TW409209B - Method of simulating impactionization phenomenon in semiconductor device - Google Patents

Method of simulating impactionization phenomenon in semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
TW409209B
TW409209B TW087113871A TW87113871A TW409209B TW 409209 B TW409209 B TW 409209B TW 087113871 A TW087113871 A TW 087113871A TW 87113871 A TW87113871 A TW 87113871A TW 409209 B TW409209 B TW 409209B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
equation
current density
carrier
impact ionization
current
Prior art date
Application number
TW087113871A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigetaka Kumashiro
Original Assignee
Nippon Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co filed Critical Nippon Electric Co
Application granted granted Critical
Publication of TW409209B publication Critical patent/TW409209B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/20Design optimisation, verification or simulation
    • G06F30/23Design optimisation, verification or simulation using finite element methods [FEM] or finite difference methods [FDM]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Description

五、發明說明() 號專利申請案中^專4彳8說;月4書修正頁
經濟部智慧財產局員工消費合作社印Μ 【圖式之簡單說明】 本發明之其他特徵、目的及優點,將在下文中參照附 圖對較佳實施例的說明及之解釋而更加凸顯,在各附圖中 相同之記號表示相同或對應之部分。 圖1A和1B爲顯示將習用技術之衝撃電離現象之模 擬方法實施於兩度空間的結構時不同類型之物理量的位置 關聯圖; 圖2爲顯示將習用技術之衝擊電離現象之模擬方法實 施於一度空間的結構時,不同類型之物理量的位置關聯 圖; 圖3爲顯示將依本發明之衝擊電離現象之模擬方法實 施於一度空間的結構時,不同類型之物理量的位置關聯 圖; 圖4A和4B爲顯示將依本發明之衝擊電離現象之模 擬方法實施於兩度空間的結構時,不同類型之物理量的位 置關聯圖; 【符號說明】 Ω〜控制體積之陰影區 3Ω-區域Ω之圓周 η〜電子密度 Ρ〜電洞密度 π〜靜電電位 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝---------1訂----------妗 本紙張尺度適用令國囤家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 409209 ______B7 五、發明説明() 【發明之背景】 .本發明廣泛的關於以電腦來模擬一半導體裝置的電特 性之方法,更具體而言,是關於一個在一半導體裝置中載 子之衝擊電離現象的模擬方法。 以電腦模擬一半導體裝置的電特性之方法在Ry〇 Dan ed.的”處理裝置模擬技術” pp. 91-134(下文中將以第一文獻 指稱)中有所敘述。在此例子的情形,一個將要分析的區 域會分化成一個許多小部分及元素的網格。並且,在每個 網點(或結點),一個柏松方程式、一個電子電流連續方程 式、一個電洞電流連續方程式都被離散化化。除此之外, 這些方程式經過線性化再以牛頓法來解。 較特別者,在第一文獻中114頁所敘述之控制體積法 被廣泛的使用於方程式的離散化化。 一個將關於因在高電場下的衝擊電離所造成之載子產 生’引進到以控制體積法離散化的電流連續方程式中的方 式在如 IEEE Trans Electron Devices,vol. ED-32, No. 10 pp.2076-2082 的 S. E. Laux 和 B. M. Grossman 的”一個用於 '一半導體運輸的衝擊電離模型的廣泛的控制體積公 式”2077頁的”數値公式”這節中有解釋(下文中將以第二文 獻指稱)。 流經網格邊緣(或邊線或支線)的電流之電流密度敘述 於第一文獻的方程式(3·68)及第二文獻第2077頁的方程式 (3),此乃使用第一文獻中U9-122頁所敘述的Scharfetter-Gummel 計晝[|。 ----------裝------訂------腺 -(誚先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) , 好确部中夾標準局兵-T消费合竹社印來 本紙張尺度通用中國围家標肀(('NS ) Λ4規格(2丨ΟΧ 297公f ) ^^.部中央標準局兵Η消资合作社印絮 409208 at _B7_ 五、發明説明() .一個半導體裝置的衝擊電離現象的模擬在穩定的狀態 下之情形可以藉由使用這些方程式和一個電流連續方程式 來解釋,其在穩定狀態下,當衝擊電離成分爲主要成分時 之模擬,同時另具有一個柏松方程式,然後藉由使用一個 適當的邊界條件來解這些聯立方程式。 然而,在上述之習用技術中一半導體的衝擊電離之模 擬方法在計算代表一狀態的資料時且顯著的衝擊電離因高 電場而產生時,就會出現不穩定之現象。 _在習用技術中顯示於第一和第二文獻所使用的方程式 中,載子之產生量首先以從控制體積流出的電流之密度來 評估,而評估過之載子產生量再指派或分開到作爲電流源 之控制體積,並且局部執行一個正向回饋。因此,當和在 網點上之電流密度相應對的一個電離係數因電場之強度增 加而增加時,換言之,當電場增加,電離係數也隨之增加 時,模擬就面臨在離散化的電流連續方程式中的和載子密 度相應對的係數變成零的情況。此情形的發生表示載子之 密度可爲一任意値。如此,模擬就變成不穩定。 作爲一個避免不穩定現象發生的方法,在習用技術中 已建議的一種方法爲:藉由減低網點彼此之間的距離L之 方式,而將對應於載子密度的係數爲零的一點朝向高電場 側加以移位。然而’通常當電場E之強i增加時,電離係 數α也會成指數函數增加。因此’在使用此方法的情況下’ 當電場Ε之強度增加時’所需之網點數也成指數函數增 力口。結果,計算時間之持續時間也成指數函數增加。因此, ___4____ 本紙張尺度適川中國囤家標今(C'NS ) AAim ( 2ί〇Χ297^* ) ----------.裝------訂------浪 < · - 〆請先閱讀背面之注意事項再城寫本頁) . 409208 A7 ____B7 ____ 五、發明説明() 此習用技術的方法並不實用。 【發明之槪述】 因此,本發明的目的之一爲提供一個可以穩定執行的 半導體裝置的衝擊電離現象之模擬方法。 爲了達到本發明上述之目的,提供了本發明之第一個 半導體裝置的衝擊電離現象之模擬方法,藉此可由在空間 設定一個網格和對以控制體積法離散化的一個柏松方程 式、一個電子電流連續方程式和一個電洞電流方程式求解 之方式,而得到關於半導體裝置的衝擊電離現象的電特 性。在使用此方法之情況下,和以經離散化之電子電流連 續方程式和電洞電流連續方程式所得的一方程式中載子密 度相應對的係數被設定爲除了零以外的數値。 除此之外,根據本發明,並提供第二個方法以使上述 半導體裝置的衝擊電離現象之第一個模擬方法具體化。在 使用第二個方法的情況下,定義於連接鄰近網點的一個網 格邊緣的電流密度,係使用不同的數値來做爲在一載子漂 移的上游側的電流密度之評價値及下游側的電流密度評價 値。 _ 另外,根據本發明,亦提供第三個方法以使上述半導 體裝置的衝擊電離現象之得二個模擬方法具體化。第三個 方法包括設定上游側所得到之電流密度及下游側所得到之 電流密度之間的差距之步驟,使其設定爲和與一個網格邊 緣相應對的控制體積中之載子的因衝擊電離而產生之倍增 載子電流密度相同。 _________5_____ 本紙張尺度通用中國g家標埤((,NS ) Λ4規格(2】〇X297公漤) ^衣------.1T - « (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明說明() 號專利申請案中^專4彳8說;月4書修正頁
經濟部智慧財產局員工消費合作社印Μ 【圖式之簡單說明】 本發明之其他特徵、目的及優點,將在下文中參照附 圖對較佳實施例的說明及之解釋而更加凸顯,在各附圖中 相同之記號表示相同或對應之部分。 圖1A和1B爲顯示將習用技術之衝撃電離現象之模 擬方法實施於兩度空間的結構時不同類型之物理量的位置 關聯圖; 圖2爲顯示將習用技術之衝擊電離現象之模擬方法實 施於一度空間的結構時,不同類型之物理量的位置關聯 圖; 圖3爲顯示將依本發明之衝擊電離現象之模擬方法實 施於一度空間的結構時,不同類型之物理量的位置關聯 圖; 圖4A和4B爲顯示將依本發明之衝擊電離現象之模 擬方法實施於兩度空間的結構時,不同類型之物理量的位 置關聯圖; 【符號說明】 Ω〜控制體積之陰影區 3Ω-區域Ω之圓周 η〜電子密度 Ρ〜電洞密度 π〜靜電電位 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝---------1訂----------妗 本紙張尺度適用令國囤家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 409208 ""·部中央標淖局兵-T消費合作社印欠 Α7 Β7 五、發明説明() Jn〜電子電流密度 Jp〜電洞電流密度 *η〜電子之遷移率 *Ρ〜電洞之遷移率 Dn〜電子擴散常數 Dp〜電洞之擴散常數: Gn〜電子產生速率 Gp〜電洞之產生速率 Rn〜電子的再結合速率 Rp電洞之再結合速率 n(i)〜網點i的一個電子密度 P(i)〜網點i的一個電洞密度 Jn(i-1,i)〜流經網點i和(i-Ι)之間的電子電流密度 Jp(i-1,i)〜代表流經網點i和(i-i)之間的電洞電流密度 otn(i-l,i)〜網點i和(i-Ι澗的電子電離係數 οφ(ί-Μ)分別代表在網點i和(i-Ι澗的電洞電離係數 wij〜一個網格邊緣ij的一電流通道斷面 Sij〜指派給相_同網格邊緣ij的控制體積大小 Ψ⑴〜網點i的靜電電位 Ψΰ)〜網點j的靜電電位 n(i)〜網點i的電子密度 ^ n(j)〜網點j的電子密度 P(i)〜網點i的電洞密度 P(j)〜網點j的電洞密度 ----------裝------訂------泉 - .. 一 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) , . 本紙張尺度通州中標?? { C’NS ) Λ4規格(210x297公釐) 409202
及、發明説明() (讳先閱讀背面之注意事項再填·寫本頁) to(i,j).格邊緣U之電子遷移率 呻(i ,j)~網格邊緣ij之電洞遷移率 ijk〜三角形之三面 1,i)〜爲從網點(i-1)流出之電流的電流密度 Jtid(i-i,i)爲流向網點i的電流之電流密度 Jpu(i,i+i)〜”好數”電流密度 點彼此之間的距離 s〜斜線陰影區之長度 【較佳實施例之詳細說明】 首先,爲了能對本發明有更深入的瞭解’上述以習用 技術所執行的半導體裝置的衝擊電離現象之模擬方法將在 下文中參照圖1A,1B和2來詳加說明。 在上述中依習用技術之模擬電特性之方法在第一文獻 中記載於9M34頁,被分析的區域劃分爲一個有許多分 區及單元的網目。並且,在每個網點上,一個柏松方程式, 一個電子電流連續方程式和一個電動電流連續方程式是經 離散化的。1¾外,這些方程式是線性化的並以牛頓法或類 似的方法來解這些方程式。如此,就得到了這些方程式的 解法。 値得一提的是,在第一文獻中114頁所記載的一個控 制體積法,被廣泛的使用於方程式之離散化。 一個關於以在高電場下衝擊電離來產生離子並進入以 控制體積法來離散化的電流連續方程式中的方法,例如在 ______8__ 本紙汰尺度適用中國國家榡埤((、NS了Λ4規;^ 2Ϊ〇Χ 297公弟) ^ '~ 409208 A7 B7 ~ | J ________— 五、發明説明() 上述之第二文獻的數値公式區2077頁有加以說明。 在下文中,將簡要的說明此方法。 思考下面之電子電流連續方程式(1)和(2)及接下來的 電洞電流連續方程式(3)和(4),其依據在網點的物理量,執 行下面之⑴到(4)方程式之離散化,轉換爲代數方程式。 dn 1 π r « „ ¥ = -V-Jn+Gh-R„ ... ——(1) Jn- ^-(Ιβ^φ + qDyn ——(2) φ dt 一—V -Jp +Gp - Rp ——(3) J Ρ = -^μΡΡ^φ~ΦΡ^ρ ——(4) (誚先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝 在方程式⑴到(4)中,n,p和p分別表示一個電子密 度,一個電洞密度,一個靜電電位。再者,Jn和Jp分別 代表一個電子電流密度和一個電洞電流密度。除此之外, 和*p分別代表電子之遷移率及電洞之遷移率。Dn和DP 顯示一電子及電洞之擴散常數。Gn和Gp是分別表示電子 和電洞之產生速率。Rn和Rp則分別表示電子的再結合速 率及電洞之再結合速率。在離散化兩度空間結構的情況 下,將高斯定理應用到方程式(1)到(3)的前後項,使其轉換 爲下列的方程式(5)和⑹。再者,把方程式(5)和⑹應用到 每一個網點附近所具有的一個陰影部分Ω,如圖1A所顯 示。
If ( dn\ sn^n nd{dQ) ^ JJ〇 Gn-Rn--------(5) -nd{dO)= \\a^Gp~RP~~y^· -------⑹ 此陰影區Ω稱爲控制體積,其爲一個藉毗連接中心周 _______ _______9_ 本紙张尺度適用中SB!家標??( i’NS ) Λ4规栝(2ΙΟΧ 297公f ) ~ .訂 良 經.濟部中次楫準局貝^:消资合竹.牡印$ 409208 A7 B7 五、發明説明() 圍之一群有連結到一個共同網點i的網格邊緣之三角形所 形成的簡單連結之封閉領域。再者,”沉r則爲區域Ω之圓 周。 此外,一個實際應用高斯定理之過程將在下文中描 述。首先,有一個共同網點的一個三角形ijk如圖1B中被 提取。之後,藉由採方程式(5)和⑹的近似値就可得到和一 微小區域相應對的下列方程式(7)和(8)。 --------⑺ [Uj) = Rp{i,j)~ ^ j --------⑻ —„--------^— .(請先閱讀背面之注意事項再^寫本頁) 恕濟部中决樣準局兵Η消於合竹社印;:水 在方程式⑺和⑻中,wij爲表示給一個網格邊緣ij的 一電流通道斷面,Sij則表示爲指派給相同網格邊緣ij的 控制體積大小。 再者,Jn(i,j)和Jp(i,j)分別代表流經網格邊緣ij之電 子電流密度和電洞電流密度。Gn(i,j)和Rn(i,j),GP(i,j)以 及Rp(i,j)代表在微區域〇im中一個電子產生速率,一個電 子再結合速率,一個電洞產生速率及一個電洞再結合產生 速率。除此之外,n(〇和p(i)分別代表在網點i的一個電 子密度及一個電洞密度。反之,流經網格邊緣ij的電流密 度下列方程式⑼和(11)表示,此和第一文獻之方程式(3.68) 及第二文獻之方程式(3)相同,其中以使用在第一文獻中 119-122頁所描述的Scharfetter-Gummel方案來進行。 ln(i A _ „凡(,")π「iA JMn(UJ)(9{f) ,' J /
H J \
DniUj) -* 辣 本紙张尺度適用中國囤家榡率(f’NS ) Λ4現格(210X297公梦) A7 B7
40920S λ發明説明( 人Uj)
MP{hj)kT β \ρϋ)-β (9) βρ(ί,Μφ(ΐ)~φϋ) Dp{i,j)~ ρ(0 β(χ) exp(x) -1 (10) -(11) 在方程式(9)和(11),ψ①,ψ〇),邮),η①,p(i)和ρ①分別 代表在網點i的靜電電位,在網點j的靜電電位,在網點i 和j的電子密度及在網點i和j的電洞密度。並且,μη(ί,j) 和μρ(ί,j)代表在網格邊緣ij之電子及電洞之遷移率。Dn(i, j) 和DP(i,j)分別代表在網格邊緣ij的電子擴散常數和電洞擴 散常數。接下來的方程式(12)和(13)之產生爲在方程式(9) 和(10)兩邊中把所有有共同網點i的微小區域相加。 ' ’ dn{^\ -------(12) ~ Σ WijJr> = Σ ~ ~ ' q j ./ V dt Φω、 ~Y,WVJP ^ ^ = Σ Sv {GP j) ~ Rp J) dt (13) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝- 經濟部中央標準局貝J消於合作社印聚 將上述之操作執行於所有的網點上,從電流連續方程 式中就可得出離散化的方程式。此外, M)=M)=〇 ——(14) dt dt - ^〇·,Λ = ^(ί,;) = 〇 -------(15) 因此,在方程式(13)的右項中,此項哮了 Gn(i,j)和Gp(i, j)外可以加以忽略。再者,和藉衝擊電離所產生之電子及 電洞相應對的方程式項是經由使用一個如下列方程式(16) 般之範典方程式,此方程式和上述之第二文獻裡第2076 頁的方程式(1)相似。 11 本紙張尺度速用中國围家標彳丨ΓΝ5 ) Λ4規格(21〇Χ 297公嫠) 五、發明说明( 409208 A7 B7
Gn (i, j) = Gp(iJ) = (an (i, y)| JXT)| + (i, ;)|Λ(ΰ)|) -------(16) 在方程式(16)中,分別代表電子及電洞 之電離係數。並且,在方程式(16)中,Jn(ij)和Jp(i,j)之共 軛値分別代表由三角形(即三角形元素)ijk投射於網格邊緣 ij之平均電流密度所得的電子電流密度及電洞電流密度。 Jn(i,j) -------(F1) ZUJ) -------(F2) 由第二文獻第2078頁左欄的描述中,電子及電洞之 電流密度値以下列代表在三角元素ijk邊緣上之實際電流 密度的線性組合方程式(17)和(18)來表TjK。 ——(17) ———(18)
Jp{iJ)=Ta rw,»? 電流連續方程式在穩定狀態下並以衝擊電離分量爲主 時’可由方程式(12)和(18)得到,並以下列的方程式(19)和(20) 表示。 ★(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
'1T 經.濟部中央栳準局貝工消於合作社印54 <1 / aniUj) +«P(Uj) \ p{m,n) \ ( α” (》·,/) V m,n Σοό m,n + ap(hj) mtn j \ P{m,ri) (19) (20) 半導體裝置在穩定狀態下的衝擊電離現象模擬之啓 動,是藉由設定一個結合方程式(9)到(11),(19),和(20), 以及如下列方程式(21)的柏松方程式的系統方程式,再以 使用適當的邊界條件來解系統方程式。 ▽(£. ▽沪)=-9(p - n + Nd -^) ——(21) 12 本紙張尺度適用中國國家榡彳((,NS ) Λ4规格(2】0X297公梦) 五、發明説明( A7 B7 經消部中决捃準局兵工消资合竹社印411木 之半導體裝置之衝擊電離現象模擬方法的習用技 術1 ’面臨了當計算一個代表在高電場中所引起之明顯的衝 擊電離之數値時所發生不穩定現象的問題。 在下文中’引起此種不穩定的原因將以一個一度空間 結構爲例來槪要的說明圖2顯示了一個一度空間網格之 三個等間距的網點。在此圖中,ψί,ni以及纠分別代表在 網點i所得之靜電電位,電子密度,及電洞密度。Jn(i_l,i) 和Jp(i-1,0分別代表流經網點i和(i_l)之間的電子電流密度 及電洞電流密度。再者,⑽^刃和邱士:^分別代表在網 點i和(i-Ι僴的電子電離係數及電洞電離係數。除此之外, L代表每個網點間之距離,並且不管是在結構裡的那一個 位置,L是一個不變之常數。再者,圖2中斜線陰影區之 長度S代表分配給相應對之網點的控制體積的大小,並且 不管是在結構裡的那一個位置都爲一常數。附帶的,爲了 簡單的說明’下列的敘述中將只考慮電子電流連續方程 式。藉由施行方程式(19)到網點i,可得到方程式(22)。 一 _[Λ (hjM) ~ J„ (i -1,〇] -去% (,_ - Μ)Λ (ζ· -1"·)+臺 Μ*·,f,+D 在方程式(22)中,電洞電流分量留置於右項是WAIT 値,因爲假定電洞電流分量是由結構的外界所供給的。反 -αη 〇' -1, i)Jn (/ -1, 〇 ih ϊ + 1)Λ O', i +1) 13 (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •装·
、1T .(22) 本紙張尺度適州中國围家標卑((’NS ) Λ4規栝< 2j〇x297公釐) 五、發明説明(
40920S A7 B7 之,電子電流分量則集中在方程式(22)的左項。如此,就 得到下列的方程式(23)。 卜玉 (/ +1,(ΐ,/ +1) -〔1 一 y (i -1,ί·)人-1,ί) (23) 除此之外,以方程式⑼替代Jn(i,i+1)和Jp(i,i+1),如 此就得到下列的方程式(24)。 kT L<i l~+ h0(Ui +1)A0' + U0 . 1 - -1,0严 0 - U)式(U + l)|iJ(〇 ^ l \ 1 - 7 (U +1) (U +1)凡(/_ + v)</ +1) "l \ " 1 一 7 A (Z. - u)札(i_ — 1, 〇久(u -1)吣-1) 、 ·Ζ 7 q L一 5 S (’ 一 1")*^ — 1’ ’) + γ ’ +1)*^ (z.,’+1) (24) 並且,藉著方程式(11),pe(i, j河以下歹啲方程式表示。 βλ^η = β ^〇,Μφ(ΐ)-φυ)) Dn(hj) (25) ---------裝------1T------泉 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) · . M濟部中决標準局兵工消贫合竹社印采 接著,注意在方程式(26)中所顯示的係數,此在方程 式(24)中和網點i的電子密度n①相應對。吾 I1 - f αη (U i 1))"„ (u + 1)久(/- 1,ί) + (1 - f α„(ί - U)y (卜 υ) Α (卜 U)] (26) 以方程式(26)所代表的係數在電場的數値上升時會具 有一個非常小的値,並且電離係數滿足下列的方程式(27)。 而且’方程式(26)所代表之係數在最糟之情況下可能會變 14 本紙从料财ΰ;Ν5 M4規格(210X 297公势
40920S A7 B7 (27) 五、發明说明() 成〇。 a(i,i + l) = a„ 〇-!,〇 也就是說,和n(i)相應對的係數可能成爲零°這表示 n(i)可以爲一任意値。如此會造成整個_的不穩定。 在上文中,爲了簡化說明’乃使用一度空間的結構爲 例子。然而,卩使是在和方程式(丨9湘應對的二度空間結 構及和方程式(20)相應對的三度空間結構的情況下’情況 和在一度空間結構的情形還是很類似。也就是說’當電離 係數因電場的値上升而增加,此模擬面臨了和離散化的電 流連續方程式中載子密度相應對的係數變成零的情況。結 果,模擬變成不穩定。此模擬之不穩定是因使用的公式’ 其中,產生的載子量首先以從控制體積流出之電流的密度 來計算,而計算過的載子產生量被指派到充當電流源的控 制體積,就完成局部的回饋。 作爲一個避免不穩定現象發生的方法,在習用技術中 已建議的一種方法爲:藉由減低網點彼此之間的距離L之 方式,而將對應於載子密度的係數爲零的一點朝向高電場 側加以移位_。然而,通常’電離係數α會隨著電場E的數 値之增力晒成指數函數增加’此可以方程式(28)表示之。 α(五)=a|£| exp〔-南 -------(28) 因此,在應用此方法時’所需的網格之元素數目在被 分析的電場E的數値增加時也成指數函數增加。如此,計 算時間之持續時間也成指數函數增加。因此,習用技術之 —^--------\於------ΐτ------Μ .(讳先閱讀背面之注意事項再鎮寫本育) , ¾¾.部中央榡準局負Η消势合竹枉印^ 本紙張尺度读( C'NS ) Λ4ίΙ# ( 210κ297/># ) 40920S A7 _______________ 五、發明説明() 方法並不實用。 在下文中,將詳細的描述一個根據本發明所採用的半 導體裝置之衝擊電離現象之模擬方法。 在使用本發明之方法的情況下,在載子發生漂移的上 游側,未因衝擊電離而歷經倍增前所呈現之一個電流之「籽 數」電流密度被使用作爲電流密度的評價値。反之,在下 游側,則使用一個歷經倍增過程後的倍增過之電流密度作 爲電流密度的評價値。因此,經衝擊電離所得之載子倍增 效應永遠只影響在下游側的網點。並且,在上游側作爲電 流源的網點並未有局部回饋。因此,和經電流連續方程式 之離散化所得之載子密度相應對的(或相關的)係數不會變 成零。結果,模擬就可以穩定的完成。 除此之外,於本發明的方法中,對於因一個所關注載 子以外的其他載子之衝擊電離所引起的載子之自我倍增而 造成之所關注載子產生速率,係以將所關注載子以外的其 他載子發生漂移的上游側之電流密度評價値乘以對應於上 游側一區間的電離係數之形態而加以評估。此外,將所產 生之載子的p分量合倂配入到在非所關注之其他載子的下 游側之網點中的所關注載子的電流連續方程式的右項。如 此,其他載子藉由衝擊電離所得之倍增效應永遠只能影響 在下游側的網點。如此,乃得以實現和構成非所關注之載 子的電流連續方程式時的處理相符合的模擬。 接著,根據本發明之半導體裝置的衝擊電離現象的模 擬方法將在下文中詳細的說明。 _ ______ 16_ ;对先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝 本紙張尺度讳用中玛陧家標肀(('奶>六4現格(21〇><;!97公1) A7 409209 -------- B7 五、發明説明() 蓋广實施例 圖3爲顯示一個在半導體裝置中衝擊電離的模擬方 法,此爲本發明之第一實施例。第一實施例將在下文中以 —度空間結構爲例來加以說明。另外,在下文中,爲了簡 化說明,因此只關注該電子電流方程式。參照圖3,每個 網點的電位假設滿足下列的不等式(29)。 <ρ(ΐ-ΐ)«φ(ί)«φ(ϊ+\) -------(29) 接著,電子從網點(Μ)移動到網點(i)或更遠,從那點 到網點(i+Ι)最主要是靠漂移。電子電流隨著電子之移動從 網點(i+Ι)流動到網點i以及流動到更遠的網點(i-Ι)。另外, 在使用本發明之方法的情況下,在控制體積之界限的兩邊 是使用不同的電流密度,即使這兩邊是位於同一網格邊緣 上。舉例而言,在電子在連接網點(i-Ι)和⑴的網格邊緣上 移動,爲從網點(i-Ι)流出之電流的電流密度,在 此之電子的移動是在上游側。反之,Jnd(i-l,i)爲流向網點i 的電流之電流密度,此爲電子之目的地,且是在下游側。 當電子因衝f電離而歷經倍增時,Jndfrl,i)由於倍增而增 加了電流密度,因此大於允吨-1 Λ ’並且滿足下列的方程 式(30)。 |^〇·-Μ·)| = |Λ,(^^·)| + ^:(/-υ) -------(30) 在此方程式中,CG-1)代表在圖3中斜線陰影區間屮 l,i)以電子之自我衝擊電離所產生的電子產生速率。並且’ L代表網點間之距離。如此’產生率以L積分是表示將區 ______I?_ 適用中國囡家標埤((^)八4規格(:21〇’乂297公釐〉 ---------装------ΐτ------^ 1 ·(請先S:讀背面之注意事項再填寫本頁) . , 經弟部中决榡準局兵Τ;消免合竹社印鶩 經#.部中决桴準局月工消費合竹7.1印絮 409209 at ___ B7 五、發明说明() 間(i-l,i)中介於網點屮1)和丨之間的產生率加以合倂。如果 因電子之自我衝擊電離所造成之電子的產生,被認定爲是 在歷經倍增的上游側中所謂的”籽數”電流的增加,貝U 可以以下列的方程式(31)代表。 (,- U) = (,· - U)k™ (’ - U)| -------(31) 因此,Jnd(i-1, i)則可以下列方程式(32)來表示。換言 之,i)只是單純的把在上游的電流乘以 (l + i〇73(i-U))。 Jnd (i -1, i) = (l + Χ〇ίη 0' - h 〇)JM (i -1, 〇 同樣的’和連接網點i和(i+1)之網格邊緣相應對的電 流密度是由下列的方程式(33)所得。 ^nd (*>! + Ο = (1 + 1 + (ϊ= 1 + !) 因此,藉著在控制體積界限電子移動之邊緣的上游側 及下游側使用不同的電流密度,因電子自我之衝擊電離而 造成的電子產生效應就可以代表這些電流密度之間的差 異。所以,就不需要把如此的效應合倂到電流連續方程式 的右項。否則,可能會擔憂一些電子的產生是因爲電洞衝 擊電離所致。 在此情況下,因電洞衝擊所造成之電子產生的合倂產 生項’就必須如在習用技術情況一樣將其加入電流連續方 程式之右項中。 本發明最主要是致力於指派因電流衝擊而產生之載子 ---------裝------1Τ------1 + (誚先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 本紙張尺度通Jf]中阐囤家標嘹(('NS ) Λ4規格(Μ0Χ297公來) 409209 ΑΊ Β7 五、發明説明() 到下游側之網點以便消除一個直接的回饋到上游側。因 此,關於因電洞的衝擊電離而造成的電子產生,例如,電 洞在上游側上電動移動的網格邊緣上的網點(i+Ι)顯示所謂 的”籽數”電流密度jpu(i,i+l),在下列的方程式(34)中所描 述的電子產生項被分配到網點i,和本發明之標的一致。 g;(m' + i) = ^(m' = 1)|^(m>1)| -------(34) 再者,藉由結合一個以方程式(9)來替代上游側電流密 度的式子,以及因電洞之衝擊電離所造成的電子產生,就 可以得到和網點i相應對的離散化的電子電流連續方程式 (35)。
Lq + (1 + (z -1, /)k (/ -1, i)y9e (i, i - φ(〇 + (l +La p (i ~ 1, ί)μη (i -1, ΐ)β, (/, i ~ l)n(i -1)] = -Lap(i,i + \)Jpu(i + l) -------(35) 在方程式(35)的情況下,和在網點i的電子密度相應 對的係數一直都是正向的。因此,即使當強烈的衝擊電離 發生,本發明所使用之方法並不會造成如在習用技術之模 擬時引用的方法所造成的不穩定。除此之外,雖然在控制 體積之上游側和下游側需用不同的電流密度式子,在下游 側的電流密度是把上游的電流密度乘以(1+L α η)而得來 的。換言之,基本上,使用於上游側及下游側的兩個電流 密度可以輕易的從同一個式子計算出來。 ------19 __ 义乐尺度速用阁國家標爭^ ΓΝ5 ) Μ規格(2j〇X297公犮) ---------裝------訂------S. '(封先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) - 409202 Α7 Β7 經"·部中央標準局負1消蹩合竹社印"' 五、發明说明() 在本發明使用方法的情況下,必須要判斷在一網格邊 緣兩盡頭的哪一個網點是在載子流動裡的上游側。然而, 這樣的一個判斷’可以輕易的藉由比較兩網點彼此之間電 位値的差異來達成。易言之,如果ψ(〇*ψ⑴,在載子爲電 子的情況下網點i就是在上游側。再者,當載子爲電洞時, 貝fj網點j就是在上游側··。 第二實施例 圖4A和圖4B爲顯示一個在半導體裝置中衝擊電離 的模擬方法,此爲本發明之第二實施例。第二實施例將在 下文中以二度空間結構爲例來加以說明。 圖4A顯示了一個網點i、一個包含網點i和與其相鄰 接的控制體積,以及一個毗連的網點j之間的電位關係。 並且,圖4B顯不在圖4A及由其抽取出之一斜線陰影區。 在圖4B中,S、代表該斜線陰影區》並且,w'j代表在 網點i和j之間控制體積界限的長度。如同在方程式(30)的 情形,在網點i和j之間的區域裡上游側電子電流密度及 下游側電子雩流密度之間的關係可得下列的方程式(36)。 = ——(36) 並且,下列的方程式(37)是代表因衝擊電離所產生的 電子自我倍增之產生率,如同在方程式(31)的情形。 G^(iJ)=an{i,j)\jnu{i,j)\ -------(37) 因此,在下游側的電子電流密度Jndftj河以下列方程 式(38)表示。 _ 20_ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -4 丁 本紙法尺度这州中國围家梯4* ( (’NS ) Μ規格(2j〇x;297公漦) 409202 經淨部中央椋準局W Η消費合作牡印黧 A7 B7 五、發明説明() 人d 〇’,·/·) = 1 + 5 A (,,/)人 1/ (*’,·/) (38)I w〇 J 在方程式中可看出,下游側電流密度是把上游側電子 密度乘以(l+S*ij/w*ijan(ij)) ’如同在方程式(33)的情況。 除此之外,關於因電洞之衝擊電離而產生的電子產生率’ 此產生率是由將下列使用Jpuftj)的方程式(39)乘以分派給 網點i的S〃ij。 G:p{i,j) = ap{i,j)\Jtm{iJ)\ ------(39) 如同本發明之第一實施例情況,和在離散化的電流連 續方程式中網點i的載子密度相應對的一個式子之該係數 可以藉執行該操作而一樣維持爲正數。如此,本發明之方 法可以避免在習用技術的方法中,當顯著的衝擊電離發生 時該區所產生的不穩定現象的發生。 另外,上述本發明之在半導體裝置中衝擊電離的模擬 方法可以在已有執行此方法之程式的電腦上操作。除此之 外,即使當此程式紀錄於一紀錄媒介上,仍可執行本發明 之在半導體裝置中衝擊電離的模擬方法。 雖然本發明較佳實施例已在上文敘述,惟其應不被認 爲其係限制性者,熟悉本技藝者在不離開本發明之精神下 可做各種修改。 因此,本發明之範圍純由隨附的申請專利範圍所界 定。 --------1¾------1T------Μ 一 . -(請先閱讀背面之:注意事項再填寫本頁) ___21_ ((,炖)六4規格(2】0'乂297公《)

Claims (1)

  1. 409209 經濟部中央標準局員工消費合作社印裳 A8 Bg 六、申請專利範圍 1. -種半導體麵的娜電離現象之麵方法,藉 由在一空間中設定一網格並對以所謂的控制體積法離散化 的一個柏松方程式、一個電子電流連續方程式和一個電洞 電流方程式求解之方式,而獲得有關於半導體裝置的衝擊 電離現象之電性特徵 其中,一個和藉由將該電子電流連續方程式及電洞電 流連續方程式離散化所得到之方程式中的載子密度相應對 的係數被設定成爲非零的數値。 ~ 2. 如申請專利範圍第1項之半導體裝置的衝擊電離現 象的模擬方法,其中’關於定義在連接鄰近網點的一個網 格邊緣上的一電流密度’在載子漂移的上游側之電流密度 的評價値與在下游側的電流密度之評價値係分別使用不同 的數値。 3·如申請專利範圍第2項之一種半導體裝置的衝擊 電離現象的模擬方法,包含將在上游側與在下游側所得到 的電流密度間之差値,設定成等於該網格邊緣所對應之控 制體積內部因該載子之衝擊電離而產生之倍增載子電流密 度。 — 4.如申請專利範圍第3項之半導體裝置的衝擊電離 現象的模擬方法,其更包含如下步驟:對於因衝擊電離所引 起的載子之自我倍增而造成之載子產生速率,以將載子發 生漂移的上游側之電流密度評價値乘以對應於上游側一區 間的電離係數之形態加以評估,俾將在下游側之電流密度 評價値表示爲上游側之電流密度評價値之整數倍。 _ 22____ 未紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!0X297公釐) I n -1 1 -I -- m , 〇 : -i I. . I— I 丁 _ I- I n _. (請先閔讀背面之注意事項再嗔寫本頁} ^09202 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 5. 如申請專利範圍第3項之半導體裝置的衝擊電離 現象的模擬方法,更包含下列的步驟: 對於因一個所關注載子以外的其他載子之衝擊電離所 引起的載子之自我倍增而造成之所關注載子產生速率,以 將所關注載子以外的其他載子發生漂移的上游側之電流密 度評價値乘以對應於上游側一區間的電離係數之形態而加 以評估的步驟;及 將所產生之載子的積分量合倂配入到在非所關注之其 他載子的下游側之網點中的所關注載子的電流連續方程式 的右項。 6. 如申請專利範圍第1項之半導體裝置的衝擊電離 現象的模擬方法,其中該空間爲一度空間、二度空間或三 度空間。 7. —種紀錄媒體,用以紀錄執行如申請專利範圍第3 項之半導體裝置的衝擊電離現象的模擬方法用之程式。 ---;-------i------ΐτ—Μ----A * (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部t央標準局員工消费合作社印製 S N
TW087113871A 1997-08-21 1998-08-20 Method of simulating impactionization phenomenon in semiconductor device TW409209B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22514797A JP3156764B2 (ja) 1997-08-21 1997-08-21 半導体デバイスの衝突電離現象のシミュレーション方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW409209B true TW409209B (en) 2000-10-21

Family

ID=16824690

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW087113871A TW409209B (en) 1997-08-21 1998-08-20 Method of simulating impactionization phenomenon in semiconductor device

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6144929A (zh)
JP (1) JP3156764B2 (zh)
KR (1) KR100310491B1 (zh)
CN (1) CN1209609A (zh)
TW (1) TW409209B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3319505B2 (ja) * 1998-05-21 2002-09-03 日本電気株式会社 プロセスシミュレーション方法及びその記録媒体
JP3907909B2 (ja) * 2000-03-24 2007-04-18 株式会社東芝 電気特性評価装置、電気特性評価方法、電気特性評価プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体および半導体素子製造方法
JP4991062B2 (ja) * 2001-05-29 2012-08-01 ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体プロセスデバイスモデリング方法
US6735556B2 (en) 2001-06-15 2004-05-11 International Business Machines Corporation Real-time model evaluation
JP4281047B2 (ja) * 2002-03-29 2009-06-17 セイコーエプソン株式会社 半導体デバイスシミュレーション方法、半導体素子製造方法
US20100241413A1 (en) * 2009-03-18 2010-09-23 Texas Instruments Incorporated Method and system for modeling an ldmos transistor
JP6118079B2 (ja) * 2012-11-22 2017-04-19 アドバンスソフト株式会社 半導体デバイスシミュレーション計算処理方法
CN113203929B (zh) * 2021-04-23 2022-11-11 香港科技大学深圳研究院 氮化镓功率器件反偏压可靠性测试方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5677846A (en) * 1993-12-13 1997-10-14 Nec Corporation Device simulator and mesh generating method thereof
JP2838968B2 (ja) * 1994-01-31 1998-12-16 日本電気株式会社 半導体デバイスシミュレータのメッシュ生成方法
US5798764A (en) * 1994-05-27 1998-08-25 Nec Corporation Method for determining the intersections of Delaunay partitioned tetrahedra with the boundary of a body to be analyzed
JP2746204B2 (ja) * 1995-05-29 1998-05-06 日本電気株式会社 有限差分法における三角形および四面体メッシュ発生方法
JP2734418B2 (ja) * 1995-08-16 1998-03-30 日本電気株式会社 デバイス・シミュレーション方法
JP2858559B2 (ja) * 1996-04-25 1999-02-17 日本電気株式会社 デバイスシミュレーション方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3156764B2 (ja) 2001-04-16
US6144929A (en) 2000-11-07
KR19990023735A (ko) 1999-03-25
JPH1168083A (ja) 1999-03-09
KR100310491B1 (ko) 2002-01-15
CN1209609A (zh) 1999-03-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Levi ERRORS IN THE VARIABLES BIAS IN THE PRESENCE OF CORRECTLY MEASURED VARIABLES.
Wazwaz Multiple soliton solutions and other exact solutions for a two‐mode KdV equation
TW409209B (en) Method of simulating impactionization phenomenon in semiconductor device
Chertock et al. Particle methods for dispersive equations
Frieman et al. Convergent classical kinetic equation for a plasma
Ng et al. The island coalescence problem: Scaling of reconnection in extended fluid models including higher-order moments
Rubin et al. Higher-order implicit flux limiting schemes for black oil simulation
Kumar et al. Fractional Crank–Nicolson–Galerkin finite element scheme for the time‐fractional nonlinear diffusion equation
Huang et al. An eulerian–lagrangian weighted essentially nonoscillatory scheme for nonlinear conservation laws
Andrés et al. Influence of the Hall effect and electron inertia in collisionless magnetic reconnection
Blanchard et al. Stochastic forcing for sub-grid scale models in wall-modeled large-eddy simulation
Cais et al. Dieudonné crystals and Wach modules for p‐divisible groups
Khrapak et al. On the conductivity of moderately non-ideal completely ionized plasma
Sukochev Hölder inequality for symmetric operator spaces and trace property of K-cycles
Debela et al. Accelerated exponentially fitted operator method for singularly perturbed problems with integral boundary condition
Snow et al. Partially ionized two-fluid shocks with collisional and radiative ionization and recombination–multilevel hydrogen model
Tissir Exponential stability and guaranteed cost of switched linear systems with mixed time‐varying delays
Ju et al. Convergence of the Navier–Stokes–Poisson system to the incompressible Navier–Stokes equations
Hui Monodromy of subrepresentations and irreducibility of low degree automorphic Galois representations
Valizadeh et al. Application of natural transform method to fractional pantograph delay differential equations
Goswami et al. Electron transfer statistics and thermal fluctuations in molecular junctions
Kapusta Screening of static QED electric fields in hot QCD
Liu et al. An iterative meshfree method for the elliptic Monge–Ampere equation in 2D
Quynh et al. High‐Order Iterative Scheme for a Viscoelastic Wave Equation and Numerical Results
Li et al. Asymptotic growth bounds for the 3‐D Vlasov‐Poisson system with point charges

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees