TW219977B - - Google Patents

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A6 B6 219977 五、發明説明（1 ) 發明^背暑 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本百) 本發明乃有H —種抛物柱面反射鏡設計之新穎光學原理 ，其將一線光源轉換成一點光涯•及有W相Μ之應用。 先前坊蓊夕背暑紡谏： 目前拋物柱面反射鏡乃用以充當一種將輻射之平行光束 _換成通稱為反射鏡焦點之有效裝置。埴是雷達天線、微 波爐、長程望遠鏡及探照燈設計之方式。為獲得一高品霣 光束，理論上應將不具物理尺寸之點光源置於抛物柱面反 射鏡之焦點處。為了將影像放大或箱小，黏光源之微小度 及光源之強度需與光焦度输入能力取得折衷•而通量密度 需與材料取得折衷*逭主要是因為「热」的Μ係。就探照 燈而言*受限制者為霣弧點尺寸及電流密度。而對其他光 源而言，鎢铩燈乃受鎢躲之熔化溫度及絲之長度所限制。 火花光源會比大部分點光源來得佳，但其不能為一連績光 源；此外，該光源仍具有一特定尺寸。就光學檷準及其他 高解析投影及檢波而言，一'點光源乃蕖空間濾光器如計孔 所遇濾者，此將使光源之強度減弱·而仍只有由针孔尺寸 所限制之析像。躭檢波之靦點而言，同相工作之檢波器之 埭陣列尺寸將比在一點光源處收集訊號之單一檢波器來 得佳·因後者極難從 嗓轚中將訊號單一化。這全是因傳 统$抛物線輪麻的限制所造成的。絕佳之拋物柱面反射鏑 可由參数方程式y2=4px解釋·其後沿X軸旋轉。在此p 為自焦貼至盤底部之距離，而2 p為與X袖相垂直、由焦

DP 甲 4 (210X297 公簷） 219977 A6 B6 五、發明説明（2 ) 點計起之半徑。此结構乃許多光學裝置所具有者，而依據 懕用而有各種變化。薄此種限制•未來的進化在許多方面 均受限。例如：⑴當光源之光學析線被用於K將印刷®路 收縮成一微晶片時，則該光源之光學折線限制石版印刷術 之繚霣度；⑵當光學析線被用Μ照相氣動流時，其限制陰 影匾之析埭；⑶光學析線限制探照燈及雷達範圃之距離； ⑷在一影片投影機中，®弧點強度限制一特定負尺寸之影 幂尺寸，而伋維持析線及可見度；⑸幻燈放映拥具有一增 強之金素燈，其置於一深抛物柱面反射鏞之焦點處。 將一光源弄成埭性型態使得強度仍可局部的受材料特性 限制係可行的；然而*總強度會沿繚性光源集成。躭傳统 式抛物柱面反射鏞而言，這是不可能的，當有此箱要時各 具有其點光源或檢波器之拋物柱面反射鏡姐合後以雷達天 線型態或探照燈姐合擠成，各姐合伋受其等之析嫌及強度 問題所限制。 發明 > 日的及: 本新發明稱為陳氏正交抛物柱®反射鏡结構。此乃一種 可將一埭性輻射光源聚焦成一焦黏之新穎结構，使得強度 為一沿輻射光涯埭之積分，而在焦點處之光則充當一近乎 完美之無尺寸點光源。 空習知拋物柱面反射鏑中，表面係由一參數方程式y2 = 4PX形成，然後沿X袖旋轉K形成表面，X袖亦為拋物線 曲線之對稱袖。 DP - 4 甲 4(210X297^：簷） ^...........................…：ί .................装....................V;.......訂.......I ..............