TW406292B - Motion damper with electrical amplifier, and lithographic device with such a motion damper - Google Patents

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TW406292B
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damping
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TW086117495A
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Thomas Petrus H Warmerdam
Johan Cornelis Compter
Franciscus Martinus Roes
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Koninkl Philips Electronics Nv
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    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16FSPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
    • F16F15/00Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
    • F16F15/02Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
    • F16F15/03Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using magnetic or electromagnetic means
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description

406292 A7 B7 五 經濟部中央標準局貝工消費合作社印掣 、發明説明(! 發明敘述 本發明與運動阻尼器右關,含有可位 玲 二邵份,在至少爲一個運動方向〜 β份與第 J 丁丁订,其中的货 ,磁場的裝置’而第二部份爲提供電氣導 *在運作時,會定位於磁場中…的電流會因=置 與可位移的罘一邵份而產生,且平行於運動方向。为 本發明亦__裝置有關,包括雷射源,面罩: 軸的對焦裝置,含基片架的定位哲帛 L 木,含王 ^ t 裝置,此裝置相對於X古 向平行的對焦裝置是可位移的,# x-万 而與γ_方向平行,與χ_方向垂直, t的 .. 、上和十仃,位置測吾 錢可測量位置’由基片架相對於對焦装置來複製,= 於X-万向與Y-万向,茲對焦裝置固定在第—支架上 丁 :立測量系統則固定於第二支架1第二支架固定於第2 架。 又 在開頭段落所提到的運動阻尼器爲大.家所熟知。當 阻尼器的第-部份與第:部❾,在運作時,依平行:阻尼 方向而互置時,第一部份的磁場之第二部份的導體會產生 電流。第-部份與第二部份導體所產生的電流之間的互動 ’會造成第-部份與第二部份插入與運動方向+行電磁力 ,原因在於相對於阻尼方向平行由第—與第二部份所阻尼 。運動阻尼器的優點在於’第一與第二部份之間並無機械 接觸,因此可避免所謂的悲線性效果。例如,在黏性液能 阻尼器中的非線性效果,若有低安培的阻尼,會產生在^ 態阻尼器之間的機械摩擦。 -4- 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公整) --;------.