TW202239916A - 光學用黏著膠帶 - Google Patents

Abstract

本發明目的在於提供一種光學用黏著膠帶，其係針對將複數個影像顯示裝置排列成拼接狀之拼接顯示器，使其即便在使用環境下，複數個影像顯示裝置間之間隙仍不明顯，且可維持透明性而可維持良好之外觀。 本發明光學用黏著膠帶10A具有積層有基材1與黏著劑層2之積層結構，基材1具有第1面1a及第2面1b，且黏著劑層2係位於基材1之第1面1a。將光學用黏著膠帶10A在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率在±0.15%以內。黏著劑層2在下述剪切試驗中求算之復原率為95%以下。 ＜剪切試驗＞ 測定應變量A(%)與應變量B(%)，並由下述式算出復原率(%)，該應變量A(%)係在60℃下從厚度2mm、直徑7.9mm之圓盤狀黏著劑層上下施加扭轉方向之剪切力500Pa 600秒鐘後的應變量，而應變量B(%)係後續在剪切力0Pa下維持1800秒鐘後的應變量。 復原率(%)=(應變量A-應變量B)/應變量A×100

Description

光學用黏著膠帶

本發明涉及一種光學用黏著膠帶。詳細而言係涉及一種適於製造複數個影像顯示裝置排列成拼接狀之拼接顯示器的光學用黏著膠帶。

伴隨4K、8K等高畫質化，更大畫面之影像顯示裝置之需求日益高漲。又，將大畫面的影像顯示裝置利用於在戶外、公共設施等之廣告刊登板或告示板等的標牌上也是日益增加。然而，製造大畫面的影像顯示裝置時，良率會降低而發生製造成本上升之問題。為了以更低成本製造大畫面影像顯示裝置，有討論一種將複數個影像顯示裝置排列成拼接狀之拼接顯示器(例如專利文獻1)。 先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2017-161634號公報

發明欲解決之課題 以拼接顯示器來說，為了使複數個影像顯示裝置之間不明顯而必須縮窄間隙(例如100µm以下)，但影像顯示裝置在使用環境下會收縮或膨脹，而有空出些許間隙、或發生影像顯示裝置些微重疊使間隙變明顯，進而降低透明性，造成外觀變差之問題。又，還有用以貼合構成影像顯示裝置之光學構件間之黏著劑層無法順應影像顯示裝置之收縮、膨脹，以致於端部發生浮凸或剝落而造成外觀變差之問題。

本發明係有鑒於如上之情事而創造者，本發明目的在於提供一種光學用黏著膠帶，其係針對將複數個影像顯示裝置排列成拼接狀之拼接顯示器，使其即便在使用環境下，複數個影像顯示裝置間之間隙仍不明顯，且可維持透明性而可維持良好之外觀。

用以解決課題之手段 即，本發明第1面向提供一種光學用黏著膠帶，其具有積層有基材與黏著劑層之積層結構，該基材具有第1面及第2面，且該黏著劑層係位於前述基材之第1面。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率在±0.15%以內。該平均尺寸變化率在±0.15%以內之構成，在以下方面來看係理想的：在排列複數片積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器中，能抑制影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，而能抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼，維持良好之外觀；以及，收縮或膨脹少，且透明性可維持不變。在抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼之方面、收縮或膨脹少且透明性可維持不變之方面來看，前述平均尺寸變化率宜在±0.1%以內，亦可在±0.05%以內。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述黏著劑層在下述剪切試驗中求算之復原率為95%以下。 ＜剪切試驗＞ 測定應變量A(%)與應變量B(%)，並由下述式算出復原率(%)，該應變量A(%)係在60℃下從厚度2mm、直徑7.9mm之圓盤狀黏著劑層上下施加扭轉方向之剪切力500Pa 600秒鐘後的應變量，而應變量B(%)係後續在剪切力0Pa下維持1800秒鐘後的應變量。 復原率(%)=(應變量A-應變量B)/應變量A×100

在本說明書中，提及「應變量A」、「應變量B」及「復原率」時，只要未特別說明，便表示為在上述剪切試驗中求算之「應變量A」、「應變量B」、「復原率」。

前述黏著劑層之復原率為95%以下之構成，在以下方面來看係理想的：黏著劑層充分追隨積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落；以及，透明性可維持不變。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明第1面向之光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、透明性可維持不變、可追隨高低差之方面來看，前述黏著劑層之復原率宜為94%以下，亦可為93.5%以下。

令將本發明第1面向之光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率為C[%]，且 將前述光學用黏著膠帶之前述黏著劑層貼合於厚度50µm之PET薄膜後切斷成10cm見方而得積層體，令將該積層體在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後的下述最大捲曲量為D[mm]，此時宜滿足下述式。 ｜C×D｜≦3 ・最大捲曲量：以使前述積層體之捲曲凸起面在下側之方式置於水平面上，將4個角落之翹曲中最高者作為最大捲曲量D[mm]。以使前述積層體之前述PET薄膜側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為+，並且，以使前述積層體之前述基材側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為-。

前述平均尺寸變化率C[%]與前述最大捲曲量D[mm]之積的絕對值｜C×D｜為3以下之構成，在以下方面來看係理想的：在排列複數片積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器中，不容易視辨影像顯示裝置間之間隙的變化，而可精準地將影像顯示裝置貼合於薄膜基板。在不容易視辨影像顯示裝置間之間隙的變化，而可精準地將影像顯示裝置貼合於薄膜基板之方面來看，前述｜C×D｜宜為2.5以下，較宜為2.4以下，亦可為2.3以下或2.2以下。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述黏著劑層在上述剪切試驗中求算之應變量A無特別限定，宜為3%以上。前述黏著劑層之應變量A為3%以上之構成，在以下方面來看係理想的：黏著劑層充分追隨積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層之應變量A宜為4%以上，亦可為5%以上。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述黏著劑層在上述剪切試驗中求算之應變量B無特別限定，宜為0.1%以上。前述黏著劑層之應變量B為0.1%以上之構成，在以下方面來看係理想的：黏著劑層充分追隨積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層之應變量B宜為0.2%以上，亦可為0.3%以上。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述基材之玻璃轉移點(Tg)宜為60℃以上。前述基材之玻璃轉移點為60℃以上之構成，在以下方面來看係理想的：在排列複數片積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器中，影像顯示裝置在使用環境下之機械物性穩定。由前述影像顯示裝置之機械物性之穩定性之觀點來看，前述基材之玻璃轉移點亦可為63℃以上或65℃以上。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)宜為-10℃以下。前述黏著劑層之Tg為-10℃以下之構成，在以下方面來看係理想的：即便在低溫環境下仍能維持前述黏著劑層之應力鬆弛性，且前述黏著劑層充分追隨積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，而可抑制浮凸或剝落，從而可充分確保與被黏著體之密著性。在抑制前述影像顯示裝置之浮凸或剝落，而與被黏著體之良好密著性之方面來看，前述黏著劑層之玻璃轉移點宜為-15℃以下，亦可為-20℃以下。

將本發明第1面向之光學用黏著膠帶從60℃且相對濕度30%加濕成60℃且相對濕度60%後，其濕度膨脹率宜為0.1%以下。前述濕度膨脹率為0.1%以下之構成，在以下方面來看係理想的：在排列複數片積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器中，能抑制前述影像顯示裝置因吸濕所致之膨脹，而能抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼；以及，收縮或膨脹少，且透明性可維持不變。由抑制前述影像顯示裝置因吸濕所致之膨脹之觀點、收縮或膨脹少且透明性可維持不變之方面來看，前述濕度膨脹率宜為0.08%以下，亦可為0.06%以下。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述基材之濕度膨脹係數宜為5×10 ^-5/%RH以下。前述基材之濕度膨脹係數為5×10 ^-5/%RH以下之構成，在以下方面來看係理想的：前述基材在濕度變化下之尺寸穩定性提升，且在排列複數片積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器中，能抑制影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，而能抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼，維持良好之外觀；以及，收縮或膨脹少，且透明性可維持不變。由前述基材之尺寸穩定性之方面、收縮或膨脹少且透明性可維持不變之方面來看，前述基材之濕度膨脹係數宜為3×10 ^-5/%RH以下，亦可為2×10 ^-5/%RH以下。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述基材之第2面宜業經抗反射處理及/或防眩處理。前述基材之第2面業經抗反射處理及/或防眩處理之構成，在可防止配置於前述影像顯示裝置之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射之方面來看係理想的。又，在排列複數片積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器中，不容易視辨影像顯示裝置間之間隙之方面來看亦理想。

本發明第1面向之光學用黏著膠帶中，前述黏著劑層宜為包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。該構成在調整上述黏著劑層之上述特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率)上係理想的。

又，本發明第2面向提供一種影像顯示裝置，其積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶與影像顯示面板。又，本發明第3面向提供一種拼接顯示器，其係排列有複數片本發明第2面向之影像顯示裝置者。 本發明第2面向之影像顯示裝置於積層結構中具有本發明第1面向之光學用黏著膠帶，因此可抑制在使用環境下之收縮或膨脹。又，即使在本發明第2面向之影像顯示裝置有某程度收縮或膨脹之情況下，前述黏著劑層仍能充分追隨影像顯示裝置之收縮或膨脹，而不易發生浮凸或剝落。因此，以排列複數片本發明第2面向之影像顯示裝置而製作之本發明第3面向之拼接顯示器來說，在使用環境下，影像顯示裝置間之間隙不明顯，而可維持良好之外觀。又，透明性可維持不變。

發明效果 藉由將本發明光學用黏著膠帶用於製造排列有複數片影像顯示裝置之拼接顯示器，可抑制影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，因此影像顯示裝置間之間隙不明顯，而可維持良好之外觀。又，透明性可維持不變。又，即使在影像顯示裝置有某程度膨脹或收縮之情況下，也不易發生黏著劑層浮凸或剝落，因此可有效率地製造高性能之拼接顯示器。

本發明第1面向提供一種光學用黏著膠帶，其具有積層有基材與黏著劑層之積層結構，該基材具有第1面及第2面，且該黏著劑層係位於前述基材之第1面。 在本說明書中，有時將本發明第1面向之光學用黏著膠帶稱為「本發明光學用黏著膠帶」。又，在本說明書中，有時分別將構成本發明光學用黏著膠帶之前述基材及黏著劑層稱為「本發明基材」及「本發明黏著劑層」。又，「黏著膠帶」係包含「黏著片」之意思者。即，本發明光學用黏著膠帶亦可為具有片狀形態之黏著片。

本發明第2面向提供一種影像顯示裝置，其積層有本發明第1面向之光學用黏著膠帶與影像顯示面板。在本說明書中，有時將本發明第2面向之影像顯示裝置稱為「本發明影像顯示裝置」。 又，本發明第3面向提供一種拼接顯示器，其係排列有複數片本發明影像顯示裝置者。在本說明書中，有時將本發明第3面向之拼接顯示器稱為「本發明拼接顯示器」。

以下，將本發明光學用黏著膠帶之實施形態同圖進行說明，但本發明不受此限，僅為例示。

圖1係顯示本發明光學用黏著膠帶之一實施態樣的示意圖。(a)為截面圖，(b)為俯視圖。 圖1(a)中，光學用黏著膠帶10A具有積層有基材1與黏著劑層2之積層結構。基材1具有第1面1a及第2面1b，且於基材1之第1面1a積層有黏著劑層2。 圖1(b)中，光學用黏著膠帶10A之寬度方向(TD)及機械方向(MD)係對應基材1之寬度方向(TD)及機械方向(MD)而定。

圖2中，光學用黏著膠帶10B具有積層有基材1與黏著劑層2之積層結構。基材1具有第1面1a及第2面1b，且於基材1之第1面1a積層有黏著劑層2。基材1之第2面1b係施有抗反射處理及/或防眩處理3。

圖3係顯示本發明影像顯示裝置之一實施態樣的示意圖(截面圖)。圖3中，影像顯示裝置20係於光學用黏著膠帶10B之黏著劑層2積層有影像顯示面板4。

圖4係顯示本發明拼接顯示器之一實施形態的示意圖(立體圖)。圖4中，拼接顯示器30係將9片影像顯示裝置20(省略積層結構之圖式)以3×3之配列方式，於支持基板31上排列成拼接狀而形成，且影像顯示裝置20彼此係以間隙32相接。 以下就各構成予以說明。

＜光學用黏著膠帶＞ 本發明光學用黏著膠帶之「光學」意指可用於光學用途，更具體而言意指可用於製造使用有光學構件之製品(光學製品)等。光學製品可舉例如影像顯示裝置、觸控面板等之輸入裝置等，可適宜用於製造液晶影像顯示裝置、自發光型影像顯示裝置(例如有機EL(電致發光)影像顯示裝置、LED影像顯示裝置)等。尤其，本發明光學用黏著膠帶適於製造複數個影像顯示裝置排列成拼接狀之拼接顯示器。

本發明光學用黏著膠帶只要於本發明基材之第1面積層有本發明黏著劑層，其形態便無特別限定。例如，可為僅單面為黏著面之單面黏著膠帶，亦可為兩面為黏著面之雙面黏著膠帶。又，本發明光學用黏著膠帶為雙面黏著膠帶時，本發明光學用黏著膠帶可具有兩黏著面係由本發明黏著劑層提供之形態，亦可具有其中一黏著面係由本發明黏著劑層提供，且另一黏著面係由本發明黏著劑層以外之黏著劑層(其他黏著劑層)提供之形態。當本發明光學用黏著膠帶在構成光學製品之最表面時，宜為單面黏著膠帶，而在貼合被黏著體(光學構件)彼此時，宜為雙面黏著膠帶。

本發明光學用黏著膠帶除了本發明基材、本發明黏著劑層外，亦可在不損及本發明效果之範圍下，於表面或任意之層間具有其他層，例如本發明基材以外之基材、本發明黏著劑層以外之黏著劑層、中間層、底塗層、抗靜電層、分離件、表面保護薄膜等。

本發明光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率在±0.15%以內。寬度方向及機械方向之尺寸變化率係令寬度方向及機械方向各自之初始尺寸為100%時，在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後之尺寸變化量的百分比(%)，係由下式算出。 尺寸變化率(%)=[(在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後之尺寸)-(初始尺寸)]/(初始尺寸)×100

尺寸變化率(%)中，「+」表示膨脹，「-」表示收縮。寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率係指寬度方向之尺寸變化率與機械方向之尺寸變化率的平均值，係由下式算出。 平均尺寸變化率(%)=[(寬度方向之尺寸變化率(%))+(機械方向之尺寸變化率(%))]/2

此外，本發明光學用黏著膠帶之尺寸無特別限定，一般而言可藉由測定光學用黏著膠帶之寬度方向及機械方向之端部的長度來求算。

前述平均尺寸變化率在±0.15%以內之構成，在以下方面來看係理想的：在本發明拼接顯示器中，能抑制本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，而能抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼，維持良好之外觀；以及，收縮或膨脹少，且透明性可維持不變。在抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼之方面、收縮或膨脹少且透明性可維持不變之方面來看，前述平均尺寸變化率宜在±0.1%以內，亦可在±0.05%以內。

本發明光學用黏著膠帶之前述平均尺寸變化率具體上可藉由後述實施例之方法來測定。本發明光學用黏著膠帶之前述平均尺寸變化率可藉由調整構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、基材之濕度膨脹係數或玻璃轉移點、構成本發明黏著劑層之樹脂的種類、單體組成、交聯度、彈性係數或玻璃轉移點等來調整。

令將本發明光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率為C[%]，且將前述光學用黏著膠帶之前述黏著劑層貼合於厚度50µm之PET薄膜後切斷成10cm見方而得積層體，令將該積層體在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後的下述最大捲曲量為D[mm]，此時宜滿足下述式。 ｜C×D｜≦3 ・最大捲曲量：以使前述積層體之捲曲凸起面在下側之方式置於水平面上，將4個角落之翹曲中最高者作為最大捲曲量D[mm]。以使前述積層體之前述PET薄膜側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為+，並且，以使前述積層體之前述基材側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為-。

前述平均尺寸變化率C[%]與前述最大捲曲量D[mm]之積的絕對值｜C×D｜為3以下之構成，在以下方面來看係理想的：在排列複數片積層有本發明光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器中，不容易視辨影像顯示裝置間之間隙的變化，而可精準地將影像顯示裝置貼合於薄膜基板。在不容易視辨影像顯示裝置間之間隙的變化，而可精準地將影像顯示裝置貼合於薄膜基板之方面來看，前述｜C×D｜宜為2.5以下，較宜為2.4以下，亦可為2.3以下或2.2以下。 前述｜C×D｜的下限值無特別限定，愈低愈佳，亦可為0.001以上。

前述最大捲曲量之絕對值｜D｜[mm]無特別限定，但就排列複數片積層有本發明光學用黏著膠帶的影像顯示裝置而成之拼接顯示器而言，在可精準地將影像顯示裝置貼合於薄膜基板之方面來看，宜為60mm以下，較宜為55mm以下，更宜為50mm以下。 前述｜D｜的下限值無特別限定，愈低愈佳，亦可為0.1mm以上。

本發明光學用黏著膠帶之前述｜C×D｜及｜D｜具體上可藉由後述實施例之方法來測定。本發明光學用黏著膠帶之前述｜C×D｜及｜D｜可藉由調整構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、基材之濕度膨脹係數或玻璃轉移點、構成本發明黏著劑層之樹脂的種類、單體組成、交聯度、彈性係數或玻璃轉移點等來調整。

將本發明光學用黏著膠帶從60℃且相對濕度30%加濕成60℃且相對濕度60%後，其濕度膨脹率宜為0.1%以下。前述濕度膨脹率為0.1%以下之構成，在以下方面來看係理想的：在本發明拼接顯示器中，能抑制本發明影像顯示裝置因吸濕所致之膨脹，而能抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼；以及，收縮或膨脹少，且透明性可維持不變。由抑制本發明影像顯示裝置因吸濕所致之膨脹之觀點、收縮或膨脹少且透明性可維持不變之方面來看，前述濕度膨脹率宜為0.08%以下，亦可為0.06%以下。

本發明光學用黏著膠帶之前述濕度膨脹率具體上可藉由後述實施例之方法來測定。本發明光學用黏著膠帶之前述濕度膨脹率可藉由調整構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、基材之濕度膨脹係數或玻璃轉移點、構成本發明黏著劑層之樹脂的種類、單體組成、交聯度、彈性係數或玻璃轉移點等來調整。

將本發明光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其機械方向之尺寸變化率相對於寬度方向之尺寸變化率的比率(機械方向之尺寸變化率/寬度方向之尺寸變化率)無特別限定，宜為0.5以上且2.0以下。藉由該比率在該範圍內，在以下方面來看係理想的：在本發明拼接顯示器中，本發明影像顯示裝置在使用環境下寬度方向與機械方向之尺寸變化率的差會變小，而能抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼，維持良好之外觀；以及，收縮或膨脹少，且透明性可維持不變。在抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼之方面、收縮或膨脹少且透明性可維持不變之方面來看，前述比率宜為0.6以上且1.8以下，亦可為0.7以上且1.5以下。

本發明光學用黏著膠帶之前述比率(機械方向之尺寸變化率/寬度方向之尺寸變化率)可藉由調整構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、基材之濕度膨脹係數或玻璃轉移點、基材之製造條件(例如擠製成形之溫度或速度等)、構成本發明黏著劑層之樹脂的種類、單體組成、交聯度、彈性係數或玻璃轉移點等來調整。

本發明光學用黏著膠帶之霧度無特別限定，宜為5%以上。本發明光學用黏著膠帶之霧度為5%以上之構成，在以下方面來看係理想的：可防止配置於本發明影像顯示裝置中之影像顯示面板之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射；以及，在本發明拼接顯示器中，不容易視辨影像顯示裝置間之間隙；該霧度較宜為6%以上，亦可為7%以上。本發明光學用黏著膠帶之霧度的上限無特別限定，由本發明拼接顯示器之視辨性之觀點來看，宜為50%以下，亦可為40%以下或30%以下。

本發明光學用黏著膠帶之霧度可依循JIS K 7136來測定，具體而言可藉由後述實施例中記載之方法來測定。本發明光學用黏著膠帶之霧度可藉由構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、構成本發明黏著劑層之樹脂的種類或厚度、對基材表面施行抗反射處理及/或防眩處理等來調整。

本發明光學用黏著膠帶之反射率無特別限定，宜為5%以下。本發明光學用黏著膠帶之反射率為5%以下之構成，在以下方面來看係理想的：可防止配置於本發明影像顯示裝置中之影像顯示面板之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射；以及，在本發明拼接顯示器中，不容易視辨影像顯示裝置間之間隙；該反射率較宜為3%以下，亦可為1.5%以下。本發明光學用黏著膠帶之反射率的下限無特別限定，亦可為0.1%以上或0.3%以上。

本發明光學用黏著膠帶之反射率可依循JIS K7361-1來測定，具體上可藉由後述實施例中記載之方法來測定。本發明光學用黏著膠帶之反射率可藉由構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、構成本發明黏著劑層之樹脂的種類或厚度、對基材表面施行抗反射處理及/或防眩處理等來調整。

本發明光學用黏著膠帶之全光線透射率無特別限定，宜為85%以上。本發明光學用黏著膠帶之全光線透射率為85%以上之構成，在可獲得本發明影像顯示裝置之優異透明性或優異外觀之方面係理想的，較宜為88%以上，亦可為90%以上。本發明光學用黏著膠帶之全光線透射率的上限無特別限定，亦可為95%以下。

本發明光學用黏著膠帶之全光線透射率可依循JIS K7361-1來測定。本發明光學用黏著膠帶之全光線透射率可藉由構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、構成本發明黏著劑層之樹脂的種類或厚度、對基材表面施行抗反射處理及/或防眩處理等來調整。

本發明光學用黏著膠帶之厚度無特別限制，例如若考量尺寸穩定性、強度、處置性等作業性、薄層性等方面，宜為10~500µm之範圍，較宜為20~300µm之範圍，最宜為30~200µm之範圍。

＜基材＞ 構成本發明基材之素材可舉玻璃或塑膠薄膜等。前述塑膠薄膜可列舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂、環狀烯烴系聚合物(COP)(例如商品名「ARTON」(JSR(股)製)、商品名「ZEONOR」(日本ZEON(股)製)等)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纖維素(TAC)、聚碸、聚芳酯、聚醚醚酮(PEEK)、聚醯亞胺(PI)、透明聚醯亞胺(CPI)、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等塑膠材料，宜為尺寸穩定性優異且不易收縮之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂、環狀烯烴系聚合物(COP)、聚碳酸酯(PC)、聚醚醚酮(PEEK)、透明聚醯亞胺(CPI)。此外，該等塑膠材料可單獨使用或可組合2種以上來使用。本發明基材在將本發明光學用黏著膠帶貼附於被黏著體(影像顯示面板等)時，為可與黏著劑層一同貼附於被黏著體之部分。本發明光學用黏著膠帶在使用時(貼附時)被剝離之剝離襯墊不包含於「基材」中。

本發明基材係具有第1面與第2面之具有薄膜狀(基板狀)形態者。本發明基材之寬度方向(TD)及機械方向(MD)係於基材之製造製程中規定者，例如，在原料樹脂材料擠製成形後薄膜狀擠製成形體行進之方向係指機械方向(MD)，寬度方向(TD)則為與機械方向正交之方向。

本發明基材若為構成前述光學製品之光學構件，便無特別限定，可舉覆蓋構件、偏光板、相位差板等各種光學薄膜，宜可作為覆蓋構件來使用。本發明基材為覆蓋構件時，第2面例如會成為上述光學製品之最表面。

本發明基材之玻璃轉移點(Tg)無特別限定，宜為60℃以上。本發明基材之玻璃轉移點為60℃以上之構成，在本發明拼接顯示器中本發明影像顯示裝置在使用環境下之機械物性穩定之方面來看係理想的。由本發明影像顯示裝置之機械物性之穩定性之觀點來看，前述基材之玻璃轉移點亦可為63℃以上或65℃以上。又，前述基材之玻璃轉移點的上限值無特別限定，在可簡便基材之成形製程之方面來看，前述基材之玻璃轉移點宜為350℃以下，亦可為250℃以下、200℃以下、140℃以下、130℃以下或125℃以下。

本發明基材之玻璃轉移點(Tg)可依循JIS K 7121來測定。本發明基材之玻璃轉移點(Tg)可藉由構成本發明基材之樹脂的種類等來調整。

本發明基材之濕度膨脹係數無特別限定，宜為5×10 ^-5/%RH以下。本發明基材之濕度膨脹係數為5×10-5/%RH以下之構成，在以下方面來看係理想的：本發明基材在濕度變化下之尺寸穩定性會提升，且在本發明拼接顯示器中，能抑制本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，而能抑制影像顯示裝置間之間隙顯眼，維持良好之外觀；以及，收縮或膨脹少，且透明性可維持不變。由本發明基材之尺寸穩定性之方面、收縮或膨脹少且透明性可維持不變之方面來看，本發明基材之濕度膨脹係數宜為3×10 ^-5/%RH以下，亦可為2×10 ^-5/%RH以下。 本發明基材之濕度膨脹係數的下限值無特別限定，愈低愈佳，亦可為0.001×10 ^-5/%RH以上。

本發明基材之濕度膨脹係數具體上可以後述實施例中記載之方法來測定。本發明基材之濕度膨脹係數可藉由構成本發明基材之樹脂的種類或基材製造時之條件(溫度、擠製速度等)等來調整。

本發明基材之霧度無特別限定，宜為5%以上。本發明基材之霧度為5%以上之構成，在以下方面來看係理想的：可防止配置於本發明影像顯示裝置中之影像顯示面板之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射；以及，在本發明拼接顯示器中，不容易視辨影像顯示裝置間之間隙；該霧度較宜為6%以上，亦可為7%以上。本發明基材之霧度的上限無特別限定，由本發明拼接顯示器之視辨性之觀點來看，宜為50%以下，亦可為40%以下或30%以下。

本發明基材之霧度可依循JIS K 7136來測定。本發明基材之霧度可藉由構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、對基材表面施行抗反射處理及/或防眩處理等來調整。

本發明基材之反射率無特別限定，宜為5%以下。本發明基材之反射率為5%以下之構成，在以下方面來看係理想的：可防止配置於本發明影像顯示裝置中之影像顯示面板之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射；以及，在本發明拼接顯示器中，不容易視辨影像顯示裝置間之間隙；該反射率較宜為3%以下，亦可為1.5%以下。本發明基材之反射率的下限無特別限定，亦可為0.1%以上或0.3%以上。

本發明基材之反射率可依循JIS K7361-1來測定。本發明基材之反射率可藉由構成本發明基材之樹脂的種類或厚度、對基材表面施行抗反射處理及/或防眩處理等來調整。

本發明基材之厚度無特別限制，例如若考量尺寸穩定性、強度、處置性等作業性、薄層性等方面，宜為10~500µm之範圍，較宜為20~300µm之範圍，最宜為30~200µm之範圍。本發明基材之折射率無特別限制，例如為1.30~1.80之範圍，宜為1.40~1.70之範圍。

本發明基材之第2面宜施有反射表面處理及/或防眩處理。本發明基材之第2面施有反射表面處理及/或防眩處理之構成，在可防止配置於本發明影像顯示裝置之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射之方面來看係理想的。又，在本發明拼接顯示器中不容易視辨影像顯示裝置間之間隙之方面來看亦理想。

前述抗反射處理可無特別限定地使用公知之抗反射處理，可舉例如抗反射(AR)處理。

前述抗反射(AR)處理可無特別限制地應用公知之AR處理，具體上可藉由於本發明基材之第2面上形成厚度及折射率經嚴格控制之光學薄膜或積層有二層以上前述光學薄膜之抗反射層(AR層)來實施。前述AR層可利用光的干涉效果使入射光與反射光相反之相位互相抵消，從而展現抗反射功能。可展現抗反射功能之可見光線的波長區域例如為380~780nm，尤其視感度高的波長區域為450~650nm之範圍，宜可以使其中心波長550nm之反射率成最小之方式來設計AR層。

前述AR層一般可舉積層有二或五層光學薄層(厚度及折射率經嚴密控制之薄膜)的結構之多層抗反射層，藉由形成複數層預定厚度之折射率不同之成分，可提升AR層之光學設計之自由度，可更提升抗反射效果，還可使分光反射特性在可見光區域中均一(平坦)。針對前述光學薄膜係要求高度的厚度精度，故一般而言各層之形成係以乾式方式的真空蒸鍍、濺鍍、CVD等來實施。

又，前述AR層亦可藉由抗反射層形成用塗敷液來形成。前述抗反射層形成用塗敷液亦可包含有例如樹脂、含氟元素之添加劑、中空粒子、實心粒子及稀釋溶劑等，例如可將該等混合來製造。

前述樹脂可舉例如熱硬化性樹脂、可藉由紫外線或光而硬化之游離輻射線硬化性樹脂。前述樹脂亦可使用市售之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。

前述熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂例如可使用可藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的硬化型化合物，可列舉例如：聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等寡聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種亦可併用2種以上。

前述樹脂中亦可使用例如具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的反應性稀釋劑。前述反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報中記載之反應性稀釋劑，例如包含單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。前述反應性稀釋劑宜為3官能以上丙烯酸酯、3官能以上甲基丙烯酸酯。其係因可使本發明基材之第2面的硬度優異。前述反應性稀釋劑還可舉例如丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸的丙烯酸酯、異三聚氰酸的甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種亦可併用2種以上。前述樹脂之硬化前的重量平均分子量例如可為100以上、300以上、500以上、1,000以上或2,000以上，亦可為100,000以下、70,000以下、50,000以下、30,000以下或10,000以下。前述硬化前之重量平均分子量若高，雖硬度會降低，但有在使其撓曲後不易發生破裂之傾向。另一方面，前述硬化前之重量平均分子量若低，則分子間交聯密度會提升，而有硬度提高之傾向。

前述樹脂宜包含多官能丙烯酸酯(例如新戊四醇三丙烯酸酯)。

為了前述硬化型樹脂之硬化，例如亦可添加硬化劑。前述硬化劑無特別限定，例如可適當使用公知的聚合引發劑(例如熱聚合引發劑、光聚合引發劑等)。前述硬化劑之添加量無特別限定，相對於前述抗反射層形成用塗敷液中之前述樹脂100重量份，例如可為0.5重量份以上、1.0重量份以上、1.5重量份以上、2.0重量份以上或2.5重量份以上，亦可為15重量份以下、13重量份以下、10重量份以下、7重量份以下或5重量份以下。

前述含氟元素之添加劑無特別限定，例如亦可為分子中含氟之有機化合物或無機化合物。前述有機化合物無特別限定，可舉例如含氟之防污塗覆劑、含氟之丙烯酸化合物、含氟及矽之丙烯酸化合物等。前述有機化合物具體上可舉例如信越化學工業股份公司製之商品名「KY-1203」、DIC股份公司製之商品名「MEGAFACE」等。前述無機化合物亦無特別限定。前述含氟元素之添加劑的添加量無特別限定，例如相對於前述抗反射層形成用塗敷液中之固體成分整體之重量，前述固體成分中之氟元素的重量例如可為0.05重量%以上、0.1重量%以上、0.15重量%以上、0.20重量%以上或0.25重量%以上，亦可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下或3重量%以下。又，例如相對於前述抗反射層形成用塗敷液中之前述樹脂100重量份，前述含氟元素之添加劑之重量例如可為0.05重量%以上、0.1重量%以上、0.15重量%以上、0.20重量%以上或0.25重量%以上，亦可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下或3重量%以下。

前述中空粒子無特別限定，例如可為氧化矽粒子、丙烯酸粒子、丙烯酸-苯乙烯共聚粒子等。前述氧化矽粒子可舉例如日揮觸媒化成工業股份公司製之商品名「THRULYA 5320」、「THRULYA 4320」等。前述中空粒子之重量平均粒徑無特別限定，例如可為30nm以上、40nm以上、50nm以上、60nm以上或70nm以上，亦可為150nm以下、140nm以下、130nm以下、120nm以下或110nm以下。前述中空粒子之形狀無特別限制，例如可為珠狀之大致球形，亦可為粉末等不定形者，但宜為大致球形者，較宜為高寬比在1.5以下之大致球形的粒子，最宜為球形粒子。藉由添加前述中空粒子，例如可實現前述抗反射層之低折射率、良好之抗反射特性等。前述中空粒子之添加量無特別限定，相對於前述抗反射層形成用塗敷液中之前述樹脂100重量份，例如可為30重量份以上、50重量份以上、70重量份以上、90重量份以上或100重量份以上，亦可為300重量份以下、270重量份以下、250重量份以下、200重量份以下或180重量份以下。由抗反射層之低折射率化之觀點來看，前述中空粒子之添加量宜不過少，而由確保抗反射層之機械特性之觀點來看，前述中空粒子之添加量宜不過多。

前述實心粒子無特別限定，例如可為氧化矽粒子、氧化鋯粒子、含鈦之粒子(例如氧化鈦粒子)等。前述氧化矽粒子可舉例如日產化學工業股份公司製之商品名「MEK-2140Z-AC」、「MIBK-ST」、「IPA-ST」等。前述實心粒子之重量平均粒徑無特別限定，例如可為5nm以上、10nm以上、15nm以上、20nm以上或25nm以上，亦可為300nm以下、250nm以下、200nm以下、150nm以下或100nm以下。前述實心粒子之形狀無特別限制，例如可為珠狀之大致球形，亦可為粉末等不定形者，但宜為大致球形者，較宜為高寬比在1.5以下之大致球形的粒子，最宜為球形粒子。藉由添加前述實心粒子，例如前述含氟元素之添加劑會容易局部存在於已塗敷之前述抗反射層形成用塗敷液之表面，從而抗反射層之耐擦傷性優異，可實現低折射率、良好之抗反射特性等。前述實心粒子之添加量無特別限定，相對於前述抗反射層形成用塗敷液中之前述樹脂100重量份，例如可為5重量份以上、10重量份以上、15重量份以上、20重量份以上或25重量份以上，亦可為150重量份以下、120重量份以下、重量份以下、100重量份以下或80重量份以下。

前述稀釋溶劑亦可為例如含MIBK(甲基異丁基酮)及PMA(丙二醇單甲基醚乙酸酯)之混合溶劑。此時之混合比率無特別限定，於令MIBK之重量為100重量%時，PMA之重量例如可為20重量%以上、50重量%以上、100重量%以上、150重量%以上或200重量%以上，亦可為400重量%以下、350重量%以下、300重量%以下或250重量%以下。

前述稀釋溶劑亦可為例如除了MIBK及PMA外，進一步包含TBA(三級丁醇)之混合溶劑。此時之混合比率無特別限定，於令MIBK之重量為100重量%時，PMA之重量例如可為10重量%以上、30重量%以上、50重量%以上、80重量%以上或100重量%以上，亦可為200重量%以下、180重量%以下、150重量%以下、130重量%以下或110重量%以下。又，於令MIBK之重量為100重量%時，TBA之重量例如可為10重量%以上、30重量%以上、50重量%以上、80重量%以上或100重量%以上，亦可為200重量%以下、180重量%以下、150重量%以下、130重量%以下或110重量%以下。

前述稀釋溶劑之添加量亦無特別限定，例如相對於抗反射層形成用塗敷液整體之重量，可設成使其固體成分之重量成為例如0.1重量%以上、0.3重量%以上、0.5重量%以上、1.0重量%以上或1.5重量%以上，亦可設成使其固體成分之重量成為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下或3重量%以下。由確保塗敷性(潤濕、調平)之觀點來看，前述固體成分之含有率宜不過高，而由防止風乾不均、白化等因乾燥造成之外觀不良之觀點來看，前述固體成分之含有率宜不過低。

接著，於本發明基材之第2面上塗敷前述抗反射層形成用塗敷液(前述塗敷步驟)。塗敷方法無特別限定，可適當使用例如噴注式塗佈法、模塗法、旋塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法等公知之塗敷方法。前述抗反射層形成用塗敷液之塗敷量亦無特別限定，可設成使所形成之前述抗反射層之厚度成為例如0.1μm以上、0.3μm以上、0.5μm以上、1.0μm以上或2.0μm以上，亦可設成使所形成之前述抗反射層之厚度成為50μm以下、40μm以下、30μm以下、20μm以下或10μm以下。

接著，使已塗敷之前述抗反射層形成用塗敷液乾燥而形成塗膜(前述塗膜形成步驟)。乾燥溫度無特別限定，例如亦可為30~200℃之範圍。前述乾燥溫度例如可為40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上或100℃以上，亦可為190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下或110℃以下。乾燥時間無特別限定，例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上或60秒以上，亦可為150秒以下、130秒以下、110秒以下或90秒以下。

並且，亦可使前述塗膜硬化(硬化步驟)。前述硬化可藉由例如加熱、光照射等來進行。前述光無特別限定，例如亦可為紫外線等。前述光照射之光源亦無特別限定，例如可為高壓水銀燈等。前述紫外線硬化之能量線源的照射量宜以在紫外線波長365nm下之累積曝光量計為50~500mJ/cm ²。照射量若為50mJ/cm ²以上，硬化便容易充分進行，而所形成之抗反射層的硬度容易變高。又，若為500mJ/cm ²以下，便可防止所形成之抗反射層的著色。

前述防眩(AG)處理可無特別限制地應用公知之AG處理，例如可藉由於本發明基材之第2面上形成防眩層來實施。前述防眩層可無限制地採用公知之物，一般而言係形成為樹脂中分散有作為防眩劑之無機或有機粒子之層。

前述防眩層無特別限定，例如係使用包含樹脂、粒子及觸變性賦予劑之防眩層形成材料來形成，且藉由前述粒子及前述觸變性賦予劑凝集而於前述防眩層之表面形成凸狀部。藉由該構成，防眩層具有兼顧防眩性與防止白暈之優異的顯示特性，並且即便利用粒子之凝集而形成有防眩層，仍可防止發生成為外觀缺陷之防眩層表面之突起狀物，而可提升製品之良率。

前述樹脂可舉例如熱硬化性樹脂、可藉由紫外線或光而硬化之游離輻射線硬化性樹脂。前述樹脂亦可使用市售之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。

前述熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂例如可使用可藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的硬化型化合物，可列舉例如：聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等寡聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種亦可併用2種以上。

前述樹脂中亦可使用例如具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的反應性稀釋劑。前述反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報中記載之反應性稀釋劑，例如包含單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。前述反應性稀釋劑宜為3官能以上丙烯酸酯、3官能以上甲基丙烯酸酯。其係因可使前述防眩層之硬度優異。前述反應性稀釋劑還可舉例如丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸的丙烯酸酯、異三聚氰酸的甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種亦可併用2種以上。

前述樹脂宜包含胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂，較宜為硬化型胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂及多官能丙烯酸酯(例如新戊四醇三丙烯酸酯)之共聚物。

用以形成前述防眩層之粒子其主要功能為可將所形成之防眩層表面製成凹凸形狀以賦予防眩性、且可控制防眩層之霧度值。防眩層之霧度值可藉由控制前述粒子與前述樹脂之折射率差來設計。前述粒子例如有無機粒子與有機粒子。前述無機粒子無特別限制，可列舉例如：氧化矽粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子、氧化鋅粒子、氧化錫粒子、氧化鋯粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石粒子、高嶺土粒子、硫酸鈣粒子等。又，前述有機粒子無特別限制，可列舉例如：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA粒子)、聚矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末等。該等無機粒子及有機粒子可單獨使用一種，亦可併用二種以上。

