TW202241815A - 硫酸鈷之製造方法 - Google Patents

硫酸鈷之製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TW202241815A
TW202241815A TW111101989A TW111101989A TW202241815A TW 202241815 A TW202241815 A TW 202241815A TW 111101989 A TW111101989 A TW 111101989A TW 111101989 A TW111101989 A TW 111101989A TW 202241815 A TW202241815 A TW 202241815A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
cobalt
solution
solvent
chloride solution
extraction step
Prior art date
Application number
TW111101989A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI809665B (zh
Inventor
渡邉寛人
大原秀樹
工藤敬司
金子高志
檜垣達也
近藤菜月
平郡伸一
Original Assignee
日商住友金屬礦山股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商住友金屬礦山股份有限公司 filed Critical 日商住友金屬礦山股份有限公司
Publication of TW202241815A publication Critical patent/TW202241815A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI809665B publication Critical patent/TWI809665B/zh

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D11/00—Solvent extraction
    • B01D11/04—Solvent extraction of solutions which are liquid
    • B01D11/0492—Applications, solvents used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G51/00—Compounds of cobalt
    • C01G51/003—Preparation involving a liquid-liquid extraction, an adsorption or an ion-exchange
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D11/00—Solvent extraction
    • B01D11/04—Solvent extraction of solutions which are liquid
    • B01D11/0488—Flow sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D9/00—Crystallisation
    • B01D9/0018—Evaporation of components of the mixture to be separated
    • B01D9/0022—Evaporation of components of the mixture to be separated by reducing pressure
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G3/00—Compounds of copper
    • C01G3/12—Sulfides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G51/00—Compounds of cobalt
    • C01G51/10—Sulfates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B23/00—Obtaining nickel or cobalt
    • C22B23/04—Obtaining nickel or cobalt by wet processes
    • C22B23/0407—Leaching processes
    • C22B23/0415—Leaching processes with acids or salt solutions except ammonium salts solutions
    • C22B23/043—Sulfurated acids or salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B23/00—Obtaining nickel or cobalt
    • C22B23/04—Obtaining nickel or cobalt by wet processes
    • C22B23/0453—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B23/0461—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical methods
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
    • C22B3/32—Carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
    • C22B3/32—Carboxylic acids
    • C22B3/324—Naphthenic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
    • C22B3/32—Carboxylic acids
    • C22B3/326—Ramified chain carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. "versatic" acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
    • C22B3/38—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds containing phosphorus
    • C22B3/384—Pentavalent phosphorus oxyacids, esters thereof
    • C22B3/3842—Phosphinic acid, e.g. H2P(O)(OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
    • C22B3/38—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds containing phosphorus
    • C22B3/384—Pentavalent phosphorus oxyacids, esters thereof
    • C22B3/3844—Phosphonic acid, e.g. H2P(O)(OH)2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
    • C22B3/38—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds containing phosphorus
    • C22B3/384—Pentavalent phosphorus oxyacids, esters thereof
    • C22B3/3846—Phosphoric acid, e.g. (O)P(OH)3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/44—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00—Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20—Recycling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

本發明提供一種硫酸鈷之製造方法，其係在不利用電解步驟的情況下，從含有雜質之氯化鈷溶液中將雜質與鈷分離，製造高純度之硫酸鈷。 本發明依序實行：第1溶劑萃取步驟S1，其係使含有雜質之氯化鈷溶液與包含磷酸烷基酯（alkyl phosphate）系萃取劑之有機溶劑接觸，將鋅、錳及鈣萃取至有機溶劑中而將其等分離去除；脫銅步驟S2，其係於氯化鈷溶液中添加硫化劑，生成銅之硫化物之沈澱而將其分離去除；第2溶劑萃取步驟S3，其係使氯化鈷溶液與包含羧酸萃取劑之有機溶劑接觸，使鈷萃取至有機溶劑中後，用硫酸將鈷逆萃取而獲得硫酸鈷溶液；及晶析步驟S4，其係對經過第2溶劑萃取步驟S3所得之硫酸鈷溶液實行。可在不利用電解步驟的情況下，將包含鎂之雜質與鈷分離，直接製造高純度之硫酸鈷。

Description

硫酸鈷之製造方法
本發明係關於一種硫酸鈷之製造方法。更詳細而言係關於一種去除氯化鈷溶液中所含之雜質元素從而獲得高純度之硫酸鈷之製造方法。
鈷係除用作特殊合金之添加元素以外，還作為磁性材料或鋰離子蓄電池之原料廣泛用於工業用途中之有價金屬。尤其是最近，鋰離子蓄電池較多地用作行動機器或電動汽車之電池，鈷之需求亦隨之迅速擴大。然而，鈷絕大多數係作為鎳冶煉或銅冶煉之副產物而產出者，因此於鈷之製造中與以鎳或銅為代表之雜質分離成為重要之關鍵技術。
例如，於鎳之濕式冶煉中將作為副產物之鈷回收之情形時，首先，為了獲得含有鎳與鈷之溶液，使用無機酸或氧化劑等將原料浸出或萃取至溶液中或對原料進行溶解處理。進而，所得之酸性溶液中所含之鎳與鈷大多情況下係根據先前公知之方法，藉由使用各種有機萃取劑之溶劑萃取法而進行分離回收。 然而，所得之鈷溶液中大多含有來自處理原料之各種雜質。
因此，需要從藉由上述溶劑萃取法將鎳分離回收後之鈷溶液中，進而去除錳、銅、鋅、鈣及鎂等雜質元素。 並且，為了製造雜質含量較少之高純度鈷製品，需要在預先去除從含有鈷之鎳溶液中分離回收所得之鈷溶液中之雜質元素後，藉由電解步驟或者晶析等使鈷製品化。
