TW202302797A - 光學用黏著片材、光學積層體及圖像顯示裝置 - Google Patents

光學用黏著片材、光學積層體及圖像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明之目的在於提供一種具有積層有黏著劑層之積層構造的光學用黏著片材、光學積層體，該黏著劑層之透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能。 本發明之光學用黏著片材之特徵在於：具有積層有基材1與黏著劑層2之積層構造，上述基材1包含第1面1a與第2面1b，上述黏著劑層2積層於上述基材1之第1面1a；黏著劑層2係由含有抗靜電劑、及丙烯酸系聚合物(A)、構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物的黏著劑組合物形成；上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。

Description

光學用黏著片材、光學積層體及圖像顯示裝置
本發明係關於一種光學用黏著片材、光學積層體及圖像顯示裝置。更詳細而言，係關於一種於積層構造中包含抗靜電性優異之黏著劑層之光學用黏著片材、積層有該光學用黏著片材與光學構件之光學積層體、及積層有該光學用黏著片材與圖像顯示面板之圖像顯示裝置。
近年來，於各種領域廣泛使用液晶顯示器(LCD)等顯示裝置、或觸控面板等輸入裝置。於該等顯示裝置或輸入裝置之製造等中，將黏著片材用於貼合光學構件之用途。例如，於觸控面板等各種顯示裝置中貼合光學構件時使用透明之黏著片材。近年來，為了提高生產效率，廣泛採用以於偏光膜、相位差膜、覆蓋玻璃等透明覆蓋構件、其他各種光學構件積層有黏著劑層之光學用黏著片材之形式移送之做法。
於製造該等顯示裝置或輸入裝置時，在將上述光學用黏著片材貼附於顯示裝置時，將保護黏著劑層之剝離片材剝離，此時於黏著劑層產生靜電。所產生之靜電會影響顯示裝置之顯示單元之配向性等，從而導致顯示不良。作為抑制此種靜電產生之方法，調配抗靜電劑以降低黏著劑層之表面電阻率(例如專利文獻1～3)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2020-187365號公報 專利文獻2：日本專利特開2019-56115號公報 專利文獻3：WO2018/008712號公報
[發明所欲解決之問題]
近年來，隨著高畫質化，具有高密度化顯示單元之顯示裝置所受到之靜電之影響變大，為了高效地去除靜電，要求進一步降低黏著片材之表面電阻率(例如10 10Ω/□左右)。又，由於顯示裝置之薄型化、輕量化之要求，亦要求黏著片材之薄型化，為了實現表面電阻率較低之薄型黏著片材，需調配大量抗靜電劑。
然而，若於黏著劑層中調配大量抗靜電劑，則存在與黏著劑層之相溶性降低、或於黏著劑層表面析出抗靜電劑，尤其於濕熱環境下出現白濁等損害透明性或外觀之不良情況。又，存在於濕熱環境下產生發泡或剝離等而耐久性出現問題之情況。
因此，本發明之目的在於提供一種光學用黏著片材，其具有積層有黏著劑層之積層構造，該黏著劑層之透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能。 又，本發明之另一目的在於提供一種光學積層體，其係光學用黏著片材與光學構件積層而成，上述光學用黏著片材具有積層有黏著劑層之積層構造，該黏著劑層之透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能。 又，本發明之另一目的在於提供一種圖像顯示裝置，其係光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成，上述光學用黏著片材具有積層有黏著劑層之積層構造，該黏著劑層之透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能。 [解決問題之技術手段]
於是，本發明者等人為了解決上述問題，經過努力研究，結果發現，藉由使用丙烯酸系聚合物作為構成光學用黏著片材於積層構造中包含之黏著劑層之基礎聚合物，並且使用分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物形成共價鍵之官能基之離子性化合物作為抗靜電劑，能夠形成透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能之黏著劑層，從而完成本發明。
即，本發明之第一態樣提供一種光學用黏著片材，其具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且上述黏著劑層係由含有抗靜電劑、及構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物的黏著劑組合物形成。 又，本發明之第二態樣提供一種光學用黏著片材，其具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且上述黏著劑層係由含有抗靜電劑及丙烯酸系聚合物(A)之黏著劑組合物形成。 本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材中，上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材中，上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物，此種構成由於構成抗靜電劑之離子性化合物能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵，故而即便調配較多之抗靜電劑，亦不會出現因與黏著劑層之相溶性降低、或黏著劑層表面析出抗靜電劑所致之透明性或外觀之不良，又，於濕熱環境下不易產生因抗靜電劑引起之發泡或剝離等，就耐久性優異之方面而言亦較佳。因此，本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材之透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材中，上述抗靜電劑之分子內含有之官能基較佳為選自由(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、羥基、胺基、巰基、環氧基所組成之群中之至少一種。該等官能基就易與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之方面而言較佳。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材中，上述丙烯酸系聚合物(A)較佳為不含或實質上不含含羧基單體作為構成其之單體成分。該構成就本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材可獲得優異之金屬配線之抗腐蝕效果之方面而言較佳。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材中，上述黏著劑組合物較佳為不含或實質上不含有機溶劑。該構成就不易產生橘皮等外觀缺陷之方面而言較佳。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材中，上述黏著劑層之霧度(依據JIS K7136)較佳為1.0%以下。又，上述黏著劑層之全光線透過率(依據JIS K7361-1)較佳為90%以上。該等構成就可獲得優異之透明性或優異之外觀之方面而言較佳。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材於23℃下對玻璃板之180°剝離接著力較佳為4 N/20 mm以上。該構成就對玻璃之接著性、階差部之隆起抑制性更優異之方面而言較佳。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材之厚度較佳為12～350 μm。厚度為一定以上之構成就階差部位不易產生剝離之方面而言較佳。又，厚度為一定以下之構成就製造時易保持優異之外觀之方面而言較佳。
本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材中，上述基材之第2面較佳為經過抗反射處理、防眩處理、硬塗處理及/或抗靜電處理。上述基材之第2面經過抗反射處理及/或防眩處理之構成就防止因外光之反射或圖像之映入等引起之視認性之降低、調整光澤度等外觀之觀點而言較佳。又，上述基材之第2面經過硬塗處理之構成就表面硬度、耐擦傷性提高之方面而言較佳。又，上述基材之第2面經過抗靜電處理之構成就抑制本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材帶靜電，而在將光學用黏著片材用於圖像顯示裝置之情形時，能夠抑制因靜電引起之顯示不良之方面而言較佳。
本發明之第三態樣提供一種光學積層體，其係本發明之第一態樣或第二態樣之光學用黏著片材與光學構件積層而成。又，本發明之第四態樣提供一種圖像顯示裝置，其係本發明之第一態樣或第二態樣之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成。本發明之第三態樣之光學積層體及本發明之第四態樣之圖像顯示裝置由於在積層構造中包含透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能的本發明之第一態樣或第二態樣之光學用黏著片材，故不易出現因靜電引起之顯示不良，從而較佳。 [發明之效果]
本發明之光學用黏著片材之透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能。因此，藉由使用本發明之光學用黏著片材製造圖像顯示裝置，不僅維持優異之透明性、外觀、耐久性，且能夠抑制因靜電引起之顯示不良。又，於積層構造中包含本發明之光學用黏著片材之光學積層體、圖像顯示裝置不僅維持優異之透明性、外觀、耐久性，且能夠抑制因靜電引起之顯示不良。
本發明之第一態樣之光學用黏著片材係如下光學用黏著片材：具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且上述黏著劑層係由含有抗靜電劑、及構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物的黏著劑組合物形成。 又，本發明之第二態樣之光學用黏著片材係如下光學用黏著片材：具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且上述黏著劑層係由含有抗靜電劑及丙烯酸系聚合物(A)之黏著劑組合物形成。 本發明之第一態樣及第二態樣光學用黏著片材中，上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。
再者，本說明書中，上述「單體成分之混合物」包括由單一單體成分構成之情況、及由2種以上之單體成分構成之情況。又，上述所謂「單體成分之混合物之部分聚合物」，意指上述「單體成分之混合物」之構成單體成分中之1種或2種以上之單體成分發生部分聚合之組合物。 本說明書中，簡稱為「丙烯酸系聚合物(A)」時，只要無特別說明，包括「丙烯酸系聚合物(A)」、「構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物」及「構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物」。
本說明書中，有時將本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材統稱為「本發明之光學用黏著片材」。又，本說明書中，有時將構成本發明之光學用黏著片材之上述基材、黏著劑層、黏著劑組合物分別稱為「本發明之基材」、「本發明之黏著劑層」及「本發明之黏著劑組合物」。又，有時將本發明之黏著劑組合物所含有之作為抗靜電劑之「分子內含有能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物」稱為「本發明之抗靜電劑」或「本發明之離子性化合物」。
又，本發明之第三態樣之光學積層體係積層有本發明之光學用黏著片材與光學構件之光學積層體。本說明書中，有時將本發明之第三態樣之光學積層體稱為「本發明之光學積層體」。 進而，本發明之第四態樣之圖像顯示裝置係積層有本發明之光學用黏著片材與圖像顯示面板之圖像顯示裝置。本說明書中，有時將本發明之第四態樣之圖像顯示裝置稱為「本發明之圖像顯示裝置」。
以下，參照圖式對本發明之光學用黏著片材之實施形態進行說明，但僅為例示，本發明並不限定於此。
圖1係表示本發明之光學用黏著片材之一實施態樣之模式圖(剖視圖)。 圖1中，光學用黏著片材10具有積層有基材1與黏著劑層2之積層構造。基材1包含第1面1a及第2面1b，於基材1之第1面1a積層有黏著劑層2。基材1之第2面1b實施有抗反射處理、防眩處理、硬塗處理及/或抗靜電處理3。黏著劑層2之未與基材1之第1面1a積層的面(黏著面)被隔片4保護。
圖2係表示本發明之光學積層體之一實施態樣之模式圖(剖視圖)。 圖2中，光學積層體20具有依序積層有基材1、黏著劑層2、及光學構件5之積層構造。基材1包含第1面1a及第2面1b，於基材1之第1面1a積層有黏著劑層2。黏著劑層2之未與基材1之第1面1a積層的面上積層有光學構件5。基材1之第2面1b實施有抗反射處理、防眩處理、硬塗處理及/或抗靜電處理3。
圖3係表示本發明之圖像顯示裝置之一實施態樣之模式圖(剖視圖)。圖3中，圖像顯示裝置30係於光學用黏著片材10之黏著劑層2上積層有圖像顯示面板6。 以下，對各構成進行說明。
[1.光學用黏著片材] 本發明之光學用黏著片材中之所謂「光學」，意指可用於光學用途，更具體而言，意指可用於使用光學構件之製品(光學製品)之製造等。作為光學製品，例如可例舉：圖像顯示裝置、觸控面板等輸入裝置等，可適宜用於液晶圖像顯示裝置、自發光型圖像顯示裝置(例如有機EL(電致發光)圖像顯示裝置、LED圖像顯示裝置)等之製造。
本發明之光學用黏著片材只要於本發明之基材之第1面積層有本發明之黏著劑層，則其形態並無特別限定。例如可以是僅單面為黏著面之單面黏著片材，亦可以是兩面為黏著面之雙面黏著片材。又，於本發明之光學用黏著片材為雙面黏著片材之情形時，本發明之光學用黏著片材可具有藉由本發明之黏著劑層提供兩個黏著面的形態，亦可具有藉由本發明之黏著劑層提供一個黏著面、藉由本發明之黏著劑層以外之黏著劑層(其他黏著劑層)提供另一個黏著面的形態。本發明之光學用黏著片材於構成光學製品之最表面之情形時較佳為單面黏著片材，於貼合被接著體(光學構件)彼此之情形時較佳為雙面黏著片材。再者，「黏著片材」亦包括「黏著膠帶」之含義。即，本發明之光學用黏著片材亦可為具有帶狀形態之黏著膠帶。又，本說明書中，有時將黏著劑層表面稱為「黏著面」。
[1-1.光學用黏著片材之各種物性] 本發明之光學用黏著片材於23℃下對玻璃板之180°剝離接著力(尤其是藉由上述黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)提供之黏著面於23℃下對玻璃板之180°剝離接著力)並無特別限定，就接著力越高而越可獲得充分之密接之觀點而言，較佳為4 N/20 mm以上，更佳為6 N/20 mm以上，進而較佳為8 N/20 mm以上，進而更佳為10 N/20 mm以上。若本發明之光學用黏著片材於23℃下對玻璃板之180°剝離接著力為一定值以上，則對玻璃之接著性、階差部之隆起抑制性更優異。再者，本發明之光學用黏著片材於23℃下對玻璃板之180°剝離接著力之上限值並無特別限定，例如較佳為28 N/20 mm、27 N/20 mm、26 N/20 mm，更佳為25 N/20 mm、24 N/20 mm、23 N/20 mm、22 N/20 mm、21 N/20 mm、20 N/20 mm。
本發明之光學用黏著片材於80℃下對玻璃板之180°剝離接著力(尤其是藉由上述黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)提供之黏著面於80℃下對玻璃板之180°剝離接著力)並無特別限定，就接著力越高而越可獲得充分之密接之觀點而言，較佳為4 N/20 mm以上，更佳為6 N/20 mm以上，進而較佳為8 N/20 mm以上，進而更佳為10 N/20 mm以上。若本發明之光學用黏著片材於80℃下對玻璃板之180°剝離接著力為一定值以上，則對玻璃之接著性、階差部之隆起抑制性更優異。再者，本發明之光學用黏著片材於80℃下對玻璃板之180°剝離接著力之上限值並無特別限定，例如較佳為18 N/20 mm，更佳為16 N/20 mm。於23℃或80℃下對玻璃板之180°剝離接著力可藉由下述180°剝離接著力之測定方法求出。
作為上述玻璃板，並無特別限定，例如可例舉商品名「鈉鈣玻璃#0050」(松浪硝子工業股份有限公司製造)。又，亦可例舉無鹼玻璃或化學強化玻璃等。
(A-1. 180°剝離接著力之測定方法) 將光學用黏著片材之黏著面與被接著體貼合，於2 kg壓輥、往返1次之壓接條件下壓接，於23℃、50%RH氛圍下老化30分鐘或240小時。老化後，依據JIS Z0237，於23℃或80℃、50%RH氛圍下，於拉伸速度300 mm/min、剝離角度180°之條件下，自被接著體剝離光學用黏著片材，測定180°剝離接著力(N/20 mm)。
(B.厚度) 本發明之黏著片材之厚度(總厚度)並無特別限定，較佳為12～350 μm，亦可更佳為15～330 μm、18～325 μm、18～320 μm、20～300 μm、23～300 μm、25～275 μm、或30～250 μm。若厚度為一定以上，則於階差部位不易產生剝離，從而較佳。又，若厚度為一定以下，則製造時易保持優異之外觀，從而較佳。再者，關於本發明之黏著片材之厚度，於帶基材黏著片材之情形時包括基材之厚度，但不包括隔片之厚度。
(C.霧度) 本發明之光學用黏著片材之霧度(依據JIS K7136)並無特別限定，較佳為1.0%以下，亦可更佳為0.8%以下、0.7%以下、或0.6%以下。若霧度為1.0%以下，則可獲得優異之透明性或優異之外觀，從而較佳。再者，關於上述霧度，例如可將光學用黏著片材於常態(23℃、50%RH)下靜置至少24小時後，於具有隔片之情形時將其剝離，與載玻片(例如全光線透過率92%、霧度0.2%者)貼合而作為試樣，使用霧度計(村上色彩技術研究所股份有限公司製造，商品名「HM-150N」)進行測定。
(D.全光線透過率) 本發明之光學用黏著片材之可見光波長區域中之全光線透過率(依據JIS K7361-1)並無特別限定，較佳為90%以上，亦可更佳為91%以上、或92%以上。若全光線透過率為90%以上，則可獲得優異之透明性或優異之外觀，從而較佳。再者，關於上述全光線透過率，例如可將光學用黏著片材於常態(23℃、50%RH)下靜置至少24小時後，於具有隔片之情形時將其剝離，與載玻片(例如全光線透過率92%、霧度0.2%者)貼合而作為試樣，使用霧度計(村上色彩技術研究所股份有限公司製造，商品名「HM-150N」)進行測定。
本發明之光學用黏著片材之上述接著力、全光線透過率及霧度可藉由下述實施例中記載之方法測定。本發明之光學用黏著片材之上述接著力、全光線透過率及霧度可藉由調整構成丙烯酸系聚合物(A)之單體組成、交聯劑之量、本發明之離子性化合物、其他添加劑之種類或量、硬化條件等來進行調整。
＜基材＞ 作為構成本發明之基材之原材料，可例舉：玻璃或塑膠膜等。作為上述塑膠膜，例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂、環狀烯烴系聚合物(COP)(例如商品名「ARTON」(JSR股份有限公司製造)、商品名「ZEONOR」(Nippon Zeon股份有限公司製造)等)、聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA)等丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、三乙醯纖維素(TAC)、聚碸、聚芳酯、聚醯亞胺、透明聚醯亞胺(CPI)、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等塑膠材料，較佳為尺寸穩定性優異、不易收縮之聚酯系樹脂、環狀烯烴系聚合物(COP)。再者，該等塑膠材料可單數使用或將2種以上組合使用。本發明之基材係將本發明之光學用黏著片材貼附於被接著體(光學構件、圖像顯示面板等)時與黏著劑層一起貼附於被接著體上之部分。使用(貼附)本發明之光學用黏著片材時剝離之隔片(剝離襯墊)不屬於「基材」。
本發明之基材具有包含第1面與第2面之膜狀(基板狀)之形態。本發明之基材只要為構成上述光學製品之光學構件，則並無特別限定，可例舉：覆蓋構件、偏光板、相位差板等各種光學膜，較佳為用作覆蓋構件。於本發明之基材為覆蓋構件之情形時，第2面例如成為上述光學製品之最表面。
本發明之基材之玻璃轉移點(Tg)並無特別限定，較佳為60℃以上160℃以下。本發明之基材之玻璃轉移點為60℃以上之構成就使用環境下之本發明之圖像顯示裝置之機械物性穩定之方面而言較佳。就本發明之圖像顯示裝置之機械物性之穩定性之觀點而言，上述基材之玻璃轉移點可為63℃以上、或65℃以上。又，上述基材之玻璃轉移點為160℃以下之構成就可使基材之成形製程簡化之方面而言較佳。就可使基材之成形製程簡化之方面而言，上述基材之玻璃轉移點較佳為140℃以下，亦可為135℃以下、130℃、或125℃以下。
本發明之基材之玻璃轉移點(Tg)可依據JIS K7121測定。本發明之基材之玻璃轉移點(Tg)可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類等來進行調整。
本發明之基材之濕度膨脹係數並無特別限定，較佳為5×10 -5/%RH以下。本發明之基材之濕度膨脹係數為5×10 -5/%RH以下之構成就本發明之基材於溫度變化中之尺寸穩定性提高，維持良好之外觀之方面而言較佳。就本發明之基材之尺寸穩定性之方面而言，本發明之基材之濕度膨脹係數較佳為3×10 -5/%RH以下，亦可為2×10 -5/%RH以下。
本發明之基材之濕度膨脹係數具體而言可藉由下述實施例中記載之方法測定。本發明之基材之濕度膨脹係數可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類或基材製造時之條件(溫度、擠出速度等)等來進行調整。
本發明之基材之霧度並無特別限定，較佳為5%以上。本發明之基材之霧度為5%以上之構成就能夠防止本發明之圖像顯示裝置中之圖像顯示面板之基板上配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射之方面而言較佳，更佳為6%以上，亦可為7%以上。本發明之基材之霧度之上限並無特別限定，就本發明之圖像顯示裝置之視認性之觀點而言，較佳為50%以下，亦可為40%以下、或30%以下。
本發明之基材之霧度可依據JIS K7136測定。本發明之基材之霧度可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類或厚度、對基材表面實施抗反射處理及/或防眩處理等來進行調整。
本發明之基材之反射率並無特別限定，較佳為5%以下。本發明之基材之反射率為5%以下之構成就能夠防止本發明之圖像顯示裝置中之圖像顯示面板之基板上配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射之方面而言較佳，更佳為3%以下，亦可為1.5%以下。本發明之基材之反射率之下限並無特別限定，可為0.1%以上、或0.3%以上。
本發明之基材之反射率可依據JIS K7361-1測定。本發明之基材之反射率可藉由構成本發明之基材之樹脂之種類或厚度、對基材表面實施抗反射處理及/或防眩處理等來進行調整。
本發明之基材之厚度並無特別限制，例如若考慮到尺寸穩定性、強度、操作性等作業性、薄層性等方面，較佳為10～500 μm之範圍，更佳為20～300 μm之範圍，進而較佳為25～250 μm之範圍，最佳為30～200 μm之範圍。本發明之基材之折射率並無特別限制，例如1.30～1.80之範圍，較佳為1.40～1.70之範圍。
本發明之基材之第2面較佳為實施有反射表面處理及/或防眩處理。本發明之基材之第2面經過反射表面處理及/或防眩處理之構成就防止因外光之反射或圖像之映入等引起之視認性之降低、調整光澤度等外觀之觀點而言較佳。又，就能夠防止本發明之圖像顯示裝置之基板上配置之金屬配線或ITO配線等引起之反射之方面而言較佳。又，本發明之基材之第2面較佳為實施有硬塗處理。本發明之基材之第2面經過硬塗處理之構成就表面硬度、耐擦傷性提高之方面而言較佳。
作為上述抗反射處理，可無特別限定地採用公知之抗反射處理，例如可例舉：抗反射(AR)處理。
作為上述抗反射(AR)處理，可無特別限制地採用公知之AR處理，具體而言，可藉由在本發明之基材之第2面上形成厚度及折射率經嚴格控制之光學薄膜或上述光學薄膜積層有兩層以上之抗反射層(AR層)而實施。上述AR層係藉由利用光之干涉效果使入射光與反射光之逆轉相位相互抵消而表現出抗反射功能。表現出抗反射功能之可見光線之波長區域例如為380～780 nm，尤其是視感度較高之波長區域為450～650 nm之範圍，較佳為以使其中心波長550 nm之反射率最小之方式設計AR層。
作為上述AR層，一般而言，可例舉積層有兩層至五層之光學薄層(厚度及折射率經嚴格控制之薄膜)之構造之多層抗反射層，藉由將折射率不同之成分以特定厚度相應地形成複數層，AR層之光學設計之自由度提昇，能夠進一步提高抗反射效果，亦可使分光反射特性於可見光區域內均勻(平坦)。由於上述光學薄膜要求較高之厚度精度，故一般於形成各層時，藉由作為乾式方式之真空蒸鍍、濺鍍、CVD等來實施。
