TW314506B - - Google Patents

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TW314506B TW084112786A TW84112786A TW314506B TW 314506 B TW314506 B TW 314506B TW 084112786 A TW084112786 A TW 084112786A TW 84112786 A TW84112786 A TW 84112786A TW 314506 B TW314506 B TW 314506B
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Description

G14506 A7 A7 _ B7 五、發明説明(i ) 本發明關於由陶瓷物料製造的底材。本發明也關於陶瓷 物料和製造此陶瓷物料的方法。 本身從陶瓷物料製造之底材本身爲已知的。它們通常由 已燒結陶瓷物料的薄片而組成,諸如二種成份的化合物氧 化銘(Al2〇3) ’氧化鎂(Mg〇),氧化鈹(Be〇),氮化鋁(A1N)或 碳化碎(Sic)。由三種成份製造的底材,諸如鎂矽氮(MgSiN2) 亦係已知的。因爲它們令人滿意的電絕緣性質,該已知底 材用在鈍化和活化電成份中,諸如電阻,電容,轉換器和 功率整流器。在這些應用上,它們當做電流一導體結構的 支撑。於申請人提出之美國專利申請案5411924中,數 個底材的優點和缺點被詳細地叙述。 陶瓷底材應用的重要領域是由矽半導體科技所形成。適 合該科技的底材必須有高的電阻R(〇hm),滿意的強度c (MPa)和高熱傳導k(W/m.K)。除此之外,底材的膨脹係數α (1/Κ)應該大體上地等於矽。該最後提及的測量標準確定矽 結構在底材上不會破裂及/或在溫度變化下剥離。矽的膨脹 係數爲約4.8 X 1〇_6 Κ·1。 經濟部中央標準局負工消費合作社印袋 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該等條件之結果,使用氧化鎂和氧化鋁做爲底材物料不 是最合適的,因爲它們的熱傳導太低且它們的膨脹係數太 高。該等缺點特別適用於當這些底材用在大的矽半導體結 構及1或”功率裝置"上時。鎂碎氮(MgSiN2)的膨脹係數(5.8 X 10·6 K·1)比氧化鋁和氧化鎂更接近矽。然而,特別在鎂矽 氮相當大之底材表面上提供複雜的半導體結構時,矽和鎂 矽氮的膨脹係數差異仍太大了。碳化矽的陶瓷底材非常貴 -4- 本紙張尺度適用中國國家棣準(CNS ) A4規格(2丨0'〆297公釐) 314506 A7 B7 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 五、發明説明(2 ) ’因爲這物料製程困難。除此之外,碳化♦有相當高的介 電常數。因此,這物料較不適合在電子元件上用爲底材。 氧化鈹的陶瓷本身有重要的缺點,乃是它們包含有毒的鈹 。氮化銘的底材展現不錯的高熱傳導(約150 W/m.K)及大體 上相同於矽的膨脹係數(4 8 x 10_6 ](-1)。然而,這物料製造 困難,因此相當地貴。 本發明之一目的在提供不會有上述缺點的陶瓷物料底材 。本發明較特別地著眼在提供具有高熱傳導的陶瓷底材, 膨脹係數大體上等於矽且容易製造,因此花費很低。 本發明的這些和其它目的能藉根據本發明之陶瓷物料底 材而達成,其特徵在於該物料包含44-47原子百分比的鋁 ,3 1-39原子百分比的氧,8-13原子百分比的碳和8_12原 子百分比的氮。 已發現具有根據本發明組成之陶瓷底材具有使用在矽半 導體科技上之理想性質。例如,本發明的底材物料之膨脹 係數等於梦,那就是4.8 X 1〇_6 K-1。除此之外,在3 〇 〇 κ之 理論熱傳導大約120 W/m.K。更進一步地,物料強度是 295 MPa。這些數據顯示物料大約和氮化鋁有相同不錯的 性質。然而根據本發明之底材是較簡易的,因此其製造便 宜很多。 導致本發明的實驗顯示,大體上單相之物料僅能在上述 組成範圍内得到。在該範圍外的組成通常包含相當量之其 他相,諸如氧化鋁,氮氧化鋁和/或碳氧化鋁。此種外來相 的存在造成不好的性質,諸如熱傳導的實質減少。要注意 -Γ ; - I I - - - ▲ I - - · nl· n (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 S14506 五、發明説明(3 ) 的是銘之小部份(達到1 〇原子百分比)能被硼取代而不會導 致結構及本發明底材性質的劇大改變。 本發明底材主要成份的組成較好相等於式Αΐ28〇2ΐ<:6Ν6。 發現上述關於熱傳導,膨脹係數和強度之性質最適於這物 料組成的底材。要注意的是,該組成元素分析之誤差爲約 每元素的1原子百分比。更進一步要注意的是此组成化學式 是基於本發明物質的結晶結構。整體的組成可能稍微不同 於以結晶結構爲基礎的組成。造成這個事實的原因可能是 陶瓷物料的玻璃相不同於結晶相。玻璃相位於結晶晶粒之 間。須了解本文中”主要成份"—詞是指物料的結晶相。 本發明也相關於陶瓷物料。根據本發明,這物料之特徵 在於它包含44-47原子百分比的鋁,31_3 9原子百分比的 氧,8-13原子百分比的碳及8_12原子百分比的氮。較好地 ,物料的王要成份之組成相當於Al28〇2iC6N6。根據本發明 之陶瓷物料係呈塑造或粉末之形式。 本發明也關於製造陶瓷物料的方法。首—具體實例之特 徵在於包含以下步驟的方法 a) 以所欲之陶堯物料組成爲基礎,預燒某一比例之氧化 紹、碳化鋁和氮化鋁之混合物。 b) 磨碎預燒的產品而形成粉末。 c) 燒結粉末以形成陶瓷物料。 