---裝------訂------線 - I (讀先閲讀背面之;ΐ·意事1再填寫本頁) * 删292 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(2 ) —般運動阻尼器的缺點在於運動阻尼器的電磁陌較 小,因此一般的運動阻尼器具較弱的阻尼動作。 本發明的目標在於提供如麗頭段落所提及,可提供足夠 電磁阻尼力的運動阻尼器。 依照本發明,依此目地而建造的阻尼器,包括電氣放大 器,可放大以預定的放大_因子的電流。由於依本發明的運 動阻尼器,提供了電氣放大器,在運作時,流經第二部份 兒氣導電體之電流大約等於產生導體之電流値,而不需使 用放大器與預定放大因子。因此,電磁阻尼力大約相等電 磁阻尼力値,而不需使用敦大器與預定放大因子。可經由 合適的放大器提供足夠的放大因子與阻尼力。 依據本發明,運動阻尼器之特別實施例的特性在於提供 磁場,包括永久磁鐵,然而,電導體包括線圈。永久磁鐵 的使用以及線圈’可提供電磁阻尼力以及有效的方法,可 與速度成比例,其中的運動阻尼器的第一部份與第二部份 亦會成比例。 依據本發明,運動阻尼器之特別實i例的另—特性在於 線圈爲驅動器線圈,然而含有電i測量線圈之第二部份亦 在運作時,定位於磁場中,該放大器在運作時供應有電流 的驅動器線圈,大致與產生在測量〜線圈與預定放大因子相 等。在另一圖式中,產生於測量線圈之電流會以特定之方 法,通常是每秒鐘來測量。該測量線圈與該驅動器線圈的 使用,可簡化傳統運動阻尼器的ϋ器的使用。 依據本發明,運動阻尼器之特別實施例的另—特性在於 -5- X 297公釐) -----Ί.---I---裝------訂------線 ·> (請先閏讀背面之,注意事t再填寫本頁} - 』 A7 406202 五、發明説明(3 ) ’第二部份包括平版狀載體,會平行延伸至阻尼方向,驅 動益線圈與測量線圈相鄰,如同平行於阻尼方向。而第一 部份包括可容納載體的外殼,可保護第一永久磁鐵系統與 驅動器線圈,以及安置第二永久磁鐵系統與測量線圈。該 平版型載體與外殼的使用可提供運動阻尼器簡易與精巧的 建構。 依據本發明’運動阻尼器之特別實施例的另一特性在於 ’驅動器線圈與測量線圈提供橢圓型線圈,在平面上延伸 ’平彳丁於載體,並形成2個線圈半,與阻尼方向垂直,然 而磁鐵系統具一雙的永久磁鐵,以與載體一致的垂直方向 磁化,並安置在載體的任一側,以與測量線圈的驅動器線 圈來運作,而第二對的永久磁鐵以與第一對磁鐵相反方向 磁化t定位,與其他驅動器線圈的線圈半合作運行。該擴 圓型與兩線圈半的使用可垂直延伸至阻尼方向,而含有2 對的永久磁鐵,依垂直於載體而磁化,會造成驅動器線圈 與測量線圈具高效率。 依據本發明,運動阻尼器之特別實施例的特性在於,安 置驅動器線圈,如所見與阻尼方向平行,在測量線圈與另 —測量線圈之間’其中與線圈與測量線圈一致,然而第三 水久磁*鐵系統在外殼中安置,可與另一線圈相互合作,而 第一永久磁鐵系統提供第一對的永久磁鐵,其位置與另— 側的载體相反,可與另一測量線圈與線圈半合作運作,而 士置在另一側的永久磁鐵在載體的另—側,可與另一測量 線圈半合作運作,而安置第三磁鐵系的第一對與第二對磁 -----------6- 本纸張尺度it用中(⑽)从桃(別心97公楚1 ' ' ------- ,I--\1--------裝------訂------線 (請先閱讀背面之注意事Ir再填寫本頁) - ” 輕濟部中央榡率局員工消費合作社印製 A7 B7 06292 五、發明説明(4 ) 鐵,如所見與阻尼方南平行。以同種順序,如第二磁鐵系 統的第一與第二對磁鐵,依第二磁鐵系統之磁鐵系統相反 方向磁化,然而,在運作時,放大器會以含電流的驅動器 線圈,提供驅動器線圈電流,該電流與產生在測量線圈之 電流差與測量線圈與預定放大因子差相等。在運作時,在 測量線圈產生的電流不僅受到第二磁鐵之磁鐵之測量線圈 運動影響,亦受驅動器線圈的電磁場之影響。由於測量線 圈與測里線圈都位於驅動器線圈的另一側,因此會有在測 量線圈中產生大量的電流,而使測量圈在驅動器線圈之電 磁場影響。