TW397935B - Fractionation of phenol formaldehyde condensate and photoresist compositions produced therefrom - Google Patents

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A7 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明（1 登明之背景 本發明係關於一種方法，以製造熱安定、水不溶性、鹼 水落液可溶、可形成薄膜之酚醛清漆樹脂，及在光敏化 組合物作爲正作業光阻组合物之用途。此外，本發明關 於一種方法，以使用這些光敏化組合物塗覆基材，及一 種方法，以在此基材上將塗覆此抗反射塗料之光敏化光 阻組合物塗覆、照相、與顯像。 光阻組合物用於微石印方法，以製造小型化電子組件 ’如在電腦晶片與積體電路之製造。在這些方法，通常 首先將光阻組合物之薄塗膜塗布於基材材料上，如用以 製造積體電路之矽晶圓。經塗覆基材然後烘烤以蒸發光 阻组合物中之溶劑，及將塗料固定於基材上。基材2經 烘烤表面其次接受對輻射之以影像複製方式曝光。 此輻射曝光造成經塗覆表面被曝光區域之化學轉移。 可見光、紫外（UV)光、電子束、與X_射線㈣能量爲輕 射型在此以影像複製方式曝光後，經塗覆基材以顧像劑 溶液處理’以自基材表面料及去除光阻之㈣射曝光 或未曝光區域，及所有之抗反射塗料。 有兩型之光阻組合物，負作業與正作業。負作業光阻 组合物對輻射以影像複製方式曝光時，對輻射曝光之光 阻组合物區域變爲較不溶於顯像劑溶液（例如，發生交聯 反應），而光阻塗料之未曝光區域維持相冬* Y ,人” w田；谷於此溶液。 因此’曝光負作業光阻使用顯像劑之處 心理造成光阻塗料 非曝光區域之去除，及塗料中負像之產 玉土，而未覆蓋底 木紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-口 下基材表面光阻组合物沉積之所需部份。 方面正作業光阻组合物對輻射以影像複製方3 f光時，光阻組合物對輻射曝光之區域變爲更溶於㈣ 谷夜（例如’發生重排反應），而未曝光區域維持相當 :落於顯像劑溶液。因A，曝光之正作業光阻使用顯偉 劍（處理it成塗料之曝光區域之切，及光时料中之 正像產生。底下基材表面之所需部份又未被覆蓋。 在此顯像操作後，部份未被保護之基材現在可使用基 :钱刻劑溶液或電漿氣體等處理，劑落液或電漿氣 姐蝕刻顯像時去除光阻塗料之基材部份。仍保持光阻塗 叙基材區域被保護，因此，在基材材料產生敍刻圖樣 ，其對應用以對輻射以影像複製方式曝光之光罩。稍後 ，其餘區域之光阻塗料可在汽提操作時去除，留下娘、，青 潔蚀刻表面。在某些情形，希望在顯像步驟後而且在餘 刻步驟前’熱處理其餘光阻層’以增加其對底下之黏附 性及其對蝕刻溶液之光阻性。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 正作業光阻组合物目前比負作業光阻有利，因爲前 通常具有較佳之解析能力及圖樣轉移特徵。光阻：：产 定義爲’在曝光及顯像後光阻组合物可使用高 : 像邊緣敏銳性自光罩轉移至基材之最小特點。在二人-許多製造應用’遠低於一微米之級數之光阻解析产：： 要的。此外，幾乎總是希望顯像之光阻壁外形相ς其 爲近乎垂直。光阻塗料之顯像與未顯像區域之劃分二烧 成基材上光罩影像之正確圖樣轉移。 又 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X2^7公；t ) A7 B7 五、發明説明（3 發明之概要 、止本發月係關於一種方法，以分餾分甲醛縮合產物，而製 造水不落性驗水溶液可溶可形成薄膜之紛酸清漆樹脂，及 其在光阻组合物之用途。本發明進—步關於一種方法，以 製造含此高熱安定性、水不溶性、驗水溶液可溶、可形成 涛膜之祕清漆樹脂與光敏化之正作業光阻，及此光阻在 製造半導體裝置之用途。 本發明提供-種方法，以藉由在酸觸媒之存在下，縮合 、或更夕甲&與甲趁或三g燒，及將驗酸清漆樹脂溶解於 k田义/合剑中，如甲醇，而且分餾生成之酚醛清漆樹脂， 而製k水不办性 '驗水溶液可溶、可形成薄膜之驗趁清漆 樹脂之方法，此方法包含： . U提供基於水不落性、鹼水溶液可溶、可形成薄膜之酚 醛清漆樹脂在如甲醇、乙醇、丙酮、或四氫呋喃（THF) t適當極性有機溶劑之重量，爲約丨〇 %至4 〇 %溶液， 較佳爲約15%至約35%，最佳爲約2〇%至約3〇%之溶 液； 2) 經具有小於1微米，較佳爲約〇1微米至小於丄微米，最 佳爲約0.1微米至約0.4微米之等級之濾器，過濾酚醛 清漆樹脂容液； 3) 使驗酸清漆樹脂溶液通過陰離子交換樹脂，如 Amberlyst® 21 樹脂； 4) 使驗酸清漆樹脂溶液通過陽離子交換樹脂，·如 Amberlyst® 15樹脂； 本紙•適用中國國家標準（CNS ) Μ規格^丨〇 χ 2967公^- ---------%II - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 