前述粒子之重量平均粒徑(D)宜在2.5~10µm之範圍內。藉由將前述粒子之重量平均粒徑設為前述範圍，例如防眩性便更優異且可防止白暈。前述粒子之重量平均粒徑較宜在3~7µm之範圍內。此外，前述粒子之重量平均粒徑可藉由例如庫爾特計數法來測定。例如，使用利用了細孔電阻法的粒度分布測定裝置(商品名：Coulter Multisizer，Beckman Coulter, Inc.製)，測定相當於粒子通過前述細孔時之粒子體積的電解液之電阻，藉此測定出前述粒子之數量與體積，算出重量平均粒徑。

前述粒子的形狀無特別限制，例如可為珠狀之大致球形，亦可為粉末等不定形者，但宜為大致球形者，較宜為高寬比在1.5以下之大致球形的粒子，最宜為球形粒子。

前述防眩層中之前述粒子的比率相對於前述樹脂100重量份，宜為0.2~12重量份之範圍，較宜為0.5~12重量份之範圍，更宜為1~7重量份之範圍。藉由設為前述範圍，例如防眩性便更優異且可防止白暈。

前述防眩層亦可包含有觸變性賦予劑。藉由包含前述觸變性賦予劑，可容易控制前述粒子之凝集狀態。用以形成前述防眩層之觸變性賦予劑可舉例如有機黏土、氧化聚烯烴、改質脲等。

為了改善與前述樹脂之親和性，前述有機黏土宜為經有機化處理之黏土。有機黏土可舉例如層狀有機黏土。前述有機黏土可自家調製亦可使用市售品。前述市售品可列舉例如：LOOSENTIGHT SAN、LOOSENTIGHT STN、LOOSENTIGHT SEN、LOOSENTIGHT SPN、SOMASIF ME-100、SOMASIF MAE、SOMASIF MTE、SOMASIF MEE、SOMASIF MPE(商品名，皆為Co-op Chemical Co.,Ltd.製)；ESBEN、ESBEN C、ESBEN E、ESBEN W、ESBEN P、ESBEN WX、ESBEN N-400、ESBEN NX、ESBEN NX80、ESBEN NO12S、ESBEN NEZ、ESBEN NO12、ESBEN NE、ESBEN NZ、ESBEN NZ70、ORGANITE、ORGANITE D、ORGANITE T(商品名，皆為HOJUN Co.,Ltd.製)；KUNIPIA F、KUNIPIA G、KUNIPIA G4(商品名，皆為KUNIMINE INDUSTRIES CO., LTD.製)；TIXOGEL VZ、CLAYTONE HT、CLAYTONE 40(商品名，皆為Rockwood Additives Ltd製)等。

前述氧化聚烯烴可自家調製亦可使用市售品。前述市售品可舉例如DISPARLON 4200-20(商品名，楠本化成(股)製)、FLOWNON SA300(商品名，共榮社化學(股)製)等。

前述改質脲係異氰酸酯單體或其加成物與有機胺的反應物。前述改質脲可自家調製亦可使用市售品。前述市售品可舉例如BYK410(BYK-CHEMIE公司製)等。

前述觸變性賦予劑可單獨使用一種亦可併用二種以上。

前述凸狀部距離前述防眩層之粗度平均線的高度宜小於防眩層之厚度的0.4倍。較宜為0.01倍以上且小於0.4倍之範圍，更宜為0.01倍以上且小於0.3倍之範圍。若為該範圍，便可適宜防止於前述凸狀部形成會成為外觀缺陷之突起物。藉由前述防眩層具有所述高度之凸狀部，可不易發生外觀缺陷。在此，前述距離平均線之高度可藉由例如日本專利特開2017-138620號公報中記載之方法來測定。

前述防眩層中之前述觸變性賦予劑之比率相對於前述樹脂100重量份，宜為0.1~5重量份之範圍，較宜為0.2~4重量份之範圍。

前述防眩層之厚度(d)無特別限制，宜在3~12µm之範圍內。藉由將防眩層之厚度(d)設為前述範圍，例如可防止本發明光學用黏著膠帶發生捲曲，而可避免輸送性不良等生產性降低之問題。又，當前述厚度(d)在前述範圍內時，前述粒子之重量平均粒徑(D)如前述宜在2.5~10µm之範圍內。藉由前述防眩層之厚度(d)與前述粒子之重量平均粒徑(D)為前述組合，可使防眩性更優異。前述防眩層之厚度(d)較宜為3~8µm之範圍內。

前述防眩層之厚度(d)與前述粒子之重量平均粒徑(D)的關係宜在0.3≦D/d≦0.9之範圍內。藉由使其成為所述關係，防眩性便更優異且可防止白暈，並可製成無外觀缺陷之防眩層。

本發明光學用黏著膠帶如前述，前述防眩層係藉由前述粒子及前述觸變性賦予劑凝集而於前述防眩層之表面形成凸狀部。形成前述凸狀部的凝集部中，前述粒子係以複數個聚集之狀態存在在前述防眩層之面方向上。藉此前述凸狀部呈平緩形狀。藉由前述防眩層具有所述形狀之凸狀部，可維持防眩性，同時可防止白暈，並且可不容易發生外觀缺陷。

前述防眩層之表面形狀可藉由控制防眩層形成材料所含粒子之凝集狀態來任意設計。前述粒子之凝集狀態例如可藉由前述粒子之材質(例如粒子表面之化學改質狀態、對溶劑或樹脂之親和性等)、樹脂(黏結劑)或溶劑之種類、組合等來控制。在此，可藉由前述防眩層形成材料所含之觸變性賦予劑來控制前述粒子之凝集狀態。結果，可使前述粒子之凝集狀態如同前述，而可將前述凸狀部製成平緩形狀。

本發明光學用黏著膠帶中，當本發明基材係由樹脂等形成時，宜在本發明基材與前述防眩層之界面具有滲透層。前述滲透層係前述防眩層之形成材料所含之樹脂成分滲透至本發明基材而形成。若形成滲透層，便可提升本發明基材與前述防眩層之密著性，而理想。前述滲透層之厚度宜為0.2~3µm之範圍，較宜為0.5~2µm之範圍。例如，當本發明基材為聚酯系樹脂，且前述防眩層所含之樹脂為丙烯酸樹脂時，可形成前述滲透層。前述滲透層例如可藉由以穿透型電子顯微鏡(TEM)觀察本發明光學用黏著膠帶之截面來確認，且可測定厚度。

即使是在應用於具有所述滲透層之本發明光學用黏著膠帶之情況下，仍可容易形成兼顧防眩性與防止白暈之所期望之平緩的表面凹凸形狀。前述滲透層愈為與前述防眩層之密著性差之基材，愈能提升密著性，故宜形成地較厚。

前述防眩層中，宜防眩層每1m ²中最大徑為200µm以上之外觀缺陷為1個以下。較宜為無前述外觀缺陷。

前述防眩層表面之凹凸形狀之平均傾角θa(°)宜為0.1~5.0之範圍，較宜為0.3~4.5之範圍，更宜為1.0~4.0之範圍，尤宜為1.6~4.0。在此，前述平均傾角θa係以下述數學式(1)定義之值。前述平均傾角θa為例如藉由日本專利特開2017-138620中記載之方法測定之值。 平均傾角θa=tan-1Δa　　　　　　(1)

前述數學式(1)中，Δa如下述數學式(2)所示，為JIS B 0601(1994年度版)所規定之粗度曲線的基準長度L中，相鄰的峰之頂點與谷之最低點的差(高度h)之合計(h1+h2+h3・・・+hn)除以前述基準長度L所得之值。前述粗度曲線係以相位差補償形高通濾波器從截面曲線去除較預定波長更長的表面起伏成分而得之曲線。又，前述截面曲線係指在與對象面呈直角之平面切斷對象面後，該切口所顯現之輪廓。 Δa=(h1+h2+h3・・・+hn)/L　　　(2)

θa若在上述範圍內，防眩性便更優異且可防止白暈。

形成前述防眩層時，調製出之防眩層形成材料(塗敷液)宜展現觸變性，且下述規定之Ti值宜在1.3~3.5之範圍，較宜為1.3~2.8之範圍。 Ti值=β1/β2 在此，β1為使用HAAKE公司製RheoStress 6000在剪切速度20(1/s)之條件下測定之黏度，檢測到停止預告標誌？2為使用HAAKE公司製RheoStress 6000在剪切速度200(1/s)之條件下測定之黏度。

Ti值若小於1.3，則容易發生外觀缺陷，而有關防眩性、白暈之特性會惡化。又，Ti值若大於3.5，前述粒子便不易凝集而容易呈分散狀態。

前述防眩層之製造方法無特別限制，亦可以任何方法製造，例如可藉由以下方式來製造：準備包含前述樹脂、前述粒子、前述觸變性賦予劑及溶劑之防眩層形成材料(塗敷液)，將前述防眩層形成材料(塗敷液)塗敷於本發明基材之第2面而形成塗膜，並使前述塗膜硬化而形成防眩層。亦可一併使用以利用模具進行之轉印方式、以噴砂、壓花加工等適當之方式賦予凹凸形狀之方法等。

前述溶劑無特別限制，可使用各種溶劑，可單獨使用一種亦可併用二種以上。因應前述樹脂的組成、前述粒子及前述觸變性賦予劑的種類、含量等，存在最佳之溶劑種類或溶劑比率。溶劑無特別限定，可列舉例如：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙基醚、丙二醇單甲基醚等醚類；乙二醇、丙二醇等甘醇類；乙賽璐蘇、丁賽璐蘇等賽璐蘇類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。

本發明基材例如在採用聚酯系樹脂來形成滲透層時，可適宜使用對聚酯系樹脂為良溶劑者。該溶劑可舉例如乙酸乙酯、甲基乙基酮、環戊酮等。

藉由適當選擇前述溶劑，可良好展現利用觸變性賦予劑對防眩層形成材料(塗敷液)之觸變性。例如使用有機黏土時，可適宜單獨使用或併用甲苯及二甲苯；例如使用氧化聚烯烴時，可適宜單獨使用或併用甲基乙基酮、乙酸乙酯、丙二醇單甲基醚；例如使用改質脲時，可適宜單獨使用或併用乙酸丁酯及甲基異丁基酮。

前述防眩層形成材料中可添加各種調平劑。前述調平劑可為了防止塗敷不均(塗敷面均一化)而使用例如氟系或聚矽氧系調平劑。可因應對前述防眩層之表面要求防污性之情況、或於防眩層上形成抗反射層(低折射率層)或含層間充填劑之層之情況等，適當選定調平劑。例如，可藉由使其包含前述觸變性賦予劑來使塗敷液展現觸變性，因此不容易發生塗敷不均。因此，例如具有可擴大前述調平劑之選項的優點。

相對於前述樹脂100重量份，前述調平劑之摻混量例如為5重量份以下，宜為0.01~5重量份之範圍。

前述防眩層形成材料中亦可視需求在不損及性能之範圍內添加顏料、充填劑、分散劑、塑化劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、防污劑、抗氧化劑等。該等添加劑可單獨使用一種，又亦可併用二種以上。

前述防眩層形成材料中亦可使用例如日本專利特開2008-88309號公報中記載之以往公知之光聚合引發劑。

將前述防眩層形成材料塗敷於本發明基材之第2面上之方法可使用例如噴注式塗佈法、模塗法、旋塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法等塗敷法。

塗敷前述防眩層形成材料而於本發明基材上形成塗膜，並使前述塗膜硬化。宜在前述硬化前使前述塗膜乾燥。前述乾燥例如可為自然乾燥，可為噴吹風之風乾，可為加熱乾燥，亦可為組合該等之方法。

前述防眩層形成材料之塗膜的硬化手段無特別限制，宜為紫外線硬化。能量線源的照射量宜以在紫外線波長365nm下之累積曝光量計為50~500mJ/cm ²。照射量若為50mJ/cm ²以上，硬化便更充分，而所形成之防眩層的硬度亦更充分。又，若為500mJ/cm ²以下，便可防止所形成之防眩層的著色。

依以上方式，可於本發明基材之第2面形成前述防眩層。此外，亦可以前述方法以外之製造方法來形成防眩層。前述防眩層之硬度以鉛筆硬度來說亦會影響層之厚度，而宜具有2H以上之硬度。

前述防眩層亦可為積層有二層以上之複數層結構。

亦可於前述防眩層上配置上述AR層(低折射率層)。例如，於影像顯示裝置裝設有光學用黏著膠帶時，會降低影像視辨性的主因之一可舉在空氣與防眩層界面之光反射。AR層係會降低其表面反射者。此外，前述防眩層及抗反射層分別亦可為積層有二層以上之複數層結構。

又，為了防止污染物附著及提升已附著之污染物的易去除性，宜於前述抗反射層及/或防眩層上積層由含氟基之矽烷系化合物或含氟基之有機化合物等形成之抗污染層。

宜對本發明基材及前述防眩層中之至少一者進行表面處理。若對本發明基材表面進行表面處理，便能更提升與前述防眩層之密著性。又，若對前述防眩層表面進行表面處理，便能更提升與前述AR層之密著性。

為了防止本發明基材發生捲曲，亦可對前述防眩層之另一面進行溶劑處理。又，為了防止捲曲發生，亦可於前述防眩層之另一面形成透明樹脂層。

＜黏著劑層＞ 本發明黏著劑層可為不具基材(基材層)之黏著劑層，亦可為具有基材之類型的黏著劑層。此外，在本說明書中，有時將不具基材(基材層)之黏著劑層稱為「無基材之黏著劑層」，且有時將具有基材之類型的黏著劑層稱為「附基材之黏著劑層」。作為上述無基材之黏著劑層，可舉例如僅由本發明黏著劑層構成之單層黏著劑層、或由本發明黏著劑層與其他黏著劑層(本發明黏著劑層以外之黏著劑層)構成之黏著劑層等。又，上述附基材之黏著劑層可舉於基材之兩面側具有本發明黏著劑層之黏著劑層、或於基材之一面側具有本發明黏著劑層且於另一面側具有其他黏著劑層之黏著劑層等。構成「附基材之黏著劑層」之「基材(基材層)」可使用與本發明基材相同之塑膠薄膜。

以本發明黏著劑層之復原率來說，在下述剪切試驗中求算之復原率為95%以下。 ＜剪切試驗＞ 測定應變量A(%)與應變量B(%)，並由下述式算出復原率(%)，該應變量A(%)係在60℃下從厚度2mm、直徑7.9mm之圓盤狀黏著劑層上下施加扭轉方向之剪切力500Pa 600秒鐘後的應變量，而應變量B(%)係在其之後在剪切力0Pa下維持1800秒鐘後的應變量。 復原率(%)=(應變量A-應變量B)/應變量A×100

參照圖式說明上述「剪切試驗」。圖5係用以說明剪切試驗之示意圖，40表示黏著劑層，41及42表示平行板。 黏著劑層40係厚度2mm、直徑7.9mm之圓盤狀黏著劑層，其係由本發明黏著劑層構成者，平行板41及42分別具有直徑7.9mm之上表面及底面，其係由例如不鏽鋼等構成者(圖5(a))。將平行板41之上表面及平行板42之底面分別對齊黏著劑層40之底面及上表面並抵接(圖5(b))。接著，將周邊溫度設為60℃，對黏著劑層40施加500Pa之扭轉方向的剪切力F 600秒鐘(圖5(c))。接著，釋放平行板41及42之剪切力，並在剪切力0Pa下放置1800秒鐘(圖5(d))。「應變量A」係對初始(圖5(b))之黏著劑層40之外周(100%)施加剪切力F 600秒鐘後之時間點(圖5(c))之扭轉方向的變化量之百分率(%)。「應變量B」係對初始(圖5(b))之黏著劑層40之外周(100%)施加剪切力F 600秒鐘後在剪切力0Pa下放置1800秒鐘後之時間點(圖5(d))之扭轉方向的變化量之百分率(%)。復原率(%)可由下述式算出。 復原率(%)=(應變量A-應變量B)/應變量A×100

本發明黏著劑層之復原率為95%以下之構成，在以下方面來看係理想的：黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落；以及，透明性可維持不變。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、透明性可維持不變、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層之復原率宜為94%以下，亦可為93.5%以下。本發明黏著劑層之復原率的下限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點來看，宜為70%以上，亦可為80%以上或85%以上。

本發明黏著劑層之應變量A無特別限定，宜為3%以上。本發明黏著劑層之應變量A為3%以上之構成，在以下方面來看係理想的：黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層之應變量A宜為4%以上，亦可為5%以上。本發明應變量A的上限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點、透明性可維持不變之觀點來看，宜為25%以下，亦可為20%以下或15%以下。

本發明黏著劑層之應變量B無特別限定，宜為0.1%以上。本發明黏著劑層之應變量B為0.1%以上之構成，在以下方面來看係理想的：黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層之應變量B宜為0.2%以上，亦可為0.3%以上。本發明應變量B的上限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點、透明性可維持不變之觀點來看，宜為10%以下，亦可為8%以下或5%以下。

本發明黏著劑層之應變量A、應變量B、復原率係藉由後述實施例之剪切試驗所測定者。本發明應變量A、應變量B、復原率可藉由用以形成本發明黏著劑層之黏著劑組成物的組成(例如基底聚合物的種類或分子量、使用量、單體組成、官能基的種類及量、交聯劑的種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射線照射條件)等來調整。

本發明黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)宜為-10℃以下。本發明黏著劑層之Tg為-10℃以下之構成，在以下方面來看係理想的：即便在低溫環境下仍能維持前述黏著劑層之應力鬆弛性，且前述黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，而可抑制浮凸或剝落，從而可充分確保與被黏著體之密著性。在抑制本發明影像顯示裝置之浮凸或剝落，而與被黏著體之良好密著性之方面來看，本發明黏著劑層之玻璃轉移點為-15℃以下，亦可為-20℃以下。本發明黏著劑層之Tg的下限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點來看，宜為-50℃以上，亦可為-40℃以上。

本發明黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)係藉由後述實施例之動態黏彈性測定所測定者。本發明黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)可藉由用以形成本發明黏著劑層之黏著劑組成物的組成(例如基底聚合物的種類或分子量、使用量、單體組成、官能基的種類及量、交聯劑的種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射線照射條件)等來調整。

本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之儲存彈性模數無特別限定，宜為80kPa以下。本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之儲存彈性模數為80kPa以下之構成，在以下方面來看係理想的：本發明黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之儲存彈性模數較宜為70kPa以下，亦可為60kPa以下或50kPa以下。本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之儲存彈性模數的下限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點來看，宜為1kPa以上，亦可為5kPa以上。

本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之損耗正切無特別限定，宜為0.15以上。本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之損耗正切為0.15以上之構成，在以下方面來看係理想的：本發明黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之損耗正切宜為0.2以上，亦可為0.25以上或0.3以上。本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之損耗正切的上限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點來看，宜為1以下，亦可為0.8以下。

本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之儲存彈性模數、損耗正切係藉由後述實施例之動態黏彈性測定所測定者。本發明黏著劑層在70℃、1Hz下之儲存彈性模數、損耗正切可藉由用以形成本發明黏著劑層之黏著劑組成物的組成(例如基底聚合物的種類或分子量、使用量、單體組成、官能基的種類及量、交聯劑的種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射線照射條件)等來調整。

將本發明黏著劑層之黏著面積1cm ²貼合於樹脂板，且在23℃下以拉伸速度0.06mm/分鐘往剪切方向拉伸時之剪切力無特別限定，宜為20N/cm ²以下。本說明書中，提及「剪切力」時，只要未特別註明，即表示「將黏著劑層之黏著面積1cm ²貼合於樹脂板，且在23℃下以拉伸速度0.06mm/分鐘往剪切方向拉伸時之剪切力」。