由於第三磁鐵系统之磁鐵在與第二磁鐵系统之 磁鐵方向相反,因此相同的電流數値與相反方向會在測量 線圈中產生,而另一測量線圈則處在第二與第三磁鐵系統 的磁場之位移影響下。在測量線圈中產生的電流,驅動器 線圈的電磁場之影響’會互相補償,因爲放大器供應驅動 器電流’與產生於驅動器線圈與另一測量線圈之間之電流 差成比例,因此經由驅動器的電流與產生於驅動器線圈與 另一測量線圈之間之電流差成比例,在測量線圈之移動影 響下相對於第一部份。 第二段所提的光刻裝置可從ΕΡ-Α-0 250 03 1 了解。已知 的光刻裝置以光學光刻程序使用在整合半導體電路。已知 的光刻裝置之雷射源爲一光源,然而,對焦裝置利用整合 丰導體電路成爲光學鏡片系統,這種系統出現在光刻裝置 之外殼架上’在半導體基片上以降低比例投影,可放在定 位裝置上。這類半導體基片包含了大數目的磁場,其中亦 -7- 本纸張尺度通用宁國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公楚 tn ^—m 1^11 T—^ ^^^1 —1- —1— n f- (請先閲讀背面之-意事t再填寫本頁)
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經濟部中央榡準局貝工消費合作社印掣
五、發明説明( 提供了實質上相同的半導體電路。半導體基片之個別磁場 馬此目地而順序執行,半導體基片在穩定位置上,相對於 外殼與對焦單元’在個別㈣場之出m ,半導體的 下個磁場會到另—個位置,㈣2個連續被露步驟。重複 本程序幾次,每次使用不同的子模式不同外殼,因此可製 造複雜的結構整合的半導體電路。含有此類半導體電路之 結構具細部分層,該分層位於子微範圍。因此,半導體基 片必須定位於外殼以及對焦單元,精準地位於子微範圍中 。光刻裝置之位㈣量系統應依對焦單元,固定在相對的 位置中。在已知的光刻裝置中,位置系統固定在第二外殼 ’為此目地應極力地固丨,而不需要阻尼至對焦單元固定 之第一支架。 光刻裝置的缺點在於第二支架可能因干擾力的影響產生 回響,原因是對第-支架的粗糙與未阻尼性。第二架小的 回響會反面影響位置測量系統測量。 根據本發明,光刻裝置之特性在於,該裝置提供了運動 :尼器,運動阻尼器的第-部份固定在兩個支架的其中之 一’而另一部份則固定在另一個支架上。根據本發明,運 動,尼器的使用會阻尼第二支架的強烈回響。由於運動阻 尼器具線性特性,相對的小振幅以及阻尼的精確阻尼器, 亦可提供作爲小振幅的阻尼。 參照以下的圖可更了解本發明: 圖1根據本發明’説明運動阻尼器; 圖2爲依據圖1之Π-Η而説明之斷面圖;與 -8- 本紙張尺度適财國國家轉(CNS ) M規格(2淑Μ7公 —_ —1--^ 裝 {請先閱讀背面之1注意事哫再填筠本筲) 1T線Ί------------ 1- I -I- 1 al^i · 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 406292 at _____ B7 _____ 五、發明説明(6 ) 圖3依本發明説明光刻裝置。 依圖1與圖2的運動阻尼器1,包括第一部份3與第二部 伤5 ’此兩者爲可位移,與阻尼方向X平行。運動阻尼器【 適合用在由2主體所執行的阻尼運動,此種情形並未顯示 在圖1與圖2,彼此相對平行阻尼方向χ,第一部份3合 適用來固定於該二主體之一,而第二部份5適合用來作固 足在另一主體上。第一部份3包括外殼7,該外殼具2個主 辱障9與11 ’平行於阻尼方向X,兩侧的屏障i 3與丨5直 接平行於阻尼方向X’而最後一道屏障17直接垂直於阻尼 方向X。側端19代表相反的最後一道屏障17,外殼7具 開孔21 ’經由該開孔第二部份5可插入外殼7。第二部份 5包括平版型載體23,該載體延伸平行至主屏障9與11, 當第二部份5已放置在第3部份。 