作為鈷溶液中之雜質元素之去除方法，有專利文獻1、2所記載之先前技術。 於專利文獻1中揭示有鈷溶液之純化方法，該純化方法包含：（1）脫銅步驟，其係於鈷溶液中添加硫化劑，將氧化還原電位（ORP）（Ag/AgCl電極標準）調整至50 mV以下且將pH值調整至0.3～2.4，從而獲得硫化銅沈澱與脫銅純化液；（2）脫錳步驟，其係於該脫銅純化液中添加氧化劑與中和劑，將氧化還原電位（Ag/AgCl電極標準）調整至950～1050 mV且將pH值調整至2.4～3.0，從而獲得錳沈澱與脫錳純化液；（3）溶劑萃取步驟，其係於該脫錳純化液中使用磷酸烷基酯（alkyl phosphate）作為萃取劑，將脫錳純化液中之鋅、鈣及微量雜質萃取分離。 於專利文獻2中記載有金屬雜質之分離技術，其係使鹽酸濃度2～6 mol/L之氯化鈷溶液與陰離子交換樹脂接觸，使形成對於陰離子交換樹脂之分配係數大於鈷氯化物錯合物之對於陰離子交換樹脂之分配係數之錯合物之鐵、鋅、錫等金屬雜質吸附而分離。
上述專利文獻1所記載之使用磷酸烷基酯作為萃取劑之溶劑萃取方法對於鋅或鈣具有較高之分離性能。然而，於鹽酸濃度2～6 mol/L之氯化鈷溶液之情形時，利用陰離子交換樹脂之離子交換法或利用胺系萃取劑之溶劑萃取法具有比上述使用磷酸烷基酯之溶劑萃取法更高之鋅與鈷之分離性能。 又，於去除氯化鈷溶液中之極微量之鋅之情形時，利用離子交換法時步驟及操作簡單，因此更有效率且更經濟。
就此種觀點而言，作為從含有錳、銅、鋅之氯化鈷溶液中去除該等雜質元素之方法，提出了將上述專利文獻1之純化方法與專利文獻2之分離技術組合之方法（例如專利文獻3）。 專利文獻3之段落0022所記載之高純度氯化鈷之製造方法包含：分離鎳與鈷之溶劑萃取步驟、去除錳之脫錳步驟、去除銅之脫銅步驟、去除鋅之脫鋅步驟及電解步驟。 於脫鋅步驟中，使脫銅步驟中所得之氯化鈷水溶液與陰離子交換樹脂接觸而將鋅吸附去除。於電解步驟中使用脫鋅步驟中所得之高純度氯化鈷水溶液作為電解給液，製造金屬鈷（亦稱為電解鈷）。
另一方面，如上所述，最近鈷用作鋰離子蓄電池之原料之需求擴大，期望硫酸鈷溶液或者硫酸鈷結晶之形態。 若欲從藉由專利文獻3之先前技術所得之金屬鈷中獲得硫酸鈷結晶，則將金屬鈷溶解於硫酸中而獲得硫酸鈷溶液，進而對該溶液進行晶析，即可獲得硫酸鈷結晶。然而，若使用該製法，則因步驟之增加或藥劑費用之增加而導致製造成本提高。又，板狀金屬鈷如耐蝕合金之用途般，於硫酸中之溶解速度較慢，為使其於短時間內溶解，需要藉由霧化處理等使板狀金屬鈷成為粉末狀。 因此，期望一種不經由金屬鈷而直接從氯化鈷溶液中獲得硫酸鈷溶液之方法。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2004-285368號公報 [專利文獻2]日本特開2001-020021號公報 [專利文獻3]日本特開2020-19664號公報
[發明所欲解決之課題]
本發明係鑒於上述實情而提出者，目的在於提供一種硫酸鈷之製造方法，其係在不利用電解步驟的情況下，從含有雜質之氯化鈷溶液中將雜質與鈷分離，製造高純度之硫酸鈷。 [解決課題之技術手段]
第1發明之硫酸鈷之製造方法之特徵在於依序實行：第1溶劑萃取步驟，其係使含有銅、鋅、錳、鈣及鎂中之1種以上雜質之氯化鈷溶液與包含磷酸烷基酯系萃取劑之有機溶劑接觸，將鋅、錳及鈣萃取至該有機溶劑中而將其等分離去除；脫銅步驟，其係於經過上述第1溶劑萃取步驟之氯化鈷溶液中添加硫化劑，生成銅之硫化物之沈澱而將其分離去除；第2溶劑萃取步驟，其係使經過上述脫銅步驟之氯化鈷溶液與包含羧酸萃取劑之有機溶劑接觸，使鈷萃取至該有機溶劑中後，用硫酸將鈷逆萃取而獲得硫酸鈷溶液。 第2發明之硫酸鈷之製造方法之特徵在於：於第1發明中，於上述第1溶劑萃取步驟中，磷酸烷基酯系萃取劑為磷酸氫雙(2-乙基己基)酯，將氯化鈷溶液之pH值調整至1.5～3.0，實施使用上述萃取劑之溶劑萃取，將雜質元素萃取至有機溶劑中。 第3發明之硫酸鈷之製造方法之特徵在於：於第1或第2發明中，於上述脫銅步驟中，於添加有硫化劑之氯化鈷溶液中添加氧化劑及中和劑，將氧化還原電位調整至-100～200 mV（Ag/AgCl電極標準），且將pH值調整至1.3～3.0。 第4發明之硫酸鈷之製造方法之特徵在於：於第1、第2或第3發明中，於上述第2溶劑萃取步驟中，於去除了銅、鋅、錳及鈣之氯化鈷溶液中添加鹼性溶液，將pH值調整至5.0～7.0，實行將鈷萃取至使用有羧酸系萃取劑之有機溶劑中之鈷萃取步驟。 第5發明之硫酸鈷之製造方法之特徵在於：於第1、第2或第3發明中，繼上述第2溶劑萃取步驟中之上述鈷萃取步驟後，使萃取有鈷之有機溶劑與硫酸溶液接觸，將pH值調整至2.0～4.5，實行將鈷逆萃取至硫酸溶液中之鈷逆萃取步驟。 第6發明之硫酸鈷之製造方法之特徵在於：於第1發明中，對經過上述第2溶劑萃取步驟所得之硫酸鈷溶液實施晶析步驟，獲得硫酸鈷之結晶。 第7發明之硫酸鈷之製造方法之特徵在於：於第1、第2、第3、第4、第5或第6發明中，上述第2溶劑萃取步驟包含溶劑回收處理，該溶劑回收處理係如下處理：使萃取出鈷後之氯化鈷溶液與將鈷逆萃取至硫酸溶液後之有機溶劑接觸，將pH值調整至2.0以上4.0以下，將氯化鈷溶液中之羧酸系萃取劑分離。 [發明之效果]
根據第1發明，可從含有雜質之氯化鈷溶液中，藉由使鋅、錳及鈣分離去除之第1溶劑萃取步驟、使銅以硫化物形式沈澱之脫銅步驟、及使鎂分離去除之第2溶劑萃取步驟而獲得雜質已被去除之高純度硫酸鈷溶液。因此，可在不利用電解步驟的情況下將雜質與鈷分離，直接製造高純度之硫酸鈷。 根據第2發明，藉由將pH值調整至1.5～3.0，可將鈷殘留於水相中，萃取鋅、錳及鈣從而與鈷分離。 根據第3發明，從氯化鈷溶液中可使銅之硫化物沈澱而將其充分地去除，並且可抑制鈷之共沈澱。 根據第4發明，藉由將pH值調整至5.0～7.0，使氯化鈷溶液與包含羧酸系萃取劑之有機溶劑接觸，可將鈷萃取至有機相中。 根據第5發明，藉由使萃取至有機相之鈷與硫酸溶液接觸，將pH值調整至2.0～4.5，可將鈷逆萃取至硫酸溶液中。如此可獲得高純度之硫酸鈷溶液。 根據第6發明，藉由進而實行晶析步驟，可從硫酸鈷溶液中獲得高純度之硫酸鈷結晶。 根據第7發明，藉由實行分離氯化鈷溶液中之羧酸系萃取劑之溶劑回收步驟，可抑制萃取後之氯化鈷溶液所含有之有機溶劑之損耗，或抑制因排水導致環境負荷增加。
