TW202344913A - 成像鏡頭、相機模組與電子裝置 - Google Patents

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Abstract

一種成像鏡頭，其具有一光軸，並包含一成像透鏡組以及一透鏡保持元件。光軸通過成像透鏡組，透鏡保持元件容置成像透鏡組，使成像透鏡組對正光軸。透鏡保持元件包含複數個遮光結構，設置於成像透鏡組的一物側，且環繞光軸形成一通光孔。各遮光結構呈直線狀且具有二端點以及一中點，各中點較各二端點靠近光軸，各遮光結構的各端點附近可定義通光孔的一最大半徑，各遮光結構中最靠近光軸的中點附近可定義通光孔的一最小半徑。藉此，可有效控制鬼影的產生，進而提升成像品質。

Description

成像鏡頭、相機模組與電子裝置
本揭示內容是有關於一種成像鏡頭及相機模組，且特別是有關於一種應用在電子裝置上的小型化成像鏡頭及相機模組。
近年來，可攜式電子裝置發展快速，例如智慧型電子裝置、平板電腦等，已充斥在現代人的生活中，而裝載在可攜式電子裝置上的相機模組、成像鏡頭以及其透鏡元件也隨之蓬勃發展。但隨著科技愈來愈進步，使用者對於透鏡元件的品質要求也愈來愈高。因此，如何提升光學元件組裝精度遂成為產業上重要且急欲解決的問題。
本揭示內容提供一種成像鏡頭、相機模組及電子裝置，其透過遮光結構的配置形成遮光孔，可有效控制鬼影(Flare)的產生，進而提升成像品質。
依據本揭示內容一實施方式提供一種成像鏡頭，其具有一光軸，並包含一成像透鏡組以及一透鏡保持元件。光軸通過成像透鏡組，透鏡保持元件容置成像透鏡組，使成像透鏡組對正光軸。透鏡保持元件包含複數個遮光結構，設置於成像透鏡組的一物側，且環繞光軸形成一通光孔。各遮光結構呈直線狀且具有二端點以及一中點，各中點較各二端點靠近光軸，各遮光結構的各端點附近可定義通光孔的一最大半徑Rmax，各遮光結構中最靠近光軸的中點附近可定義通光孔的一最小半徑Rmin。遮光結構的總數量為N，其滿足下列條件：3 ≤ N ＜ 40。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡保持元件與遮光結構為一體成型。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中遮光結構與成像透鏡組之間無接觸。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中當遮光結構的總數量介於7至22之間時，通光孔具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其滿足下列條件：0.01 ＜ t ＜ 0.08；以及1.02 % ＜ tc ＜ 9.90 %；其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。另外，其可滿足下列條件：1.12 % ＜ tc ＜ 8.05 %。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡保持元件可更包含複數個半徑結構，各半徑結構連接相鄰的各遮光結構的端點。再者，各遮光結構的二端點與光軸連線之間具有一夾角θ。另外，通光孔的最小半徑Rmin可定義遮光結構的等效數量為N'，通光孔具有一真圓度公差值t與一真圓度係數tc，其滿足下列條件：N' = 360°/θ；7 ＜ N' ＜ 22；0.01 ＜ t ＜ 0.08；以及1.02 % ＜ tc ＜ 9.90 %；其中N' ≠ N，t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。又，其可滿足下列條件：1.12 % ＜ tc ＜ 8.05 %。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中各遮光結構由一第一漸縮面與一第二漸縮面連接交會而成。再者，第一漸縮面面向成像鏡頭的物側且朝成像鏡頭的像側漸縮，第二漸縮面面向成像鏡頭的像側且朝成像鏡頭的物側漸縮。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中各遮光結構與成像透鏡組沿平行光軸方向有重疊。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔為成像鏡頭的一光圈，用以控制成像鏡頭的進光量。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中成像鏡頭的焦距為EFL，其滿足下列條件：1.0 ＜ EFL/(2×Rmin) ＜ 3.0。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中通光孔可呈N邊形。另外，通光孔可呈正多邊形。
依據前述實施方式的成像鏡頭，其中透鏡保持元件可具有至少二注料痕。
依據本揭示內容一實施方式提供一種相機模組，其包含前述實施方式的成像鏡頭。
依據本揭示內容一實施方式提供一種電子裝置，其包含前述實施方式提供的相機模組以及一電子感光元件，其中電子感光元件設置於相機模組的成像面。
本揭示內容提供一種成像鏡頭，其具有一光軸，並包含一成像透鏡組以及一透鏡保持元件。光軸通過成像透鏡組，透鏡保持元件容置成像透鏡組，使成像透鏡組對正光軸。透鏡保持元件包含複數個遮光結構，其設置於成像透鏡組的一物側，且環繞光軸形成一通光孔。各遮光結構呈直線狀且具有二端點以及一中點，各中點較各二端點靠近光軸，各遮光結構的各端點附近可定義通光孔的一最大半徑Rmax，各遮光結構中最靠近光軸的中點附近可定義通光孔的一最小半徑Rmin。遮光結構的總數量為N，其滿足下列條件：3 ≤ N ＜ 40。透過遮光結構的配置形成遮光孔，可有效控制鬼影的產生，進而提升成像品質。
詳細來說，各遮光結構相鄰的端點之間互相連接，使遮光結構環繞光軸且形成外觀呈多邊形(polygon)的通光孔。通光孔呈多邊形時，對於特殊角度入射光的成像中的鬼影具有可控制的外觀與強度(intensity)。另外，通光孔的最大半徑Rmax即為通光孔的外接圓半徑，通光孔的最小半徑Rmin即為通光孔的內切圓半徑。
透鏡保持元件與遮光結構可為一體成型。藉由同時形成透鏡保持元件與遮光結構，可降低生產成本。
遮光結構與成像透鏡組之間無接觸。藉此，適當的空間配置，可使遮光結構的遮光效率最佳化。
當遮光結構的總數量介於7至22之間時，通光孔具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其滿足下列條件：0.01 ＜ t ＜ 0.08；以及1.02 % ＜ tc ＜ 9.90 %，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。藉此，可控制通光孔於不同形狀下較佳的技術特徵範圍，以符合遮光需求。另外，其可滿足下列條件：1.12 % ＜ tc ＜ 8.05 %。藉此，可提供較高鬼影可控度的真圓度係數範圍。
詳細來說，通光孔可呈N邊形。進一步，通光孔可呈正多邊形。請參照下列表1，其表列正多邊形的邊數及其對應通光孔的真圓度公差值t以及真圓度係數tc。
表1
正多邊形邊數 t (mm) tc
3 0.4675 50.00%
4 0.2738 29.28%
5 0.1786 19.10%
7 0.0926 9.90%
8 0.0712 7.61%
9 0.0564 6.03%
10 0.0458 4.89%
11 0.0379 4.05%
12 0.0319 3.41%
13 0.0272 2.90%
14 0.0234 2.51%
16 0.0180 1.92%
20 0.0115 1.23%
22 0.0095 1.02%
24 0.0080 0.85%
28 0.0059 0.63%
30 0.0051 0.55%
34 0.0040 0.43%
35 0.0038 0.40%
36 0.0036 0.38%
39 0.0030 0.32%
40 0.0029 0.31%
再者，透鏡保持元件可更包含複數個半徑結構，各半徑結構連接相鄰的各遮光結構的端點。藉此，有利於控制通光孔的最小半徑Rmin不隨遮光結構的總數量變少而減小，以提升通光孔的設計裕度。具體而言，半徑結構的半徑即為最大半徑Rmax。
各遮光結構的二端點與光軸連線之間具有一夾角θ。通光孔的最小半徑Rmin可定義遮光結構的等效數量為N'，通光孔具有真圓度公差值t與真圓度係數tc，其滿足下列條件：N' = 360°/θ；7 ＜ N' ＜ 22；0.01 ＜ t ＜ 0.08；以及1.02 % ＜ tc ＜ 9.90 %，其中N' ≠ N，t = Rmax-Rmin， tc = t/Rmax×100%。藉此，可控制通光孔於不同形狀下較佳的技術特徵範圍，以符合遮光需求。另外，其可滿足下列條件：1.12 % ＜ tc ＜ 8.05 %。
各遮光結構可由一第一漸縮面與一第二漸縮面連接交會而成。藉由配合較佳的模具設計方式，可降低透鏡保持元件離型困難度，提升良品率。再者，第一漸縮面面向成像鏡頭的一物側且朝成像鏡頭的一像側漸縮，第二漸縮面面向成像鏡頭的像側且朝成像鏡頭的物側漸縮。藉由較佳的漸縮面設計方式，確保遮光結構被設置於理想的遮光位置。
各遮光結構與成像透鏡組沿平行光軸方向有重疊。藉由適當的空間配置，可使遮光結構的遮光效率最佳化。
通光孔可為成像鏡頭的一光圈，用以控制成像鏡頭的進光量。藉此，可符合前置光圈成像鏡頭的遮光需求位置，以提升光學設計裕度。
成像鏡頭的焦距為EFL，其滿足下列條件：1.0 ＜ EFL/(2×Rmin) ＜ 3.0。藉此，可確保足夠的光線進入，以維持成像品質。另外，當通光孔為成像鏡頭的光圈時，成像鏡頭的光圈值Fno (F-number)等於 EFL/(2×Rmin)。
透鏡保持元件可具有至少二注料痕。藉此，可對應構形更為複雜的透鏡保持元件，增加模具設計裕度。另外，透鏡保持元件的注料痕數量可為至少三。
本揭示內容提供一種相機模組，其包含如前述的成像鏡頭。藉此，提供良好的成像品質。
本揭示內容提供一種電子裝置，其包含如前述的相機模組以及一電子感光元件，其中電子感光元件設置於相機模組的一成像面。藉此，提升成像品質。較佳地，前述電子裝置皆可進一步包含控制單元、顯示單元、儲存單元、暫儲存單元或其組合。
根據上述態樣，以下提出具體實施方式及實施例並配合圖式予以詳細說明。
＜第一實施方式＞
請參照第1A圖至第1F圖，其中第1A圖係繪示依照本揭示內容第一實施方式之第一實施例中成像鏡頭100的立體示意圖，第1B圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭100的爆炸圖，第1C圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭100的另一爆炸圖，第1D圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭100的側視圖，第1E圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭100的像側的示意圖，第1F圖為第1E圖沿剖線1F-1F的剖視圖。由第1A圖至第1F圖可知，成像鏡頭100具有一光軸X，其包含成像透鏡組(未另標號)以及透鏡保持元件120。光軸X通過成像透鏡組，透鏡保持元件120容置成像透鏡組，使成像透鏡組對正光軸X。詳細來說，第一實施方式的第一實施例中，成像透鏡組包含五光學透鏡1101，且與其他光學元件沿光軸X設置於透鏡保持元件120中；具體而言，由成像鏡頭100的物側至像側，透鏡保持元件120容置二光學透鏡1101、遮光片1102、光學透鏡1101、遮光片1102、光學透鏡1101、透鏡間距維持元件1103、遮光片1102、光學透鏡1101以及固定環1104。
