TW202403360A - 光學膜 - Google Patents
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Abstract
光學膜包括一端面,端面具有算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度RSm。算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度RSm滿足
,其中,
Description
本發明是有關於一種光學膜。
光學膜在製程中難免發生缺陷,其中一種缺陷例如是發生在光學膜之端面。端面缺陷容易導致光學膜無法通過信賴性測試或使用過程中易破壞。因此,如何改善端面缺陷是本領域業者不斷努力目標之一。
因此,本發明提出一種光學膜,可改善前述習知問題。
本發明一實施例提出一種光學膜。光學膜包括一端面,端面具有一算術平均粗糙度Ra、一最大高度粗糙度Rz及一輪廓曲線平均長度RSm,算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度RSm滿足
。其中,
為一應力集中係數。
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解,下文特舉實施例,並配合所附圖式詳細說明如下:
請參照第1~3圖,第1圖繪示依照本發明一實施例之光學膜100的示意圖,第2圖繪示第1圖之光學膜100之偏光層110之裂痕C1的示意圖,而第3圖繪示第1圖之光學膜100沿方向3-3’的剖面圖。
如第1及2圖所示,光學膜100包括至少一端面110s,端面110s具有算術平均粗糙度(Arithmetic Mean Deviation)Ra、最大高度粗糙度(Maximum Height of Profile)Rz及輪廓曲線平均長度RSm,算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度(Mean Width of The Profile Elements)RSm滿足下式(1),其中,
為一應力集中係數
。
…(1)。
由於本發明實施例之光學膜100的應力集中係數
不大於5,因此光學膜100的最大承受應力相對較小(相較於應力集中係數
大於5而言),進而降低裂痕C1(裂痕C1繪示於第2圖)成長成一較長的裂紋C2(裂紋C2於第2圖繪製成虛線)的機率,使光學膜100具有較高強度(愈長的裂紋C2愈容易造成光學膜100破壞)。
如第2圖所示,光學膜100包括至少一裂痕C1,裂痕C1從端面110s沿X軸向延伸。本文之裂痕C1 指的是裁切後光學膜100,在使用前或耐久測試前(裂痕C1尚未成長)的凹口。光學膜100裁切後,所裁切出的端面110s難免會有微小裂痕C1產生,此時裂痕C1肉眼通常不可以見,需要用顯微鏡來觀察,且可以算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度RSm等粗糙度表示。前述算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度RSm為針對此至少一裂痕C1量測所得之數值,即,本發明實施例所稱之粗糙度(算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及/或輪廓曲線平均長度RSm)主要是針對裂痕C1(凹部)之裂痕長度
(凹陷深度)。光學膜100在使用後或耐久測試後,裂痕C1會發生成長,成長後裂痕C1於本文稱為裂紋C2。
應力集中係數
表示光學膜由於裂痕因素造成實際上承受更大應力的加乘幅度。光學膜在相同受力下,應力集中係數
愈大,表示光學膜由於裂痕因素承受愈大的應力;反之則愈小。應力集中係數
愈小,表示光學膜的強度愈大;反之則愈小。在一實施例中,應力集中係數
大於1,例如是介於1~5之範圍的任意實數,例如是1、2、3、4、5、前述數值與0.1的整數倍(如,介於1~10之間的正整數)之和,或前述數值與0.01的整數倍(如,介於1~100之間的正整數) 之和。在一實施例中,最大高度粗糙度Rz例如是小於或等於10微米,例如是介於0~10之範圍的任意實數,例如0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、前述數值與0.1的整數倍(如,介於1~10之間的正整數)之和,或前述數值與0.01的整數倍(如,介於1~100之間的正整數) 之和。由於最大高度粗糙度Rz例如是小於或等於10微米,因而能有效避免裂痕C1成長成一較長之裂紋C2且有效抑制新裂紋的數量增加(即,光學膜的強度愈高)。輪廓曲線平均長度RSm與裂痕C1的寬度
有關,裂痕C1的寬度
