯資料經由行選擇電路22 ' 24與資料輸出電路26被 串列地輸出至外部。 然而,根據上述之資料讀取機制,若兩鄰接位元線之 一連接至即時記憶胞,而另一位元線連接至離線記憶胞。 當即時記憶胞位元線被拉下至接地位準,離線記憶胞位元 線位準因位元線間耦合關係將下降一段時間。結果,對應 的感測節點位準也將沿具有離線記憶胞位元線位準下落一 段時間直到即時記憶胞位元線安置在穩定的狀態,此種容 電的耦合將導致感測時序延遲,感測失敗等問題。 因此本發明的目的便是提供一種資料讀取速度改善的 半導體元件。 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 ----1— ! I I 衣-- (請先閏讀背面之注意事項再填寫本頁) 爲達成上述目的,根據本發明第一觀點,提供一種半 導體記憶元件,包括一記憶胞陣列,散佈成列和行的矩陣; 多數個位元線,對應至行;一位元線預先充電電路,在一 位元線預先充電時段期間對應一第一控制訊號預先將位元 線充電;多數個電晶體,每一具有一電流路徑連接在對應 的位元線與位元線預先充電電路間,以及能提供一第二控 制訊號的一控制端子;一資料感測電路,經由電晶體感測 在位元線上的資料狀態;以及一控制電路,以產生第一與 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨Ο X 297公釐) 'ψ 417 t 1 1 2529twfl .doc/002 A7 B7 ___ 五、發明説明(q ) 第二控制訊號’其中第二控制訊號分別在位元線預先充電 與資料感測期間具有第一與第二電壓位準’且第一與第二 電壓位準彼此不相同。 實施例中,電晶體由NM〇s電晶體形成,而第一電壓 位準高於第二電壓位準。第一與第二電壓位準間之電位差 可相等或高於兩鄰接位元線間之一電容耦合所感應的電 壓,而兩鄰接位元線係分別連接至具有互補狀態之對應記 憶胞。 根據本發明,即使因內部位元線耦合導致自一位元線 預先充電電壓形成的位元線間耦合電壓,將使得一高電壓 位準位元線降低,自第一電壓位準升至第二電壓位準的第 二控制訊號將使對應的電晶體關閉。結果,介於電晶體與 資料感測裝置間對應的感測節點將維持在現有的電壓下, 不會短暫地在一資料感測時段期間下落。 爲讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明 顯易懂,下文特舉一較佳實施例,並配合所附圖式,作詳 細說明如下。 圖式之簡單說明· 第1圖繪示可被本發明一較佳實施例執行之一半導體 元件的電路圖; 第2A圖繪示產生圖1之預先充電控制電壓pbpre之電 路圖; 第2B圖繪示產生圖1之預先充電位準控制電壓vbias 之電路圖; 本紙張尺度適用中國國家標牟(CNS ) A4规格(210X 297公釐} ^^^1- mi 1 ^^^^1 ^n·— - ? ,vs (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部t央樣準局員工消费合作杜中製 2 52^tvvH .doc/〇〇; Α7 Β7 五、發明說明(?) 第3圖繪示具有圖1、2A與2B電路之半導記憶體元 件在讀取操作時的時序圖; 第4圖繪示根據本發明之一較佳實施例,能產生圖1 之預先充電位準控制電壓Vbias之電路圖;以及 第5圖繪示具有圖1、2A與4電路之半導記憶體元件 在讀取操作時的時序圖。 實施例 本發明較佳實施例將參照圖1、2A、4與5來描述。 下列之細節描述有些特定的細節僅用以方便說明本發明, 任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當 可作各種之更動與潤飾。 第1圖繪示一種可被本發明較佳實施例所執行之作爲 —分隔罩幕ROM的半導體記憶體元件。參照圖1,此記憶 體元件包含散佈成列和行矩陣的一記億胞(未繪示)陣列 12,每一記憶胞可被程式化以儲存具有互補邏輯狀態的一 二位元資料,以及多數個位元線BLi ( i=l,2,…,64)。記憶 ^陣列12分成8個記憶胞區塊12-1至12-8,每一記憶胞 區塊具有8個位元線。雖然未繪示於圖中,記憶胞陣列12 可爲一 NAND結構或一 NOR結構。記憶體元件更包含一 位元線放電電路14,在其資料讀取操作之一時段間(即等 待時段)預先將位元線BLi放電;一位元線充電電路16, 在襍作的一起始階段期間傳送電荷至位元線BLi以充電; 以及一預先充電位準偵測電路18,在一位元線預先充電期 間偵測位元線上的電壓’並在每一位元線上所偵測到的電 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --_-----------^--------訂---------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