如同圖1與2所示,居中放置的電氣驅動器線圈25,電 氣測量線圈27,以及電氣測量線圈29均提供在載體23中 ,該測量線圈27與測量線圈29大約一致,且被安置在驅 動器線圈2 5的任一側’如同所見到的阻尼方向χ。如同圖 1所示,驅動器線圈25,測量線圈27與測量線圈29均個 別具有橢圓型的線圈,會延伸平行於載體23,然而,驅動 器線圈25 ’測量線圈27與測量線圈29,均個別包括2個 橢圓型半31,33,與阻尼方向垂直。如同圖1與2所示, 在外殼7中第一永久磁鐵系統35與驅動器線圈25合作運作 ,第二永久磁鐵系統37與驅動器線圈27合作運作,第三 永久磁鐵系統39與驅動器線圈29合作運作。如同圖2所示 _____ -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)~~' ' -- . ^ Ί1 ~Ί ^ 裝 訂 線 (請先閲讀背面之-意事項再填寫冬頁) ' · 406292
五'發明説明( 經濟部中央標準局員工消費合作社印裂 第磁鐵系統〇5包括-對永久磁鐵川,川,放置位 置分別在載體23的兩側,可與驅動器線圈25之線圈半31 相互合作運作’另一對永久礙鐵仏,㈣,放置位置分 在载也23的兩側,可與驅動器線圈25之線圈半相互 合作運作。磁鐵仏與41b垂直於載體23之相同方向磁化 "中的磁鐵4ja與43b在磁鐵41a與41b的相反方向磁化 相同地第一磁鐵系統37包括第一對的磁鐵45a與45b 妥置在載體2 j的相反兩側,與測量線圈2 7之線圈半3 1 相互運作,而第二對永久磁鐵47a,47b,放置位置分別 在載體的兩侧,可與驅動器線圈之線圈半相互合 作運作。磁鐵45a與45b垂直於載體23之相同方向磁化, /、中的磁鐵47a與47b在磁鐵45a與45b的相反方向磁化。 最後,第二磁鐵系統39包括第一對磁鐵49a與49b ,安置 在載體23的相反兩側,與測量線圈29之線圈半3丨合作運 作,而永久磁鐵51a與51b之第二對磁鐵,安置在載體23 的相反兩側’可與測量線圈29之線圈半33合作運作。如 同圖2所示,第三磁鐵39之第一對磁鐵49a與49b與第二 對磁鐵5la與5 lb ’安置在阻尼方向X,如同第二磁鐵系 統〇7之第—對磁鐵45a與45b,以及第二對磁鐵47a與47b ’而磁鐵49a與49b以與45a與45b之相反方向而磁化,而 磁鐵51a與51b以與磁鐵47a與4 7b之相反方向而磁化。驅動器線圈25用來產生電磁阻尼力,所採用的方法將於 以下敎述。堪動器線圈25以此目地供以電流Uct在運作時 ’會以以下之方法來運作,運動阻尼器1之電氣放大器53 -10- 本紙張尺度適用+¾¾¾ ( CNS ) Αί祕(210X297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本買) ’裝. ,1Τ 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 406292 A7 B7 五、發明説明(8 ) ~~~~~ ’於圖2顯TF,常以秒鐘表示。 當運動阻尼器1之第一部份3與第二部份5,在運作時, 位移平行於阻尼方向X ,測量線圈27與測量線圈29會產 生電流,於第二磁鐵系統37之磁場以及第三磁鐵39中。 由於測量線圈27與測量線圈29大約一致,而第二磁鐵系 統37與第三磁鐵系統39亦會大致相同,如以上所述,但 以相反方向磁化,電流+11卯與電流…nd具相同的數値,但 以相反的方向產生在測量線圈27中,以及測量線圈29中 ,在第二部份5之移動影響下,相對於第一部份3。該電 流+IlND與電流在速度上成比例,第一部份3與第二部 份5互相平行於阻尼方向χ。除了該電流+IiND與電流屮⑽ 之外’電流IEM於測量線圈27與測量線圈29中產生,原因 在於由驅動器線圈25所產生的電磁。該電流IEM於測量線 圈27與測量線圈29中產生,具相同的數値與相同的方向 。因此在測量線圈27於運作時,總電流I】等於IEM + IIND, 而其中的測量線圈29於運作時,總電流12等於IEM-IIND。 