配合參照第1G圖以及第1H圖，其中第1G圖為第1E圖繪示的透鏡保持元件120沿剖線1F-1F的剖視圖，第1H圖繪示依照第1B圖透鏡保持元件120上遮光結構121的示意圖。由第1B圖、第1C圖以及第1G圖可知，透鏡保持元件120包含複數個遮光結構121，遮光結構121設置於成像透鏡組的物側，且環繞光軸X形成一通光孔1201，而透鏡保持元件120與遮光結構121為一體成型；第一實施方式的第一實施例中，通光孔1201為成像鏡頭100的一光圈，用以控制成像鏡頭100的進光量。各遮光結構121可由第一漸縮面122與第二漸縮面123連接交會而成，其中第一漸縮面122面向成像鏡頭100的物側且朝成像鏡頭100的一像側漸縮，第二漸縮面123面向成像鏡頭100的像側且朝成像鏡頭100的物側漸縮；也就是說，第一漸縮面122以及第二漸縮面123分別由成像鏡頭100的物側往像側及像側往物側朝光軸X漸縮，形成尖端狀的遮光結構121。
由第1H圖可知，各遮光結構121呈直線狀且具有二端點1211以及一中點1212，各中點1212較各端點1211靠近光軸X。具體而言，各遮光結構121相鄰的端點1211之間互相連接，使遮光結構121環繞光軸X且形成外觀呈多邊形的通光孔1201；於第一實施方式之第一實施例，遮光結構121的總數量為N且N為16，即通光孔1201為16邊形且為正多邊形。
配合參照第1F圖可知，遮光結構121與最物側的光學透鏡1101之間無接觸；也就是說，遮光結構121與成像透鏡組之間無接觸。另外，各遮光結構121與成像透鏡組沿平行光軸X方向有重疊。
再配合第1H圖可知，各遮光結構121的各端點1211附近可定義通光孔1201的一最大半徑Rmax，各遮光結構121中最靠近光軸X的中點1212附近可定義通光孔1201的一最小半徑Rmin，各遮光結構121的二端點1211與光軸X連線之間具有一夾角θ，成像鏡頭100的焦距為EFL。通光孔1201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表1A數值。
表1A、第一實施方式之第一實施例
θ (度) 22.5 tc (%) 1.93
Rmax (mm) 0.935 EFL (mm) 4.16
Rmin (mm) 0.917 EFL/(2×Rmin) 2.3
t (mm) 0.018      
請參照第1I圖至第1L圖，其中第1I圖係繪示依照本揭示內容第一實施方式之第二實施例中成像鏡頭100的立體示意圖，第1J圖繪示依照第1I圖中成像鏡頭100的側視圖，第1K圖繪示依照第1I圖中成像鏡頭100的像側的示意圖，第1L圖為第1K圖沿剖線1L-1L的剖視圖。由第1I圖至第1L圖可知，第一實施方式之第二實施例的成像鏡頭100具有一光軸X，其包含成像透鏡組(未另標號)以及透鏡保持元件120。以下僅敘述第一實施方式之第二實施例的成像鏡頭100與第一實施方式之第一實施例的成像鏡頭100不同處，其餘相同的元件結構及其技術特徵將不再贅述。
由第1I圖可知，透鏡保持元件120具有至少二注料痕124；具體而言，第一實施方式之第二實施例的成像鏡頭100中，注料痕124的數量為三，並位於透鏡保持元件120的外側。
配合參照第1M圖以及第1N圖，其中第1M圖為第1K圖繪示的透鏡保持元件120沿剖線1L-1L的剖視圖，第1N圖繪示依照第1I圖透鏡保持元件120上遮光結構121a、121b的示意圖。由第1I圖、第1M圖以及第1N圖可知，透鏡保持元件120包含複數個遮光結構121a、121b，遮光結構121a、121b設置於成像透鏡組的物側，且環繞光軸X形成一通光孔1201，而透鏡保持元件120與遮光結構121a、121b為一體成型；第一實施方式的第二實施例中，通光孔1201為成像鏡頭100的一光圈，用以控制成像鏡頭100的進光量。由第1L圖可知，遮光結構121a、121b與最物側的光學透鏡1101之間無接觸；也就是說，遮光結構121a、121b與成像透鏡組之間無接觸。另外，各遮光結構121與成像透鏡組沿平行光軸X方向有重疊。
由第1N圖可知，第一實施方式之第二實施例的遮光結構121a、121b有二種，各遮光結構121a、121b呈直線狀且分別具有二端點1211a、1211b以及一中點1212a、1212b，各中點1212a、1212b較各端點1211a、1211b靠近光軸X。具體而言，各遮光結構121a、121b相鄰的端點1211a、1211b之間互相連接，使遮光結構121a、121b環繞光軸X且形成外觀呈多邊形的通光孔1201。遮光結構121a的數量為5，遮光結構121b的數量為24；也就是說，遮光結構121a、121b的總數量為N且N為29。
第一實施方式之第二實施例中，通光孔1201的最大半徑為Rmax，通光孔1201的最小半徑為Rmin，各遮光結構121a的二端點1211a與光軸X連線之間具有一夾角θa，各遮光結構121b的二端點1211b與光軸X連線之間具有一夾角θb，成像鏡頭100的焦距為EFL，通光孔1201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表1B數值。
表1B、第一實施方式之第二實施例
θa (度) 22.5 θb (度) 11.25
Rmax (mm) 0.935 tc (%) 1.82
Rmin (mm) 0.918 EFL (mm) 4.16
t (mm) 0.017 EFL/(2×Rmin) 2.3
請配合參照第1O圖，其繪示依照本揭示內容第一實施方式之第三實施例中成像鏡頭的透鏡保持元件上遮光結構121a、121b的示意圖。以下僅敘述第一實施方式之第三實施例的成像鏡頭與第一實施方式之第一實施例的成像鏡頭100不同處，其餘相同的元件結構及其技術特徵將不再贅述。由第1O圖可知，透鏡保持元件包含複數個遮光結構121a、121b，遮光結構121a、121b環繞光軸形成一通光孔1201。第一實施方式之第三實施例的遮光結構121a、121b有二種，各遮光結構121a、121b呈直線狀且分別具有二端點1211a、1211b以及一中點1212a、1212b，各中點1212a、1212b較各端點1211a、1211b靠近光軸。具體而言，各遮光結構121a、121b相鄰的端點1211a、1211b之間互相連接，使遮光結構121a、121b環繞光軸且形成外觀呈多邊形的通光孔1201。遮光結構121a的數量為3，遮光結構121b的數量為28；也就是說，遮光結構121a、121b的總數量為N且N為31。