I I 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ^ 417111 ' ... 2529twf 1 .doc/002 A7 : B7 五、發明説明(吁) 壓達到一預先充電電壓時抑制每一位元線被過度充電。此 \ · · · 外,記憶體元件包含一資料感測電路20,在其資料讀取操 作的資料感測時段期間感測存於記憶胞陣列:i2'內的資 . : 料;第一與第二行選擇電路22和24,作爲一並聯轉串聯 (P/S)的轉換器(converter),以將資料感測電路20的 並聯資料轉換成串聯資料;以及一資料輸出電路26,自第 一與第二行選擇電路22與24輸出串聯資料。 雖然未繪示於圖中,但根據本發明實施例之記憶體元 件更包含一行預先解碼電路以及一資料讀取控制電路,如 熟知分散於記億胞陣列12附近。爲方便說明,假設記憶體 元件結構係以16位元行選擇訊號ΥΑ0至YA7與ΥΒ0至 ΥΒ7選取位元線BLi(i=l,2,…,64)。 此外,記憶胞陣列12之聯合電路I4、I6、I8、2〇與 22分別對應記憶胞區塊12-1至12-8,如圖所示’每一皆 分成 8 個區塊(14-1 至 14-8,16-1 至 16-8 ’ 18-1 至 18-8 ’ 20-1至20-8,以及22-1至22-8)。例如,位元線放電區 塊14-1、位元線充電區塊16-1、預先放電位準偵測區塊 18-卜資料感測區塊20-1與行選擇區塊22-1皆散佈在記憶 胞區塊12-1附近,每一聯合區塊14-1至Η-S以及18-1至 18-8由8個NMOS形成,而其它每一聯合區塊16-1至 16-8、20-1 至 20-8 以及 22-1 至 22-8 由 8 個 PM0S 形成。 一放電控制訊號Pdis在位元線放電電路14內施於 NMOS電晶體之閘極,每一 NMOS之源/汲極通道(或電 流路徑)連接在對應的位元線與接地電壓Vss之間。一預 ----------------1τ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > Α4規格(210 X 297公釐) 1' 1' 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 2 52,,wf,.doc/〇〇2 A7 B7 五、發明説明(f〇 ) 先充電控制訊號Pbpre在位元線充電電路16內供給PMOS 電晶體之閘極,每一 PMOS之源/汲極通道連接在資料感 測電路20內對應的電晶體閘極與電源供應電壓Vcc之間。 此外,一預先充電位準控制訊號Vbias在預先充電位準偵 測電路18內供給NMOS電晶體之閘極,每一 NMOS之源 /汲極通道連接在對應的位元線與資料感測電路20內對 應的電晶體閘極之間。 對於每一行選擇區塊22-1,22-2,…,或22-8,行選擇訊 號ΥΑ0至YA7分別被施於PMOS內,其源/汲極通道分 別連接至資料感測電路20內的PM0S電晶體。第二行選擇 電路24包含8個分別供應有行選擇訊號ΥΒ0至YB7的 PM0S ;第二行選擇電路24之電晶體分別對應至行選擇區 塊22-1至22-8。也就是說,在行選擇電路24內PM0S電 晶體之源極通常連接至對應行選擇區域22-1,22-2,···,或 22-8內的電晶體;PMOS電晶體之汲極通常連接至一資料 線DL。資料輸出電路26包括一NMOS電晶體27與一 NAND閘極28,電晶體27之閘極自一熟知的讀取控制電 路(未繪示)供有一控制訊號Sirf,且其源/汲通道連接 在資料線DL與接地電壓Vss間。NAND閘極28具有一輸 入以接收資料線DL之資料訊號,其另一輸入用以接收來 自讀取控制電路(未繪示)的一控制訊號SAfc,以及一輸 出以輸出有效的資料訊號PLj(j=0,l,…,7)。
第2A圖繪示產生圖1之預先充電控制電壓Pbpre之電 路圖。參照圖2A,預先充電控制電壓產生電路包含PMOS ----------A------<τ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 2529twf1 .doc/0〇l ^ ^ T 1 1 1 A7 __B7 五、發明説明((f ) 電晶體30、34和36,反相器32、42和48,一 NAND閘 極48,以及NMOS電晶體40、50和52。 來自資料讀取控制電路(未繪示)之一控制訊號PRE 被施於PMOS電晶體30之閘極,且PMOS電晶體30之源 極與電源供應電壓Vcc連接。反相器32和42之輸入分別 自資料讀取控制電路(未繪示)收到自資料讀取控制電路 之控制訊號STB和PRE。PMOS霉晶體34與36之源/汲 極通道並連在PMOS電晶體30與一輸出節點38之間,以 提供預先充電控制電壓訊號Pbpre至位元線充電電路16, PMOS電晶體34和36分別耦接至反相器32和節點38之 輸出。