TW202323334A - 著色層形成用組成物、光學薄膜及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種著色層形成用組成物，其含有：色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、及溶劑(D)；其中，該色素(A)含有第一色材、與第二色材，該第一色材之吸收最大波長在470～530nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～45nm，該第二色材之吸收最大波長在560～620nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～55nm，並且該活性能量線硬化性樹脂(B)含有具有胺結構的樹脂。

Description

著色層形成用組成物、光學薄膜及顯示裝置
本發明關於一種著色層形成用組成物、光學薄膜及顯示裝置。 本申請案係針對2021年8月17日於日本提申之日本特願2021-132535號、2021年1月14日於日本提申之日本特願2022-004645號、2021年1月14日於日本提申之日本特願2022-004646號主張優先權，並將其內容引用於此。
不論室內外，顯示裝置多在外部光入射的環境下使用。入射至顯示裝置的外部光會在顯示裝置表面反射，並引起顯示品質降低。其中，有機發光顯示裝置等自發光顯示裝置的電極及其它許多金屬配線強烈反射外部光，有著顯示品質易降低的問題，但另一方面，有著小型化優良，並且電力消耗低、亮度高、及反應速度高等高品質特性，因此受期待作為次世代顯示裝置。
為了解決這般因外部光反射造成顯示品質降低的問題，有這樣的構成：於顯示面側配置偏光板及相位延遲板而抑制外部光反射。 不過在使用了偏光板及相位延遲板的方法來說，從顯示裝置射出的光是通過偏光板及相位延遲板而放出至外部，此時其相當部分會一併損失，容易招致元件壽命的降低。
此外，一般在顯示裝置來說，要求高的色純度。所謂色純度係表示顯示裝置可顯示之顏色的廣度，亦稱為色彩再現範圍。因而係色純度高一事意指色彩再現範圍寬廣且色彩再現性良好。就提升色彩再現性的手段而言，已知：對發出白色光的光源使用彩色濾光片而進行色彩分離的手法，或者以彩色濾光片校正發光三原色RGB單色光的光源，並使窄半高寬化的手法。不過，使用彩色濾光片而使顯示裝置的色彩再現性提升時，變得需要彩色濾光片的厚膜化或色材的高濃度化，有像素形狀及視角特性惡化等使顯示品質降低的問題。進一步，提升過色純度的彩色濾光片，穿透率大致上係低的，容易使亮度效率降低。此外，對於發出三原色RGB單色光的顯示裝置來說，變得會需要形成彩色濾光片的步驟，而有成本呈增加的課題。
前述配置偏光板及相位延遲板的構成或者使用彩色濾光片的構成，作為不同於前述構成的顯示裝置，例如：在專利文獻1提案有一種有機發光顯示裝置，其具備含有有機發光元件的顯示基板、以及與顯示基板隔開配置的密封基板，並在顯示基板與密封基板間的空間埋入填充劑，該填充劑會每個波長區帶挑選性地吸收外部光而調節穿透率。依據專利文獻1的發明，會抑制外部光反射而使視覺辨認性提升，同時在射出自顯示裝置的光中特別選擇性吸收使色純度降低之波長區帶的光，因此也能夠圖謀色純度的提升。
作為不使用彩色濾光片而使色純度提升的方法，專利文獻2揭示了一種顯示器濾光器(display filter)，其在具有抗反射層及電磁波屏蔽層的濾光器底座(filter base)上設置色彩校正層。該顯示器濾光器的構成係將色彩校正層設置於抗反射薄膜，因此在製造中不需要光微影術步驟，並且也不容易降低亮度效率。 專利文獻3揭示了一種適合於色彩校正層的色材。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利第5673713號公報 專利文獻2：日本特開2007-226239號公報 專利文獻3：日本專利第6142398號公報
[發明欲解決之課題]
然而，專利文獻1、專利文獻2、專利文獻3的技術中所使用的，具有選擇吸收性的色素，其耐光性、耐熱性等差，在要擔保可靠性的構成來說係不充分的，不改善可靠性的話難以實用化。
根據上述事態，本發明目的係在於提供一種能夠使耐光性及耐熱性提升，並兼顧反射抑制與亮度效率、能夠使得顯示品質提升、能夠使發光元件長壽化，並能夠提升色彩再現性的著色層形成用組成物，以及一種能夠形成色彩校正機能良好，並且可耐受長期間使用的著色層之著色層形成用組成物、光學薄膜及顯示裝置。 [用以解決課題之手段]
本發明具有以下態樣。
依據與本發明之第1態樣有關的著色層形成用組成物，含有：色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、及溶劑(D)，前述色素(A)含有第一色材、與第二色材，前述第一色材之吸收最大波長在470～530nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～45nm，前述第二色材之吸收最大波長在560～620nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～55nm，前述活性能量線硬化性樹脂(B)含有具有胺結構的樹脂。 依據與本發明之第2態樣有關的著色層形成用組成物，在上述第1態樣中，前述活性能量線硬化性樹脂(B)亦可係包含下述式(1)所示之結構單元的聚合物。
Figure 02_image001
[在式(1)中，R 1表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基(sulfamoyl)、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基(phosphono)、或雜環基，R 2表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈(polyethylene glycol chain)、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
Figure 111130891-001
烷環。] 依據與本發明之第3態樣有關的著色層形成用組成物，在上述第1態樣或第2態樣中，前述活性能量線硬化性樹脂(B)進一步含有包含下述式(2)所示之結構單元的聚合物。
Figure 02_image003
[在式(2)中，R 3表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 4表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
Figure 111130891-001
烷環。] 依據與本發明之第4態樣有關的著色層形成用組成物，在從上述第1態樣至第3態樣之任一態樣中，可進一步含有一種以上的添加劑(E)，該添加劑(E)係選自自由基捕獲劑(radical scavenger)、過氧化物分解劑及單線態氧淬滅劑(singlet oxygen quencher)。 依據與本發明之第5態樣有關的著色層形成用組成物，在上述第4態樣中，前述單線態氧淬滅劑可為磷酸二烷基酯、二硫代胺基甲酸二烷基酯、或苯二硫醇(benzenedithiol)、及該等的過渡金屬錯合物。 依據與本發明之第6態樣有關的著色層形成用組成物，在上述第1態樣至第5態樣的任一態樣中，前述色素(A)可包含一種以上選自於由具有下述任一結構的化合物及其金屬錯合物構成之群組的化合物：卟啉(porphyrin)結構、部花青素(merocyanine)結構、酞青(phthalocyanine)結構、偶氮結構、靛青(cyanine)結構、方酸(squarylium)結構、香豆素結構、多烯結構、醌結構、四氮雜卟啉(tetraazaporphyrin)結構、吡咯亞甲基(pyrromethene)結構及靛藍(indigo)結構。 依據與本發明之第7態樣有關的著色層形成用組成物，在上述第1態樣至第6態樣的任一態樣中，前述色素(A)可進一步含有第三色材，該第三色材在380～780nm之波長範圍中穿透率最低的波長係650～780nm的範圍內。
與本發明之第8態樣有關的光學薄膜，具有：著色層、位於前述著色層之其中一面的透明基材、以及位於前述著色層之其中一面或另一面的機能層，前述透明基材及前述機能層之一者或兩者係按照JIS L1925記載之方法所測定的紫外線遮蔽率為85%以上，且前述機能層作為抗反射層或防眩層而發揮功能；其中，該著色層係上述第1態樣至第7態樣中任一態樣記載之著色層形成用組成物的硬化物。 依據與本發明之第9態樣有關的光學薄膜，在上述第8態樣中，可進一步具有氧穿透度為10cm 3/(m 2・day・atm)以下的氧障壁層作為前述機能層。 與本發明之第10態樣有關的光學薄膜，在上述第8態樣或第9態樣中，可進一步具有抗靜電層或防污層作為前述機能層。
與本發明之第11態樣有關的顯示裝置，其具備如上述第8態樣至第10態樣中任一態樣記載的光學薄膜。
與本發明之第12態樣有關的著色層形成用組成物，係本發明之第一態樣含有色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、及溶劑(D)的著色組成物。 色素(A)係至少含有第一色材、第二色材與與第三色材中的一個色材：該第一色材係吸收最大波長在470～530nm之第一範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～45nm；該第二色材係吸收最大波長在560～620nm之第二範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～55nm；該第三色材在380～780nm的波長範圍中，穿透率最低的波長係在650nm以上780nm以下的第三範圍內。 該著色組成物僅在第一範圍、第二範圍、及第三範圍中的一個範圍內最小穿透率係1%以上且低於50%。 活性能量線硬化性樹脂(B)含有具有胺結構的樹脂。
與本發明之第13態樣有關的著色層形成用組成物，可係在上述第12態樣中，前述活性能量線硬化性樹脂(B)係包含下述式(1)所示之結構單元的聚合物。
Figure 02_image005
[在式(1)中，R 1表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 2表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
Figure 111130891-001
烷環。]
與本發明之第14態樣有關的著色層形成用組成物，可係在上述第12態樣中，前述活性能量線硬化性樹脂(B)進一步含有包含下述式(2)所示之結構單元的聚合物。
Figure 02_image007
[在式(2)中，R 3表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 4表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
Figure 111130891-001
烷環。]
與本發明之第15態樣有關的著色層形成用組成物，可係在上述第12態樣至第14態樣的任一態樣中，進一步含有添加劑(E)，該添加劑(E)包含選自自由基捕獲劑、過氧化物分解劑、及單線態氧淬滅劑的一種以上。 與本發明之第16態樣有關的著色層形成用組成物，可係在上述第15態樣中，前述單線態氧淬滅劑係磷酸二烷基酯、二硫代胺基甲酸二烷基酯、或苯二硫醇、及該等的過渡金屬錯合物。 在與本發明之第17態樣有關的著色層形成用組成物中，其在上述第12態樣至第16態樣的任一態樣係前述色素(A)含有一種以上選自於由具有以下任一結構的化合物及其金屬錯合物構成之群組的化合物：卟啉結構、部花青素結構、酞青結構、偶氮結構、靛青結構、方酸結構、香豆素結構、多烯結構、醌結構、四氮雜卟啉結構、吡咯亞甲基結構及靛藍結構。
與本發明之第18態樣有關的光學薄膜係具有：著色層、位於著色層之其中一面的透明基材、以及位於著色層之其中一面或另一面的機能層的光學薄膜；其中，該著色層係與上述第12態樣至第17態樣中任一態樣有關的著色層形成用組成物的硬化物。 透明基材及機能層之一者或兩者係按照JIS L1925記載之方法所測定的紫外線遮蔽率為85%以上。 機能層係作為抗反射層或防眩層而發揮功能。 與本發明之第19態樣有關的光學薄膜可在上述第18態樣中進一步具有氧穿透度係10cm 3/(m 2・day・atm)以下的氧障壁層作為前述機能層。 與本發明之第20態樣有關的光學薄膜可係在上述第18態樣或第19態樣中，進一步具有抗靜電層或防污層來作為前述機能層。 與本發明之第21態樣有關的顯示裝置係具備如上述第18態樣至第20態樣中任一態樣記載的光學薄膜。 [發明之效果]
依據本發明上述第1至第11態樣，能提供一種著色層形成用組成物、光學薄膜及顯示裝置，該著色層形成用組成物可使耐光性及耐熱性提升並兼顧反射抑制與亮度效率、能使顯示品質提升、能使發光元件長壽化，並能夠提升色彩再現性。
此外，依據本發明上述第12至第21態樣，能提供一種著色層形成用組成物、光學薄膜及顯示裝置，該著色層形成用組成物的色彩校正機能良好，並且能夠形成可耐受長期間使用的著色層。
[用以實施發明的形態]
於以下參照附加圖式，針對本發明之實施形態進行說明。在全部圖式中，即便實施形態不同的情況，對於相同或相當的構件也是附上相同的符號，並省略共通的說明。
[光學薄膜] 以下基於圖1，針對與本發明第1實施形態有關的光學薄膜詳細地進行說明。
如圖1所示，光學薄膜1具有：著色層10、透明基材20、及機能層30。機能層30具有：低折射率層31與硬塗層32。亦即，光學薄膜1係一積層體，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20，且依序積層有著色層10、透明基材20、硬塗層32、及低折射率層31。
光學薄膜1的厚度，例如：較佳係10～140μm，更佳係15～120μm，進一步較佳係20～100μm。光學薄膜1的厚度若為上述下限值以上，則可更提高光學薄膜1的強度。光學薄膜1的厚度若為上述上限值以下，則不僅能使光學薄膜1更輕量，並且有利於顯示裝置的薄型化。 以下針對構成光學薄膜1的各層進行說明。
＜＜著色層＞＞ 著色層10係本發明著色層形成用組成物的硬化物。本發明之著色層形成用組成物含有：色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、及溶劑(D)。本發明之著色層形成用組成物可進一步含有添加劑(E)。
著色層10的厚度，例如較佳為0.5～10μm。著色層10的厚度若為上述下限值以上，則能夠不使著色層10的外觀發生異常而含有色素，且能透過色素的吸光性而使反射特性及色彩再現性提升。著色層10的厚度若為上述上限值以下，則有利於顯示裝置的薄型化。 著色層10的厚度係利用顯微鏡等觀察光學薄膜1的厚度方向的截面而藉以求得。
＜色素(A)＞ 本發明之上述第1～第11態樣的著色層形成用組成物中的色素(A)至少含有第一色材、與第二色材。 第一色材的吸收最大波長在470～530nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～45nm。吸收最大波長若低於上述下限值，則容易使藍色發光的亮度效率降低，若超過上述上限值，則容易使綠色發光的亮度效率降低。吸光光譜的半高寬若低於上述下限值，則對反射外部光的反射特性進行抑制的效果小，若超過上述上限值，則反射外部光的反射特性雖容易提升，但容易使亮度效率降低。
第二色材的吸收最大波長在560～620nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～55nm。吸收最大波長若低於上述下限值，則容易使綠色發光的亮度效率降低，若超過上述上限值，則容易使紅色發光的亮度效率降低。吸光光譜的半高寬若低於上述下限值，則對反射外部光的反射特性進行抑制的效果小，若超過上述上限值，則反射外部光的反射特性雖容易提升，但容易使亮度效率降低。
色素(A)可進一步含有第一色材及第二色材以外的其它色材。作為其它色材，可列舉第三色材。 第三色材在380～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長係在650～780nm的範圍內。第三色材在380～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長若低於上述下限值，則容易使紅色發光的亮度效率降低，若超過上述上限值，則對於反射外部光的反射特性進行抑制的效果會變小。
本發明上述第1至第11態樣的著色層形成用組成物中的色素(A)包含用以選擇性吸收可見光線波長帶之，以下所示的3種類色材群組中的至少任一個。可包含的色材種類不限定於一種。 第一色材係最大吸收波長在470nm～530nm的第一範圍內並且吸光光譜的半高寬(半高全寬(full width at half maximum))係15nm～45nm。吸收最大波長係若低於上述下限值，則容易使藍色發光的亮度效率降低，若超過上述上限值，則容易使綠色發光的亮度效率降低。吸光光譜的半高寬係若低於上述下限值，則對反射外部光的反射特性進行抑制的效果小，若超過上述上限值，則反射外部光的反射特性雖容易提升，但容易使亮度效率降低。 第二色材係最大吸收波長在560nm～620nm的第二範圍內，且吸光光譜的半高寬係15nm～55nm。吸收最大波長係若低於上述下限值，則容易使綠色發光的亮度效率降低，若超過上述上限值，則容易使紅色發光的亮度效率降低。吸光光譜的半高寬若低於上述下限值，則對反射外部光的反射特性進行抑制的效果小，若超過上述上限值，則反射外部光的反射特性雖容易提升，但容易使亮度效率降低。 第三色材係在380～780nm之波長範圍中穿透率最低的波長係在650～780nm的第三範圍內。 著色層10係僅在上述第一範圍、第二範圍、及第三範圍的任一個範圍中，有著穿透率係1%以上且低於50%的最大吸收波長。 藉由使用有著上述吸收特性的色材來作為著色層10含有的第一色材至第三色材，而可使得著色層10吸收顯示裝置發光的可見光線之中，發光強度相對低的波長區域的可見光線。
色素(A)較佳含有具有以下任一結構的化合物、或其金屬錯合物：卟啉結構、部花青素結構、酞青結構、偶氮結構、靛青結構、方酸結構、香豆素結構、多烯結構、醌結構、四氮雜卟啉結構、吡咯亞甲基結構、靛藍結構。特別是使用具卟啉結構或吡咯亞甲基結構、酞青結構的金屬錯合物、或是使用具有方酸結構的化合物，因可靠性優良而係更佳。色素(A)可單獨含有1種該等化合物或其金屬錯合物，亦可含有2種以上。該等化合物或其金屬錯合物可包含於第一色材，可包含於第二色材，可包含於第三色材，亦可包含於該等色材中的2種以上。
＜活性能量線硬化性樹脂(B)＞ 活性能量線硬化性樹脂(B)係透過照射紫外線、電子束等活性能量線而進行聚合並硬化的樹脂。例如：能使用單官能、2官能或3官能以上的(甲基)丙烯酸酯單體、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等，但就本發明之活性能量線硬化性樹脂(B)而言，至少包含具有捕獲自由基之能力(自由基捕獲能力)的樹脂。於此處，所謂「(甲基)丙烯酸酯」，意指「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」之兩者或任一者。 就活性能量線硬化性樹脂(B)含有之具自由基捕獲能力的樹脂而言，可列舉具有胺結構的樹脂。於此處，所謂「胺結構」係稱經以烴基或芳香族原子團取代了氨之氫原子的結構。就胺結構而言，可列舉一級胺、二級胺、三級胺，亦可係四級銨陽離子。
具有自由基捕獲能力的樹脂會捕獲色素(A)進行氧化劣化時的自由基，有著抑制自動氧化的作用，並且抑制色素劣化(褪色)。就具有自由基捕獲能力之具有胺結構的樹脂而言，可列舉：分子量2000以上之具有受阻胺結構的樹脂。具有受阻胺結構的樹脂之分子量若係2000以上，則可獲得高的褪色抑制效果。這認為是因為留滯在著色層10內的分子多，而可獲得充分的褪色抑制效果。 具有受阻胺結構的樹脂其分子量的上限值未被特別限定，可列舉，例如：5萬。 在本說明書中，所謂「分子量」意指利用凝膠滲透層析術(GPC)以聚苯乙烯作為標準物質所測定的「質量平均分子量」。
作為具有自由基捕獲能力之具有胺結構的樹脂而言，較佳係為包含下述式(1)所示之結構單元的聚合物。
Figure 02_image009
在式(1)中，R 1表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 2表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
Figure 111130891-001
烷環。
就R 1來說較佳係氫原子、羥基、碳數10以下的烷基。就烷基的碳數而言，較佳係1～6，更佳係1～3。 就R 2來說較佳係氫原子、碳數10以下的烷基。就烷基的碳數而言，較佳係1～6，更佳係1～3。 就X而言，較佳係單鍵或碳數30以下的脂肪族烷基鏈。就脂肪族烷基鏈的碳數而言，較佳係10以下，較佳係1～6，更佳係2～4。
此外，具有自由基捕獲能力之具有胺結構的樹脂係定為以下述共聚物作為主要成分(成分之中質量%係最多者)：式(1)所示之結構單元、與具有以下記述之任一重複單元之共聚成分的共聚物。因為係共聚物而能夠控制與其它成分的相容性。
就重複單元而言，可列舉，例如：(甲基)丙烯酸酯系重複單元、烯烴系重複單元、含鹵素原子的重複單元、苯乙烯系重複單元、乙酸乙烯酯系重複單元、乙烯醇系重複單元等。
就(甲基)丙烯酸酯系重複單元而言，可列舉，例如：於側鏈具有直鏈或分枝烷基之源自(甲基)丙烯酸酯系單體的重複單元、於側鏈具有羥基之源自(甲基)丙烯酸酯系單體的重複單元等。
就上述於側鏈具有直鏈或分枝烷基之源自(甲基)丙烯酸酯系單體的重複單元而言，可列舉，例如：源自(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯等單體的成分。該等可單獨或併用2種以上。在上述之中，能夠合適地使用於側鏈具有碳數1以上4以下之直鏈或分枝烷基的(甲基)丙烯酸酯系重複單元。
就上述於側鏈具有羥基之源自(甲基)丙烯酸系單體的重複單元而言，可列舉，例如：源自(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸羥苯酯等單體的成分。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
就烯烴系重複單元而言，可列舉，例如：源自乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯等烯烴系單體的成分。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
就含鹵素原子的重複單元而言，可列舉，例如：源自氯乙烯、偏二氯乙烯等單體的成分。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
就苯乙烯系重複單元而言，可列舉，例如：源自苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等苯乙烯系單體的成分。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。 就乙酸乙烯酯系重複單元而言，可列舉，例如：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等飽和羧酸與乙烯醇的酯體。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。 就乙烯醇系重複單元而言，可列舉，例如：乙烯醇，亦可於側鏈具有1,2-乙二醇鍵(1,2-glycol bond)。
共聚物可具有以下的任一結構：無規共聚物、交替共聚物、嵌段共聚物、及接枝共聚物。共聚物的結構若係無規共聚物的話，製造步驟及與其它成分的製備係容易的。因此無規共聚物較其它共聚物為佳。
在用以獲得共聚物的聚合方法來說，能使用自由基聚合。基於容易工業性生產之觀點，自由基聚合係較佳。自由基聚合可係溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、及懸浮聚合法等。在自由基聚合來說，較佳係使用溶液聚合法。透過使用溶液聚合法而容易控制共聚物中的分子量。
在自由基聚合來說，可透過聚合溶劑稀釋過上述單體後，添加聚合起始劑而進行單體的聚合。 聚合溶劑，可係例如：酯系溶劑、醇醚系溶劑、酮系溶劑、芳香族系溶劑、醯胺系溶劑、及醇系溶劑等。酯系溶劑，可係例如：乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸三級丁酯、乳酸甲酯、及乳酸乙酯等。醇醚系溶劑，可係例如：乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚、3-甲氧基-1-丁醇、及3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇等。酮系溶劑，可係例如：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、及環己酮等。芳香族系溶劑，可係例如：苯、甲苯、及二甲苯等。醯胺系溶劑，可係例如：甲醯胺、及二甲基甲醯胺等。醇系溶劑，可係例如：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、二級丁醇、三級丁醇、二丙酮醇、及2-甲基-2-丁醇等。再者，在上述之聚合溶劑中，可以單獨使用1種，亦可混合2種以上而使用。
自由基聚合起始劑，可係例如：過氧化物及偶氮化合物等。過氧化物，可係例如：苯甲醯基過氧化物、過氧乙酸三級丁酯、過氧苯甲酸三級丁酯、及二-三級丁基過氧化物等。偶氮化合物，可係例如：偶氮雙異丁腈、偶氮雙脒基丙烷鹽、偶氮雙氰戊酸(鹽)、及2,2’-偶氮雙[2-甲基-N-(2-羥乙基)丙醯胺]等。
當具有自由基捕獲能力之具有胺結構的樹脂係包含式(1)所示之結構單元的聚合物時，相對於構成活性能量線硬化性樹脂(B)之單體的總莫耳量，式(1)所示之結構單元的含量，較佳係1～100莫耳%，更佳係35～100莫耳%。式(1)所示之結構單元的含量若在上述數值範圍內，則色素(A)的耐光性及耐熱性提升且容易抑制褪色。
活性能量線硬化性樹脂(B)可進一步含有包含下述式(2)所示之結構單元的聚合物。
Figure 02_image011
在式(2)中，R 3表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 4表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
Figure 111130891-001
烷環。
就R 3來說，較佳係氫原子、羥基、碳數10以下的烷基。就烷基的碳數而言，較佳係1～6，更佳係1～3。 就R 4來說較佳係氫原子、碳數10以下的烷基。就烷基的碳數而言，較佳係1～6，更佳係1～3。 就X而言，較佳係單鍵或碳數30以下的脂肪族烷基鏈。就脂肪族烷基鏈的碳數而言，較佳係10以下，較佳係1～6，更佳係2～4。
在本實施形態中，包含式(2)所示之結構單元的聚合物亦可係共聚物，其係和不同於式(2)所示之結構單元之單體的共聚物。藉著作成共聚物而能夠控制與其它成分的相容性。
就共聚成分而言，可例示具有以下任一重複單元者：上述之(甲基)丙烯酸酯系重複單元、烯烴系重複單元、含鹵素原子的重複單元、苯乙烯系重複單元、乙酸乙烯酯系重複單元、乙烯醇系重複單元。
共聚物可具有以下任一結構：無規共聚物、交替共聚物、嵌段共聚物、及接枝共聚物。共聚物的結構若係無規共聚物的話，製造步驟及與其它成分的製備係容易的。因此，無規共聚物較其它共聚物為佳。
在用以獲得共聚物的聚合方法來說，能夠使用自由基聚合。自由基聚合係基於工業性生產容易之觀點而為較佳。自由基聚合可係溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、及懸浮聚合法等。在自由基聚合來說，較佳係使用溶液聚合法。藉著使用溶液聚合法而容易控制共聚物中的分子量。
在自由基聚合來說，可透過聚合溶劑稀釋了上述單體後，添加聚合起始劑而進行單體的聚合。 聚合溶劑，可係例如：酯系溶劑、醇醚系溶劑、酮系溶劑、芳香族系溶劑、醯胺系溶劑、及醇系溶劑等。酯系溶劑，可係例如：乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸三級丁酯、乳酸甲酯、及乳酸乙酯等。醇醚系溶劑，可係例如：乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚、3-甲氧基-1-丁醇、及3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇等。酮系溶劑，可係例如：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、及環己酮等。芳香族系溶劑，可係例如：苯、甲苯、及二甲苯等。醯胺系溶劑，可係例如：甲醯胺、及二甲基甲醯胺等。醇系溶劑，可係例如：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、二級丁醇、三級丁醇、二丙酮醇、及2-甲基-2-丁醇等。再者，在上述之聚合溶劑中，可以單獨使用1種，亦可混合2種以上而使用。
自由基聚合起始劑，可係例如：過氧化物及偶氮化合物等。過氧化物，可係例如：苯甲醯基過氧化物、過氧乙酸三級丁酯、過氧苯甲酸三級丁酯、及二-三級丁基過氧化物等。偶氮化合物，可係例如：偶氮雙異丁腈、偶氮雙脒基丙烷鹽、偶氮雙氰戊酸(鹽)、及2,2’-偶氮雙[2-甲基-N-(2-羥乙基)丙醯胺]等。
當把單體的合計設定為100質量份時，自由基聚合起始劑的使用量較佳係0.0001質量份以上20質量份以下，更佳係0.001質量份以上15質量份以下，進一步較佳係0.005質量份以上10質量份以下。自由基聚合起始劑可在聚合起始前對單體及聚合溶劑添加，亦可滴下至聚合反應系統中。對於單體及聚合溶劑將自由基聚合起始劑滴下至聚合反應系統中，這樣在能夠抑制聚合造成的散熱之觀點上為較佳。
自由基聚合的反應溫度係依自由基聚合起始劑及聚合溶劑的種類來適宜選擇。從製造上的容易性、及反應控制性的觀點來看，反應溫度較佳係60℃以上110℃以下。
當活性能量線硬化性樹脂(B)含有包含式(2)所示之結構單元的聚合物時，相對於構成活性能量線硬化性樹脂(B)之單體的總莫耳量，式(2)所示之結構單元的含量較佳係1～50莫耳%，更佳係1～30莫耳%。式(2)所示之結構單元的含量若係上述數值範圍內，則色素(A)的耐光性及耐熱性提升並且容易抑制褪色。
此外，就活性能量線硬化性樹脂(B)可含有的單官能(甲基)丙烯酸酯化合物之例而言，可列舉：(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、丙烯醯基
Figure 111130891-002
啉、N-乙烯基吡咯啶酮、丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-3甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基酯、環氧乙烷改性(甲基)丙烯酸苯氧基酯、環氧丙烷改性(甲基)丙烯酸苯氧基酯、壬基酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性壬基酚(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性壬基酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥丙基苯二甲酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基苯二甲酸氫酯(2-(meth)acryloyloxy ethyl hydrogen phthalate)、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基苯二甲酸氫酯、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基六氫苯二甲酸氫酯、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基四氫苯二甲酸氫酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、衍生自2-金剛烷、金剛烷二醇之一價之具有單(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸金剛烷酯等金剛烷衍生物單(甲基)丙烯酸酯等。於此處，「(甲基)丙烯醯基」意指「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」兩者或任一者。
此外，活性能量線硬化性樹脂(B)可含有的2官能(甲基)丙烯酸酯化合物，就其例子而言，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯等。
此外，活性能量線硬化性樹脂(B)可含之3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物，就其例子而言，可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、參-2-羥乙基三聚異氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物、或新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、及經以烷基或ε-己內酯取代了該等(甲基)丙烯酸酯之一部分的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
此外，亦能夠使用胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯來作為活性能量線硬化性樹脂(B)可包含的樹脂。就胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯而言，可列舉，例如：使具羥基的(甲基)丙烯酸酯單體與以下產物反應所獲得者：使異氰酸酯單體、或者預聚物對聚酯多元醇反應所獲得的產物。
就胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之例而言，可列舉：新戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二新戊四醇五丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、新戊四醇三丙烯酸酯甲苯二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二新戊四醇五丙烯酸酯甲苯二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、新戊四醇三丙烯酸酯異佛爾酮二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、二新戊四醇五丙烯酸酯異佛爾酮二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物等。
上述其它活性能量線硬化性樹脂(B)可含有之單官能、2官能或3官能以上之(甲基)丙烯酸酯單體、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等，可單獨使用1種，亦可併用2種以上。此外，亦可係一部分已聚合的寡聚物。
相對於著色層形成用組成物的總質量，活性能量線硬化性樹脂(B)的含量較佳係20～80質量%，更佳係30～70質量%。活性能量線硬化性樹脂(B)的含量若為上述下限值以上，則可更提高褪色抑制效果。活性能量線硬化性樹脂(B)的含量若為上述上限值以下，則可更提高著色層形成用組成物的操作性。
＜光聚合起始劑(C)＞ 例如：當使用紫外線來作為活性能量線的情況，光聚合起始劑(C)在照射了紫外線之際會產生自由基。 就光聚合起始劑(C)而言，可列舉，例如：苯偶姻類(苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚等苯偶姻烷基醚類等)、苯基酮類[可列舉，例如：苯乙酮類(例如：苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1,1-二氯苯乙酮等)、2-羥基-2-甲基苯丙酮等烷基苯基酮類；1-羥基環己基苯基酮等環烷基苯基酮類等]、胺基苯乙酮類｛2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-
Figure 111130891-002
啉基胺基丙酮-1、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-
Figure 111130891-002
啉基苯基)-丁酮-1等｝、蒽醌類(蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-三級丁基蒽醌、1-氯蒽醌等)、9-氧硫𠮿
Figure 111130891-003
類(2,4-二甲基-9-氧硫𠮿
Figure 111130891-003
、2,4-二乙基-9-氧硫𠮿
Figure 111130891-003
、2-氯-9-氧硫𠮿
Figure 111130891-003
、2,4-二異丙基-9-氧硫𠮿
Figure 111130891-003
等)、縮酮類(苯乙酮二甲基縮酮、苄基二甲基縮酮等)、二苯甲酮類(二苯甲酮等)、𠮿酮類、膦氧化物類(例如：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物等)等。該等光聚合起始劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
相對於著色層形成用組成物的固體成分，光聚合起始劑(C)的含量較佳係0.01～20質量%，更佳係0.01～5質量%。光聚合起始劑(C)的含量若低於上述下限值，則硬化性不足。光聚合起始劑(C)的含量若超過上述上限值，則會殘留未反應的光聚合起始劑(C)，並且耐熱性等可靠性會惡化。
＜溶劑(D)＞ 就溶劑(D)而言，可列舉醚類、酮類、酯類、賽珞蘇類等。就醚類而言，可列舉，例如：二丁基醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、環氧丙烷、1,4-二
Figure 111130891-001
烷、1,3-二氧雜環戊烷(1,3-dioxolane)、1,3,5-三
Figure 111130891-001
𠮿、四氫呋喃、苯甲醚或苯乙醚等。就酮類而言，可列舉，例如：丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、甲基環己酮或乙基環己酮等。就酯類而言，可列舉，例如：甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯及γ-丁內酯等。就賽珞蘇類而言，可列舉，例如：甲基賽珞蘇、賽珞蘇(乙基賽珞蘇)、丁基賽珞蘇或賽珞蘇乙酸酯(cellosolve acetate)等。溶劑(D)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
相對於著色層形成用組成物的總質量，溶劑(D)的含量較佳係20～80質量%，更佳係30～70質量%。溶劑(D)的含量若為上述下限值以上，則可更提高著色層形成用組成物的操作性。溶劑(D)的含量若為上述上限值以下，則能夠縮短用以形成著色層的時間。
＜添加劑(E)＞ 就添加劑(E)而言，可列舉一種以上選自自由基捕獲劑、過氧化物分解劑及單線態氧淬滅劑的添加劑。 就自由基捕獲劑而言，可列舉，例如：4-異丙基胺基二苯基胺、N-苯基-1-萘胺、1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基甲基丙烯酸酯等受阻胺系光穩定劑、2,6-二-三級丁基-對甲酚、6,6’-二-三級丁基-4,4’-亞丁基二-間甲酚(6,6’-di-tert-butyl-4,4’- butylidenedi-m-cresol)等酚系抗氧化劑等。 就過氧化物分解劑而言，可列舉，例如：3,3’-硫代二丙酸雙十三烷基酯、2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并咪唑等硫系抗氧化劑、亞磷酸參(壬基苯基)酯、亞磷酸-2-乙基己基二苯基酯等亞磷酸酯系抗氧化劑等。 就單線態氧淬滅劑而言，可列舉，例如：磷酸二烷基酯、二硫代胺基甲酸二烷基酯、苯二硫醇或者與其類似的二硫醇的過渡金屬錯合物。 添加劑(E)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
此外，在添加劑(E)來說，亦可使用流平劑、消泡劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、光敏劑、導電材料等來作為其它的添加劑。
相對於著色層形成用組成物的固體成分，添加劑(E)的含量較佳係0.1～20質量%，更佳係0.1～15質量%。添加劑(E)的含量若低於上述下限值，則色素(A)不表現在耐光性、耐熱性的褪色抑制效果。添加劑(E)的含量若超過上述上限值，則伴隨著添加劑(E)造成的硬化阻礙及硬化成分的減少，容易發生硬化不足。
著色層10藉著含有本發明之著色層形成用組成物，而使耐光性及耐熱性提升，並且在上述第1至第11態樣來說，能兼顧反射抑制與亮度效率、能提升顯示品質、能使發光元件長壽化，並且能夠提升色彩再現性。 此外，在第12至第21態樣來說，能夠使得色彩校正機能持續長時間。
＜＜透明基材＞＞ 透明基材20係位於著色層10的其中一面，且係形成光學薄膜1的片材狀構件。 就透明基材20的材質而言，能夠採用具有透光性的樹脂薄膜。 就透明基材20的形成材料而言，能夠使用透明樹脂或無機玻璃。就透明樹脂而言，可列舉，例如：聚烯烴、聚酯、聚丙烯酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚芳酯、聚碳酸酯、三醋酸纖維素、聚乙烯醇、聚氯乙烯、環烯烴共聚物、含降莰烯(norbornene)的樹脂、聚醚碸、聚碸等。就聚烯烴而言，可列舉，例如：聚乙烯、聚丙烯等。就聚酯而言，可列舉，例如：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等。就聚丙烯酸酯而言，可列舉，例如：聚甲基丙烯酸甲酯等。就聚醯胺而言，可列舉，例如：耐綸6、耐綸66等。其中能夠合適地利用由聚對苯二甲酸乙二酯構成的薄膜(PET)、由三醋酸纖維素構成的薄膜(TAC)、由聚甲基丙烯酸甲酯構成的薄膜(PMMA)、由除PET外之聚酯構成的薄膜。 透明基材20的厚度，不被特別限定，但較佳例如係：10～100μm。 就透明基材20的穿透率而言，例如：較佳係90%以上。
亦可對透明基材20賦予紫外線吸收能力。可藉著將紫外線吸收劑添加至成為透明基材20原料的樹脂，而對透明基材20賦予紫外線吸收能力。
就紫外線吸收劑而言，可列舉，例如：水楊酸酯系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、苯并三
Figure 111130891-004
系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等。 該等紫外線吸收劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
對透明基材20賦予紫外線吸收能力時，紫外線遮蔽率較佳係85%以上。於此處，紫外線遮蔽率係依據JIS L1925所測定的值，透過下述式(I)所算出。 紫外線遮蔽率(%)=100-波長290～400nm之紫外線的平均穿透率(%)・・・(I) 當紫外線遮蔽率低於85%的情況，色素(A)在耐光性的褪色抑制效果會變低。
於圖11顯示已賦予過紫外線吸收能力之聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三醋酸纖維素(TAC)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)的光線穿透輪廓曲線。於圖11之光線穿透輪廓曲線顯示之透明基材的紫外線遮蔽率係如以下，任一者均能夠合適地使用來作為本發明的透明基材20。
＜＜機能層＞＞ 機能層30係位於著色層10的其中一面或另一面。光學薄膜藉著具有機能層30而能夠發揮種種機能。 就機能層30的機能而言，可列舉：抗反射機能、防眩機能、氧障壁機能、抗靜電機能、防污機能、強化機能、紫外線吸收機能(紫外線吸收能力)等。 機能層30可係單層，亦可係多個層。機能層30可具有1種機能，亦可具有2種以上的機能。
當光學薄膜1具有抗反射機能時，機能層30係作為抗反射層而發揮功能。就抗反射層而言，可列舉較後述硬塗層32及防眩層34、透明基材20呈現更低折射率的低折射率層31。低折射率層31能夠藉著於機能層採用材質的折射率低於硬塗層32及防眩層34、透明基材20的材質而形成。 為了調整低折射率層31的折射率，亦可摻合氟化鋰(LiF)、氟化鎂(MgF 2)、六氟鋁酸鈉(hexafluoroaluminiumsodium)(冰晶石、cryolite、3NaF・AlF 3、Na 3AlF 6)、氟化鋁(AlF 3)等微粒子、及氧化矽微粒子等。就氧化矽微粒子而言，使用多孔質氧化矽微粒子或中空氧化矽微粒子等於粒子內部具有空隙的粒子，對於低折射率層31的低折射率化係有效的。此外，在形成低折射率層31的組成物(低折射率層形成用組成物)來說，亦可適宜摻合在著色層10說明過的光聚合起始劑(C)及溶劑(D)、添加劑(E)。 低折射率層31的折射率較佳係定為1.20～1.55。 低折射率層31的厚度，不被特別限定，但例如：較佳係40nm～1μm。
當光學薄膜1具有防眩機能時，機能層30係作為防眩層34而發揮功能。 防眩層34係於表面具有微細的凹凸，並且透過該凹凸而散射外部光，抑制反射而使顯示品質提升的層。當與低折射率層31組合時，係以低折射率層31與防眩層34來構成抗反射層。 因應需要在防眩層34包含一種以上選自有機微粒子及無機微粒子的粒子。有機微粒子係於表面形成微細的凹凸，並會賦予散射外部光之機能的材料。就有機微粒子而言，可列舉，例如：由下述透光性樹脂材料構成的樹脂粒子：丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚乙烯樹脂、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、聚偏二氟乙烯、聚氟乙烯(polyfluoroethyhlene)系樹脂等。為了調整折射率及樹脂粒子的分散性，亦可混合2種類以上材質(折射率)不同的樹脂粒子來使用。 無機微粒子係調整有機微粒子的沉澱及凝聚的材料。就無機微粒子而言，能夠使用例如：氧化矽微粒子、及金屬氧化物微粒子、各種礦物微粒子等。就氧化矽微粒子而言，例如：能夠使用膠體氧化矽及已以(甲基)丙烯醯基等反應性官能基進行過表面修飾的氧化矽微粒子等。就金屬氧化物微粒子而言，能夠使用例如：氧化鋁(aluminium oxide，alumina)及氧化鋅、氧化錫、氧化銻、氧化銦、氧化鈦(二氧化鈦)、氧化鋯(二氧化鋯)等。就礦物微粒子而言，能夠使用例如：雲母、合成雲母、蛭石、蒙脫石(montmorillonite)、鐵蒙脫石、膨潤土(bentonite)、鋁膨潤石(beidellite)、鎂膨潤石(saponite)、鋰膨潤石(hectorite)、矽鎂石(stevensite)、鐵膨潤石(nontronite)、天然矽酸鈉(magadiite)、愛伊拉石(irilite)、水矽鈉石(kanemite)、層狀鈦酸、膨潤石(smectite)、合成膨潤石等。礦物微粒子可係天然物及合成物(包含取代物、衍生物)的任一者，亦可使用兩者的混合物。礦物微粒子之中以層狀有機黏土係更佳。 所謂層狀有機黏土係稱在膨潤性黏土的層間導入了有機鎓離子者。有機鎓離子係能夠利用膨潤性黏土的陽離子交換性而進行有機化者的話，不受限制。當使用層狀有機黏土礦物來作為礦物微粒子的情況，能夠合適地使用上述合成膨潤石。合成膨潤石係具有下述機能：使用來形成防眩層之塗敷液的黏性增加，並抑制樹脂粒子及無機微粒子的沉澱，而調整防眩層34(機能層30)表面的凹凸形狀。
當光學薄膜1具有氧障壁機能之情況，機能層30係作為氧障壁層33而發揮功能。氧障壁層33的氧穿透度係10cm 3/(m 2・day・atm)以下，較佳係5cm 3/(m 2・day・atm)以下，更佳係1cm 3/(m 2・day・atm)以下。氧障壁層33的氧穿透度若為上述上限值以下，則能夠對機能層30賦予充分的氧障壁機能。氧障壁層33之氧穿透度的下限值未被特別限定，可為0cm 3/(m 2・day・atm)。 氧障壁層33的氧穿透度係使用氧穿透度測定裝置，以30℃、相對濕度60%的條件下所測定的值。
當光學薄膜1具有抗靜電機能之情況，機能層30係作為抗靜電層而發揮功能。就抗靜電層而言，可列舉，含有下述抗靜電劑的層，例如：摻雜了銻的氧化錫(ATO)、摻雜了錫的氧化銦(ITO)等金屬氧化物微粒子、高分子型導電性組成物、4級銨鹽等。 抗靜電層可設置於機能層30的最表面，亦可設置於機能層30與透明基材20之間。或者亦可藉著將抗靜電劑摻合至構成上述機能層30的任一個層，而形成抗靜電層。當設置抗靜電層之情況，光學薄膜的表面電阻值較佳係1.0×10 6～1.0×10 12(Ω/cm)。
當光學薄膜1具有防污機能之情況，機能層30係作為防污層而發揮功能。防污層係藉著賦予撥水性及撥油性之兩者或任一者而提高防污性。就防污層而言，可列舉含有下述防污劑的層：氧化矽、含氟的矽烷化合物、氟烷基矽氮烷、氟烷基矽烷、含氟的矽系化合物、含全氟聚醚基的矽烷耦合劑等。 防污層可設置於機能層30的最表面，亦可藉著將防污劑摻合至上述機能層30之中成為最表面的層，而形成防污層。
當光學薄膜1具有強化機能之情況，機能層30係作為強化層而發揮功能。強化層係提高光學薄膜強度的層。就強化層而言，可列舉，例如：硬塗層32。就硬塗層32而言，可列舉，例如：以包含單官能、2官能或3官能以上之(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的硬塗劑所形成的層。
當光學薄膜1具有紫外線吸收能力之情況，機能層30係作為紫外線吸收層而發揮功能。就紫外線吸收層而言，可列舉含有以下紫外線吸收劑的層，例如：2-(4,6-二苯基-1,3,5-三
Figure 111130891-004
-2-基)-5-己氧基酚等三
Figure 111130891-004
系、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-甲基酚等苯并三唑系。 相對於形成紫外線吸收層之材料的總質量，紫外線吸收劑的含量較佳係0.1～5質量%。紫外線吸收劑的含量若為上述下限值以上，則能夠對機能層30賦予充分的紫外線吸收能力。紫外線吸收劑的含量若為上述上限值以下，則能夠回避硬化成分減少所伴隨的硬度不足。
在光學薄膜1中，透明基材20及機能層30之一者或兩者的紫外線遮蔽率係85%以上，較佳係90%以上，更佳係95%以上，亦可係100%。紫外線遮蔽率若為上述下限值以上，則能夠更提升耐光性及耐熱性。 紫外線遮蔽率能夠按照JIS L1925記載的方法測定。 紫外線遮蔽率能夠透過對透明基材20及機能層30之一者或兩者賦予紫外線吸收能力而調節。
機能層30的厚度，例如：較佳係0.04～25μm，更佳係0.1～20μm，進一步較佳係0.2～15μm。機能層30的厚度若為上述下限值以上，則容易對光學薄膜1賦予種種的機能。機能層30的厚度若為上述上限值以下，則對顯示裝置的薄型化有利。
[光學薄膜之製造方法] 本實施形態之光學薄膜1能夠透過迄今已知的方法而製造。 例如：將著色層形成用組成物塗布於透明基材20的其中一面，並照射活性能量線而將著色層形成用組成物予以硬化而獲得著色層10。 用以照射活性能量線而使著色層形成用組成物硬化，並形成著色層10的光源，係能夠產生活性能量線之光源的話，能夠沒有限制地使用。就活性能量線而言，能夠使用放射線(γ射線、X射線等)、紫外線、可見光線、電子束(EB)等光能量線，大多情況通常係紫外線、電子束。例如：能夠使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、碳弧燈、金屬鹵化物燈、氙燈、無電極放電管等來作為放射紫外線的燈。作為照射條件，紫外線照射量通常係100～1000mJ/cm 2。
其次，將硬塗劑塗布於透明基材20的另一個面，與著色層10同樣照射活性能量線而將硬塗劑予以硬化，藉以獲得硬塗層32。
藉著於硬塗層32上形成低折射率層31，而可獲得機能層30位於透明基材20的另一個面的光學薄膜1。 對於低折射率層31的形成方法沒有限制，能夠使用：將低折射率層形成用組成物塗布於硬塗層32，並照射活性能量線而使硬化的方法、真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍(ion plating)法、離子束法、電漿氣相沉積法(plasma vapor deposition)等。
[其它實施形態] 如圖2所示般，光學薄膜亦可係光學薄膜2，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20，並且依序積層有著色層10、透明基材20、氧障壁層33、硬塗層32、低折射率層31。在光學薄膜2來說，氧障壁層33、硬塗層32、低折射率層31構成了機能層30。 本實施形態之光學薄膜2由於具有氧障壁層33，因此氧障壁性優於光學薄膜1。
如圖3所示般，光學薄膜亦可係光學薄膜3，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20，並且依序積層有著色層10、透明基材20、防眩層34。在光學薄膜3來說防眩層34構成了機能層30。 本實施形態的光學薄膜3由於具有防眩層34，因此反射抑制優良。
如圖4所示般，光學薄膜亦可係光學薄膜4，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20，並且依序積層有著色層10、透明基材20、防眩層34、低折射率層31。在光學薄膜4來說，防眩層34、低折射率層31構成了機能層30。 本實施形態的光學薄膜4由於具有低折射率層31與防眩層34，因此反射抑制更優良。
如圖5所示，光學薄膜亦可係光學薄膜5，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20，及位於著色層10另一個面的機能層30，並且依序積層有透明基材20、著色層10、硬塗層32、低折射率層31。在光學薄膜5來說，硬塗層32、低折射率層31構成了機能層30。 本實施形態的光學薄膜5，於透明基材20其中一面具有著色層10，以及具紫外線吸收機能及抗反射機能的機能層30。
如圖6所示般，光學薄膜亦可係光學薄膜6，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20、以及位於著色層10另一個面的機能層30，並且依序積層有透明基材20、著色層10、氧障壁層33、硬塗層32、低折射率層31。在光學薄膜6來說，氧障壁層33、硬塗層32、低折射率層31構成了機能層30。 本實施形態的光學薄膜6由於具有氧障壁層33，因此氧障壁性優良。
如圖7所示，光學薄膜亦可係光學薄膜7，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20、以及位於著色層10另一個面的機能層30，並且依序積層有透明基材20、著色層10、防眩層34。在光學薄膜7來說，防眩層34構成了機能層30。 本實施形態的光學薄膜7，由於具有防眩層34，因此反射抑制優良。
如圖8所示般，光學薄膜亦可係光學薄膜8，其具有位於著色層10之其中一面的透明基材20、以及位於著色層10另一個面的機能層30，並且依序積層有透明基材20、著色層10、防眩層34、低折射率層31。在光學薄膜8來說，防眩層34、低折射率層31構成了機能層30。 本實施形態的光學薄膜8，由於具有低折射率層31與防眩層34，因此反射抑制更優良。
[顯示裝置] 本發明的顯示裝置具備本發明的光學薄膜。就顯示裝置的具體例而言，可列舉，例如：電視、監視器、行動電話、攜帶型遊戲機器、個人數位助理(personal digital assistant)、個人電腦、電子書、攝影機、數位靜態相機(digital still camera)、頭戴式顯示器、導航系統、放聲系統(sound reproducing system)(汽車音響、數位聲訊播放機等)、複印機、傳真機、印表機、印表機複合機、自動販賣機、自動櫃員機(ATM)、個人識別機器、光通訊機器、IC卡等。其中，可合適地使用於具備以下自發光元件的顯示裝置：因金屬製電極及配線而容易受外部光反射影響的LED、有機EL、無機螢光體、量子點等。
依據本實施形態之光學薄膜的話，由於具有含有本發明著色層形成用組成物的著色層，因此能夠使耐光性及耐熱性提升，並兼顧反射抑制與亮度效率。因此，具備本實施形態之光學薄膜的顯示裝置，能夠提升顯示品質，並能夠使發光元件長壽化。
將本實施形態的光學薄膜應用於顯示裝置時，顯示裝置的反射特性會大幅地變低。此外，在圓偏光板來說，據說穿透率減半，與此相對地是白色顯示穿透特性亦高、亮度效率優良，進一步色彩再現性亦提升，能夠兼顧顯示特性提升與可靠性。 再者，應用了本實施形態之光學薄膜的顯示裝置，白色顯示特性與色彩再現性的平衡優良。此外，可靠性亦優良，因此可耐受長期間使用。
以上參照圖式針對本發明的各實施形態進行了詳述，但具體的構成並非受限於該實施形態，且亦包含不脫離本發明主旨範圍之構成的變更、組合等。
例如：本實施形態之光學薄膜的著色層10的數量量為1個，但著色層的數量亦可係2以上。 在本實施形態的光學薄膜中，紫外線吸收能力可賦予至透明基材20，亦可賦予至硬塗層32等機能層30。 [實施例]
以下，使用上述第1至第11態樣的實施例來進一步詳細地說明本發明，但本發明並非被限定於該等實施例。
[實施例1～8、比較例1～5] 在以下之實施例及比較例來說，製作出表1、表2所示之層構成的光學薄膜A～M。針對製作出的光學薄膜A～M，透過模擬而評價了光學薄膜特性、及在有機EL面板的顯示裝置特性。表中「-」表示不具有該層。
[表1]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8
光學薄膜 光學薄膜A 光學薄膜B 光學薄膜C 光學薄膜D 光學薄膜E 光學薄膜F 光學薄膜G 光學薄膜H
機能層1 低折射率層 低折射率層 低折射率層 - 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層
機能層2 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 防眩層 防眩層 硬塗層2 硬塗層1 硬塗層1
機能層3 - - - - - - 氧障壁層 -
著色層 - - - - - 著色層3 - -
透明基材 TAC TAC TAC TAC TAC PMMA TAC TAC
著色層 著色層1 著色層2 著色層3 著色層3 著色層3 - 著色層3 著色層4
[表2]
比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5
光學薄膜 光學薄膜I 光學薄膜J 光學薄膜K 光學薄膜L 光學薄膜M
機能層1 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層
機能層2 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1
機能層3 - - - - -
著色層 - - - 著色層8 -
透明基材 TAC TAC TAC TAC TAC
著色層 著色層5 著色層6 著色層7 - -
＜＜製作光學薄膜＞＞ 於以下說明各層的形成方法。
[形成著色層] (著色層形成用組成物 使用材料) 就用於形成著色層之著色層形成用組成物的使用材料而言，係使用了以下材料。 再者，色材的吸收最大波長、半高寬、及在規定波長範圍中的最小穿透率波長係在硬化塗膜中的特性值。
＜色素(A)＞ ・第一色材 Dye-1：下述式(3)所示之吡咯亞甲基鈷錯合物染料(吸收最大波長493nm，半高寬26nm)。 ・第二色材 Dye-2：四氮雜卟啉銅錯合物染料(山本化成(股)製，PD-311S，吸收最大波長586nm，半高寬22nm)。 Dye-3：四氮雜卟啉銅錯合物染料(山田化學工業(股)製，FDG-007，吸收最大波長595nm，半高寬22nm)。 ・第三色材 Dye-4：酞青銅錯合物染料(山田化學工業(股)製，FDN-002，在380～780nm中的最小穿透率波長780nm)。
Figure 02_image013
＜活性能量線硬化性樹脂(B)＞ ・樹脂1：式(1)之R 1係CH 3，R 2係CH 3，X係單鍵之，具有胺結構的樹脂(分子量120000)。 ・樹脂2：式(2)之R 3係CH 3，R 4係H，X係單鍵之，具有酚結構的樹脂(分子量51500)。 ・UA-306H：新戊四醇三丙烯酸酯 六亞甲基二異氰酸酯 胺基甲酸酯預聚物(共榮社化學(股)製，UA-306H)。 ・DPHA：二新戊四醇六丙烯酸酯。 ・PETA：新戊四醇三丙烯酸酯。
＜樹脂1的製造例＞ 將2.4g甲基丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯(昭和電工材料(股)製，FA-711MM)、5.6g甲基丙烯酸甲酯(關東化學(股)製)、31g環己酮(關東化學(股)製)、0.11g之2,2‘-偶氮雙(異丁腈)(富士軟片和光純藥(Fujifilm Wako Pure Chemical)(股)製)置入反應容器，於氮氣氣體環境下，於70℃下加熱攪拌了8小時。其後，於100℃下進行1小時加熱攪拌而藉以獲得了聚合物溶液。將該聚合物溶液注入400mL甲醇(關東化學(股)製)中，並把因而產生的析出物進行過濾、乾燥而藉以獲得了以甲基丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯：甲基丙烯酸甲酯=15：85[mоl%]所共聚而成的樹脂1。
＜樹脂2的製造例＞ 將2.4g甲基丙烯酸-4-羥苯酯(昭和電工(股)製，Shonol ARP-029P)、5.6g甲基丙烯酸甲酯(關東化學(股)製)、32g環己酮(關東化學(股)製)、0.11g之2,2‘-偶氮雙(異丁腈)(富士軟片和光純藥(股)製)置入反應容器，於氮氣氣體環境下，於70℃下加熱攪拌了8小時。其後，於100℃下進行1小時加熱攪拌而藉以獲得了聚合物溶液。 將該聚合物溶液注入於400mL甲醇(關東化學(股)製)中，並把因而產生的析出物進行過濾、乾燥而藉以獲得了以甲基丙烯酸-4-羥苯酯：甲基丙烯酸甲酯=19：81[mоl%]所共聚而成的樹脂2。
藉著在100℃下進行1小時的追加加熱攪拌，而能夠使得為起始劑的2,2‘-偶氮雙(異丁腈)完全分解，並能夠抑制因殘存起始劑造成的光學薄膜的劣化。 此外，藉著將聚合物溶液注入至甲醇中，而能夠去除未反應單體及聚合溶媒、起始劑的分解物等，並能夠抑制光學薄膜的劣化。
＜光聚合起始劑(C)＞ ・Omnirad TPO：醯基膦氧化物系光聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製)。
＜溶劑(D)＞ ・MEK：甲基乙基酮。 ・乙酸甲酯：乙酸甲酯。
＜添加劑(E)＞ ・D1781：單線態氧淬滅劑，雙(二丁基二硫代胺甲酸)鎳(II)，製品編號D1781(東京化成工業(股)製)。 ・Tinuvin249：受阻胺系光穩定劑，Tinuvin(註冊商標)249(BASF日本(股)製，分子量482)。 ・AO-60：酚系抗氧化劑，ADK STAB(註冊商標)AO-60(ADEKA(股)製)。 ・Tinuvin479：羥苯基三
Figure 111130891-004
系紫外線吸收劑，Tinuvin(註冊商標)479(BASF日本(股)製)。 ・LA-36：苯并三唑系紫外線吸收劑，ADK STAB(註冊商標)LA-36(ADEKA(股)製)。
(透明基材) 就透明基材而言，使用了下述材料。 ・TAC：三醋酸纖維素薄膜(富士軟片(股)製，TG60UL，基材厚60μm，紫外線遮蔽率92.9%)。 ・PMMA：聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(住友化學(股)製，W002N80，基材厚80μm，紫外線遮蔽率13.9%)。
(形成著色層) 將表3所示之著色層形成用組成物塗布於表1、表2所示之透明基材上，於80℃的烘箱中使乾燥60秒鐘。其後，使用紫外線照射裝置並以照射劑量150mJ/cm 2(Fusion UV systems Japan(股)製，光源H燈泡)來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化，並形成了著色層且使得硬化後的膜厚達5.0μm。 再者，添加量係質量比(質量%)。表中「-」表示不含有該成分。
[表3]
著色層1 著色層2 著色層3 著色層4 著色層5 著色層6 著色層7 著色層8
色素(A) 第1色材 Dye-1
添加量 0.2% 0.2% 0.2% 0.2% 0.2% 0.2% 0.2% 0.2%
第2色材 Dye-2/Dye-3
比率 60/40
添加量 0.5% 0.5% 0.5% 0.4% 0.5%
第3色材 - - - Dye-4 - - - -
添加量 - - - 1.3% - - - -
活性能量線硬化性樹脂(B) 種類 樹脂1/UA-306H/ DPHA/PETA 樹脂1/樹脂2/UA-306H/ DPHA/PETA UA-306H/DPHA/PETA
比率 10/59/17/8 10/20/45/13/6 70/20/10
添加量 47.4% 47.4% 46.7% 45.1% 47.4% 45.9% 46.7% 45.8%
光聚合起始劑(C) 種類 Omnirad TPO
添加量 4.6%
溶劑(D) 種類 MEK/乙酸甲酯
比率 50/50
添加量 50%
添加劑(E) 種類 - - D1781 - Tinuvin 249 AO-60 Tinuvin479 /LA-36
比率 - - 100 - 100 100 40/60
添加量 - - 1.4% - 2.9% 1.4% 3.2%
[形成機能層：氧障壁層] (氧障壁層形成用組成物) ・黏合劑用聚乙烯醇(PVA)系樹脂，Kuraray Poval(註冊商標)PVA-117(可樂麗(kuraray)(股)製)80質量%水溶液。
(形成氧障壁層) 將上述之氧障壁層形成用組成物塗布於表1所示之實施例7的透明基材上，並使乾燥，形成了氧穿透度係1cm 3/(m 2・day・atm)的氧障壁層。
[形成機能層：硬塗層] (硬塗層形成用組成物 使用材料) 使用了下述材料作為使用於形成硬塗層的硬塗層形成用組成物的使用材料。 ・活性能量線硬化性樹脂 UA-306H：新戊四醇三丙烯酸酯 六亞甲基二異氰酸酯 胺基甲酸酯預聚物(共榮社化學(股)製，UA-306H)。 DPHA：二新戊四醇六丙烯酸酯。 PETA：新戊四醇三丙烯酸酯。 ・光聚合起始劑 Omnirad TPO：醯基膦氧化物系光聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製)。 ・添加劑(紫外線(UV)吸收劑) Tinuvin479：羥苯基三
Figure 111130891-004
系紫外線吸收劑，Tinuvin(註冊商標)479(BASF日本(股)製)。 LA-36：苯并三唑系紫外線吸收劑，ADK STAB(註冊商標)LA-36(ADEKA(股)製)。 ・溶劑 MEK：甲基乙基酮。 乙酸甲酯：乙酸甲酯。
(形成硬塗層) 將表4所示之硬塗層形成用組成物塗布於表1、表2所示之透明基材或氧障壁層上，並於80℃的烘箱中使乾燥60秒鐘。其後，使用紫外線照射裝置並以照射劑量150mJ/cm 2(Fusion UV systems Japan(股)製，光源H燈泡)來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化，而形成硬塗層使得硬化後的膜厚達5.0μm。再者，添加量係質量比(質量%)。表中「-」表示不含有該成分。
[表4]
硬塗層1 硬塗層2
活性能量線硬化性樹脂 種類 UA-306H/DPHA/PETA
比率 70/20/10
添加量 45.4% 42.2%
光聚合起始劑 種類 Omnirad TPO
添加量 4.6%
UV吸收劑 種類 - Tinuvin479/ LA-36
比率 - 40/60
添加量 - 3.2%
溶劑 種類 MEK/乙酸甲酯
比率 50/50
添加量 50%
[形成機能層：防眩層] (防眩層形成用組成物) 使用了下述材料來作為使用於形成防眩層的防眩層形成用組成物。 ・活性能量線硬化性樹脂 新戊四醇三丙烯酸酯，LIGHT ACRYLATE PE-3A(共榮社化學(股)製，折射率1.52)43.7質量份。 ・光聚合起始劑 Omnirad TPO(IGM Resins B.V.公司製)4.55質量份。 ・樹脂粒子 苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物粒子(折射率1.515，平均粒徑2.0μm)0.5質量份。 ・無機微粒子 合成膨潤石0.25質量份。 氧化鋁奈米粒子(平均粒徑40nm)1.0質量份。 ・溶劑 甲苯 15質量份。 異丙醇 35質量份。
(形成防眩層) 將上述防眩層形成用組成物塗布於表1所示之透明基材上，於80℃的烘箱中使乾燥60秒鐘。其後，使用紫外線照射裝置並以照射劑量150mJ/cm 2(Fusion UV systems Japan(股)製，光源H燈泡)來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化，形成了防眩層使得硬化後的膜厚達5.0μm。
[形成機能層：低折射率層] (低折射率層形成用組成物) 使用了下述材料來作為使用於形成低折射率層的低折射率層形成用組成物。 ・折射率調整劑 多孔質氧化矽微粒子(平均粒徑75nm、固體成分20%)甲基異丁基酮分散液 8.5質量份。 ・防污賦予劑 Optool(註冊商標)AR-110(DAIKIN工業(股)製，固體成分15%，溶劑：甲基異丁基酮)5.6質量份。 ・活性能量線硬化性樹脂 新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)0.4質量份。 ・光聚合起始劑 Omnirad TPO(IGM Resins B.V.公司製)0.07質量份。 ・流平劑 RS-77(DIC(股)製)1.7質量份。 ・溶劑 甲基異丁基酮 83.73質量份。
(形成低折射率層) 將上述低折射率層形成用組成物塗布於表1、表2所示之硬塗層上或防眩層上，於80℃的烘箱中使乾燥60秒鐘。其後，使用紫外線照射裝置並以照射劑量200mJ/cm 2(Fusion UV systems Japan(股)製，光源H燈泡)來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化，形成了硬化後的膜厚係100nm的低折射率層。
[薄膜特性評價] ＜著色層上的紫外線遮蔽率＞ 當較著色層更上層係透明基材的情況，使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)來將基材測定了穿透率。此外，當著色層來到較基材更上層的情況，係使用依據JIS-K5600-5-6：1999附著性試驗的透明感壓附著膠帶而由著色層剝離上層，並使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)，以黏著膠帶作為參照而測定了著色層上層的穿透率。使用該等穿透率而算出紫外區域(290nm～400nm)的平均穿透率[%]，並把紫外線遮蔽率[%]定為從100%減去紫外區域(290nm～400nm)的平均穿透率[%]之值來算出。
＜耐光性試驗＞ 作為所獲得之光學薄膜的耐光性試驗，使用Xenon耐候試驗機(Xenon weather meter，Suga試驗機股份有限公司製，X75)，以氙燈照度60W/m 2(300nm～400nm)、試驗機內溫度45℃・濕度50%RH條件進行120小時試驗，在試驗前後使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)而進行穿透率測定，算出了在波長範圍470nm～530nm中在試驗前顯示最小穿透率的波長λ1處的試驗前後穿透率差ΔTλ1，並算出了在波長範圍560nm～620nm中在試驗前顯示最小穿透率的波長λ2處的試驗前後穿透率差ΔTλ2。穿透率差越接近零者越良好，較佳係呈｜ΔTλN｜≦20(N=1～3)，進一步較佳係呈｜ΔTλN｜≦10(N=1～3)。
＜耐熱性試驗＞ 於90℃下進行了500小時試驗作為所獲得之光學薄膜的耐熱性試驗，於試驗前後使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)而進行穿透率測定，算出了在波長範圍470nm～530nm中在試驗前顯示最小穿透率的波長λ1處的試驗前後穿透率差ΔTλ1，並算出了在波長範圍560nm～620nm中在試驗前顯示最小穿透率的波長λ2處的試驗前後穿透率差ΔTλ2。穿透率差越接近零者越良好，較佳係呈｜ΔTλN｜≦20(N=1～3)，進一步較佳係呈｜ΔTλN｜≦10(N=1～3)。
[評價顯示裝置特性] ＜白色顯示穿透特性＞ 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)而測定所獲得之光學薄膜的穿透率，並使用該穿透率，算出在白色顯示時穿透光學薄膜之光的效率來作為白色顯示穿透特性而進行評價。係把圖9顯示之光譜的白色有機EL光源與通過彩色濾光片所輸出的白色顯示時之光譜的效率定為100作為基準。越接近100則白色顯示穿透率越高且亮度效率越優良。
＜顯示裝置反射特性＞ 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)而測定了所獲得之光學薄膜的穿透率T(λ)及表面反射率R(λ)。針對表面反射率R(λ)的測定來說，在與機能層最表面為相反側的面上塗布消光黑色染料而進行抗反射的處理，測定入射角5°的分光反射率而定為表面反射率R(λ)。此外，將顯示面板反射率定為40%，且不考慮在其它各層的界面反射及表面反射，在無光學薄膜的狀態下把對於D65光源(CIE(國際照明委員會)標準光源D65)的顯示裝置反射值定為100時，基於下述式(II)算出此時的相對反射值，並定為顯示裝置反射特性而進行評價。顯示裝置反射特性的值越低，則越能減低外部光反射且反射特性越優良。
Figure 02_image015
＜色彩再現性＞ 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)來測定所獲得之光學薄膜的穿透率，測定了圖9所示之光譜之，白色EL光源與通過彩色濾光片所輸出之圖10的紅色顯示、綠色顯示、藍色顯示的光譜。圖9及圖10之圖表的縱軸表示發光強度[a.u.](任意單位：arbitrary unit)。從使用測定到的穿透率與圖10的紅色顯示、綠色顯示、藍色顯示光譜所算出的CIE1931色度值，算出NTSC(美國國家電視標準委員會，National Television System Committee)比，並以NTSC比作為色彩再現性的指標來進行了評價。NTSC比越高則色彩再現性越優良。
於表5、表6顯示著色層上的紫外線遮蔽率、耐光性試驗、耐熱性試驗之結果來作為光學薄膜特性評價。於表5、表6顯示了白色顯示穿透特性、顯示裝置反射特性、色彩再現性的結果來作為顯示裝置特性評價。再者，在使用了不具有著色層之光學薄膜M的比較例5來說，未進行著色層上紫外線遮蔽率的測定、耐光性試驗、耐熱性試驗，因此於表6中以「-」表示。此外，分別於表5、表6顯示：以比較例5中白色顯示穿透特性為基準的白色顯示穿透特性的比例(比較例5比)、以比較例5中之顯示裝置反射特性為基準的顯示裝置反射特性的比例(比較例5比)。
[表5]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8
著色層上 紫外線遮蔽率 92.9% 92.9% 92.9% 92.9% 92.9% 90.5% 92.9% 92.9%
耐光性 ΔTλ1 12.9 9.2 7.1 7.3 7.0 8.5 6.5 7.5
ΔTλ2 2.6 1.9 1.6 1.8 1.5 2.1 1.2 1.5
耐熱性 ΔTλ1 8.7 9.6 8.5 8.5 8.6 8.5 8.1 8.5
ΔTλ2 -0.5 1.0 1.2 1.1 1.0 0.9 0.8 1.2
白色顯示穿透特性 62.8 62.8 61.4 61.4 61.4 62.5 61.3 59.1
  比較例5比 69% 69% 67% 67% 67% 68% 67% 65%
顯示裝置反射特性 15.3 15.3 14.7 14.6 14.7 15.1 14.6 13.6
  比較例5比 45% 45% 43% 43% 43% 45% 43% 40%
色彩再現性 NTSC比 98.5% 98.5% 98.9% 98.9% 98.9% 98.9% 98.9% 97.9%
[表6]
比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5
著色層上 紫外線遮蔽率 92.9% 92.9% 92.9% 7.2% -
耐光性 ΔTλ1 22.1 20.4 20.8 49.1 -
ΔTλ2 4.8 3.8 4.6 29.5 -
耐熱性 ΔTλ1 29.8 25.2 24.6 29.8 -
ΔTλ2 0.3 0.4 0.5 0.3 -
白色顯示穿透特性 62.7 62.3 62.5 62.3 91.4
  比較例5比 69% 68% 68% 68% 100%
顯示裝置反射特性 15.2 15.1 15.1 15.1 33.8
  比較例5比 45% 45% 45% 45% 100%
色彩再現性 NTSC比 98.5% 98.6% 98.6% 98.6% 91.7%
依表5、6的結果，具備使用了本發明之著色層形成用組成物之著色層的光學薄膜(實施例1～8)，其耐光性、耐熱性優良；其中，前述著色層形成用組成物具備：色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、溶劑(D)。具備以下著色層的光學薄膜(實施例3～8)，耐光性進一步優化：進一步添加有單線態氧淬滅劑作為添加劑(E)之著色層形成用組成物的著色層。此外，當於光學薄膜之著色層上，具備紫外線遮蔽率85%以上之具有紫外線吸收能力之透明基材(實施例1～5、7～8)或機能層時(實施例6)，與使得著色層內具有紫外線吸收能力之情況(比較例4)相比較，耐光性大幅地提升。此外，當於本發明之著色層上具備氧障壁層之情況(實施例7)來說，耐光性進一步提升。
此外，具備本發明之著色層之顯示裝置的反射特性，係大幅地變低(實施例1～8)。此外，在圓偏光板來說據說穿透率減半，而與此相對的係已確認到：白色顯示穿透特性亦高，且亮度效率優良，進而色彩再現性亦提升，能夠兼顧顯示特性提升與可靠性。
以下，使用本發明之第12至第21態樣的實施例而進一步詳細地說明本發明，但本發明並非被限定於該等實施例。
(實施例1B～11B、比較例1B～9B) 在上述實施例及比較例來說，製作表7、表8顯示之層構成的光學薄膜A～T，並透過模擬來評價製作出之薄膜特性、及在有機EL面板中的顯示裝置特性。表中，「-」表示不具有該層。
[表7]
實施例1B 實施例2B 實施例3B 實施例4B 實施例5B 實施例6B 實施例7B 實施例8B 實施例9B 實施例10B 實施例11B
光學薄膜 光學薄膜A 光學薄膜B 光學薄膜C 光學薄膜D 光學薄膜E 光學薄膜F 光學薄膜G 光學薄膜H 光學薄膜I 光學薄膜J 光學薄膜K
  機能層1 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 - 低折射率層
機能層2 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層2 硬塗層1 防眩層 防眩層
機能層3 - - - - - - - - 氧障壁層 - -
著色層 - - - - - - - 著色層3 - - -
透明基材 TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC
著色層 著色層1 著色層2 著色層3 著色層4 著色層5 著色層6 著色層7 - 著色層3 著色層3 著色層3
[表8]
比較例1B 比較例2B 比較例3B 比較例4B 比較例5B 比較例6B 比較例7B 比較例8B 比較例9B
光學薄膜 光學薄膜L 光學薄膜M 光學薄膜N 光學薄膜O 光學薄膜P 光學薄膜Q 光學薄膜R 光學薄膜S 光學薄膜T
  機能層1 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層 低折射率層
機能層2 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1 硬塗層1
機能層3 - - - - - - - - -
著色層 - - 著色層10 著色層11 著色層12 - - - -
透明基材 TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC TAC
著色層 著色層8 著色層9 - - - - 著色層13 著色層14 著色層15
＜製作光學薄膜＞ 以下說明各層的形成方法。
使用了以下之物來作為基材。 ・三醋酸纖維素(TAC)薄膜(富士軟片(股)製，TG60UL，基材厚60μm，紫外線遮蔽率92.9%)。
[形成著色層] (著色層形成用組成物 使用材料) 就使用於形成著色層之著色層形成用組成物的使用材料而言，使用了以下材料。 再者，色材的吸收最大波長、半高寬、及在規定波長範圍中的最小穿透率波長係在硬化塗膜中的特性值。
＜色素(A)＞ ・第一色材 Dye-1 吡咯亞甲基鈷錯合物染料(最大吸收波長493nm，半高寬 26nm) ・第二色材： Dye-2：四氮雜卟啉銅錯合物染料(山本化成(股)製，PD-311S，吸收最大波長586nm，半高寬22nm)。 Dye-3 四氮雜卟啉銅錯合物染料(山田化學工業公司製 FDG-007、最大吸收波長 595nm，半高寬 22nm) ・第三色材： Dye-4 酞青銅錯合物染料(山田化學公司製 FDN-002，在380～780nm中的最小穿透率波長 780nm) ・第一～第三色材以外的色材 Dye-5：染料(山田化學工業(股)製，FDG-003，最大吸收波長 545nm，半高寬79nm) Dye-6：染料(山田化學工業(股)製，FDG-004、最大吸收波長 575nm，半高寬63nm)
＜Dye-1的製造例＞ 將5-甲醯基-2,4-二甲基-1H-吡咯-3-羧酸乙酯(2.5g)封入反應容器，並使溶解於甲醇(50mL)後，添加47%氫溴酸(45g)，並進行了1小時回流。透過把析出的固體予以過濾分離，而獲得了3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二-乙氧基羰基-2,2’-二吡咯亞甲基氫溴酸鹽(2.6g)。 將3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二-乙氧基羰基-2,2’-二吡咯亞甲基氫溴酸鹽(0.6g)封入於反應容器，添加甲醇(5mL)、三乙胺(0.17g)、乙酸鈷四水合物(0.18g)，並進行了2小時回流。藉著將析出的固體進行過濾分離而獲得了Dye-1(0.42g)。
＜活性能量線硬化性樹脂(B)＞ ・樹脂(1)：上述式(1)的R 1係CH 3、R 2係CH 3、X係單鍵之具有胺結構的樹脂(分子量120000)。 ・樹脂(2)：上述式(2)的R 3係CH 3、R 4係H、X係單鍵之具有酚結構的樹脂(分子量51500)。 ・UA-306H：新戊四醇三丙烯酸酯 六亞甲基二異氰酸酯 胺基甲酸酯預聚物(共榮社化學(股)製，UA-306H)。 ・DPHA：二新戊四醇六丙烯酸酯。 ・PETA：新戊四醇三丙烯酸酯。
＜樹脂(1)的製造例＞ 將2.4g甲基丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯(昭和電工材料(股)製，FA-711MM)、5.6g甲基丙烯酸甲酯(關東化學(股)製)、31g環己酮(關東化學(股)製)、0.11g之2,2‘-偶氮雙(異丁腈)(富士軟片和光純藥(股)製)置入反應容器，於氮氣氣體環境下，於70℃下加熱攪拌了8小時。其後，於100℃下進行1小時加熱攪拌而藉以獲得了聚合物溶液。將該聚合物溶液注入至400mL甲醇(關東化學(股)製)中，並把因而產生的析出物進行過濾、乾燥，而藉以獲得了以甲基丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯：甲基丙烯酸甲酯=15：85[mоl%]所共聚而成的樹脂1。
＜樹脂(2)的製造例＞ 將2.4g甲基丙烯酸-4-羥苯酯(昭和電工(股)製，Shonol ARP-029P)、5.6g甲基丙烯酸甲酯(關東化學(股)製)、32g環己酮(關東化學(股)製)、0.11g之2,2‘-偶氮雙(異丁腈)(富士軟片和光純藥(股)製)置入反應容器，於氮氣氣體環境下，於70℃下加熱攪拌了8小時。其後，於100℃下進行1小時加熱攪拌而藉以獲得了聚合物溶液。 將該聚合物溶液注入至400mL甲醇(關東化學(股)製)中，並把因而產生的析出物進行過濾、乾燥而藉以獲得了以甲基丙烯酸-4-羥苯酯：甲基丙烯酸甲酯=19：81[mоl%]所共聚而成的樹脂2。
透過於100℃下進行1小時的追加加熱攪拌，能夠使起始劑，即2,2‘-偶氮雙(異丁腈)完全分解，並能夠抑制因殘存起始劑所造成的光學薄膜的劣化。 此外，藉著將聚合物溶液注入至甲醇中，而能夠去除未反應的單體及聚合溶媒、起始劑的分解物等，並能夠抑制光學薄膜的劣化。
＜光聚合起始劑(C)＞ 使用了醯基膦氧化物系光聚合起始劑：Omnirad TPO(IGM Resins B.V.公司製)。 ＜溶劑(D)＞ 適宜混合甲基乙基酮及乙酸甲酯而使用。 ＜添加劑(E)＞ ・單線態氧(1O 2)淬滅劑：雙(二丁基二硫代胺甲酸)鎳(II)，(東京化成工業(股)製 D1781) ・低分子受阻胺系光穩定劑(HALS)：BASF日本(股)製 Tinuvin(註冊商標)249(分子量482) ・紫外線吸收劑：(BASF日本(股)製 Tinuvin(註冊商標)479(羥苯基三
Figure 111130891-004
系)
(形成著色層) 將表9顯示的著色層形成用組成物塗布於基材的其中一面，於80℃的烘箱中使乾燥60秒鐘。其後，使用紫外線照射裝置並以照射劑量150mJ/cm 2(Fusion UV systems Japan公司製，光源H燈泡)來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化而形成了著色層1～15。再者，添加量係質量比(質量%)。表中「-」表示不含有該成分。
[表9]
著色層 1 著色層 2 著色層 3 著色層 4 著色層 5 著色層 6 著色層 7 著色層 8 著色層 9 著色層 10 著色層 11 著色層12 著色層 13 著色層14 著色層15
色素(A) 第1色材 Dye-1 - Dye-1 Dye-1 - Dye-1 Dye-1 - -
添加量 0.2% 0.2% 0.2% - 0.1% 0.2% - 0.1% 0.2% - -
第2色材 - Dye-2 - - Dye-2 - Dye-3/Dye-2=60/40 - -
添加量 - 0.2% - - 0.2% - 0.5% - -
第3色材 - - Dye-4 - - Dye-4 - - -
添加量 - - 1.5% - - 1.5% - - -
其它色材 - - - - - - - Dye-5 Dye-6
添加量 - - - - - - - 0.2% 0.2%
活性能量線 硬化性樹脂 (B) 種類 樹脂1/ UA-306H/ DPHA/PETA 樹脂1/ 樹脂2/ UA-306H/ DPHA/PETA 樹脂1/ 樹脂2/ UA-306H/ DPHA/PETA UA-306H/DPHA/PETA
比率 10/59/17/8 10/20/45/13/6 70/20/10
添加量 45.2% 45.2% 43.8% 43.8% 42.4% 45.2% 42.3% 42.0% 45.2% 42.3% 42.0% 43.8% 44.7% 45.2% 45.2%
光聚合 起始劑(C) 種類 Omnirad TPO
添加量 4.6%
溶劑(D) 種類 MEK/乙酸甲酯
比率 50/50
添加量 50%
添加劑(E) 種類 - D1781 D1781 D1781 - Tinuvin 249 Tinuvin 479/LA36 - Tinuvin 249 Tinuvin 479/LA36 -
比率 - 100 100 100 - 100 40/60 - 100 40/60 -
添加量 - 1.4% 1.4% 1.4% - 2.9% 3.20% - 2.9% 3.20% -
[形成機能層：氧障壁層] (氧障壁層形成用組成物) ・黏合劑用聚乙烯醇(PVA)系樹脂，Kuraray Poval(註冊商標)PVA-117(可樂麗(股)製)80質量%水溶液。
(形成氧障壁層) 將上述氧障壁層形成用組成物塗布於表7所示之實施例9B的透明基材上，並使乾燥，形成了氧穿透度係1cm 3/(m 2・day・atm)的氧障壁層。
[形成機能層：硬塗層] (硬塗層形成用組成物 使用材料) 使用了下述材料來作為用於形成硬塗層的硬塗層形成用組成物的使用材料。 ・活性能量線硬化性樹脂 UA-306H：新戊四醇三丙烯酸酯 六亞甲基二異氰酸酯 胺基甲酸酯預聚物(共榮社化學(股)製，UA-306H)。 DPHA：二新戊四醇六丙烯酸酯。 PETA：新戊四醇三丙烯酸酯。 ・光聚合起始劑 Omnirad TPO：醯基膦氧化物系光聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製)。 ・添加劑(紫外線(UV)吸收劑) Tinuvin479：羥苯基三
Figure 111130891-004
系紫外線吸收劑，Tinuvin(註冊商標)479(BASF日本(股)製)。 LA-36：苯并三唑系紫外線吸收劑，ADK STAB(註冊商標)LA-36(ADEKA(股)製)。 ・溶劑 MEK：甲基乙基酮。 乙酸甲酯
(形成硬塗層) 將表10所示之硬塗層形成用組成物塗布於表7、表8所示的透明基材或氧障壁層或著色層上，使於80℃的烘箱中乾燥60秒鐘。其後，使用紫外線照射裝置並以照射劑量150mJ/cm 2(Fusion UV systems Japan(股)製，光源H燈泡)來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化，而形成了硬塗層使得硬化後的膜厚達5.0μm。 再者，添加量係質量比(質量%)。 表中「-」表示不含有該成分。
[表10]
硬塗層1 硬塗層2
活性能量線硬化性樹脂(B) 種類 UA-306H/DPHA/PETA
比率 70/20/10
添加量 45.4% 42.2%
光聚合起始劑 種類 Omnirad TPO
添加量 4.6%
UV吸收劑 種類 - Tinuvin479/LA36
比率 - 40/60
添加量 - 3.2%
溶劑 種類 MEK/乙酸甲酯
比率 50/50
添加量 50%
[形成機能層：防眩層] (防眩層形成用組成物) 使用了下述材料來作為使用於形成防眩層的防眩層形成用組成物。 ・活性能量線硬化性樹脂 新戊四醇三丙烯酸酯，LIGHT ACRYLATE PE-3A(共榮社化學(股)製，折射率1.52)43.7質量份。 ・光聚合起始劑 Omnirad TPO(IGM Resins B.V.公司製)4.55質量份。 ・樹脂粒子 苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物粒子(折射率1.515，平均粒徑2.0μm)0.5質量份。 ・無機微粒子 合成膨潤石0.25質量份。 氧化鋁奈米粒子(平均粒徑40nm)1.0質量份。 ・溶劑 甲苯 15質量份。 異丙醇 35質量份。
將上述之防眩層形成用組成物塗布於表7所示之透明基材上，並使於80℃的烘箱中乾燥60秒鐘。其後，使用紫外線照射裝置並以照射劑量150mJ/cm 2(Fusion UV systems Japan(股)製，光源H燈泡)來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化，形成了防眩層使得硬化後的膜厚達5.0μm。
[形成機能層：低折射率層] (低折射率層形成用組成物) 使用了下述材料來作為使用於形成低折射率層的低折射率層形成用組成物。 ・折射率調整劑： 多孔質氧化矽微粒子分散液(平均粒徑75nm，固體成分20%，溶劑甲基異丁基酮)8.5質量份 ・防污性賦予劑： Optool AR-110(DAIKIN工業公司製，固體成分15%，溶劑甲基異丁基酮)5.6質量份 ・活性能量線硬化樹脂： 新戊四醇三丙烯酸酯 0.4質量份 ・起始劑： Omnirad 184(IGM Resins B.V.公司製)0.07質量份 ・流平劑： RS-77(DIC公司製)1.7質量份 ・溶劑： 甲基異丁基酮 83.73質量份
(形成低折射率層) 將上述組成的低折射率層形成用組成物塗布於表7、表8所示的硬塗層或防眩層，並使於80℃的烘箱中乾燥60秒鐘，其後，使用紫外線照射裝置(Fusion UV systems Japan公司製，光源H燈泡)以照射劑量200mJ/cm 2來進行紫外線照射而藉以使塗膜硬化，而形成了硬化後的膜厚係100nm的低折射率層。
[薄膜特性評價] 對各例的光學薄膜進行了以下的評價。 (較著色層更上層的紫外線遮蔽率) 當較著色層更上層呈透明基材的情況，將基材使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)來測定了穿透率。此外，當著色層來到較基材更上層時，係使用依據JIS-K5600-5-6：1999附著性試驗的透明感壓附著膠帶而由著色層剝離上層，並使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)，以黏著膠帶作為參照而測定了著色層上層的穿透率。使用該等的穿透率而算出紫外區域(290nm～400nm)的平均穿透率[%]，並把紫外線遮蔽率[%]定為從100%減去紫外區域(290nm～400nm)的平均穿透率[%]之值來算出。 (耐光性試驗) 使用Xenon耐候試驗機(Suga試驗機股份有限公司製，X75)，以氙燈照度60W/cm 2(300～400nm)、試驗機內溫度45℃・濕度50%RH條件進行120小時試驗，在試驗前後使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)而進行穿透率測定，算出了在上述第一範圍至第三範圍中在試驗前顯示最小穿透率的波長λ處的試驗前後穿透率差ΔT。以穿透率差接近零者為良好。 (耐熱性試驗) 將與各例有關的光學薄膜於90℃下保管了500小時。於保管前後使用自動分光光度計(U-4100)進行穿透率測定，在上述第一範圍到第三範圍中，在保管前在顯示了最小穿透率的波長λ中算出了保管前後穿透率差ΔT。以穿透率差接近零者為良好。
[顯示裝置特性評價] 透過模擬而針對使用了所獲得之光學薄膜C、F、G、及Q～T的顯示裝置如以下般評價了顯示裝置特性。在模擬中，顯示裝置係定為將光學薄膜接合於有機EL顯示裝置(對象物)的構成。 再者，在接合光學薄膜的對象物，即有機EL顯示裝置來說，白色顯示係呈圖12所示般的分光光譜，而紅色顯示、綠色顯示、藍色顯示時係呈圖13所示般的單獨光譜。
(白色顯示特性) 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)來測定所獲得之光學薄膜的穿透率，並將該光學薄膜的穿透率乘以圖12所示之，不介隔光學薄膜的有機EL顯示裝置白色顯示時單獨的分光光譜，而算出了穿透光學薄膜後的分光光譜。把有機EL顯示裝置白色顯示時單獨的光譜、及穿透光學薄膜後之分光光譜分別乘以比能見度而算出Y值，把自有機EL顯示裝置白色顯示時單獨的光譜所獲得的Y值定為100時，將此時的比率定為效率，而藉以作為顯示裝置穿透特性的指標來進行了評價。
(色彩再現性) 使用自動分光光度計(日立製作所(股)製，U-4100)來測定所獲得之光學薄膜的穿透率，將該光學薄膜的穿透率乘以圖13所示之，不介隔光學薄膜的有機EL顯示裝置之紅色顯示、綠色顯示、藍色顯示時的單獨光譜，而算出了穿透光學薄膜後之CIE(國際照明委員會：Commission international de l’eclairage)1931表色系之紅、綠、藍單色各個的色度(x、y)。其次，連結所獲得之紅、綠、藍單色的色度所獲得之三角形、與連結DCI(Digital Cinema Initiatives)提倡的DCI―P3之3原色、紅(x=0.680、y=0.320)、綠(x=0.265、y=0.690)、藍(x=0.150、y=0.060)的三角形，分別進行比較而求得重疊的面積，而藉以算出各規格的包含率，並定為色彩再現性的指標而進行了評價。
作為於表7、表8顯示之光學薄膜A～P的光學薄膜特性評價，於表11、表12顯示較著色層更上層的紫外線遮蔽率、耐光性試驗、耐熱性試驗的結果，於表13顯示白色顯示特性、色彩再現性，作為在使用了光學薄膜C、F、G及Q～T之顯示裝置的特性評價。
[表11]
實施例1B 實施例2B 實施例3B 實施例4B 實施例5B 實施例6B 實施例7B 實施例8B 實施例9B 實施例10B 實施例11B
著色層上 紫外線遮蔽率 92.9% 92.9% 92.9% 92.9% 92.9% 92.9% 92.9% 90.5% 92.9% 92.9% 92.9%
耐光性 ΔT 12.9 9.2 7.1 2.6 1.9 1.6 9.8 9.7 6.1 9.8 9.7
耐熱性 ΔT 8.7 9.6 8.5 -0.5 1.0 1.2 7.7 9.8 6.2 9.5 9.6
[表12]
比較例1B 比較例2B 比較例3B 比較例4B 比較例5B
著色層上 紫外線遮蔽率 92.9% 92.9% 7.2% 7.2% 7.2%
耐光性 ΔT 22.1 20.4 49.1 29.5 17.8
耐熱性 ΔT 29.8 25.2 29.8 0.3 8
[表13]
實施例3B 實施例6B 實施例7B 比較例6B 比較例7B 比較例8B 比較例9B
顯示裝置1 顯示裝置2 顯示裝置3 顯示裝置4 顯示裝置5 顯示裝置6 顯示裝置7
光學薄膜 光學薄膜C 光學薄膜F 光學薄膜G 光學薄膜Q 光學薄膜R 光學薄膜S 光學薄膜T
最大吸收波長 (T＜50%) 493nm 595nm 780nm - 493nm 589nm 545nm 575nm
穿透率＠ 最大吸收波長 (T＜50%) 26.3% 23.2% 11.2% - 26.3% 19.5% 48.1% 48.4%
白色顯示特性 75 77 70 92 61 75 73
色彩再現性 DCI包含率 92% 90% 91% 88% 94% 88% 89%
由表11、表12的結果係，具備使用了本發明之著色層形成用組成物之著色層的光學薄膜(實施例1B～10B)，其耐光性、耐熱性優良；其中，前述著色層形成用組成物具備色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、溶劑(D)。具備以下著色層的光學薄膜，耐光性進一步優化：進一步添加有單線態氧淬滅劑作為添加劑(E)之著色層形成用組成物的著色層。此外，在光學薄膜的著色層上，具備紫外線遮蔽率85%以上之具有紫外線吸收能力的透明基材或機能層之情況，與使著色層內具有紫外線吸收能力之情況相比較，耐光性大幅地提升。此外，當於本發明之著色層上具備氧障壁層時，耐光性進一步提升。
此外，依據表13的結果，與應用不具有著色層的光學薄膜的顯示裝置4相比較，具備與本發明實施例有關的光學薄膜之顯示裝置1、2、及3係色彩再現性優良。此外，與顯示裝置5相比較，能夠大幅地使白色顯示特性提升，並且與色彩再現性的平衡優良；其中，該顯示裝置5應用了具有在第一範圍至第三範圍的2個中穿透率呈低於50%之著色層的光學薄膜。 此外，即便係與顯示裝置6相比較，白色顯示特性與色彩再現性的平衡亦係優良的；其中，該顯示裝置6應用了具有吸收波長帶不同於本發明之波長區域的著色層的光學薄膜。
以上，針對本發明使用實施形態及實施例進行了說明，但具體的構成並不受限於此實施形態，並且也包含不脫離本發明主旨之範圍的構成變更、組合等。
例如：亦可進一步對防眩層賦予紫外線吸收能力而提高耐光性。
機能層可含有防污層。透過賦予撥水性及撥油性的兩者或任一者，而防污層能夠提高防污性。就防污層而言，可列舉含有下述防污劑的層：氧化矽、含氟的矽烷化合物、氟烷基矽氮烷、氟烷基矽烷、含氟的矽系化合物、含全氟聚醚基的矽烷耦合劑等。 防污層可設於機能層的最表面，亦可透過將防污劑摻合至上述機能層中成為最表面的層，而作為防污層來發揮功能。
機能層亦可含有抗靜電層。就抗靜電層而言，可列舉，例如含有下述抗靜電劑的層：摻雜了銻的氧化錫(ATO)、摻雜了錫的氧化銦(ITO)等金屬氧化物微粒子、高分子型導電性組成物、4級銨鹽等。 抗靜電層可設於機能層的最表面，亦可設置於機能層與透明基材之間。或者，亦可透過將抗靜電劑摻合至構成上述機能層的任一層，而作為抗靜電層而發揮功能。當設置抗靜電層時，光學薄膜的表面電阻值較佳係1.0×10 6～1.0×10 12(Ω/cm)。 [產業上利用之可能性]
依據本發明的話，能夠提供一種使耐光性及耐熱性提升，能夠兼顧反射抑制與亮度效率，能夠提升顯示品質、能夠使發光元件長壽化，並能夠提升色彩再現性的著色層形成用組成物、光學薄膜及顯示裝置。
本發明能夠應用於顯示裝置所使用的光學薄膜。
1,2,3,4,5,6,7,8:光學薄膜 10:著色層 20:透明基材 30:機能層 31:低折射率層 32:硬塗層 33:氧障壁層 34:防眩層
圖1係與本發明之第1實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖2係與本發明之其它實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖3係與本發明之其它實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖4係與本發明之其它實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖5係與本發明之其它實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖6係與本發明之其它實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖7係與本發明之其它實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖8係與本發明之其它實施形態有關的光學薄膜的截面圖。 圖9係圖表，其顯示於本發明實施例使用的有機EL光源及通過彩色濾光片所輸出之白色顯示的光譜。 圖10係光譜的圖表，其係於本發明實施例使用的有機EL光源及通過彩色濾光片所輸出之紅色顯示時、綠色顯示時、藍色顯示時之各自的光譜。 圖11係圖表，其顯示透明基材的光線穿透輪廓曲線。 圖12係光源的光譜，其使用於評價本發明實施例的穿透特性。 圖13係光源的光譜，其使用於評價本發明的色彩再現性。
無。

Claims (21)

  1. 一種著色層形成用組成物，含有：色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、及溶劑(D)； 該色素(A)含有第一色材與第二色材， 該第一色材之吸收最大波長在470～530nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～45nm， 該第二色材之吸收最大波長在560～620nm的範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～55nm；且 該活性能量線硬化性樹脂(B)含有具有胺結構的樹脂。
  2. 如請求項1之著色層形成用組成物，其中該活性能量線硬化性樹脂(B)係包含下述式(1)所示之結構單元的聚合物：
    Figure 03_image017
    [在式(1)中，R 1表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基(sulfamoyl)、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基(phosphono)、或雜環基，R 2表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈(polyethylene glycol chain)、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
    Figure 111130891-001
    烷環]。
  3. 如請求項1或2之著色層形成用組成物，其中該活性能量線硬化性樹脂(B)進一步含有包含下述式(2)所示之結構單元的聚合物：
    Figure 03_image019
    [在式(2)中，R 3表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 4表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
    Figure 111130891-001
    烷環]。
  4. 如請求項1至3中任一項之著色層形成用組成物，其進一步含有一種以上的添加劑(E)，該添加劑(E)係選自自由基捕獲劑(radical scavenger)、過氧化物分解劑及單線態氧淬滅劑(singlet oxygen quencher)。
  5. 如請求項4之著色層形成用組成物，其中該單線態氧淬滅劑係磷酸二烷基酯、二硫代胺基甲酸二烷基酯、或苯二硫醇(benzenedithiol)、及該等的過渡金屬錯合物。
  6. 如請求項1至5中任一項之著色層形成用組成物，其中該色素(A)含有一種以上選自於包含具有以下任一結構的化合物及其金屬錯合物之群組的化合物：卟啉(porphyrin)結構、部花青素(merocyanine)結構、酞青(phthalocyanine)結構、偶氮結構、靛青(cyanine)結構、方酸(squarylium)結構、香豆素結構、多烯結構、醌結構、四氮雜卟啉(tetraazaporphyrin)結構、吡咯亞甲基(pyrromethene)結構及靛藍(indigo)結構。
  7. 如請求項1至6中任一項之著色層形成用組成物，其中，該色素(A)進一步含有第三色材，該第三色材在380～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長係在650～780nm的範圍內。
  8. 一種光學薄膜，其具有：著色層、 位於該著色層之其中一面的透明基材、及 位於該著色層之其中一面或另一面的機能層， 該透明基材及該機能層之一者或兩者係按照JIS L1925記載之方法所測定的紫外線遮蔽率為85%以上，並且 該機能層作為抗反射層或防眩層而發揮功能； 該著色層係如請求項1至7中任一項之著色層形成用組成物的硬化物。
  9. 如請求項8之光學薄膜，其進一步具有氧穿透度係10cm 3/(m 2・day・atm)以下的氧障壁層來作為該機能層。
  10. 如請求項8或9之光學薄膜，其進一步具有抗靜電層或防污層來作為該機能層。
  11. 一種顯示裝置，其具備如請求項8至10中任一項之光學薄膜。
  12. 一種著色層形成用組成物，其含有：色素(A)、活性能量線硬化性樹脂(B)、光聚合起始劑(C)、及溶劑(D)， 該色素(A)至少含有第一色材、第二色材與第三色材中的一個色材， 該第一色材係吸收最大波長在470～530nm之第一範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～45nm， 該第二色材係吸收最大波長在560～620nm之第二範圍內，且吸光光譜的半高寬係15～55nm， 該第三色材在380～780nm的波長範圍中穿透率最低的波長係在650nm以上780nm以下的第三範圍內；並且 僅在該第一範圍、該第二範圍、及該第三範圍中的一個範圍中最小穿透率係1%以上且低於50%；且 該活性能量線硬化性樹脂(B)含有具有胺結構的樹脂。
  13. 如請求項12之著色層形成用組成物，其中該活性能量線硬化性樹脂(B)係包含下述式(1)所示之結構單元的聚合物：
    Figure 03_image021
    [在式(1)中，R 1表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 2表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
    Figure 111130891-001
    烷環]。
  14. 如請求項12之著色層形成用組成物，其中該活性能量線硬化性樹脂(B)進一步含有包含下述式(2)所示之結構單元的聚合物：
    Figure 03_image023
    [在式(2)中，R 3表示氫原子、鹵素原子、羧基、磺基、氰基、羥基、碳數10以下的烷基、碳數10以下的烷氧羰基、碳數10以下的烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、碳數10以下的醯基胺基磺醯基、碳數10以下的烷氧基、碳數10以下的烷硫基、碳數10以下的芳氧基、硝基、烷氧羰基氧基、芳氧基羰基氧基、碳數10以下的醯氧基、碳數10以下的醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、碳數10以下的芳基、取代胺基、取代脲基、取代膦醯基、或雜環基，R 4表示氫原子或碳數30以下的烷基，X表示單鍵、酯基、碳數30以下的脂肪族烷基鏈、芳香族鏈、聚乙二醇鏈、或組合該等而成的連結基，任一者均可包含螺二
    Figure 111130891-001
    烷環]。
  15. 如請求項12至14中任一項之著色層形成用組成物，其進一步含有添加劑(E)，該添加劑(E)包含選自自由基捕獲劑、過氧化物分解劑、及單線態氧淬滅劑的一種以上。
  16. 如請求項15之著色層形成用組成物，其中該單線態氧淬滅劑係磷酸二烷基酯、二硫代胺基甲酸二烷基酯、或苯二硫醇、及該等的過渡金屬錯合物。
  17. 如請求項12至16中任一項之著色層形成用組成物，其中該色素(A)含有一種以上選自於包含具有以下任一結構的化合物及其金屬錯合物之群組的化合物：卟啉結構、部花青素結構、酞青結構、偶氮結構、靛青結構、方酸結構、香豆素結構、多烯結構、醌結構、四氮雜卟啉結構、吡咯亞甲基結構及靛藍結構。
  18. 一種光學薄膜，其具有：著色層、 位於該著色層之其中一面的透明基材、與 位於該著色層之其中一面或另一面的機能層； 該著色層係如請求項12至17中任一項之著色層形成用組成物的硬化物；並且 該透明基材及該機能層之一者或兩者係按照JIS L1925記載之方法所測定的紫外線遮蔽率為85%以上， 該機能層係作為抗反射層或防眩層而發揮功能。
  19. 如請求項18之光學薄膜，其進一步具有氧穿透度係10cm 3/(m 2・day・atm)以下的氧障壁層來作為該機能層。
  20. 如請求項18或19之光學薄膜，其進一步具有抗靜電層或防污層來作為該機能層。
  21. 一種顯示裝置，具備如請求項18至20中任一項之光學薄膜。
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