本發明黏著劑層之剪切力為20N/cm ²以下之構成，在以下方面來看係理想的：本發明黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層之剪切力較宜為15N/cm ²以下，亦可為13N/cm ²以下。本發明黏著劑層之剪切力的下限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點來看，宜為5N/cm ²以上，亦可為7N/cm ²以上。

本發明黏著劑層之剪切力係藉由後述實施例之剪切力測定所測定者。本發明黏著劑層之剪切力可藉由用以形成本發明黏著劑層之黏著劑組成物的組成(例如基底聚合物的種類或分子量、使用量、單體組成、官能基的種類及量、交聯劑的種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射線照射條件)等來調整。

本發明黏著劑層之300%拉伸殘存應力值無特別限定，宜為10N/cm ²以下。本發明黏著劑層之300%拉伸殘存應力值為10N/cm ²以下之構成，在以下方面來看係理想的：本發明黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，在以下方面來看亦理想：於影像顯示面板等之被黏著體存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。在抑制本發明光學用黏著膠帶之浮凸或剝落、可追隨高低差之方面來看，本發明黏著劑層之300%拉伸殘存應力值較宜為7N/cm ²以下，亦可為5N/cm ²以下。本發明黏著劑層之300%拉伸殘存應力值的下限值無特別限定，由在保管本發明光學用黏著膠帶時不易發生黏著劑層從端部突出之不良情況等加工性之觀點來看，宜為1N/cm ²以上，亦可為1.5N/cm ²以上。

本發明黏著劑層之300%拉伸殘存應力值係藉由後述實施例之300%拉伸殘存應力值測定所測定者。本發明黏著劑層之300%拉伸殘存應力值可藉由用以形成本發明黏著劑層之黏著劑組成物的組成(例如基底聚合物的種類或分子量、使用量、單體組成、官能基的種類及量、交聯劑的種類及量)或硬化條件(加熱條件、輻射線照射條件)等來調整。

構成本發明黏著劑層之黏著劑無特別限定，可列舉例如：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑等。其中，由透明性、黏著性、耐候性、成本、黏著劑之易設計性之方面來看，構成黏著劑層之黏著劑宜為丙烯酸系黏著劑。亦即，本發明黏著劑層宜為由丙烯酸系黏著劑構成之丙烯酸系黏著劑層。上述黏著劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述丙烯酸系黏著劑層含有丙烯酸系聚合物作為基底聚合物。上述丙烯酸系聚合物係一包含丙烯酸系單體(分子中具有(甲基)丙烯醯基之單體)作為構成聚合物之單體成分的聚合物。上述丙烯酸系聚合物宜為包含(甲基)丙烯酸烷基酯作為構成聚合物之單體成分的聚合物。此外，丙烯酸系聚合物可單獨使用或可組合2種以上來使用。

形成本發明黏著劑層之黏著劑組成物可為任一形態。例如，黏著劑組成物亦可為乳液型、溶劑型(溶液型)、活性能量線硬化型、熱熔融型(熱熔型)等。其中，由生產性方面、容易獲得光學特性或外觀性優異之黏著劑層之方面來看，宜為溶劑型、活性能量線硬化型黏著劑組成物。尤其由容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，宜為活性能量線硬化型黏著劑組成物。

亦即，本發明黏著劑層係含有丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑層，宜藉由活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑組成物形成。

上述活性能量線可列舉例如α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射線、或紫外線等，尤宜為紫外線。亦即，上述活性能量線硬化型黏著劑組成物宜為紫外線硬化型黏著劑組成物。

形成上述丙烯酸系黏著劑層之黏著劑組成物(丙烯酸系黏著劑組成物)可舉例如以丙烯酸系聚合物為必要成分之丙烯酸系黏著劑組成物、或是構成丙烯酸系聚合物之單體(monomer)的混合物(有時稱為「單體混合物」)或以其部分聚合物為必要成分之丙烯酸系黏著劑組成物等。前者可舉例如所謂之溶劑型丙烯酸系黏著劑組成物等。又，後者可舉例如所謂之活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑組成物等。上述「單體混合物」意指包含構成聚合物之單體成分的混合物。又，上述「部分聚合物」亦有時稱為「預聚物」，意指在上述單體混合物中之單體成分中1或2種以上單體成分已部分聚合之組成物。

上述丙烯酸系聚合物係以丙烯酸系單體為必要單體成分(單體成分)而構成(形成)之聚合物。上述丙烯酸系聚合物宜為以(甲基)丙烯酸烷基酯為必要單體成分而構成(形成)之聚合物。即，上述丙烯酸系聚合物宜包含(甲基)丙烯酸烷基酯作為構成單元。在本說明書中，「(甲基)丙烯酸」表示「丙烯酸」及/或「甲基丙烯酸」(丙烯酸」及「甲基丙烯酸」中之任一者或兩者)，其他亦同。此外，上述丙烯酸系聚合物係藉由1種或2種以上單體成分構成。

作為必要單體成分之上述(甲基)丙烯酸烷基酯可適宜舉具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。此外，(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或可組合2種以上來使用。

具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸十四酯、(甲基)丙烯酸十五酯、(甲基)丙烯酸十六酯、(甲基)丙烯酸十七酯、(甲基)丙烯酸十八酯((甲基)丙烯酸硬脂酯)、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸十九酯、(甲基)丙烯酸二十酯等具有碳數1~20之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。其中，上述具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯宜為具有碳數4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，較宜為丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)、丙烯酸月桂酯(LA)、丙烯酸丁酯(BA)。又，上述具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或可組合2種以上來使用。

構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分(100重量%)中，上述(甲基)丙烯酸烷基酯之比率無特別限定，宜為50重量%以上(例如50~100重量%)，較宜為53~90重量%，更宜為55~85重量%。

又，丙烯酸系黏著劑組成物除上述丙烯酸系聚合物外，還可包含有上述(甲基)丙烯酸烷基酯。丙烯酸系黏著劑組成物除了丙烯酸系聚合物外還含有(甲基)丙烯酸烷基酯時，該(甲基)丙烯酸烷基酯之含量(摻混量)相對於丙烯酸系聚合物100重量份宜為10重量份以上(例如10~100重量份)，較宜為20~90重量份，更宜為30~80重量份。

上述丙烯酸系聚合物亦可包含有上述(甲基)丙烯酸烷基酯與共聚性單體作為構成聚合物之單體成分。亦即，上述丙烯酸系聚合物亦可包含有共聚性單體作為構成單元。此外，共聚性單體可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述共聚性單體無特別限定，惟由容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點、抑制在高濕環境下之白濁化與提升耐久性、接著可靠性、與紫外線吸收劑等各種添加劑之相溶性、透明性之方面來看，可適宜舉分子內具有氮原子之單體、分子內具有羥基之單體。即，上述丙烯酸系聚合物宜包含分子內具有氮原子之單體作為構成單元。又，上述丙烯酸系聚合物宜包含分子內具有羥基之單體作為構成單元。

上述分子內具有氮原子之單體係分子內(1分子內)具有至少1個氮原子之單體(單體)。在本說明書中，有時將上述「分子內具有氮原子之單體」稱為「含氮原子之單體」。上述含氮原子之單體無特別限定，可適宜舉含環狀氮單體、(甲基)丙烯醯胺類等。此外，含氮原子單體可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述含環狀氮單體若為具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有環狀氮結構者，便無特別限定。上述環狀氮結構宜為環狀結構內具有氮原子者。

上述含環狀氮單體可舉例如N-乙烯基環狀醯胺(內醯胺系乙烯基單體)、具有含氮雜環之乙烯基系單體等。

上述N-乙烯基環狀醯胺可舉例如下述式(1)所示之N-乙烯基環狀醯胺。 [化學式1]

(式(1)中，R ¹表示2價有機基)

上述式(1)中之R ¹為2價有機基，宜為2價飽和烴基或不飽和烴基，較宜為2價飽和烴基(例如碳數3~5之伸烷基等)。

上述式(1)所示之N-乙烯基環狀醯胺可列舉例如：N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-乙烯基-3-嗎福林、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-㗁𠯤-2-酮、N-乙烯基-3,5-嗎福林二酮等。

上述具有含氮雜環之乙烯基系單體可舉例如嗎福林環、哌啶環、吡咯啶環、哌𠯤環等具有含氮雜環之丙烯酸系單體等。

上述具有含氮雜環之乙烯基系單體無特別限定，可列舉例如：(甲基)丙烯醯基嗎福林、N-乙烯基哌𠯤、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基吡𠯤、N-乙烯基嗎福林、N-乙烯基吡唑、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基㗁唑、乙烯基異㗁唑、乙烯基噻唑、乙烯基異噻唑、乙烯基嗒𠯤、(甲基)丙烯醯基吡咯啶酮、(甲基)丙烯醯基吡咯啶、(甲基)丙烯醯基哌啶等。

作為上述具有含氮雜環之乙烯基系單體，其中宜為具有含氮雜環之丙烯酸系單體，較宜為(甲基)丙烯醯基嗎福林、(甲基)丙烯醯基吡咯啶、(甲基)丙烯醯基哌啶。

上述(甲基)丙烯醯胺類可舉例如(甲基)丙烯醯胺、N-烷基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺等。上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺可舉例如N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-正丁基(甲基)丙烯醯胺、N-辛基(甲基)丙烯醯胺等。並且，上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺中亦包含二甲基胺乙基(甲基)丙烯醯胺、二乙基胺乙基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺這類具有胺基之(甲基)丙烯醯胺。上述N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺可列舉例如：N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(正丁基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(三級丁基)(甲基)丙烯醯胺等。

又，上述(甲基)丙烯醯胺類亦包含例如各種N-羥烷基(甲基)丙烯醯胺。上述N-羥烷基(甲基)丙烯醯胺可列舉例如：N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-2-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等。

又，上述(甲基)丙烯醯胺類亦包含例如各種N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺。上述N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺可舉例如N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺等。

又，上述含環狀氮單體、上述(甲基)丙烯醯胺類以外之含氮原子單體，可舉例如含胺基單體、含氰基單體、含醯亞胺基單體、含異氰酸酯基單體等。上述含胺基單體可舉例如(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺丙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等。含氰基單體可舉例如丙烯腈、甲基丙烯腈等。上述含醯亞胺基單體可列舉：馬來醯亞胺系單體(例如N-環己基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等)、伊康醯亞胺系單體(例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺等)、琥珀醯亞胺系單體(例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等)等。上述含異氰酸酯基單體可舉例如2-(甲基)丙烯醯氧基乙基異氰酸酯等。

其中，上述含氮原子單體宜為含環狀氮單體，較宜為N-乙烯基環狀醯胺。更具體而言尤宜為N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)。

上述丙烯酸系聚合物含有上述含氮原子單體作為構成聚合物之單體成分時，構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分(100重量%)中，上述含氮原子單體之比率無特別限定，宜為1重量%以上，較宜為3重量%以上，更宜為5重量%以上。上述比率若為1重量%以上，便可抑制在高濕環境下之白濁化與更提升耐久性，從而可獲得高接著可靠性，而理想。又，由獲得具有適度柔軟性之黏著劑層之方面、獲得透明性優異之黏著劑層之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，上述含氮原子單體之比率的上限宜為30重量%以下，較宜為25重量%以下，更宜為20重量%以下。

上述分子內具有羥基之單體為分子內(1分子內)具有至少1個羥基(hydroxyl group)之單體，可適宜舉具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羥基者。惟，上述分子內具有羥基之單體係設為不包含上述含氮原子單體者。即，在本說明書中，分子內同時具有氮原子與羥基之單體係設為包含在上述「含氮原子單體」中。在本說明書中，有時將上述「分子內具有羥基之單體」稱為「含羥基單體」。此外，含羥基單體可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述含羥基單體可列舉例如：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸羥辛酯、(甲基)丙烯酸羥癸酯、(甲基)丙烯酸羥月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羥甲基環己基)酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯；乙烯醇；烯丙醇等。

其中，上述含羥基單體宜為含羥基之(甲基)丙烯酸酯，較宜為丙烯酸2-羥乙酯(HEA)、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)。

上述丙烯酸系聚合物含有上述含羥基單體作為構成聚合物之單體成分時，構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分(100重量%)中，上述含羥基單體之比率無特別限定，惟由抑制在高濕環境下之白濁化與提升耐久性、獲得高接著可靠性之方面來看，宜為0.5重量%以上，較宜為0.8重量%以上，更宜為1重量%以上。又，由容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，上述含羥基單體之比率的上限宜為30重量%以下，較宜為25重量%以下，更宜為20重量%以下。

又，為了進一步強化含羥基單體所帶來之上述效果，丙烯酸系黏著劑組成物除了上述丙烯酸系聚合物外，還可包含有含羥基單體。丙烯酸系黏著劑組成物除了丙烯酸系聚合物外還含有含羥基單體時，該含羥基單體之含量(摻混量)相對於丙烯酸系聚合物100重量份，宜為1重量份以上，較宜為3重量份以上，更宜為5重量份以上。上述含量若為5重量份以上，便可抑制在高濕環境下之白濁化與更提升耐久性，從而可獲得更高接著可靠性，而理想。又，由凝集力方面、接著性、接著可靠性之容易獲得性方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，上述含羥基單體之含量(摻混量)的上限較宜為30重量份以下，較宜為25重量份以下，更宜為20重量份以下，尤宜為17重量份以下。

構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分(100重量%)中，上述含氮原子單體及上述含羥基單體之比率的合計無特別限定，惟由抑制在高濕環境下之白濁化與提升耐久性、獲得高接著可靠性之方面來看，宜為5重量%以上，較宜為10重量%以上，更宜為15重量%以上。又，由獲得具有適度柔軟性之黏著劑層之方面、獲得透明性優異之黏著劑層之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，上述比率的合計上限宜為50重量%以下，較宜為40重量%以下，更宜為35重量%以下。

含氮原子單體及含羥基單體外之共聚性單體更可舉含脂環結構單體。上述含脂環結構單體若為具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有脂環結構結構者，便無特別限定。例如，具有環烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯包含在上述含脂環結構單體中。此外，含脂環結構單體可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述含脂環結構單體中之脂環結構係環狀烴結構，宜為碳數5以上，較宜為碳數6~24，更宜為碳數6~15，尤宜為碳數6~10。

上述含脂環結構單體可列舉例如：(甲基)丙烯酸環丙酯、(甲基)丙烯酸環丁酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯、(甲基)丙烯酸環辛酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、下述式(2)所示之HPMPA、下述式(3)所示之TMA-2、下述式(4)所示之HCPA等之(甲基)丙烯酸系單體。此外，下述式(4)中，線所連接之環己環與括弧內之結構式的鍵結位置無特別限定。該等之中，又宜為(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯。

[化學式2]

[化學式3]

[化學式4]

上述丙烯酸系聚合物含有上述含脂環結構單體作為構成聚合物之單體成分時，構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分(100重量%)中，上述含脂環結構單體之比率無特別限定，惟由提升耐久性、獲得高接著可靠性之方面來看，宜為10重量%以上。又，由獲得具有適度柔軟性之黏著劑層之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，上述含脂環結構單體之比率的上限宜為50重量%以下，較宜為40重量%以下，更宜為30重量%以下。

並且，共聚性單體可舉例如多官能性單體。上述多官能性單體可列舉例如：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯苯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺甲酸酯丙烯酸酯等。此外，多官能性單體可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述丙烯酸系聚合物含有上述多官能性單體作為構成聚合物之單體成分時，構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分(100重量%)中，上述多官能性單體之比率無特別限定，由容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，宜為0.5重量%以下(例如大於0重量%且在0.5重量%以下)，較宜為0.2重量%以下(例如大於0重量%且在0.2重量%以下)。

又，除上述丙烯酸系聚合物外，上述多官能性單體亦可摻混於丙烯酸系黏著劑組成物中。丙烯酸系黏著劑組成物除了丙烯酸系聚合物外還含有多官能性單體時，由容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，該多官能性單體之含量(摻混量)相對於丙烯酸系聚合物100重量份，宜為0.5重量份以下(例如大於0重量份且在0.5重量份以下)，較宜為0.2重量份以下(例如大於0重量份且在0.2重量份以下)。

又，上述共聚性單體可舉(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯。上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯無特別限定，可列舉例如：(甲基)丙烯酸2-甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧丁酯等。其中，上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯宜為丙烯酸烷氧基烷基酯，較宜為丙烯酸2-甲氧乙酯(MEA)。此外，上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述丙烯酸系聚合物包含上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯作為構成聚合物之單體成分時，上述(甲基)丙烯酸烷基酯與上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯之比率無特別限定，惟以[前者：後者](重量比)計，宜大於100：0且在25：75以下，較宜大於100：0且在50：50以下。

其他，上述共聚性單體還可列舉例如：含羧基單體、含環氧基單體、含磺酸基單體、含磷酸基單體、具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯、乙烯酯類、芳香族乙烯基化合物、烯烴類或二烯類、乙烯基醚類、氯乙烯等。上述含羧基單體可舉例如(甲基)丙烯酸、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸及異巴豆酸等，又，上述含羧基單體中亦包含例如馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體。上述含環氧基單體可舉例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸甲基環氧丙酯等。上述含磺酸基單體可舉例如乙烯基磺酸鈉等。含磷酸基單體可舉例如2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等。上述具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯可舉例如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。上述乙烯酯類可舉例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等。上述芳香族乙烯基化合物可舉例如苯乙烯、乙烯基甲苯等。上述烯烴類或二烯類可舉例如乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯、異丁烯等。上述乙烯基醚類可舉例如乙烯基烷基醚等。

由獲得具有優異耐腐蝕性之丙烯酸系黏著劑層之方面來看，上述丙烯酸系聚合物宜不含含酸性基單體或實質上不含含酸性基單體作為構成聚合物之單體成分，尤宜不含含羧基單體或實質上不含含羧基單體作為構成聚合物之單體成分。含酸性基單體可舉例如含羧基單體、含磺酸基單體、含磷酸基單體等。具體而言，構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分(100重量%)中含酸性基單體之比率為0.05重量%以下(宜為0.01重量%以下)者可實質上不含有。

本發明黏著劑層中基底聚合物(尤其是丙烯酸系聚合物)之含量無特別限定，相對於本發明黏著劑層之總重量100重量%，宜為50重量%以上(例如50~100重量%)，較宜為80重量%以上(例如80~100重量%)，更宜為90重量%以上(例如90~100重量%)。

上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)為100000~5000000，宜為500000~4000000，較宜為750000~3000000。丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為100000以上之構成在提升黏著力、提升耐發泡剝落性之方面來看為佳。另一方面，丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為5000000以下之構成在容易提高黏著力、提升耐發泡剝落性之方面來看為佳。

上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)可藉由GPC法換算成聚苯乙烯而求算。例如，可使用Tosoh股份公司製之高速GPC裝置「HPLC-8120GPC」，藉由下述條件來測定。 管柱：TSKgel SuperHZM-H/HZ4000/HZ3000/HZ2000 溶劑：四氫呋喃 流速：0.6ml/分鐘

上述丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)無特別限定，宜為-70~-10℃，較宜為-65~-15℃，更宜為-60~-20℃。丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度若為-70℃以上，能提升凝集力、且容易提升耐發泡剝落性，故理想。又，丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度為-10℃以下之構成，在以下方面來看係理想的：即便在低溫環境下仍能維持前述黏著劑層之應力鬆弛性，且前述黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，而可抑制浮凸或剝落，從而可充分確保與被黏著體之密著性。