…：綠 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 213977 五、發明説明（3 ) - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本页) 本新發明之正交拋物柱面反射嫌亦薄—拋物線曲線形成 反射表面，惟該曲線係沿埋进焦黏及垂直於對稱釉之—線 ，自對稱袖成9Q度之旋轉。因此申請人將本發明稱為「正 交拋物柱面反射鏡」。 眾所週知•對稱袖之垂直線將被聚焦至拋物線之焦點上 。若該線亦係通過焦黏，則箱將拋物線曲繚沿該鏡茼線旋 轉而得之表面將有意料不到的特質。若線性光源有一段係 沿該線之某處定位，自該線之輻射將聚焦至焦點上，且將 顯現近乎沒有尺寸。在焦點處之強度顧現將為線性線光線 強度之稹分》若嫌光源為相干的，則從埭光源任一處至焦 黏之光程表為一常數，而在焦點處之光將保持相干。另一 方面，若一裡合系统從一邈處光源接收訊號*則線檢波器 陣列可製成枏干的或重合的檢波器，以過濾出顯示異相之 喋轚。此將使檢波器在不增加天線之物理尺寸或数目之情 況下•增加其增益許多折疊。 本正交拋物柱面反射鏑可製成複合系统之一部分Μ供許 多應用場合。本交僅躭一部分例子敘述。 麵沄之g谏： 画1顯示一普通的拋物柱面反射鏡。 匾2顯示本發明之正交抛物柱面反射鏑。 里3顯示可形成一無维點光源之正交拋物柱面反射鏡之 特性。 匾4顯示採用正交拋物柱面反射鏡及一眘通的光學透鏑

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甲 <1(210X 297-二D 21997? A 6 ____B6__ 五、發明説明（4 ) — 系統之複合糸统。 圖5乃另一配具有普通拋物柱面反射鏡之複合正交反射 匾6顯示另一配具有一規則拋物柱面反射鏑之正交拋物 柱面反射鏑。 圈7顯示具有一聚焦及可變焦嫌頭Θ燈之照相櫬。 圔8顯示《氣驅動之複合糸统*其具有通過燈相連之哦 嘴之空氣推進器。 圃9顧示一複合正交反射鏑及普通反射鏡充當一高增益 天埭之應用例，其目的在於檢測來自逭方之栢干或重合訊 號〇 一 «10顯示包含兩埭性輻射光源之完全正交抛物柱面反射 鏡。 發明夕洚钿銳职： 圖1敘述一種普通的拋物柱面反射鏡。該反射鏡係由一 X及y坐檷系统観之而反射'鏡之表面乃由沿對稱性X袖之 袖線旋轉之典型撤物線參數y2=4px形成。P為在X = p 及y = o位置之拋物線之焦點。此®禰示之焦點（P，〇 )乃一點光睜通常所在位置，在此位置中*點光源將被拋 物柱面反射鏡反射以赛成一平行光束。另一方面，若拋物 柱画反射鏡為一接收器•刖在拋物線反射鏡袖線之平行方 向上，訊號將被聚焦至一檢波器應位之焦點（P，〇)上 。自此焦點移離將使該光束聚焦於一遠處或使該光束成一 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) DP 6 甲 4(210X297 公層）

费正 JT ?f,l入_ 五、發明説明（5)219977 一特定角度漫射。 圖2顯示正交拋物柱面反射鏡。假設在x = 口及：/二〇 之同一處設有一焦點，在90度方向之拋物線表面可由方程 式（X — P) 2=4Qy敘述。在此情形中，Q將為新的拋 物線曲線之焦距，而自（P，0)至（P，Q)之線為抛 物線曲線之對稱軸。正交抛物線表面不繞從（P，0)至 (P，Q)之對稱袖旋轉，而賴亦鏡X轴旋轉而形成，該 正交拋物線表面位在與從焦點至拋物線曲線底部之對稱_ 成則度之方向上。如圔所示，此處標示Si至53之近乎線性 光將在位置（Ρ,Ο)上之焦點處被反射，而從Si SS3之線 性光源係位在正交拋物柱面反射辨_之袖線上。因此，在焦 點處之強度係受同樣材料特性限制之線性光源之總和。