第一實施方式之第三實施例中，通光孔1201的最大半徑為Rmax，通光孔1201的最小半徑為Rmin，各遮光結構121a的二端點1211a與光軸X連線之間具有一夾角θa，各遮光結構121b的二端點1211b與光軸X連線之間具有一夾角θb，成像鏡頭100的焦距為EFL，通光孔1201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表1C數值。
表1C、第一實施方式之第三實施例
θa (度) 21.18 θb (度) 10.59
Rmax (mm) 0.935 tc (%) 1.71
Rmin (mm) 0.919 EFL (mm) 4.16
t (mm) 0.016 EFL/(2×Rmin) 2.3
＜第二實施方式＞
請參照第2A圖至第2F圖，其中第2A圖係繪示依照本揭示內容第二實施方式之第一實施例中成像鏡頭200的立體示意圖，第2B圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭200的爆炸圖，第2C圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭200的另一爆炸圖，第2D圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭200的側視圖，第2E圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭200的像側的示意圖，第2F圖為第2E圖沿剖線2F-2F的剖視圖。由第2A圖至第2F圖可知，成像鏡頭200具有一光軸X，其包含成像透鏡組(未另標號)以及透鏡保持元件220。光軸X通過成像透鏡組，透鏡保持元件220容置成像透鏡組，使成像透鏡組對正光軸X。詳細來說，第二實施方式的第一實施例中，成像透鏡組包含五光學透鏡2101，且與其他光學元件沿光軸X設置於透鏡保持元件220中；具體而言，由成像鏡頭200的物側至像側，透鏡保持元件220容置遮光片2102、光學透鏡2101、遮光片2102、光學透鏡2101、遮光片2102、光學透鏡2101、透鏡間距維持元件2103、光學透鏡2101、遮光片2102、光學透鏡2101以及固定環2104。
配合參照第2G圖以及第2H圖，其中第2G圖為第2E圖繪示的透鏡保持元件220沿剖線2F-2F的剖視圖，第2H圖繪示依照第2B圖透鏡保持元件220上遮光結構221的示意圖。由第2B圖、第2C圖以及第2G圖可知，透鏡保持元件220包含複數個遮光結構221，遮光結構221設置於成像透鏡組的物側，且環繞光軸X形成一通光孔2201，而透鏡保持元件220與遮光結構221為一體成型；第二實施方式的第一實施例中，通光孔2201為成像鏡頭200的一光圈，用以控制成像鏡頭200的進光量。各遮光結構221可由第一漸縮面222與第二漸縮面223連接交會而成，其中第一漸縮面222面向成像鏡頭200的物側且朝成像鏡頭200的一像側漸縮，第二漸縮面223面向成像鏡頭200的像側且朝成像鏡頭200的物側漸縮；也就是說，第一漸縮面222以及第二漸縮面223分別由成像鏡頭200的物側往像側及像側往物側朝光軸X漸縮，形成尖端狀的遮光結構221。
由第2H圖可知，各遮光結構221呈直線狀且具有二端點2211以及一中點2212，各中點2212較各端點2211靠近光軸X。具體而言，各遮光結構221相鄰的端點2211之間互相連接，使遮光結構221環繞光軸X且形成外觀呈多邊形的通光孔2201；於第二實施方式之第一實施例，遮光結構221的總數量為N且N為24，即通光孔2201為24邊形且為正多邊形。
配合參照第2F圖可知，遮光結構221與最物側的光學透鏡2101之間無接觸；也就是說，遮光結構221與成像透鏡組之間無接觸。另外，各遮光結構221與成像透鏡組沿平行光軸X方向有重疊。
再配合第2H圖可知，各遮光結構221的各端點2211附近可定義通光孔2201的一最大半徑Rmax，各遮光結構221中最靠近光軸X的中點2212附近可定義通光孔2201的一最小半徑Rmin，各遮光結構221的二端點2211與光軸X連線之間具有一夾角θ，成像鏡頭200的焦距為EFL。通光孔2201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表2A數值。
表2A、第二實施方式之第一實施例
θ (度) 15 tc (%) 0.84
Rmax (mm) 0.830 EFL (mm) 3.74
Rmin (mm) 0.823 EFL/(2×Rmin) 2.3
t (mm) 0.007      
請參照第2I圖至第2L圖，其中第2I圖係繪示依照本揭示內容第二實施方式之第二實施例中成像鏡頭200的立體示意圖，第2J圖繪示依照第2I圖中成像鏡頭200的側視圖，第2K圖繪示依照第2I圖中成像鏡頭200的像側的示意圖，第2L圖為第2K圖沿剖線2L-2L的剖視圖。由第2I圖至第2L圖可知，第二實施方式之第二實施例的成像鏡頭200具有一光軸X，其包含成像透鏡組(未另標號)以及透鏡保持元件220。以下僅敘述第二實施方式之第二實施例的成像鏡頭200與第二實施方式之第一實施例的成像鏡頭200不同處，其餘相同的元件結構及其技術特徵將不再贅述。
配合參照第2M圖以及第2N圖，其中第2M圖為第2K圖繪示的透鏡保持元件220沿剖線2L-2L的剖視圖，第2N圖繪示依照第2I圖透鏡保持元件220上遮光結構221以及半徑結構225的示意圖。由第2I圖、第2M圖以及第2N圖可知，透鏡保持元件220包含複數個遮光結構221以及複數個半徑結構225。遮光結構221以及半徑結構225皆設置於成像透鏡組的物側且彼此交替連接，並環繞光軸X形成一通光孔2201，而透鏡保持元件220與遮光結構221及半徑結構225為一體成型。第二實施方式之第二實施例中，通光孔2201為成像鏡頭200的一光圈，用以控制成像鏡頭200的進光量，而遮光結構221的總數量為N且N為7，半徑結構225的數量為7。
詳細來說，各遮光結構221呈直線狀且具有二端點2211以及一中點2212，各中點2212較各端點2211靠近光軸X。各半徑結構225連接相鄰的各遮光結構221的端點2211。必須說明的是，半徑結構225為圓弧狀，各遮光結構221的各端點2211附近可定義通光孔2201的最大半徑Rmax，半徑結構225的半徑即為通光孔2201的最大半徑Rmax。
由第2N圖可知，通光孔2201的最大半徑為Rmax，通光孔2201的最小半徑為Rmin，各遮光結構221的二端點2211與光軸X連線之間具有一夾角θ，成像鏡頭200的焦距為EFL。通光孔2201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表2B數值。
表2B、第二實施方式之第二實施例
θ (度) 18.5 tc (%) 1.33
Rmax (mm) 0.830 EFL (mm) 3.74
Rmin (mm) 0.819 EFL/(2×Rmin) 2.3
t (mm) 0.011      
另外，當透鏡保持元件220設置有半徑結構225，通光孔2201的最小半徑Rmin可定義遮光結構221的等效數量為N'，其中N' = 360°/θ，N' ≠ N；第二實施方式之第二實施例中，N' = 19.46。
請配合參照第2O圖，其繪示依照本揭示內容第二實施方式之第三實施例中成像鏡頭的透鏡保持元件上遮光結構221的示意圖。以下僅敘述第二實施方式之第三實施例的成像鏡頭與第二實施方式之第一實施例的成像鏡頭200不同處，其餘相同的元件結構及其技術特徵將不再贅述。由第2O圖可知，透鏡保持元件包含複數個遮光結構221，各遮光結構221呈直線狀且具有二端點2211以及一中點2212，各中點2212較各端點2211靠近光軸。具體而言，各遮光結構221相鄰的端點2211之間互相連接，使遮光結構221環繞光軸且形成外觀呈多邊形的通光孔2201；於第二實施方式之第三實施例，遮光結構221的總數量為N且N為34，即通光孔2201為34邊形且為正多邊形。
第二實施方式之第三實施例中，通光孔2201的最大半徑為Rmax，通光孔2201的最小半徑為Rmin，各遮光結構221的二端點2211與光軸連線之間具有一夾角θ，成像鏡頭200的焦距為EFL。通光孔2201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表2C數值。
表2C、第二實施方式之第三實施例
θ (度) 10.59 tc (%) 0.48
Rmax (mm) 0.830 EFL (mm) 3.74
Rmin (mm) 0.826 EFL/(2×Rmin) 2.3
t (mm) 0.004      
＜第三實施方式＞
請參照第3A圖至第3F圖，其中第3A圖係繪示依照本揭示內容第三實施方式之第一實施例中成像鏡頭300的立體示意圖，第3B圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭300的爆炸圖，第3C圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭300的另一爆炸圖，第3D圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭300的側視圖，第3E圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭300的像側的示意圖，第3F圖為第3E圖沿剖線3F-3F的剖視圖。由第3A圖至第3F圖可知，成像鏡頭300具有一光軸X，其包含成像透鏡組(未另標號)以及透鏡保持元件320。光軸X通過成像透鏡組，透鏡保持元件320容置成像透鏡組，使成像透鏡組對正光軸X。詳細來說，第三實施方式的第一實施例中，成像透鏡組包含五光學透鏡3101，且與其他光學元件沿光軸X設置於透鏡保持元件320中；具體而言，由成像鏡頭300的物側至像側，透鏡保持元件320容置二光學透鏡3101、遮光片3102、光學透鏡3101、遮光片3102、光學透鏡3101、透鏡間距維持元件3103、遮光片3102、光學透鏡3101以及固定環3104。
配合參照第3G圖以及第3H圖，其中第3G圖為第3E圖繪示的透鏡保持元件320沿剖線3F-3F的剖視圖，第3H圖繪示依照第3B圖透鏡保持元件320上遮光結構321的示意圖。由第3B圖、第3C圖以及第3G圖可知，透鏡保持元件320包含複數個遮光結構321，遮光結構321設置於成像透鏡組的物側，且環繞光軸X形成一通光孔3201，而透鏡保持元件320與遮光結構321為一體成型；第三實施方式的第一實施例中，通光孔3201為成像鏡頭300的一光圈，用以控制成像鏡頭300的進光量。各遮光結構321可由第一漸縮面322與第二漸縮面323連接交會而成，其中第一漸縮面322面向成像鏡頭300的物側且朝成像鏡頭300的一像側漸縮，第二漸縮面323面向成像鏡頭300的像側且朝成像鏡頭300的物側漸縮；也就是說，第一漸縮面322以及第二漸縮面323分別由成像鏡頭300的物側往像側及像側往物側朝光軸X漸縮，形成尖端狀的遮光結構321。
由第3H圖可知，各遮光結構321呈直線狀且具有二端點3211以及一中點3212，各中點3212較各端點3211靠近光軸X。具體而言，各遮光結構321相鄰的端點3211之間互相連接，使遮光結構321環繞光軸X且形成外觀呈多邊形的通光孔3201；於第三實施方式之第一實施例，遮光結構321的總數量為N且N為12，即通光孔3201為12邊形且為正多邊形。
配合參照第3F圖可知，遮光結構321與最物側的光學透鏡3101之間無接觸；也就是說，遮光結構321與成像透鏡組之間無接觸。另外，各遮光結構321與成像透鏡組沿平行光軸X方向有重疊。