麵濟部中夬樓準局員工消費合作、社印製 A7 ____ _ B7 ^^^ 五、發明説明（4 ) • \ 5 )調整酚醛清漆樹脂溶液之溫度，由2 0 °C至約3 5 t，較 佳爲約2 5 °C至約3 0°C ; 6)加入基於重量爲約1 0 %至约6 0 %，較佳爲約2 〇 %至約 3 0 %之去離子水； 7 )攪拌酚醛清漆樹脂溶液/水混合物至少約3 〇分鐘，較 佳爲至少約45分鐘，及最佳爲至少約6〇分鐘（對於攪 拌混合物之時間量並無限制，雖然實際限制爲約2小時） ’ 8 )使混合物沉降至少約5分鐘，較佳爲至少約丨〇分鐘， 及取i圭爲土 >約15分鐘（對於沉降混合物之時間量並無 限制，雖然實際限制爲約1小時）； 9)如藉虹吸，去除大部份（至少55重量％，較佳爲至少 7 5 %)之水與極性有機溶劑； . 1 0)加入基於重量爲約40%至約65%，較佳爲约45%至约 60%，最佳爲約50%至約55%之適當光阻溶劑，如丙 二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA)、丙二醇單乙鍵乙酸酯、 或3 -甲氧基-3 -曱基-1 - 丁醇（MMB); i 1)在眞空下於約9(TC至約13(TC，較佳爲約i〇(rc至約 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 120°C之溫度，及約50毫米至約120毫米，較 毫米至約U0毫米，最佳爲約90毫米至約1〇〇毫米之壓 力，蒸餾實質上所有之殘餘水與極性有機溶劑. 12)冷卻殘餘之酚醛清漆樹脂溶.液至約25χ： ι王约4 ) C，.，較 佳爲约30°C至約40°C，最佳爲約3(TC至約35Ί：之溫度 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 五、 發明説明（; 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ):::二由加入額外之溶劑而調整紛酸清漆樹脂 及炙固σ I至所需程度； )-具有小於1微米，較佳爲約Q1微米至小於i微米 =二米至約。·4微米之等級之滤器，過遽二 ；务树脂〉谷液。 本f明亦提供—種方法，以製造正光阻组合物，包含： 1) 提供基於水不溶性、驗水溶液可溶、可形成薄膜之紛 、 旰 GS?、丙酮、或四氧呋喃（TH =通：極性有機溶劑之重量，爲約10%至40%溶液， 車乂佳馬約15%至約35%，最佳爲約2〇%至約3〇%之溶 2) 經具有小於！微米，較佳爲約〇1微米至，】、於1微米，最 佳爲約0.1微米至約〇·4微米之等級之濾器，過濾二 清漆樹脂溶液； •Ο使驗醛清漆樹脂溶液通過陰離子交換樹脂 Amberlyst® 21 ;， 4)使酚醛清漆樹脂溶液通過陽離子交換樹脂 Amberlyst® 15 ; 5 ) ”周整酚醛清漆樹脂溶液之溫度，由2 〇。匚至約3 $ π 佳爲約25°C至約30。(：； 6)加入基於重量爲約1〇%至約6〇%，較佳爲約至 j〇%之去離子水； 7 )攪拌酚醛清漆樹脂溶液/水混合物至少約3 〇分鐘，鲈 佳爲至少約4 5分鐘，及最佳爲至少約6 〇分鐘（對於攪 如 如 較 !-1! - II - 1 I I In !_'-v^1 I (請先閔讀背面之注意事項再填寫本頁〕 、17 01. 本紙法尺度適用t國國家標準（CNS ) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明（6 拌混合物之時間量並無限制，雖然實際限制爲約2小時） ， 8 )使混合物沉降至少約5分鐘，較佳爲至少約丨〇分鐘， 及最佳爲至少约I 5分鐘（對於沉降混合物之時間量並無 限制，雖然實際限制爲約1小時）； · 9) 如藉虹吸，去除大部份（至少5 5重量％，較佳爲至少 75%)之水與極性有機溶劑； 10) 加入基於重量爲約40%至約65%，較佳爲約45%至約 6 0% ’最佳爲約50%至約5 5 %之適當光阻溶劑，如丙 二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA)、丙二醇單乙醚乙酸酯、 或3 -甲氧基-3 -曱基-1_ 丁醇（MMB); 11) 在眞空下於約90°C至約130T，較佳爲約1〇〇。〇至约 120 C之溫度’及約5 0毫米至約120毫米，較佳爲約8 〇 毫米至約110毫米，最佳爲約9 0毫米至約1〇〇毫米之麼 力，蒸餾實質上所有之殘餘水與極性有機溶劑； 1 2 )冷卻殘餘之酚醛清漆樹脂溶液至約2 5。(：至約4 5 °C，較 佳爲約3 0 C至約4 0 °C，最佳爲約3 .0 °C至約3. 5 °C之溫度 > 1 3 )如果需要，藉由加入額外之溶劑而調整酚醛清漆樹脂 溶液之固體含量至所需程度； 14) 經具有小於1微米，較佳爲約〇1微米至小於1微米，最 佳爲約0.1微米至約0.4微米之等級之濾器，過濾酚醛 ；含樹脂落液， 15) 藉由提供：a)足以將光阻组合物光敏化之量之光敏成 本紙張尺度適用巾國國家檩準（CNS )八4胁（210X 297公發 (請先閱讀背齑之注意事項存填寫本頁)