NAND閘極具有兩輸入以接收反相器32和42的輸 出,NMOS電晶體40與50之源/汲極通道串連在輸出節 點38和接地電壓Vss之間。一來自資料讀取控制電路(未 繪示)之控制訊號Vref施於NMOS電晶體40之閘極’ NAND 閘極44之輸出經由反相器48被供應至NMOS電晶體50 之閘極。電晶體52閘極之源/汲極通道被耦接在輸出節點 38和接地電壓Vss之間,其上被供應有控制訊號PRE。 本發明之半導體元件包含一新的電路以產生圖1之預 先充電位準控制電壓Vbias,其可避免資料讀取速度因鄰近 位元線間電容耦合造成的延遲。 第4圖繪示根據本較佳實施例之一預先充電位準控制 電壓產生電路,圖中與圖2B中相同之元件以相同標號標 示。參照圖4,預先充電位準控制電壓產生電路包含一反 相器54;—差動放大器區域56; — PMOS上拉電晶體64, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(21〇Χ29"7公釐) ---------/------訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 2 529twH .doc/OO^ Λί _B7_ 五、發明説明(丨1) 其源/汲極通道與電源供應電壓vcc相連;一電壓驅動器 區域67 ; — NMOS下拉電晶體68,其源/汲極通道與接 地電壓Vss相連;以及一電壓控制區域88。 差動放大器區域56具有一第一輸入58以接收來自熟 知的資料讀取控制電路之控制訊號Vref’ 一第二輸入60 耦接至電壓驅動器區域67,以及一輸出62耦接於上拉電 晶體64之閘極。差動放大器區域.56包含由PMOS電晶體 72'74所形成的一電流鏡(current mirror)(或電流源); 由NM0S電晶體76、78所形成的一差動對(differential pair );由NMOS電晶體80所形成的一串級(cascade ); 以及由NMOS電晶體82所形成的一電流漕(current sink)。電晶體72、76、80與82之源/汲極通道串聯於 電源供應電壓Vcc和接地電壓Vss之間,電晶體72和76 之汲極通常與上拉電晶體64之閘極連接,上拉電晶體64 之源/汲極與一節點71連接以提供預先充電位準控制訊 號Vbias至圖1之預先充電位準偵測電路18。電晶體76 和80之閘極通常供應有控制訊號Vref,電晶體74和78 串聯耦接在電源供應電壓Vcc與電晶體76和80之接合節 點(junction node)間。電晶體72和74之閘極通常耦接 至電晶體74和78之接合節點81。電晶體78之閘極耦接 於電壓驅動器區域67,控制訊號STB則經由反相器54被 供應至電晶體68和82之閘極。 電壓驅動器區域67包含三個串聯至一節點71的電阻 器84、85與86。電組器S5和86之接合節點連接至差動 16 ---------A------π (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) t ® ® ( CNS ) { 210 X 297/^¾ )' ' 2?29twfl doc/002t if 41711 A7 B7 經濟部中央標準局負工消費合作社印裝 五、發明説明(y) 放大器區域56之輸出60。 電壓控制區域88由一反相器9〇與一 NMOS電晶體92 組成,電晶體92之源/汲極通道越過電阻器85而連接。 來自資料讀取控制電路(未繪示)之控制訊號經由反相器 90施於電晶體92之閘極。當然,區域88可只由一個PMOS 電晶體組成。此區域⑽藉由節點71和差動放大器區域之 輸入60間對應訊號PRE之電阻變化改變訊號Vbias之電 壓位準。 第5圖繪示根據本實施例具有圖1、2A與4電路之半 導記憶體元件在讀取操作時的時序圖。此後,便對應圖1、 2A與4詳細描繪如下。參照圖5,根據本實施例之ROM 元件的資料讀取操作分成四個時段:等待時段T1、位元線 預先充電時段T2、資料感測時段T3以及資料輸出時段 T4。於位元線預先充電時段T2內,所有位元線BL1至BL64 以一預先充電電壓充電至足以讀取存於記憶胞內的資料。 於資料感測時段T3內,位元線上的電壓位準與所選定之記 憶胞聯合,由資料感測電路20感測以偵測是否所選定之記 憶胞爲即時記憶胞或離線記憶胞。而於資料輸出時段T4 內,感測的資料被輸出至外部。 首先,於等待時段Tl,Pdis設成vcc (如3.3 vohs ’ 或5 volts)使所有位元線BLi (卜1,2,…,64)經由放電電 路14放電成接地電壓Vss (即0 volts),同樣STB與Vref 也在PRE設成vss時被設成Vcc。在圖2A之預先充電控制 電壓產生電路情況下,因PM0S電晶體30、34和36被啓 .