總電流* 11與12顯示在圖2中。 根據本發明,以驅動器線圈25所供應的電流Iact由放大 益所提供,相等於輸出信號u0UT與預定放大因子K。放大 器53因此可放大電流IIND產生於測量線圈27與29中,並 依放大因予K受第一部份3與第二部份5之移動所影響。 由於第一磁鐵系統3 5與在驅動器線圈2 5之電流Iact之間 的磁場及動,第一部份3與第二部份5會互相插入,而電 磁阻尼力直接平行於阻尼方向X,於第一部份3與第二部 本紙張尺度^2丨_917!;楚) —.—^---朴衣— (請先閲讀背面之注意事再填寫本頁) 訂 線 406292 A7 B7 •^、發明説明(9 ) 份5所執行的移動,依互相的阻尼方向χ。由於阻尼力與 電流Iact的數値大約成比例,因此電流IACT會與電流Ιιν〇 大致相等,而電流IIND會與第一部份3與第二部份5之速度 成比例,它會依運動阻尼器1之阻尼力而運動,並符合第 —部份3與第二部份5之速度。而因此提供了運動阻尼1 之理想線性阻尼特性。 放大器5〇具充足的放大因子K’因此可獲取運動阻尼器 1具充足的阻尼力。可獲取之阻尼力較大於阻尼力,會依 產生於測量線圈27與29與磁鐵系統37與39之電流互動。 因後者互動而產生的阻尼力對於每種的應用方法均太小。 由於第一部份3與第二部份5之間並無接觸,因此在第一 3與第一邵份5之間並無摩擦·。因此如上所提獲取的 線性阻尼特性並不會被所謂的非線性效果所干擾,而此效 果疋因第一邵份3與第二邵份5所造成。尤其,該線性阻 尼特性亦出現在第一部份3與第二部份5之小互動動作中 ’如具小振幅的震動。應注意並不需要預定放大因子κ具 固定數値。預定放大因子K可能會有數値,依第一部份3 與第二部份5之移動而定。 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 含外殼7之運動阻尼器與平版型載體23之建構,如上所 述,會提供運動阻尼器1 一個較簡易與精巧的設計。因此 ’運動阻尼器可以小部份地在2阻尼主體之間的移動相互 配合。放大咨5 3與所需的運動阻尼器電氣组件,可以以簡 易的方法整合至外殼7中。驅動器線圈2 5與測量線圈2 7 與29具高效率,原因在於線圈半31與33之使用,會延伸 ---- -12- 本纸張尺度賴中國國家鱗( 2I()x7^7 經濟部中央榡準局員工消費合作社印掣 406292 A7 -----------B7 五、發明説明(1〇) 垂直於阻尼方向X與磁鐵系統35與37與39,以及載體23 足永久磁鐵之任一側,然而驅動器線圈25提供阻尼力,直 接與阻尼方向X平行。 根據本發明,運動阻尼器可以以提供單一測量線圈來位 移’然而放大器可在運作時,提供含電流的驅動器線圈, 其與在測量線圈產生的電流値以及放大因子K相等。由於 經由測量線圈之電流包括由驅動器線圈產生之電磁場之組 件相等’因此在驅動器線圈與測量線圈之間會產生串音, 因此而限制放大。然而此種串音,若在測量線圈之電流的 组件由驅動器線圈之磁場可爲相對地變小,原因在於驅動 器線圈與測量線圈之間的距離變小。 根據本發明,運動阻尼器可以不需測量線圈即可位移性 地包括驅動器線圈。在此種圖中,電氣放大器包括以秒鐘 計算的電路,其中的電阻與/或驅動器線圈的自我阻抗會依 電氣裝置而減少’因此可以在驅動器線圈的移動影響下, 在第運動阻尼器的第一部份的磁場下產生足夠的電流。由 於以此方法所產生的電流會與運動阻尼器之第一部份與第 二部份之速度成比例,因此,理想的運動阻尼器之線性阻 尼特性可以此方法來獲取。 根據本發明’另應注意運動阻尼器所提供的阻尼力應多 於一個阻尼方向。因此,例如,運動阻尼器所提供的阻尼 力平行於第一阻尼方向X以及阻尼方向γ,而垂直於第一 阻尼方向X,其中含有相關測量線圈之第二驅動器線圈亦 包括在運動阻尼器之載體23中,在第二阻尼方向γ中,而 ____________ - 13- 本紙張尺f適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(2lGX297公楚 ;ΓΤ, 裝 訂-------線 (請先閲讀背面之_注意事f再填寫本頁) · ' 經濟部中央標準局負工消費合作社印掣 406292 五、發明説明() 女裝於瘦套7之磁鐵系統可第二驅動器線圈與相關測量線 圈合作運作。 