,1T 五、發明説明（7 趁清漆樹脂’—清漆樹 適當光阻溶劑，而：：光阻組合物之量而存在；及C) „ ^ 而配製光阻組合物溶液。 本發明進一步提供—、 ^ ^ ^ 、種万法，以藉由使用正作業光阻组 合物塗覆通當基材， ^ ^ μμ、+ ^在基材上製造光阻影像，而製造半 導體裝置，此万法包含： .Τ 1) 提供基於水不您抖 ^ . 醛清漆樹俨一 液可溶、可形成薄膜之酚 , 17甲醇、乙醇、丙酮、或四氫呋喃（τ H F) 之適田極〖生有機溶劑之重量，爲约王〇 %至4 〇 %溶液， 車又佳爲、.々1 5 /。至約3 5 %，最佳爲約2 〇 %至約3 〇。/。之溶 液； 2) 經具有小於1微米，較佳爲約0.1微米至小於1微米，最 佳爲約〇·1微米至約04微米之等級之濾器，過濾酚醛 清漆樹脂溶液； 〇)使驗駿清漆樹脂溶液通過陰離子交換樹脂，如

Amberlyst® 21樹脂； 4)使紛醛清漆樹脂溶液通過陽離子交換觸媒，如 Amberlyst® 15樹脂； 5 )調整酚醛清漆樹脂溶液之溫度，由2 〇 至約3 5，較 佳爲約2 5 °C至約3 0 °C ; 6) 加入基於重量爲約10%至約60%，較佳爲約20%至約 30 %之去離子水； 7 )攪拌酚醛清漆樹脂溶液/水混合物至少約3 0分鐘，較 佳爲至少約4 5分鐘，及最佳爲至少約6 0分鐘（對於攪 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210乂'；21^么釐} (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 經濟部中央橾準局員工消費合作社印製 五、發明説明（8 ) 拌混合物之時間量並無限制，雖然實際眼制爲约2小時） 8 )使混合物沉降至少約5分鐘，較佳爲至少約1 〇分鐘， 及最佳爲至少約15分鐘（對於沉降混合物之時間量並無 限制，雖然實際限制爲約1小時）； 9 )如藉虹吸，去除大部份（至少5 5重量％，較佳爲至少 75%)之水與極性有機溶劑； · 1 〇 )加入基於重量爲約4 0 %至約6 5 %，較佳爲約4 5 %至 6 0 %，最佳爲約5 0 %至約5 5 %之適當光阻溶劑，如 二醇單曱酸乙酸酯（PGMEA)、丙二醇單乙醚乙酸酷 或j -曱氣基-j-曱基-1-丁醇（mmB); " 1 1)在眞空下於約9 0 C至約13(TC，較佳爲約i 〇〇它至約 1 一20°C之溫度，及約50毫米至約12〇毫米，較佳爲約w 毫米至約110毫米，最佳爲約9 〇毫米至約i 〇〇毫米之 力，路館實負上所有之殘餘水與極性有機溶劑； 1 2)冷卻殘餘之酚醛清漆樹脂溶液至約2 5<χ：至約4 ， 佳馬約3(TC至約4(TC，最佳爲約”乇至約”^之 1。)如不需要’耩由加入額外之溶劑而調整酚 溶液之固體含量至所需程度； H树脂 具有小W微米’較佳爲約〇1微米至小於心米^ 馬約0.1微米至約0.4微米之等級之 取 清漆樹脂溶液； 、過濾紛醛 15)猎由提供：a)足以將光阻组合物光敏化之量之光敏成 約 丙 壓 較 --I — . I! -I ------ - HI ·= - -11 I - - - - - - I . - 'ύ C請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-1T W. 表紙張尺度適用 , —-11 - (匚奶）八4規格（2!〇父297公釐）

• II 1 I I I 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -12- 五、發明説明（9 份，b)本可形成薄膜之酚醛清漆樹脂，此酚醛清漆樹 脂以足以形成實質上均勻光阻組合物之量而存在；及e 適當光阻溶劑，而配製光阻组合物溶液； e 16)熱處理經塗覆基材，直到去除實質上所有之光阻溶劑 將光敏化组合物以影像複製方式曝光；及以鹼水溶 瑕顯像劑去除此组合物之以影像複製方式曝光區域。 在去除步驟之前或之後，可視情形實行基材之烘烤。. 丝體實施例乏糕細韶日η 鹼溶性、水不溶性、可形成薄膜之酚醛清漆樹脂已經常 用於光阻，如Knop A_與Scheib，w·;之"酚系樹脂之化學 與惠用”，Spring Verlag出版社，紐約，1979，在第4章所 例不。類似地，熟悉此技藝者已知鄭_醌重氮化物，如 K〇Sar，J·;之"光敏化系統"；約翰威利父子出版社，紐約 ，1965，第7.4章所證明。然而，依照本發明之方法，已 發現使用依照本方法分餾之樹脂產生具有高熱安定力性 阻。 本發明方法製造之特定酚醛清漆樹脂爲水不溶性、鹼水 落液可溶、可形成薄膜之樹脂。此酚醛清漆樹脂具有在約 20,000至約4〇,〇〇〇，或更佳爲約32 〇〇〇至约35 〇〇〇之範圍之 較佳重量平均分子量（如GPC所測定）。 包含本發明光阻组合物之成份之光敏化劑可爲一或更多 經基驗或醇化合物，較佳爲三羥基苯基乙烷或羥基二苯酮 ’與如％基氯之續酸或其續酸衍生物之醋，如美國專利 3，106,465與4,719，167所述，其在此併入作爲參考。 M氏張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部中央標準局員工消費合作社印装 A7 —' ----~-_____B7 五、發明説明（1〇 ) •光阻组合物藉由在適當之光阻溶劑摻合成份而形成。在 較2具體實施例’紛趁清漆樹脂在光阻之量較佳爲，基於 固體（重量’即’非溶劑光阻成份，範圍在18%至約 及更佳為約20%至約3〇%。在較佳具體實施例，光敏化劑 以基於固體光阻成份之重量爲約3 %至約8 %，較佳爲約4 % 至約6%之量，存在於光阻。在製造光阻组合物時，酚醛 清漆樹脂與光敏化劑混合如丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基 链乙酸醋、乙酸丁醋、二甲苯、乙二醇單乙基鍵乙酸酉旨、 丙二醇單甲基醚乙酸酯、2_庚酮、乳酸乙酯、3_乙氧基丙 酸乙酯、及乳酸乙酯與3 _乙氧基丙酸乙酯混合物等之溶劑 〇 其他炙視情形成份，如著色劑、染料、防紋劑、調平劑 、塑化劑、黏附促進劑、增速劑、溶劑，及如非離子性界 面活性劑之界面泽性劑，可在溶液塗覆於上之前，加入酚 越清漆樹脂、光敏化劑、與溶劑之溶液中。可與本發明光 阻組合物一起使用之染料添加物之實例包括曱基紫2 B (c / No. 42535 )、結晶紫（C.L No. 42555 )、孔雀綠（C I N〇 42000)、維多利亞藍B(C.I. No. 44045)、與天然紅（c j N〇 50040)，於基於酚醛清漆樹脂與光敏化劑之組合重量爲一 至十重量百分比之程度。染料添加物有助於藉由抑制照亮 基材之逆散射而提供增加之解析度。 防紋劑可以基於樹脂與光敏化劑之组合重量達約5重量％ 之程度而使用。可使用之塑化劑包括，例如，鱗酸三_(万_ 氣乙基）-醋；硬脂酸醋：二棒腦；聚丙埽；縮趁樹脂；苯 ____-13-_______ ^浪尺度適用t麵家標準（CNS )_ A4規格（21(3X297公衰） — (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部中央標準局員工消費合作社印製 .A7 一 —__B7 . 五、發明説明（11 ) 氧基樹脂；及烷基樹脂，基於酚醛清漆與光敏化劑之组合 重量爲約一至十重量百分比程度。塑化劑添加物改良材料 之塗覆性質，並且對基材造成膜以平滑及具有均勻厚度之 塗布。 可使用之黏附促進劑包括，例如，（卢_3，4_環氧基-環己 基）-乙基二曱氧基石夕娱）；對-甲基二矽燒-甲基丙烯酸甲酯 ;乙烯基三氣矽烷；及r -胺基-丙基三乙氧基矽烷，基於 樹脂與光敏化劑之组合重量爲達約4重量百分比程度〜可 使用之顯影增速劑包括，例如，苦味酸、菸绘酸、或硝基 桂皮酸，基於酚趁清漆與光敏化劑之組合重量爲達約2 〇重 量百分I比程度。這些增效劑趨於增加光阻塗料在已曝光及 未曝光區域之溶解度，因此其在完全考慮顯像速度時用於 塗覆’即使4¾牲一些程度之對比；即，来然光阻塗料之曝 光區域更快速地被顯像劑溶解，增速劑亦造成未曝光區域 之較大量光阻塗料損失。 塗料溶劑可以達組合物固體之95重量％之量，存在於全 部組合物。溶劑當然在光阻溶液於基材上之塗覆及乾燥後 實質上去除。可使用之非離子性界面活性劑包括，例如， f基苯氧基聚（氧化乙缔基）乙醇；辛基苯氧基乙醇，基於 樹脂與光敏化劑之组合重量，達約10重量❶/〇程度。 製備之光阻溶液然後藉用於光阻技藝之任何習知方法， 塗布於適當基材，包括浸塗、噴塗、轉塗、與旋塗。例如 踢在旋塗時，爲了提供所需厚度之塗料，光阻溶液關於固 體含量百分比而調整，而给予所使用旋塗裝置型式及旋塗 本纸張 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁).