又，上述AR層亦可藉由抗反射層形成用塗敷液來形成。上述抗反射層形成用塗敷液例如可包含樹脂、含氟元素添加劑、中空粒子、實心粒子及稀釋溶劑等，例如可將該等混合而製造。
上述樹脂例如可例舉：熱固性樹脂、藉由紫外線或光而硬化之游離輻射硬化性樹脂。作為上述樹脂，亦可使用市售之熱固性樹脂或紫外線硬化型樹脂等。
作為上述熱固性樹脂或紫外線硬化型樹脂，例如可使用藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之含有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之硬化型化合物，例如可例舉：聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
上述樹脂例如亦可使用含有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之反應性稀釋劑。上述反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報中記載之反應性稀釋劑，例如包含單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作為上述反應性稀釋劑，較佳為三官能以上之丙烯酸酯、三官能以上之甲基丙烯酸酯。其原因在於，可使本發明之基材之第2面之硬度優異。作為上述反應性稀釋劑，例如亦可例舉：丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸之丙烯酸酯、異三聚氰酸之甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。上述樹脂之硬化前之重量平均分子量例如可為100以上、300以上、500以上、1,000以上、或2,000以上，且可為100,000以下、70,000以下、50,000以下、30,000以下、或10,000以下。若上述硬化前之重量平均分子量較高，則硬度降低，存在彎曲時不易破裂之傾向。另一方面，若上述硬化前之重量平均分子量較低，則分子間交聯密度提高，存在硬度變高之傾向。
作為上述樹脂，較佳為包含多官能丙烯酸酯(例如季戊四醇三丙烯酸酯)。
為了使上述硬化型樹脂硬化，例如可添加硬化劑。上述硬化劑並無特別限定，例如可適當使用公知之聚合起始劑(例如熱聚合起始劑、光聚合起始劑等)。上述硬化劑之添加量並無特別限定，相對於上述抗反射層形成用塗敷液中之上述樹脂100重量份，例如可為0.5重量份以上、1.0重量份以上、1.5重量份以上、2.0重量份以上、或2.5重量份以上，且可為15重量份以下、13重量份以下、10重量份以下、7重量份以下、或5重量份以下。
上述含氟元素添加劑並無特別限定，例如可為分子中含有氟之有機化合物或無機化合物。上述有機化合物並無特別限定，例如可例舉：含氟防污塗佈劑、含氟丙烯酸系化合物、含氟矽丙烯酸系化合物等。作為上述有機化合物，具體而言，例如可例舉：信越化學工業股份有限公司製造之商品名「KY-1203」、DIC股份有限公司製造之商品名「MEGAFAC」等。上述無機化合物亦並無特別限定。上述含氟元素添加劑之添加量並無特別限定，例如相對於上述抗反射層形成用塗敷液中之全部固形物成分之重量，上述固形物成分中之氟元素之重量例如可為0.05重量%以上、0.1重量%以上、0.15重量%以上、0.20重量%以上、或0.25重量%以上，且可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、或3重量%以下。又，例如相對於上述抗反射層形成用塗敷液中之上述樹脂100重量份，上述含氟元素添加劑之重量例如可為0.05重量%以上、0.1重量%以上、0.15重量%以上、0.20重量%以上、或0.25重量%以上，且可為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、或3重量%以下。
上述中空粒子並無特別限定，例如可為二氧化矽粒子、丙烯酸粒子、丙烯酸-苯乙烯共聚粒子等。作為上述二氧化矽粒子，例如可例舉：日揮觸媒化成工業股份有限公司製造之商品名「Thrulya 5320」、「Thrulya 4320」等。上述中空粒子之重量平均粒徑並無特別限定，例如可為30 nm以上、40 nm以上、50 nm以上、60 nm以上、或70 nm以上，且可為150 nm以下、140 nm以下、130 nm以下、120 nm以下、或110 nm以下。上述中空粒子之形狀並無特別限制，例如可為珠粒狀之略球形，亦可為粉末等不定形者，較佳為略球形，更佳為縱橫比為1.5以下之略球形粒子，最佳為球形粒子。藉由添加上述中空粒子，例如能夠實現上述抗反射層之低折射率、良好之抗反射特性等。上述中空粒子之添加量並無特別限定，相對於上述抗反射層形成用塗敷液中之上述樹脂100重量份，例如可為30重量份以上、50重量份以上、70重量份以上、90重量份以上、或100重量份以上，且可為300重量份以下、270重量份以下、250重量份以下、200重量份以下、或180重量份以下。就抗反射層之低折射率化之觀點而言，較佳為上述中空粒子之添加量不過少，就確保抗反射層之機械特性之觀點而言，較佳為上述中空粒子之添加量不過多。
上述實心粒子並無特別限定，例如可為二氧化矽粒子、氧化鋯粒子、含鈦粒子(例如氧化鈦粒子)等。作為上述二氧化矽粒子，例如可例舉：日產化學工業股份有限公司製造之商品名「MEK-2140Z-AC」、「MIBK-ST」、「IPA-ST」等。上述實心粒子之重量平均粒徑並無特別限定，例如可為5 nm以上、10 nm以上、15 nm以上、20 nm以上、或25 nm以上，且可為3300 nm以下、250 nm以下、200 nm以下、150 nm以下、或100 nm以下。上述實心粒子之形狀並無特別限制，例如可為珠粒狀之略球形，亦可為粉末等不定形者，較佳為略球形，更佳為縱橫比為1.5以下之略球形粒子，最佳為球形粒子。藉由添加上述實心粒子，例如易使上述含氟元素添加劑偏集存在於所塗敷之上述抗反射層形成用塗敷液之表面，抗反射層之耐擦傷性優異，能夠實現低折射率、良好之抗反射特性等。上述實心粒子之添加量並無特別限定，相對於上述抗反射層形成用塗敷液中之上述樹脂100重量份，例如可為5重量份以上、10重量份以上、15重量份以上、20重量份以上、或25重量份以上，且可為150重量份以下、120重量份以下、重量份以下、100重量份以下、或80重量份以下。
上述稀釋溶劑可為例如包含MIBK(甲基異丁基酮)及PMA(丙二醇單甲醚乙酸酯)之混合溶劑。該情形時之混合比率並無特別限定，於將MIBK之重量設為100重量%之情況下，PMA之重量例如可為20重量%以上、50重量%以上、100重量%以上、150重量%以上、或200重量%以上，且可為400重量%以下、350重量%以下、300重量%以下、或250重量%以下。
上述稀釋溶劑亦可為例如不僅包含MIBK及PMA且進而包含TBA(第三丁醇)之混合溶劑。該情形時之混合比率並無特別限定，於將MIBK之重量設為100重量%之情況下，PMA之重量例如可為10重量%以上、30重量%以上、50重量%以上、80重量%以上、或100重量%以上，且可為200重量%以下、180重量%以下、150重量%以下、130重量%以下、或110重量%以下。又，於將MIBK之重量設為100重量%之情況下，TBA之重量例如可為10重量%以上、30重量%以上、50重量%以上、80重量%以上、或100重量%以上，且可為200重量%以下、180重量%以下、150重量%以下、130重量%以下、或110重量%以下。
上述稀釋溶劑之添加量亦並無特別限定，例如可使固形物成分之重量相對於抗反射層形成用塗敷液整體之重量而成為例如0.1重量%以上、0.3重量%以上、0.5重量%以上、1.0重量%以上、或1.5重量%以上且20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下、或3重量%以下。就確保塗敷性(潤濕、調平)之觀點而言，較佳為上述固形物成分之含有率不過高，就防止風乾不均、白化等因乾燥引起之外觀不良之觀點而言，較佳為上述固形物成分之含有率不過低。
其次，於本發明之基材之第2面上塗敷上述抗反射層形成用塗敷液(上述塗敷步驟)。塗敷方法並無特別限定，例如可適當採用噴流塗佈法(fountain coating)、模嘴塗佈法、旋轉塗佈法、噴霧塗佈法(spray coating)、凹版塗佈法、輥式塗佈法、棒式塗佈法等公知之塗敷方法。上述抗反射層形成用塗敷液之塗敷量亦並無特別限定，可使所形成之上述抗反射層之厚度成為例如0.1 μm以上、0.3 μm以上、0.5 μm以上、1.0 μm以上、或2.0 μm以上且50 μm以下、40 μm以下、30 μm以下、20 μm以下、或10 μm以下。
其次，使所塗敷之上述抗反射層形成用塗敷液乾燥而形成塗膜(上述塗膜形成步驟)。乾燥溫度並無特別限定，例如可為30～200℃之範圍。上述乾燥溫度例如可為40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上、或100℃以上，且可為190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下、或110℃以下。乾燥時間並無特別限定，例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上、或60秒以上，且可為150秒以下、130秒以下、110秒以下、或90秒以下。
進而，可使上述塗膜硬化(硬化步驟)。上述硬化例如可藉由加熱、光照射等進行。上述光並無特別限定，例如可為紫外線等。上述光照射之光源亦並無特別限定，例如可為高壓水銀燈等。上述紫外線硬化中之能量線源之照射量以紫外線波長365 nm下之累計曝光量計較佳為50～500 mJ/cm 2。若照射量為50 mJ/cm 2以上，則易使硬化充分進行，所形成之抗反射層之硬度易變高。又，若為500 mJ/cm 2以下，則能夠防止所形成之抗反射層發生著色。
作為上述防眩(AG)處理，可無特別限制地採用公知之AG處理，例如可藉由在本發明之基材之第2面上形成防眩層來實施。作為上述防眩層，可無限制地使用公知者，一般而言，以於樹脂中分散有作為防眩劑之無機或有機粒子之層的形式形成。又，上述防眩層可為防眩性硬塗層。
作為上述防眩層，並無特別限定，例如使用包含樹脂、粒子及觸變賦予劑之防眩層形成材料來形成，藉由上述粒子及上述觸變賦予劑凝集，而於上述防眩層之表面形成凸狀部。藉由該構成，防眩層具有兼備防眩性與防止白斑之優異之顯示特性，並且，雖然利用粒子之凝集來形成防眩層，但可防止產生成為外觀缺陷之防眩層表面之突起狀物，提高製品之良率。
作為上述樹脂，例如可例舉：熱固性樹脂、藉由紫外線或光之作用硬化之游離輻射硬化性樹脂。上述樹脂亦可使用市售之熱固性樹脂或紫外線硬化型樹脂等。
作為上述熱固性樹脂或紫外線硬化型樹脂，例如可使用藉由熱、光(紫外線等)或電子束等硬化之含有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之硬化型化合物，例如可例舉：聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
上述樹脂中亦可使用例如含有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基之至少一種基之反應性稀釋劑。上述反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報中記載之反應性稀釋劑，例如包含單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作為上述反應性稀釋劑，較佳為三官能以上之丙烯酸酯、三官能以上之甲基丙烯酸酯。其原因在於可使上述防眩層之硬度變得優異。作為上述反應性稀釋劑，例如亦可例舉：丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸之丙烯酸酯、異三聚氰酸之甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
作為上述樹脂，較佳為包含胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂，更佳為硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂與多官能丙烯酸酯(例如季戊四醇三丙烯酸酯)之共聚物。
用以形成上述防眩層之粒子之主要功能在於使所形成之防眩層之表面成為凹凸形狀而賦予防眩性，並控制防眩層之霧度值。防眩層之霧度值可藉由控制上述粒子與上述樹脂之折射率差來設計。作為上述粒子，例如存在無機粒子與有機粒子。上述無機粒子並無特別限制，例如可例舉：氧化矽粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子、氧化鋅粒子、氧化錫粒子、氧化鋯粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石粒子、高嶺土粒子、硫酸鈣粒子等。又，上述有機粒子並無特別限制，例如可例舉：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA微粒子)、聚矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸-苯乙烯樹脂粉末、苯并胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末等。該等無機粒子及有機粒子可單獨使用一種，亦可將兩種以上併用。
上述粒子之重量平均粒徑(D)較佳為處於2.5～10 μm之範圍內。藉由將上述粒子之重量平均粒徑設為上述範圍，例如防眩性更優異、且能夠防止白斑。上述粒子之重量平均粒徑更佳為3～7 μm之範圍內。再者，上述粒子之重量平均粒徑例如可藉由庫爾特計數法測定。例如使用利用了細孔電阻法之粒度分佈測定裝置(商品名：庫爾特粒子計數器(Coulter Multisizer)，Beckman Coulter公司製造)，測定粒子通過上述細孔時之相當於粒子體積之電解液之電阻，藉此測定上述粒子之數目與體積，算出重量平均粒徑。
上述粒子之形狀並無特別限制，例如可為珠粒狀之略球形，亦可為粉末等不定形者，較佳為略球形，更佳為縱橫比為1.5以下之略球形粒子，最佳為球形粒子。
作為上述防眩層中之上述粒子之比率，相對於上述樹脂100重量份，較佳為0.2～12重量份之範圍，更佳為0.5～12重量份之範圍，進而較佳為1～7重量份之範圍。藉由設為上述範圍，例如防眩性更優異、且能夠防止白斑。
上述防眩層可包含觸變賦予劑。藉由包含上述觸變賦予劑，可容易地控制上述粒子之凝集狀態。作為用以形成上述防眩層之觸變賦予劑，例如可例舉：有機黏土、氧化聚烯烴、改性脲等。
為了改善與上述樹脂之親和性，上述有機黏土較佳為經過有機化處理之黏土。作為有機黏土，例如可例舉層狀有機黏土。上述有機黏土可自行製備，亦可使用市售品。作為上述市售品，例如可例舉：Lucentite SAN、Lucentite STN、Lucentite SEN、Lucentite SPN，Somashif ME-100、Somashif MAE、Somashif MTE、Somashif MEE、Somashif MPE(商品名，均由CO-OP. CHEMICAL股份有限公司製造)；S-BEN、S-BEN C、S-BEN E、S-BEN W、S-BEN P、S-BEN WX、S-BEN N-400、S-BEN NX、S-BEN NX80、S-BEN NO12S、S-BEN NEZ、S-BEN NO12、S-BEN NE、S-BEN NZ、S-BEN NZ70，Organite、Organite D、Organite T(商品名，均由Ho Jun股份有限公司製造)；KUNIPIA F、KUNIPIA G、KUNIPIA G4(商品名，均由KUNIMINE INDUSTRIES股份有限公司製造)；Tixogel VZ，Kraton HT、Kraton 40(商品名，均由Rockwood Additives公司製造)等。
上述氧化聚烯烴可自行製備，亦可使用市售品。作為上述市售品，例如可例舉：Disparlon 4200-20(商品名，楠本化成股份有限公司製造)、Flownon SA300(商品名，共榮社化學股份有限公司製造)等。
上述改性脲係異氰酸酯單體或其加成物與有機胺之反應物。上述改性脲可自行製備，亦可使用市售品。作為上述市售品，例如可例舉：BYK410(BYK-Chemie公司製造)等。
上述觸變賦予劑可單獨使用一種，亦可將兩種以上併用。
上述凸狀部距離上述防眩層之粗糙度平均線的高度較佳為未達防眩層之厚度之0.4倍。更佳為0.01倍以上且未達0.4倍之範圍，進而較佳為0.01倍以上且未達0.3倍之範圍。若為該範圍，則能夠較佳地防止上述凸狀部上形成成為外觀缺陷之突起物。藉由使上述防眩層具有此種高度之凸狀部，不易形成外觀缺陷。此處，距離上述平均線之高度例如可藉由日本專利特開2017-138620號公報中記載之方法測定。
作為上述防眩層中之上述觸變賦予劑之比率，相對於上述樹脂100重量份，較佳為0.1～5重量份之範圍，更佳為0.2～4重量份之範圍。
上述防眩層之厚度(d)並無特別限制，較佳為處於3～12 μm之範圍內。藉由將防眩層之厚度(d)設為上述範圍，例如能夠防止本發明之光學用黏著片材發生捲曲，能夠避免搬送性不良等生產性降低之問題。又，於上述厚度(d)處於上述範圍之情形時，上述粒子之重量平均粒徑(D)如上所述較佳為處於2.5～10 μm之範圍內。藉由使上述防眩層之厚度(d)與上述粒子之重量平均粒徑(D)為上述組合，能夠使防眩性更優異。上述防眩層之厚度(d)更佳為3～8 μm之範圍內。
上述防眩層之厚度(d)與上述粒子之重量平均粒徑(D)之關係較佳為處於0.3≦D/d≦0.9之範圍內。藉由處於此種關係，可獲得防眩性更優異、且能夠防止白斑、進而無外觀缺陷之防眩層。
本發明之光學用黏著片材中，如上所述，上述防眩層係藉由上述粒子及上述觸變賦予劑凝集而於上述防眩層之表面形成凸狀部。於形成上述凸狀部之凝集部中，上述粒子以複數個聚集之狀態存在於上述防眩層之面方向。藉此，上述凸狀部成為平緩之形狀。藉由使上述防眩層具有此種形狀之凸狀部，不僅維持防眩性，且能夠防止白斑，進而不易形成外觀缺陷。
上述防眩層之表面形狀可藉由控制防眩層形成材料所含之粒子之凝集狀態而任意設計。上述粒子之凝集狀態可藉由例如上述粒子之材質(例如粒子表面之化學修飾狀態、與溶劑或樹脂之親和性等)、樹脂(黏合劑)或溶劑之種類、組合等進行控制。此處，可藉由上述防眩層形成材料所含之觸變賦予劑來控制上述粒子之凝集狀態。其結果，可使上述粒子成為如上所述之凝集狀態，可使上述凸狀部成為平緩之形狀。
本發明之光學用黏著片材中，於由樹脂等形成本發明之基材之情形時，較佳為於本發明之基材與上述防眩層之界面處具有滲透層。上述滲透層係上述防眩層之形成材料所含之樹脂成分滲透至本發明之基材內而形成。若形成滲透層，則能夠提高本發明之基材與上述防眩層之密接性，從而較佳。上述滲透層之厚度較佳為0.2～3 μm之範圍，更佳為0.5～2 μm之範圍。例如於本發明之基材為聚酯系樹脂、上述防眩層所含之樹脂為丙烯酸樹脂之情形時，可形成上述滲透層。上述滲透層例如可藉由利用穿透式電子顯微鏡(TEM)觀察本發明之光學用黏著片材之剖面來確認，並可測定厚度。
在應用於具有此種滲透層之本發明之光學用黏著片材之情形時，亦能夠容易地形成兼備防眩性與防止白斑之所期望之平緩之表面凹凸形狀。越是缺乏與上述防眩層之密接性之基材，較佳為形成越厚之上述滲透層以提高密接性。
上述防眩層較佳為每1 m 2防眩層中之最大徑為200 μm以上之外觀缺陷為1個以下。更佳為無上述外觀缺陷。
上述防眩層表面之凹凸形狀中，平均傾角θa(°)較佳為1～5.0之範圍，更佳為0.3～4.5之範圍，進而較佳為1.0～4.0之範圍，尤佳為1.6～4.0。此處，上述平均傾角θa係根據下述數式(1)定義之值。上述平均傾角θa為例如藉由日本專利特開2017-138620中記載之方法測定之值。 平均傾角θa＝tan－1Δa      (1)
上述數式(1)中，如下述數式(2)所示，Δa係JIS B0601(1994年度版)所規定之粗糙度曲線之基準長度L中，用相鄰之波峰頂點與波谷最低點之差(高度h)之合計(h1＋h2＋h3・・・＋hn)除以上述基準長度L所得之值。上述粗糙度曲線係利用相位差補償型高通濾波器自剖面曲線中去除長於特定波長之表面起伏成分所得之曲線。又，上述所謂剖面曲線係指沿與對象面成直角之平面切割對象面時，其切口所呈現之輪廓。 Δa＝(h1＋h2＋h3・・・＋hn)/L        (2)
若θa處於上述範圍，則防眩性更優異、且能夠防止白斑。
形成上述防眩層時，較佳為製備之防眩層形成材料(塗敷液)顯示觸變性，下述規定之Ti值較佳為處於1.3～3.5之範圍，更佳為處於1.3～2.8之範圍。 Ti值＝β1/β2 此處，β1係使用HAAKE公司製造之RheoStress 6000於剪切速率20(1/s)之條件下測定之黏度，β2係使用HAAKE公司製造之RheoStress 6000於剪切速率200(1/s)之條件下測定之黏度。
若Ti值未達1.3，則易形成外觀缺陷，防眩性、白斑相關特性變差。又，若Ti值超過3.5，則上述粒子難以凝集，易成為分散狀態。
上述防眩層之製造方法並無特別限制，可藉由任意方法製造，例如可藉由準備包含上述樹脂、上述粒子、上述觸變賦予劑及溶劑之防眩層形成材料(塗敷液)，於本發明之基材之第2面塗敷上述防眩層形成材料(塗敷液)形成塗膜，使上述塗膜硬化形成防眩層而製造。亦可併用藉由模具轉印方式、或噴砂、壓紋輥等適宜方式賦予凹凸形狀之方法等。
上述溶劑並無特別限制，可使用各種溶劑，可單獨使用一種，亦可將兩種以上併用。對應於上述樹脂之組成、上述粒子及上述觸變賦予劑之種類、含量等，存在最佳之溶劑種類或溶劑比率。作為溶劑，並無特別限定，例如可例舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙醚、丙二醇單甲醚等醚類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。
例如於採用聚酯系樹脂作為本發明之基材，形成滲透層之情形時，可適宜使用相對於聚酯系樹脂之良溶劑。作為該溶劑，例如可例舉：乙酸乙酯、甲基乙基酮、環戊酮等。
藉由適當選擇上述溶劑，能夠使利用觸變賦予劑對防眩層形成材料(塗敷液)賦予之觸變性得到良好表現。例如於使用有機黏土之情形時，可較佳地單獨使用或併用甲苯及二甲苯，例如於使用氧化聚烯烴之情形時，可較佳地單獨使用或併用甲基乙基酮、乙酸乙酯、丙二醇單甲醚，例如於使用改性脲之情形時，可較佳地單獨使用或併用乙酸丁酯及甲基異丁基酮。
可於上述防眩層形成材料中添加各種調平劑。作為上述調平劑，為了防止塗敷不均(塗敷面之均勻化)，例如可使用氟系或聚矽氧系之調平劑。於上述防眩層之表面要求防污性之情形時，或於防眩層上形成抗反射層(低折射率層)或包含層間填充劑之層之情形等時，相應地選擇合適之調平劑。例如藉由包含上述觸變賦予劑而可使塗敷液表現出觸變性，故不易發生塗敷不均。因此，例如具有可擴大上述調平劑之選項之優點。
作為上述調平劑之調配量，相對於上述樹脂100重量份，例如5重量份以下，較佳為0.01～5重量份之範圍。
視需要亦可於無損性能之範圍內於上述防眩層形成材料中添加顏料、填充劑、分散劑、塑化劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、防污劑、抗氧化劑等。該等添加劑可單獨使用一種，亦可將兩種以上併用。
可於上述防眩層形成材料中使用例如日本專利特開2008-88309號公報中記載之先前公知之光聚合起始劑。
作為於本發明之基材之第2面上塗敷上述防眩層形成材料之方法，例如可採用噴流塗佈法、模嘴塗佈法、旋轉塗佈法、噴霧塗佈法、凹版塗佈法、輥式塗佈法、棒式塗佈法等塗敷法。
塗敷上述防眩層形成材料而於本發明之基材上形成塗膜，使上述塗膜硬化。較佳為於上述硬化前預先使上述塗膜乾燥。上述乾燥例如可為自然乾燥，亦可為送風風乾，亦可為加熱乾燥，亦可為該等之組合方法。
上述防眩層形成材料之塗膜之硬化方法並無特別限制，較佳為紫外線硬化。能量線源之照射量以紫外線波長365 nm下之累計曝光量計較佳為50～500 mJ/cm 2。若照射量為50 mJ/cm 2以上，則可使硬化更充分，所形成之防眩層之硬度亦更充分。又，若為500 mJ/cm 2以下，則能夠防止所形成之防眩層發生著色。
可藉由如上方式於本發明之基材之第2面形成上述防眩層。再者，亦可藉由上述方法以外之製造方法形成防眩層。關於上述防眩層之硬度，就鉛筆硬度而言亦受層厚之影響，較佳為具有2H以上之硬度。
上述防眩層可為積層有兩層以上之複數層構造。
可於上述防眩層之上配置上述AR層(低折射率層)。例如於圖像顯示裝置中安裝光學用黏著片材之情形時，作為引起圖像視認性降低的要因之一，可例舉空氣與防眩層界面處之光之反射。AR層可減輕該表面反射。再者，上述防眩層及抗反射層分別可為積層有兩層以上之複數層構造。
又，為了防止污染物附著及提高所附著之污染物之易去除性，較佳為於上述抗反射層及/或防眩層上積層由含氟基之矽烷系化合物或含氟基之有機化合物等形成之防污染層。
較佳為對本發明之基材及上述防眩層之至少一者進行表面處理。若對本發明之基材之表面進行表面處理，則與上述防眩層之密接性進一步提高。又，若對上述防眩層之表面進行表面處理，則與上述AR層之密接性進一步提高。
為了防止本發明之基材發生彎曲，可對上述防眩層之另一面進行溶劑處理。又，為了防止發生彎曲，亦可於上述防眩層之另一面形成透明樹脂層。
本發明之基材之第2面可實施抗靜電處理。本發明之基材之第2面經過抗靜電處理之構成就抑制本發明之第一態樣及第二態樣之光學用黏著片材帶靜電，而在將光學用黏著片材用於圖像顯示裝置之情形時，能夠抑制因靜電引起之顯示不良之方面而言較佳。