上述丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)係以下述FOX式表示之玻璃轉移溫度(理論值)。 1/Tg=W ₁/Tg ₁+W ₂/Tg ₂+・・・+W _n/Tg _n上述式中，Tg表示丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(單元：K)，Tg _i表示在單體i形成均聚物後之玻璃轉移溫度(單位：K)，Wi表示單體i之單體成分總量中之重量分率(i=1、2、・・・・n)。 構成上述丙烯酸系聚合物之單體之均聚物的Tg可採用下述值。 丙烯酸2-乙基己酯　　　-70℃ 丙烯酸正己酯　　　-65℃ 丙烯酸正辛酯　　　-65℃ 丙烯酸異壬酯　　　-60℃ 丙烯酸正壬酯　　　-58℃ 丙烯酸正丁酯　　　-55℃ 丙烯酸乙酯　　　-20℃ 丙烯酸月桂酯　　　0℃ 甲基丙烯酸2-乙基己酯　　　-10℃ 丙烯酸甲酯　　　8℃ 甲基丙烯酸正丁酯　　　20℃ 甲基丙烯酸甲酯　　　105℃ 丙烯酸　　　106℃ 甲基丙烯酸　　　228℃ 乙酸乙烯酯　　　32℃ 苯乙烯　　　100℃

又，關於上述未記載之單體之均聚物的Tg，可採用「Polymer Handbook(聚合物指南)」(第3版，John Wiley ＆ Sons, Inc， 1989年)中記載之數值。並且，關於上述文獻中亦未記載之單體之均聚物的Tg，可採用藉由上述測定方法獲得之值(利用黏彈性試驗所得之tanδ之峰頂溫度)。

本發明黏著劑層含有之上述丙烯酸系聚合物等基底聚合物可藉由將單體成分聚合而得。該聚合方法無特別限定，可舉例如溶液聚合方法、乳化聚合方法、塊狀聚合方法、利用活性能量線照射進行之聚合方法(活性能量線聚合方法)等。其中，由黏著劑層之透明性、成本等方面來看，宜為溶液聚合方法、活性能量線聚合方法，較宜為活性能量線聚合方法。

又，在上述單體成分聚合時，亦可使用各種一般溶劑。上述溶劑可列舉例如：乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；甲苯、苯等芳香族烴類；正己烷、正庚烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷等脂環式烴類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等之有機溶劑。此外，溶劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

在上述單體成分聚合時，亦可因應聚合反應之種類，使用熱聚合引發劑或光聚合引發劑(光引發劑)等聚合引發劑。此外，聚合引發劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述熱聚合引發劑無特別限定，可舉例如偶氮系聚合引發劑、過氧化物系聚合引發劑(例如二苯甲醯基過氧化物、過氧化馬來酸三級丁酯等)、氧化還原系聚合引發劑等。其中以日本專利特開2002-69411號公報所揭示之偶氮系聚合引發劑為佳。上述偶氮系聚合引發劑可舉2,2'-偶氮雙異丁腈(以下有時稱為AIBN)、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈(以下有時稱為AMBN)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰戊酸等。此外，熱聚合引發劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

在上述丙烯酸系聚合物聚合時使用上述偶氮系聚合引發劑時，上述偶氮系聚合引發劑之使用量無特別限定，例如相對於構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分100重量份，宜為0.05重量份以上，較宜為0.1重量份以上，又宜為0.5重量份以下，較宜為0.3重量份以下。

上述光聚合引發劑無特別限定，可舉例如苯偶姻醚系光聚合引發劑、苯乙酮系光聚合引發劑、α-酮醇系光聚合引發劑、芳香族磺醯氯系光聚合引發劑、光活性肟系光聚合引發劑、苯偶姻系光聚合引發劑、苯甲基系光聚合引發劑、二苯基酮系光聚合引發劑、縮酮系光聚合引發劑、9-氧硫𠮿

系光聚合引發劑等。其他，還可舉醯基膦氧化物系光聚合引發劑、二茂鈦系光聚合引發劑。上述苯偶姻醚系光聚合引發劑可舉例如苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻異丁醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、苯甲醚甲醚等。上述苯乙酮系光聚合引發劑可舉例如2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥環己基苯基酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-(三級丁基)二氯苯乙酮等。上述α-酮醇系光聚合引發劑可舉例如2-甲基-2-羥苯丙酮、1-[4-(2-羥乙基)苯]-2-甲基丙-1-酮等。上述芳香族磺醯氯系光聚合引發劑可舉例如2-萘磺醯氯等。上述光活性肟系光聚合引發劑可舉例如1-苯基-1,1-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)-肟等。上述苯偶姻系光聚合引發劑可舉例如苯偶姻等。上述苯甲基系光聚合引發劑可舉例如苯甲基等。上述二苯基酮系光聚合引發劑可舉例如二苯基酮、苯甲醯苯甲酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯基酮、聚乙烯基二苯基酮、α-羥環己基苯基酮等。上述縮酮系光聚合引發劑可舉例如苯甲基二甲基縮酮等。上述9-氧硫𠮿

系光聚合引發劑可舉例如9-氧硫𠮿

、2-氯9-氧硫𠮿

、2-甲基9-氧硫𠮿

、2,4-二甲基9-氧硫𠮿

、異丙基9-氧硫𠮿

、2,4-二異丙基9-氧硫𠮿

、十二基9-氧硫𠮿

等。上述醯基膦氧化物系光聚合引發劑可舉例如2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物等。上述二茂鈦系光聚合引發劑可舉例如雙(η ⁵-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。此外，光聚合引發劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

在上述丙烯酸系聚合物聚合時使用上述光聚合引發劑時，上述光聚合引發劑之使用量無特別限定，例如相對於構成上述丙烯酸系聚合物之總單體成分100重量份，宜為0.01重量份以上，較宜為0.1重量份以上，又宜為3重量份以下，較宜為1.5重量份以下。

上述丙烯酸系黏著劑組成物宜同時含有上述丙烯酸系聚合物與重量平均分子量為1000~30000之丙烯酸系寡聚物。若含有丙烯酸系寡聚物，在本發明光學用黏著膠帶之界面對被黏著體的接著性會提升，因此容易獲得強接著性，又容易獲得優異之耐發泡剝落性。此外，在本說明書中，有時將「重量平均分子量為1000~30000之丙烯酸系寡聚物」僅稱為「丙烯酸系寡聚物」。

上述丙烯酸系寡聚物可適宜舉將分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯作為必要單體成分而構成之丙烯酸系聚合物，較宜可舉將分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為必要單體成分而構成之丙烯酸系聚合物。亦即，上述丙烯酸系寡聚物可適宜舉包含分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物，較宜可舉包含分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。

上述分子內(1分子內)具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯(以下有時稱為「含環之(甲基)丙烯酸酯」)之環狀結構(環)亦可為芳香族性環、非芳香族性環中之任一者，無特別限定。上述芳香族性環可舉例如芳香族性碳環[例如苯環等之單環碳環或萘環等之縮合碳環等]、各種芳香族性雜環等。上述非芳香族性環可列舉例如：非芳香族性脂肪族環(非芳香族性脂環式環)[例如環戊烷環、環己烷環、環庚烷環、環辛烷環等環烷環；環己烯環等之環烯環等]、非芳香族性橋聯環[例如蒎烷、蒎烯、莰烷、降𦯉烷、降𦯉烯等二環式烴環；金剛烷等三環以上脂肪族烴環(橋聯式烴環)等]、非芳香族性雜環[例如環氧環、㗁茂烷環、氧雜環丁烷環等]等。

上述三環以上脂肪族烴環(三環以上橋聯式烴環)可列舉例如下述式(5a)所示之二環戊烷基、下述式(5b)所示之二環戊烯基、下述式(5c)所示之金剛烷基、下述式(5d)所示之三環戊烷基、下述式(5e)所示之三環戊烯基等。 [化學式5]

亦即，上述含環之(甲基)丙烯酸酯可列舉例如：(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸環辛酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯；(甲基)丙烯酸異莰酯等具有二環式脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烷基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三環戊酯、(甲基)丙烯酸1-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基(甲基)丙烯酸酯等具有三環以上脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等(甲基)丙烯酸芳氧基烷基酯、(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳基烷基酯等具有芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯等。其中，上述含環之(甲基)丙烯酸酯尤宜為含非芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯，較宜為丙烯酸環己酯(CHA)、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)、丙烯酸二環戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)，更宜為丙烯酸二環戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)。此外，含環之(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或亦可組合2種以上來使用。

上述含非芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯中，在使用具有三環以上脂肪族烴環(尤其是三環以上橋聯式烴環)之(甲基)丙烯酸酯時，尤其在不易引發聚合阻礙方面來看為佳。又，使用具有不具不飽和鍵之上述式(5a)所示之二環戊烷基、上述式(5c)所示之金剛烷基、上述式(5d)所示之三環戊烷基之(甲基)丙烯酸酯時，可更提高耐發泡剝落性，並且可顯著提升對聚乙烯或聚丙烯等低極性被黏著體之接著性。

丙烯酸系寡聚物之總單體單元(構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量)中，上述含環之(甲基)丙烯酸酯之含量(比率)無特別限定，相對於構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量(100重量份)，宜為10~90重量份，較宜為20~80重量份。上述含環之(甲基)丙烯酸酯之含量若為10重量份以上，便容易提升耐發泡剝落性，故理想。又，含量若為90重量份以下，黏著劑層便具有適度之柔軟性，黏著力或高低差吸收性等容易提升，而理想。

又，作為丙烯酸系寡聚物之單體單元的上述具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸十四酯、(甲基)丙烯酸十五酯、(甲基)丙烯酸十六酯、(甲基)丙烯酸十七酯、(甲基)丙烯酸十八酯、(甲基)丙烯酸十九酯、(甲基)丙烯酸二十酯等烷基之碳數為1~20之(甲基)丙烯酸烷基酯。其中，在與丙烯酸系聚合物之相溶性良好之方面來看，宜為甲基丙烯酸甲酯(MMA)。此外，上述(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或亦可組合2種以上來使用。

丙烯酸系寡聚物之總單體單元(構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量)中，上述具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量無特別限定，在耐發泡剝落性方面來看，相對於構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量(100重量份)，宜為10~90重量份，較宜為20~80重量份，更宜為20~60重量份。含量若為10重量份以上，尤其可容易提升對丙烯酸樹脂或聚碳酸酯製被黏著體之黏著力，而理想。

丙烯酸系寡聚物之單體單元除上述含環之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯外，還可包含有可與該等單體共聚之單體(共聚性單體)。此外，丙烯酸系寡聚物之總單體單元(構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量)中，上述共聚性單體之含量(比率)無特別限定，惟相對於構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量(100重量份)宜為49.9重量份以下(例如0~49.9重量份)，較宜為30重量份以下。又，共聚性單體可單獨使用或亦可組合2種以上來使用。

作為丙烯酸系寡聚物之單體單元的上述共聚性單體(構成丙烯酸系寡聚物之上述共聚性單體)，可列舉例如：(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯[例如，(甲基)丙烯酸2-甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧丁酯等]；含羥基(hydroxyl group)單體[例如，(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯等之(甲基)丙烯酸羥烷基酯、乙烯醇、烯丙醇等]；含醯胺基單體[例如，(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等]；含胺基單體[例如，(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等]；含氰基單體[例如，丙烯腈、甲基丙烯腈等]；含磺酸基單體[例如，乙烯基磺酸鈉等]；含磷酸基單體[例如，2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等]；含異氰酸酯基單體[例如，2-甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸酯等]、含醯亞胺基單體[環己基馬來醯亞胺、異丙基馬來醯亞胺等]等。

如上述，丙烯酸系寡聚物宜為包含分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。其中，宜為包含含環之(甲基)丙烯酸酯及上述具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。上述包含含環之(甲基)丙烯酸酯及具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元的丙烯酸系聚合物中，相對於構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量(100重量份)，含環之(甲基)丙烯酸酯之量無特別限定，宜為10~90重量份，較宜為20~80重量份。又，具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量無特別限定，宜為10~90重量份，較宜為20~80重量份，更宜為20~60重量份。

並且，丙烯酸系寡聚物之特別理想之具體構成可舉下述丙烯酸系聚合物，其包含選自於由(1)丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸二環戊酯、丙烯酸環己酯及甲基丙烯酸環己酯所構成群組中之至少1種單體、以及(2)甲基丙烯酸甲酯作為單體單元。上述特別理想之具體構成的丙烯酸系寡聚物中，丙烯酸系寡聚物之總單體單元中，(1)丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸二環戊酯、丙烯酸環己酯及甲基丙烯酸環己基之含量(包含2種以上時，為該等之合計量)，相對於構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量(100重量份)，宜為30~70重量份，且(2)甲基丙烯酸甲酯之含量宜為30~70重量份。惟，上述丙烯酸系寡聚物不受上述具體構成所限。

丙烯酸系寡聚物可藉由公知乃至慣用之聚合方法聚合上述單體成分而得。上述丙烯酸系寡聚物之聚合方法可舉例如溶液聚合方法、乳化聚合方法、塊狀聚合方法、利用活性能量線照射進行之聚合方法(活性能量線聚合方法)等。其中，宜為塊狀聚合方法、溶液聚合方法，較宜為溶液聚合方法。

於丙烯酸系寡聚物聚合時，亦可使用各種一般溶劑。上述溶劑可列舉例如：乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；甲苯、苯等芳香族烴類；正己烷、正庚烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷等脂環式烴類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等之有機溶劑。此外，所述溶劑可單獨使用或亦可組合2種以上來使用。

並且，在丙烯酸系寡聚物聚合時，亦可使用公知乃至慣用之聚合引發劑(例如熱聚合引發劑或光聚合引發劑等)。此外，聚合引發劑可單獨或亦可組合2種以上來使用。

熱聚合引發劑可列舉例如：2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈(AMBN)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸、2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、1,1'-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2'-偶氮雙(2,4,4-三甲基戊烷)等偶氮系引發劑；苯甲醯過氧化物、過氧化三級丁基、過氧化二-三級丁基、過氧苯甲酸三級丁酯、二異丙苯基過氧化物、1,1-雙(三級丁基過氧基)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙(三級丁基過氧基)環十二烷等過氧化物系引發劑等。此外，進行溶液聚合時，宜使用油溶性聚合引發劑。又，熱聚合引發劑可單獨使用或亦可組合2種以上來使用。

上述熱聚合引發劑之使用量無特別限定，例如相對於丙烯酸系寡聚物之總單體單元(構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量)100重量份為0.1~15重量份。

又，上述光聚合引發劑無特別限定，可舉例如與上述所列舉之丙烯酸系聚合物聚合時所用之光聚合引發劑相同之光聚合引發劑。上述光聚合引發劑之使用量無特別限定，可適當選擇。

於上述丙烯酸系寡聚物聚合時，為了調整分子量(具體而言，為了將重量平均分子量調整成1000~30000)亦可使用鏈轉移劑。上述鏈轉移劑可列舉例如：2-巰基乙醇、α-硫甘油、2,3-二巰基-1-丙醇、辛基硫醇、三級壬基硫醇、十二基硫醇(月桂基硫醇)、三級十二基硫醇、環氧丙基硫醇、氫硫乙酸、氫硫乙酸甲酯、氫硫乙酸乙酯、氫硫乙酸丙酯、氫硫乙酸丁酯、氫硫乙酸三級丁酯、氫硫乙酸2-乙基己酯、氫硫乙酸辛酯、氫硫乙酸異辛酯、氫硫乙酸癸酯、氫硫乙酸十二酯、乙二醇之氫硫乙酸酯、新戊二醇之氫硫乙酸酯、新戊四醇之氫硫乙酸酯、α-甲基苯乙烯二聚物等。其中，由抑制本發明光學用黏著膠帶因加濕而白化之觀點來看，宜為α-硫甘油、氫硫乙酸甲酯，尤宜為α-硫甘油。此外，鏈轉移劑可單獨使用或亦可組合2種以上來使用。

上述鏈轉移劑之含量(使用量)無特別限定，相對於丙烯酸系寡聚物之總單體單元(構成丙烯酸系寡聚物之單體成分總量)100重量份，宜為0.1~20重量份，較宜為0.2~15重量份，更宜為0.3~10重量份。藉由將鏈轉移劑之含量(使用量)設為上述範圍，可容易獲得重量平均分子量經控制成1000~30000之丙烯酸系聚合物。

上述丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量(Mw)為1000~30000，宜為1000~20000，較宜為1500~10000，更宜為2000~8000。丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量為1000以上，因此可提升黏著力或保持特性，而提升耐發泡剝落性。另一方面，丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量為30000以下，因此容易提高黏著力，而提升耐發泡剝落性。

上述丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量(Mw)可藉由GPC法換算成聚苯乙烯而求算。例如，可使用Tosoh股份公司製之高速GPC裝置「HPLC-8120GPC」，藉由下述條件來測定。 管柱：TSKgel SuperHZM-H/HZ4000/HZ3000/HZ2000 溶劑：四氫呋喃 流速：0.6ml/分鐘

上述丙烯酸系寡聚物之玻璃轉移溫度(Tg)無特別限定，宜為20~300℃，較宜為30~300℃，更宜為40~300℃。丙烯酸系寡聚物之玻璃轉移溫度若為20℃以上，便容易提升耐發泡剝落性，而理想。又，丙烯酸系寡聚物之玻璃轉移溫度若為300℃以下，黏著劑層便具有適度之柔軟性，容易獲得良好之黏著力或良好之高低差吸收性，而容易獲得優異之接著可靠性，故理想。

上述丙烯酸系寡聚物之玻璃轉移溫度(Tg)係以上述FOX式表示之玻璃轉移溫度(理論值)。 構成上述丙烯酸系寡聚物之單體之均聚物的Tg可採用下述表1記載之值。又，關於表1未記載之單體之均聚物的Tg，可採用「Polymer Handbook(聚合物指南)」(第3版，John Wiley ＆ Sons, Inc， 1989年)中記載之數值。並且，關於上述文獻中亦未記載之單體之均聚物的Tg，可採用藉由上述測定方法獲得之值(利用黏彈性試驗所得之tanδ之峰頂溫度)。

[表1]

此外，表1中之「DCPMA/MMA=60/40」之共聚物係指DCPMA 60重量份與MMA 40重量份之共聚物。

上述丙烯酸系黏著劑組成物含有丙烯酸系聚合物及丙烯酸系寡聚物時，丙烯酸系寡聚物之含量無特別限定，相對於上述丙烯酸系聚合物100重量份，宜為1~30重量份，較宜為2~20重量份，更宜為2~10重量份。即，上述黏著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物之含量無特別限定，相對於上述丙烯酸系聚合物之總單體單元100重量份，宜為1~30重量份，較宜為2~20重量份，更宜為2~10重量份。上述丙烯酸系黏著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物之含量無特別限定，例如相對於上述單體混合物100重量份，宜為1~30重量份，較宜為2~20重量份，更宜為2~10重量份。丙烯酸系寡聚物之含量若為1重量份以上，便容易獲得優異之接著性及優異之耐發泡剝落性，而理想。又，丙烯酸系寡聚物之含量若為30重量份以下，便容易獲得優異之透明性與接著可靠性，而理想。又，由容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，丙烯酸系寡聚物之含量宜為10重量份以下，較宜為8重量份以下。

含有丙烯酸系聚合物及丙烯酸系寡聚物之上述黏著劑組成物之製作方法無特別限定。例如，可視需求於構成丙烯酸系聚合物之單體成分的混合物或構成丙烯酸系聚合物之單體成分的混合物之部分聚合物(形成丙烯酸系聚合物之單體混合物或其部分聚合物)中添加丙烯酸系寡聚物、添加劑等，並經由混合來製作。

本發明黏著劑層無特別限定，宜含有紫外線吸收劑(UVA)。本發明黏著劑層若包含紫外線吸收劑，在可抑制影像顯示面板因紫外線而受損之方面來看係理想的。此外，紫外線吸收劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述紫外線吸收劑無特別限定，可列舉苯并三唑系紫外線吸收劑、羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑、二苯基酮系紫外線吸收劑、柳酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、氧二苯基酮系紫外線吸收劑等。