經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明（12 ) 方法允許之時間量。適告夕箕 _货〜 . 遒Θ <基材包括矽、鋁、聚合樹脂、 —氧化珍、捧染之-寄仆功' >· 氧化矽、氮化矽、钽、銅、聚矽、陶 資；、链/銅混合物；坤化錄、乃甘π， 豕及其他如第III/V族化合物 〇 所述步騍製造之光阻塗料特別適於對經熱生長矽，二氧 化夕塗覆曰日圓〈塗布，如用於微處理器及其他小型化積體 電路组件之製造。亦可使用銘/氧化銘晶圓。此基材亦可 包含各種聚合樹脂，特別是如聚酉旨之透明聚合物。此基材 可具有通當組合物之黏附性促進層，如含六甲基二矽就烷 者。 光阻組合物溶液燃後塗覆於基材上之光阻组合物上，而 且基材在熱板上於約7 〇。(：至約丨丨〇 1之溫度處理約3 〇秒至 約180秒，或在通風烤箱中約15至約9〇分鐘。選擇此溫度 處理以降低光阻中之殘餘溶劑濃度，而不造成光敏化劑之 大量熱降解。通常，希望減少溶劑濃度，而且進行此第一 溫度處理直到實質上所有之溶劑蒸發，及厚度一微米級數 之薄光阻組合物塗料保留於基材上爲止。在較佳具體實施 例，溫度爲約85°C至約95Ό。進行處理直到去除溶劑之改 變速率變爲相當不足取爲止。溫度與時間選擇視使用考所 需之光阻性質，及使用之裝置與商業所需塗覆時間而定。 被塗覆基材可以藉由適當罩、負片、模板、樣板等之使用 而製造之任何所需圖樣，對於3 〇〇 nm至約450 nm之光似輻 射，例如，紫外線輻射、X _射線、電子束、離子束、或雷 射輻射曝光。 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4規格（210X297公釐〉 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、βτ· 舞· 發明説明（13 ) 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 :阻,’、、後在顯像疋丽或之後’視情形地接受後曝光第二 ;、烤或熱處理。加熱溫度範圍可爲約9(TC至約120Χ：，更 ^爲約1〇〇°C i約11〇°C。加熱可在加熱板進行約3 0秒至約 /鐘’更加爲約60秒至約90秒，或藉通風烤箱約30至约 45分鐘。 ^光之已塗覆光阻基材藉由浸潰於驗性顯像溶液顯像以 冷除以影像複製方式曝光區域，或藉噴麗顯像方法顯像。 :夜較佳爲攪拌，例如，藉由氮爆攪拌。基材可維持於顯 ，劑’直到所有或實質上所有之光阻塗料自曝光區域顯像 馬止。顯像劑可包括氫氧化銨之水溶液。—種較佳之气氧 化物爲四甲基銨氫氧化物。被塗覆晶圓自顯像溶液去除後 ’可進行視情形《後顯像熱處理或烘烤”乂増加塗料之黏 附性及對㈣溶液與其他物質之化學抗性。後顯像熱處 可包含塗料與基材在低於塗料軟化點之烤箱烘烤。在工果 應用j特別是微電路單元在矽/二氧化矽型基材上之製= ，已顯像基材可使用緩衝、氫氟酸鹼蝕刻溶液處理。本發 明之光阻組合物抗酸_驗餘刻溶液，並且對基材之未曝 光阻塗料區域提供有效之保護。 以下之指定實例提供製造與使用本發明組合物之方法之 詳細描述。然而，這些實例並不意圖在任何方面限制或= 限本發明之範圍，而且應視爲提供必須絕對使用以實4 發明之條件、參數或値。 貝、订 實例1 6〇克之濕AMBERLYST® 21陰離子交換樹脂顆粒置於 理業 光 本 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X：297公釐） A7 經濟#-中央榡準局員工消費合作社印製 五、發明説明（ή ) =圓錐形燒瓶’並且加入去離子水，使得所有之樹脂興 上在，底下。密封燒瓶並且靜置過夜以膨服樹脂顆粒。次 3早晨將水傾析，再度加人去離子水以復蓋樹脂顆粒，並 =地搖動燒瓶。再度將水傾析。以去離子水清洗及傾 7驟重稷三次。生成之離子交換樹脂裝液倒入裝有多孔 性碟片與瓶塞之2〇〇毫升玻璃管柱。樹脂沉降至底部，而 且以去離子水逆沖管柱2 5分鐘。樹脂再度沉降至底部。 測量床長度而且床體積計算爲12〇毫升。1〇%硫酸溶液 (::床體積)以每分鐘約1〇毫升之速率下降通過樹脂床， 吏侍停留時間爲12分鐘。6倍床體積之酸溶液通過樹脂床 7 6倍床體積之去離子水然後以大約相同之流速通過樹脂 床。6倍床體積之電子級氫氧化銨溶液（6%)以如上之相同 =率通過管柱，繼而爲足夠之⑴水以去除氫氧化銨。測量 泥出物之水之pH ,以確定其符合新鮮去離子水之pH 6。 —倍床體積之電子級甲醇以如上之相同速率通過管柱， 去除水。 60克之AMBERLYST® IS陽離子交換樹脂顆粒置於一 升圓錐形燒瓶，並且加人去離子水，使得所有之樹脂顆 在水底下。密封燒瓶並且靜置過夜以膨賬樹脂顆粒。次口 巧將水傾#，再度加人去離子水以冑蓋樹脂顆粒，並且 緩慢地搖動燒瓶。再度將水傾析。以去離子水清洗及傾析 步驟重複三次。生成之AMBERLYST⑧15離子交換樹 液倒入裝有多孔性碟片與瓶塞之2〇〇毫升玻璃管柱， 至底部，而且以去離子水逆沖管柱25分鐘。