TW202337858A - 紋理玻璃製品及其製造方法 - Google Patents

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曹昕宇
陳玲
陳旺輝
江蔚 馮
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美商康寧公司
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Abstract

一種形成紋理玻璃製品的方法包含：自蝕刻劑之表面起達上部浸沒深度且以傾角將鋁矽酸鹽玻璃製品浸沒於該蝕刻劑中，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含第一主表面及與該第一表面相對的第二主表面，其中該傾角為該第一主表面之法線與豎直方向之間的最小角度；將該鋁矽酸鹽玻璃製品固持於該蝕刻劑中歷時固持時間；及在該固持時間之後，使該鋁矽酸鹽玻璃製品在該蝕刻劑中在該上部浸沒深度與深於該上部蝕刻深度的下部浸沒深度之間循環歷時循環時間。

Description

紋理玻璃製品及其製造方法
本申請案主張2022年4月7日申請之美國臨時申請案第63/328,470號及2021年12月21日申請之美國臨時申請案第63/292,168號的優先權之權益，各案之內容為本發明之基礎且全文皆以引用方式併入本文中。
本說明書大體上係關於玻璃製品，且特定言之係關於其上之表面特徵具有足夠覆蓋率及微觀均一性的玻璃製品。
鋁矽酸鹽玻璃製品可顯現優異的離子可交換性及跌落效能。包括消費型電子行業之各種行業需要具有相同或類似強度及斷裂韌性性質的反射性材料。然而，習知紋理化製程可能並不在某些鋁矽酸鹽玻璃製品上產生達成所要外觀必要的表面特徵之覆蓋率及微觀均一性。
因此，需要替代性方法以產生鋁矽酸鹽玻璃製品，該等玻璃製品關於其上的表面特徵具有足夠覆蓋率及微觀均一性。
根據第一態樣A1，一種形成紋理玻璃製品的方法可包含以下步驟：自蝕刻劑之表面起達上部浸沒深度且以傾角將鋁矽酸鹽玻璃製品浸沒於該蝕刻劑中，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含第一主表面及與該第一表面相對的第二主表面，其中該傾角為該第一主表面之法線與豎直方向之間的最小角度；將該鋁矽酸鹽玻璃製品固持於該蝕刻劑中歷時固持時間；及在該固持時間之後，使該鋁矽酸鹽玻璃製品在該蝕刻劑中在該上部浸沒深度與深於該上部浸沒深度的下部浸沒深度之間循環歷時循環時間。
第二態樣A2包括如第一態樣A1所述的方法，其中該傾角大於或等於0°且小於或等於20°。
第三態樣A3包括如第一態樣A1或第二態樣A2所述的方法，其中該固持時間大於0 s且小於或等於600 s。
第四態樣A4包括如第三態樣A3所述的方法，其中該固持時間大於或等於30 s且小於或等於300 s。
第五態樣A5包括如第一態樣A1至第四態樣A4中任一項所述的方法，其中該蝕刻劑之一溫度大於或等於10℃且小於或等於30℃。
第六態樣A6包括如第五態樣A5所述的方法，其中該蝕刻劑之該溫度大於或等於12℃且小於或等於24℃。
第七態樣包括如第一態樣A1至第六態樣A6中任一態樣所述的方法，其中該循環以每分鐘大於或等於1個且小於或等於180個循環且以大於或等於2 cm/s且小於或等於28 cm/s的速度來進行。
第八態樣A8包括如第七態樣A7所述的方法，其中該循環以每分鐘大於或等於2個且小於或等於120個循環且以大於或等於4 cm/s且小於或等於24 cm/s的一速度來進行。
第九態樣A9包括如第一態樣A1至第八態樣A8中任一態樣所述的方法，其中該下部浸沒深度相較於該上部浸沒深度深出大於或等於1 cm且小於或等於20 cm。
第十態樣A10包括如第九態樣A9所述的方法，其中該下部浸沒深度相較於該上部浸沒深度深出大於或等於3 cm且小於或等於10 cm。
第十一態樣A11包括如第一態樣A1至第十態樣A10中任一態樣所述的方法，其進一步包含在將該鋁矽酸鹽玻璃製品浸沒於該蝕刻劑中之前製備該蝕刻劑且允許該蝕刻劑穩定歷時穩定時間，該穩定時間大於或等於10 s且小於或等於600 s。
第十二態樣A12包括如第一態樣A1至第十一態樣A11中任一態樣單獨的方法，其中該循環時間大於或等於60 s且小於或等於900 s。
第十三態樣A13包括如第一態樣A1至第十二態樣A12中任一態樣單獨的方法，其中該蝕刻劑包含：大於或等於10重量%且小於或等於50重量%的鹽；及大於或等於5重量%且小於或等於50重量%的酸。
第十四態樣A14包括如第十三態樣A13所述的方法，其中該鹽包含氟化銨、二氟化銨、硫酸銨、氟矽酸銨、氯化銨或其組合。
第十五態樣A15包括如第十三態樣A13或第十四態樣A14所述的方法，其中該酸包含鹽酸、硫酸、六氟矽酸或其組合。
第十六態樣A16包括如第一態樣至第十五態樣A15中任一態樣所述的方法，其中該蝕刻劑包含大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
第十七態樣A17包括如第一態樣A1至第十三態樣A13中任一態樣所述的方法，其中該蝕刻劑包含：大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸；大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的氟矽酸；及大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
第十八態樣A18包括如第一態樣A1至第十三態樣A13中任一態樣所述的方法，其中該蝕刻劑包含：大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於25重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於5重量%且小於或等於25重量%的鹽酸；及大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
第十九態樣A19包括如第一態樣A1至第十三態樣A13中任一態樣所述的方法，其中該蝕刻劑包含：大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
第二十態樣A20包括如第一態樣A1至第十三態樣A13中任一態樣所述的方法，其中該蝕刻劑包含：大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨；大於或等於15重量%且小於或等於35重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
第二十一態樣A21包括如第一態樣A1至第十三態樣A13中任一態樣所述的方法，其中該蝕刻劑包含：大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
第二十二態樣A22包括如第一態樣A1至第十三態樣A13中任一態樣所述的方法，其中該蝕刻劑包含：大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸；大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的六氟矽酸；大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水；及大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
第二十三態樣A23包括如第一態樣A1至第二十二態樣A22中任一態樣所述的方法，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含大於或等於14莫耳%的Al 2O 3。
第二十四態樣A24包括如第一態樣A1至第二十三態樣A23中任一態樣所述的方法，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含：大於或等於56莫耳%且小於或等於72莫耳%的SiO 2；大於或等於14莫耳%且小於或等於25莫耳%的Al 2O 3；大於或等於6莫耳%且小於或等於16莫耳%的Na 2O；大於或等於1莫耳%且小於或等於10莫耳%的Li 2O；大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的ZnO；及大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的P 2O 5。
第二十五態樣A25包括如第一態樣A1至第二十三態樣A23中任一態樣所述的方法，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含：於或等於50莫耳%且小於或等於66莫耳%的SiO 2；大於或等於16莫耳%且小於或等於28莫耳%的Al 2O 3；大於或等於1莫耳%且小於或等於8莫耳%的B 2O 3；大於或等於3莫耳%且小於或等於15莫耳%的Na 2O；大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的K 2O；大於或等於1莫耳%且小於或等於12莫耳%的Li 2O；大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的MgO；大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的P 2O5；及大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的TiO 2。
第二十六態樣A25包括如第一態樣A1至第二十五態樣A25中任一態樣所述的方法，其中該紋理玻璃製品包含自一第一表面延伸的複數個多面表面特徵，該複數個多面表面特徵中的每一者包含該第一表面上的一基座；自該第一表面延伸的複數個小面；和該基座處的大於或等於50 μm且小於或等於500 μm的表面特徵大小，其中每一多面表面特徵之該複數個小面朝向彼此會聚。
第二十七態樣A27包括如第二十六態樣A26所述的方法，其中該紋理玻璃製品具有該複數個多面表面特徵的足夠覆蓋率及微觀均一性。
根據第二十八態樣A28，一種蝕刻劑可包含：大於或等於10重量%且小於或等於50重量%的一鹽，該鹽包含氟化銨、二氟化銨、硫酸銨、氟矽酸銨、氯化銨或其組合；及大於或等於5重量%且小於或等於50重量%的一酸，該酸包含鹽酸、硫酸、六氟矽酸或其組合。
第二十九態樣A29包括如第二十八態樣A28所述的蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
第三十態樣A30包括如第二十八態樣A28所述的蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含：大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸；大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的氟矽酸；及大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
第三十一態樣A31包括如第二十八態樣A28所述的蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含：大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於25重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於5重量%且小於或等於25重量%的鹽酸；及大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
第三十二態樣A32包括如第二十八態樣A28所述的蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含：大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
第三十三態樣A33包括如第二十八態樣A28所述的蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含：大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨；大於或等於15重量%且小於或等於35重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
第三十四態樣A34包括如第二十八態樣A28所述的蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含：大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
第三十五態樣A35包括如第二十八態樣A28所述的蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含：大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸；大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的六氟矽酸；大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水；及大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
本文中描述之紋理玻璃製品的額外特徵及優勢將在以下詳細描述中進行處闡述，且對於一般熟習此項技術者自該描述將部分地易於為顯而易見，或藉由實踐本文中所描述之實施例，包括以下詳細描述、申請專利範圍及隨附圖式來認識到。
應理解，前述一般描述及以下詳細描述兩者描述各種實施例，且意欲提供理解所主張標的之本質及特性的概述或框架。隨附圖式經包括以提供各種實施例的進一步理解，且併入於本說明書中且構成本說明書的一部分。圖式說明本文中描述之各種實施例，且與描述內容一起用來解釋所主張標的的原理及操作。
現將詳細參考紋理玻璃製品之各種實施例，該等玻璃製品關於在上面之多面表面特徵具有足夠覆蓋率及微觀均一性。根據實施例，形成紋理玻璃製品的方法包含：自蝕刻劑之表面起達上部浸沒深度且以傾角將鋁矽酸鹽玻璃製品浸沒於蝕刻劑中，其中鋁矽酸鹽玻璃製品包含第一主表面及與第一表面相對的第二主表面，其中傾角為第一主表面之法線與豎直方向之間的最小角度；將鋁矽酸鹽玻璃製品固持於蝕刻劑中歷時固持時間；及在固持時間之後，使鋁矽酸鹽玻璃製品在蝕刻劑中在上部浸沒深度與深於上部浸沒深度的下部浸沒深度之間循環歷時循環時間。紋理玻璃製品及製造紋理玻璃製品之方法的各種實施例本文中將特定參考隨附圖式來描述。
範圍本文中可表達為自「約」一個特定值及/或至「約」另一特定值。當表達此類範圍時，另一實施例包括自一個特定值及/或至另一特定值。類似地，當值表達為近似值時，利用前述詞「約」，應理解，特定值形成另一實施例。應進一步理解，每一範圍之端點關於其他端點皆為有效的且獨立於其他端點。
如本文中所使用之方向術語——例如，上、下、右、左、前、後、頂部、底部——僅參看如所繪示之圖式進行，且並非意欲暗示絕對定向。
除非以其他方式明確陳述，否則本發明絕不意欲本文中闡述之任何方法應解譯為要求其步驟以特定次序執行，亦不意欲要求任何設備特定定向。因此，其中方法項並不準確敘述待由步驟遵循的次序，或任何設備項並不實際上敘述個別部件的次序或定向，或其以其他方式並非在步驟限於特定次序的申請專利範圍或描述內容中陳述，或設備之部件的特定次序或定向並未敘述，在任何方面絕不意欲推斷次序或定向。此情形適用於解譯之任何可能非表達基礎，該等解譯包括：關於步驟、操作流程、部件次序或部件定向之配置的邏輯關注事項；自語法組織或標點符號導出的明顯意義及；說明書中描述之實施例的數目或類型。
如本文中所使用，單數形式「一」及「該」包括複數參考，除非內容以其他方式清楚地指示。因此，例如，對「一」部件的參考包括具有兩個或更多個此類部件的態樣，除非上下文以其他方式清楚地指示。
在本文中所描述之玻璃複合物的實施例中，構成組分(例如，SiO 2、Al 2O 3及類似者)之濃度在氧化物基礎上以莫耳百分數(莫耳%)指定，除非以其他方式指定。
如本文中所描述，光學顯微影像使用Nikon Eclipse L200N光學顯微鏡來獲得，該Nikon Eclipse L200N光學顯微鏡針對50倍或200倍之總放大率具有5倍或20倍物鏡及目鏡的10倍倍數。
如本文中所描述，「表面特徵大小」在200倍放大率下使用光學顯微鏡來量測。獲得關於兩個不同的500 μm×1000 μm掃描區域的影像。在每一影像中，量測越過10個最大表面特徵之基座之橫截面的最大距離。「表面特徵大小」指自兩個經掃描區域起越過20個表面特徵之基座之橫截面的平均最大距離。舉例而言，對於具有三角形基座的表面特徵，越過基座之橫截面的最大距離係三角形基座的高度。對於具有矩形基座的表面特徵，越過基座之橫截面的最大距離係越過基座的對角線量測值。對於具有六邊形基座的表面特徵，越過基座之橫截面的最大距離在相對頂點之間的最大量測值中。
如本文中所描述，「個別特徵大小」使用光學顯微鏡量測，且指越過單一多面表面特徵之基座之橫截面的最大距離。
「足夠覆蓋率」在本文中用以描述紋理玻璃製品的複數個多面表面特徵時指覆蓋紋理玻璃製品之主表面之大於或等於90%的多面表面特徵。
「微觀均一性」在本文中用以描述紋理玻璃製品之複數個多面表面特徵指並未發生變化超出20%的個別特徵大小。
「支配紋理相(Dominate texture phase)」如本文中所使用指以一量(或在識別出兩個或更多個表面特徵情況下的總量)存在的所識別多面表面特徵(例如，三棱錐、四棱錐、六棱錐、八棱錐)，該量基於紋理玻璃製品之多面表面特徵的總量大於或等於70%。「次要紋理相」如本文中所使用指以一量(或在識別出兩個或更多個表面特徵情況下的總量)存在的所識別多面表面特徵，該量基於紋理玻璃製品之多面表面特徵的總量小於或等於30%。若所識別特徵以大於30%且小於70%的量存在，則紋理玻璃製品描述為具有兩個或更多個共存紋理相。
「多面」在用以描述紋理玻璃製品上之表面特徵的結構時指具有平坦多邊面及筆直邊緣的三維形狀。
「樹枝狀」在用以描述紋理玻璃製品上之表面特徵的結構時指分枝結構。
「攪拌參數」如本文中所描述指穩定時間、傾角、上部浸沒深度、下部浸沒深度、循環時間、循環速度、每分鐘的循環數，及蝕刻劑溫度。
「攪拌」或「攪拌製程」如本文中所使用由以下步驟來界定：製備蝕刻劑且允許蝕刻劑穩定歷時穩定時間；自蝕刻劑之表面起達上部浸沒深度且以一傾角將玻璃製品浸沒於蝕刻劑中；將玻璃製品固持於蝕刻劑中歷時固持時間；及在上部浸沒深度與下部浸沒深度之間使鋁矽酸鹽玻璃製品在蝕刻劑中循環歷時循環時間。
蝕刻劑已用以達成玻璃製品上的紋理表面。紋理表面之性質，包括表面特徵之結構、大小、覆蓋率及微觀均一性可影響紋理玻璃製品的外觀(例如，反射率或「輝光效應」)。歸因於平坦多面面及筆直邊緣，多面表面特徵相較於樹枝狀表面特徵可達成更好的「輝光效應」。雖然習知紋理化製程可導致多面表面特徵，但此類製程可能不導致達成所要外觀必要的多面表面特徵的覆蓋率及微觀均一性。
本文中所揭示為紋理玻璃製品及紋理化方法，前述兩者減輕前述問題，使得鋁矽酸鹽玻璃可經處置以關於鋁矽酸鹽玻璃上之多面表面特徵具有足夠覆蓋率及微觀均一性。特定言之，為了達成表面特徵的足夠覆蓋率及微觀均一性，本文中所揭示之形成紋理玻璃製品的方法包含：藉由自蝕刻劑之表面起達上部浸沒深度且以一傾角將鋁矽酸鹽玻璃製品浸沒於蝕刻劑中來攪拌紋理玻璃製品；將鋁矽酸鹽玻璃製品固持於蝕刻劑中歷時固持時間；及在固持時間之後，使鋁矽酸鹽玻璃製品在蝕刻劑中在上部浸沒深度與深於上部浸沒深度的下部浸沒深度之間在蝕刻劑中循環歷時循環時間。為了達成所要「輝光效應」，蝕刻劑應較佳地產生導致大的多面表面特徵之矽類沉澱物，且使導致小的樹枝狀表面特徵的鋁類沉澱物最小化。
現參看第1圖及第2圖，形成紋理玻璃製品的方法100以藉由層壓製件206層壓鋁矽酸鹽玻璃製品200的方塊102開始。鋁矽酸鹽玻璃製品200可係呈板的形式，該板具有第一主表面202及與第一主表面202相對的第二主表面204。如第2圖中所繪示，層壓製件206可接觸鋁矽酸鹽玻璃製品200的第二主表面204。在實施例中，層壓製件206可為具有黏著劑層的聚乙烯膜。在實施例中，層壓鋁矽酸鹽玻璃製品200可在輥壓機中進行。
在實施例中，鋁矽酸鹽玻璃製品200可包含大於或等於14莫耳%的Al 2O 3。在實施例中，鋁矽酸鹽玻璃製品200可包含：大於或等於50莫耳%且小於或等於66莫耳%的SiO 2；大於或等於16莫耳%且小於或等於28莫耳%的Al 2O 3；大於或等於1莫耳%且小於或等於8莫耳%的B 2O 3；大於或等於3莫耳%且小於或等於15莫耳%的Na 2O；大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的K 2O；大於或等於1莫耳%且小於或等於12莫耳%的Li 2O；大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的MgO；大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的P 2O 5；及大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的TiO 2。在實施例中，鋁矽酸鹽玻璃製品200可包含：大於或等於50莫耳%且小於或等於66莫耳%的SiO 2；大於或等於16莫耳%且小於或等於28莫耳%的Al 2O 3；大於或等於1莫耳%且小於或等於8莫耳%的B 2O 3；大於或等於3莫耳%且小於或等於15莫耳%的Na 2O；大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的K 2O；大於或等於1莫耳%且小於或等於12莫耳%的Li 2O；大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的MgO；大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的P 2O 5；及大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的TiO 2。
回看第1圖，在實施例中，方法100可視需要以對鋁矽酸鹽玻璃製品200進行預清潔(例如，在含水溶液中，繼之以進行沖洗(例如，藉由DI水))且進行乾燥(例如，在烘箱中)的方塊104繼續。
回看第1圖，在實施例中，方法100可以任選地在方塊106繼續，在該方塊處，在將鋁矽酸鹽玻璃製品200浸沒於蝕刻劑210中之前製備蝕刻劑210且允許蝕刻劑210穩定歷時穩定時間。穩定時間可經變更有助於達成紋理玻璃製品之多面表面特徵的足夠覆蓋率及微觀均一性。在實施例中，穩定時間可大於或等於10 s且小於或等於600 s。在實施例中，穩定時間可大於或等於10 s，大於或等於30 s，大於或等於60 s，或甚至大於或等於120 s。在實施例中，穩定時間可小於或等於600 s，小於或等於480 s，小於或等於360 s，或甚至小於或等於300 s。在實施例中，穩定時間可大於或等於10 s且小於或等於600 s、大於或等於10 s且小於或等於480 s、大於或等於10 s且小於或等於360 s、大於或等於10 s且小於或等於300 s、等於30 s且小於或等於600 s、大於或等於30 s且小於或等於480 s、大於或等於30 s且小於或等於360 s、大於或等於30 s且小於或等於300 s、等於60 s且小於或等於600 s、大於或等於60 s且小於或等於480 s、大於或等於60 s且小於或等於360 s、大於或等於60 s且小於或等於300 s、等於120 s且小於或等於600 s、大於或等於120 s且小於或等於480 s、大於或等於120 s且小於或等於360 s，或甚至大於或等於120 s且小於或等於300 s，或自此等端點中之任一者形成的任何及所有子範圍。
在實施例中，蝕刻劑可藉由用手磨機摻和呈粉末形式的組分且預混合並攪動呈液體/溶劑形式的組分達同質狀態來製備。粉末及液體之混合物可藉由傾倒及攪動來執行。在如本文中所描述之包括黃原膠的實施例中，預混合溶劑可在與粉末混合之前加熱達40℃。所得蝕刻劑可老化歷時大於或等於2小時。
為了產生所要的「輝光效應」，本文中描述之蝕刻劑經製備，使得蝕刻劑較佳地產生矽類沉澱物，且使鋁類沉澱物的量最小化。矽類沉澱物(例如，金屬六氟矽酸鹽(MSiF 6))導致大的多面表面特徵，該等多面表面特徵相較於樹枝狀表面特徵反射更多的光。鋁類沉澱物(例如，金屬氟化鋁(MAlF 5))導致小的樹枝狀表面特徵。
現參看第3圖，在實施例中，本文中描述之蝕刻劑210可包括氟化氫(hydrogen fluoride，HF)物質及銨(NH 4)離子。蝕刻劑210與鋁矽酸鹽玻璃製品200反應，此情形使得HF物質自蝕刻劑210擴散至鋁矽酸鹽玻璃製品200中且腐蝕Si-O網路。SiF 4自鋁矽酸鹽玻璃製品200釋放，且與HF反應以產生SiF 6 2-離子。來自蝕刻劑210之NH 4離子擴散至蝕刻劑210與鋁矽酸鹽玻璃製品200的介面212，且與SiF 6 2-離子反應以產生氟矽酸銨((NH 4) 2SiF 6)沉澱物。因為此等沉澱物在蝕刻劑210中具有低溶解度，所以該等沉澱物接著沈積於鋁矽酸鹽玻璃製品200的表面上以形成晶種214 (例如，鹽結殼)。
由於蝕刻劑210繼續與鋁矽酸鹽玻璃製品200反應，因此晶種214生長。因為晶種214在蝕刻劑中不可溶，所以晶種214充當原位遮罩。晶種214密封鋁矽酸鹽玻璃製品200的表面之多個部分。玻璃自晶種周圍214蝕刻掉以產生多面表面特徵216。多面表面特徵216之形狀可由晶種214之形狀來判定，該形狀可藉由使蝕刻劑210之複合物發生變化及/或使蝕刻劑接觸鋁矽酸鹽玻璃製品200的時間長度發生變化來變更。
在實施例中，蝕刻劑210中之氟化氫可自氟化銨(NH 4F)或二氟化銨(NH 4HF 2)與硫酸(H 2SO 4)及鹽酸(HCl)的反應形成。氟化銨及二氟化銨亦可為銨源。除了氟化銨及二氟化銨外，存在於蝕刻劑210中之銨源可包括硫酸銨((NH 4) 2SO 4)、氟矽酸銨((NH 4) 2SiF 6)及/或氯化銨(NH 4Cl)。氟矽酸銨及六氟矽酸 (H 2SiF 6)可用以增強SiF 6離子的濃度，藉此加速氟矽酸玻璃製品200上氟矽酸銨的沉澱。
自蝕刻劑210釋放之H離子亦可充當對鋁矽酸鹽玻璃製品200之蝕刻速率及氟矽酸銨沉澱物之生長速率的調節器。除了硫酸及鹽酸外，六氟矽酸可用以自蝕刻劑210釋放H離子。
在實施例中，蝕刻劑210可包含鹽及酸，如下文進一步詳細地描述。
存在於蝕刻劑210中之鹽充當結晶促成劑，從而激勵晶種的形成。在實施例中，鹽可包含氯化銨、氟化銨、二氟化銨、硫酸銨、硝酸銨、氟矽酸銨、硫酸鉀、氯化鉀、氟化鉀、二氟化鉀、硝酸鉀、氯化鈉、氟化鈉、二氟化鈉或其組合。蝕刻劑210中鹽的量應足夠高(例如，大於或等於10重量%)以確保晶種的形成。鹽的量可經限制(例如，小於或等於50重量%)以減小或防止一旦達成溶解度便可沉澱出的未溶解鹽。未溶解鹽可不同於蝕刻劑地蝕刻，且可引起微觀均一性的缺乏。在實施例中，蝕刻劑210可包含大於或等於10重量%且小於或等於50重量%的鹽。在實施例中，蝕刻劑中鹽的量可大於或等於10重量%、大於或等於15重量%、大於或等於20重量%，或甚至大於或等於25重量%。在實施例中，蝕刻劑中鹽的量可小於或等於50重量%、小於或等於45重量%，或甚至小於或等於40重量%。在實施例中，蝕刻劑中鹽的量可大於或等於10重量%且小於或等於50重量%、大於或等於10重量%且小於或等於45重量%、大於或等於10重量%且小於或等於40重量%、大於或等於15重量%且小於或等於50重量%、大於或等於15重量%且小於或等於45重量%、大於或等於15重量%且小於或等於40重量%、大於或等於20重量%且小於或等於50重量%、大於或等於20重量%且小於或等於45重量%、大於或等於20重量%且小於或等於40重量%、大於或等於25重量%且小於或等於50重量%、大於或等於25重量%且小於或等於45重量%,或甚至大於或等於25重量%且小於或等於40重量%，或自此等端點中之任一者形成的任何及所有子範圍。
存在於蝕刻劑210中之酸起作用以溶解鋁矽酸鹽玻璃製品200的玻璃網路之組分，且形成多面表面特徵216。在實施例中，酸可包含鹽酸、氫氟酸、硝酸、硫酸、六氟矽酸、草酸、乙酸、亞硫酸氫鹽(例如，亞硫酸氫鈉)，或其組合。蝕刻劑210中酸的量應足夠高(例如，大於或等於5重量%)以確保玻璃之蝕刻及紋理玻璃製品的形成。酸的量可受到限制(例如，小於或等於50重量%)以確保多面表面特徵被產生。當添加額外量的酸時，多面表面特徵可經腐蝕為較小大小，從而失去其反射外觀。在實施例中，蝕刻劑210可包含大於或等於5重量%且小於或等於50重量%的酸。在實施例中，蝕刻劑210中酸的量可大於或等於5重量%、大於或等於10重量%、大於或等於15重量%、大於或等於20重量%，或甚至大於或等於25重量%。在實施例中，蝕刻劑210中之酸的量可小於獲得等於50重量%、小於或等於45重量%、小於或等於40重量%，或甚至小於或等於35重量%。在實施例中，蝕刻劑中酸的量可大於或等於5重量%且小於或等於50重量%、大於或等於5重量%且小於或等於45重量%、大於或等於5重量%且小於或等於40重量%、大於或等於5重量%且小於或等於35重量%、大於或等於10重量%且小於或等於50重量%、大於或等於10重量%且小於或等於45重量%、大於或等於10重量%且小於或等於40重量%、大於或等於10重量%且小於或等於35重量%、大於或等於15重量%且小於或等於50重量%、大於或等於15重量%且小於或等於45重量%、大於或等於15重量%且小於或等於40重量%、大於或等於15重量%且小於或等於35重量%、大於或等於20重量%且小於或等於50重量%、大於或等於20重量%且小於或等於45重量%、大於或等於20重量%且小於或等於40重量%、大於或等於20重量%且小於或等於35重量%、大於或等於25重量%且小於或等於50重量%、大於或等於25重量%且小於或等於45重量%、大於或等於25重量%且小於或等於40重量%，或甚至大於或等於25重量%且小於或等於35重量%，或由任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
在實施例中，蝕刻劑210可進一步包括溶劑。在實施例中，溶劑可包含水、酸(例如，鹽酸及/或氫氟酸)，或其組合。在實施例中，蝕刻劑210可包含大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的溶劑。在實施例中，蝕刻劑210可包含大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的溶劑。在實施例中，蝕刻劑210中溶劑的量可大於或等於40重量%、大於或等於45重量%，或甚至大於或等於50重量%。在實施例中，蝕刻劑210中溶劑的量可小於或等於70重量%、小於或等於65重量%，或甚至小於或等於60重量%。在實施例中，蝕刻劑210中溶劑的量可大於或等於40重量%且小於或等於70重量%、大於或等於40重量%且小於或等於65重量%、大於或等於40重量%且小於或等於60重量%、大於或等於45重量%且小於或等於70重量%、大於或等於45重量%且小於或等於65重量%、大於或等於45重量%且小於或等於60重量%、大於或等於50重量%且小於或等於70重量%、大於或等於50重量%且小於或等於65重量%或甚至大於或等於50重量%且小於或等於60重量%，或由任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
在實施例中，蝕刻劑210可進一步包括黃原膠以增大蝕刻劑210的黏度，且藉此調節活性物質的可流動性及擴散速率。在實施例中，蝕刻劑210可包含大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。在實施例中，蝕刻劑210中黃原膠的量可大於或等於0重量%、大於或等於0.1重量%，或甚至大於或等於0.25重量%。在實施例中，蝕刻劑210中黃原膠的量可小於或等於2重量%或甚至小於或等於1重量%。在實施例中，蝕刻劑中黃原膠的量可大於或等於0重量%且小於或等於2重量%、大於或等於0重量%且小於或等於1重量%、大於或等於0.1重量%且小於或等於2重量%、大於或等於0.1重量%且小於或等於1重量%、大於或等於0.25重量%且小於或等於2重量%，或甚至大於或等於0.25重量%且小於或等於1重量%，或由任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
在實施例中，蝕刻劑210可包含：大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸；大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的氟矽酸；及大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
在實施例中，蝕刻劑210可包含：大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於25重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於5重量%且小於或等於25重量%的鹽酸；及大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
在實施例中，蝕刻劑210可包含：大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
在實施例中，蝕刻劑可包含：大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨；大於或等於15重量%且小於或等於35重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
在實施例中，蝕刻劑210可包含大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
在實施例中，蝕刻劑210可包含：大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨；大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨；大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸；大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的六氟矽酸；大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水；及大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
蝕刻劑210之溫度可以不同方式影響不同蝕刻劑，且可經變更以達成多面表面特徵的足夠覆蓋率。舉例而言，當蝕刻劑之溫度相對高(例如，24℃)時，蝕刻劑中F -物質的活性及(NH 4) 2SiF 6溶解度為高。因此，蝕刻劑可使得SiF 6離子自玻璃製品的表面更快速地釋放，此情形可產生具有微觀均一性但缺少足夠覆蓋率的多面表面特徵。然而，蝕刻劑可包括組分(例如，二氟化銨)以藉由有助於形成(NH 4) 2SiF 6來抵抗相對高的蝕刻劑溫度，其可在玻璃製品的表面上成核。
在實施例中，蝕刻劑210之溫度可大於或等於10℃且小於或等於30℃。在實施例中，蝕刻劑之溫度大於或等於12℃且小於或等於24℃。在實施例中，蝕刻劑210的溫度可大於或等於10℃、大於或等於12℃、大於或等於14℃，或甚至大於或等於16℃。在實施例中，蝕刻劑210的溫度可小於或等於30℃、小於或等於28℃、小於或等於26℃，或甚至小於或等於24℃。在實施例中，蝕刻劑210的溫度可大於或等於10℃且小於或等於30℃、大於或等於10℃且小於或等於28℃、大於或等於10℃且小於或等於26℃、大於或等於10℃且小於或等於24℃、大於或等於12℃且小於或等於30℃、大於或等於12℃且小於或等於28℃、大於或等於12℃且小於或等於26℃、大於或等於12℃且小於或等於24℃、大於或等於14℃且小於或等於30℃、大於或等於14℃且小於或等於28℃、大於或等於14℃且小於或等於26℃、大於或等於14℃且小於或等於24℃、大於或等於16℃且小於或等於30℃、大於或等於16℃且小於或等於28℃、大於或等於16℃且小於或等於26℃，或甚至大於或等於16℃且小於或等於24℃，或任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
回看第1圖及第4圖，方法以方塊108繼續，在方塊108處，自蝕刻劑210之表面220起達上部浸沒深度D1且以傾角ϴ將鋁矽酸鹽玻璃製品200浸沒於蝕刻劑210中。在實施例中，鋁矽酸鹽玻璃製品200可經緊固至臂222以促進將鋁矽酸鹽玻璃製品200浸沒於蝕刻劑210中。舉例而言，在實施例中，黏著劑224可安置於層壓製件206與臂222之間以將鋁矽酸鹽玻璃製品200緊固至臂222。臂222可降低至含有蝕刻劑210的儲槽226中，藉此將鋁矽酸鹽玻璃製品200浸沒於蝕刻劑210中。
傾角ϴ為第一主表面202之法線N與豎直方向V之間的最小角度。在實施例中，傾角可大於或等於0°且小於或等於20°以有助於達成紋理玻璃製品上的足夠覆蓋率及所要表面特徵大小。在實施例中，傾角可大於或等於0°、大於或等於3°、大於或等於5°，或甚至大於或等於7°。在實施例中，傾角可小於或等於20°、小於或等於17°、小於或等於15°，或甚至小於或等於13°。在實施例中，傾角可大於或等於0°且小於或等於20°、大於或等於0°且小於或等於17°、大於或等於0°且小於或等於15°、大於或等於0°且小於或等於13°、大於或等於3°且小於或等於20°、大於或等於3°且小於或等於17°、大於或等於3°且小於或等於15°、大於或等於3°且小於或等於13°、大於或等於5°且小於或等於20°、大於或等於5°且小於或等於17°、大於或等於5°且小於或等於15°、大於或等於5°且小於或等於13°、大於或等於7°且小於或等於20°、大於或等於7°且小於或等於17°、大於或等於7°且小於或等於15°，或甚至大於或等於7°且小於或等於13°，或自任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
回看第1圖，方法100以方塊110繼續，在方塊110處，將鋁矽酸鹽玻璃製品200固持於蝕刻劑210中歷時固持時間。鋁矽酸鹽玻璃製品200在固持時間期間固持於上部浸沒深度D1。固持時間有助於達成多面表面特徵的足夠覆蓋率。在一些實施例中，固持時間可大於0 s且小於或等於600 s。在實施例中，固持時間可大於或等於30 s且小於或等於300 s。在實施例中，固持時間可大於0 s或甚至大於或等於30 s。在實施例中，固持時間可小於或等於600 s、小於或等於300 s，或甚至小於或等於120 s，或自任何此等端點中之任一者形成的任何及所有子範圍。在實施例中，固持時間可大於0 s且小於或等於600 s、大於0 s且小於或等於300 s、大於0 s且小於或等於120 s、大於或等於30 s且小於或等於600 s、大於或等於30 s且小於或等於300 s，或甚至大於或等於30 s且小於或等於120 s，或自此等端點中之任一者形成的任何及所有子範圍。
回看第1圖及第5圖，方法以方塊112繼續，在方塊112處，在固持時間之後，使鋁矽酸鹽玻璃製品200在蝕刻劑中在上部浸沒深度D1 (如第4圖中所繪示)與下部浸沒深度D2 (如第5圖中所繪示)之間循環歷時循環時間。在實施例中，鋁矽酸鹽玻璃製品200藉由在重複之上下運動中移動臂222來循環。
下部浸沒深度D2相對於蝕刻劑210之表面220深於上部浸沒深度D1。在實施例中，下部浸沒深度D2相較於上部浸沒深度D1可深出大於或等於1 cm且小於或等於20 cm。在實施例中，下部浸沒深度D2相較於上部浸沒深度D1可深出大於或等於3 cm且小於或等於8 cm。在實施例中，下部浸沒深度D2相較於上部浸沒深度D1可深出大於或等於1 cm、大於或等於3 cm，或甚至大於或等於5 cm。在實施例中，下部浸沒深度D2相較於上部浸沒深度D1深出可小於或等於20 cm、小於或等於15 cm，或甚至小於或等於10 cm。在實施例中，下部浸沒深度D2相較於上部浸沒深度D1深出可大於或等於1 cm且小於或等於20 cm、大於或等於1 cm且小於或等於15 cm、大於或等於1 cm且小於或等於10 cm、大於或等於3 cm且小於或等於20 cm、大於或等於3 cm且小於或等於15 cm、大於或等於3 cm且小於或等於10 cm、大於或等於5 cm且小於或等於20 cm、大於或等於5 cm且小於或等於15 cm，或甚至大於或小於5 cm且小於或等於10 cm，或自任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
在實施例中，諸如每分鐘之循環數及循環速度的較大攪拌參數可導致較大表面特徵大小，此情形可為所要的以產生反射性外觀。在實施例中，循環以每分鐘大於或等於1且小於或等於180個循環且以大於或等於2 cm/s且小於或等於28 cm/s的一速度來進行。在實施例中，循環可以每分鐘大於或等於2且小於或等於120個循環且以大於或等於4 cm/s且小於或等於24 cm/s的一速度來進行。
在實施例中，循環可以每分鐘大於或等於1、大於或等於2、大於或等於10、大於或等於30，或甚至大於或等於60個循環進行。在實施例中，循環可以每分鐘小於或等於180、小於或等於160、小於或等於140或甚至小於或等於120個循環進行。在實施例中，循環可以每分鐘如下的循環數進行：大於或等於1且小於或等於180、大於或等於1且小於或等於160、大於或等於1且小於或等於140、大於或等於1且小於或等於120、大於或等於2且小於或等於180、大於或等於2且小於或等於160、大於或等於2且小於或等於140、大於或等於2且小於或等於120、大於或等於10且小於或等於180、大於或等於10且小於或等於160、大於或等於10且小於或等於140、大於或等於10且小於或等於120、大於或等於30且小於或等於180、大於或等於30且小於或等於160、大於或等於30且小於或等於140、大於或等於30且小於或等於120、大於或等於60且小於或等於180、大於或等於60且小於或等於160、大於或等於60且小於或等於140，或甚至大於或等於60且小於或等於120，或自任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
在實施例中，循環速度可大於或等於2 cm/s、大於或等於4 cm/s、大於或等於6 cm/s、大於或等於8 cm/s，或甚至大於或等於10 cm/s。在實施例中，循環速度可小於或等於28 cm/s、小於或等於24 cm/s、小於或等於20 cm/s，或甚至小於或等於16 cm/s。
循環有助於達成多面表面特徵的足夠覆蓋率及微觀均一性。在實施例中，循環時間可大於或等於60 s且小於或等於900 s。在實施例中，循環時間可大於或等於60 s，大於或等於120 s，大於或等於180 s，或甚至大於或等於240 s。在實施例中，循環時間可小於或等於900 s，小於或等於780 s，小於或等於620 s，或甚至小於或等於500 s。在實施例中，循環時間可大於或等於60 s且小於或等於900 s、大於或等於60 s且小於或等於780 s、大於或等於60 s且小於或等於620 s、大於或等於60 s且小於或等於500 s、大於或等於120 s且小於或等於900 s、大於或等於120 s且小於或等於780 s、大於或等於120 s且小於或等於620 s、大於或等於120 s且小於或等於500 s、大於或等於180 s且小於或等於900 s、大於或等於180 s且小於或等於780 s、大於或等於180 s且小於或等於620 s、大於或等於180 s且小於或等於500 s、大於或等於240 s且小於或等於900 s、大於或等於240 s且小於或等於780 s、大於或等於240 s且小於或等於620 s，或甚至大於或等於240 s且小於或等於500 s，或自任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
回看第1圖及第6圖，方法100以方塊114繼續，在方塊114處，自蝕刻劑210移除鋁矽酸鹽玻璃製品200、清洗鋁矽酸鹽玻璃製品200以移除蝕刻劑210且自表面移除晶種214，且乾燥製品以形成具有多面表面特徵216的紋理玻璃製品240。鋁矽酸鹽玻璃製品200可自臂222移除。在實施例中，蝕刻劑可藉由去離子(deionized，DI)水沖洗鋁矽酸鹽玻璃製品200。在實施例中，黏附至鋁矽酸鹽玻璃製品200的晶種214可例如由洗滌海綿塊移除或擦掉。在實施例中，層壓製件206可被移除。在實施例中，鋁矽酸鹽玻璃製品200可在環境條件或烘箱中進行乾燥。
如第6圖中所繪示，所得紋理玻璃製品240包含自第一表面242延伸的複數個多面表面特徵216。複數個多面表面特徵216中的每一者包含第一表面242上的基座244，及自第一表面242延伸的複數個小面246。
在實施例中，每一多面表面特徵216的小面246自第一表面242延伸且朝向彼此會聚以形成多面表面特徵216的多面形態(例如，具有3重對稱性、4重對稱性、6重對稱性等的錐體)。舉例而言，如第7圖至第10圖中所繪示，在實施例中，多面表面特徵216可包含三棱錐216a、四棱錐216b、六棱錐216c、八棱錐216d，或其組合。在實施例中，紋理玻璃製品240可包含支配紋理相及次要紋理相。舉例而言，在實施例中，紋理玻璃製品240可包含六棱錐及八棱錐作為支配紋理相。在實施例中，紋理玻璃製品240可包含六棱錐及八棱錐作為支配紋理相與具有三棱錐作為次要紋理相。在實施例中，紋理玻璃製品240可包含四棱錐作為支配紋理相。
在實施例中，基座244處之表面特徵大小可大於或等於50 μm且小於或等於500 μm。在實施例中，基座244處的表面特徵大小可大於或等於50 μm、大於或等於75 μm，或甚至大於或等於100 μm。在實施例中，基座244處的表面特徵大小可小於或等於500 μm、小於或等於400 μm，或甚至小於或等於300 μm。在實施例中，基座244處的表面特徵大小可大於或等於50 μm且小於或等於500 μm、大於或等於50 μm且小於或等於400 μm、大於或等於50 μm且小於或等於300 μm、大於或等於75 μm且小於或等於500 μm、大於或等於75 μm且小於或等於400 μm、大於或等於75 μm且小於或等於300 μm、大於或等於100 μm且小於或等於500 μm、大於或等於100 μm且小於或等於400 μm或甚至大於或小於100 μm且小於或等於300 μm，或自任何此等端點形成的任何及所有子範圍。
每一多面表面特徵216的結構及大小連同足夠覆蓋率、其微觀均一性有助於達成增強型輝光。
本文中描述之紋理玻璃製品可用於多種應用，包括例如諸如智慧手機、平板電腦、個人電腦、超級本、電視及攝影機的消費型或商用電子裝置中的背殼應用。併有本文中揭示之紋理玻璃製品中任一者的例示性製品繪示於第11圖至第13圖中。特定言之，第11圖至第13圖繪示消費型電子裝置400，該電子裝置400包括：外殼402，其具有前表面404、背表面406及側表面408；電氣部件(圖中未圖示)，其至少部分或完全在外殼內部且包括至少控制器、記憶體及相鄰於外殼之前表面的顯示器410；及覆蓋基板412，覆蓋基板412係在外殼之前表面處或上方，使得其係在顯示器上方。在實施例中，外殼402之一部分，諸如背部406可包括本文中揭示之紋理玻璃製品中的任一者。 實例
為了更容易地理解各種實施例，參看以下實例，該等實例說明本文中描述之紋理玻璃製品的各種實施例。
如下文所描述經處置的玻璃製品A及B的複合物(按莫耳%計)繪示於表1中。請注意，參看「玻璃製品A」及「玻璃製品B」指具有繪示於表1中之各別複合物的玻璃製品。參看玻璃製品A及B並非分別指藉由各種蝕刻劑處置多次的相同的玻璃製品A及B。
表 1
玻璃製品 A B
SiO 2 64.40 58.65
Al 2O 3 15.90 17.85
B 2O 3 - 4.22
Na 2O 11.00 8.72
K 2O - 0.07
Li 2O 6.30 7.70
MgO - 1.19
ZnO 1.20 -
P 2O 5 1.25 1.47
TiO 2 - 0.10
表2繪示示例性蝕刻劑A至F以及比較性蝕刻劑A的複合物(按重量%計)。包括於示例性蝕刻劑F中的黃原膠為KELZAN (CP Kelvo)。
表 2
蝕刻劑 示例性蝕刻劑 A 示例性蝕刻劑 B 示例性蝕刻劑 C 示例性蝕刻劑 D
NH 4F 10.0 12.0 17.8 -
NH 4HF 2 7.2 2.6 - 17.0
(NH 4) 2SO 4 7.2 10.8 - 11.8
(NH 4) 2SiF 6 2.2 3.3 2.1 -
NH 4Cl 3.2 - - -
H 2SO 4 - - 32.0 23.6
HCl 11.7 14.3 - -
H 2SiF 6 1.1 - - -
H 2O 57.7 57.1 48.1 47.5
黃原膠 - - - -
表 2 續
蝕刻劑 示例性蝕刻劑 E 比較性蝕刻劑 A 示例性蝕刻劑 F
NH 4F 17.4 16.9 9.9
NH 4HF 2 3.5 3.4 6.9
(NH 4) 2SO 4 - - 7.2
(NH 4) 2SiF 6 0.7 0.7 2.2
NH 4Cl - - 3.2
H 2SO 4 31.3 36.8 -
HCl - - 11.7
H 2SiF 6 - - 1.1
H 2O 47.1 42.2 57.7
黃原膠 - - 0.1
實例 1- 示例性紋理製品 A( 蝕刻劑 A 及玻璃製品 A)
為了獲得蝕刻劑A，藉由手磨機獲得543 g的摻和粉末，包括33.8重量%的NH 4F、23.5重量%的NH 4HF 2、24.3重量%的(NH 4) 2SO 4、7.4重量%的(NH) 2SiF 6及11.0重量%的NH 4Cl。獲得1195 ml的預混合溶劑，並經充分攪動，該預混合溶劑包括41.4體積%、37重量%的HCl，4.2體積%的H 2SiF 6及51.4體積%的H 2O。粉末與溶劑之混合在24℃下進行。使蝕刻劑老化歷時2小時。
玻璃製品A經切割為50 × 50 mm大小，且層壓於一側上。層壓玻璃製品A在3%帕克(Parker)含水溶液中經歷10分鐘的超音波處置，繼之以由流動DI水的恰當沖洗。其後，玻璃製品A在60℃烘箱中乾燥，繼之以在環境條件中的置放，直至玻璃製品A冷卻至24℃。
在蝕刻之前，蝕刻劑A具有300 s的穩定時間。傾角θ、上部浸沒深度D1、下部浸沒深度D2及固持時間分別為0°、0.5 cm、6 cm及30 s。循環時間在每分鐘2個循環情況下為4分鐘。循環速度為4 cm/s。蝕刻劑溫度為24℃。
經蝕刻玻璃製品A藉由流動的DI水沖洗。經蝕刻玻璃製品上的沉澱物藉由刮擦來移除，且層壓膜被剝離。玻璃製品置放於60℃烘箱中，直至乾燥。
現參看第14圖及第15圖，藉由蝕刻劑A使用上文描述之攪拌參數來處置玻璃製品A產生示例性紋理製品A，其具有所得多面表面特徵之足夠覆蓋率及微觀均一性。第15圖繪示，示例性紋理製品A包括六錐體及八錐體作為支配紋理相。多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為70 μm。
實例 2- 示例性紋理製品 B( 蝕刻劑 B 及玻璃製品 A)
為了獲得蝕刻劑B，藉由手磨機獲得350 g的摻和粉末，包括41.8重量%的NH 4F、9.1重量%的NH 4HF 2、37.7重量%的(NH 4) 2SO 4及11.4重量%的(NH) 2SiF 6。獲得800 ml的預混合溶劑，並經充分攪動，該預混合溶劑包括50.0體積%、37重量%的HCl及50.0體積%的H 2O。粉末與溶劑之混合在24℃下進行。使蝕刻劑老化歷時2小時。
玻璃製品A在蝕刻之前經受與實例1中相同的處置。
在蝕刻之前，蝕刻劑B具有300 s的穩定時間。傾角θ、上部浸沒深度、下部浸沒深度D2及固持時間分別為10°、0.5 cm、6 cm及30 s。循環時間在每分鐘60個循環情況下為4分鐘。每一攪拌循環的循環速度為12 cm/s。蝕刻劑溫度為24℃。
經蝕刻玻璃製品A在蝕刻之後經受與實例1中相同的處置。
現參看第16圖及第17圖，藉由蝕刻劑B使用上文描述之攪拌參數來處置玻璃製品A產生示例性紋理製品B，其具有所得多面表面特徵之足夠覆蓋率及微觀均一性。第17圖繪示，示例性紋理製品B包括六棱錐及八棱錐作為支配紋理相與具有三棱錐作為次要紋理相。多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為90 μm。
實例 3- 示例性紋理製品 B( 蝕刻劑 B 及玻璃製品 A)
實例2經修改以包括每分鐘120個循環及24 cm/s的循環速度，同時維持所有其他攪拌參數。
現參看第18圖及第19圖，藉由蝕刻劑B使用上文描述之攪拌參數來處置玻璃製品A產生示例性紋理製品C，其具有所得多面表面特徵之足夠覆蓋率及微觀均一性。第19圖繪示，示例性紋理製品C包括六棱錐及八棱錐作為支配紋理相與三棱錐作為次要紋理相。
示例性紋理製品C之多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為170 μm，而示例性紋理製品B之多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為90 μm。如由實例2及3所指示，較大的攪拌參數(例如，每分鐘的較大循環數及較大循環速度)產生多面表面特徵的較大表面特徵大小。
比較性實例 1- 比較性紋理製品 A
實例3在無循環(亦即，循環時間= 0 s，固持時間= 240 s)情況下重複，同時維持所有其他攪拌參數。
現參看第20圖，在無上文描述之循環情況下藉由蝕刻劑B處置玻璃製品A產生多面表面特徵，但缺少足夠的覆蓋率及微觀均一性。如由實例3及比較性實例1所指示，循環有助於達成紋理玻璃製品上之多面表面特徵的足夠覆蓋率及微觀均一性。
比較性實例 2- 比較性紋理製品 B
實例3在無固持(亦即，固持時間= 0 s)情況下重複，同時維持所有其他攪拌參數參數。
現參看第21圖，在無如上文描述之固持情況下藉由蝕刻劑B處置玻璃製品A產生多面表面特徵，其具有微觀均一性但缺少足夠的覆蓋率。如由實例3及比較性實例2所指示，固持時間有助於達成紋理玻璃製品上之多面表面特徵的足夠覆蓋率。
實例 4- 示例性紋理製品 D ( 蝕刻劑 C 及玻璃製品 A)
為了獲得蝕刻劑C，藉由手磨機獲得112 g的摻和粉末，包括89.3重量%的NH 4F及10.7重量%的(NH) 2SiF 6。獲得367 ml的預混合溶劑，並經充分攪動，該預混合溶劑包括27.2體積%、98重量%的H 2SO 4及72.8體積%的H 2O。粉末與溶劑之混合在24℃下進行。使蝕刻劑老化歷時2小時。
玻璃製品A在蝕刻之前經受與實例1中相同的處置。
在蝕刻之前，蝕刻劑C具有300 s的穩定時間。傾角θ、上部浸沒深度D1、下部浸沒深度D2及固持時間分別為0°、0.5 cm、6 cm及30 s。循環時間在每分鐘2個循環情況下為10分鐘。循環速度為4 cm/s。蝕刻劑溫度為12℃。
經蝕刻玻璃製品A在蝕刻之後經受與實例1中相同的處置。
現參看第22圖及第23圖，藉由蝕刻劑C使用上文描述之攪拌參數來處置玻璃製品A產生示例性紋理製品D，其具有所得多面表面特徵之足夠覆蓋率及微觀均一性。第23圖繪示，示例性紋理製品D包括四錐體作為支配紋理相。多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為100 μm。
比較性實例 3- 比較性紋理製品 C
實例4在蝕刻劑溫度為24℃下處置，同時維持所有其他攪拌參數。
現參看第24圖及第25圖，在如上文描述之相對升高之蝕刻溫度情況下藉由蝕刻劑C處置玻璃製品A產生比較性紋理製品C，其具有微觀均一性但缺少足夠的覆蓋率。多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為300 μm。
實例4及比較性實例3利用示例性蝕刻劑C，該蝕刻劑C不包括二氟化銨。24℃之相對高的蝕刻劑溫度使得SiF 6離子自玻璃製品的表面更快速地釋放，此情形可產生具有微觀均一性但缺少足夠覆蓋性的多面表面特徵。
請注意，實例1至3中蝕刻劑的溫度為24℃，且產生具有足夠覆蓋率、微觀均一性的紋理玻璃製品。實例1至3分別利用包括二氟化銨的示例性蝕刻劑A及B。存在於蝕刻劑中之二氟化銨藉由有助於形成(NH 4) 2SiF 6來抵消相對高的蝕刻劑溫度，其可在玻璃製品的表面上成核。
如由實例1至4及比較性實例3所指示，蝕刻劑之溫度以不同方式影響不同蝕刻劑，且可經變更以達成紋理玻璃製品上多面表面特徵的足夠覆蓋率。
實例 5- 示例性紋理製品 E ( 蝕刻劑 D 及玻璃製品 A)
為了獲得蝕刻劑D，藉由手磨機獲得176 g的摻和粉末，包括59.1重量%的NH 4HF 2及40.9重量%的(NH 4) 2SiO 4。獲得367 ml的預混合溶劑，並經充分攪動，該預混合溶劑包括21.8體積%、98重量%的H 2SO 4及78.2體積%的H 2O。粉末與溶劑之混合在24℃下進行。使蝕刻劑老化歷時2小時。
玻璃製品A在蝕刻之前經受與實例1中相同的處置。
在蝕刻之前，蝕刻劑D具有300 s的穩定時間。傾角θ、上部浸沒深度D1、下部浸沒D2及固持時間分別為0°、0.5 cm、6 cm及30 s。循環時間在每分鐘2個循環情況下為4分鐘。循環速度為4 cm/s。蝕刻劑溫度為24℃。
經蝕刻玻璃製品A在蝕刻之後經受與實例1中相同的處置。
現參看第26圖，藉由蝕刻劑D使用上文描述之攪拌參數來處置玻璃製品A產生示例性紋理製品E，其具有所得多面表面特徵之足夠覆蓋率及微觀均一性。第26圖繪示，示例性紋理製品B包括四錐體作為支配紋理相。多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為350 μm。
實例 6- 示例性紋理製品 F ( 蝕刻劑 E 及玻璃製品 B)
為了獲得蝕刻劑E，藉由手磨機獲得124 g的摻和粉末，包括80.6的NH 4F、16.1重量%的NH 4HF 2及3.3重量%的(NH 4) 2SiF 6。獲得367 ml的預混合溶劑，並經充分攪動，該預混合溶劑包括27.2體積%、98重量%的H 2SO 4及72.8體積%的H 2O。粉末與溶劑之混合在24℃下進行。使蝕刻劑老化歷時2小時。
玻璃製品B在蝕刻之前經受與實例1中之玻璃製品A相同的處置。
在蝕刻之前，蝕刻劑E具有300 s的穩定時間。傾角θ、上部浸沒深度D1、下部浸沒深度D2及固持時間分別為0°、0.5 cm、6 cm及30 s。循環時間在每分鐘2個循環情況下為10分鐘。循環速度為4 cm/s。蝕刻劑溫度為12℃。
經蝕刻玻璃製品B在蝕刻之後經受與實例1中之經蝕刻玻璃製品A相同的處置。
現參看第27圖及第28圖，藉由蝕刻劑E使用上文描述之攪拌參數來處置玻璃製品B產生示例性紋理製品F，其具有所得多面表面特徵之足夠覆蓋率及微觀均一性。第13圖繪示，示例性紋理製品B包括四錐體作為支配紋理相。多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為70 μm。
比較性實例 4- 比較性紋理製品 D
實例6以10°的相反傾角(亦即，接觸蝕刻劑之主表面正以10°之傾角面向蝕刻劑的頂表面)，同時維持所有其他攪拌參數。
現參看第29圖，藉由蝕刻劑E以如上文所描述的相反傾角處置玻璃製品B產生比較性紋理製品D，其缺少多面表面特徵的足夠覆蓋率且具有相對小的表面特徵大小。如由實例6及比較性實例4所指示，大於或等於0且小於或等於20°的傾角有助於達成紋理玻璃製品上多面表面特徵的足夠覆蓋率及較大表面特徵大小。
比較性實例 5- 比較性紋理製品 E
實例6使用比較性蝕刻劑A來重複，同時維持攪拌參數。
現參看第30圖，使用上文所描述的攪拌參數藉由比較性蝕刻劑A處置玻璃製品B產生比較性紋理製品E，其缺少多面表面特徵的足夠覆蓋率且具有相對小的表面特徵大小。如由實例6及比較性實例5所指示，增大酸濃度可產生減小的覆蓋率及相對小的表面特徵大小。
實例 7- 示例性紋理製品 G ( 蝕刻劑 F 及玻璃製品 A)
實例1藉由30 s之穩定時間、每分鐘60個循環及12 cm/s的循環速度使用蝕刻劑F重複，同時維持所有其他攪拌參數。
為了獲得蝕刻劑F，藉由手磨機獲得544.5 g的摻和粉末，包括33.7重量%的NH 4F、23.4重量%的NH 4HF 2、24.2重量%的(NH 4) 2SO 4、7.3重量%的(NH) 2SiF 6、11.0重量%的NH 4Cl及0.28重量%的黃原膠。獲得1195 ml的預混合溶劑，並經充分攪動，該預混合溶劑包括41.4體積%、37重量%的HCl，4.2體積%的H 2SiF 6及51.4體積%的H 2O。粉末與溶劑之混合在40℃下進行。使蝕刻劑老化歷時2小時。蝕刻劑F之黏度如由具有LV-01芯軸及30 rpm旋轉速度的Brookfield DT2黏度計所量測在24℃下為130 mPa•s。
藉由如上文描述之蝕刻劑F處置玻璃製品A產生具有所得多面表面特徵之足夠覆蓋率及微觀均一性的示例性紋理製品G。示例性紋理製品G包括六錐體及八錐體作為支配紋理相。多面表面特徵之基座處的表面特徵大小為70 μm。
比較性實例 6- 比較性紋理製品 F
實例1以30 s之穩定時間、每分鐘60個循環及12 cm/s的循環速度重複，同時維持所有其他處理因數。示例性蝕刻劑A之黏度如由具有LV-01芯軸及30 rpm之旋轉速度的Brookfield DT2黏度計所量測在24℃下為10 mPa·s。
現參看第31圖，使用上文描述之穩定時間、每分鐘之循環數及循環速度藉由示例性蝕刻劑A處置玻璃製品A產生具有微觀均一性但缺少足夠覆蓋率的比較性紋理製品F。如由實例7及比較性實例6所指示，黃原膠在蝕刻劑中的存在可為重要的以增大蝕刻劑之黏度，藉此在穩定時間相對短時達成足夠的覆蓋率。
對於熟習此項技術者顯而易見的是，各種修改及變化可對本文中描述之實施例進行而不偏離所主張標的物的精神及範疇。因此，意欲說明書涵蓋本文中所描述的各種實施例之修改及變化，所提供之此類修改及變化係在隨附申請專利範圍及其等效物的範疇內。
100:方法 102:方塊 104:方塊 106:方塊 108:方塊 110:方塊 112:方塊 114:方塊 200:鋁矽酸鹽玻璃製品 202:第一主表面 204:第二主表面 206:層壓製件 210:蝕刻劑 212:介面 214:晶種 216:多面表面特徵 216a:三棱錐 216b:四棱錐 216c:六棱錐 216d:八棱錐 220:表面 222:臂 224:黏著劑 226:儲槽 240:紋理玻璃製品 242:第一表面 244:基座 246:小面 400:消費型電子裝置 402:外殼 404:前表面 406:背表面 408:側表面 410:顯示器 412:覆蓋基板 D1:上部浸沒深度 D2:下部浸沒深度 ϴ:傾角 N:法線
第1圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的形成紋理玻璃製品之方法的流程圖；
第2圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的鋁矽酸鹽玻璃製品之平面圖；
第3圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的與鋁矽酸鹽製品反應之蝕刻劑；
第4圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的攪拌製程之步驟；
第5圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的攪拌製程之另一步驟；
第6圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的紋理玻璃製品之平面圖；
第7圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的多面表面特徵之平面圖；
第8圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的另一多面表面特徵之平面圖；
第9圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的另一多面表面特徵之平面圖；
第10圖示意性地描繪根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的另一多面表面特徵之平面圖；
第11圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的併有紋理玻璃製品中之任一者之例示性電子裝置的平面圖；
第12圖為第11圖之例示性電子裝置的透視圖；
第13圖為第11圖之例示性電子裝置的透視圖；
第14圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第15圖為繪示於第14圖中之紋理玻璃製品之200倍放大率情況下的光學顯微影像；
第16圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第17圖為繪示於第16圖中之紋理玻璃製品之200倍放大率情況下的光學顯微影像；
第18圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第19圖為繪示於第18圖中之紋理玻璃製品之200倍放大率情況下的光學顯微影像；
第20圖為比較性紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第21圖為比較性紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第22圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第23圖為繪示於第22圖中之紋理玻璃製品之200倍放大率情況下的光學顯微影像；
第24圖為比較性紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第25圖為繪示於第24圖中之比較性紋理玻璃製品之200倍放大率情況下的光學顯微影像；
第26圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第27圖為根據本文中繪示並描述之一或多個實施例的紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第28圖為繪示於第27圖中之紋理玻璃製品之200倍放大率情況下的光學顯微影像；
第29圖為比較性紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；
第30圖為比較性紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像；且
第31圖為比較性紋理玻璃製品之50倍放大率情況下的光學顯微影像。
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100:方法
102:方塊
104:方塊
106:方塊
108:方塊
110:方塊
112:方塊
114:方塊

Claims (35)

  1. 一種形成一紋理玻璃製品的方法，該方法包含以下步驟： 自一蝕刻劑之一表面起達一上部浸沒深度且以一傾角將一鋁矽酸鹽玻璃製品浸沒於該蝕刻劑中，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含一第一主表面及與該第一表面相對的一第二主表面，其中該傾角為該第一主表面之一法線與一豎直方向之間的一最小角度； 將該鋁矽酸鹽玻璃製品固持於該蝕刻劑中歷時一固持時間；及 在該固持時間之後，使該鋁矽酸鹽玻璃製品在該蝕刻劑中在該上部浸沒深度與深於該上部浸沒深度的一下部浸沒深度之間循環歷時一循環時間。
  2. 如請求項1所述之方法，其中該傾角大於或等於0°且小於或等於20°。
  3. 如請求項1或請求項2所述之方法，其中該固持時間大於0 s且小於或等於600 s。
  4. 如請求項3所述之方法，其中該固持時間大於或等於30 s且小於或等於300 s。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑之一溫度大於或等於10℃且小於或等於30℃。
  6. 如請求項5所述之方法，其中該蝕刻劑之該溫度大於或等於12℃且小於或等於24℃。
  7. 如請求項1至6中任一項所述之方法，其中該循環以每分鐘大於或等於1個且小於或等於180個循環且以大於或等於2 cm/s且小於或等於28 cm/s的一速度來進行。
  8. 如請求項7所述之方法，其中該循環以每分鐘大於或等於2個且小於或等於120個循環且以大於或等於4 cm/s且小於或等於24 cm/s的一速度來進行。
  9. 如請求項1至8中任一項所述之方法，其中該下部浸沒深度相較於該上部浸沒深度深出大於或等於1 cm且小於或等於20 cm。
  10. 如請求項9所述之方法，其中該下部浸沒深度相較於該上部浸沒深度深出大於或等於3 cm且小於或等於10 cm。
  11. 如請求項1至10中任一項所述之方法，其進一步包含在將該鋁矽酸鹽玻璃製品浸沒於該蝕刻劑中之前製備該蝕刻劑且允許該蝕刻劑穩定歷時一穩定時間，該穩定時間大於或等於10 s且小於或等於600 s。
  12. 如請求項1至11中任一項所述之方法，其中該循環時間大於或等於60 s且小於或等於900 s。
  13. 如請求項1至12中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於10重量%且小於或等於50重量%的一鹽；及 大於或等於5重量%且小於或等於50重量%的一酸。
  14. 如請求項13所述之方法，其中該鹽包含氟化銨、二氟化銨、硫酸銨、氟矽酸銨、氯化銨或其組合。
  15. 如請求項13或請求項14所述之方法，其中該酸包含鹽酸、硫酸、六氟矽酸或其組合。
  16. 如請求項1至15中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
  17. 如請求項1至13中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的硫酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸； 大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的六氟矽酸；及 大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
  18. 如請求項1至13中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於25重量%的硫酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於5重量%且小於或等於25重量%的鹽酸；及 大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
  19. 如請求項1至13中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
  20. 如請求項1至13中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨； 大於或等於15重量%且小於或等於35重量%的硫酸；及 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
  21. 如請求項1至13中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
  22. 如請求項1至13中任一項所述之方法，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸； 大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的六氟矽酸； 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水；及 大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
  23. 如請求項1至22中任一項所述之方法，本文中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含大於或等於14莫耳%的Al 2O 3。
  24. 如請求項1至23中任一項所述之方法，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含： 大於或等於56莫耳%且小於或等於72莫耳%的SiO 2； 大於或等於14莫耳%且小於或等於25莫耳%的Al 2O 3； 大於或等於6莫耳%且小於或等於16莫耳%的Na 2O； 大於或等於1莫耳%且小於或等於10莫耳%的Li 2O； 大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的ZnO；及 大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的P 2O 5。
  25. 如請求項1至23中任一項所述之方法，其中該鋁矽酸鹽玻璃製品包含： 大於或等於50莫耳%且小於或等於66莫耳%的SiO 2； 大於或等於16莫耳%且小於或等於28莫耳%的Al 2O 3； 大於或等於1莫耳%且小於或等於8莫耳%的B 2O 3； 大於或等於3莫耳%且小於或等於15莫耳%的Na 2O； 大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的K 2O； 大於或等於1莫耳%且小於或等於12莫耳%的Li 2O； 大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的MgO； 大於或等於0莫耳%且小於或等於3莫耳%的P 2O 5；及 大於或等於0莫耳%且小於或等於1莫耳%的TiO 2。
  26. 如請求項1至25中任一項所述之方法，其中該紋理玻璃製品包含自一第一表面延伸的複數個多面表面特徵，該複數個多面表面特徵中的每一者包含該第一表面上的一基座；自該第一表面延伸的複數個小面；以及在該基座處的大於或等於50 μm且小於或等於500 μm的一表面特徵大小，其中每一多面表面特徵之該複數個小面朝向彼此會聚。
  27. 如請求項26所述之方法，其中該紋理玻璃製品具有該複數個多面表面特徵的足夠覆蓋率及微觀均一性。
  28. 一種蝕刻劑，包含： 大於或等於10重量%且小於或等於50重量%的一鹽，該鹽包含氟化銨、二氟化銨、硫酸銨、氟矽酸銨、氯化銨或其組合；及 大於或等於5重量%且小於或等於50重量%的一酸，該酸包含鹽酸、硫酸、六氟矽酸或其組合。
  29. 如請求項28所述之蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
  30. 如請求項28所述之蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的硫酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸； 大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的六氟矽酸；及 大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
  31. 如請求項28所述之蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於25重量%的硫酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於5重量%且小於或等於25重量%的鹽酸；及 大於或等於50重量%且小於或等於70重量%的水。
  32. 如請求項28所述之蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
  33. 如請求項28所述之蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於5重量%且小於或等於30重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨； 大於或等於15重量%且小於或等於35重量%的硫酸；及 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
  34. 如請求項28所述之蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的二氟化銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於20重量%且小於或等於40重量%的硫酸；及 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水。
  35. 如請求項28所述之蝕刻劑，其中該蝕刻劑包含： 大於或等於10重量%且小於或等於30重量%的氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於15重量%的二氟化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的硫酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氟矽酸銨； 大於或等於0.5重量%且小於或等於10重量%的氯化銨； 大於或等於2重量%且小於或等於20重量%的鹽酸； 大於或等於0.25重量%且小於或等於5重量%的六氟矽酸； 大於或等於40重量%且小於或等於60重量%的水；及 大於0重量%且小於或等於2重量%的黃原膠。
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