根據本發明,另應注意運動阻尼器若無永久磁鐵系統b 與驅動器線圈25,但有位移裝置可提供磁場以及位移的内 含電氣導體,經常是以秒鐘來計算,在運作時定位在磁場 。所產生的電流會因第一部份與第二部份平行。因此,提 供的磁場可包括電磁線圈,而内含的電導體可以包括密閉 的條狀或版型的導體。 圖3説明光刻裝置57依運動阻尼器及本發明所使用的阻 尼器。光刻裝置57使用在整合的半導體電路之生產,可利 用光刻程序,使用在所謂"步驟與重複,,之後的影像方法。 如同圖3所示,光刻裝置57提供第一支架59,可支援平行 於Z方向,定位裝置61含可移動基片支架〇,對焦裝置 65,外奴支架67以及雷射源69。光刻裝置57爲光學光刻 裝置,雷射源69包括光源71。基片支架63包括支援表面 73 ,會延伸垂直於Z方向以及其上會放置半導體基片乃 ,爲不可位移相對於對焦單元65,以定位裝置61之位移 裝置77平行於X方向,直接垂直於z_方向,並平行於γ 方向,導致與X方向平行並垂直於z方向。對焦單元“爲 一影像或投影系統,包括光學鏡片系統79,具光學主軸Μ 直接平行z方向,而光學降低因子,如4或5。外殼支架 67括支援表面83,會垂直於2方向,而其上會放置外殼= 。外殼85包括整合的半導體電路之模式或子模式。在運作 時,發源於光源7 1之光束會經由外殼85來引導,並鎖定 -14 私纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4i格( 210X297公f --;— -ΓΤ.-----裝------訂------線 (請先閲讀背面之注意事t再填寫本頁) · · 40629^ A7 B7 五、發明説明(12 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在半導體基片75 ,利用弁塾玄4、 光子系耗79,因此模式代表外殼 85會投影在半導體電路的子禮斗、丄 叔θ 一 电塔的予挺式中。半導體基片75包括大 數目的磁場,在其上提供丰屢轉+ ,L 杈心、牛導體電路。半導體基片75的磁 \依序地排列在外殼85上。在半導體基片75的被露時 ’ +導體基片75輿外殼85相對於對焦單元以固定,在基 片支架63以位移單元77來位移,平行於χ方向與/或平行 於Y万向。此程序會重複許多次,每次的外殼均不同,因 此可製造含分層複雜的半導體電路。整合的半導體電路可 利用光刻裝置來製造,在子微範圍内具細分化的面度。由 於+導體基片75可經由不同的連續外殼來披露,因此出現 在外殼的模式應精確地投影在半導體基片乃上,而此精確 吓表現在子微或十億分之一公尺上。半導體基片75,因此 a必須依對焦單元65而定位在兩連續披露步驟中,表示在 定位裝置61之定位精確度上具很高的需求。 如同圖3所示,光刻裝置57含有位置測量系統87,可測 量由基片支架63所提供的位置,相對於對焦單元65,如 同所見平行於X方向與γ方向。位置測量系統87,包括雷 射干擾計,通常是以秒鐘來運作,以控制裝置光刻裝置57 的(未顯不在圖3中),該控制裝置會控制位移裝置77。位 置測量系統87固定在第二支架89上,該支架固定在第— 支架59上。因爲定位裝置61的定位精確度要求非常高, 因此位置測量系統87必須依對焦裝置固定在精準位置上 。光刻裝置57之第二支架89因此原因必須固定在第一支 架59上,應盡量緊以防止震動。第二支架89固定在第— 本紙張尺度適用中義家轉(CNS ) Α4規格(2_297公楚) I I I I m U. ---裳-- (請先閲讀背面之注意事f再填寫本頁)