作為上述硬塗(HC)處理，可無特別限制地採用公知之HC處理，例如可藉由在本發明之基材之第2面上形成硬塗層而實施。作為上述硬塗層，可無限制地採用公知者，例如可使用在上述防眩層形成材料中不含粒子及觸變賦予劑而僅含樹脂之硬塗層形成材料，除此以外，藉由與上述防眩層相同之方式形成不具有防眩性之硬塗層。
作為上述抗靜電處理，可無特別限定地採用公知之抗靜電處理，例如可藉由在本發明之基材之第2面上形成抗靜電層而實施。
作為抗靜電層，只要為能夠發揮抗靜電效果之層，可於無損本發明之效果之範圍內採用任意適宜之抗靜電層。作為此種抗靜電層，較佳為於任意適宜之基材層上塗佈包含導電性聚合物之導電塗液而形成之抗靜電層。具體而言，例如於基材上塗佈包含導電性聚合物之導電塗液而形成之抗靜電層。作為具體之塗佈方法，可例舉：輥式塗佈法、棒式塗佈法、凹版塗佈法等。
作為導電性聚合物，可於無損本發明之效果之範圍內採用任意適宜之導電性聚合物。作為此種導電性聚合物，例如可例舉於π共軛系導電性聚合物中摻雜有聚陰離子之導電性聚合物等。作為π共軛系導電性聚合物，可例舉：聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚乙炔等鏈狀導電性聚合物。作為聚陰離子，可例舉：聚苯乙烯磺酸根、聚異戊二烯磺酸根、聚乙烯基磺酸根、聚烯丙基磺酸根、聚丙烯酸乙基磺酸根、聚甲基丙烯醯基羧酸根等。
抗靜電層之表面電阻率於溫度23℃、濕度50%RH下，較佳為1.0×10 4Ω/□～1.0×10 9Ω/□，更佳為1.0×10 4Ω/□～5.0×10 8Ω/□，進而較佳為5.0×10 4Ω/□～1.0×10 8Ω/□，尤佳為1.0×10 5Ω/□～5.0×10 7Ω/□。若抗靜電層之表面電阻率處於上述範圍內，則更易發揮本發明之效果。
作為抗靜電層之厚度，可於無損本發明之效果之範圍內根據目的而採用任意適宜之厚度。作為此種厚度，較佳為1 nm～1000 nm，更佳為5 nm～900 nm，進而較佳為7.5 nm～800 nm，尤佳為10 nm～700 nm。抗靜電層可僅為1層，亦可為2層以上。
可於本發明之基材之第2面單獨設置上述抗靜電層，亦可於抗靜電層之上進而設置防眩層及/或AR層。或可將抗靜電層作為面塗層設置於防眩層及/或AR層之上。
[2.黏著劑組合物及黏著劑層] 本發明之黏著劑層為由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層。 本發明之黏著劑組合物為如下黏著劑組合物：含有抗靜電劑、及丙烯酸系聚合物(A)、構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物，上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。
本發明之黏著劑組合物可具有任意之形態，例如可例舉：乳液型、熱熔型(hot melt型)、無溶劑型(活性能量線硬化型，例如單體混合物、或單體混合物與其部分聚合物等)等。本發明之黏著劑組合物尤佳為非溶劑型。其原因在於，於由溶劑型之黏著劑組合物獲得黏著劑層之情形時，易產生橘皮等外觀缺陷。再者，所謂「橘皮」係指產生如一種柑橘類「柚子」之皮一樣的凹凸之現象。又，就獲得外觀性優異之黏著劑層之方面而言，本發明之黏著劑組合物較佳為活性能量線硬化型。本說明書中，黏著劑組合物意指用於形成黏著劑層之組合物，包括用於形成黏著劑之組合物之含義。
作為上述有機溶劑，只要為用作溶劑之有機化合物，則無特別限定，例如可例舉：環己烷、己烷、庚烷等烴系溶劑；甲苯、二甲苯等芳香族系溶劑；乙酸乙酯、乙酸甲酯等酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮等酮系溶劑；甲醇、乙醇、丁醇、異丙醇等醇系溶劑等。再者，上述有機溶劑亦可為包含2種以上之有機溶劑之混合溶劑。
本發明之黏著劑組合物中，所謂「實質上不含」有機溶劑，意指除不可避免地混入有機溶劑之情況以外，不有意地調配有機溶劑。具體而言，黏著劑組合物中之有機溶劑之含量相對於黏著劑組合物之總量(總重量，100重量%)為1.0重量%以下(較佳為0.5重量%以下、進而較佳為0.2重量%以下)者可謂實質上不含。
本發明之黏著劑組合物所含有之基礎聚合物為丙烯酸系聚合物(A)。即，本發明之黏著劑組合物為含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物。丙烯酸系聚合物具有透明性、耐候性、接著可靠性且單體之種類豐富，因此就易進行黏著劑層之功能設計等方面而言較佳。即，本發明之黏著劑組合物較佳為下述含有丙烯酸系聚合物(A)作為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物。再者，丙烯酸系聚合物(A)可單獨使用或將2種以上組合使用。
本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)中之上述丙烯酸系聚合物(A)之含量並無特別限定，較佳為75重量%以上(例如75～99.9重量%)，更佳為85重量%以上(例如85～99.9重量%)。
本發明之黏著劑組合物較佳為不含或實質上不含含酸性基單體(例如含羧基單體、含磺基單體、含磷酸基單體等)。該構成就可獲得優異之金屬配線之抗腐蝕效果之方面而言較佳。再者，含酸性基單體之含量相對於本發明之黏著劑組合物總量較佳為0.05重量%以下(例如0～0.05重量%)、更佳為0.01重量%以下(例如0～0.01重量%)、進而較佳為0.001重量%以下(例如0～0.001重量%)者可謂實質上不含。
本發明之黏著劑組合物較佳為不含或實質上不含含羧基單體等含酸性基單體作為構成所含有之作為基礎聚合物之丙烯酸系聚合物的單體成分。本發明之黏著劑組合物更佳為不含或實質上不含含羧基單體作為構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分。因此，本發明之黏著劑組合物可獲得優異之抗腐蝕效果。關於含羧基單體之含義、「實質上不含」之含義、含有羧基以外之酸性基之單體等，設為與構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之情形相同。又，含羧基單體之含量相對於本發明之黏著劑組合物總量較佳為0.05重量%以下(例如0～0.05重量%)、更佳為0.01重量%以下(例如0～0.01重量%)、進而較佳為0.001重量%以下(例如0～0.001重量%)者可謂實質上不含。
本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)具有優異之抗靜電性能。因此，經由本發明之黏著劑層貼合圖像顯示裝置與光學構件時，能夠抑制因靜電引起之顯示不良。如此，本發明之黏著劑層適用於製造圖像顯示裝置。
(表面電阻率) 本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)之表面電阻率(依據JIS K6271)就優異之抗靜電性能之觀點而言，較佳為1.0×10 10Ω/□以下，更佳為0.5×10 10Ω/□以下，進而較佳為1.0×10 9Ω/□以下、0.5×10 9Ω/□以下、或1.0×10 8Ω/□以下。本發明之黏著劑層之表面電阻率之下限值並無特別限定，可為1.0×10 5Ω/□以上、或0.5×10 5Ω/□以上。
本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)即便於濕熱環境，亦能夠抑制防導電劑之滲出而維持外觀上之透明性，並且能夠穩定地賦予優異之抗靜電性能。因此，經由本發明之黏著劑層貼合圖像顯示裝置與光學構件後，即便於濕熱環境下，亦能夠維持透明性、並抑制因靜電引起之顯示不良。如此，本發明之黏著劑層適用於製造圖像顯示裝置。
就即便於濕熱環境下亦能夠抑制防導電劑之滲出而維持外觀上之透明性、並且藉由確保濕熱試驗前後之電阻值之穩定性而能夠穩定地賦予優異之抗靜電性能的觀點而言，將本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)投入至60℃、95%RH環境下240小時後取出，其後於23℃、50%RH環境下經過24小時調溫・調濕後，於23℃、50%RH氛圍下之濕熱試驗後之黏著劑層表面之表面電阻率較佳為5.0×10 10Ω/□以下，更佳為3.0×10 10Ω/□以下，進而較佳為1.0×10 10Ω/□以下、0.5×10 10Ω/□以下、1.0×10 9Ω/□以下、0.5×10 9Ω/□以下、或1.0×10 8Ω/□以下。本發明之黏著劑層之上述加濕試驗後之表面電阻率之下限值並無特別限定，可為1.0×10 5Ω/□以上、或0.5×10 5Ω/□以上。
就即便於濕熱環境下亦能夠抑制防導電劑之滲出而維持外觀上之透明性、並且藉由確保濕熱試驗前後之電阻值之穩定性而能夠穩定地賦予優異之抗靜電性能的觀點而言，上述濕熱試驗前後之黏著劑層表面之表面電阻率之比率(濕熱試驗後之表面電阻值/濕熱試驗前之表面電阻值)較佳為90以下，更佳為50以下，進而較佳為30以下、20以下、或10以下。
本發明之黏著劑層之表面電阻率、加濕試驗後之表面電阻率可藉由下述實施例中記載之方法測定。本發明之黏著劑層之表面電阻率、加濕試驗後之表面電阻率可藉由調整構成丙烯酸系聚合物(A)之單體組成、交聯劑之量、本發明之離子性化合物、其他添加劑之種類或量、硬化條件等來進行調整。
(霧度、全光線透過率) 本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)為透明、或具有透明性。因此，隔著本發明之黏著劑層之視認性或外觀性優異。如此，本發明之黏著劑層適用於光學用。
本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)之霧度(依據JIS K7136)並無特別限定，較佳為1.0%以下，亦可更佳為0.8%以下、0.7%以下、或0.6%以下。若霧度為1.0%以下，則可獲得優異之透明性或優異之外觀，從而較佳。再者，關於上述霧度，例如可製作黏著劑層(厚度：100 μm)，將其於常態(23℃、50%RH)下靜置至少24小時後，與載玻片(例如全光線透過率92%、霧度0.2%者)貼合而作為試樣，使用霧度計(村上色彩技術研究所股份有限公司製造，商品名「HM-150N」)進行測定。
本發明之黏著劑層之可見光波長區域中之全光線透過率(依據JIS K7361-1)並無特別限定，較佳為90%以上，亦可更佳為91%以上、或92%以上。若全光線透過率為90%以上，則可獲得優異之透明性或優異之外觀，從而較佳。再者，關於上述全光線透過率，例如可製作黏著劑層(厚度：100 μm)，將其於常態(23℃、50%RH)下靜置至少24小時後，於具有隔片之情形時將其剝離，與載玻片(例如全光線透過率92%、霧度0.2%者)貼合而作為試樣，使用霧度計(村上色彩技術研究所股份有限公司製造，商品名「HM-150N」)進行測定。
本發明之黏著劑層之全光線透過率及霧度可藉由下述實施例中記載之方法測定。本發明之黏著劑層之全光線透過率及霧度可藉由調整構成丙烯酸系聚合物(A)之單體組成、交聯劑之量、本發明之離子性化合物、其他添加劑之種類或量、硬化條件等來進行調整。
(凝膠分率) 本發明之黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)之凝膠分率(溶劑不溶成分之比率)並無特別限定，較佳為40～95%，更佳為50～92%，進而較佳為55～90%。若凝膠分率為40%以上，則上述黏著劑層之凝集力提高，高溫環境下與被接著體之界面處之發泡或剝離、操作中之凹痕或加工時之端部之污染可得到抑制，易獲得優異之耐發泡剝離性，從而較佳。再者，若凝膠分率為95%以下，則可獲得適度之柔軟性，接著性、階差追隨性進一步提高，從而較佳。
上述凝膠分率(溶劑不溶成分之比率)具體而言為藉由例如以下之「凝膠分率之測定方法」算出之值。
自黏著片材採集約0.1 g黏著劑層，用平均孔徑0.2 μm之多孔質四氟乙烯片材(商品名「NTF1122」，日東電工股份有限公司製造)包裹後，用風箏線捆紮，測定此時之重量，將該重量設為浸漬前重量。再者，該浸漬前重量為黏著劑層(上述採集之黏著劑層)與四氟乙烯片材及風箏線之總重量。又，亦預先測定四氟乙烯片材與風箏線之合計重量，將該重量設為包袋重量。 其次，將包裹於四氟乙烯片材內併用風箏線捆紮之黏著劑層(稱為「樣品」)放入至裝滿乙酸乙酯之50 ml容器中，於23℃下靜置7天。其後，自容器取出樣品(乙酸乙酯處理後)，移入鋁製杯，於乾燥機中130℃下乾燥2小時去除乙酸乙酯後，測定重量，將該重量設為浸漬後重量。 進而，根據下述式算出凝膠分率。 凝膠分率[%(重量%)]＝(X－Y)/(Z－Y)×100
再者，上述凝膠分率可藉由例如丙烯酸系聚合物(A)之單體組成、重量平均分子量、交聯劑之使用量(添加量)等進行控制。
(儲存模數) 上述黏著劑層(尤其是由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)於25℃、1 Hz下之儲存模數並無特別限定，較佳為3×10 4Pa以上。本發明之黏著劑層於25℃、1 Hz下之儲存模數為3×10 4Pa以上之構成就操作中不易產生凹痕之方面而言較佳。就能夠抑制本發明之黏著劑層之凹痕之方面而言，本發明之黏著劑層於25℃、1 Hz下之儲存模數更佳為5×10 4Pa以上，亦可為1×10 5Pa以上。本發明之黏著劑層於25℃、1 Hz下之儲存模數之上限值並無特別限定，就本發明之黏著劑層之階差追隨性之觀點而言，較佳為5×10 6Pa以下，亦可為1×10 6Pa以下。
本發明之光學用黏著片材之上述25℃、1 Hz下之儲存模數可藉由動態黏彈性測定來測定，具體而言，可藉由下述實施例中記載之方法測定。本發明之光學用黏著片材之上述25℃、1 Hz下之儲存模數可藉由調整構成丙烯酸系聚合物(A)之單體組成、交聯劑之量、本發明之離子性化合物、其他添加劑之種類或量、硬化條件等來進行調整。
(厚度) 上述黏著劑層(尤其是由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)並無特別限定，較佳為5～250 μm，亦可更佳為7～240 μm、10～230 μm、12～220 μm、15～210 μm、20～200 μm、23～175 μm、或25～150 μm。若厚度為一定以上，則階差追隨性或接著可靠性提高，從而較佳。又，若厚度為一定以下，則操作性或製造性特別優異，從而較佳。
作為本發明之黏著劑層之製作方法，並無特別限定。例如可藉由製作本發明之黏著劑組合物(前體組合物)，視需要進行活性能量線之照射、加熱乾燥等而製作。具體而言，可例舉：藉由在單體成分之混合物或其部分聚合物中添加本發明之抗靜電劑(分子內含有能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物)、及視需要之添加劑等，進行混合而製作等。
[2-1.本發明之離子性化合物] 本發明之黏著劑組合物至少含有作為抗靜電劑之本發明之離子性化合物(分子內含有能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物)作為必須成分。本發明之所謂離子性化合物係指於構成離子性化合物之陽離子部及/或陰離子部(任一部位或兩部位)具有能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基(以下，於本說明書中有時稱為「官能基(A)」)之離子性化合物。又，本發明之離子性化合物較佳為於0～150℃之範圍內之任一溫度下均為液體(液狀)、不揮發性之熔融鹽、且具有透明性者(離子液體)。再者，本發明之離子性化合物可單獨使用或將2種以上組合使用。
本發明之黏著劑組合物藉由含有本發明之離子性化合物，丙烯酸系聚合物(A)與本發明之離子性化合物所含有之官能基(A)反應形成共價鍵而將離子性化合物組入至丙烯酸系聚合物(A)之分子中，因此，即便大量調配本發明之離子性化合物，亦無損於本發明之黏著劑層中之相溶性，從而易維持透明性。又，即便於濕熱環境之類的嚴酷條件，亦能夠抑制抗靜電成分之滲出，因此，抑制於黏著劑層之表面產生之析出、發泡、剝離，不易出現外觀或接著可靠性等耐久性之不良。因此，由含有本發明之離子性化合物之本發明之黏著劑組合物形成的黏著劑層能夠滿足優異之抗靜電性、透明性、耐濕熱性及低污染性，從而有用。
作為本發明之離子性化合物之陽離子部，可無特別限制地使用，但可例舉：四級銨陽離子、咪唑鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四級鏻陽離子、三烷基鋶陽離子、吡咯陽離子、吡唑鎓陽離子、胍鎓(guanidinium)陽離子等，其中，更佳為使用四級銨陽離子、咪唑鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四級鏻陽離子、三烷基鋶陽離子。
又，構成本發明之離子性化合物之陰離子部中，作為上述陰離子，可例舉：SCN -、BF 4 -、PF 6 -、NO 3 -、CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、(FSO 2) 2N -、(CF 3SO 2) 2N -、(CF 3SO 2) 3C -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、F(HF) n -、(CN) 2N -、C 4F 9SO 3 -、(C 2F 5SO 2) 2N -、C 3F 7COO -、(CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、B(CN) 4 -、C(CN) 3 -、N(CN) 2 -、CH 3OSO 3 -、C 2H 5OSO 3 -、C 4H 9OSO 3 -、C 6H 13OSO 3 -、C 8H 17OSO 3 -、對甲苯磺酸根陰離子、2-(2-甲氧基乙基)乙基硫酸根陰離子、(C 2F 5) 3PF 3 -等，尤其是包含氟原子之陰離子成分(含氟系陰離子)就可獲得低熔點之離子性化合物、抗靜電性優異之方面而言較佳。再者，氯離子、溴離子等由於具有腐蝕性，故較佳為不作為陰離子使用。
作為本發明之離子性化合物所含有之官能基(A)(能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基)，例如可例舉：(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、羥基、胺基、巰基、環氧基等。其中，較佳為(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、羥基，尤佳為能夠與丙烯酸系聚合物(A)共聚合之(甲基)丙烯醯氧基。再者，本說明書中，所謂「(甲基)丙烯醯基」，表示「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」中之任一者或兩者，其他亦同理。又，胺基包括-NH 2及-NHR(R為碳數1～6之烷基)。
本發明之離子性化合物所含有之官能基(A)之個數並無特別限定，較佳為1～4個，更佳為1～3個，進而較佳為1或2個，尤佳為1個。於官能基(A)之個數為2個以上之情形時，2個以上之官能基(A)可相同亦可不同。再者，於官能基(A)之個數為2個以上之情形時，本發明之離子性化合物亦可發揮作為使2個以上之丙烯酸系聚合物(A)交聯之交聯劑之功能。
作為本發明之離子性化合物，可無特別限制地使用，較佳為下述通式(A)所表示之離子性化合物。 [化1]
Figure 02_image001
上述式(A)中，X +為陽離子部。Y -為陰離子。Z 1及Z 2相同或不同，為單鍵、或碳數1～16之伸烷基。A 1及A 2相同或不同，為能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基。n 1為0或1、n 2為0或1，但n 1＋n 2為1或2。
作為構成通式(A)所表示之離子性化合物之陽離子部(X +)，可例舉：四級銨基、咪唑鎓基、吡啶鎓基、哌啶鎓基、吡咯啶鎓基、吡咯基、四級鏻基、三烷基鋶基、吡唑鎓基、胍鎓基等。該等之中，尤其是為四級銨基時，成為透明性優異、適宜用於電子・光學用途之形態。又，四級銨基於紫外線(UV)硬化時，通常不易對自由基聚合反應造成抑制，推測硬化性較高，從而較佳。
作為上述四級銨基，於n 1＋n 2為1之情形時，可例舉：三甲基銨基、三乙基銨基、三丙基銨基、甲基二乙基銨基、乙基二甲基銨基、甲基二丙基銨基、二甲基苄基銨基、二乙基苄基銨基、甲基二苄基銨基、乙基二苄基銨基、二甲基十八烷基銨基、二甲基油基銨基等，其中，尤其是三甲基銨基、二甲基苄基銨基就易獲得價格低廉之工業材料之方面而言為較佳形態。
作為上述四級銨基，於n 1＋n 2為2之情形時，可例舉：二甲基銨基、二乙基銨基、二丙基銨基、甲基乙基銨基、甲基丙基銨基、甲基苄基銨基、乙基苄基銨基、甲基十八烷基銨基、乙基十八烷基銨基、甲基油基銨、乙基油基銨基等，其中，尤其是二甲基銨基、甲基油基銨基就易獲得價格低廉之工業材料之方面而言為較佳形態。
構成上述通式(A)所表示之離子性化合物之陰離子(部位)(Y -)中，作為上述陰離子，可例舉：SCN -、BF 4 -、PF 6 -、NO 3 -、CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、(FSO 2) 2N -、(CF 3SO 2) 2N -、(CF 3SO 2) 3C -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、F(HF) n -、(CN) 2N -、C 4F 9SO 3 -、(C 2F 5SO 2) 2N -、C 3F 7COO -、(CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、B(CN) 4 -、C(CN) 3 -、N(CN) 2 -、CH 3OSO 3 -、C 2H 5OSO 3 -、C 4H 9OSO 3 -、C 6H 13OSO 3 -、C 8H 17OSO 3 -、對甲苯磺酸根陰離子、2-(2-甲氧基乙基)乙基硫酸根陰離子、(C 2F 5) 3PF 3 -等，尤其是包含氟原子之陰離子成分(含氟系陰離子)就可獲得低熔點之離子性化合物、抗靜電性優異之方面而言較佳。再者，氯離子、溴離子等由於具有腐蝕性，故較佳為不作為陰離子使用。
構成上述通式(A)所表示之離子性化合物之Z 1及Z 2為單鍵、或碳數1～16之伸烷基。作為碳數1～16之伸烷基，較佳為碳數1～12之伸烷基，進而較佳為碳數1～6之伸烷基，尤佳為碳數1～3之伸烷基。具體而言，可例舉：亞甲基、伸乙基、三亞甲基、甲基伸乙基等，較佳為伸乙基、三亞甲基。於n 1＋n 2為2之情形時，Z 1及Z 2可相同亦可不同。