(請先町讀背面之注意事項再镇寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標隼局貝工消费合作社印裂 2529t\vfl doc/OO-^' ί ’ - , ^7 B7 五、發明説明(丨p ) 動而NMOS電晶體5〇和52不被啓動使Pbpre升至Vcc ; 而在圖4之預先充電位準控制電壓產生電路中,因NMOS 電晶體82和6S不被啓動,Vbias藉由上拉電晶體64升至 Vcc。此時,自圖2A與圖4之電路分別產生出Vcc之訊號 Pbpre與Vbias,因此所有介於位元線充電電路16與資料 感測電路20間之節點N1至N64的電壓位準皆與位元線 BL1至BL64相等。Siref與SAfc分別維持在Vcc與Vss, 資料輸出電路26之輸出PLj維持在Vcc,但僅在資料輸出 時段T4期間才會輸出。 在位元線預先充電時段T2期間,STB和Pdis被拉下 成Vss,PRE和Vref分別升至Vcjn—預定電壓位準VREF1 (如1.2 volts),因此,放電電路14阻止位元線再放電, 而Vss之Pbpre與一預定電壓位準VREF5之Vbias分別自圖 2A與圖4被產生。VREF5較後續時段T3中藉由鄰近位元線 間一電容的耦合電壓橫越電阻器84和86所得之下降電壓 VREF2 (約2 volts)高’或者高許多。結果’在位元線充電 電路16內的PMOS電晶被打開使源電流自Vcc流入位元線 BLi ( i=l,2,··· ,64 )。 在時段T2內,差動放大器區域56因STB自Vcc被拉 下至Vss而啓動,此時,因施於差動放大器區域56之輸入 58的Vref爲常數(即VREF,),放大器56之輸出電壓取決 於施於其輸入節點60的輸入電壓。換句話說,上拉電晶體 63之即時電阻隨著電壓驅動器區域67所區隔的電壓,即 橫越電阻器86之電壓而改變,電晶體92對應PRE決定是 本紙張尺度適用中國鬮家樣率(CNS ) A4規格(210X297公釐) 二請§讀背面之注意事項再續爲本頁) 、-·* 經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 41 7 1 Η 2529tvvH .doc/002 *9 A7 _B7____ 五、發明説明(丨y) 開或關,使得電壓驅動器區域之總電阻也改變。因此,Vbias 之電壓位準由電晶體64之即時電阻率與電壓驅動器區域 67之總電阻決定。 如上所述,在時段T2內,Pbpr與Vbias分別被拉下至 乂^與VREF5,介於位元線充電電路16與資料感測電路20 間之節點N1至N64提升至Vcc。然而,若位元線BL1至 BL64皆達到VREF5-Vtn(其中‘Vtn’代表每一 NMOS電晶 體在預先充電位準偵測電路18內之起始電壓)’電路18 內之電晶體被關閉以致於位元線之充電操作將停止,緊接 著所有位元線將以VREF5-Vtn被預先充電。 在一讀取循環內,僅有ΥΑ0至YA7之一被啓動,ΥΒ0 至ΥΒ7全部則輪流以一預定的時序被啓動,因此藉由資料 感測電路20所感測的8位元資料便被串列地讀出。 同樣地,在時段Τ2內,Siref維持在VREF3,VREF3使 資料線DL在至少節點Ni ( i=l至64)之一升至Vss時變 得較NAND閘極28之開啓電壓(trip voltage)還高。也就 是說’當高位準資料(或‘1’ )經由行選擇電路22和24 轉換成資料線DL,NAND閘極28僅在SAfc位於高位準(如 Vcc)時才會輸出有效的資料PLj(j=0至7)。 接著,在資料感測時段T3內,當STB和Vref維持在 如位元線預充電時段T2內相同之狀態時PRE再度升至 Vss。因此,在圖2A電路之情況下,所有電晶體30、36、 40、5〇與52除了電晶體34之外將被啓動,使pbpre自Vss 被拉升至VREF4。VreF4使得約一半的即時記憶胞電流自充 19 本紙張尺度 ▲ Gx297/;^ '- (請^讀背面之注意事項再硝寫本頁)
2529twfl doc/002 ,#171 A7 B7 五、發明説明(/¾) 電電路16流向每一位元線。vss的PRE使NMOS電晶體 92可傳導’使Vbias自Vref5被下拉至Vref2。此時段T3 期間,若所選定之記憶胞爲即時記憶胞,對應的位元線BLi 將變得較VREF5-Vtn還低,且對應之節點Ni將因其電流槽 路徑形成而提升至與對應的位元線位準相同;相反地,若 所選定之記憶胞爲離線記憶胞,位元線與節點將分別維持 在預先充電電壓VREF5-Vtn與Vcc。因此,若兩鄰接位元線 之一連接至即時記憶胞而另一連接至離線記憶胞,即使離 線記憶胞位元線位準因位元線間耦合電壓自vREFrVtn降 至VBCP,對應的預先充電位準偵測電路之電晶體將因vbias 自vREF5被下拉至VreF2而關閉。