以下，對本發明之具體實施方式詳細地進行說明。再者，本發明並不限定於以下實施方式，可於不會變更本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
（本發明之基本原理） 基於圖1對本發明之硫酸鈷之製造方法進行說明。 該製造方法之特徵在於依序實行以下步驟。 （1）第1溶劑萃取步驟S1，其係使含有銅、鋅、錳、鈣及鎂中之1種以上雜質之氯化鈷溶液與包含磷酸烷基酯系萃取劑之有機溶劑接觸，將鋅、錳及鈣萃取至該有機溶劑中而將其等分離去除； （2）脫銅步驟S2，其係於藉由第1溶劑萃取步驟S1而將鋅、錳、鈣去除後之氯化鈷溶液中添加硫化劑，生成銅之硫化物之沈澱而將其分離去除；及 （3）第2溶劑萃取步驟S3，其係使藉由脫銅步驟S2而將銅、鋅、錳及鈣去除後之氯化鈷溶液與包含羧酸萃取劑之有機溶劑接觸，使鈷萃取至該有機溶劑中後，用硫酸將鈷逆萃取而獲得硫酸鈷溶液。並且，較佳為上述第2溶劑萃取步驟S3中包含溶劑回收處理S32。
本發明中，於上述各步驟S1～S3之後，視需要實行從硫酸鈷溶液中使結晶析出之晶析步驟S4。 再者，圖1中雖未圖示，但亦可於第1溶劑萃取步驟S1之後、及（或）第2溶劑萃取步驟S3之後，追加供於活性碳管柱等油水分離裝置以使混入至液中之有機成分分離去除之步驟。
於本發明中，作為起始原料之氯化鈷溶液含有作為雜質元素之銅、鋅、錳、鈣及鎂中之1種以上。只要為此種含有雜質之氯化鈷溶液則不受本發明之應用之任何限定，但尤其適用於在鎳冶煉之溶劑萃取步驟中藉由磷酸烷基酯系萃取劑或胺系萃取劑，從含有鈷之鎳溶液中將鎳分離回收後之氯化鈷溶液。
根據本發明，可從含有雜質之氯化鈷溶液中，藉由第1溶劑萃取步驟S1將鋅、錳及鈣分離去除，藉由脫銅步驟S2生成銅之硫化物沈澱而將銅去除，藉由第2溶劑萃取步驟S3將鎂分離去除，從而獲得高純度之硫酸鈷溶液。因此，可在不利用電解步驟的情況下將雜質與鈷分離，直接製造高純度之硫酸鈷溶液。並且，可藉由第2溶劑萃取步驟S3所包含之溶劑回收處理S32將羧酸系萃取劑分離回收。
又，根據本發明，藉由對經過上述各步驟S1～S3後之硫酸鈷溶液實施晶析步驟S4，可使結晶從溶液中析出，獲得硫酸鈷結晶。
（實施方式） 以下，基於圖2～圖5對硫酸鈷之製造方法之實施方式進行說明。圖2彙總示出了圖1所示之步驟S1～S3之詳情。
（第1溶劑萃取步驟S1） 基於圖2及圖3，對第1溶劑萃取步驟S1進行說明。 第1溶劑萃取步驟S1係使作為起始原料之含有銅、鋅、錳、鈣及鎂中之1種以上雜質之氯化鈷溶液與包含磷酸烷基酯系萃取劑的有機溶劑接觸，將鋅、錳及鈣萃取至該有機溶劑中而將其等分離去除之步驟。再者，亦可萃取銅之一部分而將其分離去除。
作為有機溶劑，可使用藉由稀釋劑將磷酸烷基酯系萃取劑稀釋所得者。作為磷酸烷基酯系萃取劑，可列舉：磷酸氫雙(2-乙基己基)酯（商品名D2EHPA）、(2-乙基己基)膦酸2-乙基己酯（商品名PC-88A）、及二(2,4,4-三甲基戊基)次磷酸（di(2,4,4-trimethylpentyl)phosphinic acid）（商品名CYANEX272）。該等之中，於從去除了銅之氯化鈷溶液中分離鋅、錳及鈣之情形時，較佳為使用與鈷之分離性較高之磷酸氫雙(2-乙基己基)酯作為萃取劑。
稀釋劑只要能夠溶解萃取劑即可，並無特別限定。作為稀釋劑，例如可使用環烷系溶劑及芳香族系溶劑。萃取劑之濃度較佳為調整至10～60體積%，更理想為調整至20～50%體積%。若萃取劑之濃度為該範圍，則無論濃度較高之雜質元素還是分配比（有機溶劑中之元素濃度/溶液中之元素濃度）較低之雜質元素均可充分地萃取。另一方面，當萃取劑之濃度未達10%時，濃度較高之雜質元素或分配比較低之雜質元素均無法充分地萃取，容易殘留於氯化鈷溶液中。又，當萃取劑之濃度超過60%時，有機溶劑之黏度較高，有機溶劑（有機相）與氯化鈷溶液（水相）之萃取操作後之相分離性會惡化。
如式4所示，如磷酸烷基酯系萃取劑之酸性萃取劑係藉由使該萃取劑所具有之-H置換為水相中之陽離子，形成金屬鹽，從而萃取金屬離子之萃取劑。一般而言，若pH值較高則金屬離子容易被萃取至有機相中，若降低pH值，則式4之反應以逆向進行，萃取至有機相之金屬離子容易被逆萃取至水相中。 由於萃取之pH值因金屬離子之種類而異，因此於使用酸性萃取劑之溶劑萃取步驟中，藉由對pH值進行控制而進行目標元素與雜質元素之分離。 nRH org＋M n ＋ aq→MR norg＋nH ＋ aq・・・（式4） 此處，式中之RH表示酸性萃取劑，M n ＋表示n價金屬離子，org表示有機相，aq表示水相。
因此，於第1溶劑萃取步驟S1中，較佳為將氯化鈷溶液之pH值調整至1.5～3.0。於該pH值範圍中，鋅、錳及鈣之萃取率顯現高於鈷之萃取率之趨勢，可藉由將鈷殘留於水相中，將該等雜質元素萃取至有機相中而與鈷分離。 當pH值未達1.5時，該等雜質之萃取率較低，難以與鈷分離，當pH值超過3.0時，鈷之萃取率亦較大，與雜質之分離性降低。在將pH值調整至1.5～3.0之情形時，亦存在鈷之一部分被萃取之情況，但亦可使萃取後之有機相與低於萃取時之pH值之鹽酸溶液接觸，將鈷逆萃取從而將其回收，減少鈷之損耗。 進而，若使該有機相與pH值為1以下之酸性溶液接觸，則可將所萃取之大部分金屬離子逆萃取至水相中，可將逆萃取後之有機相再利用。
（脫銅步驟S2） 基於圖2，對脫銅步驟S2進行說明。 脫銅步驟S2係藉由在經過第1溶劑萃取步驟S1之氯化鈷溶液中添加硫化劑而進行。又，添加氧化劑及中和劑，將氯化鈷溶液之氧化還原電位調整至-100～200 mV（Ag/AgCl電極標準），且將pH值調整至1.3～3.0。 藉由本步驟，可生成銅之硫化物之沈澱而將其從氯化鈷溶液中分離，獲得去除了銅之氯化鈷溶液。