樹脂再度 以 公 粒 曰 脂漿 沉降 沉降 -----------M}水—— j ^ ,-ί' (請先閲绩背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -17- 本紙張尺度適财_家‘（丨0>；2;;公釐) B7 五、發明説明（15 ) 至底部。 ’ 測量床長度而且床體積計算爲120毫升。1 〇%硫酸溶液 (6倍床體積）以約10毫升/分鐘之速率下降通過離子交換 樹脂床，使得停留時間爲1 2分鐘。6倍床體積之酸溶液然 後通過樹脂床。6 0倍床體積之去離子水然後以大約相同之 流速通過樹脂床。6倍床體積之電子級氫氧化銨溶液（6 0/〇) 以如上之相同速率通過管柱，繼而爲足夠之DI水以去除氫 氧化銨。測量流出物之水之p Η，以確定其符合新鮮去離子 水之pH 6。二倍床體積之電子級曱醇以如上之相同速率通 過管柱，以去除水。 1 ·藉由在乙酸丁酯中以三〃号燒反應67.5重量％間-曱苯呀與 32.5重量％對-曱苯酚，使用對-曱苯磺酸作爲觸媒，而製 造酚醛清漆樹脂。縮合反應完成後，以三乙胺中和觸媒。 經濟，部中夬標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 备館乙酸正丁酉旨與水。甲醇加入樹脂溶化物，以提供6 0重 量％固體溶液，其然後以甲醇進一步稀釋而產生2 4重量％ 固體溶液。此酚醛清漆樹脂之G P C重量平均分子量在 23,000至28,000之範圍。36〇克之酚醛清漆樹脂於曱醇（固 體24%)取至500毫升之燒瓶。溶液通過〇.2微米濾器，繼而 使溶’液通過預先清潔之Amberlyst® 2 1樹脂及預先清潔之 Amberlyst® 1 5離子交換樹脂，然後至已清潔之燒瓶。在 遽器前、遽器後、Amberlyst® 2 1後、及Amberlyst® 15樹 脂.處理後取樣品，以用於金屬離子試驗。 ， 2.得自步驟1之酚醛清漆樹脂（580克，24%固體）裝至1公 升四頸燒瓶。溫度調整至2 6至3 0°C，在2.5至3小時加入 _- 18-_ 本纸乐尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） A7 B7 五、發明説明（16 ) 86.1克之DI水，溫度維持在26_3(rc，並且攪拌1小時。 關閉攪拌而且混合物沉降1 5分鐘。 3 .虹吸出水與曱醇。 4_加入160克之PGMEA，並且裝設燒瓶以蒸餾。 5. 在眞空下於80°C及40毫来壓力蒸餾其餘之甲醇與水。（ 註：起初在大氣壓力開始，並且在4 〇緩慢地抽眞空，而 且持續提高溫度至約125 °C )。 6. 燒瓶之内容物冷卻至4(TC，並且取樣品以測定固體含量 、水含量、及GPC重量平均分子量（Mw)。藉由加入 PGMEA而調整固體含量。 7. 燒瓶之内容物.通過0.2毫米遽器，至無金屬離子塑膠瓶内 結果如下 GPC-Mw 間-甲苯酚 %對-甲苯酚 %MEOH* %η7 0 %IPA** 1 33,334 <0.01 0.49 0.74 0.46 MEOH* 爲甲醇 IPA** 爲乙酸異丙酯 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .n n : - 1 II . 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 試驗藉以上方法所得之酚醛清漆樹脂與分餾前之酚醛清 漆樹脂之金屬，十億分點（p p b)之結果如下所示： 本纸银尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） A7 B7 五、發明説明（17 ) 金屬 對照酚醛清漆 分鶴後 Na 346 170 K 36 125 Fe >19000 368 Cr 12 <5 Cu 9 18 Ca 34 104 A1 77 78 Mn 27 <5 Ni 9 31 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準肩員工消費合作社印製 實例2 重複實例1，而且所得之分餾樹脂具有以下之特徵。 GPC重量平均分子量： 35,098 固體： 31.8% 間-曱苯酚： 2.20% 對-甲苯酚： <0.01% 乙酸異丙酯： <0.1 % 水： 0.16% 甲醇： 0.19% 試驗藉以上方法所得之酚醛清漆樹脂與分餾方法前之酚 酸清漆樹脂之金屬，以下爲結果（均爲p p b ): -90 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210：<297公釐） A7 B7 五、發明説明（18 ) 金屬 對照 分餾後 Na 346 一 7 K 36 <5 Fe >19000 328 Cr 12 _ <5 Cu 9 <5 Ca 34 __ 6 A1 77 6 Mn 27 <5 Ni 9 5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