構成上述通式(A)所表示之離子性化合物之A 1及A 2為能夠與丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基，具體而言，可例舉：(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、羥基、胺基、巰基、環氧基等。其中，較佳為(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、羥基，尤佳為能夠與丙烯酸系聚合物(A)共聚合之(甲基)丙烯醯氧基。於n 1＋n 2為2之情形時，A 1及A 2可相同亦可不同。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為四級銨基，n 1為1，n 2為0，A 1為乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基或(甲基)丙烯醯胺基之形態之具體例，可例舉：N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨四氟硼酸鹽、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨三氟乙酸鹽、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨七氟丁酸鹽、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨三氟甲磺酸鹽、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨全氟丁磺酸鹽、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨三(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨六氟磷酸鹽、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨二氰基醯胺、N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨硫氰酸鹽等含有N,N,N-三烷基-N-乙烯基銨陽離子之離子性化合物；N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨四氟硼酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨三氟乙酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨七氟丁酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨三氟甲磺酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨全氟丁磺酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨三(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨六氟磷酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨二氰基醯胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨硫氰酸鹽等含有N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯氧基烷基銨陽離子之離子性化合物；N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨四氟硼酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨三氟乙酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨七氟丁酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨三氟甲磺酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨全氟丁磺酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨三(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨六氟磷酸鹽、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨二氰基醯胺、N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨硫氰酸鹽等含有N,N,N-三烷基-N-(甲基)丙烯醯胺基烷基銨陽離子之離子性化合物。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為四級銨基，n 1為1，n 2為0，A 1為(甲基)丙烯醯氧基之形態之較佳具體例，可例舉：(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯氧基丙基二甲基苄基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯氧基乙基二甲基苄基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯氧基乙基二甲基苄基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺酸(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲基銨、三氟甲磺酸(甲基)丙烯醯氧基乙基二甲基苄基銨等。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為四級銨基，n 1為1，n 2為0，A 1為(甲基)丙烯醯胺基之形態之較佳具體例，可例舉：(甲基)丙烯醯胺基丙基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯胺基丙基二甲基苄基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯胺基丙基三甲基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺、(甲基)丙烯醯胺基丙基二甲基苄基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺酸(甲基)丙烯醯胺基丙基三甲基銨、三氟甲磺酸(甲基)丙烯醯胺基丙基二甲基苄基銨等。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為咪唑鎓基，n 1為1，n 2為0或1，A 1及A 2為乙烯基之形態之具體例，可例舉：1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓二氰基醯胺、1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-3-乙烯基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；1,2-二烷基-3-乙烯基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1,2-二烷基-3-乙烯基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,2-二烷基-3-乙烯基咪唑鎓二氰基醯胺、1,2-二烷基-3-乙烯基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1,2-二烷基-3-乙烯基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；2-烷基-1,3-二乙烯基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1,3-二乙烯基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1,3-二乙烯基咪唑鎓二氰基醯胺、2-烷基-1,3-二乙烯基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有2-烷基-1,3-二乙烯基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；1-乙烯基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-乙烯基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙烯基咪唑鎓二氰基醯胺、1-乙烯基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1-乙烯基咪唑鎓陽離子之離子性化合物等。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為咪唑鎓基，n 1為1，n 2為0或1，A 1及A 2為(甲基)丙烯醯氧基之形態之具體例，可例舉：1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯氧基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；1-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、1-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1-(甲基)丙烯醯氧基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物等。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為咪唑鎓基，n 1為1，n 2為0或1，A 1及A 2為(甲基)丙烯醯胺基之形態之具體例，可例舉：1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1,2-二烷基-3-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯胺基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有2-烷基-1,3-二(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物；1-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓二氰基醯胺、1-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓硫氰酸鹽等含有1-(甲基)丙烯醯胺基烷基咪唑鎓陽離子之離子性化合物等。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為吡啶鎓基，n 1為1，n 2為0，A 1為乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基或(甲基)丙烯醯胺基之形態之具體例，可例舉：1-乙烯基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-乙烯基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙烯基吡啶鎓二氰基醯胺、1-乙烯基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有1-乙烯基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；2-烷基-1-乙烯基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1-乙烯基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1-乙烯基吡啶鎓二氰基醯胺、2-烷基-1-乙烯基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有2-烷基-1-乙烯基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；2-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、2-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有2-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；2-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、2-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、2-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有2-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；3-烷基-1-乙烯基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、3-烷基-1-乙烯基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、3-烷基-1-乙烯基吡啶鎓二氰基醯胺、3-烷基-1-乙烯基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有3-烷基-1-乙烯基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；3-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、3-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、3-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、3-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含3-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；3-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、3-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、3-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、3-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有3-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；4-烷基-1-乙烯基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、4-烷基-1-乙烯基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、4-烷基-1-乙烯基吡啶鎓二氰基醯胺、4-烷基-1-乙烯基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有4-烷基-1-乙烯基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；4-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、4-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、4-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、4-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有4-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物；4-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、4-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、4-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓二氰基醯胺、4-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓硫氰酸鹽等含有4-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡啶鎓陽離子之離子性化合物等。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為哌啶鎓基，n 1為1，n 2為0，A 1為乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基或(甲基)丙烯醯胺基之形態之具體例，可例舉：1-烷基-1-乙烯基烷基哌啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-乙烯基烷基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-乙烯基烷基哌啶鎓二氰基醯胺、1-烷基-1-乙烯基烷基哌啶鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-1-乙烯基烷基哌啶鎓陽離子之離子性化合物；1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基哌啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基哌啶鎓二氰基醯胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基哌啶鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基哌啶鎓陽離子之離子性化合物；1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基哌啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基哌啶鎓二氰基醯胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基哌啶鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基哌啶鎓陽離子之離子性化合物等。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為吡咯啶鎓基，n 1為1，n 2為0，A 1為乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基或(甲基)丙烯醯胺基之形態之具體例，可例舉：1-烷基-1-乙烯基烷基吡咯啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-乙烯基烷基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-乙烯基烷基吡咯啶鎓二氰基醯胺、1-烷基-1-乙烯基烷基吡咯啶鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-1-乙烯基烷基吡咯啶鎓陽離子之離子性化合物；1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡咯啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡咯啶鎓二氰基醯胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡咯啶鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-1-(甲基)丙烯醯氧基烷基吡咯啶鎓陽離子之離子性化合物；1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡咯啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡咯啶鎓二氰基醯胺、1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡咯啶鎓硫氰酸鹽等含有1-烷基-1-(甲基)丙烯醯胺基烷基吡咯啶鎓陽離子之離子性化合物等。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為三烷基鋶基，n 1為1，n 2為0，A 1為乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基或(甲基)丙烯醯胺基之形態之具體例，可例舉：二烷基(乙烯基)鋶雙(氟磺醯基)醯亞胺、二烷基(乙烯基)鋶雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烷基(乙烯基)鋶二氰基醯胺、二烷基(乙烯基)鋶硫氰酸鹽等含有二烷基(乙烯基)鋶陽離子之離子性化合物；二烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鋶雙(氟磺醯基)醯亞胺、二烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鋶雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鋶二氰基醯胺、二烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鋶硫氰酸鹽等含有二烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鋶陽離子之離子性化合物；二烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鋶雙(氟磺醯基)醯亞胺、二烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鋶雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鋶二氰基醯胺、二烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鋶硫氰酸鹽等含有二烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鋶陽離子之離子性化合物等。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為四級鏻基，n 1為1，n 2為0，A 1為乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基或(甲基)丙烯醯胺基之形態之具體例，可例舉：三烷基(乙烯基)鏻雙(氟磺醯基)醯亞胺、三烷基(乙烯基)鏻雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三烷基(乙烯基)鏻二氰基醯胺、三烷基(乙烯基)鏻硫氰酸鹽等含有三烷基(乙烯基)鏻陽離子之離子性化合物；三烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鏻雙(氟磺醯基)醯亞胺、三烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鏻雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鏻二氰基醯胺、三烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鏻硫氰酸鹽等含有三烷基((甲基)丙烯醯氧基烷基)鏻陽離子之離子性化合物；三烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鏻雙(氟磺醯基)醯亞胺、三烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鏻雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鏻二氰基醯胺、三烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鏻硫氰酸鹽等含有三烷基((甲基)丙烯醯胺基烷基)鏻陽離子之離子性化合物等。再者，作為上述烷基取代基，較佳為碳數1～16之烷基，尤佳為碳數1～12，更佳為碳數1～6。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為四級銨基，n 1為1，n 2為1，A 1及A 2為羥基之形態之具體例，可例舉：雙(2-羥基乙基)-甲基-辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、雙(2-羥基乙基)-甲基-癸基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、雙(2-羥基乙基)-甲基-十二烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、雙(2-羥基乙基)-甲基-十四烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、雙(2-羥基乙基)-甲基-十六烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、雙(2-羥基乙基)-甲基-十八烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、雙(2-羥基乙基)-甲基-(9-烯-十八烷基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基-雙(2-羥基乙基)-辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基-雙(2-羥基乙基)-癸基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基-雙(2-羥基乙基)-十二烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基-雙(2-羥基乙基)-十四烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基-雙(2-羥基乙基)-十六烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基-雙(2-羥基乙基)-十八烷基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、油基雙(2-羥基乙基)甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、油基-乙基-雙(2-羥基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為吡啶鎓基，n 1為1，n 2為0，A 1為羥基之形態之具體例，可例舉：N-羥基乙基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為咪唑鎓基，n 1為1，n 2為0，A 1為羥基之形態之具體例，可例舉：1-(2-羥基乙基)-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