结 果是強度可藉將自Si至53之總能量源加Μ合成而增加，而 能量會抵焦點（Ρ，0)，並會被一點光源之數量級所加 強（只有相同的材料限制）。同時，在線性光源S i至S 3内 任一處至焦點之距離為相等的；因此，若該光源為一相干 之光源，在焦點之點光源亦為相干的。 圖3顧示正交拋物柱面反射鏡之無維點光源能力，圃3 之上部分顬示一無維線光源，其與M —恆定強度輻射之圓 柱表面具同一特性。該圓柱表面乃由恆定強度通量表面所 描示。這是光源之原理*即在具有湘同總通量之點/線性 光源周園環縝有複數個同心環。通量密度乘上這名同心圓 之表面積為一常數，其與不具一物理尺寸之線性光源是相 同的。從另一觀點言之•來自一圓柱表面之輻射繚是在圓 ......................................................装..............................^..............................Φ. {請先《讀背面之注意事項再填寫本页) 7 甲 4(210X 297 乂沒） 導办It專例也請常 γ文说明4修王透年ΓΛΙ丨 Bell·： 五、發明説明（） 219977 {請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 柱《之中心發射，而不具一物理尺寸。若我們可將此線性 光涯聚焦至一點上，則在該點之輻射為無維的。此現象只 可_由本發明之正交抛物柱面反射鏡達成。30檷示正交反 射鏑之位置，僅有所需之部分節略。31顯示線光源之位置 • 32為將自嫌或圚柱»輻射源發射出之能最集中至焦點32 上之合成焦點。在焦點32，輻射看似無明顯尺寸•而自焦 點反射至袖線之相等距離乃正交拋物線反射鏑之特色。若 光源發射一相干的輻射，則在焦點之所有角度，光級亦將 Μ —相干的點光源發射。由於在焦點32無材料存在，故沒 有與物理尺寸及能源密度或通量密度相闞之材料限制。由 於明顳的無維特性•在該焦點之空間漶光器不致減弱輻射 源之強度，這是本發明正交拋物柱面反射鏡除了強度增益 外之另一突破。此特性使光線可Μ Μ絕佳之光束特質發射 Ο 圖4顯示我們可採用一正交抛物柱面反射箱於一光學應 用例，在此反射鏡仍Μ 40槱示，而光源以41檷示·焦點以 42標示。然而，若是有一光學透鏡43 (其在42有同樣的焦 點F) •則此透鏡將轉換一線性產生之輻射源成為一平行 光束。平行光束有多種應用，典型上為光學干涉儀•放映 櫬系統、陰影圖、石版印刷、相片、校準、及其他許多輻 射用途·包括聲音系铳設計等。這些用途在新點光源無維 之情況下需要高析像且受點光源尺寸及光線強度所限制。 其後該析線會被數量級所增強。此現象只有用正交抛物柱 甲 4(210X297*i：潘） 219977 A6 B6 五、發明说明（） 面反射鏡始可達成。 _5顧示另一種用途，例如微波或笛達天繚•其中一正 交抛物柱面反射鏡輿一規則的抛物柱面反射鏡配合使用。 在此情形中，抛物柱面反射鏑將與正交拋物柱面反射鏑分 配焦點F之相同焦距。正交抛物柱面反射鏡M 5D檷示，一 埭性光源或檢波器陣列Μ 51檷示。焦點為52 ·而抛物柱面 反射鏡為53。埴些反射鏡之姐合♦或是由於其固有輻射能 力而提供強度增強之輻射，或是由於适方訊號之相干接收 能力而提供增強繼益特性之檢波。援動該兩種反射鏡之焦 點亦將Κ 一特定角度聚焦光束或發散光束。 圈6顯示配具有一普通型拋物柱面反射鏑（其在62處共 用一相同之焦距F)之卑合型正交拋物柱面反射鏡在此情 形之線性光源可為一定向於普通型拋物柱面反射鏡之實際 方向之«燈。