氯化鈷溶液中之銅係依據下述式1、式2或者式3生成硫化銅之沈澱物而從溶液中去除。 CuCl 2＋H 2S→CuS↓＋2HCl・・・（式1） CuCl 2＋Na 2S→CuS↓＋2NaCl・・・（式2） CuCl 2＋NaHS→CuS↓＋NaCl＋HCl・・・（式3）
於上述脫銅步驟S2中，若預先將氯化鈷溶液之氧化還原電位調整至-100～200 mV（Ag/AgCl電極標準），且將pH值調整至1.3～3.0，則可以硫化物形式將銅充分地去除，並且可抑制鈷之共沈澱。 假設，當氧化還原電位超過200 mV時，溶液中之銅之去除不充分，當氧化還原電位未達-100 mV時，鈷之共沈澱量增加，故不佳。又，當pH值未達1.3時，溶液中之銅之去除不充分，並且所生成之硫化物沈澱之過濾性惡化。當pH值超過3.0時，隨著銅之去除，鈷共沈澱量增加，故不佳。
上述氧化還原電位可藉由調整硫化劑之添加量而進行調整。硫化劑並無特別限定，可使用硫化氫氣體、硫化鈉或硫氫化鈉之結晶或水溶液等。 又，於使用硫化氫或硫氫化鈉作為硫化劑之情形時，上述pH值之調整係藉由調整硫化劑之添加量及添加中和劑而進行。中和劑並無特別限定，可使用氫氧化鈉、氫氧化鈣、碳酸鈉、及碳酸鈷等鹼金屬鹽。又，於因投入硫化劑而使氧化還原電位低於所需之值之情形時，可藉由添加氧化劑進行調整。例如可藉由向溶液中導入空氣並攪拌，或者添加過氧化氫溶液而進行調整。
（第2溶劑萃取步驟S3） 基於圖2、圖4及圖5，對第2溶劑萃取步驟S3進行說明。 第2溶劑萃取步驟S3係如下步驟：使經過上述脫銅步驟S2之氯化鈷溶液與包含羧酸系萃取劑之有機溶劑接觸，使鈷萃取至該有機溶劑中（以下稱為鈷萃取步驟S31），繼而同時實行從萃取出鈷後之氯化鈷溶液中分離回收羧酸系萃取劑之溶劑回收處理S32、及用硫酸將鈷逆萃取之步驟（以下稱為鈷逆萃取步驟S33），從而獲得硫酸鈷溶液。
作為有機溶劑，可使用利用稀釋劑將羧酸系萃取劑稀釋所得者。作為羧酸系萃取劑，可列舉叔羧酸（versatic acid）或環烷酸。該等係具有COOH基之酸性萃取劑。
羧酸系萃取劑於萃取金屬離子時，使與金屬價數相對應之質子釋出至水相中，金屬離子配位於羰基氧。多數羧酸於無極性溶劑中彼此藉由氫鍵形成二聚物、三聚物。又，於萃取金屬離子時，存在為去除配位於金屬離子之水合水，而使未經酸解離之羧酸配位之情形。例如，六配位之2價金屬離子M 2 ＋被二聚物之羧酸萃取劑R 2H 2萃取之反應如式5所示。 [M(H 2O) 6] 2 ＋ aq＋3（R 2H 2） org→(MR 2・4RH) org＋2H ＋ aq＋6H 2O aq・・・（式5） 此處，式中之org表示有機相，aq表示水相。
（鈷萃取步驟S31） 於鈷萃取步驟S31中，於去除銅、鋅、錳、鈣後之氯化鈷溶液中添加鹼性溶液作為中和劑，將pH值調整至5.0～7.0。若pH值為該範圍，則使氯化鈷溶液與包含羧酸系萃取劑之有機溶劑接觸後，可將鈷萃取至有機相中。 此時，鎂不會被萃取而殘留於水相中。當pH值未達5時，難以進行鈷之萃取，另一方面，當pH值超過7時，鈷之溶解度降低，存在產生沈澱之情形。
再者，作為鹼性溶液，具體而言可使用氫氧化鈉或氫氧化鉀之溶液。 又，為防止萃取中之氧化，亦可使用氮氣、氬氣或二氧化碳等非活性氣體進行鼓泡（bubbling）。
（溶劑回收處理S32與鈷逆萃取步驟S33） 如圖2所示，於鈷萃取步驟S31之後，同時實行溶劑回收處理S32與鈷逆萃取步驟S33。
（溶劑回收處理S32） 於經圖4所示之鈷萃取步驟S31萃取出鈷後之殘液即氯化鈷溶液（水相）中，會有一部分羧酸系萃取劑溶解於其中之情形。這會成為萃取劑之損耗，並且在對水相施加排水處理而排放至海域等時，亦會產生起因於萃取劑之TOC（總有機碳）所導致之對環境等之影響，故不佳。為此，宜進行將羧酸系萃取劑分離回收之溶劑回收處理S32。
如圖5所示，溶劑回收處理S32係使鈷萃取後之氯化鈷溶液（殘液）、與逆萃取後之有機溶劑、羧酸系萃取劑、及稀釋劑中之任一種以上接觸，並且添加中和劑或酸而將pH值調整至2.0以上4.0以下，將氯化鈷溶液中之羧酸系萃取劑分離回收之處理。並且，如圖4所示，該溶劑回收處理S32係針對鈷萃取步驟S31中之殘液，使用鈷逆萃取步驟S33中所得之有機溶劑（萃取劑）進行。 藉由實行該溶劑回收處理S32，可防止有機溶劑之損耗，亦可抑制排水造成之環境負荷（由羧酸系萃取劑溶解至水相中所導致之TOC濃度之上升）。
（鈷逆萃取步驟S33） 如圖4所示，於鈷逆萃取步驟S33中，使鈷萃取步驟S31中所得之被萃取至羧酸系萃取劑之鈷與硫酸溶液接觸，將pH值調整至2.0～4.5。藉此可將鈷逆萃取至硫酸溶液中。如此可獲得高純度之硫酸鈷溶液。 即使pH值未達2，亦可進行逆萃取，但即使將pH值降低過多，回收量亦不會有太大變化，所得之效果較小。另一方面，由於在低於鈷之pH值所萃取出之微量雜質之逆萃取量增加，因此不佳。進而亦存在耗費藥劑成本等問題，因此，pH值較佳為2.0以上。另一方面，當pH值超過4.5時，鈷逆萃取率降低，鈷之回收量減少，因此不佳。
再者，萃取後之有機相中即使於分相後亦混入了微細之水相，因此可於逆萃取前追加用以去除該水相之洗淨步驟。洗淨步驟之水相例如可使用硫酸鈷溶液。又，鈷逆萃取步驟S33中所得之逆萃取後之有機溶劑可作為溶劑回收處理S32中所使用之有機溶劑進行再利用。 藉由上述方法，可製造雜質較少之高純度之硫酸鈷溶液。
（晶析步驟S4） 基於圖1對晶析步驟S4進行說明。 於晶析步驟S4中，使硫酸鈷之結晶從第2溶劑萃取步驟S3中所得之硫酸鈷溶液中析出。晶析方法並無特別限定，可使用通常之結晶化方法進行。
例如，可列舉將硫酸鈷溶液收容於晶析罐中，於該晶析罐內進行晶析，藉此獲得結晶之方法。晶析罐係藉由在特定壓力下使硫酸鈷溶液中之水分蒸發而使結晶析出，例如，可使用旋轉蒸發器或雙螺旋槳型晶析罐。藉由真空泵等對內部之壓力進行減壓，於旋轉蒸發器中一面使燒瓶旋轉，一面用雙螺旋槳進行攪拌，與此同時進行晶析。再者，於晶析罐內，製成硫酸鈷溶液中混合有硫酸鈷結晶之漿料。