愈寬,輪廓曲線平均長度RSm愈大。此外,在相同的最大高度粗糙度Rz下,輪廓曲線平均長度RSm較大,愈能有效避免裂痕C1成長成較長裂紋C2且愈能效抑制新裂紋的數量增加(即,光學膜的強度愈高)。
如第1圖所示,端面110s例如是光學膜100中沿Y軸向的端面,然亦可為光學膜100中沿X軸向的端面。圖示的Y軸向例如是光學膜100的寬度方向,亦為透射軸方向(TD),而X軸向例如是光學膜100的吸收軸方向(MD)。在本實施例中,光學膜100沿Y軸向之邊為短邊,而沿X軸向之邊為長邊,然於另一實施例中,光學膜100沿Y軸向之邊可為長邊,而沿X軸向之邊為短邊。在其它實施例中,光學膜100也可以是正方形。本發明實施例不限定端面110s的數量,其可包含光學膜100之全部端面(或側面)的至少一者。只要是裁切光學膜100所形成的切割面,都可視為本發明實施例的「端面」。
如下表1所示,不同實施例1~5表示不同製程(製作方式及/或裁切方式)所形成之光學膜100,其端面粗糙度符合上式(1),不同比較例1~3也表示不同製程(製作方式及/或裁切方式)所形成之光學膜,但其端面粗糙度不符合上式(1)。實施例之光學膜與比較例之光學膜例如也是不同製程所形成。
表示在熱震測試中光學膜100沿寬度方向所承受之收縮應力,
表示在熱震測試中光學膜所承受的最大承受應力,其為應力集中係數
與收縮應力
的積(即,
)。當最大承受應力
愈大時,表示光學膜由於裂痕因素,實際上承受更大的應力,因此裂痕C1也愈容易成長成較長裂紋C2(光學膜的強度愈低)。
表1
端面粗糙度(um) | 應力集中係数 | |||||
Rz | Ra | RSm | ||||
實施例1 | 3.9 | 0.5 | 16.8 | 1.1 | 2.98 | 3.2 |
實施例2 | 8.4 | 0.6 | 11.5 | 1.2 | 3.91 | 4.6 |
實施例3 | 8.3 | 1.0 | 37.4 | 1.1 | 3.89 | 4.4 |
實施例4 | 7.5 | 1.0 | 48.7 | 1.1 | 3.74 | 4.3 |
實施例5 | 7.1 | 1.0 | 60.3 | 1.1 | 3.67 | 3.9 |
比較例1 | 19.4 | 1.2 | 18.2 | 1.2 | 5.41 | 6.7 |
比較例2 | 22.3 | 2.1 | 40.6 | 1.1 | 5.73 | 6.3 |
比較例3 | 47.0 | 4.2 | 83.1 | 1.0 | 7.86 | 8.2 |
表2為在熱震測試後,對光學膜進行裂紋量測的結果。「
」表示熱震測試後光學膜的裂紋數量在3條(含)以下,「
」表示熱震測試後光學膜的裂紋數量在1條(含)以下,「
」表示熱震測試後光學膜的裂紋數量在5條(含)以下,而「X」表示熱震測試後光學膜的裂紋數量在5條(含)以上。如表2所示,由於本發明實施例之光學膜的端面粗糙度符合上式(1),因此實施例之光學膜在熱震測試後裂紋長度
在1000微米以下的數量皆少於比較例之光學膜,且實施例之光學膜在熱震測試後裂紋長度
在2000微米以下的數量皆少於比較例之光學膜,且實施例之光學膜在熱震測試後裂紋長度
在3000微米以下的數量皆少於比較例之光學膜,足見本發明實施例之光學膜能有效抑制裂痕成長幅度,增加光學膜使用壽命及可靠度。
表2
熱震測試結果 | |||
裂紋長度 1000 | 裂紋長度 2000 | 裂紋長度 3000 | |
實施例1 | |||
實施例2 | |||
實施例3 | |||
實施例4 | |||
實施例5 | |||
比較例1 | |||
比較例2 | |||
比較例3 | X | X |
如第1圖所示,表1之實施例之光學膜之對角長度D例如是65英吋,在光學膜100之端面110s決定三個樣本區A1~A3,並在各樣本區決定三個量測區,例如於樣本區A1決定三個量測區A11~A13,於樣本區A2決定三個量測區A21~A23,而於樣本區A3決定三個量測區A31~A33。各樣本區的區域例如是
,然此非用以限制本發明實施例。此外,此些樣本區不限於分布在光學膜100的單一端面,亦可分布在光學膜100的至少二端面。
以實施例1之算術平均粗糙度Ra舉例來說,量測光學膜100之量測區A11~A33之各者的一算術平均粗糙度,共得到九個算術平均粗糙度,然後且計算此些算術平均粗糙度的一平均值,此平均值即為表1之算術平均粗糙度Ra的數值3.9。實施例1之最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度RSm的取得方式同算術平均粗糙度Ra的取得方式,於此不再贅述。表1的其它實施例及比較例的粗糙度的取得方式類似於實施例1之算術平均粗糙度Ra的取得方式,於此不再贅述。此外,本發明實施例不限定樣本區的數量,其可少於三個或多於三個,且本發明實施例也不限定量測區的數量,其可少於三個或多於三個。此外,光學膜之對角長度D不限於65英吋,也可以大或小於65英吋。
表1的端面粗糙度的量測例如是採用雷射顯微鏡,例如是Olympus 3D Laser Measuring Microscope LEXT OLS5000,且使用顯微鏡內建的分析軟體(Analysis application),點選線條粗糙度功能進行端斷粗糙度(例如,Ra、Rz、RSm)量測。
表1的收縮應力
的量測例如是採用熱機械分析儀,例如是熱機械分析儀 Seiko, TMA 6100。量測樣品的大小例如是
,在例如是恆溫80℃下,沿Y軸向拉伸樣品持續100分鐘後,再量測樣品沿Y軸向的收縮應力。
表2的裂紋C2的量測例如是採用放大鏡觀察,放大鏡例如是PEAK製 SCALE LUPE 10X。放大鏡的規格例如是:放大率為10X、視野為32
、有效徑為22
、寸法為
,而重量為74公克。量測方向例如是往第2圖之Z軸向。例如,從-Z軸向(繪示於第2圖)觀察裂紋,然後使用工具(例如,尺或量測儀器)量測裂紋C2之長度L
C2,前述量測過程可以人工執行或機器自動完成。
熱震測試例如是採用TSA-301L-W冷熱衝擊機,對光學膜樣品100P (繪示於第1圖,樣品大小例如,
)進行-30℃與80℃的循環500次。光學膜樣品100P例如可從第1圖之光學膜100裁切出,光學膜樣品100P包含光學膜100本身的裁切邊100e以及裁切出光學膜樣品100P時才形成的樣品裁切邊100P1。由於樣品裁切邊100P1並非裁切出光學膜100時所形成的裁切邊,因此在熱震測試後於樣品裁切邊100P1所發生的裂紋不予列入結果評估。在一實施例中,視裁切區域而定,光學膜樣品100P可包含端面110s。
舉例來說,加工後的光學膜撕除離形膜後,使用貼合機貼附在一般無鹼玻璃上(厚度約0.7 mm,大小約為
),進行加壓脫泡確保黏著劑與無鹼玻璃間密合。靜置1天後投入冷熱衝擊機之冷熱衝擊烘箱,進行「-30℃/30分鐘」至「80℃/30分鐘」之循環共500次,500次循環後取出光學膜,對光學膜端面進行裂紋觀察,並計算裂紋數量以及量測裂紋C2之長度L
C2。前述量測裂紋長度L
C2例如是使用放大鏡以肉眼觀察(搭配量尺)實現,或以量測儀器(不需肉眼觀察及量尺)完成。
此外,本發明實施例不限定前述算術平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz及輪廓曲線平均長度RSm的量測方式,其可以使用合適量測機台(如,萬能拉力機)進行量測。
在一些實施例中,光學膜100可為一單層或多層光學膜。在一些實施例中,光學膜100包含偏光板、光學性質調整膜、或上述的組合。在一些實施例中,光學膜100的結構可以包含多種膜層。在一些實施例中,光學膜100包含偏光層、保護層、表面保護層、及離型層但在本揭露的結構並非限定於此,例如可省略保護層,或增加其他偏光膜。
在一些實施例中,偏光層可包含偏光子。在一些實施例中,偏光子的材料可為聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)系樹脂,聚乙烯醇系樹脂可藉由皂化聚醋酸乙烯樹脂製得。在一些實施例中,保護層、表面保護膜或離型層的材料可例如是透明性、透光性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性等優良之熱可塑性樹脂。熱可塑性樹脂可包含乙醯基纖維素樹脂(例如:三醋酸纖維素(triacetate cellulose,TAC)、二醋酸纖維素(diacetate cellulose,DAC))、丙烯酸樹脂(例如:聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate),PMMA)、聚酯樹脂(例如,聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚萘二甲酸乙二酯)、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂、環烯烴樹脂、定向拉伸性聚丙烯(oriented-polypropylene,OPP)、聚乙烯(polyethylene,PE)、聚丙烯(polypropylene,PP)、環烯烴聚合物(cyclic olefin polymer,COP)、環烯烴共聚合物(cyclic olefin copolymer,COC)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、或上述之任意組合。此外,亦可進一步對保護層實行表面處理,例如,抗眩光處理、抗反射處理、硬塗處理、帶電防止處理或抗污處理等。此外,在一些實施例中,保護層係一單層或多層光學膜。
如第3圖所示,在本實施例中,光學膜100例如是多層結構,例如是包含偏光層110、第一黏合層120、第一保護層130、第二黏合層140、第二保護層150及感壓層160。第一保護層130與第二保護層150分別配置在偏光層110的相對二側,第一黏合層120配置在偏光層110與第一保護層130之間,以固定偏光層110與第一保護層130之間的相對位置,而第二黏合層140配置在偏光層110與第二保護層150之間,以固定偏光層110與第二保護層150之間的相對位置。前述端面110s例如是偏光層110的端面,且前述裂痕C1的成長並不會延伸至第一黏合層120、第一保護層130、第二黏合層140、第二保護層150及/或感壓層160。在另一實施例中,光學膜100也可以是單層的偏光層110,而不包含其它結構層。
綜上,本發明實施例提出一種光學膜,其端面粗糙度的應力集中係數小於5(符合上式(1)),因此光學膜的最大承受應力相對較小(相較於應力集中係數大於5而言),進而降低裂痕成長成一較長的裂紋的機率,使光學膜具有較高強度。在一實施例中,應力集中係數與最大高度粗糙度Rz成正比,或與最大高度粗糙度Rz的開根號成正比,而與輪廓曲線平均長度RSm成反比,或與輪廓曲線平均長度RSm的開根號成正比。
綜上所述,雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾。因此,本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100:光學膜
100e:裁切邊
100P:光學膜樣品
100P1:樣品裁切邊
110:偏光層
110s:端面
120:第一黏合層
130:第一保護層
140:第二黏合層
150:第二保護層
160:感壓層
A1~A3:樣本區
A11~A33:量測區
C1:裂痕
C2:裂紋
D:對角長度
:裂痕長度
:裂紋長度
Ra:算術平均粗糙度
Rz:最大高度粗糙度
RSm:輪廓曲線平均長度
:寬度
:應力集中係數
X, Y, Z:軸向
:收縮應力
:最大承受應力
第1圖繪示依照本發明一實施例之光學膜的示意圖。
第2圖繪示第1圖之光學膜之偏光層之裂痕的示意圖。
第3圖繪示第1圖之光學膜沿方向3-3’的剖面圖。
110:偏光層
110s:端面
C1:裂痕
C2:裂紋
L C1:裂痕長度
L C2:裂紋長度
W C1:寬度
X,Y,Z:軸向
Claims (11)
- 一種光學膜,包括一端面,該端面具有一算術平均粗糙度Ra、一最大高度粗糙度Rz及一輪廓曲線平均長度RSm,該算術平均粗糙度Ra、該最大高度粗糙度Rz及該輪廓曲線平均長度RSm滿足下式(1); …(1); 其中, 為一應力集中係數。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該應力集中係數大於或等於1。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該光學膜更包括至少一裂痕,該至少一裂痕從該端面延伸,且該算術平均粗糙度Ra、該最大高度粗糙度Rz及該輪廓曲線平均長度RSm係針對該至少一裂痕所量測。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該最大高度粗糙度Rz等於或小於10。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該端面沿該光學膜之一寬度方向延伸。
- 如請求項5述之光學膜,其中該寬度方向係該光學膜之一透射軸方向。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該光學膜更包括一偏光層,該偏光層具有該端面。
- 如請求項7所述之光學膜,其中該光學膜更包括一保護層,該保護層貼附在該偏光層。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該光學膜在經過一熱震測試前具有一裂痕,該裂痕從該端面延伸;基於該光學膜經過該熱震測試,該裂痕成長成一裂紋且該裂紋之長度小於3000微米。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該光學膜在經過一熱震測試前具有複數個裂痕,各該裂痕從該端面延伸;基於該光學膜經過該熱震測試,各該裂痕成長成一裂紋且長度短於1000微米的該些裂紋的數量小於3。
- 如請求項1所述之光學膜,其中該端面係形成該光學膜時所產生之切割面。
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TW111125334A TWI816459B (zh) | 2022-07-06 | 2022-07-06 | 光學膜 |
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