苯并三唑系紫外線吸收劑(苯并三唑系化合物)可列舉例如：2-(2-羥基-5-三級丁基苯基)-2H-苯并三唑(商品名「TINUVIN PS」，BASF公司製)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(商品名「TINUVIN 384-2」，BASF公司製)、辛基3-[3-三級丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸酯及2-乙基己基-3-[3-三級丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2基)苯基]丙酸酯之混合物(商品名「TINUVIN 109」，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 900」，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 928」，BASF製)、甲基3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-三級丁基-4-羥苯基)丙酸酯/聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 1130」，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-對甲酚(商品名「TINUVIN P」，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 234」，BASF公司製)、2-[5-氯-2H-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(三級丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 326」，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二-三級戊基苯酚(商品名「TINUVIN 328」，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 329」，BASF公司製)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚](商品名「TINUVIN 360」，BASF公司製)、甲基3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-三級丁基-4-羥苯基)丙酸酯與聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 213」，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二基-4-甲基苯酚(商品名「TINUVIN 571」，BASF公司製)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫酞醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(商品名「Sumisorb 250」，住友化學(股)製)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-三級辛基苯酚](商品名「ADK STAB LA-31」，(股)ADEKA製)等。

羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑(羥苯基三𠯤系化合物)可列舉例如：2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-羥苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷基氧基)甲基]環氧乙烷之反應產物(商品名「TINUVIN 400」，BASF公司製)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基]-5-[3-(十二基氧基)-2-羥基丙氧基]苯酚)、2-(2,4-二羥苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤與(2-乙基己基)-去水甘油酸酯之反應產物(商品名「TINUVIN 405」，BASF公司製)、2,4-雙(2-羥基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 460」，BASF公司製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[(己基)氧基]-苯酚(商品名「TINUVIN 1577」，BASF公司製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]-苯酚(商品名「ADK STAB LA-46」，(股)ADEKA製)、2-(2-羥基-4-[1-辛基氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 479」，BASF公司製)等。其他還可舉下述式(6)所示之化合物(商品名「TINUVIN 477」，BASF公司製)。 [化學式6]

二苯基酮系紫外線吸收劑(二苯基酮系化合物)、氧二苯基酮系紫外線吸收劑(氧二苯基酮系化合物)可列舉例如：2,4-二羥基二苯基酮、2-羥基-4-甲氧基二苯基酮、2-羥基-4-甲氧基二苯基酮-5-磺酸(無水物及三水合物)、2-羥基-4-辛基氧二苯基酮、4-十二基氧基-2-羥基二苯基酮、4-苯甲基氧基-2-羥基二苯基酮、2,2'-二羥基-4-甲氧基二苯基酮(商品名「KEMISORB 111」，CHEMIPRO KASEI(股)製)、2,2',4,4'-四羥基二苯基酮(商品名「SEESORB 106」SHIPRO KASEI KAISHA, LTD.製)，2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯基酮等。

柳酸酯系紫外線吸收劑(柳酸酯系化合物)可列舉例如：苯基2-丙烯醯氧基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-3-甲基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-4-甲基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-5-甲基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-3-甲氧基苯甲酸酯、苯基2-羥基苯甲酸酯、苯基2-羥基-3-甲基苯甲酸酯、苯基2-羥基-4-甲基苯甲酸酯、苯基2-羥基-5-甲基苯甲酸酯、苯基2-羥基-3-甲氧基苯甲酸酯、2,4-二-三級丁基苯基3,5-二-三級丁基-4-羥基苯甲酸酯(商品名「TINUVIN 120」，BASF公司製)等。

氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑(氰基丙烯酸酯系化合物)可舉例如烷基2-氰基丙烯酸酯、環烷基2-氰基丙烯酸酯、烷氧基烷基2-氰基丙烯酸酯、烯基2-氰基丙烯酸酯、炔基2-氰基丙烯酸酯等。

由具有高紫外線吸收性且更提升耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方面、具有優異光學特性、高透明性之黏著劑層之獲得容易性之方面、具有優異光穩定性之方面來看，上述紫外線吸收劑宜為選自於由苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯基酮系紫外線吸收劑及羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑所構成群組中之至少1種紫外線吸收劑，較宜為苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯基酮系紫外線吸收劑。尤其，宜為下述結構之苯并三唑系紫外線吸收劑：具有碳數為6以上之基及羥基作為取代基之苯基鍵結於構成苯并三唑環之氮原子上。

又，由獲得更高紫外線吸收性、更提升耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方面來看，上述紫外線吸收劑以下述求算之吸光度A宜為0.5以下。 吸光度A：對前述紫外線吸收劑之0.08%甲苯溶液照射波長400nm之光所測定之吸光度

本發明黏著劑層含有紫外線吸收劑時，本發明黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之上述紫外線吸收劑之含量無特別限定，由更提升耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方面來看，相對於基底聚合物100重量份宜為0.01重量份以上，較宜為0.05重量份以上，更宜為0.1重量份以上。又，由抑制黏著劑伴隨添加紫外線吸收劑而發生黃變現象、獲得優異之光學特性、高透明性及優異之外觀特性之方面來看，上述紫外線吸收劑之含量的上限相對於基底聚合物100重量份宜為10重量份以下，較宜為9重量份以下，更宜為8重量份以下。

本發明黏著劑層亦可含有光穩定劑。本發明黏著劑層含有光穩定劑時，尤其宜一同含有上述紫外線吸收劑與光穩定劑。光穩定劑可捕捉光氧化所生成之自由基，因此可提升黏著劑層對光(尤其是紫外線)之耐性。此外，光穩定劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述光穩定劑無特別限定，可舉例如酚系光穩定劑(酚系化合物)、磷系光穩定劑(磷系化合物)、硫醚系光穩定劑(硫醚系化合物)、胺系光穩定劑(胺系化合物)(尤其受阻胺系穩定劑(受阻胺系化合物))等。

上述酚系光穩定劑(酚系化合物)可列舉例如：2,6-二-三級丁基-4-甲基苯酚、4-羥基甲基-2,6-二-三級丁基苯酚、2,6-二-三級丁基-4-乙基苯酚、丁基化羥基苯甲醚、正十八基3-(4-羥基-3,5-二-三級丁基苯基)丙酸酯、二硬脂基(4-羥基-3-甲基-5-三級丁基)苄基丙二酸酯、生育酚、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-三級丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-乙基-6-三級丁基苯酚)、4,4'-亞甲基雙(2,6-二-三級丁基苯酚)、4,4'-亞丁基雙(6-三級丁基-間甲酚)、4,4'-硫基雙(6-三級丁基-間甲酚)、苯乙烯化苯酚、N,N'-六亞甲基雙(3,5-二-三級丁基-4-羥基氫桂皮醯胺、雙(3,5-二-三級丁基-4-羥苄基膦酸乙酯)鈣、1,1,3-參(2-甲基-4-羥基-5-三級丁基苯基)丁烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-參(3,5-二-三級丁基-4-羥基苄基)苯、肆[3-(3,5-二-三級丁基-4-羥苯基)丙醯氧基甲基]甲烷、1,6-己二醇-雙[3-(3,5-二-三級丁基-4-羥苯基)丙酸酯]、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-環己基苯酚)、2,2'-亞甲基雙[6-(1-甲基環己基)-對甲酚]、1,3,5-參(4-三級丁基-3-羥基-2,6-二甲基苄基)異三聚氰酸酯、1,3,5-參(3,5-二-三級丁基-4-羥基苄基)異三聚氰酸酯、三乙二醇-雙[3-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯]、2,2'-乙二醯二胺雙[乙基3-(3,5-二-三級丁基-4-羥苯基)丙酸酯]、6-(4-羥基-3,5-二-三級丁基苯胺基)-2,4-二辛基硫基-1,3,5-三𠯤、雙[2-三級丁基-4-甲基-6-(2-羥基-3-三級丁基-5-甲基苄基)苯基]對苯二甲酸酯、3,9-雙{2-[3-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四㗁螺[5.5]十一烷、3,9-雙{2-[3-(3,5-二-三級丁基-4-羥苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四㗁螺[5.5]十一烷等。

磷系光穩定劑(磷系化合物)可列舉例如：參壬基苯基亞磷酸酯、參(2,4-二-三級丁基苯基)亞磷酸酯、參[2-三級丁基-4-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基硫基)-5-甲基苯基]亞磷酸酯、亞磷酸十三酯、亞磷酸辛基二苯酯、二(癸基)單苯基亞磷酸酯、二(十三基)新戊四醇二亞磷酸酯、二硬酯基新戊四醇二亞磷酸酯、二(壬基苯基)新戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4-二-三級丁基苯基)新戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,6-二-三級丁基-4-甲基苯基)新戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4,6-三-三級丁基苯基)新戊四醇二亞磷酸酯、四(十三基)亞異丙基二苯酚二亞磷酸酯、四(十三基)-4,4'-正亞丁基雙(2-三級丁基-5-甲基苯酚)二亞磷酸酯、六(十三基)-1,1,3-參(2-甲基-4-羥基-5-三級丁基苯基)丁烷三亞磷酸酯、肆(2,4-二-三級丁基苯基)伸聯苯基二亞磷酸酯、9,10-二氫-9-氧雜-10-磷雜菲-10-氧化物、參(2-[(2,4,8,10-肆-三級丁基二苯并[d,f][1,3,2]二氧磷雜環庚二烯(dioxaphosphepin)-6-基)氧基]乙基)胺等。

硫醚系光穩定劑(硫醚系化合物)可舉例如硫二丙酸二月桂酯、二肉豆蔻基、二硬脂基等硫二丙酸二烷基酯化合物；肆[亞甲基(3-十二基硫基)丙酸酯]甲烷等多元醇之β-烷基巰丙酸酯化合物等。

胺系光穩定劑(胺系化合物)可列舉例如：琥珀酸二甲基及4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物(商品名「TINUVIN 622」，BASF公司製)、琥珀酸二甲基及4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物與N,N',N'',N'''-肆-(4,6-雙-(丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)胺基)-三𠯤-2-基)-4,7-二氮雜癸烷-1,10-二胺之1比1之反應產物(商品名「TINUVIN 119」，BASF公司製)、二丁基胺・1,3-三𠯤・N,N'-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-1,6-六亞甲基二胺與N-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)丁基胺之縮聚物(商品名「TINUVIN 2020」，BASF公司製)、聚[{6-(1,1,3,3-四甲基丁基)胺基-1,3,5-三𠯤-2-4-二基}{2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基}亞胺基]六亞甲基{(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺基}(商品名「TINUVIN 944」，BASF公司製)、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯及甲基1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基癸二酸酯之混合物(商品名「TINUVIN 765」，BASF公司製)、雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯(商品名「TINUVIN 770」，BASF公司製)、十一烷二酸雙(2,2,6,6-四甲基-1-(辛氧基)-4-哌啶基)酯、1,1-二甲基乙基過氧化氫與辛烷之反應產物(商品名「TINUVIN 123」，BASF公司製)、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)[[3,5-雙(1,1-二甲基乙基)-4-羥苯基]甲基]丁基丙二酸酯(商品名「TINUVIN 144」，BASF公司製)、環己烷及過氧化N-丁基2,2,6,6-四甲基-4-哌啶胺-2,4,6-三氯-1,3,5-三𠯤之反應產物與2-胺乙醇之反應產物(商品名「TINUVIN 152」，BASF公司製)、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯及甲基1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基癸二酸酯之混合物(商品名「TINUVIN 292」，BASF公司製)、1,2,3,4-丁烷四羧酸與1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶醇及3,9-雙(2-羥基-1,1-二甲基乙基)-2,4,8,10-四㗁螺[5.5]十一烷之混合酯化物(商品名「ADK STAB LA-63P」，(股)ADEKA製)等。胺系穩定劑尤宜為受阻胺系穩定劑。

本發明黏著劑層含有光穩定劑時，本發明黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之光穩定劑之含量無特別限定，由容易展現對光之耐性之方面來看，相對於基底聚合物100重量份宜為0.1重量份以上，較宜為0.2重量份以上。又，由不容易發生光穩定劑本身造成之著色、而容易獲得高透明性之方面、光學特性之方面來看，上述含量的上限相對於基底聚合物100重量份宜為5重量份以下，較宜為3重量份以下。

本發明黏著劑層之形成無特別限定，亦可使用交聯劑。例如可使丙烯酸系黏著劑層中之丙烯酸系聚合物交聯，來控制凝膠分率。此外，交聯劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

上述交聯劑無特別限定，可列舉例如：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑，脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二亞胺系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、吖𠰂系交聯劑、胺系交聯劑等。其中，宜為異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑，較宜為異氰酸酯系交聯劑。

上述異氰酸酯系交聯劑(多官能異氰酸酯化合物)可列舉例如：1,2-伸乙基二異氰酸酯、1,4-伸丁基二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、加氫甲苯二異氰酸酯、加氫二甲苯二異氰酸酯等脂環族聚異氰酸酯類；2,4-二異氰酸甲苯酯、2,6-二異氰酸甲苯酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯類等。又，上述異氰酸酯系交聯劑亦可列舉例如：三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯加成物(商品名「Coronate L」，Nippon Polyurethane Industry(股)製)、三羥甲丙烷/六亞甲基二異氰酸酯加成物(商品名「Coronate HL」，Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.製)、三羥甲丙烷/伸茬基二異氰酸酯加成物(商品名「TAKENATE D-110N」，三井化學(股)製)等市售物。

上述環氧系交聯劑(多官能環氧化合物)可列舉例如：N,N,N',N'-四環氧丙基-間茬二胺、二環氧丙基苯胺、1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺基甲基)環己烷、1,6-己二醇二環氧丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚、乙二醇二環氧丙基醚、丙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、聚丙二醇二環氧丙基醚、山梨糖醇聚環氧丙基醚、甘油聚環氧丙基醚、新戊四醇聚環氧丙基醚、聚甘油聚環氧丙基醚、山梨醇酐聚環氧丙基醚、三羥甲丙烷聚環氧丙基醚、己二酸二環氧丙基酯、鄰苯二甲酸二環氧丙基酯、三環氧丙基-參(2-羥乙基)三聚異氰酸酯、間苯二酚二環氧丙基醚、雙酚-S-二環氧丙基醚，還可舉分子內具有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。又，上述環氧系交聯劑亦可舉例如商品名「TETRAD C」(MITSUBISHI GAS CHEMICAL(股)製)等市售物。

於本發明黏著劑層之形成使用交聯劑時，上述交聯劑之使用量無特別限定，由獲得充分之接著可靠性之方面來看，相對於基底聚合物100重量份，宜為0.001重量份以上，較宜為0.01重量份以上。又，由在黏著劑層中獲得適度之柔軟性而提升黏著力之方面、容易將黏著劑層之上述各種特性(尤其是應變量A、應變量B、復原率、玻璃轉移點等)控制在預定範圍內之觀點來看，上述使用量的上限相對於基底聚合物100重量份宜為10重量份以下，較宜為5重量份以下。

本發明黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)在提升在加濕條件下之接著可靠性之方面、尤其是提升對玻璃之接著可靠性之方面來看，亦可含有矽烷耦合劑。此外，矽烷耦合劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。上述黏著劑層含有矽烷耦合劑時，可提升在加濕條件下之接著性、尤其可提升對玻璃之接著性。

上述矽烷耦合劑無特別限定，可舉例如γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-苯基-胺丙基三甲氧基矽烷等。並且，矽烷耦合劑亦可舉例如商品名「KBM-403」(信越化學工業(股)製)等市售物。其中，上述矽烷耦合劑宜為γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷。

本發明黏著劑層含有矽烷耦合劑時，本發明黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之上述矽烷耦合劑之含量無特別限定，相對於上述基底聚合物100重量份宜為0.01重量份以上，較宜為0.02重量份以上。又，相對於上述基底聚合物100重量份，上述矽烷耦合劑之含量的上限宜為1重量份以下，較宜為0.5重量份以下。

本發明黏著劑層亦可含有抗靜電劑。此外，抗靜電劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。上述黏著劑層若含有抗靜電劑，便可防止影像顯示面板等之被黏著體破損。

前述抗靜電層可列舉：四級銨鹽、吡啶鎓鹽、具有一級、二級、三級胺基等陽離子性官能基之陽離子型抗靜電劑、磺酸鹽或硫酸酯鹽、膦酸鹽、磷酸酯鹽等具有陰離子性官能基之陰離子型抗靜電劑、烷基甜菜鹼及其衍生物、咪唑啉及其衍生物、丙胺酸及其衍生物等兩性型抗靜電劑、胺基醇及其衍生物、丙三醇及其衍生物、聚乙二醇及其衍生物等非離子型抗靜電劑、以及具有上述陽離子型、陰離子型、兩性離子型離子導電性基之單體聚合或共聚而得之離子導電性聚合物。

本發明黏著劑層含有抗靜電劑時，本發明黏著劑層中之上述抗靜電劑之含量無特別限定，相對於上述基底聚合物100重量份宜為0.01重量份以上，較宜為0.02重量份以上。又，相對於上述基底聚合物100重量份，上述抗靜電劑之含量的上限宜為1重量份以下，較宜為0.5重量份以下。

本發明黏著劑層亦可含有著色劑。此外，著色劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。上述黏著劑層若含有著色劑，在可防止配置於本發明影像顯示裝置之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射之方面來看係理想的。

前述著色劑若為可溶解或分散於本發明黏著劑層中者，則可為染料亦可為顏料。染料因即便少量添加仍可達成低霧度，且如顏料般容易無沉降而均勻地分布，故理想。又，顏料因即便少量添加，顏色展現性仍高，故亦理想。使用顏料作為著色劑時，宜為導電性低或是無導電性之物。又，使用染料時，宜與上述光穩定劑等併用。

前述著色劑只要能吸收可見光(波長400~700nm)，便可無限定地使用對紫外線(波長330~400nm)展現透射性者、或對紫外線展現吸收性者，惟宜為能吸收可見光且具有高紫外線透射性者。即，前述著色劑宜為波長330~400nm之透射率的最大值大於波長400~700nm之透射率的最大值之著色劑。又，前述著色劑亦宜為波長330~400nm之平均透射率大於波長400~700nm之平均透射率者。著色劑之透射率係使用經四氫呋喃(THF)等適當之溶劑或分散介質(波長330~700nm之範圍之吸收小的有機溶劑)稀釋成在波長400nm下之透射率成為50~60%左右之溶液或分散液來測定。

一般作為黑色著色劑使用之碳黑或鈦黑的紫外線之吸收大於可見光之吸收(紫外線透射率小於可見光透射率)。因此，於活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑組成物中添加碳黑等著色劑時，為了光硬化而照射之紫外線大多會被著色劑吸收，從而光聚合引發劑吸收之光量變小，使得光硬化耗時(累積照射光量變多)。又，黏著劑層之厚度大時，到達光照射面之相反側的面的紫外線少，因此即使進行長時間之光照射，仍有光硬化不足之傾向。相對此，藉由使用紫外線之透射率大於可見光之著色劑，可抑制著色劑造成之硬化阻礙。

紫外線透射性之黑色顏料可舉TOKUSHIKI CO.,Ltd製之「9050BLACK」、「UVBK-0001」等。紫外線吸收性黑色染料可舉ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES CO.,LTD製之「VALIFAST BLACK 3810」、「NUBIAN Black PA-2802」等。紫外線吸收性黑色顏料可舉碳黑、鈦黑等。

本發明黏著劑層中之著色劑的含量，例如相對於上述基底聚合物100重量份為0.01~20重量份左右，因應著色劑的種類或黏著劑層的色調及光透射率等適當設定即可。著色劑亦可以溶解或分散於適當溶劑中之溶液或分散液之形式添加至組成物中。

本發明黏著劑層亦可視需求在不損及本發明效果之範圍內進一步含有交聯促進劑、增黏樹脂(松香衍生物、聚萜樹脂、石油樹脂、油溶性酚等)、抗老化劑、充填劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、塑化劑、軟化劑、界面活性劑等添加劑。此外，所述添加劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