實例I 藉由在PGMEA溶劑中混合3 0克（4 〇 %固體於PGMEA)得 自實例1之間-甲苯酚/對-甲苯酚/三17号烷酚醛清漆樹脂 之低分子量餾份，及68.16克（4 0%固體於PGMEA)第13頁 所述，得自Hoechst Celanese公司之間-曱苯酸' /對-甲苯酿· /三呤烷酚醛清漆樹脂之1703H餾份，而製備光阻配方。 配方亦包括9.5克之光敏化劑（三羥基二苯基酮之2，1 5Γ重 氮莕醌磺酸酯）、0.96克之ΤΗΒ(三羥基二苯基酮）、與0.48 克之Modaflow®界面活性劑（得自羅姆與哈斯公司之甲.基丙 晞酸曱酯）、及91.515克之PGMEA溶劑。配方經0.2微米濾 器過濾，並且以2 120 rpm/ 3 0秒旋塗於4 "先以Η M D S (六 伸曱基二矽烷）塗底之矽晶圓，其然後以9 〇 °C / 3 0分鐘軟 性洪烤而得1 ·25微米之膜厚。晶圓在G - Line步進器上經罩 -91- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

、1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（19 ) 於270 mJ /平方公分曝光。所得之晶圓在25+/-0.5 °C使 用2.4% TMAH顯像劑攪煉顯像6 〇秒。 實例4 藉由在PGMEA溶劑中混合3 〇克（4 0 %固體於PGMEA)第 1 4頁所述，得自Hoechst Celanese公司之間-甲苯酚/對-甲 苯酚/三哼烷酚醛清漆樹脂之17〇3H餾份；及68.16克 (4 0 %固體於PGMEA)得自實例2之間-曱苯酚/對-甲苯酚 /三号烷酚酸清漆樹脂之高分子量餾份，而製備光阻配方 。配方亦包括9.5克之光敏化劑（三羥基二苯基酮之2, 1 5_ 重氮荅醌酯）、0.96克之THB(三羥基二苯基酮）、與〇·48克 之Modaflow®聚矽氧聚合物（得自羅姆與哈斯公司之界面活 性劑）、及91.515克之PGMEA溶劑。配方經0.2微米濾器過 濾，並且以2120 rpm/ 3 0秒旋塗於4 "先以Η M D S (六伸甲 基一梦娱*)塗底之碎晶圓，其然後以9 〇 °C / 3 0分鐘軟性烘 烤而得1.25微米之膜厚。晶圓在G_Line步進器上經罩於27〇 mJ/平方公分曝光。所得之晶圓在2 5 +/ - 0.5 X：使用2.4% TMAH顯像劑擾煉顯像6 0秒。 分子量數據（Mw): 藉由在聚合物於四氫呋喃（Τ η F)之稀釋溶液中實行之凝 膠滲透層析術（G P C )測量聚合物之分子量（重量平均分子量 Mw)。所使用之實降裝置包括waters® (密理博公司）可設 计自動取樣态、眞空泵、具有加熱器之層析管柱、及連接 至具有附赠軟體（1_1版，Shimadzu零件號碼T/N 22301309-91)之Shimadzu® CR 3〇A數據還原系統之差式折射計。使 ------ - 99 ,_ - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格(2〗0xi7公釐） *~~—-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

A 7 B7 五、發明説明（2〇 ) 用之折射計爲Waters® 410型，而且四個層析管柱，500 A 、1000 A、10,000 A、與100,000 A (得自密理博公司）串列 地連接。此系統使用分子量範圍如下之多重可得聚苯乙烯 標準‘校正： G P C校正 校正標準品(聚苯乙烯） 分子量 1 470,000 2 170,000 3 68,000 4 34,500 5 9,200 6 3,200 7 1,250 標準品爲實際上單分散，實質上包括單一分子量。使用 如此校正之系統，得到重量平均分子量M w，或數量平均 分子量Μη，及多分散性。 n^^l· tnn D ft— m p Λ / c . _ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟、邵中央標準局員工消費合作社印製 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐）

Claims (1)

1. .第8511〇592號專利申請案 中文申請專利範園修正本(86年12月） A8 B8 C8 D8 M讀委賣畹示，本案修丘极是否變更一/>ff内容 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 1. 六、申請專利範圍

   :種製造具有低量之水不溶性、驗水. 溶、可形成薄膜之酚醛清漆樹脂之方法，其包括./ A) 提供驗溶性、水不溶性、可形成薄膜之㈣清 脂在極性有機溶劑中之10%至4〇%重量比之溶液、· '、 B) 經過具有小於w米等級之滤器，過滤酚遂清^樹月匕 溶液； 、' 曰 C) 使酚醛清漆樹脂溶液通過陰離子交換樹脂； D) 使酚膝清漆樹脂溶液通過陽離子交換樹脂； E) 調整酚醛清漆樹脂溶液之溫度，由⑶^至”乇； F) 加入10%至60%重量比之去離子水； G.)將酚越清漆樹脂溶液/水混合物攪拌至少3〇分鐘； Η ),使混合物沉降至少5分鐘； I) 去除至少55重量％之水與極性有機溶劑； J) 加入40%至65%重量比之適當光阻溶劑； Κ)在眞空下，於9〇eC至l3〇°C之溫度及5〇毫米至uo毫 米之壓力下，蒸餾出實質上所有殘餘水與極性有機 溶劑； L )冷卻殘餘之酚酸清漆樹脂溶液至2 5 Ό至4 5。(3之溫度 可 請 先 閏 讀 背 之 注 意 h 本 頁 Μ)如果需要’則藉由加入額外之光阻溶劑，以調整酉分 酸清漆樹脂溶液之固含量至所需程度； Ν)經由具有小於1微米等級之濾器，過濾酚醛清漆樹脂 溶液。 2.根據申請專利範圍第1項之方法，其中Α)之溶液皂含 -1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） .第8511〇592號專利申請案 中文申請專利範園修正本(86年12月） A8 B8 C8 D8 M讀委賣畹示，本案修丘极是否變更一/>ff内容 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 1. 六、申請專利範圍