'1T 線 406292 A7 B7 五 經濟部中央裙準局一貝工消費合作社印震 發明説明(13 又架59上’應盡量緊,若無採取測量步驟,則第二支架 會很容易地在機械振動的影響下’將振動自第一支架Μ傳 輸至第二支架89,此種阻尼是因内部與外部介面力會插入 至第一支架59中。第二支架89的這類回響定義在對焦單 元6 5上,亦依由位置測量系統8 7所執行之測量精準度而 定。 爲要防止第二支架89之回響’光刻裝置5 7依本發明而 提供運動阻尼器1,如圖3所示。運動阻尼器i之第一部份 3固定在第一支架59上,而運動阻尼器i之第二部份5則 固定在第二支架89上。如圖3所示,運動阻尼器1固定在 光刻裝置57上,這樣運動阻尼器i可以提供阻尼力直接平 行於Z方向。如圖3所示,第二支架89包括平版91,會延 伸至Z方向並固定在第一定支架59,靠近對焦裝置65, 利用固定點9 3的數目限制,例如這類點有三。這類平版9 ^ 主要在平行Z方向中回響,因此回響會依運動阻尼器1之 安置來抵消該回響。依本發明,利用運動阻尼器j所產生 的阻尼力’亦防止第二支架89之相對強烈回響。第二支架 89的回響會正確地回響,因爲本發明的運動阻尼器i具線 性阻尼特性,因此第二支架89之弱回響會很精確地阻尼, 可用來作爲相對小振幅的振動。運動阻尼器1的使用會導 致定位系統8 7之精確度,因此定位裝置6 !之定位精準度 亦受到改善。 圖3只顯示運動阻尼器丨,安置在靠近位置測量系統87 。應注意的是光刻裝置57 ’依本發明,會選擇性地被提 _____ - 16- 本紙張尺度朗中賴家辟(CNS )鐵格(2iGx297f^· 40629^ A7 *---一 ___B7_ 五、發明説0月(14) ' ' ^ —個以上運動阻尼器丨。若位置測量系统87包括—個以上 的位置感應器,則分別之運動阻尼器1可能會定位在都堤 <位置測量系統87之個別位置感應器上。另有可能,用— 個或多個運動阻尼器1來防止第二支架89之振動,相對對 焦單元65會直接平行於X方向與/或平行於γ方向。 經濟部中央榡準局員工消費合作社印繁 應特別注意到,依本^發吻,光刻裝置57可提供定位装置 ’具汁敌架,是可位移平行於X方向,而非外殼架67。依 本發明之光刻裝置之圖,其中的投影方法,遵循”步驟埤掃 瞄’’原則,製造半導體基片75,非爲相對於外殼85之穩定 U置’以及披露半導體基片7 5之個別磁場,但並非爲半導 體基片75與外殼85會同步地放置在對焦單元65平行於χ 方向’利用基片支架63以及外殼支架之定位裝置來設計。 以此方法’出現在外殼85之模式會受到掃瞄,平行於X方 向以及同步投影在半導體基片75上。可獲取外殼85之最 大表面區域,可以經由對焦單元65來投影在半導體基片75 上’受到的限制較少,因爲對焦單元65之口徑。由於所生 產的整合半導體電路的細部面度位於子微範圍,因此半導 體基片75,以及外殼85必須精準地來位移,在披露的過 程中,相對於對焦單元65之子微範圍。在光刻裝置圖中, 位置測量系統8 7亦測量由外殼支架所佔平行於X方向的位 置位置測里系統8 7之位置感應器會測量外殼支架之位置 固定,例如’必須緊緊地固定在第一支架中。爲要防止支 架之不必要之回響,應再架設其他的支架到第一支架59中 ,依本發明之一個或多個運動阻尼器所提的問題安裝。 --- -17- 本紙張尺度適用中國si^TcNS) A4i ( 210Χ297公楚 1--*- 40629^ A7 B7 五、發明説明(15 ) 嘉祛庙士音,仿太奋昍,谨私阳眾笑癌,;?; r可闲Λ决.舍i /«νϋ' «-*— «Nifc· «r *· . I jj\ t -* »w »— , ·««* w" /· -^ t , » _ , t-·— ^ w ,、, 裝置上,亦可以用在其他的裝置上,其中以一個或多個方 \ 向來運動泛兩主體之互動防止上。其相關範例包括精確的 工具或精確的測_量/義器。 ----'------装------1T------Φ (請先閱讀背面之:/i意事項再填寫本頁) - 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐)