60反射正交拋物柱面反射鏡之一部分。線性 輻射光源61從正交抛物柱面反射鏡反射*及如同拋物柱面 反射鏑S3般聚焦於同一焦點*因而形成一增強之平行光束 。在此情形中，反射鏡具有一極短之焦距；因此，強激光 束之直徑比正交拋物柱面反射鏡之部分開口小。此種應用 對一聚焦之氙燈有益，因其使光線可更沿反射鏡之方向聚 焦。 利用與一可變焦距相櫬配合之此種姐合之簡單概示乃示 於匾7。該自動可變焦距相桷或可變焦距相櫬將利用一望 逭鏡透鏡之動作、將影像變焦至ί桷之焦面，藉Κ聚焦其 {請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 甲 4 (210X297 公沒) ^18977 A6 B6 五、發明説咧（8 ) 影像。透 通型拋物 71檷示正 線性光源 ;75為將 有一綠接 鏡之位 之焦點與 如垫圈平 ~lrl 丨|> .，· · 坦系统之 定。一 圓8揭 源之正交 鏞之動作 柱面反射 交拋物柱 。73為兩 抛物柱面 點*而槓 置。可變 可變焦距 f ife 器 附加件· 示另一種 拋物柱面 可通過一糸列拥械槓杆得稍稍的 將光束聚焦於某一特定 ，而72為一 S[燈 共同焦黏 鏑，藉Μ 面反射鏡 反射鏡之 反射鏡連 杆77將連 焦距 透 透篇影像 至一槓杆 接至一固 鏡Μ 73禰 重合•在 78。其他添加件可 或僅為一可變焦距 .74為 之絞鍵 定至相 示。因 前方可 為自勡 坦糸统 雯箱霉磁锋IJ ΜΜ 一小喇叭系统之一 聚焦。正 ，推進式 80為抛物 部分；85 框架。若 則光埭在 聚f。若 嘴87會聚 由其他装 交拋物柱 明叭88， 柱面反鏡 為與磁性 閃光燈閃 第一次聚 該勡作是 • Μ形成 置如煙環 普通型 反射鏡 部分， 面反射 其具有 ;84為 埭9 84 亮•而 焦時可 Μ推動 一具有 產生器 拋物柱面 之複合姐 轚音磁通 則反射會 鏑以82標 —止回两 電磁繚圈 相作用之 反射鏑仍 被照《在 空氣，則 聲音煙環 的製造。 反射鏡與 。在此， 抖加μ瘼. 使光束沿 示•光源 Μ誘導空 •充當埭 磁性糸统 被另一種 目標上， 空氣可通 之高速咱 此棰姐合 或強激 普通型 ，其在 櫬可變 此•光 添加其 可變焦 ，依據 具有一 坡物柱 .鲜。若 光源83 為83 « 氣進人 性換能 ;8S為 装置移 移動普 距離。 筠絲之 反射鏑 76處具 焦距透 線擴展 他附件 距閃光 光源而 線性光 面反_ 在此為 之袖埭 焦點81 系统。 器之一 一支承 動時， 然後逐漸的未 過另一附件噴 出物，而煙可 可製出一幻想 請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) • J_fT: :

DP 10 甲 4(210X297W^) 219977 A6 B6 五、發明説明（9 ) K幻視覺及 同速度。 交抛物柱面 將訊號通遇 方星星之微 相位鎖定之 別真霣訊號 流之任意噪 列。 完整之正交 袖線上•若 型玩具 傳送方 匾9 92之使 33上。 。因此 定空間 )，使 之多重 匾10 埭性光 乎無雄 用基準 點光源 自噪音 ，具有 式之不 顯示正 用*其 來自遠 ，利用 析像判 來自氣 天線陣 顯示一 源置於 的聚焦 ，或用 之甩途 中判別 感覺之效果。此装置可用κ展示 反射嫌別及摁物柱面接收反射鏑 si聚焦*而反射訊號於一檢波器 波訊號檢波器可視為重合檢波器 訊號檢波及鑑別（此舉拜Μ—特 將使訊號同步成具有一空間型態 聲衮減。此乃消除了目前使用中 反射鏡•其形狀似美式足球。