藉由本發明的方法,能得至丨丨士赫, 此仵到大體上單相之物料,其包含 44-47原子百分比的鋁,31_39原 外原子百分比的氧,8-13原子百 分比的碳及8-12原子百分 屌于百刀比的氮。較好地,預燒發生在介 _____Γ — 1---4 裝------訂 (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)___ 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 本紙張纽適用中國國家標準(CNS > A4祕(21〇 χ1^1~) -6- 314506 A7 _ B7 五、發明説明(4 ) 於!和mere間的溫度㈣内,且較好地燒結發生在介 於⑽和⑽代間的溫度範園内。在這些條件下,外來相 物料的量少於20重量百分比。 本發明万法的第二具體實例之特徵爲以所欲之陶资物料 組成爲基礎,以某-比例在壓力下燒結氧化銘、破化銘和 氮化銘的混合物以形成該陶堯物料。這方法通常稱爲反應 性燒結。這方法免除了預燒和所形成之預燒產品的磨碎。 本發明的這些和其它觀點從具體實例説明中,將會明顯 且清楚。 圖示説明 圖1顯示根據本發明之陶瓷物料的底材。 圖2顯TF根據本發明之陶瓷物料的χ光繞射圖樣。 圖1中,參考數字(1)指陶瓷物料的平坦底材。這底材大 小爲40 X 60 X 4 mm3。這陶瓷物料主要成份的組成相等於式 Al28〇2lC6N6。此底材之製造説明如下。 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 - .HI m 1^1 _1 i^n - I ^ ^ U3-a f請先閑讀背面之注意事項再填寫本頁) 所使用之初始材料爲乳化铭(CR_56,Baikowski)、碳化銘 (wi,cerac)及氮化鋁(Tokuy〇ma s〇da,F_級)之粉末 。這些初始材料用以準備一混合物,其包含5 7 2重量百分 比的氧化鋁,2 3 · 1重量百分比的碳化鋁及197重量百分比 的氮化鋁。這粉末混合物在5 MPa之壓力下被壓成小球,該 小球隨後在介於1600到165CTC溫度下預燒。加熱和冷卻速 率爲每分鐘10°C。小球預燒後,磨碎成約2 " m平均顆粒大 小的粉末。該粉末爲白色。 記錄如此製造之粉末的X光繞射圖樣,如圖2所示。在該 -7- 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(5) 圖中畫出測量爲2 Θ (。)函數之放射強度(任意單位)。這圖 樣以菲力浦PW 1800繞射儀記錄,係使用單色光cu-κ π輻射 °圖樣的所有線可指定爲菱形結構(R_3in,#166,其中 »=5·459 A,c=14.952 A)。這鑽石似的結構解釋爲什麼根據本 發明之物料有相當高的熱傳導。此可由繞射圖樣得知,外 來相物料的量少於5重量百分比。元素分析顯示所製造之陶 瓷物料的組成相當於式ai28o21c6n6。元素分析之誤差最大 爲1原子百分比。 使用有最合適的化學組成之粉末陶瓷物料以熱壓來製造 底材。在這方法中,粉末約10克,以熱壓裝置(Hp 20,供應 商爲熱科技公司)擠壓以形成平坦底材。熱壓粉末在75MPa 壓力,1800°C下燒結3小時。加熱和冷卻速率爲每分鐘丨 。熱壓操作後’底材受到數種測量。底材密度約97%。這底 材的熱傳導發現爲20 W/m.K之上。計算顯示理論熱傳導約 141 W/m.K。這可藉燒結方法最適化而達成。如此製造之底 材平均膨腺係數爲4.8 X 1〇-6 。物料強度爲295 MPa。 在更進一步之實驗中,上述混合氧化鋁、碳氧化鋁和氮 化銘的混合物’随後立刻受到增加的壓力,188〇-i90〇°C的 燒結處理,3小時。得到物料密度的範固介於2 97和3 〇1 g/cm3間。這所謂"反應性熱燒結方法"的有利觀點,是耗時 之預燒步驟及磨碎步驟可被免除。以此方式,底材或其它 塑造可快速地製造且花費很低。 再更進一步之實驗中,製造數個陶瓷粉末,其陶瓷物料 各種元素之量在上述最適組成附近有所不同。這些粉末也 -8 - 本紙張Μ適用中國國家揉牟(CNS ) A4規格(210x297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝* 訂 --1 ό 14S06 Α7 Β7 五 、發明説明(6) 在上述相同條件下,以X繞射圖樣記綠。藉由非可指定的 峰之表面積估計不同相之物料量。化學組成和單相二(純 柑)的對應量如表中所列出。
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 根據範例具體實例1和7之陶瓷物料是不根據本發明的。 而根據範例具體實例2-6之陶瓷物料是根據本發明的。表 中清楚地顯示,如果根據本發明之陶瓷物料包含44_47原 子百分比的銘,31-3 9原子百分比的氧,8_13原子百分比 的碳和8-12原子百分比的氮,可得到單相物料。 综上所述,本發明關於從一種新型式陶瓷物料製造之底 材。這物料包含44-47原子百分比的鋁,3 1-39原子百分 比的氧,8-13原子百分比的碳和8_12原子百分比的氮。由 A7 314506 B7 五、發明説明(7) 這物料製造的底材展現了相當高的熱傳導,相當大的強度 及具膨脹係數等於矽的膨脹係數,因此,根據本發明的底 材非常適合使用在矽半導體科技。底材之陶瓷物料的主要 成份較好地相當於式ai28o21c6n6。本發明也提供製造底材 的方法及從這物料上的其它塑造。 L----„---1---1 裝------訂--:----1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 _-10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)