從晶析罐中排出之漿料係藉由過濾器或離心分離機等而固液分離成硫酸鈷之結晶與母液。之後，利用乾燥機將硫酸鈷之結晶乾燥，去除水分。 利用上述方法，可由硫酸鈷溶液製造硫酸鈷結晶。當然，由於硫酸鈷溶液之雜質較少且純度較高，因此所得之硫酸鈷結晶亦成為雜質較少之高純度者。 [實施例]
以下，示出本發明之實施例，更具體地進行說明，但本發明並不受以下實施例之任何限制。
（實施例1） （第1溶劑萃取步驟S1） 準備以磷酸烷基酯系萃取劑（商品名D2EHPA、大八化學工業股份有限公司製造）之濃度成為40體積%之方式用稀釋劑（商品名Techlean N20、JX日礦日石能源公司股份有限公司製造）進行稀釋所得之有機相。將由「由表1之原液A所示之組成所構成之氯化鈷溶液」所構成的水相0.9 L與有機相1.8 L混合，以pH值成為1.7之方式添加氫氧化鈉溶液進行調整，萃取雜質。用萃取後之水相0.9 L與新的有機相1.8 L重複相同之萃取操作，合計進行3次萃取操作。結果獲得表1之第1SX後B所示之組成之氯化鈷溶液。鋅、錳及鈣之濃度均為0.001 g/L以下，成功地將該等雜質分離去除。
（脫銅步驟S2） 對第1溶劑萃取步驟S1中所得之氯化鈷溶液0.9 L以pH值成為2.5之方式添加氫氧化鈉溶液進行調整後，添加硫氫化鈉溶液作為硫化劑，將氧化還原電位調整至-50 mV（Ag/AgCl電極標準），使銅之硫化物之沈澱生成。利用過濾器將沈澱物分離去除，獲得表1之硫化後C所示之組成之濾液。銅之濃度未達0.001 g/L，成功地將銅分離去除。
（第2溶劑萃取步驟S3） 準備以羧酸系萃取劑（商品名Versatic Acid 10、Oxachem公司製造）之濃度成為30體積%之方式用稀釋劑（Techlean N20）進行稀釋所得之有機相。將由脫銅步驟S2中所得之氯化鈷溶液所構成之水相0.44 L與有機相1 L混合，以pH值達到6.5之方式添加氫氧化鈉溶液進行調整，將鈷萃取至有機相中。 將所萃取之有機相0.6 L與鈷濃度10 g/L之氯化鈷溶液0.6 L混合，將混入至萃取後之有機相中之水相洗淨。其次，將該有機相與純水0.09 L之純水混合，添加硫酸，將pH值調整至4，將鈷逆萃取。結果，獲得表1之第2SX後D所示之組成之硫酸鈷溶液。鎂濃度未達0.001 g/L，成功地將鎂分離去除。 藉由以上方法，獲得了高純度之硫酸鈷溶液。
[表1]
元素 Co Cu Zn Mn Ca Mg
原液A 85 0.01 0.15 0.098 3.9 0.042
第1SX後B 64 0.002 ＜0.001 ＜0.001 0.001 0.028
硫化後C 57 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001 0.001 0.026
第2SX後D 111 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001
(單位：均為g/L)
（晶析步驟S4） 於旋轉蒸發器中裝入硫酸鈷溶液，用真空泵對內部進行減壓，並且維持在溫度40℃，一面使燒瓶部旋轉一面使水分蒸發，從而使硫酸鈷之結晶析出。固液分離後，用乾燥機將所得之硫酸鈷結晶乾燥。結果獲得如表2所示之高純度之硫酸鈷結晶。
[表2]
元素 Co Cu Zn Mn Ca Mg
濃度 22 ＜1 ＜1 ＜5 ＜10 ＜1
(單位：鈷為%，其他元素為ppm)
（實施例2） 於脫銅步驟S2中將氧化還原電位調整至150 mV（Ag/AgCl電極標準），於第2溶劑萃取步驟S3中，將對脫銅步驟S2中所得之氯化鈷溶液用純水稀釋2倍所得之水相0.44 L與有機相混合，將所萃取之有機相0.6 L與鈷濃度10 g/L之氯化鈷溶液0.6 L混合，將混入至萃取後之有機相中之水相洗淨，及將該有機相與0.08 L之純水混合，添加硫酸而將pH值調整至4，將鈷逆萃取，除此以外，以與實施例1相同之方法獲得硫酸鈷溶液。 將此時之組成示於表3。如表3之第2SX後D所示，成功地獲得高純度之硫酸鈷溶液。
[表3]
元素 Co Cu Zn Mn Ca Mg
原液A 85 0.01 0.15 0.098 3.9 0.042
第1SX後B 64 0.002 ＜0.001 ＜0.001 0.001 0.028
硫化後C 58 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001 0.001 0.027
第2SX後D 92 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001 ＜0.001
(單位：均為g/L)
其次，以與實施例1相同之方法進行晶析，結果獲得如表4所示之高純度之硫酸鈷結晶。
[表4]
元素 Co Cu Zn Mn Ca Mg
濃度 22 ＜1 ＜1 ＜5 ＜10 ＜1
(單位：鈷為%，其他元素為ppm)
（實施例3） 實行溶劑回收處理S32，除此以外，與實施例1同樣地操作而獲得硫酸鈷溶液。於溶劑回收處理S32中，於在鈷萃取步驟S31中萃取鈷後之pH值示出6.5之氯化鈷溶液中添加硫酸，將pH值調整至2～4，將羧酸系萃取劑分離回收。 然後，使用公知之方法對氯化鈷溶液中之TOC濃度進行測定。如表5所示，藉由將pH值降至4以下，可使所含有之260 mg/l之TOC降至100 mg/l之程度，即，成功地將羧酸系萃取劑從氯化鈷溶液中分離。結果，成功地抑制萃取劑之損耗，並且成功地減少對萃取後之氯化鈷溶液進行排水處理並排放至海域等時之環境負荷。
[表5]
氯化鈷溶液 pH值調整前[pH值6.5] pH值=4 pH值=3 pH值=2
TOC[mg/l] 260 106 98 98
根據以上實施例1、2及3之結果可知，藉由本發明，獲得充分地去除了雜質之高純度之硫酸鈷。又，可知，若實行溶劑回收處理S32，則可抑制萃取劑之損耗，或可減少對萃取後之氯化鈷溶液進行排水處理並排放至海域等時之環境負荷。 [產業上之可利用性]
藉由本發明所得之高純度之硫酸鈷結晶除可用作鋰離子蓄電池之原料以外，還可用於各種用途。
S1:第1溶劑萃取步驟 S2:脫銅步驟 S3:第2溶劑萃取步驟 S4:晶析步驟 S31:鈷萃取步驟 S32:溶劑回收處理 S33:鈷逆萃取步驟
[圖1]係表示本發明之硫酸鈷之製造方法之步驟圖。 [圖2]係表示本發明之一實施方式之硫酸鈷之製造方法的步驟圖。 [圖3]係圖2所示之第1溶劑萃取步驟S1之詳細步驟圖。 [圖4]係圖2所示之第2溶劑萃取步驟S3之詳細步驟圖。 [圖5]係溶劑回收處理S32之詳細步驟圖。
S1:第1溶劑萃取步驟
S2:脫銅步驟
S3:第2溶劑萃取步驟
S4:晶析步驟

Claims (7)

  1. 一種硫酸鈷之製造方法，其依序實行：  第1溶劑萃取步驟，其係使含有銅、鋅、錳、鈣及鎂中之1種以上雜質之氯化鈷溶液與包含磷酸烷基酯（alkyl phosphate）系萃取劑之有機溶劑接觸，將鋅、錳及鈣萃取至該有機溶劑中而將其等分離去除； 脫銅步驟，其係於經過上述第1溶劑萃取步驟之氯化鈷溶液中添加硫化劑，生成銅之硫化物之沈澱而將其分離去除；及 第2溶劑萃取步驟，其係使經過上述脫銅步驟之氯化鈷溶液與包含羧酸萃取劑之有機溶劑接觸，使鈷萃取至該有機溶劑中後，用硫酸將鈷逆萃取而獲得硫酸鈷溶液。
  2. 如請求項1之硫酸鈷之製造方法，其中， 於上述第1溶劑萃取步驟中，磷酸烷基酯系萃取劑為磷酸氫雙(2-乙基己基)酯， 將氯化鈷溶液之pH值調整至1.5～3.0，實施使用上述萃取劑之溶劑萃取，將雜質元素萃取至有機溶劑中。
  3. 如請求項1或2之硫酸鈷之製造方法，其中， 於上述脫銅步驟中，於添加有硫化劑之氯化鈷溶液中添加氧化劑及中和劑，將氧化還原電位調整至-100～200 mV（Ag/AgCl電極標準），且將pH值調整至1.3～3.0。
  4. 如請求項1、2或3之硫酸鈷之製造方法，其中， 於上述第2溶劑萃取步驟中，於去除了銅、鋅、錳及鈣之氯化鈷溶液中添加鹼性溶液，將pH值調整至5.0～7.0，實行將鈷萃取至使用有羧酸系萃取劑之有機溶劑中之鈷萃取步驟。
  5. 如請求項1、2或3之硫酸鈷之製造方法，其中， 繼上述第2溶劑萃取步驟中之上述鈷萃取步驟後，使萃取有鈷之有機溶劑與硫酸溶液接觸，將pH值調整至2.0～4.5，實行將鈷逆萃取至硫酸溶液中之鈷逆萃取步驟。
  6. 如請求項1之硫酸鈷之製造方法，其中， 對經過上述第2溶劑萃取步驟所得之硫酸鈷溶液實施晶析步驟，獲得硫酸鈷之結晶。
  7. 如請求項1、2、3、4、5或6之硫酸鈷之製造方法，其中， 上述第2溶劑萃取步驟包含溶劑回收處理，該溶劑回收處理係如下處理：使萃取出鈷後之氯化鈷溶液與將鈷逆萃取至硫酸溶液後之有機溶劑接觸，將pH值調整至2.0以上4.0以下，將氯化鈷溶液中之羧酸系萃取劑分離。
TW111101989A 2021-04-22 2022-01-18 硫酸鈷之製造方法 TWI809665B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-072806 2021-04-22
JP2021072806 2021-04-22
JP2021183837A JP7156491B1 (ja) 2021-04-22 2021-11-11 硫酸コバルトの製造方法
JP2021-183837 2021-11-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202241815A true TW202241815A (zh) 2022-11-01
TWI809665B TWI809665B (zh) 2023-07-21

Family

ID=83688452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW111101989A TWI809665B (zh) 2021-04-22 2022-01-18 硫酸鈷之製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20230183091A1 (zh)
EP (1) EP4116262A1 (zh)
JP (1) JP7156491B1 (zh)
KR (1) KR20230028717A (zh)
CN (1) CN116056774A (zh)
TW (1) TWI809665B (zh)
WO (1) WO2022224499A1 (zh)

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5719340A (en) * 1980-07-07 1982-02-01 Nippon Mining Co Ltd Organic solvent for extracting metal
JPS60231420A (ja) * 1983-12-28 1985-11-18 Daihachi Kagaku Kogyosho:Kk コバルトおよびニッケルを含有する水溶液からコバルトを分離する方法
JP3661911B2 (ja) * 1997-07-31 2005-06-22 住友金属鉱山株式会社 高純度コバルト溶液の製造方法
JP3122948B1 (ja) 1999-07-02 2001-01-09 株式会社高純度化学研究所 高純度コバルトの製造方法