兩 為S性之輻射源·其等可呈現近 於一點上，而此強激光源可用Μ充當一校準 以雷射接合•或其他箱配具極高強度之無维 。另一方面，其亦可充當一靈敏的檢波器Μ 出訊號。 {請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 潘作一 2 3 4 5 综上所述，可顯見一系列的本S明： ta> 自B2，自51至53之埭性光源（檢波器）可為任意長 度，故只需一小段之正交拋物柱面反射練（0PR.)。 因此可遘揮性的將0PR與其他糸统相结合。 自匾2，0PR乃薄兩參數常數P及Q敘述。P通常與 普通型光學系统之焦距有闥。Q為OPR之正交焦距， 其提供系统設計一彈性壤擇。 11

DP 甲4(210Χ 297公韁 219977 口/ A6 B6 五、發明説明（） 圔2之结構逋用所有輻射及檢波系統·如聲音或霣磁 波。 自圓3 一線性 點處之 測方面 拋物線 中線光 物線曲 自圔4 質。除 係，其 源之優 微波發 小固柱 體型態 。圖9 器陣列 之尺寸 太陽風 層。由 天線焦 訊號檢 微波盤 只要輻射 光涯之物理 一無維點光 之優黏不可 表面沿任何 源將把光線 媒可由複數 及5，只有 了增強光焦 可降低光焦 點將馬上克 射機之困擾 體表面構形 之嫘旋形捲 顯示當檢波 。該訊號之 。由於噪音 及其他天文 於檢波器陣 點之訊號， 出，並把哦 陣列以達同 乃來自 約束將 源。一 計數。 垂直於 聚焦成 個不同 簡單的 度外， 車K達 眼產生 。懕同 。這表 繞絲將 一訊號 一常數通 張弛*其 無維點光 可顬見者 對稱性轴 一聚焦之 焦距拋物 複合系统 由於其改 到同樣效 強激點光 時指出者 示螺旋形 不致大幅 ，例如一 像大幅超 訊號，例 空間析 擾動該 擾動•將使訊號 列在同一距離及 在所有 轚過滹 一目的 檢波器間 掉、此可 量度圚 將被聚 源在訊 * OPR 嫌旋轉 環。可 線構成 即可改 良之光 果。利 源如火 *線性 捲鏡放 的使光 遠方星 越任何 如大氣 具有較 時間· 之拍頻 免除了 柱表面*則 焦在位於焦 號傅送及檢 表面可藉將 而形成，其 察覺者，辨 〇 良光束之品 束品質之闞 用一線性光 花、《弧及 光源可Μ — 電造成画柱 束品質變質 星時之檢波 人造天線盤 密度起伏、 高之噍音階 將接收來自 將把相干的 需用巨大之 ......................................................5t..............................^..............................^ (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 甲 4(210Χ297'αΆ 12 219977 A6 ___B6 五、發明説明（11 ) _ if) 自匾10 ·其亦解決了雷射核聚變之光學問题。在雷射 核聚變中*多重雷射光束乃照射在一目欏上。最理想 者，該光束懕為一恆定朝向目檷之球形爆聚。由於該 光束需各別的聚焦，理想之爆聚條件就是無法達到。 «I此OPR S念，辐射可由一線性強Z -蒱縮處獲得， 此可比霤射系统提供更多之光焦強予該點換能器。 («) 一可赛焦距氙閃光燈之優點乃玀一無二的*使可變焦 距透鏡照相檐具有目前之改良，因為現在相機之閃光 燈配有光線積分器K截斷氙放電。這僅通用於邮近的 物體。當可變焦距透鏡聚焦於一逭方物如球埸、國際 會邐及在礦野中的動物時，此時閃光燈即無效。利用 ―可變焦距之閃光燈•我們可將光線施加在相機也調 整變焦之位置。這不僅限於相機。