結果,對應的節點Νί不 須暫時地下落也能維持在Vcc,如同位元線預先充電時段 T2內的情況。 最後’在資料輸出時段T4,SAfc升至Vcc,感測出的 並聯資料經由行選擇電路22、24與資料輸出電路26被串 列地輸出至外部。 經濟部中央標準局負工消費合作社印裂 •(請先間讀背面之注$項再镇氡本頁) 如上所述,於位元線預先充電時段內,因考慮電容的 位元線間耦合電壓使位元線被預先充電,因此改善了資料 感測的速度與感測極限。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上’然其並非用 以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者爲準。 20 本紙張尺度適用+國囤家標準(〇«)人4規格(210乂297公釐)

Claims (1)

  1. • 't 3ί·. Μ41711 t 2 529twfl doc/002 月日修正/更正/補充 \AL A8 Γ Β8 ' C8 D8 經濟部中央標牟局員工消費合作社印策 、申請專利範圍 L一種半導體記憶體元件,具有一資料讀取操作,該 資料讀取操作由一位元線預先充電時段、一資料感測時段 與一資料輸出時段依序組成;該元件包括: 一記憶胞陣列,散佈成列和行的矩陣,每一記憶胞可 被程式化以儲存具有互補邏輯狀態的一二位元資料; 複數個位元線,對應至行,每一位元線連接至少一記 億胞; 能在該些位元線預先充電時段期間,對應一第一控制 訊號預先充電該些位元線的裝置; 複數個電晶體,每一電晶體皆具有一電流路徑以及被 供給一第二控制訊號的一控制端子,該電流路徑連接在對 應的該位元線與該裝置間; 能經由該些電晶體感測在該些位元線上的資料狀態的 資料感測裝置;以及 用以產生該第一與第二控制訊號的控制裝置,其中該 第二控制訊號在該位元線預先充電時段與資料感測時段分 別具有第一與第二電壓位準,且該第一與第二電壓位準彼 此不相同。 2. 如申請專利範圍第1項所述之半導體記憶體元件,其 中該些電晶體爲NMOS電晶體,且該第一電壓位準高於該 第二電壓位準。 3. 如申請專利範圍第2項所述之半導體記憶體,元件,其 中該第一與第二電壓位準間之電位差相等於該兩鄰接位元 線間之一電容耦合所感應的電壓,而該兩鄰接位元線係分 別連接至具有互補狀態之該對應記憶胞。 2 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、vs 本紙張尺度逍用中囷國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
TW087100222A 1997-01-13 1998-01-09 Semiconductor memory device with data sensing scheme regardless of bit line to bit line coupling TW417111B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970000672A KR100234878B1 (ko) 1997-01-13 1997-01-13 반도체 메모리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW417111B true TW417111B (en) 2001-01-01

Family

ID=19494548

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW087100222A TW417111B (en) 1997-01-13 1998-01-09 Semiconductor memory device with data sensing scheme regardless of bit line to bit line coupling

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5949727A (zh)
JP (1) JP3666782B2 (zh)
KR (1) KR100234878B1 (zh)
TW (1) TW417111B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3110407B2 (ja) * 1998-12-11 2000-11-20 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 半導体記憶装置
KR100466981B1 (ko) * 2002-03-04 2005-01-24 삼성전자주식회사 저전압 불휘발성 반도체 메모리 장치