上述通式(A)所表示之離子性化合物之中，作為X +為咪唑鎓基或四級銨基，n 1為1，n 2為0，A 1及A 2為胺基之形態之具體例，可例舉：1-胺基丙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-胺基丙基-3-甲基咪唑鎓二氰基醯胺、1-胺基丙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-胺基己基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-胺基己基-3-甲基咪唑鎓二氰基醯胺、1-胺基己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、三甲基胺基己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基胺基己基銨二氰基醯胺、三甲基胺基己基銨四氟硼酸鹽等。
本發明之離子性化合物之含量並無特別限定，就能夠對本發明之黏著劑層賦予充分之抗靜電性能之方面而言，相對於丙烯酸系聚合物(A)100重量份，可含有較佳為0.01重量份以上，更佳為0.05重量份以上，進而較佳為0.1重量份以上、0.5重量份以上或0.5重量份以上、1.0重量份以上、2.0重量份以上、3.0重量份以上、4.0重量份以上、或5.0重量份以上。本發明之離子性化合物之含量並無特別限定，就易確保本發明之黏著劑層之透明性、外觀、接著可靠性等耐久性之方面而言，相對於丙烯酸系聚合物(A)100重量份，可含有較佳為50重量份以下，更佳為40重量份以下，進而較佳為30重量份以下、25重量份以下、20重量份以下、或15重量份以下。
[2-2.丙烯酸系聚合物(A)] 上述黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)為以丙烯酸系聚合物(A)作為主成分之丙烯酸系黏著劑層。丙烯酸系聚合物(A)之具體含量並無特別限定，相對於本發明之黏著劑層總量(總重量，100重量%)，較佳為75重量%以上(例如75～99.9重量%)，更佳為85重量%以上(例如85～99.9重量%)。
作為形成含有丙烯酸系聚合物(A)作為主成分之黏著劑層的黏著劑組合物，並無特別限定，例如可例舉：以丙烯酸系聚合物(A)作為必須成分之組合物；以構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物(有時稱為「單體混合物」)或其部分聚合物作為必須成分之組合物等。作為前者，例如可例舉所謂水分散型組合物(乳液型組合物)等；作為後者，例如可例舉所謂活性能量線硬化型組合物等；並無特別限定。再者，上述黏著劑組合物視需要亦可含有其他添加劑。
上述所謂「單體混合物」，包括由單一單體成分構成之情況、及由2種以上之單體成分構成之情況。又，上述所謂「部分聚合物」，意指上述單體混合物之構成成分中之1種或2種以上之成分發生部分聚合之組合物。其中，上述黏著劑組合物較佳為以單體混合物或其部分聚合物作為必須成分之組合物。
丙烯酸系聚合物(A)係包含丙烯酸系單體作為必須之單體單元(單體結構單元)之聚合物。換言之，丙烯酸系聚合物(A)為包含源自丙烯酸系單體之結構單元作為結構單元之聚合物。即，丙烯酸系聚合物(A)為以丙烯酸系單體作為必須之單體成分所構成(形成)之聚合物。再者，本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」，表示「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」中之任一者或兩者，其他亦同理。丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量並無特別限定，較佳為100000～5000000。
丙烯酸系聚合物(A)較佳為含有包含直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯(以下有時簡稱為「(甲基)丙烯酸烷基酯」)作為必須之單體單元之聚合物。
作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯((甲基)丙烯酸正丁酯)、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等烷基之碳數為1～20之(甲基)丙烯酸烷基酯等。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或將2種以上組合使用。
其中，就獲得強接著性之方面、調整殘存應力之方面而言，上述(甲基)丙烯酸烷基酯較佳為烷基之碳數為1～18之(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為甲基丙烯酸甲酯(MMA)、丙烯酸丁酯(BA)、丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)。
丙烯酸系聚合物(A)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量)中之上述(甲基)丙烯酸烷基酯之含量(比率)並無特別限定，就接著性可靠性、尤其是低溫下之接著可靠性之方面而言，相對於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量(100重量份)，較佳為30～95重量份，更佳為35～90重量份，進而較佳為40～85重量份。
丙烯酸系聚合物(A)亦可包含上述(甲基)丙烯酸烷基酯以外之能夠共聚合之單體(共聚性單體)作為單體單元。即，丙烯酸系聚合物(A)亦可包含共聚性單體作為構成之單體成分。再者，共聚性單體可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為上述共聚性單體，可較佳地列舉含羥基單體。若丙烯酸系聚合物(A)包含含羥基單體作為單體單元，則於使構成之單體成分聚合時易聚合，又，易獲得良好之凝集力。因此，易獲得強接著性，又，增大凝膠分率，易獲得優異之耐發泡剝離性。進而，易抑制有時於高濕環境下產生之黏著片材之白化。進而，羥基亦可成為與上述本發明之離子性化合物所含有之官能基(A)之反應點。
上述含羥基單體相對於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量(100重量份)之含量(比率)並無特別限定。若含羥基單體之量為一定以上，則能夠進一步抑制有時於高濕環境下產生之黏著片材之白化，能夠確保耐加濕白濁性等透明性。上述含羥基單體之含量之下限較佳為1重量份以上，更佳為2重量份以上、3重量份以上、4重量份以上、5重量份以上、6重量份以上、7重量份以上、8重量份以上，進而較佳為10重量份以上。又，就凝集力之方面、易獲得接著性、耐發泡剝離性等接著可靠性之方面而言，上述含羥基單體之含量之上限較佳為40重量份以下，更佳為35重量份以下、34重量份以下、33重量份以下、32重量份以下、或31重量份以下，進而較佳為30重量份以下。
進而，作為上述共聚性單體，可較佳地列舉含氮原子單體。若丙烯酸系聚合物(A)包含含氮原子單體作為單體單元，則易獲得適度之凝集力。因此，增大對玻璃板之180°(度)剝離接著力及對丙烯酸樹脂板之180°剝離接著力，易獲得強接著性，又，增大凝膠分率，易獲得優異之耐發泡剝離性。進而，黏著劑層易獲得適度之柔軟性，將300%拉伸殘留應力調整至特定之範圍內，易獲得優異之應力緩和性及優異之階差追隨性。
上述含氮原子單體相對於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量(100重量份)之含量(比率)並無特別限定，較佳為5重量份以上。就凝集力、接著性、耐發泡剝離性之方面而言，相對於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量(100重量份)，上述含氮原子單體之含量之下限較佳為7重量份以上，更佳為8重量份以上，進而較佳為9重量份以上、或10重量份以上。又，黏著劑層更易獲得適度之柔軟性、更易獲得優異之應力緩和性及優異之階差追隨性之方面而言，上述含氮原子單體之含量之上限較佳為40重量份以下，更佳為35重量份以下，進而較佳為30重量份以下。
上述丙烯酸系聚合物(A)可藉由利用公知或慣用之聚合方法使上述單體單元(單體成分)聚合而獲得。作為上述丙烯酸系聚合物(A)之聚合方法，例如可例舉：溶液聚合方法、乳化聚合方法、塊狀聚合方法、藉由照射活性能量線進行聚合之方法(活性能量線聚合方法)等。其中，就黏著劑層之透明性、耐水性、成本等方面而言，較佳為溶液聚合方法、活性能量線聚合方法，更佳為活性能量線聚合方法。
作為上述活性能量線聚合(光聚合)時照射之活性能量線，例如可例舉：α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射、或紫外線等，尤佳為紫外線。又，活性能量線之照射能量、照射時間、照射方法等並無特別限定，能夠使光聚合起始劑活化而引發單體成分之反應即可。
上述丙烯酸系聚合物(A)之聚合時，可使用各種一般之溶劑。作為此種溶劑，例如可例舉：乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；甲苯、苯等芳香族烴類；正己烷、正庚烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷等脂環式烴類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等有機溶劑。再者，溶劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
又，上述丙烯酸系聚合物(A)之聚合時，可根據聚合反應之種類，使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑(光起始劑)等聚合起始劑。再者，聚合起始劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，例如可例舉：安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、芳香族磺醯氯系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、苯偶醯系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
系光聚合起始劑等。再者，光聚合起始劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為上述安息香醚系光聚合起始劑，例如可例舉：安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、大茴香醚甲醚等。作為上述苯乙酮系光聚合起始劑，例如可例舉：2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-(第三丁基)二氯苯乙酮等。作為上述α-酮醇系光聚合起始劑，例如可例舉：2-甲基-2-羥基苯丙酮、1-[4-(2-羥基乙基)苯基]-2-甲基丙烷-1-酮等。作為上述芳香族磺醯氯系光聚合起始劑，例如可例舉：2-萘磺醯氯等。作為上述光活性肟系光聚合起始劑，例如可例舉：1-苯基-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)-肟等。作為上述安息香系光聚合起始劑，例如可例舉：安息香等。作為上述苯偶醯系光聚合起始劑，例如可例舉：苯偶醯等。作為上述二苯甲酮系光聚合起始劑，例如可例舉：二苯甲酮、苯甲醯苯甲酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羥基環己基苯基酮等。作為上述縮酮系光聚合起始劑，例如可例舉：苯偶醯二甲基縮酮等。作為上述9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
系光聚合起始劑，例如可例舉：9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
、2-氯9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
、2-甲基9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
、2,4-二甲基9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
、異丙基9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
、2,4-二異丙基9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
、十二烷基9-氧硫𠮿
Figure 111118961-001
等。
上述光聚合起始劑之使用量並無特別限定，例如相對於丙烯酸系聚合物(A)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量)100重量份，較佳為0.001～1重量份，更佳為0.01～0.50重量份。
又，作為上述熱聚合起始劑，並無特別限定，例如可例舉：偶氮系聚合起始劑、過氧化物系聚合起始劑(例如過氧化二苯甲醯、過氧化順丁烯二酸第三丁酯等)、氧化還原系聚合起始劑等。其中，較佳為日本專利特開2002-69411號公報中揭示之偶氮系聚合起始劑。作為上述偶氮系聚合起始劑，可例舉：2,2'-偶氮二異丁腈(以下有時稱為「AIBN」)、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈(以下有時稱為「AMBN」)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸等。
上述熱聚合起始劑之使用量並無特別限定，例如於上述偶氮系聚合起始劑之情形時，相對於丙烯酸系聚合物(A)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量)100重量份，較佳為0.05～0.5重量份，更佳為0.1～0.3重量份。
[2-3.含羧基單體等] 上述黏著劑層較佳為實質上不含含羧基單體作為構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分。再者，所謂「實質上不含」，意指除不可避免地混入之情況以外，不有意地調配。又，所謂含羧基單體，意指分子內含有至少1個羧基之單體。就獲得更優異之抗腐蝕效果之觀點而言，具體而言，含羧基單體之含量相對於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量(100重量份)較佳為0.05重量份以下(例如0～0.05重量份)、更佳為0.01重量份以下(例如0～0.01重量份)、進而較佳為0.001重量份以下(例如0～0.001重量份)者可謂實質上不含。再者，作為上述含羧基單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、異丁烯酸等，又，上述含羧基單體亦包括例如順丁烯二酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體。
進而，於上述黏著劑層為丙烯酸系黏著劑層之情形時，就獲得更優異之抗腐蝕效果之觀點而言，上述黏著劑層較佳為不僅實質上不含含羧基單體作為構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分，且亦實質上不含含有羧基以外之酸性基(磺基、磷酸基等)之單體作為構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分。即，丙烯酸系聚合物(A)較佳為實質上不含含羧基單體及含有其他酸性基之單體之任一者作為構成之單體成分。具體而言，作為構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分的含羧基單體與含有其他酸性基之單體之總量相對於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量(100重量份)較佳為0.05重量份以下(例如0～0.05重量份)、更佳為0.01重量份以下(例如0～0.01重量份)、進而較佳為0.001重量份以下(例如0～0.001重量份)者可謂實質上不含。
又，就相同之觀點而言，上述黏著劑層較佳為亦不含或實質上不含含酸性基單體作為構成丙烯酸系聚合物(A)以外之聚合物(例如下述丙烯酸系聚合物(B)等)之單體成分。例如較佳為實質上不含含羧基單體。再者，關於「實質上不含」之含義、較佳之程度、及含有羧基以外之酸性基之單體等，與構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之情形相同。
[2-4.含鹼性基單體] 再者，上述黏著劑層較佳為不含或實質上不含含鹼性基單體作為構成基礎聚合物之單體成分。例如於上述黏著劑層為含有丙烯酸系聚合物(A)作為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑層之情形時，較佳為實質上不含含鹼性基單體作為構成丙烯酸系聚合物(A)以外之聚合物之單體成分，即便於不為構成各種聚合物之單體成分之情形時亦較佳為上述黏著劑層中實質上不含含鹼性基單體，該方面與含羧基單體之情形相同。又，關於「實質上不含」之含義、較佳之程度等，亦與含羧基單體之情形相同。
[2-5.含羥基單體] 所謂含羥基單體，意指分子內含有至少1個羥基之單體。又，分子內含有至少1個羥基、且分子內含有至少1個羧基之單體係含羧基單體，而非含羥基單體。作為上述含羥基單體，並無特別限定，具體而言，例如可例舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸羥基辛酯、(甲基)丙烯酸羥基癸酯、(甲基)丙烯酸羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯；乙烯醇、烯丙醇等。其中，作為上述含羥基單體，較佳為含羥基之(甲基)丙烯酸酯，更佳為丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯(HPA)、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)。再者，含羥基單體可單獨使用或將2種以上組合使用。
[2-6.含氮原子單體] 所謂含氮原子單體，意指分子內(一分子內)含有至少1個氮原子之單體。其中，上述含羥基單體不包括上述含氮原子單體。即，於本說明書中，分子內含有羥基及氮原子之單體包括在含氮原子單體中。又，分子內含有至少1個氮原子且分子內含有至少1個羧基之單體係含羧基單體，而非含氮原子單體。
作為上述含氮原子單體，就提高耐發泡剝離性之觀點而言，較佳為N-乙烯基環狀醯胺、(甲基)丙烯醯胺類等。再者，含氮原子單體可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為上述N-乙烯基環狀醯胺，較佳為下述式(1)所表示之N-乙烯基環狀醯胺。 [化2]
Figure 02_image003
(式(1)中，R 1表示二價有機基)
上述式(1)中之R 1為二價有機基，較佳為二價飽和烴基或不飽和烴基，更佳為二價飽和烴基(例如碳數3～5之伸烷基等)。
作為上述式(1)所表示之N-乙烯基環狀醯胺，就進一步提高耐發泡剝離性之觀點而言，較佳為N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-3-𠰌啉酮、N-乙烯基-1,3-㗁𠯤-2-酮、N-乙烯基-3,5-𠰌啉二酮等，更佳為N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-2-己內醯胺，進而較佳為N-乙烯基-2-吡咯啶酮。
作為上述(甲基)丙烯醯胺類，例如可例舉：(甲基)丙烯醯胺、N-烷基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺等。作為上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-正丁基(甲基)丙烯醯胺、N-辛基丙烯醯胺等。進而，上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺亦包括二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、二乙基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺之類的含有胺基之(甲基)丙烯醯胺。作為上述N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(正丁基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(第三丁基)(甲基)丙烯醯胺等。
又，上述(甲基)丙烯醯胺類亦包括例如各種N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺。作為上述N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-2-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等。
又，上述(甲基)丙烯醯胺類亦包括例如各種N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺。作為上述N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可例舉：N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺等。
又，作為上述N-乙烯基環狀醯胺、上述(甲基)丙烯醯胺類以外之含氮原子單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等含胺基單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基單體；(甲基)丙烯醯基𠰌啉、N-乙烯基哌𠯤、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基吡𠯤、N-乙烯基𠰌啉、N-乙烯基吡唑、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基㗁唑、乙烯基異㗁唑、乙烯基噻唑、乙烯基異噻唑、乙烯基嗒𠯤、(甲基)丙烯醯基吡咯啶酮、(甲基)丙烯醯基吡咯啶、(甲基)丙烯醯基哌啶、N-甲基乙烯基吡咯啶酮等含雜環單體；N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體，N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體，N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基丁二醯亞胺等丁二醯亞胺系單體等含醯亞胺基單體；異氰酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯等含異氰酸基單體等。
[2-7.含脂環結構單體] 作為含氮原子單體及含羥基單體以外之共聚性單體，進而可例舉含脂環結構單體。上述含脂環結構單體只要為含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等包含不飽和雙鍵之聚合性官能基、且具有脂環結構者，則並無特別限定。例如含有環烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯屬於上述含脂環結構單體。再者，含脂環結構單體可單獨使用或將2種以上組合使用。
上述含脂環結構單體中之脂環結構為環狀之烴結構，較佳為碳數5以上，更佳為碳數6～24，進而較佳為碳數6～15，尤佳為碳數6～10。
作為上述含脂環結構單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸環丙酯、(甲基)丙烯酸環丁酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯、(甲基)丙烯酸環辛酯、(甲基)丙烯酸異𦯉酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、下述式(2)所表示之HPMPA、下述式(3)所表示之TMA-2、下述式(4)所表示之HCPA等(甲基)丙烯酸系單體。再者，下述式(4)中，用線連結之環己基環與括弧內之結構式之結合部位並無特別限定。該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸異𦯉酯。 [化3]
Figure 02_image005
[化4]
Figure 02_image007
[化5]
Figure 02_image009
於上述丙烯酸系聚合物含有上述含脂環結構單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，構成上述丙烯酸系聚合物(A)之全部單體成分(100重量%)中之上述含脂環結構單體之比率並無特別限定，就提高耐久性、獲得較高之接著可靠性之方面而言，較佳為10重量%以上。又，就獲得具有適度之柔軟性之黏著劑層之方面而言，上述含脂環結構單體之比率之上限較佳為50重量%以下，更佳為40重量%以下，進而較佳為30重量%以下。