   :種製造具有低量之水不溶性、驗水. 溶、可形成薄膜之酚醛清漆樹脂之方法，其包括./ A) 提供驗溶性、水不溶性、可形成薄膜之㈣清 脂在極性有機溶劑中之10%至4〇%重量比之溶液、· '、 B) 經過具有小於w米等級之滤器，過滤酚遂清^樹月匕 溶液； 、' 曰 C) 使酚醛清漆樹脂溶液通過陰離子交換樹脂； D) 使酚膝清漆樹脂溶液通過陽離子交換樹脂； E) 調整酚醛清漆樹脂溶液之溫度，由⑶^至”乇； F) 加入10%至60%重量比之去離子水； G.)將酚越清漆樹脂溶液/水混合物攪拌至少3〇分鐘； Η ),使混合物沉降至少5分鐘； I) 去除至少55重量％之水與極性有機溶劑； J) 加入40%至65%重量比之適當光阻溶劑； Κ)在眞空下，於9〇eC至l3〇°C之溫度及5〇毫米至uo毫 米之壓力下，蒸餾出實質上所有殘餘水與極性有機 溶劑； L )冷卻殘餘之酚酸清漆樹脂溶液至2 5 Ό至4 5。(3之溫度 可 請 先 閏 讀 背 之 注 意 h 本 頁 Μ)如果需要’則藉由加入額外之光阻溶劑，以調整酉分 酸清漆樹脂溶液之固含量至所需程度； Ν)經由具有小於1微米等級之濾器，過濾酚醛清漆樹脂 溶液。 2.根據申請專利範圍第1項之方法，其中Α)之溶液皂含 -1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） Α8 Β8 C8 D8 397SS5 六、申請專利範圍 1 5 %至3 5 %重量比之臉酸清漆樹脂。 3. 根據申請專利範圍第」項之方法，其中A)之溶液包含 2 0 %至3 0 %重量比之盼趁清漆樹脂。 4. 根據申請專利範園第1項之方法，其中a)之極性有機溶 劑爲甲醇、乙醇、丙酮、或四氳呋喃。 5. 根據申請專利範園第1項之方法，其中B )之濾器具有〇1 微米至小於1.0微米之等級， 6. 根據申請專利範園第1項之方法，其中B )之濾器具有〇 . J 微米至0.4微米至小於ίο微米之等級。 7_根據申請專利範圍第丨項之方法，其中在e )，溫度係從 26°C調整至30°C。 8. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在ρ )，係加入 20%至30%重量比之去離子水。 9. 根據申請專利範園第1項之方法，其中在〇 )，係將混合 物攪拌至少45分鐘。 10. 根據申請專利範園第1項之方法，其中在G )，係將混合 物攪拌至少6 0分鐘。 11. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在H)，係使混合 物沉降至少1 0分鐘。 12. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在Η )，係使混合 物沉降至少1 5分鐘。 13. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在I)，係去除至 少7 5 %之水與甲醇。 14. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在J )，光阻辱劑 -2- 國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ΐτ. 經濟部中央標準局員工消费合作社印装 Α8 Β8 C8 D8 397SS5 六、申請專利範圍 1 5 %至3 5 %重量比之臉酸清漆樹脂。 3. 根據申請專利範圍第」項之方法，其中A)之溶液包含 2 0 %至3 0 %重量比之盼趁清漆樹脂。 4. 根據申請專利範園第1項之方法，其中a)之極性有機溶 劑爲甲醇、乙醇、丙酮、或四氳呋喃。 5. 根據申請專利範園第1項之方法，其中B )之濾器具有〇1 微米至小於1.0微米之等級， 6. 根據申請專利範園第1項之方法，其中B )之濾器具有〇 . J 微米至0.4微米至小於ίο微米之等級。 7_根據申請專利範圍第丨項之方法，其中在e )，溫度係從 26°C調整至30°C。 8. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在ρ )，係加入 20%至30%重量比之去離子水。 9. 根據申請專利範園第1項之方法，其中在〇 )，係將混合 物攪拌至少45分鐘。 10. 根據申請專利範園第1項之方法，其中在G )，係將混合 物攪拌至少6 0分鐘。 11. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在H)，係使混合 物沉降至少1 0分鐘。 12. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在Η )，係使混合 物沉降至少1 5分鐘。 13. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在I)，係去除至 少7 5 %之水與甲醇。 14. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在J )，光阻辱劑 -2- 國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ΐτ. 經濟部中央標準局員工消费合作社印装

   ~~---—-- 、申請專利範園 係爲丙一醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙 或3·甲氧基丁醇。 曰、 15·根據申請專利範圍第1項之方法，其中在J)，保，λ 4 5 /〇至6 〇 %重量比之光阻溶劑。 16.根據申請專利範圍第1項之方法，其中在J)，係加入 5 〇 %至5 5 %重量比之光阻溶劑。 17·根據申請專利範圍第1項之方、法，其中在Κ)，殘餘之水 與極性有機溶劑係在1〇crc至12〇τ：之溫度下餾出。 18. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在K)，殘餘之水 與極性有機溶劑係在8〇毫米至100亳米之壓力下餾出。 19. 根據申請專利範圍第丄項之方法，其中在κ)，殘餘^水 與極性有機溶劑係在90毫米至1〇〇毫米之壓力下餾出。 20. 根據申請專利範園第丨項之方法，其中在“，殘餘之溶 液係經冷卻至3 0 °C至4 0 °C。 21. 根據申請專利範圍第！項之方法，其中在“，殘餘之溶 液係經冷卻至3 0 °C至3 5。(：。 22. 根據申請專利範團第j項之方法，其中在N )，濾器具有 0.1微米至小於1微米之等級。 23. 根據申請專利範圍第i項之方法，其中在N),濾器具有 0.1微米至0.4微米之等級。 24. —種正光阻组合物，其基本上包含以下之互混物： A) 足以使光阻組合物均勻地光敏化之量之光敏成份； B) 根據申請專利範圍第丨項之方法所製成之水不溶性 、鹼水溶液可溶之酚醛清漆樹脂；及 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}

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   ~~---—-- 、申請專利範園 係爲丙一醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙 或3·甲氧基丁醇。 曰、 15·根據申請專利範圍第1項之方法，其中在J)，保，λ 4 5 /〇至6 〇 %重量比之光阻溶劑。 16.根據申請專利範圍第1項之方法，其中在J)，係加入 5 〇 %至5 5 %重量比之光阻溶劑。 17·根據申請專利範圍第1項之方、法，其中在Κ)，殘餘之水 與極性有機溶劑係在1〇crc至12〇τ：之溫度下餾出。 18. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中在K)，殘餘之水 與極性有機溶劑係在8〇毫米至100亳米之壓力下餾出。 19. 根據申請專利範圍第丄項之方法，其中在κ)，殘餘^水 與極性有機溶劑係在90毫米至1〇〇毫米之壓力下餾出。 20. 根據申請專利範園第丨項之方法，其中在“，殘餘之溶 液係經冷卻至3 0 °C至4 0 °C。 21. 根據申請專利範圍第！項之方法，其中在“，殘餘之溶 液係經冷卻至3 0 °C至3 5。(：。 22. 根據申請專利範團第j項之方法，其中在N )，濾器具有 0.1微米至小於1微米之等級。 23. 根據申請專利範圍第i項之方法，其中在N),濾器具有 0.1微米至0.4微米之等級。 24. —種正光阻组合物，其基本上包含以下之互混物： A) 足以使光阻組合物均勻地光敏化之量之光敏成份； B) 根據申請專利範圍第丨項之方法所製成之水不溶性 、鹼水溶液可溶之酚醛清漆樹脂；及 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}