JP2004158111A (ja) * 2002-11-06 2004-06-03 Toshiba Corp メモリ回路
US6768677B2 (en) * 2002-11-22 2004-07-27 Advanced Micro Devices, Inc. Cascode amplifier circuit for producing a fast, stable and accurate bit line voltage

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3252306B2 (ja) * 1993-08-10 2002-02-04 株式会社日立製作所 半導体不揮発性記憶装置
JPH07254275A (ja) * 1994-01-31 1995-10-03 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR19980065596A (ko) 1998-10-15
KR100234878B1 (ko) 1999-12-15
JPH10208492A (ja) 1998-08-07
US5949727A (en) 1999-09-07
JP3666782B2 (ja) 2005-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5241506A (en) Semiconductor memory circuit apparatus
TW200809870A (en) Integrated circuit having a memory with low voltage read/write operation
US6973001B1 (en) Semiconductor integrated circuit capable of adjusting the operation timing of an internal circuit based on operating environments
KR0172403B1 (ko) 불휘발성 반도체 메모리의 데이타 리드회로
KR100279877B1 (ko) 반도체 메모리 소자, 반도체 메모리의 데이터 읽기방법 및데이터 저장 장치
EP0125699A2 (en) Data output circuit for dynamic memory device
TW312016B (zh)
JPH0534759B2 (zh)
TWI463504B (zh) 記憶體裝置及操作此裝置之方法
JPH0373495A (ja) 半導体メモリ装置
US20010050878A1 (en) Semiconductor memory device and control method
TW305045B (zh)
TW200402726A (en) Semiconductor memory device
TW586229B (en) Semiconductor integrated circuit
TW312017B (zh)
JP2704246B2 (ja) 出力バッファ
TW394952B (en) Non-volatile semiconductor memory and constant voltage generator in the same
JPH0520840B2 (zh)
TW530308B (en) Semiconductor memory
US5245578A (en) DRAM with a two stage voltage pull-down sense amplifier
TW385451B (en) Multi-bits storage memory IC and method for accessing its storage data
TW382712B (en) ROM semiconductor
TW378328B (en) Wordline voltage generation circuit capable of storing multibit data in semiconductor memory device
TW417111B (en) Semiconductor memory device with data sensing scheme regardless of bit line to bit line coupling
TWI280586B (en) Semiconductor device having sense amplifier driver that controls enabling timing

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees