TW202248022A - 偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種偏光板，其呈薄型且具有貫通孔，貫通孔充填有黏著劑時可抑制氣泡，高溫高濕環境下之可靠性優異，且應用於影像顯示裝置時可抑制導通不良情況。本發明之實施形態之偏光板具有：偏光件；第1保護層，其配置於偏光件之一側，且包含樹脂薄膜及形成在樹脂薄膜之與偏光件相反側之硬塗層；第2保護層，其配置於偏光件之另一側；及，黏著劑層，其設於第2保護層之與偏光件相反側。偏光板之總厚度為70μm以下，偏光板形成有貫通孔。偏光件之厚度為12μm以下；第1保護層之厚度為29μm以下且透濕度為200g/m 2・24h至500g/m 2・24h；第2保護層之透濕度小於100g/m 2・24h；黏著劑層之厚度為12μm~17μm且表面電阻值為1.0×10 8Ω/□至2.0×10 9Ω/□。

Description

偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置
本發明有關一種偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置。
背景技術 行動電話、筆記型個人電腦等之影像顯示裝置為了實現影像顯示及/或提高該影像顯示之性能而廣泛使用偏光板。近年來，由於智慧型手機及觸控面板式資訊處理裝置急速普及，搭載照相機之影像顯示裝置廣泛受到利用。對應於此，在與照相機部對應之位置上具有貫通孔之偏光板也變得廣泛受到利用。代表性地，貫通孔會被用以積層蓋玻璃之黏著劑充填。包含貫通孔已充填有黏著劑之偏光板的影像顯示裝置有時會在貫通孔部分發生氣泡。充填貫通孔之黏著劑厚度越薄，此種氣泡越是顯著。為了抑制此種氣泡，目前正在嘗試偏光板(實質上來說則是貫通孔)之薄型化。就薄型化之一種嘗試而言，已提出一種省略偏光板中之黏著劑側保護層的技術。然而若依此種技術，則有高溫高濕環境下會發生脫色之不良情況的問題。 先行技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]國際公開第2017/047510號
發明概要 發明欲解決之課題 本發明係為了解決上述習知課題而為者，主要目的在於提供一種偏光板，其呈薄型且具有貫通孔，貫通孔充填有黏著劑時氣泡可受到抑制，在高溫高濕環境下可靠性優異且應用於影像顯示裝置時可抑制導通不良情況。 用以解決課題之手段
本發明實施形態之偏光板具有：偏光件；第1保護層，其配置於該偏光件之一側，且包含樹脂薄膜及形成在該樹脂薄膜之與該偏光件相反側之硬塗層；第2保護層，其配置於該偏光件之另一側；及，黏著劑層，其設於該第2保護層之與該偏光件相反側。偏光板之總厚度為70μm以下，且偏光板形成有貫通孔。該偏光件之厚度為12μm以下；該第1保護層之厚度為29μm以下且透濕度為200g/m 2・24h至500g/m 2・24h；該第2保護層之透濕度小於100g/m 2・24h；該黏著劑層之厚度為12μm~17μm且表面電阻值為1.0×10 8Ω/□至2.0×10 9Ω/□。 於一實施形態中，上述硬塗層之厚度為5μm以下。 於一實施形態中，上述硬塗層係樹脂組成物之硬化層，該樹脂組成物包含6官能以上之胺基甲酸酯丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯及光聚合引發劑。於一實施形態中，上述樹脂組成物係以60/40(重量比)至40/60(重量比)之比例來包含前述6官能以上之胺基甲酸酯丙烯酸酯與前述三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯。 於一實施形態中，上述第1保護層之樹脂薄膜為三醋酸纖維素薄膜，上述第2保護層係以環烯烴系樹脂薄膜來構成。 於一實施形態中，上述貫通孔之直徑為5mm以下。 若依本發明之另一面向，則可提供影像顯示裝置。該影像顯示裝置具有：影像顯示單元；上述偏光板，其透過前述黏著劑層而貼合在該影像顯示單元之視辨側；及，另一黏著劑層，其配置於該偏光板之視辨側；並且，該偏光板之貫通孔充填有構成該另一黏著劑層之黏著劑。 於一實施形態中，上述另一黏著劑層之厚度為120μm以下。 於一實施形態中，上述影像顯示裝置進一步於上述另一黏著劑層之視辨側具有蓋玻璃。 於一實施形態中，上述影像顯示裝置係在與上述偏光板之貫通孔對應之位置具有照相機部。 發明效果
若依本發明之實施形態，可實現一種偏光板，其呈薄型且具有貫通孔，貫通孔充填有黏著劑時氣泡可受到抑制，在高溫高濕環境下可靠性優異(例如偏光度之變化小、端部脫色受到抑制、黏著劑層之表面電阻值之變化小、從影像顯示單元剝離之情況受到抑制)，且應用於影像顯示裝置時可抑制導通不良情況。
用以實施發明之形態 以下，參照圖式並就本發明之具體實施形態予以說明，但本發明並不侷限於此等實施形態。另，為便於觀視而以示意方式表現圖式，進一步來說，圖式中之長度、寬度、厚度等之比率以及角度等與實際情況不同。
A.偏光板之整體結構 圖1為本發明一實施形態之偏光板中之貫通孔附近部分之主要部分概略截面圖。圖示例之偏光板100具有：偏光件10；第1保護層20，其配置於偏光件10之一側；第2保護層30，其配置於偏光件10之另一側；及，黏著劑層40，其設於第2保護層30之與偏光件10相反側。第1保護層20包含樹脂薄膜21及形成在樹脂薄膜21之與偏光件10相反側的硬塗層22。黏著劑層40用來將偏光板100貼合至影像顯示單元。就實用性而言，在偏光板供予使用之前，黏著劑層40表面宜暫時貼附分離件(未圖示)。透過暫時貼附分離件，在保護黏著劑層之同時，還可將偏光板形成卷料(roll)。
偏光板100形成有貫通孔50。藉由形成貫通孔，舉例來說，影像顯示裝置內藏有照相機時，可防止對該照相機之性能造成不良影響。代表性地來說，貫通孔形成在偏光板端部或其附近。若是此種結構，偏光板應用於影像顯示裝置時，對影像顯示所造成之影響為可令為最小限度。貫通孔也可設有多數個。此外，貫通孔之俯視形狀可視目的而採用任意之適切形狀。平面視形狀之具體例可舉如圓形、橢圓形、正方形、矩形、多邊形(例如五邊形、六邊形、八邊形)及此等之組合(例如矩形之長邊或短邊呈圓弧狀者)。貫通孔之直徑宜為10mm以下，且較宜為8mm以下，更宜為5mm以下。貫通孔之直徑下限舉例來說可為2mm。若依本發明之實施形態，即使貫通孔之直徑如前述般極小，充填黏著劑時仍可良好地抑制氣泡。
偏光板之總厚度為70μm以下，且宜為68μm以下，較宜為65μm以下，更宜為62μm以下。藉由將偏光板之總厚度設在預定值以下，貫通孔充填黏著劑時，可更顯著地抑制氣泡。尤其，即使黏著劑(實質上來說則是後述之另一黏著劑層)之厚度較薄時，仍可顯著地抑制氣泡。偏光板之總厚度下限舉例來說可為48μm。另，本說明書中，「偏光板之總厚度」意指第1保護層、偏光件、第2保護層及黏著劑層之合計厚度。
偏光件之厚度為12μm以下，且宜為10μm以下，較宜為8μm以下，更宜為6μm以下，尤宜為5μm以下。偏光件之厚度下限舉例來說可為2μm，舉例來說亦可為1μm。透過將偏光件之厚度設成此種範圍，可容易地實現上述總厚度。
第1保護層之厚度為29μm以下，且宜為22μm~28μm。透過將第1保護層之厚度設成此種範圍，可容易地實現上述總厚度。再者，第1保護層之透濕度為200g/m 2・24h至500g/m 2・24h，且宜為220g/m 2・24h至480g/m 2・24h，較宜為300g/m 2・24h至450g/m 2・24h。第1保護層之透濕度若為此種範圍，可實現高溫高濕環境下可靠性優異之偏光板。更詳言之，則是可實現高溫高濕環境下偏光度變化小(例如耐久試驗之變化量為0.02%以下)之偏光板。若透濕度過大，有時會有高溫高濕環境下可靠性不足之情況。若將透濕度小之薄膜(例如環狀烯烴系樹脂(COP)薄膜)用於第1保護層，於高溫環境下(例如，如同熱衝擊試驗般之嚴苛高溫環境下)，因其與偏光件之線膨脹係數之差異，有時會有在貫通孔附近發生裂痕之情況。第1保護層之厚度及透濕度分別意指樹脂薄膜與硬塗層之積層體之厚度及透濕度。
第2保護層之透濕度小於100g/m 2・24h，且宜為10g/m 2・24h至70g/m 2・24h，較宜為20g/m 2・24h至50g/m 2・24h。若透濕度過大，有時會有高溫高濕環境下黏著劑層之表面電阻值之安定性不足(例如耐久試驗之變化量超過10倍)之情況。其結果則是，將偏光板應用於影像顯示裝置時，影像顯示裝置有時會發生導通不良情況。
黏著劑層之厚度為12μm~17μm，且宜為13μm~16μm。若厚度過大，貫通孔加工時，有時會發生凹膠(黏著劑層凹陷之現象)而使外觀惡化、及/或偏光板之總厚度變得過厚而在以黏著劑(實質上來說則是構成後述之另一黏著劑層的黏著劑)充填貫通孔時發生氣泡。若厚度過小，高溫高濕環境下有時會發生偏光板自影像顯示單元剝離之情況。再者，黏著劑層之表面電阻值為1.0×10 8Ω/□至2.0×10 9Ω/□，且宜為3.0×10 8Ω/□至1.2×10 9Ω/□，較宜為5.0×10 8Ω/□至1.0×10 9Ω/□。若表面電阻值過小，顯示器之觸控感度變得過剩，有時會有發生誤作動之情況。若表面電阻值過大，薄膜導通不佳，有時會有無法將製程中帶電之靜電去除而在影像顯示上發生不良之情況。
本發明實施形態之偏光板可用作視辨側偏光板，亦可用作背面側偏光板。本發明實施形態之偏光板可適宜用作視辨側偏光板。再者，本發明實施形態之偏光板可視目的而進一步具有任意之適切光學機能層。光學機能層可舉例如相位差層、觸控面板用導電層及反射型偏光件。光學機能層之數量、種類、組合及配置位置等可視目的來適切設定。
以下，針對構成偏光板之偏光件、第1保護層、第2保護層及黏著劑層具體進行說明。
B.偏光件 具代表性地，偏光件係以包含二色性物質之樹脂薄膜來構成。樹脂薄膜可採用可用作偏光件之任意且適切之樹脂薄膜。具代表性地，樹脂薄膜為聚乙烯醇系樹脂(以下稱為「PVA系樹脂」)薄膜。樹脂薄膜可為單層樹脂薄膜，亦可為二層以上之積層體。
由單層樹脂薄膜構成之偏光件之具體例可舉如：對PVA系樹脂薄膜施行利用碘之染色處理及延伸處理(以單軸延伸具代表性)。上述利用碘之染色舉例來說係以將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液之方式來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可一邊染色一邊進行。此外，也可延伸後才染色。視需要而定，對PVA系樹脂薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。舉例來說，透過在染色前將PVA系樹脂薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系薄膜表面之髒污及抗結塊劑，還可使PVA系樹脂薄膜膨潤而防止染色不均等現象。
上述使用二層以上之積層體而製得之偏光件之具體例可舉如使用下述積層體來製得的偏光件：樹脂基材與積層在該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體；或，樹脂基材與塗佈形成在該樹脂基材上之PVA系樹脂層的積層體。使用樹脂基材與塗佈形成在該樹脂基材上之PVA系樹脂層的積層體來製得之偏光件舉例來說可以包含下述步驟之方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈在樹脂基材上並使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層而製得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；及，將該積層體延伸及染色，將PVA系樹脂層製成偏光件。於本實施形態中，宜在樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。具代表性地，延伸包含：將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進一步來說，延伸可視需要而更包含：在硼酸水溶液中進行延伸之前，於高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。此外，於本實施形態中，積層體宜供予下述乾燥收縮處理：一邊朝長向搬送，一邊加熱而使其在寬度方向上收縮2%以上。具代表性地，本實施形態之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使是在熱可塑性樹脂上塗佈PVA時，仍可提高PVA之結晶性而可達成高光學特性。此外，透過事前同時提高PVA之配向性，在後續染色步驟及延伸步驟中浸漬於水時，可防止PVA配向性低落及溶解等問題，而可達成高光學特性。進一步來說，將PVA系樹脂層浸漬於液體時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物時，可抑制聚乙烯醇分子之配向紊亂及配向性低落。藉此，經染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體來進行的處理步驟而製得的偏光件之光學特性得以提升。進一步來說，可透過乾燥收縮處理使積層體朝寬度方向收縮，藉此提高光學特性。所製得之樹脂基材/偏光件之積層體可直接使用(即，亦可將樹脂基材用作偏光件之保護層)，亦可視需要，在從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材後之剝離面，或者在與剝離面相反側之面，積層任意之適切保護層來使用。此種偏光件之製造方法之詳情已載於諸如日本特開2012-73580號公報及日本專利第6470455號公報中。本說明書援用此等公報之全體記載內容作為參考。
偏光件之厚度如上述A項之記載所述。
偏光件宜在波長380nm~780nm中之任一波長下顯示吸收二色性。舉例來說，偏光件之單體透射率為41.5%~44.0%，且宜為42.5%~44.0%，較宜為43.0%~44.0%。偏光件之偏光度宜為97.0%以上，且較宜為99.0%以上，更宜為99.9%以上。
C.第1保護層 C-1.樹脂薄膜 就樹脂薄膜而言，只要作為第1保護層可獲得上述所期望之透濕度，則可使用可用作偏光件保護層之任意之適切樹脂薄膜。會成為樹脂薄膜之主成分之材料的具體例可舉如三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂。透過將此種由樹脂形成之薄膜與後述之特定硬塗層組合，可以適切厚度形成具有上述所期望之透濕度之第1保護層。
樹脂薄膜之透濕度宜為600g/m 2・24h至2000g/m 2・24h，較宜為800g/m 2・24h至1500g/m 2・24h。樹脂薄膜之透濕度若為此種範圍，可透過與後述之特定硬塗層組合而形成具有上述所期望之透濕度的第1保護層。
樹脂薄膜之厚度宜為15μm~28μm，較宜為20μm~26μm。樹脂薄膜之厚度若為此種範圍，可形成具有上述所期望之厚度的第1保護層。
C-2.硬塗層 硬塗層宜具有優異之表面硬度(例如優異之鉛筆硬度、優異之耐鋼綿擦傷性)、優異之機械強度及優異之透光性。硬塗層只要具有此種所期望之特性，可採用任意之適切結構。具代表性地，硬塗層為包含硬化型樹脂之樹脂組成物的硬化層。
硬化型樹脂之具體例可舉如熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂及二液混合型樹脂。以紫外線硬化型樹脂為宜。這是因為可在簡便操作及高效率下形成硬塗層之故。紫外線硬化型樹脂之具體例可舉如聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、聚矽氧系樹脂、環氧系樹脂及胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系樹脂。紫外線硬化型樹脂包含紫外線硬化型之單體、寡聚物及聚合物。樹脂組成物可含諸如(甲基)丙烯酸系樹脂，此外，亦可含諸如胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系樹脂，也可將其等組合來含有。硬塗層又可含諸如具有官能基之寡聚物與單體之共聚物。具有官能基之單體可舉例如多官能(甲基)丙烯酸酯。舉例來說，(甲基)丙烯酸酯為2官能以上，又可舉例為3官能以上。具有官能基之寡聚物可舉例如硬化型胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。硬化型胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯舉例來說為6官能以上，又可舉例為8官能~10官能。在一實施形態中，相對於硬化型樹脂100重量份，樹脂組成物宜含硬化型胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及多官能(甲基)丙烯酸酯合計60重量份以上，且較宜為70重量份以上，更宜為80重量份以上，尤宜為90重量份以上，特別宜含95重量份以上。該合計量也可為100重量份。硬化型樹脂中之硬化型胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及多官能(甲基)丙烯酸酯之摻合比宜為60/40(重量比)至40/60(重量比)，較宜為55/45(重量比)至45/55(重量比)。於一實施形態中，硬化型樹脂皆由6官能以上之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及多官能(甲基)丙烯酸酯構成。舉例來說，硬化型樹脂可以10官能之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯/三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(50/50：重量比)來構成。
具代表性地，樹脂組成物含有光聚合引發劑。就光聚合引發劑而言，可因應硬化型樹脂來使用任意之適切光聚合引發劑。
樹脂組成物(就結果而言則是硬塗層)可含矽元素。舉例來說，矽可為表面調整劑之構成元素。因此，樹脂組成物(就結果而言則是硬塗層)含有表面調整劑(以調平劑具代表性)，該表面調整劑舉例來說可含具有諸如二甲基矽氧烷骨架之矽化合物。矽化合物可為二甲基矽氧烷改質甲基丙烯酸酯、聚二甲基矽氧烷環狀物等。
硬塗層之鉛筆硬度宜為F以上，且較宜為H以上，更宜為3H以上。硬塗層之鉛筆硬度若為此種範圍，可作為視辨側最外層而實現充分之保護機能。
硬塗層之每單位厚度之透濕度宜為100g/m 2・24h・μm至400g/m 2・24h・μm，較宜為120g/m 2・24h・μm至250g/m 2・24h・μm。硬塗層之透濕度若為此種範圍，可透過與上述特定之樹脂薄膜組合而形成具有上述所期望之透濕度的第1保護層。另，硬塗層之每單位厚度之透濕度為第1保護層之透濕度減樹脂薄膜之透濕度後除以硬塗層厚度所得之值。
硬塗層之霧度值舉例來說為5%以上，又可舉例為10%以上，又可舉例為15%以上，又可舉例為20%以上。另一方面，硬塗層之霧度值舉例來說為50%以下，又可舉例為45%以下，又可舉例為40%以下，又可舉例如35%以下。霧度值若為此種範圍，可抑制濃淡發生及從外部倒映，並且，可抑制影像顯示裝置之顯示特性(例如鮮明度、暗處之對比)低落。具代表性地，霧度值可遵照JIS K 7136來測定。
硬塗層之厚度宜為5μm以下，較宜為2μm~4μm。硬塗層之厚度若為此種範圍，可在維持所期望之透濕度的同時，形成具有所期望厚度之第1保護層。
硬塗層可利用任意之適切方法來形成。舉例來說，硬塗層可藉下述方式形成：於樹脂薄膜上塗佈硬塗層形成用樹脂組成物(塗佈液)並使其乾燥，再對已乾燥之塗膜照射紫外線使其硬化。
D.第2保護層 第2保護層之透濕度係如上述般小於100g/m 2・24h，且宜為10g/m 2・24h至70g/m 2・24h，較宜為20g/m 2・24h至50g/m 2・24h。第2保護層之透濕度若為種範圍，以構成另一黏著劑層之黏著劑(後述)來充填貫通孔時，可抑制氣泡發生，並且可令高溫高濕環境下之黏著劑層表面電阻值之變化縮小。
第2保護層只要可獲得上述所期望之透濕度，可透過可用作偏光件保護層之任意之適切樹脂薄膜來構成。會成為樹脂薄膜之主成分之材料的具體例可舉如環烯烴系樹脂(例如降莰烯系樹脂)。
第2保護層之厚度宜為10μm~30μm，較宜為10μm~16μm。第2保護層之厚度若為此種範圍，可形成具有上述所期望之特性並且具有上述所期望之總厚度的偏光板。
E.黏著劑層 如同上述，黏著劑層係供用於將偏光板貼合於影像顯示單元。黏著劑層之表面電阻值如同上述為1.0×10 8Ω/□至2.0×10 9Ω/□，且宜為3.0×10 8Ω/□至1.2×10 9Ω/□，較宜為5.0×10 8Ω/□至1.0×10 9Ω/□。黏著劑層之表面電阻值若為此種範圍，將偏光板應用於影像顯示裝置時可抑制導通之不良情況。
黏著劑層對玻璃之黏著力宜為1.5N/25mm以上且小於5.5N/25mm，較宜為2.5N/25mm以上且4.5N/25mm以下，更宜為3.0N/25mm以上且4.0N/25mm以下。黏著力若為此種範圍，對影像顯示面板之密著性優異，並且重工性優異。
黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數宜為1.0×10 4Pa至1.0×10 6Pa，較宜為1.0×10 4Pa至1.0×10 5Pa。黏著劑層之儲存彈性模數若為此種範圍，可抑制高溫高濕環境下之偏光板外觀不良。另，儲存彈性模數可藉動態黏彈性測定來取得。
黏著劑層於70℃下之潛變量ΔCr舉例來說為120μm以下，亦可為50μm以下、45μm以下、40μm以下、35μm以下、30μm以下、25μm以下、20μm以下，也可進一步為15μm以下。潛變量ΔCr之下限舉例來說為0.5μm。潛變量若為此種範圍，便與儲存彈性模數時相同，可抑制高溫高濕環境下之偏光板外觀不良。另，舉例來說，潛變值可按以下順序測得：對已透過長20mm×寬20mm之接合面貼附於不銹鋼製試驗板上之黏著劑層，在已將試驗板固定住之狀態下，於鉛垂下方施加500gf之荷重。在開始施加荷重100秒後及3600秒後之各時間點，測定黏著劑層對試驗板之潛變量(偏移量)，令其等分別為Cr 100及Cr 3600。可利用算式ΔCr=Cr 3600-Cr 100，從所測得之Cr 100及Cr 3600求出潛變量ΔCr。
如同上述，黏著劑層之厚度為12μm~17μm，且宜為13μm~16μm。黏著劑層之厚度若為此種範圍，可抑制高溫高濕環境下之剝離，在此同時，以構成另一黏著劑層之黏著劑(後述)充填貫通孔時，還可抑制氣泡發生。
就構成黏著劑層之黏著劑(黏著劑組成物)而言，只要可滿足上述特性，可使用任意之適切黏著劑。具代表性地，黏著劑組成物包含基底聚合物與導電成分。
基底聚合物可舉例如(甲基)丙烯酸系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚矽氧系聚合物及橡膠系聚合物。宜為(甲基)丙烯酸系聚合物。本說明書中，有時會將用作基底聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物稱為(甲基)丙烯酸系基底聚合物。
具代表性地，(甲基)丙烯酸系基底聚合物含有單體成分之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基可舉例如：具有1個~18個碳原子之直鏈或支鏈狀烷基。該烷基之平均碳數宜為3個~9個，較宜為3個~6個。較佳之(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸丁酯。基底聚合物中之含烷氧基單體之含量相對於全單體成分100重量份宜為50重量份，且較宜為60重量份以上，更宜為70重量份以上，尤宜為80重量份以上。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用，亦可併用2種以上。
具代表性地，(甲基)丙烯酸系基底聚合物含有可與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚合之單體成分(共聚合單體成分)。共聚合單體成分可舉例如含羧基單體、含羥基單體、含烷氧基單體、含醯胺基單體、含芳香環之(甲基)丙烯酸酯及含雜環之乙烯基系單體。藉由適切調整共聚合單體之種類、數量、組合及摻合量(含量)等，可獲得具有所期望特性之基底聚合物(就結果而言則是黏著劑層)。於一實施形態中，(甲基)丙烯酸系基底聚合物可為下列單體之共聚物：(甲基)丙烯酸烷基酯(例如丙烯酸丁酯)、含芳香環之(甲基)丙烯酸酯(例如丙烯酸苯氧基乙酯)、含雜環之乙烯基系單體(例如N-乙烯基-2-吡咯啶酮)、含羧基單體(例如丙烯酸)及含羥基單體(例如4-羥基丙烯酸丁酯)。
(甲基)丙烯酸系基底聚合物之重量平均分子量Mw宜為100萬~300萬，且較宜為100萬~200萬，更宜100萬~160萬。重量平均分子量Mw若小於100萬，有時會有裂痕抑制不足之情況。若重量平均分子量Mw超過300萬，有時會有黏度上昇及/或在聚合物之聚合過程中發生凝膠化的情況。
具代表性地，導電成分可舉如無機陽離子鹽、有機陽離子鹽。
無機陽離子鹽具體來說即是無機陽離子-陰離子鹽。具代表性地，構成無機陽離子鹽之陽離子部分的陽離子可舉如鹼金屬離子。具體例可舉如鋰離子、鈉離子及鉀離子。宜為鋰離子。因此，較佳之無機陽離子鹽為鋰鹽。
構成無機陽離子鹽之陰離子部分的陰離子可舉例如Cl -、Br -、I -、AlCl 4 -、Al 2Cl 7 -、BF 4 -、PF 6 -、ClO 4 -、NO 3 -、CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、(CF 3SO 2) 3C -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、(CN) 2N -、C 4F 9SO 3 -、C 3F 7COO -、(CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、 -O 3S(CF 2) 3SO 3 -及下列通式(1)~(4)所示陰離子： (1)：(C nF 2n ＋ 1SO 2) 2N -(n為1~10之整數)； (2)：CF 2(C mF 2mSO 2) 2N -(m為1~10之整數)； (3)： -O 3S(CF 2) lSO 3 -(l為1~10之整數)； (4)：(C pF 2p ＋ 1SO 2)N -(C qF 2q ＋ 1SO 2)　(p、q為1~10之整數)。 以含氟陰離子為佳，且含氟醯亞胺陰離子更佳。
含氟醯亞胺陰離子可舉例如具有全氟烷基之醯亞胺陰離子。具體例可舉如上述(CF 3SO 2)(CF 3CO)N -以及下列通式(1)、(2)及(4)所示陰離子： (1)：(C nF 2n ＋ 1SO 2) 2N -(n為1~10之整數)； (2)：CF 2(C mF 2mSO 2) 2N -(m為1~10之整數)； (4)：(C pF 2p ＋ 1SO 2)N -(C qF 2q ＋ 1SO 2)　(p、q為1~10之整數)。 宜為(CF 3SO 2) 2N -、(C 2F 5SO 2) 2N -等之通式(1)所示(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，較宜為(CF 3SO 2) 2N -所示雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺。因此，本發明實施形態中可使用之較佳無機陽離子鹽為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰。
有機陽離子鹽具體來說即為有機陽離子-陰離子鹽。具代表性地，構成有機陽離子鹽之陽離子部分的陽離子可舉如：利用有機基進行取代而形成鎓離子之有機鎓。有機鎓中之鎓可舉例如含氮鎓、含硫鎓、含磷鎓。較佳為含氮鎓、含硫鎓。含氮鎓可舉如銨陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、具吡咯啉骨架之陽離子、具吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子。含硫鎓可舉例如鋶陽離子。含磷鎓可舉例如鏻陽離子。有機鎓中之有機基可舉例如烷基、烷氧基、烯基。較佳之有機鎓之具體例可舉如四烷基銨陽離子(例如三甲基丁基銨陽離子)、烷基哌啶鎓陽離子、烷基吡咯啶鎓陽離子。構成有機陽離子鹽之陰離子部分的陰離子則如同構成無機陽離子之陰離子部分的陰離子之相關說明。本發明實施形態可使用之較佳有機陽離子鹽為甲基丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
亦可將無機陽離子鹽與有機陽離子鹽組合使用。
導電成分可為固體亦可為液體(即離子性液體)。
黏著劑組成物中之導電成分含量相對於基底聚合物100重量份，宜為5重量份~15重量份，較宜為8重量份~12重量份。導電成分含量若為此種範圍，可不對其他特性帶來不良影響而獲得所期望之表面電阻值。
具代表性地，黏著劑組成物含有矽烷偶合劑及/或交聯劑。具代表性地，矽烷偶合劑可舉如含官能基之矽烷偶合劑。官能基可舉例如環氧基、巰基、胺基、異氰酸酯基、三聚異氰酸酯基、乙烯基、苯乙烯基、乙醯乙醯基、醯脲基、硫脲基、(甲基)丙烯醯基、雜環基、酸酐基及其等之組合。含官能基之矽烷偶合劑可單獨或組合使用。交聯劑可舉如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑。交聯劑也可單獨或組合使用。
黏著劑組成物可含有添加劑。添加劑之具體例可舉如著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、賦黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、老化防止劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機充填劑、金屬粉、粒子狀或箔狀物。此外，在可控制之範圍內，也可採用包含還原劑在內之氧化還原系。添加劑之種類、數量、組合、含量等可視目的來適切設定。
F.影像顯示裝置 本發明實施形態之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此，影像顯示裝置也包含在本發明實施形態中。影像顯示裝置可舉例如液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、量子點顯示裝置。圖2為本發明一實施形態之影像顯示裝置中偏光板之貫通孔附近部分之主要部分概略截面圖。圖示例之影像顯示裝置200具有：影像顯示單元120；偏光板100，其透過黏著劑層40而貼合在影像顯示單元120之視辨側；另一黏著劑層140，其配置於偏光板100之視辨側。偏光板100為上述A項~E項所載本發明實施形態之偏光板。本發明實施形態中，偏光板100之貫通孔50充填有構成另一黏著劑層140之黏著劑。圖示例之影像顯示裝置可視需要而進一步在另一黏著劑層140之視辨側具有蓋玻璃160。蓋玻璃160可透過另一黏著劑層140而積層於影像顯示裝置(實質上則是偏光板100)。於一實施形態中，影像顯示裝置在與偏光板100之貫通孔50對應的位置具有照相機部(未圖示)。若為此種結構，可防止對照相機攝影性能之不良影響。就影像顯示單元之與視辨側相反側之結構而言，可因應影像顯示裝置之種類而採用任意之適切結構，因此省略具體說明。
就構成另一黏著劑層140之黏著劑而言，可使用任意之適切黏著劑。黏著劑之具體例可舉如丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑及聚醚系黏著劑。可藉由調整形成黏著劑之基底聚合物的單體種類、數量、組合及摻合比、交聯劑摻合量、添加劑種類、數量、組合及摻合比、反應溫度以及反應時間等，調製出具有符合目的之所期望特性的黏著劑。黏著劑之基底聚合物可單獨使用亦可組合2種以上。從透明性、加工性及耐久性等觀點來看，以丙烯酸系黏著劑為宜。
另一黏著劑層於60℃下之硬化前儲存彈性模數宜為1.0×10 3Pa至1.0×10 6Pa，較宜為1.0×10 4Pa至1.0×10 5Pa。另一黏著劑層硬化後於25℃下之儲存彈性模數宜為1.0×10 4Pa至1.0×10 7Pa，較宜為1.0×10 5Pa至1.0×10 7Pa。另一黏著劑層之儲存彈性模數若為此種範圍，則貼合時柔軟且硬化後對外部應力之抵抗力增強，藉由與本發明實施形態之效果的相乘效果，而如同後述般，即使厚度薄仍可抑制貫通孔部分之氣泡。
另一黏著劑層之厚度宜為150μm以下，且較宜為120μm以下，更宜為100μm以下，尤宜為75μm以下。若依本發明實施形態，即使另一黏著劑層之厚度如此薄，仍可抑制貫通孔部分之氣泡，且高溫高濕環境下之可靠性優異，而可實現應用於影像顯示裝置時可抑制導通不良情況之偏光板。另，舉例來說，另一黏著劑層之厚度可為50μm以上。 實施例
以下，透過實施例來具體說明本發明，但本發明不侷限於此等實施例。實施例中之評價項目係如下述。此外，只要未特別敘明，實施例中之「份」及「%」均為重量基準。
(1)貫通孔部分之氣泡 將實施例及比較例所得之偏光板裁切為150mm×70mm，以貫通孔之上部會位在距離長邊方向上端3mm之位置的方式，形成直徑3mm之貫通孔。將此偏光板貼合在玻璃板。透過光學黏著劑，以真空層壓機(壓力0.3MPa，溫度60℃，10分鐘)，將在蓋玻璃上設有光學黏著劑(另一黏著劑層，厚度100μm，3M公司製「CEF7104」)之積層體貼合在偏光板/玻璃板之積層體，以光學黏著劑充填偏光板之貫通孔部分。以目測觀察貫通孔部分之氣泡，並按以下基準評價。 ○(良好)：未觀察到氣泡 ×(不良)：觀察到氣泡
(2)高溫高濕環境下之偏光度變化 將實施例及比較例所得偏光板貼合至無鹼玻璃板，令其為測定試料。針對該測定試料，使用紫外可見分光光度計(大塚電子製，LPF-200)測定偏光度P 0。進一步於65℃・90%RH下將該測定試料供予500小時耐久試驗，測定試驗後之偏光度P 500。算出ΔP=P 0-P 500，並按以下基準評價。 ○(良好)：ΔP小於0.02% ×(不良)：ΔP為0.02%以上
(3)黏著劑層之表面電阻值及表面電阻值安定性 使用Hiresta UP MCP HT450(Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.)來測定實施例及比較例所得偏光板之黏著劑層之表面電阻值。另，一旦表面電阻值超過2×10 9Ω/□，則影像顯示裝置中發生導通不良之情況增多，因此，該值以下時判斷導通性良好。進一步來說，於60℃・90%RH下將偏光板供予500小時耐久試驗，測定試驗後之黏著劑層之表面電阻值，並按以下基準評價表面電阻值之安定性。 ○(良好)：表面電阻值為2×10 9Ω/□以下 ×(不良)：表面電阻值大於2×10 9Ω/□
(4)高溫高濕環境下之偏光板剝離 將實施例及比較例所得偏光板裁切為300mm×220mm，貼合在無鹼玻璃板並令其為測定試料。於60℃・90%RH下將該測定試料供予500小時之耐久試驗，觀察試驗後之偏光板狀態，並按以下基準評價。 ○(良好)：未觀察到剝離，或端部剝離小於0.3mm ×(不良)：端部觀察到0.3mm以上之剝離
(5)貫通孔附近之裂痕 將實施例及比較例所得之偏光板裁切為150mm×70mm，以貫通孔之上部會位在距離長邊方向上端3mm之位置的方式，形成直徑3mm之貫通孔。將此偏光板貼合在無鹼玻璃板，令其為測定試料。將該測定試料供予反覆變換85℃與-40℃環境達200循環之熱衝擊試驗，觀察試驗後貫通孔部分之裂痕，並按以下基準評價。 ○(良好)：貫通孔附近之裂痕最大尺寸為300μm以下 ×(不良)：貫通孔附近之裂痕最大尺寸大於300μm
＜製造例1：黏著劑層之製作＞ 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之4口燒瓶中饋入含丙烯酸丁酯80.3份、丙烯酸苯氧基乙酯16份、N-乙烯-2-吡咯啶酮(NVP)3份、丙烯酸0.3份及4-羥基丙烯酸丁酯0.4份之單體混合物。進一步對單體混合物(固體成份)100份，將用作聚合引發劑之2,2’-偶氮二異丁腈0.1份與乙酸乙酯100重量份一起饋入，一邊緩緩攪拌一邊導入氮氣，進行氮氣沖洗後，將燒瓶內之液溫維持在55℃附近並進行8小時聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)150萬之丙烯酸系聚合物溶液。對所得丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份，摻合用作導電劑(抗靜電劑)之EMI-FSI(1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟磺醯基)醯亞胺，第一工業製藥社製之離子液體)8.5份，再進一步摻合異氰酸酯交聯劑(商品名：TAKENATE D160N，三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯，三井化學(股)製)0.2份、過氧化苯甲醯基(商品名：NYPER BMT 40SV，日本油脂(股)製)0.25份、矽烷偶合劑(總研化學社製：A-100)0.2份及抗氧化劑(商品名：Irganox 1010，受阻酚系，BASF JAPAN公司製)0.3份，獲得黏著劑組成物I。
接著，以乾燥後黏著劑層厚度會成為15μm之方式，將黏著劑組成物I塗佈在經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離件薄膜：三菱化學聚酯薄膜公司製，MHE38)之單面上，於155℃下乾燥1分鐘，而在分離件薄膜之表面形成厚度15μm之黏著劑層A。
＜製造例2：黏著劑層之製作＞ 除了變更黏著劑組成物I之塗佈厚度之外，與製造例1同樣地在分離件薄膜之表面形成厚度10μm之黏著劑層B。
＜製造例3：黏著劑層之製作＞ 除了使用20份之TBMA-TFSI(三丁基甲基銨雙(三氟甲烷)磺醯亞胺，3M公司製離子性液體，FC-4400)來取代8.5份之EMI-FSI之外，與製造例1同樣地製得黏著劑組成物II。除了使用黏著劑組成物II之外，與製造例1同樣地在分離件薄膜表面形成厚度15μm之黏著劑層C。
＜製造例4：黏著劑層之製作＞ 除了變更黏著劑組成物I之塗佈厚度之外，與製造例1同樣地在分離件薄膜之表面形成厚度20μm之黏著劑層D。
＜製造例5：黏著劑層之製作＞ 除了將EMI-FSI之摻合量從8.5份變更為6.0份之外，與製造例1同樣地製得黏著劑組成物III。除了使用黏著劑組成物III及變更塗佈厚度之外，與製造例1同樣地在分離件薄膜表面上形成厚度20μm之黏著劑層E。
＜製造例6：硬塗層形成用樹脂組成物之調製＞ 將紫外線硬化型丙烯酸酯樹脂(新中村化學(股)製，商品名「A-DCP」，固體成份100%)50重量份(固體成份換算)、紫外線硬化型丙烯酸酯樹脂(三菱化學(股)製，商品名「UV-1700TL」，固體成份80%)50重量份(固體成份換算)、光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」)5重量份及調平劑(共榮社化學(股)製，商品名「LE-303」，固體成分40%)0.1重量份予以混合。以固體成分濃度會成為30%之方式，以甲基異丁基酮(MIBK)/環戊酮混合溶劑(重量比60/40)稀釋該混合物，調製出硬塗層形成用樹脂組成物(塗佈液)A。另，「A-DCP」為三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯，「UV-1700TL」為10官能胺基甲酸酯丙烯酸酯。將由塗佈液A形成之硬塗層稱為硬塗層A。
＜製造例7：硬塗層形成用樹脂組成物之調製＞ 將紫外線硬化型丙烯酸酯樹脂(東亞合成(股)製，商品名「M-920」，固體成份100%)40重量份、紫外線硬化型丙烯酸酯樹脂(三菱化學(股)製，商品名「UV-1700TL」，固體成分80%)60重量份、光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」)3重量份及調平劑(共榮社化學(股)製，商品名「LE-303」，固體成分40%)0.2重量份予以混合。以固體成分濃度會成為30%之方式，以MIBK/環戊酮混合溶劑(重量比70/30)稀釋該混合物，調製出硬塗層形成用樹脂組成物(塗佈液)B。另，「M-920」為甘油三丙烯酸酯。塗佈液B所形成之硬塗層稱為硬塗層B。
＜製造例8：硬塗層形成用樹脂組成物之調製＞ 將紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯(DIC(股)製，商品名「UNIDIC 17-806」，固體成份80%)100重量份、光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」)3重量份及調平劑(DIC(股)製，商品名「PC4100」，固體成份40%)0.01重量份予以混合。以固體成分濃度會成為36%之方式，以丙二醇單甲醚(PGM)/環戊酮混合溶劑(重量比63/37)稀釋該混合物，調製出硬塗層形成用樹脂組成物(塗佈液)C。將塗佈液C所形成之硬塗層稱為硬塗層C。
＜實施例1＞ 就熱可塑性樹脂基材而言，使用長條狀且Tg為約75℃之非晶質異酞酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100μm)，並對樹脂基材單面施行電暈處理。 於聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)與乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業社製，商品名「GOHSEFIMER」)以9：1方式混合而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，將添加所得之物溶於水而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 對樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液，於60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，製作出積層體。 於130℃之烘箱內將所得積層體朝縱向(長向)單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬在液溫40℃之不溶化浴(對水100重量份摻合硼酸4重量份所得之硼酸水溶液)30秒(不溶化處理)。 接著，使其於液溫30℃之染色浴(對水100重量份以1：7之重量比摻合碘與碘化鉀所得之碘水溶液)中，以最終所得偏光件之單體透過率(Ts)會成為所期望之值的方式，一邊調整濃度一邊浸漬60秒(染色處理)。 接著，使其於液溫40℃之交聯浴(對水100重量份摻合碘化鉀3重量份並摻合合硼酸5重量份所得之硼酸水溶液)浸漬30秒(交聯處理)。 之後，使積層體一邊浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%，碘化鉀濃度5重量%)，一邊在圓周速度不同之輥間，以朝縱向(長向)之總延伸倍率為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬在液溫20℃之洗淨浴(對水100重量份摻合碘化鉀4重量份所得之水溶液)(洗淨處理)。 之後，於保持在約90℃之烘箱中一邊乾燥，一邊使其接觸表面溫度保持在約75℃之SUS製加熱輥(乾燥收縮處理)。 如此，在樹脂基材上形成厚度約5μm之偏光件，而獲得具有樹脂基材/偏光件之結構的積層體。
準備三醋酸纖維素(TAC)薄膜(厚度25μm)來作為第1保護層之樹脂薄膜。對該TAC薄膜塗佈製造例6之塗佈液A，將塗膜於60℃下加熱1分鐘並乾燥後，以高壓水銀燈照射積算光量260mJ/cm 2之紫外線，使上述塗膜硬化而形成厚度3μm之硬塗(HC)層A。如此製得用作第1保護層之HC-TAC薄膜。於上述所得積層體之偏光件表面(與樹脂基材相反側之面)貼合用作第1保護層之HC-TAC薄膜。另外，HC-TAC薄膜係以TAC薄膜成為偏光件側之方式來貼合。接著，剝離樹脂基材，於該剝離面上貼合用作第2保護層之環狀烯烴系樹脂(COP)薄膜(厚度13μm)。進一步於COP薄膜表面轉印製造例1之黏著劑層A(厚度15μm)。如此，製得具有第1保護層(HC層A/TAC薄膜)/偏光件(5μm)/第2保護層(COP薄膜)/黏著劑層A之結構的偏光板。將所得偏光板供予上述(1)~(5)之評價。茲將結果示於表1。
＜實施例2＞ 使長條狀之聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜含有碘，朝長向(MD方向)單軸延伸而製作出偏光件(厚度12μm)。除了使用該偏光件之外，與實施例1同樣地製得形成有貫通孔之偏光板。所得偏光板供予與實施例1同樣之評價。茲將結果示於表1。
＜比較例1~9＞ 製作表1所示結構之偏光板。將所得偏光板供予與實施例1同樣之評價。茲將結果示於表1。
[表1]
Figure 02_image001
表1中厚度單位為「μm」，透濕度單位為「g/m 2・24h」。
從表1可明確得知，本發明實施例之偏光板呈薄型，貫通孔部分之氣泡受到抑制且高溫高濕環境下之可靠性優異(具體來說則是，偏光度變化小、黏著劑層之表面電阻值變化小且從影像顯示單元剝離之現象受抑制)。進一步來說，從黏著劑層之表面電阻值可知，本發明實施例之偏光板應用於影像顯示裝置時，可抑制導通不良之情況。 產業上之可利用性
本發明實施形態之偏光板可適於用在影像顯示裝置，尤其可適於用在以智慧型手機、平板型PC及智慧手錶為代表之具有照相機部的影像顯示裝置。
10:偏光件 20:第1保護層 21:樹脂薄膜 22:硬塗層 30:第2保護層 40:黏著劑層 50:貫通孔 100:偏光板 120:影像顯示單元 140:另一黏著劑層 160:蓋玻璃 200:影像顯示裝置
圖1為本發明一實施形態之偏光板中之貫通孔附近部分之主要部分概略截面圖。 圖2為本發明一實施形態之影像顯示裝置中之偏光板之貫通孔附近部分之主要部分概略截面圖。
10:偏光件
20:第1保護層
21:樹脂薄膜
22:硬塗層
30:第2保護層
40:黏著劑層
50:貫通孔
100:偏光板

Claims (10)

  1. 一種偏光板，具有： 偏光件； 第1保護層，其配置於該偏光件之一側，且包含樹脂薄膜及形成在該樹脂薄膜之與該偏光件相反側之硬塗層； 第2保護層，其配置於該偏光件之另一側；及 黏著劑層，其設於該第2保護層之與該偏光件相反側； 並且，該偏光板之總厚度為70μm以下且形成有貫通孔， 該偏光件之厚度為12μm以下， 該第1保護層之厚度為29μm以下且透濕度為200g/m 2・24h至500g/m 2・24h， 該第2保護層之透濕度小於100g/m 2・24h， 該黏著劑層之厚度為12μm~17μm且表面電阻值為1.0×10 8Ω/□至2.0×10 9Ω/□。
  2. 如請求項1之偏光板，其中前述硬塗層之厚度為5μm以下。
  3. 如請求項2之偏光板，其中前述硬塗層係樹脂組成物之硬化層，該樹脂組成物包含6官能以上之胺基甲酸酯丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯及光聚合引發劑。
  4. 如請求項3之偏光板，其中前述樹脂組成物係以60/40(重量比)至40/60(重量比)之比例來包含前述6官能以上之胺基甲酸酯丙烯酸酯與前述三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述第1保護層之樹脂薄膜為三醋酸纖維素薄膜，前述第2保護層係以環烯烴系樹脂薄膜來構成。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光板，其中前述貫通孔之直徑為5mm以下。
  7. 一種影像顯示裝置，具有： 影像顯示單元； 如請求項1至6中任一項之偏光板，其透過前述黏著劑層而貼合在該影像顯示單元之視辨側；及 另一黏著劑層，其配置於該偏光板之視辨側； 並且，該偏光板之貫通孔充填有構成該另一黏著劑層之黏著劑。
  8. 如請求項7之影像顯示裝置，其中前述另一黏著劑層之厚度為120μm以下。
  9. 如請求項7或8之影像顯示裝置，其進一步於前述另一黏著劑層之視辨側具有蓋玻璃。
  10. 如請求項7至9中任一項之影像顯示裝置，其係在與前述偏光板之貫通孔對應之位置具有照相機部。
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