   經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 •SSt9S5 申請專利範圍 c)適當之光阻溶劑β —— 25.根據，請專利範圍第24項之光阻組合物，其中該光敏 成^7爲醇系或紛系殘基與續酸或續酸衍生物之酯。 26·根據申請專利範園第24項之光阻組合物，其中在C)， 忒光阻’谷劑係選自包括丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚 ^酸、乙酸丁酯、二甲苯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、 乳酸乙酯、3 -乙氧基丙酸乙酯、及乳酸乙酯與3 -乙.氧基 丙酸乙酯之混合物。 27. 根據申請專利範圍第2 6項之光阻.组合物，其中該光阻 么劑爲丙二醇單甲基鍵乙酸醋。 28. —種製造正光阻组合物之方法，其基本上包含以下之互 混物： Α)足以使光阻組合物均句地光敏化之量之光敏成份； 及 Β )根據申請專利範圍第〗項之方法所製成之水不溶性 、驗水溶液可溶之酚趁清漆樹脂；及 C)適當之光阻溶劑。 29. 根據申請專利範園第2 8項之方法，其中該光敏成份爲醇 或臉系殘基與磺酸或磺酸衍生物之酯。 3〇·根據申請專利範圍第28項之方法，其中在〇，該光阻 溶劑係選自包括丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基鲢乙酸酯 、乙酸丁酯、二甲苯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、乳酸乙 酯、3 -乙氧基丙酸乙酯、及乳酸乙酯與3_乙氧基丙酸乙 酯之混合物。 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐 (請先閲讀背面之注意事項再k本頁) 、1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 •SSt9S5 申請專利範圍 c)適當之光阻溶劑β —— 25.根據，請專利範圍第24項之光阻組合物，其中該光敏 成^7爲醇系或紛系殘基與續酸或續酸衍生物之酯。 26·根據申請專利範園第24項之光阻組合物，其中在C)， 忒光阻’谷劑係選自包括丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚 ^酸、乙酸丁酯、二甲苯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、 乳酸乙酯、3 -乙氧基丙酸乙酯、及乳酸乙酯與3 -乙.氧基 丙酸乙酯之混合物。 27. 根據申請專利範圍第2 6項之光阻.组合物，其中該光阻 么劑爲丙二醇單甲基鍵乙酸醋。 28. —種製造正光阻组合物之方法，其基本上包含以下之互 混物： Α)足以使光阻組合物均句地光敏化之量之光敏成份； 及 Β )根據申請專利範圍第〗項之方法所製成之水不溶性 、驗水溶液可溶之酚趁清漆樹脂；及 C)適當之光阻溶劑。 29. 根據申請專利範園第2 8項之方法，其中該光敏成份爲醇 或臉系殘基與磺酸或磺酸衍生物之酯。 3〇·根據申請專利範圍第28項之方法，其中在〇，該光阻 溶劑係選自包括丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基鲢乙酸酯 、乙酸丁酯、二甲苯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、乳酸乙 酯、3 -乙氧基丙酸乙酯、及乳酸乙酯與3_乙氧基丙酸乙 酯之混合物。 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐 (請先閲讀背面之注意事項再k本頁) 、1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 3979¾六、申請專利範園 A8 B8 C8 D8 經濟部中央襟準局員工消費合作社印製 31·根據申請專利範園第3 0項之方法，i 士、、 、· « <万忐，其中孩光阻溶劑爲丙 二醇單甲基醚乙酸酯。 处-種製造半導體裝置之方法，其係藉由正作業光阻組合 物塗覆適當基材，以在基材上產生光阻影像，該组合物 基本上包.含以下之互混物： A) 足以使光阻組合物均句地光敏化之量之光敏成份； B) 根據申請專利範圍第p頁之方法所製成之水不溶性 、驗水溶液可溶之酚醛清漆樹脂；及 C) 適當之光阻溶劑； 熱處理經塗覆之基材，直到去除實質上所有溶劑爲止 ;使光敏化組合物以影像複製方式曝光；及以鹼水溶液 顯像劑去除此组合物之以影像複製方式曝光區域。 33.根據申請專利範園第32項之方法，其中該光敏成份爲醇 系或酚系殘基與磺酸或磺酸衍生物之醋。 蚪根據申請專利範圍第32項之方法，其中在〇，該光阻 洛劑係選自包括丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯 、乙酸丁酯、二甲苯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、乳酸乙 醋、3 -乙氧基丙酸乙酯、及乳酸乙酯與3_乙氧基丙酸乙 酯之混合物。 35.根據申請專利範圍第3 4項之方法，其中該光阻溶劑爲丙 二醇單甲基醚乙酸酯。 …度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閔讀背面之注意事項再填寫本頁) ΐτ------------------------ 3979¾六、申請專利範園 A8 B8 C8 D8 經濟部中央襟準局員工消費合作社印製 31·根據申請專利範園第3 0項之方法，i 士、、 、· « <万忐，其中孩光阻溶劑爲丙 二醇單甲基醚乙酸酯。 处-種製造半導體裝置之方法，其係藉由正作業光阻組合 物塗覆適當基材，以在基材上產生光阻影像，該组合物 基本上包.含以下之互混物： A) 足以使光阻組合物均句地光敏化之量之光敏成份； B) 根據申請專利範圍第p頁之方法所製成之水不溶性 、驗水溶液可溶之酚醛清漆樹脂；及 C) 適當之光阻溶劑； 熱處理經塗覆之基材，直到去除實質上所有溶劑爲止 ;使光敏化組合物以影像複製方式曝光；及以鹼水溶液 顯像劑去除此组合物之以影像複製方式曝光區域。 33.根據申請專利範園第32項之方法，其中該光敏成份爲醇 系或酚系殘基與磺酸或磺酸衍生物之醋。 蚪根據申請專利範圍第32項之方法，其中在〇，該光阻 洛劑係選自包括丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯 、乙酸丁酯、二甲苯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、乳酸乙 醋、3 -乙氧基丙酸乙酯、及乳酸乙酯與3_乙氧基丙酸乙 酯之混合物。 35.根據申請專利範圍第3 4項之方法，其中該光阻溶劑爲丙 二醇單甲基醚乙酸酯。 …度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閔讀背面之注意事項再填寫本頁) ΐτ------------------------