[2-8.其他共聚性單體] 作為丙烯酸系聚合物(A)中之共聚性單體，除上述含氮原子單體、含羥基單體以外，例如可例舉：(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯[例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等]；含環氧基單體[例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等]；含磺酸基單體[例如乙烯基磺酸鈉等]；含磷酸基單體；含芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯[例如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等]；乙烯酯類[例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等]；芳香族乙烯系化合物[例如苯乙烯、乙烯基甲苯等]；烯烴類或二烯類[例如乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯、異丁烯等]；乙烯醚類[例如乙烯基烷基醚等]；氯乙烯等。
進而，作為上述丙烯酸系聚合物(A)中之共聚性單體，亦可例舉多官能性單體。多官能性單體作為交聯成分發揮作用。作為上述多官能性單體，例如可例舉：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯苯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯等。再者，多官能性單體可單獨使用或將2種以上組合使用。
丙烯酸系聚合物(A)之全部單體單元中之上述多官能性單體之含量(比率)並無特別限定，相對於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分總量(100重量份)，較佳為0.5重量份以下(例如0～0.5重量份)，更佳為0～0.35重量份，進而較佳為0～0.3重量份。若多官能性單體之含量為0.5重量份以下，則黏著劑層具有適度之凝集力，黏著力或階差吸收性易提高，從而較佳。再者，於使用交聯劑之情況下可不使用多官能性單體，於未使用交聯劑之情形時，多官能性單體之含量較佳為0.001～0.5重量份，更佳為0.001～0.35重量份，進而較佳為0.002～0.3重量份。
[2-9.丙烯酸系聚合物(B)] 於上述黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)含有丙烯酸系聚合物(A)作為基礎聚合物之情形時，上述黏著劑層較佳為同時含有上述丙烯酸系聚合物(A)與重量平均分子量為1000～30000之丙烯酸系聚合物(B)。若含有丙烯酸系聚合物(B)，則黏著片材中之界面處對被接著體之接著性提高，因此，易獲得強接著性，且易獲得優異之耐發泡剝離性。再者，本說明書中，有時將「重量平均分子量為1000～30000之丙烯酸系聚合物(B)」簡稱為「丙烯酸系聚合物(B)」。
作為上述丙烯酸系聚合物(B)，可較佳地列舉以分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯作為必須之單體成分所構成之丙烯酸系聚合物，可更佳地列舉以分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為必須之單體成分所構成之丙烯酸系聚合物。即，作為上述丙烯酸系聚合物(B)，可較佳地列舉包含分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物，可更佳地列舉包含分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。
上述分子內(一分子內)具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯(以下有時稱為「含環(甲基)丙烯酸酯」)之環狀結構(環)可為芳香族性環、非芳香族性環之任意者，並無特別限定。作為上述芳香族性環，例如可例舉：芳香族性碳環[例如苯環等單環碳環、或萘環等縮合碳環等]、各種芳香族性雜環等。作為上述非芳香族性環，例如可例舉：非芳香族性脂肪族環(非芳香族性脂環式環)[例如環戊烷環、環己烷環、環庚烷環、環辛烷環等環烷烴環；環己烯環等環烯烴環等]、非芳香族性橋接環[例如蒎烷、蒎烯、𦯉烷、降𦯉烷、降𦯉烯等中之二環式烴環；金剛烷等中之三環以上之脂肪族烴環(橋接式烴環)等]、非芳香族性雜環[例如環氧環、氧雜環戊烷環、氧雜環丁烷環等]等。
作為上述三環以上之脂肪族烴環(三環以上之橋接式烴環)，例如可例舉：下述式(5a)所表示之二環戊基、下述式(5b)所表示之二環戊烯基、下述式(5c)所表示之金剛烷基、下述式(5d)所表示之三環戊基、下述式(5e)所表示之三環戊烯基等。 [化6]
Figure 02_image011
即，作為上述含環(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯、(甲基)丙烯酸環辛酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯；(甲基)丙烯酸異𦯉酯等含有二環式之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三環戊酯、(甲基)丙烯酸(1-金剛烷基)酯、(甲基)丙烯酸(2-甲基-2-金剛烷基)酯、(甲基)丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷基)酯等含有三環以上之脂肪族烴環之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等(甲基)丙烯酸芳氧基烷基酯、(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳基烷基酯等含有芳香族性環之(甲基)丙烯酸酯等。其中，作為上述含環(甲基)丙烯酸酯，尤其較佳為含非芳香族性環(甲基)丙烯酸酯，更佳為丙烯酸環己酯(CHA)、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)、丙烯酸二環戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)，進而較佳為丙烯酸二環戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)。再者，含環(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或將2種以上組合使用。
上述含非芳香族性環(甲基)丙烯酸酯之中，於使用含有三環以上之脂肪族烴環(尤其是三環以上之橋接式烴環)之(甲基)丙烯酸酯之情形時，尤其是就不易發生聚合抑制之方面而言較佳。又，於使用含有不含不飽和鍵之上述式(5a)所表示之二環戊基、上述式(5c)所表示之金剛烷基、上述式(5d)所表示之三環戊基的(甲基)丙烯酸酯之情形時，能夠進一步提高耐發泡剝離性，進而，能夠顯著提高對聚乙烯或聚丙烯等低極性被接著體之接著性。
丙烯酸系聚合物(B)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量)中之上述含環(甲基)丙烯酸酯之含量(比率)並無特別限定，相對於構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量(100重量份)，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份。若上述含環(甲基)丙烯酸酯之含量為10重量份以上，則耐發泡剝離性易提高，從而較佳。又，若含量為90重量份以下，則黏著劑層具有適度之柔軟性，黏著力或階差吸收性等易提高，從而較佳。
又，關於作為丙烯酸系聚合物(B)之單體單元的上述含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等烷基之碳數為1～20之(甲基)丙烯酸烷基酯等。其中，就與丙烯酸系聚合物(A)之相溶性良好之方面而言，較佳為甲基丙烯酸甲酯(MMA)。再者，上述(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或將2種以上組合使用。
丙烯酸系聚合物(B)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量)中之上述含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量(比率)並無特別限定，就耐發泡剝離性之方面而言，相對於構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量(100重量份)，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份，進而較佳為20～60重量份。若含量為10重量份以上，則尤其是對丙烯酸樹脂或聚碳酸酯製被接著體之黏著力易提高，從而較佳。
作為丙烯酸系聚合物(B)之單體單元，除上述含環(甲基)丙烯酸酯及含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯以外，亦可包含能夠與該等單體共聚合之單體(共聚性單體)。再者，丙烯酸系聚合物(B)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量)中之上述共聚性單體之含量(比率)並無特別限定，相對於構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量(100重量份)，較佳為49.9重量份以下(例如0～49.9重量份)，更佳為30重量份以下。又，共聚性單體可單獨使用或將2種以上組合使用。
關於作為丙烯酸系聚合物(B)之單體單元的上述共聚性單體(構成丙烯酸系聚合物(B)之上述共聚性單體)，例如可例舉：(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯[例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等]；含羥基單體[例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯，乙烯醇、烯丙醇等]；含醯胺基單體[例如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等]；含胺基單體[例如(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等]；含氰基單體[例如丙烯腈、甲基丙烯腈等]；含磺酸基單體[例如乙烯基磺酸鈉等]；含磷酸基單體[例如丙烯醯磷酸2-羥基乙酯等]；含異氰酸基單體[例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等]、含醯亞胺基單體[環己基順丁烯二醯亞胺、異丙基順丁烯二醯亞胺等]等。
如上所述，丙烯酸系聚合物(B)較佳為包含分子內具有環狀結構之(甲基)丙烯酸酯及含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。其中，較佳為包含含環(甲基)丙烯酸酯及上述含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。上述包含含環(甲基)丙烯酸酯及含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物中，相對於構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量(100重量份)，含環(甲基)丙烯酸酯之量並無特別限定，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份。又，含有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量並無特別限定，較佳為10～90重量份，更佳為20～80重量份，進而較佳為20～60重量份。
進而，作為丙烯酸系聚合物(B)之尤佳之具體構成，可例舉：包含(1)選自由丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸二環戊酯、丙烯酸環己酯及甲基丙烯酸環己酯所組成之群中之至少1種單體、以及(2)甲基丙烯酸甲酯作為單體單元之丙烯酸系聚合物。於上述尤佳之具體構成之丙烯酸系聚合物(B)中，相對於構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量(100重量份)，丙烯酸系聚合物(B)之全部單體單元中之(1)丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸二環戊酯、丙烯酸環己酯及甲基丙烯酸環己酯之含量(包含2種以上之情形時為該等之合計量)較佳為30～70重量份，丙烯酸系聚合物(B)之全部單體單元中之(2)甲基丙烯酸甲酯之含量較佳為30～70重量份。其中，上述丙烯酸系聚合物(B)並不限定於上述具體構成。
丙烯酸系聚合物(B)可藉由利用公知或慣用之聚合方法使上述單體成分聚合而獲得。作為上述丙烯酸系聚合物(B)之聚合方法，例如可例舉：溶液聚合方法、乳化聚合方法、塊狀聚合方法、藉由照射活性能量線進行聚合之方法(活性能量線聚合方法)等。其中，較佳為塊狀聚合方法、溶液聚合方法，更佳為溶液聚合方法。
丙烯酸系聚合物(B)之聚合時，可使用各種一般之溶劑。作為上述溶劑，例如可例舉：乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；甲苯、苯等芳香族烴類；正己烷、正庚烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷等脂環式烴類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等有機溶劑。再者，此種溶劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
進而，丙烯酸系聚合物(B)之聚合時，可使用公知或慣用之聚合起始劑(例如熱聚合起始劑或光聚合起始劑等)。再者，聚合起始劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為熱聚合起始劑，例如可例舉：2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN)、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈(AMBN)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸、2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、1,1'-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2'-偶氮雙(2,4,4-三甲基戊烷)等偶氮系起始劑；過氧化苯甲醯、第三丁基過氧化氫、二第三丁基過氧化物、過氧化苯甲酸第三丁酯、二異丙苯基過氧化物、1,1-雙(第三丁基過氧基)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙(第三丁基過氧基)環十二烷等過氧化物系起始劑等。再者，進行溶液聚合之情形時，較佳為使用油溶性之聚合起始劑。又，熱聚合起始劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為上述熱聚合起始劑之使用量，並無特別限定，例如相對於丙烯酸系聚合物(B)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量)100重量份，為0.1～15重量份。
又，作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，例如可例舉與上述列舉之丙烯酸系聚合物(A)之聚合時使用之光聚合起始劑相同之光聚合起始劑。上述光聚合起始劑之使用量並無特別限定，適當選擇。
上述丙烯酸系聚合物(B)之聚合時，為了調整分子量(具體而言，為了將重量平均分子量調整至1000～30000)，可使用鏈轉移劑。作為上述鏈轉移劑，例如可例舉：2-巰基乙醇、α-硫代甘油、2,3-二巰基-1-丙醇、辛硫醇、第三壬硫醇、十二烷基硫醇(月桂硫醇)、第三(十二烷基)硫醇、縮水甘油硫醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸甲酯、硫代乙醇酸乙酯、硫代乙醇酸丙酯、硫代乙醇酸丁酯、硫代乙醇酸第三丁酯、硫代乙醇酸2-乙基己酯、硫代乙醇酸辛酯、硫代乙醇酸異辛酯、硫代乙醇酸癸酯、硫代乙醇酸十二烷基酯、乙二醇之硫代乙醇酸酯、新戊二醇之硫代乙醇酸酯、季戊四醇之硫代乙醇酸酯、α-甲基苯乙烯二聚物等。其中，就抑制因加濕引起之黏著片材之白化之觀點而言，較佳為α-硫代甘油、硫代乙醇酸甲酯，尤佳為α-硫代甘油。再者，鏈轉移劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
上述鏈轉移劑之含量(使用量)並無特別限定，相對於丙烯酸系聚合物(B)之全部單體單元(構成丙烯酸系聚合物(B)之單體成分總量)100重量份，較佳為0.1～20重量份，更佳為0.2～15重量份，進而較佳為0.3～10重量份。藉由將鏈轉移劑之含量(使用量)設為上述範圍，能夠容易地獲得重量平均分子量控制於1000～30000之丙烯酸系聚合物。
上述丙烯酸系聚合物(B)之重量平均分子量(Mw)為1000～30000，較佳為1000～20000，更佳為1500～10000，進而較佳為2000～8000。由於丙烯酸系聚合物(B)之重量平均分子量為1000以上，故黏著力或保持特性提高，耐發泡剝離性提高。另一方面，由於丙烯酸系聚合物(B)之重量平均分子量為30000以下，故易提高黏著力，耐發泡剝離性提高。
上述丙烯酸系聚合物(B)之重量平均分子量(Mw)可藉由GPC法進行聚苯乙烯換算而求出。例如可使用Tosoh股份有限公司製造之高效GPC裝置「HPLC-8120GPC」，於下述條件下測定。 管柱：TSKgel SuperHZM-H/HZ4000/HZ3000/HZ2000 溶劑：四氫呋喃 流速：0.6 ml/min
上述丙烯酸系聚合物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)並無特別限定，較佳為20～300℃，更佳為30～300℃，進而較佳為40～300℃。若丙烯酸系聚合物(B)之玻璃轉移溫度為20℃以上，則耐發泡剝離性易提高，從而較佳。又，若丙烯酸系聚合物(B)之玻璃轉移溫度為300℃以下，則黏著劑層具有適度之柔軟性，易獲得良好之黏著力或良好之階差吸收性，易獲得優異之接著可靠性，因此較佳。
上述丙烯酸系聚合物(B)之玻璃轉移溫度(Tg)係下述式表示之玻璃轉移溫度(理論值)。 1/Tg＝W 1/Tg 1＋W 2/Tg 2＋・・・＋W n/Tg n上述式中，Tg表示丙烯酸系聚合物(B)之玻璃轉移溫度(單位：K)，Tg i表示單體i形成均聚物時之玻璃轉移溫度(單位：K)，W i表示單體i於單體成分總量中之重量分率(i＝1、2、・・・・n)。 作為上述構成丙烯酸系聚合物(B)之單體之均聚物之Tg，可採用下述表1中記載之值。又，作為表1中無記載之單體之均聚物之Tg，可採用「Polymer Handbook」(第3版，John Wiley＆Sons, Inc，1989年)中記載之數值。進而，作為上述文獻中亦無記載之單體之均聚物之Tg，可採用藉由上述測定方法測得之值(基於黏彈性試驗之tanδ之峰頂溫度)。
[表1]
表1
   組成 Tg[℃]
         均聚物 甲基丙烯酸甲酯(MMA) 105
甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA) 175
丙烯酸二環戊酯(DCPA) 120
甲基丙烯酸異𦯉酯(IBXMA) 173
丙烯酸異𦯉酯(IBXA) 97
甲基丙烯酸環己酯(CHMA) 66
甲基丙烯酸(1-金剛烷基)酯(ADMA) 250
丙烯酸(1-金剛烷基)酯(ADA) 153
共聚物 DCPMA/MMA=60/40 144
再者，表1中之「DCPMA/MMA＝60/40」之共聚物意指DCPMA60重量份與MMA40重量份之共聚物。
上述黏著劑層含有丙烯酸系聚合物(A)及(B)之情形時之丙烯酸系聚合物(B)之含量並無特別限定，相對於上述丙烯酸系聚合物(A)100重量份，較佳為1～30重量份，更佳為2～20重量份，進而較佳為2～10重量份。即，上述黏著劑層中之丙烯酸系聚合物(B)之含量並無特別限定，相對於上述丙烯酸系聚合物(A)之全部單體單元100重量份，較佳為1～30重量份，更佳為2～20重量份，進而較佳為2～10重量份。黏著劑層中之丙烯酸系聚合物(B)之含量並無特別限定，例如相對於上述單體混合物100重量份，較佳為1～30重量份，更佳為2～20重量份，進而較佳為2～10重量份。若丙烯酸系聚合物(B)之含量為1重量份以上，則易獲得優異之接著性及優異之耐發泡剝離性，從而較佳。又，若丙烯酸系聚合物(B)之含量為30重量份以下，則易獲得優異之透明性與接著可靠性，從而較佳。
作為含有丙烯酸系聚合物(A)及(B)之上述黏著劑層之製作方法，並無特別限定。例如藉由在構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物(形成丙烯酸系聚合物(A)之單體混合物或其部分聚合物)中添加丙烯酸系聚合物(B)、視需要之添加劑等，並進行混合而製作。
[2-10.本發明之離子性化合物以外之抗靜電劑] 本發明之黏著劑層視需要亦可包含本發明之離子性化合物以外之抗靜電劑(本說明書中有時稱為「其他抗靜電劑」)。 作為其他抗靜電劑，例如可例舉：離子性化合物、離子性界面活性劑、導電性聚合物、導電性微粒子等能夠賦予抗靜電性之材料。該等之中，就與丙烯酸系聚合物(A)之相溶性、黏著劑層之透明性之方面而言，較佳為離子性化合物。
作為離子性化合物，可適宜使用無機陽離子陰離子鹽及/或有機陽離子陰離子鹽，尤佳之形態為使用無機陽離子陰離子鹽。相較於有機陽離子陰離子鹽，於使用包含無機陽離子之離子性化合物(無機陽離子陰離子鹽)之情形時，能夠抑制黏著劑層之密接性(抓固力)降低，從而更佳。再者，一般而言，本發明中所謂之「無機陽離子陰離子鹽」表示由鹼金屬陽離子與陰離子形成之鹼金屬鹽，鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。又，本發明中所謂之「有機陽離子陰離子鹽」表示有機鹽且其陽離子部由有機物構成者，陰離子部可為有機物亦可為無機物。「有機陽離子陰離子鹽」亦被稱為離子性液體、離子性固體。又，作為構成離子性化合物之陰離子成分，就抗靜電功能之方面而言，較佳為使用含氟陰離子。
作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可例舉：鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子之中，較佳為鋰離子。
鹼金屬鹽之陰離子部可由有機物構成，亦可由無機物構成。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可使用CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、(CF 3SO 2) 3C -、C 4F 9SO 3 -、C 3F 7COO -、(CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、 -O 3S(CF 2) 3SO 3 -、PF 6 -、CO 3 2-、或下述通式(1)至(4) (1)：(C nF 2n ＋ 1SO 2) 2N -(其中，n為1～10之整數)、 (2)：CF 2(C mF 2mSO 2) 2N -(其中，m為1～10之整數)、 (3)： -O 3S(CF 2) lSO 3 -(其中，l為1～10之整數)、 (4)：(C pF 2p ＋ 1SO 2)N -(C qF 2q ＋ 1SO 2)(其中，p、q為1～10之整數)、及(FSO 2) 2N -所表示者等。尤其是包含氟原子之陰離子部可獲得離子解離性良好之離子化合物，因此適宜使用。作為構成無機鹽之陰離子部，可使用Cl -、Br -、I -、AlCl 4 -、Al 2Cl 7 -、BF 4 -、PF 6 -、ClO 4 -、NO 3 -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、(CN) 2N -等。包含氟原子之陰離子之中，較佳為含氟之醯亞胺陰離子，其中，較佳為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子。尤其是雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子能夠以相對較少之添加量賦予優異之抗靜電性，維持黏著特性並有利於加濕或加熱環境下之耐久性，從而較佳。
作為鹼金屬之有機鹽，具體而言，可例舉：乙酸鈉、海藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF 3SO 3、Li(CF 3SO 2) 2N、Li(CF 3SO 2) 2N、Li(C 2F 5SO 2) 2N、Li(C 4F 9SO 2) 2N、Li(CF 3SO 2) 3C、KO 3S(CF 2) 3SO 3K、LiO 3S(CF 2) 3SO 3K等，該等之中，較佳為LiCF 3SO 3、Li(FSO 2) 2N、Li(CF 3SO 2) 2N、Li(C 2F 5SO 2) 2N、Li(C 4F 9SO 2) 2N、Li(CF 3SO 2) 3C等，更佳為Li(CF 3SO 2) 2N、Li(C 2F 5SO 2) 2N、Li(C 4F 9SO 2) 2N等含氟之鋰醯亞胺鹽，尤佳為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰、雙(氟磺醯基)醯亞胺鋰。