例如，聚光燈在擴 散其熱時有困擾，VHS攝影櫬之聚光燈可較有效，因 其節省電力。鹵素燈可製成具有長絲Μ將一内装0PR 之热損失分佈至燈泡上。空氣推進及0PR及噴嘴之姐 合將是展示不同波傳送速度之最佳科學儀器。薑谏.宇節» jg疃 琿揭示一寿全新穎之幾何反射鏡Μ將本文作一總结。此 结構幾何稱之為正交迪物柱面反射鏡（0PR)，或簡稱陳 氏疼射鏡。本反射鏡之目的為將一線性光源或換能器（檢 波器）轉換成單一焦點，其中在焦點之合成輻射理論上將 不具一物理维度，而若該黏被一真空容器環繞的話•其亦 』.............................J. ................Κ...........:‘..................打.......；..............…：線 (請先聞讀背面之注意事項再填.¾本頁) DP - 13 - 甲4(210X29 了公尨 219977 r A6 B6 五、發明説明（） 不會有光能量或強度之限制。上文之各》例不應被視為對 本發明之限制。例如，反射鏡表面结構之材料改良可包含 波長或頻率之堪擇性特«，使糸统只在該等波長及頻率内 依據OPR原理反射。就一些特殊用途而言·自較佳位置播 動有時是徭要的。此種僑移對精於此項技蓊之人士係顙而 易知的。 OPR之限制將受一45度圚维所侷限·其中在方程式中之 Q為無限大*而焦點P亦在無限遠處。在大園柱體 光源 之情況中，有時其可能形成其本身之除影效應。此現象可 被發射自光源末端之光線所克腋，有時甚至可藉較小透鏡 協助。只有在極特殊場合才需用到。 (請先閏讀背面之注意事項再填寫本页) .装· •打. •線. 甲4(210X 297公沒） 14

Claims (1)

1. <18977 六、申請專利範面 η 經濟部中央搮準局印装 L -種正交拋物柱面反射鏡系统•包含： 一反射表面*係由一表面所界定，該表面拜使一抛物曲 線之一部份鏑垂直於該抛物曲線之對稱軸線之一袖線旋 轉而產生；及 ~伸長之光源*沿旋轉軸伸延，且部分或全部被反射表 面包覆。 2- 根據申請專利範園第1項之正交抛物柱面反射鏡糸统* 其中反射表面沿著旋轉袖在一側敝開，K接收或發射輻 射•且沿著旋轉軸在另一側封閉。 3· 根據申請專利範園第1項之正交拋物柱面反射鏑系統· I ♦ | 其中反射表面沿旋轉軸在兩側均敝開，K透遇其中之一 或二敝口側接收或，發射輻射。 4 根據申請專利範画第1項之正交拋物柱面反射鏑系统， 其中反射表面在旋轉袖上是具有一焦點，及包括一透鏡 ，此透鏡亦在旋轉軸上具有一焦點。 5. 根據申諝専利範圃第4項之正交抛物柱面反射鏡条统， 其中反射表面及透鏡之焦點呈重合。 & 根據申請專利範園第4項之正交拋物柱面反射鏡系统， 其中反射表面及透鏡之焦點可通過一位置範圍相對移動 ，該等位置包括該兩焦點重合之一位置。 7. 根撺申請專利範圍第1項之正交拋物柱面反射鏡系统， 其中反射表面構成具有在該旋轉袖線上之一第一焦點之 一第一反射表面，及包含朝'向該第一反射表面且具有一 第二焦點之一第二拋物線反射表面，該第二焦點具有一 (請先«請背面之注意事項再填其本頁) •装· .打· _線· f 4(210X297 公廣) 213977 A7 B7 C7 D7 A、申掎專利範面 經濟部中央搮準局印裝 與該第一焦貼相翻之堪擇空間U係。 a 根據申請專利範圈第7項之正交拋物柱面反射鏡糸铳， 其中該第一及第二焦點烴由包含彼此相重合之位置之一 位置範圍而可相對移動。