本發明黏著劑層之霧度無特別限定，由外觀特性、透明性、光學特性之方面來看，宜為5%以下，較宜為3%以下，更宜為1%以下。此外，本說明書中，黏著劑層之霧度例如可使用霧度計，依循JIS K 7136來測定。

本發明黏著劑層之全光線透射率無特別限定，由外觀特性、透明性、光學特性之方面來看，宜為85%以上，較宜為90%以上，更宜為92%以上。此外，本說明書中，黏著劑層之全光線透射率例如可使用霧度計，依循JIS K 7361-1來測定。此外，上述全光線透射率為波長400~780nm之光(可見光)的透射率。

本發明黏著劑層之厚度無特別限定，由獲得充分之接著可靠性之方面來看，宜為12µm以上，較宜為15µm以上，更宜為20µm以上，尤宜為70µm以上。上述厚度若為12µm以上，在以下方面來看係理想的：黏著劑層充分追隨本發明影像顯示裝置在使用環境下之收縮或膨脹，從而可抑制浮凸或剝落。又，上述厚度由光學特性之方面來看，宜為500µm以下，宜為300µm以下，更宜為200µm以下。

＜光學用黏著膠帶之製造＞ 本發明光學用黏著膠帶可藉由於本發明基材之第1面上積層本發明黏著劑層來調製。

使本發明黏著劑層積層於本發明基材之第1面上之方法無特別限定，例如可藉由以下方式進行：將上述黏著劑組成物塗佈(塗敷)於分離件上，並使所得黏著劑組成物層乾燥硬化；或者，將上述黏著劑組成物塗佈(塗敷)於分離件上，並對所得黏著劑組成物層照射活性能量線使其硬化，藉此於分離件上成形成片狀之黏著劑層，並將前述黏著劑層貼合於本發明基材之第1面上。又，亦可視需求進一步進行加熱乾燥。 藉由照射活性能量線進行硬化時，宜於塗膜表面進一步附設分離件，將黏著劑組成物夾於2片分離件間並在該狀態下照射活性能量線，來防止氧造成聚合阻礙。

使本發明黏著劑層積層於本發明基材之第1面上之其他方法例如亦可藉由以下方式進行：將上述黏著劑組成物塗佈(塗敷)於本發明基材之第1面上，並使所得黏著劑組成物層乾燥硬化；或者，將上述黏著劑組成物塗佈(塗敷)於本發明基材之第1面上，並對所得黏著劑組成物層照射活性能量線使其硬化。又，亦可視需求進一步進行加熱乾燥。 藉由照射活性能量線進行硬化時，宜於塗膜表面附設分離件，將黏著劑組成物夾於本發明基材與分離件之間並在該狀態下照射活性能量線，來防止氧造成聚合阻礙。

在活性能量線照射前，亦可為了去除溶劑等，加熱片狀塗膜。利用加熱去除溶劑等時，宜在附設分離件前實施。

上述活性能量線可列舉例如α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射線、或紫外線等，尤宜為紫外線。又，活性能量線之照射能量、照射時間、照射方法等無特別限制。

上述黏著劑組成物可以公知乃至慣用之方法來製作。例如，溶劑型丙烯酸系黏著劑組成物可藉由於含有上述丙烯酸系聚合物之溶液中視需求混合添加劑(例如紫外線吸收劑等)來製作。例如，活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑組成物可藉由於上述丙烯酸系單體之混合物或其部分聚合物中視需求混合添加劑(例如紫外線吸收劑等)來製作。

此外，上述黏著劑組成物之塗佈(塗敷)亦可利用公知之塗覆法。例如可使用凹版輥塗佈機、反向輥塗佈機、接觸輥塗佈機、浸漬輥塗佈機、棒塗機、刮刀塗佈機、噴塗機、缺角輪塗佈機、直接塗佈機等之塗佈機。

尤其藉由活性能量線硬化型黏著劑組成物來形成黏著劑層時，活性能量線硬化型黏著劑組成物宜包含光聚合引發劑。此外，活性能量線硬化型黏著劑組成物含有紫外線吸收劑時，光聚合引發劑宜至少包含在廣泛波長範圍下具有吸光特性之光聚合引發劑。例如，宜至少包含除紫外光外還在可見光下具有吸光特性之光聚合引發劑。其係因紫外線吸收劑之作用有阻礙活性能量線進行之硬化之虞，但若包含有在廣泛波長範圍下具有吸光特性之光聚合引發劑，則在黏著劑組成物中容易獲得高光硬化性。

＜抗靜電層＞ 本發明光學用黏著膠帶中，亦可於表面或任意之層間具有抗靜電層。藉由本發明光學用黏著膠帶具有抗靜電層，可防止影像顯示面板等被黏著體破損。前述抗靜電層宜形成於本發明基材與本發明黏著劑層之間。

前述抗靜電層無特別限定，例如為將含導電性聚合物之導電塗覆液塗覆於分離件上而形成之抗靜電層。具體上例如為將含導電性聚合物之導電塗覆液塗覆於本發明基材之第1面上而形成之抗靜電層。具體之塗覆方法可舉輥塗法、棒塗法、凹版塗佈法等。

前述導電性聚合物可舉例如在π共軛系導電性聚合物中摻雜有多價陰離子的導電性聚合物等。π共軛系導電性聚合物可舉聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚乙炔等鏈狀導電性聚合物。多價陰離子可舉聚苯乙烯磺酸、聚異戊二烯磺酸、聚乙烯磺酸、聚烯丙基磺酸、聚丙烯酸乙基磺酸、聚甲基丙烯酸羧酸等。

前述抗靜電層之厚度宜為1nm~1000nm，較宜為5nm~900nm。前述抗靜電層可僅為1層，亦可為2層以上。

＜分離件＞ 本發明光學用黏著膠帶中，本發明黏著劑層之表面(本發明黏著劑層之黏著面)亦可業經分離件保護至使用時為止。分離件係可作為黏著劑層之保護材使用者，其會在將本發明光學用黏著膠帶貼附於被黏著體時被剝除。

上述分離件可利用慣用剝離紙等，具體而言，例如除了於至少一表面具有由剝離處理劑形成之剝離處理層的基材外，還可使用由氟系聚合物(例如聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、氯氟乙烯-偏二氟乙烯共聚物等)構成之低接著性基材、或由無極性聚合物(例如聚乙烯、聚丙烯等烯烴系樹脂等)構成之低接著性基材等。

上述分離件例如可適宜使用分離件用基材之至少一面形成有剝離處理層之分離件。所述分離件用基材可列舉：聚酯薄膜(聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等)、烯烴系樹脂薄膜(聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜等)、聚氯乙烯薄膜、聚醯亞胺薄膜、聚醯胺薄膜(尼龍薄膜)、嫘縈薄膜等塑膠系基材薄膜(合成樹脂薄膜)或紙類(道林紙、日本紙、牛皮紙、玻璃紙(glassine paper)、合成紙、表塗紙等)，除此之外還有藉由層合或共擠製等將該等複層化所得之物(2~3層之複合體)等。

構成上述剝離處理層之剝離處理劑無特別限定，例如可使用聚矽氧系剝離處理劑、氟系剝離處理劑、長鏈烷基系剝離處理劑等。剝離處理劑可單獨使用或可組合2種以上來使用。

前述分離件之厚度未特別限定，從5~100µm之範圍適當選擇即可。

上述分離件為了防止影像顯示面板等被黏著體破損，亦可於分離件用基材之至少一面形成有抗靜電層。抗靜電層可形成於分離件之一面(剝離處理面或未處理面)，亦可形成於分離件之兩面(剝離處理面及未處理面)。

前述抗靜電層無特別限定，例如為將含導電性聚合物之導電塗覆液塗覆於分離件上而形成之抗靜電層。具體上例如為將含導電性聚合物之導電塗覆液塗覆於分離件上(剝離處理面及/或未處理面)上而形成之抗靜電層。具體之塗覆方法可舉輥塗法、棒塗法、凹版塗佈法等。

前述導電性聚合物可使用與構成上述本發明光學用黏著膠帶之抗靜電層的導電性聚合物相同之物。

前述抗靜電層之厚度宜為1nm~1000nm，較宜為5nm~900nm。前述抗靜電層可僅為1層，亦可為2層以上。

＜表面保護薄膜＞ 本發明光學用黏著膠帶中，本發明基材之第2面亦可業經表面保護薄膜保護。前述表面保護薄膜係可在本發明光學用黏著膠帶、本發明影像顯示裝置或本發明拼接顯示器之製造時或輸送時作為本發明基材之第2面的保護材來使用者。

前述表面保護薄膜之形成材料可舉聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降𦯉烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及該等之共聚物樹脂等。宜為酯系樹脂(尤其為聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂)。

前述表面保護薄膜之厚度代表上為20µm~250µm，宜為30µm~150µm。

前述表面保護薄膜可透過任意適當之黏著劑以可剝離之方式貼合於本發明基材之第2面。宜形成形成有黏著劑層之表面保護薄膜，並將其貼合於本發明光學用黏著膠帶之本發明基材之第2面。可用於積層前述表面保護薄膜之黏著劑可舉下述黏著劑組成物：以丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為基底樹脂，並於該基底樹脂中摻混選自於異氰酸酯化合物、環氧化合物、吖𠰂化合物等之交聯劑、以及矽烷耦合劑等者。黏著劑層之厚度通常為1µm~60µm，宜為3µm~30µm。若黏著劑層過薄，有發生黏著性降低、容易混入氣泡等不良情況之虞，而若過厚有發生黏著劑滲出等不良情況之虞。由耐藥品性、密著性等觀點來看，可適宜使用丙烯酸系黏著劑。

＜影像顯示裝置＞ 本發明影像顯示裝置具有積層有本發明光學用黏著膠帶與影像顯示面板之積層結構。圖3中，影像顯示裝置20係於光學用黏著膠帶10B之黏著劑層1積層有影像顯示面板4。

本發明影像顯示裝置於積層結構中具有本發明光學用黏著膠帶，因此可抑制在使用環境下之收縮或膨脹，而透明性可維持不變。又，本發明黏著劑層充分追隨影像顯示裝置之收縮或膨脹，而不易發生浮凸或剝落。並且，於影像顯示面板存在配線等所造成之凹凸形狀的高低差時，本發明黏著劑層會充分追隨該高低差，從而可充填而不致使氣泡等殘留。

前述影像顯示面板無特別限定，可舉例如液晶影像顯示面板、自發光型影像顯示面板(例如有機EL(電致發光)影像顯示面板、LED影像顯示面板)等。

前述影像顯示面板係RGB元件交替排列而形成，且為了提升對比，RGB元件間宜被黑矩陣(BM)充填。

本發明影像顯示裝置亦可於表面或任意之層間具備有本發明光學用黏著膠帶及上述影像顯示面板以外之光學構件。上述光學構件無特別限定，可舉偏光板、相位差板、抗反射薄膜、視角調整薄膜、光學補償薄膜等。此外，上述光學構件亦設為包含維持影像顯示裝置或輸入裝置之視辨性的同時發揮裝飾或保護功能之構件(設計薄膜、裝飾薄膜或表面保護薄膜等)。

本發明影像顯示裝置可藉由貼合前述影像顯示面板與本發明光學用黏著膠帶之黏著劑層來製造。

具體上，影像顯示面板與本發明光學用黏著膠帶之貼附可藉由在加熱及/或加壓下積層來實施。亦可在加熱及/或加壓下積層後，照射活性能量線進行硬化。活性能量線之照射可以與本發明黏著劑層之形成相同方式來進行。

＜拼接顯示器＞ 本發明拼接顯示器係排列複數片本發明影像顯示裝置而形成者。圖4中，拼接顯示器30係將9片影像顯示裝置20(省略積層結構之圖式)以3×3之配列方式，於支持基板31上排列成拼接狀而形成，且影像顯示裝置20彼此係以間隙32相接。前述支持基板可使用與本發明基材相同之玻璃板或塑膠薄膜。

本發明影像顯示裝置已抑制住在使用環境下之收縮或膨脹，因此本發明拼接顯示器中之複數個影像顯示裝置間不容易發生空隙或重疊，且間隙不明顯，而可維持良好之外觀。並且，收縮或膨脹少，透明性可維持不變。又，本發明黏著劑層充分追隨影像顯示裝置之收縮或膨脹，而可防止發生浮凸或剝落造成之不良情況。

又，本發明拼接顯示器中，於本發明基材之第2面施有抗反射處理及/或防眩處理時，在可防止配置於本發明影像顯示裝置之基板上的金屬配線或ITO配線等造成之反射之方面來看係理想的。又，在拼接顯示器中不容易視辨本發明影像顯示裝置之間之間隙之方面來看亦理想。

本發明拼接顯示器亦可具備有本發明影像顯示裝置及前述支持基板以外之構件。所述構件無特別限定，可舉背光件、觸控感測器等。

本發明拼接顯示器可藉由於前述支持基板上無間隙地排列複數片本發明影像顯示裝置並以玻璃密封最表面等固定來製造。

實施例 以下，根據實施例來更詳細說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。

製造例1 (防眩性薄膜1之調製) [防眩層1形成用塗敷液之調製] 作為防眩層形成材料所含之樹脂，混合紫外線硬化型胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂(新中村化學公司製，商品名「NK Oligo UA-53H-80BK」)40重量份、以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製，商品名「Viscoat #300」)57.5重量份、含有氧化鋯粒子與紫外線硬化性樹脂之光學調整層用組成物的稀釋液(「OPSTAR Z7540」，JSR公司製)2.5重量份、聚矽氧粒子(Momentive Performance Materials Japan LLC.製，商品名「Tospearl 130ND」)2.8重量份、作為觸變性賦予劑之有機黏土的合成膨潤石(KUNIMINE INDUSTRIES CO., LTD.製，商品名「SUMECTON SAN」)2.5重量份、光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」)3重量份、交聯丙烯酸苯乙烯共聚樹脂之微粒子(積水化成品工業公司製，商品名「SSX-103DXE」)6.5重量份及調平劑(共榮社化學股份公司製，商品名「LE-303」)0.1重量份。此外，前述有機黏土係用甲苯稀釋成固體成分成為6重量%後來使用。將該混合物以甲苯/環戊酮(CPN)混合溶劑(重量比64/36)稀釋成固體成分濃度成為38重量%後，用超音波分散機調製出防眩層形成材料(塗敷液)。

[防眩層1之形成] 作為基材係準備透明塑膠薄膜基材(PET薄膜，TORAY股份公司製，商品名「38U413」，厚度：38µm)。將前述防眩層形成材料(塗敷液)用線棒塗佈於前述透明塑膠薄膜基材之單面而形成塗膜(塗敷步驟)。接著，藉由以95℃加熱1分鐘使前述塗膜乾燥(乾燥步驟)。之後，以高壓水銀燈照射累積光量300mJ/cm ²之紫外線，將前述塗膜進行硬化處理而形成厚度6.5µm之防眩層。依上述方式而獲得前述光透射性基材與前述防眩層1之積層體。

[抗反射層1形成用塗敷液之調製] 混合以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製，商品名「Viscoat #300」)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份公司製，商品名「THRULYA 5320」)100重量份、實心奈米二氧化矽粒子(日產化學工業股份公司製，商品名「MIBK-ST」，固體成分30重量%，重量平均粒徑10nm)40重量份、含氟元素之添加劑(信越化學工業股份公司製，商品名「KY-1203」)12重量份、光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」)5重量份及光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD2959」)5重量份。於該混合物中，添加MIBK(甲基異丁基酮)及PMA(丙二醇單甲基醚乙酸酯)以70：30重量比混合而成之混合溶劑作為稀釋溶劑，以使整體固體成分成為1.5重量%，並攪拌而調製出抗反射層形成用塗敷液。 [抗反射層1之形成] 將前述抗反射層形成用塗敷液以線棒塗敷於前述光透射性基材與前述防眩層1之積層體的防眩層面(塗敷步驟)。將前述塗敷後之塗敷液以80℃加熱1分鐘，使其乾燥而形成塗膜(乾燥步驟)。以高壓水銀燈對乾燥後之前述塗膜照射累積光量300mJ/cm ²之紫外線，進行硬化處理(硬化步驟)。藉此使前述塗膜硬化，而形成厚度0.1µm之抗反射層1(抗反射層形成步驟)。依以上方式而製出本製造例1之防眩性薄膜1。

製造例2 (防眩性薄膜2之調製) [防眩層2之形成] 在調製防眩層形成用塗敷液時，將前述以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯之摻混量變更成60重量份、將聚矽氧粒子之摻混量變更成0.9重量份、將作為觸變性賦予劑之有機黏土的合成膨潤石變更成1.5重量份、且不使用含有氧化鋯粒子與紫外線硬化性樹脂之光學調整層用組成物的稀釋液與交聯丙烯酸苯乙烯共聚樹脂之微粒子，除此之外依與製造例1相同方法而製出前述光透射性基材與防眩層2之積層體。 [抗反射層2之形成] 在調製抗反射層形成用塗敷液時，將前述中空奈米二氧化矽粒子之摻混量變更成240重量份，除此之外依與製造例1相同方法而形成抗反射層2。依以上方式而製出本製造例2之防眩性薄膜2。

製造例3 (防眩性薄膜3之調製) 在形成防眩層時，使用透明塑膠薄膜基材(COP薄膜，日本ZEON(股)製，商品名「ZF14」，厚度：50µm)作為基材，除此之外依與製造例1相同方法而製出本製造例3之防眩性薄膜3。

製造例4 (防眩性薄膜4之調製) 在形成防眩層時，使用透明塑膠薄膜基材(PEN薄膜，東洋紡(股)製，商品名「Q51」，厚度：25µm)作為基材，除此之外依與製造例1相同方法而製出本製造例4之防眩性薄膜4。

製造例5 (防眩性薄膜5之調製) 在形成防眩層時，使用透明塑膠薄膜基材(PEEK薄膜，KURABO(股)製，商品名「EXPEEK」，厚度：50µm)作為基材，除此之外依與製造例1相同方法而製出本製造例5之防眩性薄膜5。

製造例6 (透明塑膠薄膜基材之製造) 相對於異山梨醇(以下有時簡稱為「ISB」)81.98質量份，將三環癸烷二甲醇(以下有時簡稱為「TCDDM」)47.19質量份、碳酸二苯酯(以下有時簡稱為「DPC」)175.1質量份及作為觸媒之碳酸銫0.2質量%水溶液0.979質量份投入反應容器中，在氮氣環境下，作為反應第1階段之步驟將加熱槽溫度加熱至150℃，並視需求攪拌使原料溶解(約15分鐘)。接著將壓力從常壓變更至13.3kPa，一邊以1小時使加熱槽溫度升溫至190℃，一邊將產生之酚排出反應容器外。將反應容器整體在190℃下保持15分鐘後，作為第2階段之步驟將反應容器內之壓力設成6.67kPa，以15分鐘使加熱槽溫度升溫至230℃，並將產生之酚排出反應容器外。由於攪拌機之攪拌轉矩會越來越上升，故為了以8分鐘升溫至250℃並進一步去除產生之酚，係使反應容器內之壓力達至0.200kPa以下。到達預定之攪拌轉矩後，結束反應，將所生成反應物擠出至水中，而獲得聚碳酸酯樹脂的丸粒。將所得聚碳酸酯樹脂在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(芝浦機械(股)製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬300mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製出厚度40µm之由聚碳酸酯樹脂構成之透明塑膠薄膜基材。 (防眩性薄膜6之調製) 在形成防眩層時，使用上述所得之由聚碳酸酯樹脂構成之透明塑膠薄膜基材作為基材，除此之外依與製造例1相同方法而製出本製造例6之防眩性薄膜6。

製造例7 (防眩性薄膜7之調製) 在形成防眩層時，使用透明塑膠薄膜基材(CPI薄膜，KOLON公司製，商品名「C_50_D」，厚度：50µm)作為基材，除此之外依與製造例1相同方法而製出本製造例7之防眩性薄膜7。