又，作為鹼金屬之無機鹽，可例舉：過氯酸鋰、碘化鋰。
有機陽離子陰離子鹽係由陽離子成分與陰離子成分構成，且上述陽離子成分包含有機物。作為陽離子成分，具體而言，可例舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為陰離子成分，例如可使用Cl -、Br -、I -、AlCl 4 -、Al 2Cl 7 -、BF 4 -、PF 6 -、ClO 4 -、NO 3 -、CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、(CF 3SO 2) 3C -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、(CN) 2N -、C 4F 9SO 3 -、C 3F 7COO -、((CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、 -O 3S(CF 2) 3SO 3 -、或下述通式(1)至(4)、 (1)：(C nF 2n ＋ 1SO 2) 2N -(其中，n為1～10之整數)、 (2)：CF 2(C mF 2mSO 2) 2N -(其中，m為1～10之整數)、 (3)： -O 3S(CF 2) lSO 3 -(其中，l為1～10之整數)、 (4)：(C pF 2p ＋ 1SO 2)N -(C qF 2q ＋ 1SO 2)(其中，p、q為1～10之整數)、及(FSO 2) 2N -所表示者等。其中，尤其是包含氟原子之陰離子(含氟陰離子)可獲得離子解離性良好之離子化合物，因此適宜使用。包含氟原子之陰離子之中，較佳為含氟醯亞胺陰離子，其中，較佳為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子。尤其是雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子能夠以相對較少之添加量賦予優異之抗靜電性，維持黏著特性並有利於加濕或加熱環境下之耐久性，從而較佳。
又，作為離子性化合物，除上述無機陽離子陰離子鹽(鹼金屬鹽)、有機陽離子陰離子鹽以外，亦可例舉：氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。該等離子性化合物可單獨使用或併用複數種。
作為離子性界面活性劑，可例舉：陽離子系(例如四級銨鹽型、鏻鹽型、鋶鹽型等)、陰離子系(羧酸型、磺酸鹽型、硫酸鹽型、磷酸鹽型、亞磷酸鹽型等)、兩性離子系(磺基甜菜鹼型、烷基甜菜鹼型、烷基咪唑鎓甜菜鹼型等)或非離子系(多元醇衍生物、β-環糊精包接化合物、山梨醇酐脂肪酸單酯・二酯、聚環氧烷衍生物、氧化胺等)各種界面活性劑。
作為導電性聚合物，可例舉：聚苯胺系、聚噻吩系、聚吡咯系、聚喹㗁啉系等聚合物，該等之中，可適宜使用聚苯胺、聚噻吩等。尤佳為聚噻吩。
作為導電性微粒子，可例舉：氧化錫系、氧化銻系、氧化銦系、氧化鋅系等金屬氧化物。該等之中，較佳為氧化錫系。作為氧化錫系者，例如可例舉：氧化錫、以及摻銻氧化錫、摻銦氧化錫、摻鋁氧化錫、摻鎢氧化錫、氧化鈦-氧化鈰-氧化錫之複合體、氧化鈦-氧化錫之複合體等。微粒子之平均粒徑為1～100 nm左右、較佳為2～50 nm。
進而，作為上述以外之抗靜電劑，可例示：乙炔黑、科琴黑、天然石墨、人造石墨、鈦黑、或者陽離子型(四級銨鹽等)、兩性離子型(甜菜鹼化合物等)、陰離子型(磺酸鹽等)或非離子型(甘油等)之包含離子導電性基之單體之均聚物或上述單體與其他單體之共聚物、含有源自包含四級銨鹽基之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯之部位的聚合物等具有離子導電性之聚合物；將聚乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物等親水性聚合物與丙烯酸樹脂等合金化所得之一類永久抗靜電劑。
於本發明之黏著劑組合物含有其他抗靜電劑之情形時，其含量並無特別限定，就確保本發明之黏著劑層之透明性、外觀、接著可靠性等耐久性之觀點而言，相對於丙烯酸系聚合物(A)100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.5重量份以下、0.4重量份以下、0.3重量份以下、或0.2重量份以下。於本發明之黏著劑組合物含有其他抗靜電劑之情形時，含量之下限值並無特別限定，相對於丙烯酸系聚合物(A)100重量份，可為0.01重量份以上、或0.05重量份以上。
[2-11.添加劑] 上述黏著劑層視需要可於無損本發明之特性之範圍內含有交聯劑、交聯促進劑、矽烷偶合劑、黏著賦予樹脂(松脂衍生物、聚萜烯樹脂、石油樹脂、油溶性苯酚等)、抗老化劑、填充劑、著色劑(顏料或染料等)、紫外線吸收劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、塑化劑、軟化劑、界面活性劑、防銹劑等公知之添加劑。再者，此種添加劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
若上述黏著劑層含有交聯劑，則使基礎聚合物交聯而增大凝膠分率，易提高耐發泡剝離性。例如使丙烯酸系聚合物(尤其是丙烯酸系聚合物(A))交聯而能夠容易地控制凝膠分率之增大，因此，易提高耐發泡剝離性。又，丙烯酸系聚合物(A)與本發明之離子性化合物可經由交聯劑形成共價鍵。
作為上述交聯劑，例如可例舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑、以及脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、胺系交聯劑等。其中，於上述黏著劑層為含有丙烯酸系聚合物(A)作為基礎聚合物之黏著劑層之情形時，就耐發泡剝離性提高之方面而言，較佳為異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑，更佳為異氰酸酯系交聯劑。再者，交聯劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為上述異氰酸酯系交聯劑(多官能異氰酸酯化合物)，例如可例舉：1,2-伸乙基二異氰酸酯、1,4-伸丁基二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯等脂環族聚異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯類等。又，作為上述異氰酸酯系交聯劑，例如亦可例舉：三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯加成物[Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造，商品名「Coronate L」]、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯加成物[Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造，商品名「Coronate HL」]、三羥甲基丙烷/苯二甲基二異氰酸酯加成物[三井化學股份有限公司製造，商品名「Takenate D-110N」]等市售品。
作為上述環氧系交聯劑(多官能環氧化合物)，例如可例舉：N,N,N',N'-四縮水甘油基間苯二甲胺、二縮水甘油基苯胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷、1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、山梨糖醇聚縮水甘油醚、丙三醇聚縮水甘油醚、季戊四醇聚縮水甘油醚、聚丙三醇聚縮水甘油醚、山梨醇酐聚縮水甘油醚、三羥甲基丙烷聚縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、三(2-羥基乙基)異氰尿酸三縮水甘油酯、間苯二酚二縮水甘油醚、雙酚S-二縮水甘油醚、以及分子內含有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。又，作為上述環氧系交聯劑，例如亦可例舉三菱瓦斯化學股份有限公司製造之商品名「Tetrad C」等市售品。
作為上述黏著劑層中之交聯劑之含量，並無特別限定，例如相對於丙烯酸系聚合物(A)100重量份，較佳為0.001～10重量份，更佳為0.01～5重量份。若交聯劑之含量為0.001重量份以上，則耐發泡剝離性易提高，從而較佳。另一方面，若交聯劑之含量為10重量份以下，則黏著劑層具有適度之柔軟性，黏著力易提高，因此較佳。
若上述黏著劑層含有矽烷偶合劑，則易獲得對玻璃之優異之接著性(尤其是高溫高濕下之對玻璃之優異之接著可靠性)，從而較佳。作為上述矽烷偶合劑，並無特別限定，可例舉：γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-苯基-胺基丙基三甲氧基矽烷等。其中，較佳為γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷。進而，作為上述矽烷偶合劑，亦可例舉例如商品名「KBM-403」(信越化學工業股份有限公司製造)等市售品。再者，矽烷偶合劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
上述黏著劑層中之上述矽烷偶合劑之含量並無特別限定，例如於上述黏著劑層為含有丙烯酸系聚合物(A)作為基礎聚合物之黏著劑層之情形時，就對玻璃之接著可靠性提高之方面而言，相對於丙烯酸系聚合物(A)100重量份，較佳為0.01～1重量份，更佳為0.03～0.5重量份。
[2-12.共價鍵] 關於丙烯酸系聚合物(A)與本發明之離子性化合物之官能基(A)形成共價鍵之反應，只要能夠形成該共價鍵，則其形態並無特別限定。例如可為官能基(A)以丙烯酸系聚合物(A)之單體單元之形式引入之形態，或為與丙烯酸系聚合物(A)之側鏈含有之官能基反應形成共價鍵之形態。進而，亦可為丙烯酸系聚合物(A)與本發明之離子性化合物之官能基(A)經由上述交聯劑反應形成共價鍵之形態。
例如於本發明之離子性化合物之官能基(A)為(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基等具有共聚性之官能基，包含於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物中之情形時，於聚合形成丙烯酸系聚合物(A)之過程中以單體單元之形式引入而形成共價鍵。
又，於本發明之離子性化合物之官能基(A)為(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基等具有共聚性之官能基，包含於構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物中之情形時，與部分聚合物之聚合末端自由基進行活性自由基聚合而形成共價鍵。
又，於本發明之離子性化合物之官能基(A)為羥基、胺基、巰基等，丙烯酸系聚合物(A)於側鏈含有異氰酸基、異硫氰酸基、環氧基等能夠與官能基(A)反應之官能基之情形時，或於官能基(A)為環氧基等，丙烯酸系聚合物(A)於側鏈含有羥基、胺基、巰基等能夠與官能基(A)反應之官能基之情形時，與官能基(A)反應形成共價鍵。
進而，於本發明之離子性化合物之官能基(A)為羥基、胺基、巰基等，丙烯酸系聚合物(A)於側鏈含有羥基、胺基、巰基等之情形時，調配上述交聯劑，官能基(A)及丙烯酸系聚合物(A)之側鏈官能基與交聯劑之異氰酸基、異硫氰酸基、環氧基等反應，經由交聯劑而可形成共價鍵。
本發明之光學用黏著片材除包含本發明之基材、本發明之黏著劑層以外，亦可於無損本發明之效果之範圍內，於表面或任意之層間包含其他層，例如本發明之基材以外之基材、本發明之黏著劑層以外之黏著劑層、中間層、底塗層(增黏層)、隔片、表面保護膜等。
[3.底塗層(增黏層)] 就密接性之觀點而言，亦可於本發明之基材之第1面與本發明之黏著劑層之間設置底塗層(增黏層)。 就與黏著劑層之密接性之觀點而言，上述增黏層之厚度為0.01～0.5 μm，較佳為0.01～0.4 μm，進而較佳為0.02～0.3 μm。
作為上述增黏層之形成材料，為了提高於本發明之基材上之皮膜形成性、密接性等，亦可添加黏合劑成分。作為黏合劑之例，可例舉：含㗁唑啉基聚合物、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、環氧樹脂、聚乙烯基吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂、聚乙二醇、季戊四醇等。尤佳為聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸樹脂。該等黏合劑可根據其用途，適當地使用1種或2種以上。
上述增黏層可具有導電性(抗靜電性)。藉由使上述增黏層具有導電性(抗靜電性)，相較於單獨利用黏著劑層賦予抗靜電性之情形，抗靜電功能優異，亦可將上述黏著劑層中使用之抗靜電劑之使用量抑制為少量，而就抗靜電劑之析出・偏析或加濕環境下之白濁等外觀缺陷、或耐久性之觀點而言為較佳態樣。於上述增黏層具有抗靜電性之情形時，其表面電阻較佳為1.0×10 8～1.0×10 10Ω/□，更佳為1.0×10 8～8.0×10 9Ω/□，進而較佳為2.0×10 8～6.0×10 9Ω/□。
於上述增黏層具有抗靜電性之情形時，可藉由使上述黏合劑成分含有導電聚合物而賦予抗靜電性。就光學特性、外觀、抗靜電效果及抗靜電效果於加熱、加濕時之穩定性之觀點而言，適宜使用上述導電性聚合物。尤佳地使用聚苯胺、聚噻吩等導電性聚合物。導電性聚合物可適當使用有機溶劑可溶性、水溶性、水分散性者，適宜使用水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物。其原因在於，水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物可以水溶液或水分散液之形式製備形成抗靜電層時之塗佈液，上述塗佈液無需使用非水系之有機溶劑，能夠抑制上述有機溶劑引起之光學膜基材之變質。再者，水溶液或水分散液除含有水以外，亦可含有水系溶劑。例如可例舉：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇、正戊醇、異戊醇、第二戊醇、第三戊醇、1-乙基-1-丙醇、2-甲基-1-丁醇、正己醇、環己醇等醇類。
又，上述聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物較佳為於分子中含有親水性官能基。作為親水性官能基，例如可例舉：碸基、胺基、醯胺基、亞胺基、四級銨鹽基、羥基、巰基、肼基、羧基、硫酸酯基、磷酸酯基、或該等之鹽等。藉由使分子內含有親水性官能基，易溶於水中或易以微粒子狀分散於水中，而可容易地製備上述水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物。再者，於使用聚噻吩系聚合物時，通常併用聚苯乙烯磺酸。
作為上述增黏層，例如可於本發明之基材之第1面塗佈導電塗液而形成，該導電塗液係於上述黏合劑成分中視需要調配導電性聚合物而獲得。作為具體之塗佈方法，可例舉：輥式塗佈法、棒式塗佈法、凹版塗佈法等。
[4.隔片(剝離襯墊)] 本發明之光學用黏著片材中，本發明之黏著劑層之表面(本發明之黏著劑層之黏著面)可於使用之前藉由隔片加以保護。隔片係用作黏著劑層之保護材，將本發明之光學用黏著片材貼附於被接著體時剝離。再者，隔片並非必須設置。
作為上述隔片，可利用慣用之剝離紙等，具體而言，可使用例如於至少一表面具有由剝離處理劑形成之剝離處理層之基材，以及包含氟系聚合物(例如聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、氯氟乙烯-偏二氟乙烯共聚物等)之低接著性基材、或包含無極性聚合物(例如聚乙烯、聚丙烯等烯烴系樹脂等)之低接著性基材等。
作為上述隔片，例如可適宜使用於隔片用基材之至少一面形成有剝離處理層之隔片。作為此種隔片用基材，可例舉：聚酯膜(聚對苯二甲酸乙二酯膜等)、烯烴系樹脂膜(聚乙烯膜、聚丙烯膜等)、聚氯乙烯膜、聚醯亞胺膜、聚醯胺膜(尼龍膜)、嫘縈膜等塑膠系基材膜(合成樹脂膜)或者紙類(高級紙、日本紙、牛皮紙、玻璃紙、合成紙、面漆紙等)，以及將該等藉由層壓或共擠壓等進行多層化而成者(2～3層之複合體)等。
作為構成上述剝離處理層之剝離處理劑，並無特別限定，例如可使用聚矽氧系剝離處理劑、氟系剝離處理劑、長鏈烷基系剝離處理劑等。剝離處理劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
上述隔片之厚度並無特別限定，於5～100 μm之範圍適當選擇即可。
為了防止圖像顯示面板等被接著體之破損，上述隔片可於隔片用基材之至少一面形成抗靜電層。抗靜電層可形成於隔片之一面(剝離處理面或未處理面)，亦可形成於隔片之兩面(剝離處理面及未處理面)。
作為上述抗靜電層，並無特別限定，例如於隔片上塗佈包含導電性聚合物之導電塗液而形成之抗靜電層。具體而言，例如於隔片上(剝離處理面及/或未處理面)塗佈包含導電性聚合物之導電塗液而形成之抗靜電層。作為具體之塗佈方法，可例舉：輥式塗佈法、棒式塗佈法、凹版塗佈法等。
作為上述導電性聚合物，可使用與上述構成本發明之光學用黏著片材中可含有之抗靜電劑之導電性聚合物相同者。
作為上述抗靜電層之厚度，較佳為1 nm～1000 nm，更佳為5 nm～900 nm。上述抗靜電層可僅為1層，亦可為2層以上。
[5.光學用黏著片材之製造方法] 本發明之光學用黏著片材可藉由在本發明之基材之第1面上積層本發明之黏著劑層而製備。
於本發明之基材之第1面上積層本發明之黏著劑層之方法並無特別限定，例如可藉由如下方式進行：於隔片上塗佈(塗敷)上述黏著劑組合物，使獲得之黏著劑組合物層乾燥硬化，或於隔片上塗佈(塗敷)上述黏著劑組合物，對獲得之黏著劑組合物層照射活性能量線使之硬化，藉此於隔片上成形片狀之黏著劑層，於本發明之基材之第1面上貼合上述黏著劑層。又，視需要可進而加熱乾燥。 藉由照射活性能量線進行硬化時，較佳為於塗膜之表面進而附設隔片以將黏著劑組合物夾持於2片隔片之間，於此狀態下照射活性能量線，從而防止氧氣引起之聚合抑制。
作為於本發明之基材之第1面上積層本發明之黏著劑層之其他方法，例如亦可藉由如下方式進行：於本發明之基材之第1面上塗佈(塗敷)上述黏著劑組合物，使獲得之黏著劑組合物層乾燥硬化，或於本發明之基材之第1面上塗佈(塗敷)上述黏著劑組合物，對獲得之黏著劑組合物層照射活性能量線使之硬化。又，視需要可進而加熱乾燥。 藉由照射活性能量線進行硬化時，較佳為於塗膜之表面附設隔片以將黏著劑組合物夾持於本發明之基材與隔片之間，於此狀態下照射活性能量線，從而防止氧氣引起之聚合抑制。
於照射活性能量線之前，為了去除溶劑等，可對片狀之塗膜進行加熱。於進行加熱去除溶劑等操作之情形時，較佳為於附設隔片之前實施。
作為上述活性能量線，例如可例舉：α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射、或紫外線等，尤佳為紫外線。又，活性能量線之照射能量、照射時間、照射方法等並無特別限制。
上述黏著劑組合物可藉由公知或慣用之方法製作。例如溶劑型之丙烯酸系黏著劑組合物可藉由在含有丙烯酸系聚合物(A)與本發明之離子性化合物之溶液中視需要混合添加劑而製作。例如活性能量線硬化型之丙烯酸系黏著劑組合物可藉由對上述丙烯酸系單體(A)之混合物或其部分聚合物與本發明之離子性化合物視需要混合添加劑而製作。
再者，上述黏著劑組合物之塗佈(塗敷)可採用公知之塗佈法。例如可使用凹版輥式塗佈機、逆輥塗佈機、接觸輥塗佈機、浸漬輥塗機、棒式塗佈機、刮刀塗佈機、噴霧塗佈機、缺角輪塗佈機、直接塗佈機等塗佈機。
尤其是由活性能量線硬化型之黏著劑組合物形成黏著劑層之情形時，活性能量線硬化型之黏著劑組合物較佳為包含光聚合起始劑。再者，於活性能量線硬化型之黏著劑組合物含有紫外線吸收劑之情形時，較佳為至少包含於較廣之波長範圍內具有吸光特性之光聚合起始劑作為光聚合起始劑。例如較佳為至少包含不僅對於紫外光、亦對可見光具有吸光特性之光聚合起始劑。其原因在於，紫外線吸收劑之作用存在抑制活性能量線硬化之虞，若包含於較廣之波長範圍內具有吸光特性之光聚合起始劑，則黏著劑組合物易獲得較高之光硬化性。
[6.光學用黏著片材之用途等] 本發明之光學用黏著片材由於包含上述黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)，故抗靜電性能優異。因此，在用於與光學構件或圖像顯示裝置貼合之情形時，不易產生因靜電引起之顯示不良。又，即便於濕熱環境之類的嚴酷條件下亦能夠抑制抗靜電成分之滲出，因此，抑制於黏著劑層之表面產生之析出、發泡、剝離，不易出現外觀或接著可靠性等耐久性之不良。因此，本發明之光學用黏著片材能夠滿足優異之抗靜電性、透明性、耐濕熱性及低污染性，可用於製造圖像顯示裝置。
進而，本發明之光學用黏著片材之接著性、耐發泡剝離性、應力緩和性優異，且階差追隨性、接著可靠性、尤其是高溫時之接著可靠性優異。又，外觀性優異。因此，本發明之光學用黏著片材可有用地用於高溫時界面處易產生發泡之被接著體。例如聚甲基丙烯酸甲酯樹脂(PMMA)有時包含未反應單體，高溫時易因異物而產生發泡。又，聚碳酸酯(PC)於高溫時易產生水與二氧化碳之釋氣。本發明之黏著片材由於耐發泡剝離性優異，故亦可有用地用於包含此種樹脂之塑膠被接著體。
又，本發明之光學用黏著片材不僅可有用地用於線膨脹係數較小之被接著體，亦可有用地用於線膨脹係數較大之被接著體。再者，作為上述線膨脹係數較小之被接著體，並無特別限定，例如可例舉：玻璃板(線膨脹係數：0.3×10 -5～0.8×10 -5/℃)、聚對苯二甲酸乙二酯基材(PET膜，線膨脹係數：1.5×10 -5～2×10 -5/℃)等。又，作為上述線膨脹係數較大之被接著體，並無特別限定，例如可例舉線膨脹係數較大之樹脂基材，更具體而言，可例舉：聚碳酸酯樹脂基材(PC，線膨脹係數：7×10 -5～8×10 -5/℃)、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂基材(PMMA，線膨脹係數：7×10 -5～8×10 -5/℃)、環烯烴聚合物基材(COP，線膨脹係數：6×10 -5～7×10 -5/℃)、商品名「ZEONOR」(Nippon Zeon股份有限公司製造)、商品名「ARTON」(JSR股份有限公司製造)等。
如此，本發明之光學用黏著片材可用於與各種原材料之被接著體之貼合，尤其可有用地用於玻璃被接著體與塑膠被接著體之貼合。再者，塑膠被接著體可為表面具有ITO(銦與錫之氧化物)層之塑膠膜之類的光學膜。
進而，本發明之光學用黏著片材不僅可有用地用於表面平滑之被接著體，亦可有用地用於表面存在階差之被接著體。尤其是即便玻璃被接著體及上述線膨脹係數較大之樹脂基材中之至少一者於表面存在階差，本發明之光學用黏著片材亦可有用地用於貼合玻璃被接著體與上述線膨脹係數較大之樹脂基材。
本發明之光學用黏著片材可適宜用於攜帶型電子機器之製造用途。作為上述攜帶型電子機器，例如可例舉：手機、PHS、智慧型手機、平板(平板型電腦)、移動式電腦(移動PC)、攜帶型資訊終端(PDA)、電子記事本、攜帶型電視或攜帶型廣播等攜帶型收發機、攜帶型遊戲機、便攜式音頻播放器、便攜式DVD播放器、數位相機等相機、便攜式攝像機型攝像機等。
[7.光學積層體] 本發明之光學積層體具有積層有本發明之光學用黏著片材與光學構件之積層構造。圖2中，光學積層體20於光學用黏著片材10之黏著劑層2上積層有光學構件5。 本發明之光學積層體由於包含上述黏著劑層(由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層)，故抗靜電性能優異。因此，在進而用於貼合其他光學構件之情形時，不易產生靜電。又，由於即便在濕熱環境之類的嚴酷條件下亦能夠抑制抗靜電成分之滲出，故抑制於黏著劑層之表面產生之析出、發泡、剝離，不易出現外觀或接著可靠性等耐久性之不良。因此，本發明之光學積層體能夠滿足優異之抗靜電性、透明性、耐濕熱性及低污染性。
光學構件係指具有光學特性(例如偏光性、光折射性、光散射性、光反射性、透光性、光吸收性、光繞射性、旋光性、視認性等)之構件。作為構成上述光學構件之基板，並無特別限定，例如可例舉構成顯示裝置(圖像顯示裝置)、輸入裝置等機器(光學機器)之基板或該等機器中使用之基板，例如可例舉：偏光板、波片、相位差板、光學補償膜、增亮膜、導光板、反射膜、抗反射膜、硬塗膜(於PET膜等塑膠膜之至少單面實施有硬塗處理之膜)、透明導電膜(例如表面具有ITO層之塑膠膜(較佳為PET-ITO、聚碳酸酯、環烯烴聚合物等之ITO膜)等)、設計膜、裝飾膜、表面保護板、稜鏡、透鏡、彩色濾光片、透明基板(玻璃感測器、玻璃製顯示面板(LCD等)、附透明電極之玻璃板等玻璃基板等)、或者進而積層有該等之基板(有時將該等統稱為「功能性膜」)等。又，該等膜亦可具有金屬奈米線層或導電性高分子層等。又，亦可於該等膜上絲網印刷金屬細線。再者，上述「板」及「膜」分別包括板狀、膜狀、片狀等形態，例如「偏光膜」包括「偏光板」及「偏光片」等。又，「膜」包括膜感測器等。
作為上述顯示裝置，例如可例舉：液晶顯示裝置、有機EL(electroluminescence，電致發光)顯示裝置、PDP(plasma display panel，電漿顯示面板)、電子紙等。又，作為上述輸入裝置，可例舉：觸控面板等。
作為構成上述光學構件之基板，並無特別限定，例如可例舉：包含玻璃、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、環烯烴聚合物、金屬薄膜等之基板(例如片狀或膜狀、板狀之基板等)等。再者，如上所述，本發明中之「光學構件」亦包括保持顯示裝置或輸入裝置之視認性且承擔加飾或保護作用之構件(設計膜、裝飾膜或表面保護膜等)。
上述光學構件較佳為透明。上述光學構件之可見光波長區域中之全光線透過率(依據JIS K7361-1)並無特別限定，較佳為85%以上，更佳為88%以上。又，上述光學構件之霧度(依據JIS K7136)並無特別限定，較佳為1.0%以下，更佳為0.8%以下。作為此種透明基材，例如可例舉：PET膜、或商品名「ARTON」、商品名「ZEONOR」等無配向膜等。
上述光學構件之厚度並無特別限定，例如較佳為12～500 μm。再者，上述光學構件可具有單層及複數層之任意形態。又，可適當對上述光學構件之表面實施例如電暈放電處理、電漿處理等物理處理、底塗處理等化學處理等公知慣用之表面處理。
本發明之光學積層體可藉由將上述光學構件與本發明之光學用黏著片材之黏著劑層貼合而製造。
具體而言，光學構件與本發明之光學用黏著片材之貼附可藉由在加熱及/或加壓下積層而實施。於加熱及/或加壓下積層後，可照射活性能量線進行硬化。活性能量線之照射可藉由與形成本發明之黏著劑層時相同之方式進行。
[8.圖像顯示裝置] 本發明之圖像顯示裝置具有積層有本發明之光學用黏著片材與圖像顯示面板之積層構造。圖3中，圖像顯示裝置30於光學用黏著片材10之黏著劑層1上積層有圖像顯示面板6。 本發明之圖像顯示裝置由於在積層構造中包含抗靜電性能優異之本發明之光學用黏著片材，故不易出現因靜電引起之顯示不良。又，由於即便在濕熱環境之類的嚴酷條件下亦能夠抑制抗靜電成分之滲出，故抑制於黏著劑層之表面產生之析出、發泡、剝離，不易出現外觀或接著可靠性等耐久性之不良。因此，本發明之圖像顯示裝置能夠滿足優異之抗靜電性、透明性、耐濕熱性及低污染性。
又，本發明之黏著劑層充分地追隨圖像顯示裝置之收縮或膨脹，不易產生隆起或剝離。進而，於圖像顯示面板上存在因配線等形成之凹凸形狀之階差之情形時，本發明之黏著劑層能夠充分地追隨該階差，無氣泡等殘留地進行填充。
作為上述圖像顯示面板，並無特別限定，例如可例舉：液晶圖像顯示面板、自發光型圖像顯示面板(例如有機EL(電致發光)圖像顯示面板、LED圖像顯示面板)等。
上述圖像顯示面板係由RGB之元件交替排列而形成，為了提高對比度，較佳為於RGB之元件間填充黑矩陣(BM)。
本發明之圖像顯示裝置亦可於表面或任意之層間具備本發明之光學用黏著片材及上述圖像顯示面板以外之光學構件。作為上述光學構件，並無特別限定，可例舉：偏光板、相位差板、抗反射膜、視野角調整膜、光學補償膜等。再者，上述光學構件亦包括不僅確保圖像顯示裝置或輸入裝置之視認性且具有裝飾或保護作用之構件(設計膜、裝飾膜或表面保護板等)。
本發明之圖像顯示裝置可藉由將上述圖像顯示面板與本發明之光學用黏著片材之黏著劑層貼合而製造。
具體而言，圖像顯示面板與本發明之光學用黏著片材之貼附可藉由在加熱及/或加壓下積層而實施。可於加熱及/或加壓下積層後，照射活性能量線進行硬化。活性能量線之照射可以與本發明之黏著劑層之形成相同之方式進行。 [實施例]
以下，基於實施例，對本發明更詳細地進行說明，但本發明並不受該等實施例任何限定。
製造例1 (防眩性膜1之製備) [防眩層1形成用塗敷液之製備] 將作為防眩層形成材料所含樹脂之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(新中村化學公司製造，商品名「NK Oligo UA-53H-80BK」40重量份、以季戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat#300」)57.5重量份、含有氧化鋯粒子及紫外線硬化性樹脂之光學調整層用組合物之稀釋液(「Opstar Z7540」，JSR公司製造)2.5重量份、聚矽氧粒子(邁圖高新材料日本有限公司製造，商品名「Tospearl 130ND」2.8重量份、作為觸變賦予劑之有機黏土即合成膨潤石(KUNIMINE INDUSTRIES股份有限公司製造，商品名「SUMECTON SAN」)2.5重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」)3重量份、交聯丙烯酸苯乙烯共聚樹脂之微粒子(積水化成品工業公司製造，商品名「SSX-103DXE」)6.5重量份、及調平劑(共榮社化學股份有限公司製造，商品名「LE-303」)0.1重量份進行混合。再者，上述有機黏土係用甲苯以固形物成分成為6重量%之方式稀釋而使用。將該混合物以固形物成分濃度成為38重量%之方式用甲苯/環戊酮(CPN)混合溶劑(重量比64/36)稀釋，使用超音波分散機，製備防眩層形成材料(塗敷液)。
[防眩層1之形成] 作為基材，準備透明塑膠膜基材(PET膜，東麗股份有限公司製造，商品名「38U413」，厚度：38 μm)。於上述透明塑膠膜基材之單面，使用線棒塗佈器塗佈上述防眩層形成材料(塗敷液)而形成塗膜(塗敷步驟)。繼而，藉由在95℃下加熱1分鐘而使上述塗膜乾燥(乾燥步驟)。其後，利用高壓水銀燈照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線，對上述塗膜進行硬化處理而形成厚度6.5 μm之防眩層。如此，獲得上述透光性基材與上述防眩層1之積層體。
[抗反射層1形成用塗敷液之製備] 將以季戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份有限公司製造，商品名「Viscoat#300」)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份有限公司製造，商品名「Thrulya 5320」)100重量份、實心奈米二氧化矽粒子(日產化學工業股份有限公司製造，商品名「MIBK-ST」，固形物成分30重量%、重量平均粒徑10 nm)40重量份、含氟元素添加劑(信越化學工業股份有限公司製造，商品名「KY-1203」)12重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD907」)5重量份、及光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「OMNIRAD2959」)5重量份進行混合。於該混合物中添加作為稀釋溶劑之由MIBK(甲基異丁基酮)及PMA(丙二醇單甲醚乙酸酯)按70：30重量比混合而成之混合溶劑使整體之固形物成分成為1.5重量%，進行攪拌而製備抗反射層形成用塗敷液。 [抗反射層1之形成] 於上述透光性基材與上述防眩層1之積層體之防眩層面，使用線棒塗佈器塗敷上述抗反射層形成用塗敷液(塗敷步驟)。將上述塗敷之塗敷液於80℃下加熱1分鐘而乾燥形成塗膜(乾燥步驟)。使用高壓水銀燈對乾燥後之上述塗膜照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線進行硬化處理(硬化步驟)。藉此，使上述塗膜硬化而形成厚度0.1 μm之抗反射層(抗反射層形成步驟)。如此，製造本製造例1之防眩性膜1。
製造例2：黏著劑片材A之製作 於作為單體混合物之由丙烯酸丁酯(BA)58重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)23重量份、丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)7重量份及丙烯酸環己酯(CHA)12重量份構成之單體混合物中調配光聚合起始劑(商品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製造)0.05重量份及光聚合起始劑(商品名「Omnirad651」，IGM Resins B.V.公司製造)0.05重量份後，照射紫外線直至黏度(計測條件：BH黏度計No.5轉子、10 rpm、測定溫度30℃)成為約20 Pa・s，獲得上述單體成分之一部分聚合而成之預聚物組合物。 其次，對該預聚物組合物100重量份添加二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)0.025重量份及含有丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.827027-31-6)10重量份，進行混合，獲得丙烯酸系黏著劑組合物。於剝離膜(商品名「MRF#38」，三菱樹脂股份有限公司製造)之經剝離處理之面上，以使黏著劑層形成後之厚度成為20 μm之方式塗佈上述丙烯酸系黏著劑組合物，形成黏著劑組合物層，繼而，於該黏著劑組合物層之表面貼合剝離膜(商品名「MRN#38」，三菱樹脂股份有限公司製造)。其後，於照度：5 mW/cm 2、光量：1500 mJ/cm 2之條件下進行紫外線照射，使黏著劑組合物層光硬化，形成僅包含黏著劑層、黏著劑層之兩面經隔片保護之無基材雙面黏著劑片材A。
製造例3：黏著劑片材B之製作 添加含有丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.827027-31-6)15重量份，以使黏著劑層形成後之厚度成為50 μm之方式塗佈，除此以外，藉由與黏著劑片材A相同之方式形成黏著劑片材B。
製造例4：黏著劑片材C之製作 添加含有丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.827027-31-6)20重量份，以使黏著劑層形成後之厚度成為50 μm之方式塗佈，除此以外，藉由與黏著劑片材A相同之方式形成黏著劑片材C。
製造例5：黏著劑片材D之製作 添加含有丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.827027-31-6)15重量份，以使黏著劑層形成後之厚度成為100 μm之方式塗佈，除此以外，藉由與黏著劑片材A相同之方式形成黏著劑片材D。
製造例6：黏著劑片材E之製作 添加含有甲基丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-甲基丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.676257-10-6)15重量份代替含有丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.827027-31-6)，以使黏著劑層形成後之厚度成為50 μm之方式塗佈，除此以外，藉由與黏著劑片材A相同之方式形成黏著劑片材E。
比較製造例1：黏著劑片材F之製作 不添加含有丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.827027-31-6)，除此以外，藉由與黏著劑片材A相同之方式形成黏著劑片材F。
比較製造例2：黏著劑片材G之製作 添加1-乙基-1-甲基吡咯啶鎓=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(關東化學股份有限公司製造：CAS RN.223436-99-5)15重量份代替含有丙烯醯基作為反應性官能基之四級銨鹽((2-丙烯醯氧基乙基)三甲基銨=雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺)(富士膜和光純藥股份有限公司製造：CAS RN.827027-31-6)，除此以外，藉由與黏著劑片材A相同之方式形成黏著劑片材G。
使用上述製造例2～6、比較製造例1～2中獲得之黏著劑片材，進行以下之評價。
＜全光線透過率及霧度之評價＞ 自製造例2～6、比較製造例1～2中獲得之黏著劑片材剝離一面之隔片，將該雙面黏著片材貼合於載玻片(松浪硝子工業股份有限公司製造，「白研磨No.1」、厚度0.8～1.0 mm、全光線透過率92%、霧度0.2%)，進而剝離另一面之隔片，製作具有雙面黏著片材(黏著劑層)/載玻片之層構成之試驗片。使用霧度計(裝置名「HM-150N」，村上色彩研究所股份有限公司製造)，測定上述試驗片於可見光區域中之全光線透過率及霧度。將測定結果記載於表2。
＜對玻璃之黏著力評價＞ 將製造例2～6、比較製造例1～2中獲得之黏著劑片材切割成寬100 mm、長100 mm，繼而，將黏著劑層之一面之剝離膜剝離，貼附(襯底)PET膜(商品名：Lumirror S-10，厚度：25 μm，東麗股份有限公司製造)。繼而，將另一面之剝離膜剝離，與作為試驗板之玻璃板(商品名：鈉鈣玻璃#0050，松浪硝子工業股份有限公司製造)貼合，貼合係於2 kg壓輥、往返1次之壓接條件下進行，製作由試驗板/黏著劑層/PET膜構成之樣品。 (初期接著力) 製成樣品後，於23℃、50%RH之氛圍下老化30分鐘後，依據JIS Z0237，於23℃、50%RH之氛圍下，使用拉伸試驗機(裝置名：Autograph AG-IS，島津製作所股份有限公司製造)，於拉伸速度300 mm/min、剝離角度180°之條件下，自試驗板剝離黏著片材(黏著劑層/PET膜)，測定180°剝離接著力(初期接著力)(N/20 mm)。 (貼附保存接著力) 製成樣品後，於23℃、50%RH之氛圍下老化240小時後，依據JIS Z0237，於23℃、50%RH之氛圍下，使用拉伸試驗機(裝置名：Autograph AG-IS，島津製作所股份有限公司製造)，於拉伸速度300 mm/min、剝離角度180°之條件下，自試驗板剝離黏著片材(黏著劑層/PET膜)，測定180°剝離接著力(貼附保存240小時後接著力)(N/20 mm)。 針對各條件分別製作3個試樣供於測定，取該等之數量平均值。將測定結果記載於表2。
＜表面電阻率(Ω/□)：抗靜電性＞ 將製造例2～6、比較製造例1～2中獲得之黏著劑片材之一面之隔離膜剝離後，測定黏著劑層表面之表面電阻率(R0)。於23℃、50%RH之氛圍下，使用Mitsubishi Chemical Analytech公司製造之MCP-HT450進行測定。將測定結果記載於表2。
＜外觀：常溫保管、濕熱試驗後＞ 將製造例2～6、比較製造例1～2中獲得之黏著劑片材(隔片/黏著劑/隔片之構成)切割成15×15 cm，於23℃、50%RH之環境下保管7天後，目視確認黏著劑片材之外觀，按照以下之評價基準進行評價。將測定結果記載於表2。 (評價基準) 〇：未觀察到任何白濁等、光學缺陷 ×：觀察到黏著劑存在斑狀之白化・滲出
其次，自製造例2～6、比較製造例1～2中獲得之黏著劑片材剝離一面之隔片，將該雙面黏著片材貼合於載玻片(松浪硝子工業股份有限公司製造，「白研磨No.1」、厚度0.8～1.0 mm、全光線透過率92%、霧度0.2%)，製作具有隔片/雙面黏著片材(黏著劑層)/載玻片之層構成之試驗片。投入至85℃、85%RH之氛圍下240小時，取出置於室溫下，於23℃、50%RH環境下經過24小時調溫・調濕後，將隔片剝離，以雙面黏著片材(黏著劑層)/載玻片之層構成，使用霧度計(裝置名「HM-150N」，村上色彩研究所股份有限公司製造)測定，按照以下之評價基準評價。將測定結果記載於表2。 (評價基準) 〇：霧度1.0以下                    特別良好 △：霧度超1.0～2.0以下         良好 ×：霧度超2.0                        實用上存在問題之程度
[表2]
(表2)
   表面電阻率 [Ω/□] 全光線透過率 [%] 霧度 [%] 對玻璃之接著力 [N/20 mm] 光學外觀
初期 貼附 240小時後 23℃50%RH 7天後 85℃85%RH 240小時後
製造例2 6.0×10 9 92.2 0.24 6.4 7.1 〇 〇
製造例3 1.4×10 8 92.3 0.25 10.2 10.5 〇 〇
製造例4 2.1×10 8 92.2 0.23 10.7 11.1 〇 〇
製造例5 3.4×10 8 92.2 0.26 11.7 11.9 〇 〇
製造例6 5.2×10 8 92.3 0.32 9.5 9.8 〇 〇
比較製造例1 ＞1.0×10 13 92.3 0.20 7.2 8.7 〇 〇
比較製造例2 3.5×10 9 92.2 2.95 2.8 0.7 × ×
＜表面電阻率(Ω/□)之濕熱穩定性評價＞ 將製造例4及6、比較製造例2中獲得之黏著劑片材(隔離膜/黏著劑層/隔離膜)切割成100 mm見方，剝離一面之隔離膜後，測定黏著劑層表面之表面電阻率(R0)。於23℃、50%RH之氛圍下，使用Mitsubishi Chemical Analytech公司製造之MCP-HT450進行測定。針對各條件分別製作3個試樣供於測定，取該等之數量平均值。測定後，重新貼附隔離膜後，投入至60℃、95%RH環境下240小時。取出後，於23℃、50%RH環境下經過24小時調溫・調濕後，剝離一面之隔離膜，測定濕熱試驗後之黏著劑層表面之表面電阻率(R1)，取3個試樣之數量平均值。基於測定結果，按照以下之評價基準進行評價。將測定結果記載於表3。 (評價基準) 〇：濕熱試驗後之表面電阻值(R1)/濕熱試驗前之表面電阻值(R0)≦20 △：20＜濕熱試驗後之表面電阻值(R1)/濕熱試驗前之表面電阻值(R0)≦100 ×：100＜濕熱試驗後之表面電阻值(R1)/濕熱試驗前之表面電阻值(R0)
[表3]
(表3)
   投入前(R0) (Ω/□) 投入後(R1) (Ω/□) 評價基準
製造例4 2.1×10 8 2.2×10 9 〇
製造例6 5.2×10 8 4.8×10 9 〇
比較製造例2 3.5×10 9 1.1×10 12 ×
實施例1：光學用黏著片材A之製作 將自上述製造例2中獲得之黏著劑片材A剝離一側之剝離膜而露出之黏著面貼附於製造例1所示之防眩性膜1之非防眩層面，藉此獲得包含防眩性膜1/黏著劑層/剝離膜之光學用黏著片材A。
實施例2：光學用黏著片材B之製作 將自上述製造例4中獲得之黏著劑片材C剝離一側之剝離膜而露出之黏著面貼附於抗反射膜(TAC膜，大日本印刷股份有限公司製造，商品名「DSG-17V1」，基材厚度：60 μm、總厚度：70 μm)之非抗反射面，藉此獲得包含抗反射膜/黏著劑層/剝離膜之光學用黏著片材B。
使用上述實施例1～2中獲得之光學用黏著片材，進行以下之評價。
＜霧度之評價＞ 使用霧度測定裝置(村上色彩研究所製造之HR-100)，於室溫(23℃)下對實施例1～2中獲得之光學用黏著片材進行測定。重複進行3次測定，取其平均值作為測定值。測定結果記載於表3。
＜反射率之評價＞ 將實施例1～2中獲得之光學用黏著片材之黏著面貼附於黑色之丙烯酸樹脂板，作為試驗片。將獲得之試驗片以黏著劑層側位於光源側之方式設置於分光光度計U4100(日立高新技術公司製造)，測定5°鏡面反射之可見光區域之反射率(%)。測定結果記載於表3。
＜表面電阻率(Ω/□)：抗靜電性＞ 將實施例1～2中獲得之光學用黏著片材之隔離膜剝離後，測定黏著劑層表面之表面電阻率(R0)。於23℃、50%RH氛圍下，使用Mitsubishi Chemical Analytech公司製造之MCP-HT450進行測定。測定結果記載於表4。
[表4]
(表4)
   基材厚度 [μm] 霧度 [%] 反射率 [%] 總厚度 [μm] 表面電阻率 [Ω/□]
實施例1 45 26.4 2.3 65 9.9×10 9
實施例2 70 0.5 0.1 120 6.4×10 8
以下附記本發明之變化例。 [附記1]一種光學用黏著片材，其特徵在於：具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且 上述黏著劑層係由含有抗靜電劑、及構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物的黏著劑組合物形成， 上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。 [附記2]一種光學用黏著片材，其特徵在於：具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且 上述黏著劑層係由含有抗靜電劑及丙烯酸系聚合物(A)之黏著劑組合物形成， 上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。 [附記3]如附記1或2記載之光學用黏著片材，其中上述官能基為選自由(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、羥基、胺基、巰基及環氧基所組成之群中之至少一種。 [附記4]如附記1至3中任一項記載之光學用黏著片材，其中上述丙烯酸系聚合物(A)不含或實質上不含含羧基單體作為構成之單體成分。 [附記5]如附記1至4中任一項記載之光學用黏著片材，其中上述黏著劑組合物不含或實質上不含有機溶劑。 [附記6]如附記1至5中任一項記載之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層之霧度(依據JIS K7136)為1.0%以下。 [附記7]如附記1至6中任一項記載之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層之全光線透過率(依據JIS K7361-1)為90%以上。 [附記8]如附記1至7中任一項記載之光學用黏著片材，其於23℃下對玻璃板之180°剝離接著力為4 N/20 mm以上。 [附記9]如附記1至8中任一項記載之光學用黏著片材，其厚度為12～350 μm。 [附記10]如附記1至9中任一項記載之光學用黏著片材，其中上述基材之第2面係經抗反射處理、防眩處理、硬塗處理及/或抗靜電處理。 [附記11]一種光學積層體，其係如附記1至10中任一項記載之光學用黏著片材與光學構件積層而成。 [附記12]一種圖像顯示裝置，其係如附記1至10中任一項記載之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成。 [產業上之可利用性]
本發明之光學用黏著片材由於透明性、外觀、耐久性不易產生不良，且表現出較低之表面電阻率，具有優異之抗靜電性能，故適於製造圖像顯示裝置。
1:基材 1a:基材之第1面 1b:基材之第2面 2:黏著劑層 3:抗反射處理、防眩處理及/或抗靜電處理 4:隔片 5:光學構件 6:圖像顯示面板 10:光學用黏著片材 20:光學積層體 30:圖像顯示裝置
圖1係表示本發明之光學用黏著片材之一實施形態之模式圖(剖視圖)。 圖2係表示本發明之光學積層體之一實施形態之模式圖(剖視圖)。 圖3係表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態之模式圖(剖視圖)。
1:基材
1a:基材之第1面
1b:基材之第2面
2:黏著劑層
3:抗反射處理、防眩處理及/或抗靜電處理
4:隔片
10:光學用黏著片材

Claims (12)

  1. 一種光學用黏著片材，其特徵在於：具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且 上述黏著劑層係由含有抗靜電劑、及構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物或構成丙烯酸系聚合物(A)之單體成分之混合物之部分聚合物的黏著劑組合物形成， 上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。
  2. 一種光學用黏著片材，其特徵在於：具有積層有基材與黏著劑層之積層構造，上述基材包含第1面及第2面，上述黏著劑層積層於上述基材之第1面，且 上述黏著劑層係由含有抗靜電劑及丙烯酸系聚合物(A)之黏著劑組合物形成， 上述抗靜電劑為分子內含有能夠與上述丙烯酸系聚合物(A)形成共價鍵之官能基之離子性化合物。
  3. 如請求項1或2之光學用黏著片材，其中上述官能基為選自由(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、羥基、胺基、巰基及環氧基所組成之群中之至少一種。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學用黏著片材，其中上述丙烯酸系聚合物(A)不含或實質上不含含羧基單體作為構成之單體成分。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學用黏著片材，其中上述黏著劑組合物不含或實質上不含有機溶劑。
  6. 如請求項1至5中任一項之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層之霧度(依據JIS K7136)為1.0%以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之光學用黏著片材，其中上述黏著劑層之全光線透過率(依據JIS K7361-1)為90%以上。
  8. 如請求項1至7中任一項之光學用黏著片材，其於23℃下對玻璃板之180°剝離接著力為4 N/20 mm以上。
  9. 如請求項1至8中任一項之光學用黏著片材，其厚度為12～350 μm。
  10. 如請求項1至9中任一項之光學用黏著片材，其中上述基材之第2面係經抗反射處理、防眩處理、硬塗處理及/或抗靜電處理。
  11. 一種光學積層體，其係如請求項1至10中任一項之光學用黏著片材與光學構件積層而成。
  12. 一種圖像顯示裝置，其係如請求項1至10中任一項之光學用黏著片材與圖像顯示面板積層而成。
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