Claims (1)

  1. ,6. 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 7. 314506 第84112786號專利申請案 中文申請專利笳g[修正·gY狀年7弓) 六、申請專利範圍 r 一種喊材料基板,其特徵爲該材科包含44_47原子百 二:的銘,31_39原子百分比的氧,8_13原予百分比的 碳和8-12原子百分比的氮。 2.根據申請專利範圍第η之基板,其特徵爲材料的主要 成份<組成相當於式A128021C6N6。 3_ —種陶瓷材料,其特徵爲該材料包含以^原子百分比 的銘,31·39原子百分比的氧,8_13原子百分比的碳和 8-12原子百分比的氮。 4·根據申請專利範圍第3項之陶资材料’其特徵爲材料的 主要成份的組成相當於式Al28〇2ic6N6。 5 . 一種製造根據申請專利範圍第3或4項之陶瓷材料之方 法’其特徵爲包含以下步驟之方法 .a)以所欲之陶瓷材料组成爲基礎,預燒某一比例之 七2〇3、Al4c3和A1N之混合物, b)磨碎預燒的產品而形成粉末, c )燒結粉末以形成陶瓷材料。 根據申請專利範圍第5項之方法,其特徵爲預燒發生左 介於1500和i7〇〇°C間的溫度範圍内,且燒結發生在介於 1700和19〇〇°C間的溫度範園内。 一種製造根據申請專利範圍第3或4項之陶瓷材料之方 法’其特徵爲以所欲之陶瓷材料组成爲基礎,在壓力下 燒結某一比例之Al2〇3、AUC3和A1N的混合物以形成該陶 瓷材料。 L:\EXT41VU991 .DOC 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨〇><297公
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0992470B1 (en) * 1995-08-03 2006-03-08 Ngk Insulators, Ltd. Aluminium nitride sintered bodies and their use as substrate in an apparatus for producing semiconductors
US6495912B1 (en) * 2001-09-17 2002-12-17 Megic Corporation Structure of ceramic package with integrated passive devices
JP2005514783A (ja) * 2001-10-11 2005-05-19 アリゾナ ボード オブ リージェンツ 超硬質誘電体化合物および調製方法
US7396779B2 (en) * 2003-09-24 2008-07-08 Micron Technology, Inc. Electronic apparatus, silicon-on-insulator integrated circuits, and fabrication methods
EP1673807B1 (en) 2003-10-10 2019-12-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Electronic Device
CN109053161B (zh) * 2018-08-31 2021-05-18 武汉科技大学 一种直接发泡Al2O3-AlN多孔复合材料及其制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE417818B (sv) * 1979-09-03 1981-04-13 Sandvik Ab Keramisk legering vesentligen omfattande aluminiumoxid samt nitrider och/eller karbonitrider av en eller flera metaller tillhorande grupperna iv b, v b och vi b i periodiska systemet samt en eller flera ...
FR2628414B1 (fr) * 1988-03-11 1992-01-17 Pechiney Electrometallurgie Materiau electrofondu polyphase a base d'alumine, d'oxycarbure et d'oxynitrure d'aluminium
US5075265A (en) * 1990-12-10 1991-12-24 Ford Motor Company Preparation of aluminum oxynitride from organosiloxydihaloalanes
DE69407832T2 (de) * 1993-02-18 1998-07-16 Koninkl Philips Electronics Nv Keramischer Körper

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Publication number Publication date
KR100404815B1 (ko) 2004-02-05
JPH09509394A (ja) 1997-09-22
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DE69503472D1 (de) 1998-08-20
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EP0743929B1 (en) 1998-07-15
DE69503472T2 (de) 1999-03-04
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