製造例8 (防眩性薄膜8之調製) 在形成防眩層時，使用透明塑膠薄膜基材(TAC薄膜，FUJIFILM(股)製，商品名「TD80UL」，厚度：80µm)作為基材，除此之外依與製造例1相同方法而製出本製造例8之防眩性薄膜8。

製造例9 (丙烯酸系黏著劑組成物1之調製) [丙烯酸系寡聚物之調製] 混合作為單體成分之甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)60重量份及甲基丙烯酸甲酯(MMA)40重量份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油3.5重量份及作為聚合溶劑之甲苯100重量份，並在氮氣環境下在70℃下攪拌1小時。接著，投入作為熱聚合引發劑之2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)0.2重量份，在70℃下使其反應2小時後，升溫至80℃，使其反應2小時。之後，將反應液加熱至130℃，並將甲苯、鏈轉移劑及未反應單體乾燥去除而獲得固態丙烯酸系寡聚物(丙烯酸系寡聚物A)。丙烯酸系寡聚物A之重量平均分子量為5100，玻璃轉移溫度(Tg)為130℃。

[預聚物及丙烯酸系黏著劑組成物1之調製] 作為預聚物形成用單體成分係摻混丙烯酸月桂酯(LA)60重量份、丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)22重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)8重量份及N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)10重量份、以及作為光聚合引發劑之BASF製「Omnirad184」0.1重量份、BASF製「Omnirad651」0.1重量份，並照射紫外線進行聚合，而獲得預聚物組成物。於上述預聚物組成物100重量份中，添加丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)37重量份、1,6-己二醇二丙烯酸酯(商品名「A-HD-N」，新中村化學股份公司製)0.08重量份、上述丙烯酸系寡聚物A 6重量份及矽烷耦合劑(信越化學製「KBM403」)0.3重量份作為後添加成分後，將該等均勻混合，而調製出丙烯酸系黏著劑組成物1。

製造例10 (預聚物及丙烯酸系黏著劑組成物2之調製) 作為預聚物形成用單體成分係摻混丙烯酸丁酯(BA)67重量份、丙烯酸環己酯(大阪有機化學工業公司製「Viscoat #155」)14重量份、及丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)19重量份、以及作為光聚合引發劑之BASF製「Omnirad184」0.09重量份、BASF製「Omnirad651」0.09重量份，並照射紫外線進行聚合，而獲得預聚物組成物。於上述預聚物組成物100重量份中，添加丙烯酸羥乙酯(HEA)9重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)8重量份、二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)0.02重量份、光聚合引發劑(BASF製「Omnirad651」)0.3重量份及矽烷耦合劑(信越化學製「KBM403」)0.35重量份作為後添加成分後，將該等均勻混合，而調製出丙烯酸系黏著劑組成物2。

製造例11 (預聚物及丙烯酸系黏著劑組成物3之調製) 作為預聚物形成用單體成分係摻混丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)78重量份、丙烯酸羥乙酯(HEA)4重量份及N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)18重量份、以及作為光聚合引發劑之BASF製「Omnirad184」0.035重量份、BASF製「Omnirad651」0.035重量份，並照射紫外線進行聚合，而獲得預聚物組成物。於上述預聚物組成物100重量份中，添加丙烯酸羥乙酯(HEA)17.6重量份、1,6-己二醇二丙烯酸酯(商品名「A-HD-N」，新中村化學股份公司製)0.294重量份、上述丙烯酸系寡聚物A 11.8重量份及矽烷耦合劑(信越化學製「KBM403」)0.35重量份作為後添加成分後，將該等均勻混合，而調製出丙烯酸系黏著劑組成物3。

實施例1 (無基材之黏著劑層1之調製) 將表面設有聚矽氧系脫模層之厚度75µm的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(Mitsubishi Chemical Co.製「DIAFOIL MRF75」)作為基材(兼重剝離薄膜)，將上述丙烯酸系黏著劑組成物1以使厚度成為25µm之方式塗佈於基材之脫模層上而形成塗佈層。於該塗佈層上貼合單面經聚矽氧剝離處理過之厚度75µm的PET薄膜(Mitsubishi Chemical Co.製「DIAFOIL MRE75」)之脫模層作為覆蓋片(兼輕剝離薄膜)。對該積層體，從覆蓋片側藉由位置調節成在燈正下方照射面之照射強度為5mW/cm ²的黑光燈照射紫外線進行光硬化，而形成厚度25µm之無基材之黏著劑層1。 (黏著膠帶1之調製) 將從上述所得之無基材之黏著劑層1剝離其中一剝離薄膜而露出之黏著面貼附於製造例1所示之防眩性薄膜1之非防眩層面，藉此獲得由防眩性薄膜1/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶1。

實施例2 (黏著膠帶2之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜2外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜2/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶2。

實施例3 (無基材之黏著劑層2之調製) 除了使用上述記載之丙烯酸系黏著劑組成物2外，依與實施例1相同方式而獲得厚度25µm之無基材之黏著劑層2。 (黏著膠帶3之調製) 除了使用上述所得無基材之黏著劑層2外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜1/黏著劑層2/剝離薄膜構成之黏著膠帶3。

實施例4 (黏著膠帶4之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜3外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜3/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶4。

實施例5 (黏著膠帶5之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜4外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜4/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶5。

實施例6 (黏著膠帶6之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜5外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜5/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶6。

實施例7 (黏著膠帶7之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜6外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜6/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶7。

實施例8 (黏著膠帶8之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜7外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜7/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶8。

比較例1 (黏著膠帶9之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜8外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩性薄膜8/黏著劑層1/剝離薄膜構成之黏著膠帶9。

比較例2 (無基材之黏著劑層3之調製) 除了使用上述記載之丙烯酸系黏著劑組成物3外，依與實施例1相同方式而獲得厚度25µm之無基材之黏著劑層3。 (黏著膠帶10之調製) 除了使用上述記載之防眩性薄膜8及無基材之黏著劑層3外，依與實施例1相同方式而獲得由防眩薄膜8/黏著劑層3/剝離薄膜構成之黏著膠帶10。

(評估) 使用上述實施例及比較例中所得之黏著膠帶進行以下評估。將評估方法顯示如下。將結果列於表2。

(1)平均尺寸變化率 將各實施例及各比較例中準備之黏著膠帶切斷成MD方向100mm×TD方向100mm之俯視呈大致正方形，分別於該4角落賦予交叉圖案之傷痕，而製作出試驗片。 對於加熱前之試驗片(25℃)，利用CNC三維測定機(Mitutoyo Co.製，「LEGEX774」)在室溫(25℃)下測定傷痕(交叉圖案中心)之MD方向間的距離(長度)及其TD方向間的距離(長度)。藉此，分別於MD方向及TD方向上獲得加熱前之長度。 接著，將試驗片在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，在室溫(25℃)下放冷1小時。然後，利用CNC三維測定機測定傷痕之MD方向間的距離及TD方向間的距離。藉此，分別於MD方向及TD方向上獲得加熱後之長度。接著，利用下述式，分別於MD方向及TD方向上算出尺寸變化率A1、A2，並將其平均值作為平均尺寸變化率(%)。且求出MD方向之尺寸變化率相對於TD方向之尺寸變化率的比率(A1/A2)。 尺寸變化率(%)=[加熱後之長度(mm)-加熱前之長度(mm)/加熱前之長度(mm)×100 平均尺寸變化率(%)=[MD方向之尺寸變化率+TD方向之尺寸變化率]/2

(2)最大捲曲量 剝離各實施例及各比較例中準備之黏著膠帶的剝離薄膜，貼附PET薄膜(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名「DIAFOIL T100E50」，並將所得積層體切斷成100mm×100mm之俯視呈大致正方形，而製作出試驗片。 接著，將試驗片在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，在室溫(25℃)下放冷1小時。之後，以使捲曲凸起面在下側之方式置於水平面上，測定角之4點與水平面間之距離，將距離水平面最長之點的距離作為最大捲曲量(mm)。 此外，以使前述積層體之前述PET薄膜側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為+，並且，以使前述積層體之前述基材側(前述PET薄膜之相反側)在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為-。

(3)反射率 將各實施例及各比較例中所得之黏著膠帶之黏著面貼附於黑色壓克力板，製成試驗片。將所得試驗片之黏著膠帶側設置於分光光度計U4100(Hitachi High-Tech Co.製)之光源側，測定5°正反射的可見光區域之反射率(%)。

(4)霧度 使用霧度測定裝置(村上色彩研究所製HR-100)在室溫(23℃)下測定各實施例及各比較例中所得之黏著膠帶。以重複次數3次進行測定，並將其平均值作為測定值。

(5)應變量A、應變量B及復原率 從各實施例及比較例中所得之黏著劑層剝離分離件，並積層複數層黏著劑層，製作出厚度約2mm之試驗試樣，將該試驗試樣沖裁成直徑7.9mm之圓盤狀，做成試料。用以求算「應變量A」、「應變量B」、「復原率」之剪切試驗係在圖5所示之形態下實施。具體上，係使用具有直徑7.9mm之平行板41及42之Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，將平行板41之上表面及平行板42之底面各自對齊試料之黏著劑層之底面及上表面並抵接(圖5(b))。接著，藉由以下測定條件進行動態黏彈性測定，讀取在500Pa下600秒時間點(圖5(c))之應變量A、與之後在0Pa下維持1800秒後之時間點(圖5(d))之應變量B，藉由下述式算出復原率。 (測定條件) 變形模式：扭轉 測定過程：在500Pa下維持600秒後，在0Pa下維持1800秒。 測定溫度：60℃ Axial Force：0.2N 復原率：(應變量A-應變量B)/應變量A×100

(6)黏著劑層之儲存彈性模數、耗損正切及黏著劑層之玻璃轉移溫度 從各實施例及比較例中所得之黏著劑層剝離分離件，積層複數層黏著劑層，而製作出厚度約2mm之試驗試樣。將該試驗試樣沖裁成直徑7.9mm之圓盤狀並夾入平行板，使用Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，在以下條件下進行動態黏彈性測定，從測定結果讀取出各溫度下之儲存彈性模數G'及損耗正切tanδ。又，將tanδ成為極大之溫度作為黏著劑層之玻璃轉移溫度。 (測定條件) 變形模式：扭轉 測定頻率：1Hz 測定溫度：-70℃~150℃

(7)黏著劑層之剪切力 將各實施例及比較例中所得之黏著膠帶裁切成寬10mm、長100mm之尺寸並剝離分離件後，以前述黏著膠帶之黏著劑層的黏著(接著)面積為1cm ²之方式，貼合於丙烯酸樹脂板(Acrylite，Mitsubishi Chemical Co.製)，在23℃下以剝離速度0.06mm/分鐘往剪切方向拉伸，並將此時之最大荷重(N/cm ²)作為剪切力。

(8)黏著劑層之300%拉伸殘存應力值 將各實施例及比較例中所得之黏著劑層裁切成40mm×40mm之尺寸，並剝除其中一面分離件後，折疊1次使黏著劑面彼此貼合，並再次剝除單面分離件後再次貼合黏著劑面彼此，而製作出約10mm×40mm之尺寸且厚度約400µm之黏著劑層試樣。將上述黏著劑層試樣安裝於夾具間距離設定為20mm之拉伸試驗機，以拉伸速度200mm/分鐘拉伸60mm(300%)(拉伸後之夾具間距離為80mm)。在拉伸了60mm之位置維持固定300秒鐘，測定其後之應力值，並由下述式算出「300%拉伸殘存應力值」。 300%拉伸殘存應力值(N/cm ²)=維持固定300秒後之應力值(N)/(4×黏著片厚度(mm)/10)

(9)濕度膨脹率 將各實施例及比較例中所得之黏著膠帶切斷成TD方向為寬度2mm×MD方向為長度20mm，並使用Bruker AXS股份公司製 HC-TMA4000SA型，藉由下述條件進行測定。 (測定條件) 變形模式：拉伸 荷重：2g 維持時間：5小時 升溫速度：5%RH/分鐘 測定氣體環境：在60℃且相對濕度30%下維持至飽和，並控制成60℃且相對濕度60%

(10)基材之濕度膨脹係數 濕度膨脹係數係使用Bruker AXS公司製 HC-TMA4000SA型，測定在60℃下使濕度從30%RH變化至60%RH時之各薄膜之伸長率藉此而求得(單位：/RH%)。 濕度膨脹係數(α)係藉由以下式算出。 α=ΔL/{(T2-T1)×L} T1：求算濕度膨脹係數之低濕度側濕度(%RH) T2：求算濕度膨脹係數之高濕度側濕度(%)RH) ΔL：關於試驗片之T1時之長度與T2時之長度的差(µm) L：試驗片在室溫(60℃)下之長度(µm)

(11)基材之玻璃轉移點(Tg) 採取約8mg之試料，放入鋁製容器進行DSC測定。 裝置：TA Instruments製 Q-2000 容器：鋁製容器 溫度過程：-30℃→300℃ 升溫速度：10℃/分鐘 環境氣體：N ₂(50ml/分鐘)

(12)黏著膠帶間之間隙之確認 將實施例及比較例中所得之黏著膠帶切斷成5cm×5cm並將4片無間隙地貼合於玻璃上，在60℃且相對濕度90%環境下加熱500小時後，在室溫(25℃)下放冷1小時。之後，將玻璃配置於背光件上並照射背光件之光後，以肉眼評估黏著膠帶間之間隙，按下述基準進行評估。 ○：未確認有黏著膠帶間之間隙。 ×：確認有黏著膠帶間之間隙

(13)黏著劑之剝落之確認 以光學顯微鏡確認在上述黏著膠帶間之間隙之確認所使用之在60℃且相對濕度90%下加熱500小時之試樣的黏著膠帶端部，按下述基準進行評估。 ○：未於黏著膠帶確認有剝落。 ×：有於黏著膠帶確認到剝落

[表2]

以下附記本發明之變形例。 [附記1]一種光學用黏著膠帶，具有積層有基材與黏著劑層之積層結構，該基材具有第1面及第2面，且該黏著劑層係位於前述基材之第1面； 該光學用黏著膠帶之特徵在於： 將前述光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率在±0.15%以內； 前述黏著劑層在下述剪切試驗中求算之復原率為95%以下。 ＜剪切試驗＞ 測定應變量A(%)與應變量B(%)，並由下述式算出復原率(%)，該應變量A(%)係在60℃下從厚度2mm、直徑7.9mm之圓盤狀黏著劑層上下施加扭轉方向之剪切力500Pa 600秒鐘後的應變量，而應變量B(%)係後續在剪切力0Pa下維持1800秒鐘後的應變量。 復原率(%)=(應變量A-應變量B)/應變量A×100 [附記2]如附記1之光學用黏著膠帶，令將前述光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率為C[%]，且 將前述光學用黏著膠帶之前述黏著劑層貼合於厚度50µm之PET薄膜後切斷成10cm見方而得積層體，令將該積層體在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後的下述最大捲曲量為D[mm]，此時滿足下述式。 ｜C×D｜≦3 ・最大捲曲量：以使前述積層體之捲曲凸起面在下側之方式置於水平面上，將4個角落之翹曲中最高者作為最大捲曲量D[mm]。以使前述積層體之前述PET薄膜側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為+，並且，以使前述積層體之前述基材側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為-。 [附記3]如附記1或2之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層之應變量A為3%以上。 [附記4]如附記1至3中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層之應變量B為0.1%以上。 [附記5]如附記1至4中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述基材之玻璃轉移點(Tg)為60℃以上。 [附記6]如附記1至5中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)為-10℃以下。 [附記7]如附記1至6中任一項之光學用黏著膠帶，將前述光學用黏著膠帶從60℃且相對濕度30%加濕成60℃且相對濕度60%後，其濕度膨脹率為0.1%以下。 [附記8]如附記1至7中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述基材之濕度膨脹係數為5×10 ^-5/%RH以下。 [附記9]如附記1至8中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述基材之第2面係業經抗反射處理及/或防眩處理。 [附記10]如附記1至9中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層係包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。 [附記11]一種影像顯示裝置，積層有如附記1至10中任一項之光學用黏著膠帶與影像顯示面板。 [附記12]一種拼接顯示器，係排列有複數片如附記11之影像顯示裝置者。

10A,10B:光學用黏著膠帶 1:基材 1a:基材之第1面 1b:基材之第2面 2:黏著劑層 3:抗反射處理及/或防眩處理 20:影像顯示裝置 4:影像顯示面板 30:拼接顯示器 31:支持基板 32:間隙 40:黏著劑層 41,42:平行板 F:剪切力 MD:機械方向 TD:寬度方向

圖1係顯示本發明光學用黏著膠帶之一實施形態的示意圖；(a)為截面圖，(b)為俯視圖。 圖2係顯示本發明光學用黏著膠帶之另一實施形態的示意圖(截面圖)。 圖3係顯示本發明影像顯示裝置之一實施形態的示意圖(截面圖)，該影像顯示裝置積層有圖2之光學用黏著膠帶。 圖4係顯示本發明拼接顯示器之一實施形態的示意圖(立體圖)。 圖5係用以說明剪切試驗的示意圖(立體圖)。

10A:光學用黏著膠帶

1:基材

1a:基材之第1面

1b:基材之第2面

2:黏著劑層

MD:機械方向

TD:寬度方向

Claims (12)

1. 一種光學用黏著膠帶，具有積層有基材與黏著劑層之積層結構，該基材具有第1面及第2面，且該黏著劑層係位於前述基材之第1面； 該光學用黏著膠帶之特徵在於： 將前述光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率在±0.15%以內； 前述黏著劑層在下述剪切試驗中求算之復原率為95%以下； ＜剪切試驗＞ 測定應變量A(%)與應變量B(%)，並由下述式算出復原率(%)，該應變量A(%)係在60℃下從厚度2mm、直徑7.9mm之圓盤狀黏著劑層上下施加扭轉方向之剪切力500Pa 600秒鐘後的應變量，而應變量B(%)係後續在剪切力0Pa下維持1800秒鐘後的應變量； 復原率(%)=(應變量A-應變量B)/應變量A×100。
2. 如請求項1之光學用黏著膠帶，令將前述光學用黏著膠帶在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後，其寬度方向及機械方向之平均尺寸變化率為C[%]，且 將前述光學用黏著膠帶之前述黏著劑層貼合於厚度50µm之PET薄膜後切斷成10cm見方而得積層體，令將該積層體在60℃且相對濕度90%之環境下加熱500小時後的下述最大捲曲量為D[mm]，此時滿足下述式： ｜C×D｜≦3 ・最大捲曲量：以使前述積層體之捲曲凸起面在下側之方式置於水平面上，將4個角落之翹曲中最高者作為最大捲曲量D[mm]；以使前述積層體之前述PET薄膜側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為+，並且，以使前述積層體之前述基材側在下側之方式置於水平面上且令如此所測得之最大捲曲量為-。
3. 如請求項1或2之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層之應變量A為3%以上。
4. 如請求項1至3中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層之應變量B為0.1%以上。
5. 如請求項1至4中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述基材之玻璃轉移點(Tg)為60℃以上。
6. 如請求項1至5中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層之玻璃轉移點(Tg)為-10℃以下。
7. 如請求項1至6中任一項之光學用黏著膠帶，將前述光學用黏著膠帶從60℃且相對濕度30%加濕成60℃且相對濕度60%後，其濕度膨脹率為0.1%以下。
8. 如請求項1至7中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述基材之濕度膨脹係數為5×10 ^-5/%RH以下。
9. 如請求項1至8中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述基材之第2面係業經抗反射處理及/或防眩處理。
10. 如請求項1至9中任一項之光學用黏著膠帶，其中前述黏著劑層係包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。
11. 一種影像顯示裝置，積層有如請求項1至10中任一項之光學用黏著膠帶與影像顯示面板。
12. 一種拼接顯示器，係排列有複數片如請求項11之影像顯示裝置者。

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