Claims (1)

  1. 406292 Α8 Β8 C8 D8 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 力、申請專利範圍 1. 一種運動阻尼器,具第一部份與第二部份,此等部份於 平行於運動阻尼方向上相對位移,第一部份具有提供磁 場之裝置,而第二部份具電氣導體,在運作時位於磁場 中,其中會因第一部份與第二部份平行於阻尼方向相互 位移而產生電流,其特徵爲該運動阻尼器包括電氣放大 器,以放大具有預定放大因子之電流。 2. 如申請專利範圍第1項之運動阻尼器,其特徵爲提供磁 場之裝置包括永久磁鐵,而導電體具電氣線圈。 3. 如申請專利範圍第2項之運動阻尼器,其特徵爲電氣線 圈爲驅動器線圈,然而第二部份具電氣測量線圈,在運 作時,此線圈也定位在磁場中,該放大器在運作時,提 供驅動!§線圈’所含電泥實質上等於產生在測量線圈與 預定放大因子之電流的乘積値。 4. 如申#青專利範圍第3項之運動阻尼器,其特徵爲第二部 份包括平版型載體,平行延伸於阻尼方向,而在其上之 驅動器線圈與測量線圈相鄰’如所見到的平行於阻尼方 向;第一部份包括可收容載體的外殼,在該外殼中放置 著M v衾驅動器線圈合作之弟一永久磁鐵系統以及與該量 測線圈合作之第二永久磁鐵系統。 5·如申請專利範圍第4項之運動阻尼器,其特徵爲驅動器 ’線圈與測量線圈均個別有橢圓型線圈,會延伸於實質平 行於載體之平面,並形成兩個線圈半部,與阻尼方向垂 直’而磁鐵系統含有第一對永久磁鐵,以垂直於載體之 方向受磁,並安置在載體的相對兩側,以與驅動器線圈 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝. 訂 線 19- 40629^ as ----------D8 六、申請柄^ ' 之兩個線圈半部之一以及測量線圈合作運作;以及第二 對永久磁鐵,於第—對永久磁鐵的方向上受磁,並定位 在載體的相對兩側,以與驅動器線圈之兩個線圈半部之— 以及測量線圈合作運作。 6.如申請專利範圍第5項之運動阻尼器,其特徵爲安置驅 動器’如同所見在測量線圈與測量線圈之間平行於阻尼 方向,而該線圈實質上與測量線圈相同,然而第三永久 磁鐵系統安置在外殼中,可與其他的測量線圈合作運作 ,而第二永久磁鐵系統含有永久磁鐵定位於載體的相對 ,側,並與測量的線圈半部合作;安置第三磁鐵系統的 第二對磁鐵,平行於阻尼方向,如同第二磁鐵系統的第 一對與第二對磁鐵均之相同順序,以相對於第二磁鐵系 統的相對兩側受磁,然而在運作時,放大器可供應驅動 器線圈電流,該電流大約相等於產生於測量線圈與另_ 測量線圈與預定放大因子之乘積。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 7- —種含雷射源、外殼支架、具主軸之對焦單元以及含基 片支架之定位裝置之光刻裝置,.可依對焦單元來位移, 平行於X方向,垂直於主軸並平行於γ方向,而Υ方向 垂直於X方向並垂直於主抽,而定位測量系統,可依對 焦單元平行於X方向並平行於γ方向,來測量基片支架 所估據之位置,該對焦單元固定於第—支架,而定位: 量系統固定於第二支架,而第二支架固定於第一支架, 其特性爲含運動阻尼器的光刻裝置,如申請專利範園第i ,2,3,4 ’ 5,與6,運動阻尼器之第—部份固定在 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 406291 韶 C8 D8 六、申請專利範圍 兩個支架之其中之一,而運動阻尼器之第二部份則固定 上 架 支 ί 另 在 —_—J—J---裝— 1· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)
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