\ a 根據申請專利範圃第1項之正交拋物柱面反射鏡糸统， 其中反射表面包含第一反射表面，其在旋轉袖上具有第 —焦點，及包含第二拋物柱面反射表面，其面向第一表 面，及具有第二焦點，該第二焦點具有與第一焦點相闞 之選擇性空間闞係·其中第一反射表面沿旋轉軸在兩側 均敝口，K透過該兩敝口側接收或發射輻射。 ια 根據申請專利範画第9項之正交抛物柱面反射鏡系统， 其中該第一及第二隼黏經由包含彼此相重合之位置之一 位置範園而可相對移動。 11 根據申請專利範圃第9項之正交拋物柱面反射鏡系统， 其中第一及第二焦點圼重合。 Ά 根據申請專利範画第1項之正交抛物柱面反射鏡系统， 其中反射表面包含具有第一焦點之第一反射表面，而該 正交拋物柱面反射鏡系統另包括：（i)具有第二焦點 之第二反射表面，第二焦點具有與第一焦點相闞之堪擇 空間闞係；（H)具有一可變焦距透耪之攝影機，其有 可相對移動之光學元件；及（iii)將可變焦距透鏑與至 少該第一及第二反射表面之其中之一相埋之桷構，以改 變介於兩焦點間之空間關係 ia 根據申請專利範圍第I2項之正交拋物柱面反射鏡系铳， (請先聞讀背面之注意Ϋ項再填^本頁) •装. .打. .味. *Ρ4(210Χ 297公;if) A7 B7 219377 c? D7

   々、申请專利範面 經濟邶中央揉準扃印4i 包括一光涯，與至少其中一反射表面相配合κ形成一射 擊至另一反射表面上之第一光束，其中該檐構改變該 兩焦黏之空間W係，進而使光束因其自另一反射表面反 射而造成光束會聚或發散角度之改變，及鞴以使光束Μ 與可變焦距透鏡之聚焦相閫之方式聚焦。 14 根據申請專利範函第1項之正交拋物柱面反射鏡糸統， 其中該光源包含一伸長之輻射檢波器•該輻射藉反射表 面反射於檢波器上。 1& 根據申請專利範圍第u項之正交拋物柱\面反射鏡系统， 其中該檢波器係一微波輻射檢波器。 1Ε 根撺申請専利範園第μ項之正交拋物柱面反射鏡系统* 其中該檢波器包含择旋轉軸伸延之檢器線性陣列。 17. 根據申請專利範圍第1項之正交拋物柱面反射鏡系统， 其中反射表面包含一簧質封閉之三度空間表面。 18. 根據申請專利範圍第17項之正交拋物柱面反射耪系统* 其中該光源包含至少一沿一部分旋轉軸伸延之伸長光源 ，該旋轉軸被反射表面圃鏡*而該光源另包含一位於該 三度空間反射表面中心之黏光源。 ia 一種正交拋物柱面反射鏡系統*包含： 一反射表面，係由一表面所界定*該表面藉使一抛物曲 線之一部份糖垂直於該拋物曲線之對稱軸線之一軸線旋 轉而產生； 該反射表面沿著兩個横向旋轉轴之相隔開平面被截斷。 f 4 (210X297 公;¥) ......................................................St............................ir..............................線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 219977 c? ___D7 六、申請專利範® 2Q 根據申請專利範圔第18項之正交抛物柱面反射鏡系统， 包括一伸長光源，其沿著拋物線曲線該部分之旋轉輪伸 延*及部分或全部被反射表面包覆*及包括一光學元件 ，其具有一焦點，與該旋轉軸重合。 ......................................................St..............................ir..............................sf (請先聞讀背面之注意事項再填荈本页) 經濟部中央搮準局印製 甲4(210X297 公潘）