再配合第3H圖可知，各遮光結構321的各端點3211附近可定義通光孔3201的一最大半徑Rmax，各遮光結構321中最靠近光軸X的中點3212附近可定義通光孔3201的一最小半徑Rmin，各遮光結構321的二端點3211與光軸X連線之間具有一夾角θ，成像鏡頭300的焦距為EFL。通光孔3201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表3A數值。
表3A、第三實施方式之第一實施例
θ (度) 30 tc (%) 3.21
Rmax (mm) 0.935 EFL (mm) 4.16
Rmin (mm) 0.905 EFL/(2×Rmin) 2.3
t (mm) 0.03      
請參照第3I圖至第3L圖，其中第3I圖係繪示依照本揭示內容第三實施方式之第二實施例中成像鏡頭300的立體示意圖，第3J圖繪示依照第3I圖中成像鏡頭300的側視圖，第3K圖繪示依照第3I圖中成像鏡頭300的像側的示意圖，第3L圖為第3K圖沿剖線3L-3L的剖視圖。由第3I圖至第3L圖可知，第三實施方式之第二實施例的成像鏡頭300具有一光軸X，其包含成像透鏡組(未另標號)以及透鏡保持元件320。以下僅敘述第三實施方式之第二實施例的成像鏡頭300與第三實施方式之第一實施例的成像鏡頭300不同處，其餘相同的元件結構及其技術特徵將不再贅述。
配合參照第3M圖以及第3N圖，其中第3M圖為第3K圖繪示的透鏡保持元件320沿剖線3L-3L的剖視圖，第3N圖繪示依照第3I圖透鏡保持元件320上遮光結構321以及半徑結構325的示意圖。由第3I圖、第3M圖以及第3N圖可知，透鏡保持元件320包含複數個遮光結構321以及複數個半徑結構325。遮光結構321以及半徑結構325皆設置於成像透鏡組的物側且彼此交替連接，並環繞光軸X形成一通光孔3201，而透鏡保持元件320與遮光結構321及半徑結構325為一體成型。第三實施方式之第二實施例中，通光孔3201為成像鏡頭300的一光圈，用以控制成像鏡頭300的進光量，而遮光結構321的總數量為5，半徑結構325的數量為5。
詳細來說，各遮光結構321呈直線狀且具有二端點3211以及一中點3212，各中點3212較各端點3211靠近光軸X。各半徑結構325連接相鄰的各遮光結構321的端點3211。必須說明的是，半徑結構325為圓弧狀，各遮光結構321的各端點3211附近可定義通光孔3201的最大半徑Rmax，半徑結構325的半徑即為通光孔3201的最大半徑Rmax。
由第3N圖可知，通光孔3201的最大半徑為Rmax，通光孔3201的最小半徑為Rmin，各遮光結構321的二端點3211與光軸X連線之間具有一夾角θ，成像鏡頭300的焦距為EFL。通光孔3201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表3B數值。
表3B、第三實施方式之第二實施例
θ (度) 20.34 tc (%) 1.60
Rmax (mm) 0.935 EFL (mm) 4.16
Rmin (mm) 0.920 EFL/(2×Rmin) 2.3
t (mm) 0.015      
另外，當透鏡保持元件320設置有半徑結構325，通光孔3201的最小半徑Rmin可定義遮光結構321的等效數量為N'，其中N' = 360°/θ，N' ≠ N；第三實施方式之第二實施例中，N' = 17.7。
請配合參照第3O圖，其繪示依照本揭示內容第三實施方式之第三實施例中成像鏡頭的透鏡保持元件上遮光結構321及半徑結構325的示意圖。以下僅敘述第三實施方式之第三實施例的成像鏡頭與第三實施方式之第一實施例的成像鏡頭300不同處，其餘相同的元件結構及其技術特徵將不再贅述。由第3O圖可知，透鏡保持元件包含複數個遮光結構321以及複數個半徑結構325。遮光結構321以及半徑結構325皆設置於成像透鏡組的物側且彼此交替連接，並環繞光軸形成一通光孔，而透鏡保持元件與遮光結構321及半徑結構325為一體成型。第三實施方式之第三實施例中，遮光結構321的總數量為3，半徑結構325的數量為3。
詳細來說，各遮光結構321呈直線狀且具有二端點3211以及一中點3212，各中點3212較各端點3211靠近光軸。各半徑結構325連接相鄰的各遮光結構321的端點3211。必須說明的是，半徑結構325為圓弧狀，各遮光結構321的各端點3211附近可定義通光孔的最大半徑Rmax，半徑結構325的半徑即為通光孔的最大半徑Rmax。
通光孔的最大半徑為Rmax，通光孔的最小半徑為Rmin，各遮光結構321的二端點3211與光軸X連線之間具有一夾角θ，成像鏡頭300的焦距為EFL。通光孔3201具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其中t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。前述參數滿足下列表3C數值。
表3C、第三實施方式之第三實施例
θ (度) 45.9 tc (%) 7.91
Rmax (mm) 0.935 EFL (mm) 4.16
Rmin (mm) 0.861 EFL/(2×Rmin) 2.4
t (mm) 0.074      
另外，當透鏡保持元件設置有半徑結構325，通光孔的最小半徑Rmin可定義遮光結構321的等效數量為N'，其中N' = 360°/θ，N' ≠ N；第三實施方式之第三實施例中，N' = 7.8。
＜第四實施方式＞
第4A圖繪示依照本揭示內容第四實施方式中一實施例的電子裝置10之示意圖，第4B圖繪示依照第4A圖中電子裝置10的方塊圖。由第4A圖與第4B圖可知，電子裝置10係一智慧型手機，且包含一相機模組11、一電子感光元件12及一使用者介面13，其中電子感光元件12設置於相機模組11的成像面，相機模組11包含一成像鏡頭（圖未繪示）。相機模組11設置於使用者介面13側邊的區域，其中使用者介面13可為觸控螢幕或顯示螢幕，並不以此為限。相機模組11中的成像鏡頭可為前述第一實施方式至第三實施方式中任一實施例所揭示的成像鏡頭，但本揭示內容不以此為限。
進一步來說，使用者透過電子裝置10的使用者介面13進入拍攝模式。此時相機模組11匯集成像光線在電子感光元件12上，並輸出有關影像的電子訊號至成像訊號處理元件(Image Signal Processor，ISP)14。
因應電子裝置10的相機規格，電子裝置10可更包含一光學防手震組件15，係可為OIS防抖回饋裝置，進一步地，電子裝置10可更包含至少一個輔助光學元件（未另標號）及至少一個感測元件16。第四實施方式中，輔助光學元件為閃光燈模組17與對焦輔助模組18，閃光燈模組17可用以補償色溫，對焦輔助模組18可為紅外線測距元件、雷射對焦模組等。感測元件16可具有感測物理動量與作動能量的功能，如加速計、陀螺儀、霍爾元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在環境施加的晃動及抖動，進而有利於電子裝置10中相機模組11配置的自動對焦功能及光學防手震組件15的發揮，以獲得良好的成像品質，有助於依據本揭示內容的電子裝置10具備多種模式的拍攝功能，如優化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高動態範圍成像)、高解析4K(4K Resolution)錄影等。此外，使用者可由觸控螢幕直接目視到相機的拍攝畫面，並在觸控螢幕上手動操作取景範圍，以達成所見即所得的自動對焦功能。
此外，電子裝置10可更包含但不限於顯示單元(Display)、控制單元(Control Unit)、儲存單元(Storage Unit)、暫儲存單元(RAM)、唯讀儲存單元(ROM)或其組合。
第4C圖繪示依照第4A圖實施例中自拍場景之示意圖，第4D圖繪示依照第4A圖實施例中拍攝的影像之示意圖。由第4A圖、第4C圖及第4D圖可知，相機模組11與使用者介面13皆朝向使用者，在進行自拍(selfie)或直播(live streaming)時，可同時觀看拍攝影像與進行介面的操作，並於拍攝後可得到如第4D圖之拍攝的影像。藉此，搭配本揭示內容之相機模組11可提供較佳的拍攝體驗。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10:電子裝置 11:相機模組 12:電子感光元件 13:使用者介面 14:成像訊號處理元件 15:光學防手震組件 16:感測元件 17:閃光燈模組 18:對焦輔助模組 100,200,300:成像鏡頭 1101,2101,3101:光學透鏡 1102,2102,3102:遮光片 1103,2103,3103:透鏡間距維持元件 1104,2104,3104:固定環 120,220,320:透鏡保持元件 1201,2201,3201:通光孔 121,121a,121b,221,321:遮光結構 1211,1211a,1211b,2211,3211:端點 1212,1212a,1212b,2212,3212:中點 122,222,322:第一漸縮面 123,223,323:第二漸縮面 124:注料痕 225,325:半徑結構 θ,θa,θb:夾角 Rmax:通光孔的最大半徑 Rmin:通光孔的最小半徑 X:光軸 N:遮光結構的總數量 N':遮光結構的等效數量 EFL:成像鏡頭的焦距 t:真圓度公差值 tc:真圓度係數
第1A圖係繪示依照本揭示內容第一實施方式之第一實施例中成像鏡頭的立體示意圖； 第1B圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭的爆炸圖； 第1C圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭的另一爆炸圖； 第1D圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭的側視圖； 第1E圖繪示依照第1A圖中成像鏡頭的像側的示意圖； 第1F圖為第1E圖沿剖線1F-1F的剖視圖； 第1G圖為第1E圖繪示的透鏡保持元件沿剖線1F-1F的剖視圖； 第1H圖繪示依照第1B圖透鏡保持元件上遮光結構的示意圖； 第1I圖係繪示依照本揭示內容第一實施方式之第二實施例中成像鏡頭的立體示意圖； 第1J圖繪示依照第1I圖中成像鏡頭的側視圖； 第1K圖繪示依照第1I圖中成像鏡頭的像側的示意圖； 第1L圖為第1K圖沿剖線1L-1L的剖視圖； 第1M圖為第1K圖繪示的透鏡保持元件沿剖線1L-1L的剖視圖； 第1N圖繪示依照第1I圖透鏡保持元件上遮光結構的示意圖； 第1O圖繪示依照本揭示內容第一實施方式之第三實施例中成像鏡頭的透鏡保持元件上遮光結構的示意圖； 第2A圖係繪示依照本揭示內容第二實施方式之第一實施例中成像鏡頭的立體示意圖； 第2B圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭的爆炸圖； 第2C圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭的另一爆炸圖； 第2D圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭的側視圖； 第2E圖繪示依照第2A圖中成像鏡頭的像側的示意圖； 第2F圖為第2E圖沿剖線2F-2F的剖視圖； 第2G圖為第2E圖繪示的透鏡保持元件沿剖線2F-2F的剖視圖； 第2H圖繪示依照第2B圖透鏡保持元件上遮光結構的示意圖； 第2I圖係繪示依照本揭示內容第二實施方式之第二實施例中成像鏡頭的立體示意圖； 第2J圖繪示依照第2I圖中成像鏡頭的側視圖； 第2K圖繪示依照第2I圖中成像鏡頭的像側的示意圖； 第2L圖為第2K圖沿剖線2L-2L的剖視圖； 第2M圖為第2K圖繪示的透鏡保持元件沿剖線2L-2L的剖視圖； 第2N圖繪示依照第2I圖透鏡保持元件上遮光結構以及半徑結構的示意圖； 第2O圖繪示依照本揭示內容第二實施方式之第三實施例中成像鏡頭的透鏡保持元件上遮光結構的示意圖； 第3A圖係繪示依照本揭示內容第三實施方式之第一實施例中成像鏡頭的立體示意圖； 第3B圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭的爆炸圖； 第3C圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭的另一爆炸圖； 第3D圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭的側視圖； 第3E圖繪示依照第3A圖中成像鏡頭的像側的示意圖； 第3F圖為第3E圖沿剖線3F-3F的剖視圖； 第3G圖為第3E圖繪示的透鏡保持元件沿剖線3F-3F的剖視圖； 第3H圖繪示依照第3B圖透鏡保持元件上遮光結構的示意圖； 第3I圖係繪示依照本揭示內容第三實施方式之第二實施例中成像鏡頭的立體示意圖； 第3J圖繪示依照第3I圖中成像鏡頭的側視圖； 第3K圖繪示依照第3I圖中成像鏡頭的像側的示意圖； 第3L圖為第3K圖沿剖線3L-3L的剖視圖； 第3M圖為第3K圖繪示的透鏡保持元件沿剖線3L-3L的剖視圖； 第3N圖繪示依照第3I圖透鏡保持元件上遮光結構以及半徑結構的示意圖； 第3O圖繪示依照本揭示內容第三實施方式之第三實施例中成像鏡頭的透鏡保持元件上遮光結構及半徑結構的示意圖； 第4A圖繪示依照本揭示內容第四實施方式中一實施例的電子裝置之示意圖； 第4B圖繪示依照第4A圖中電子裝置的方塊圖； 第4C圖繪示依照第4A圖實施例中自拍場景之示意圖；以及 第4D圖繪示依照第4A圖實施例中拍攝的影像之示意圖。
100:成像鏡頭
1101:光學透鏡
120:透鏡保持元件
121:遮光結構
122:第一漸縮面

Claims (20)

  1. 一種成像鏡頭，具有一光軸，包含： 一成像透鏡組，該光軸通過該成像透鏡組；以及 一透鏡保持元件，容置該成像透鏡組，使該成像透鏡組對正該光軸，包含： 複數個遮光結構，設置於該成像透鏡組的一物側，且環繞該光軸形成一通光孔； 其中，各該遮光結構呈直線狀且具有二端點以及一中點，各該中點較各該二端點靠近該光軸，各該遮光結構的各該端點附近可定義該通光孔的一最大半徑Rmax，各該遮光結構中最靠近該光軸的該中點附近可定義該通光孔的一最小半徑Rmin； 其中，該些遮光結構的總數量為N，其滿足下列條件： 3 ≤ N ＜ 40。
  2. 如請求項1所述的成像鏡頭，其中該透鏡保持元件與該些遮光結構為一體成型。
  3. 如請求項2所述的成像鏡頭，其中該些遮光結構與該成像透鏡組之間無接觸。
  4. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中當該些遮光結構的總數量介於7至22之間時，該通光孔具有一真圓度公差值t以及一真圓度係數tc，其滿足下列條件： 0.01 ＜ t ＜ 0.08；以及 1.02 % ＜ tc ＜ 9.90 %； 其中t = Rmax-Rmin；以及tc = t/Rmax×100%。
  5. 如請求項4所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度係數為tc，其滿足下列條件： 1.12 % ＜ tc ＜ 8.05 %。
  6. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中該透鏡保持元件更包含複數個半徑結構，各該半徑結構連接相鄰的各該遮光結構的一該端點。
  7. 如請求項6所述的成像鏡頭，其中各該遮光結構的該二端點與該光軸連線之間具有一夾角θ。
  8. 如請求項7所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該最小半徑Rmin可定義該些遮光結構的一等效數量為N'，該通光孔具有一真圓度公差值t與一真圓度係數tc，其滿足下列條件： N' = 360°/θ； 7 ＜ N' ＜ 22； 0.01 ＜ t ＜ 0.08；以及 1.02 % ＜ tc ＜ 9.90 %； 其中N' ≠ N，t = Rmax-Rmin，tc = t/Rmax×100%。
  9. 如請求項8所述的成像鏡頭，其中該通光孔的該真圓度係數為tc，其滿足下列條件： 1.12% ＜ tc ＜ 8.05%。
  10. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中各該遮光結構由一第一漸縮面與一第二漸縮面連接交會而成。
  11. 如請求項10所述的成像鏡頭，其中該第一漸縮面面向該成像鏡頭的一物側且朝該成像鏡頭的一像側漸縮。
  12. 如請求項11所述的成像鏡頭，其中該第二漸縮面面向該成像鏡頭的該像側且朝該成像鏡頭的該物側漸縮。
  13. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中各該遮光結構與該成像透鏡組沿平行該光軸方向有重疊。
  14. 如請求項13所述的成像鏡頭，其中該通光孔為該成像鏡頭的一光圈，用以控制該成像鏡頭的進光量。
  15. 如請求項14所述的成像鏡頭，其中該成像鏡頭的焦距為EFL，其滿足下列條件： 1.0 ＜ EFL/(2×Rmin) ＜ 3.0。
  16. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中該通光孔呈N邊形。
  17. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中該通光孔呈正多邊形。
  18. 如請求項3所述的成像鏡頭，其中該透鏡保持元件具有至少二注料痕。
  19. 一種相機模組，包含： 如請求項1所述的成像鏡頭。
  20. 一種電子裝置，包含： 如請求項19所述的相機模組；以及 一電子感光元件，設置於該相機模組的一成像面。
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