JP4079018B2 (ja) 2003-03-19 2008-04-23 住友金属鉱山株式会社 コバルト水溶液の精製方法
CN100552061C (zh) * 2007-09-30 2009-10-21 浙江华友钴业股份有限公司 一种从铜钴矿浸出液萃取除钙镁的方法
CN102126761B (zh) * 2011-04-22 2012-11-21 桂金鸣 硫酸钴的制备方法
CN102234721B (zh) * 2011-06-15 2013-05-01 金川集团有限公司 一种镍钴物料的处理方法
WO2013061848A1 (ja) * 2011-10-24 2013-05-02 住友金属鉱山株式会社 高純度硫酸コバルト水溶液の製造方法
US9428820B2 (en) * 2011-12-26 2016-08-30 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Method for producing cobalt sulfate
JP6728905B2 (ja) * 2016-04-05 2020-07-22 住友金属鉱山株式会社 塩化コバルト水溶液の精製方法
JP6471912B2 (ja) * 2016-06-21 2019-02-20 住友金属鉱山株式会社 高純度硫酸コバルト水溶液の製造方法
JP6759882B2 (ja) * 2016-09-05 2020-09-23 住友金属鉱山株式会社 ニッケル、コバルトを含有する溶液の製造方法
CN108011149B (zh) * 2017-12-04 2019-07-09 长沙理工大学 一种从废弃动力电池中回收钴镍锂的方法
JP2019143223A (ja) * 2018-02-23 2019-08-29 住友金属鉱山株式会社 塩化コバルト水溶液からの不純物除去方法
JP7070208B2 (ja) * 2018-07-31 2022-05-18 住友金属鉱山株式会社 高純度塩化コバルト水溶液の製造方法
JP7070209B2 (ja) * 2018-07-31 2022-05-18 住友金属鉱山株式会社 高純度塩化コバルト水溶液の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230028717A (ko) 2023-03-02
JP7156491B1 (ja) 2022-10-19
US20230183091A1 (en) 2023-06-15
TWI809665B (zh) 2023-07-21
CN116056774A (zh) 2023-05-02
JP2022167760A (ja) 2022-11-04
WO2022224499A1 (ja) 2022-10-27
EP4116262A1 (en) 2023-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2975365C (en) Method for recovering scandium
CN103771526B (zh) 一种以工业硫酸锰为原料制备高纯硫酸锰的方法
JP6471912B2 (ja) 高純度硫酸コバルト水溶液の製造方法
WO2013099551A1 (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP7303777B2 (ja) 水酸化リチウムの製造方法
JP2021172537A (ja) 水酸化リチウムの製造方法
JP6798078B2 (ja) イオン交換処理方法、スカンジウムの回収方法
TWI811993B (zh) 硫酸鈷之製造方法
TWI809665B (zh) 硫酸鈷之製造方法
KR20190070181A (ko) 니켈 제련공정의 석출여액으로부터 코발트 회수 방법
JP2017178749A (ja) 硫酸マンガン水溶液の製造方法、及びマンガン酸化物の製造方法
JP2022138401A (ja) 塩化コバルトの製造方法
JP2022108703A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP7360091B2 (ja) 溶媒抽出方法およびコバルト水溶液の製造方法
JP2022111016A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2023065146A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2023076987A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2022111625A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2022172687A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2023067663A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2022191115A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2023161557A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2022110782A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP2022172688A (ja) 硫酸コバルトの製造方法
JP7347085B2 (ja) 高純度酸化スカンジウムの製造方法