TW202233540A - 偏光玻璃及光隔離器 - Google Patents

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Abstract

一種偏光玻璃，包括金屬層及金屬鹵化物層。金屬層係由略呈針狀的多個金屬微粒平行地且定向分散而形成，且金屬層從偏光玻璃的兩表面朝向內側形成。金屬鹵化物層形成於金屬層之中並具有金屬鹵素微粒。偏光玻璃的總厚度小於0.12mm，金屬層的厚度為0.030mm至0.045mm，金屬鹵化物層的厚度為0.001mm至0.040mm。又或者，偏光玻璃的總厚度小於0.12mm，金屬層的厚度為0.010mm至0.030mm，金屬鹵化物層的厚度為0.001mm至0.060mm。

Description

偏光玻璃及光隔離器
本申請涉及一種被用於光隔離器等光學構件的偏光玻璃，特別是，具有高耐熱性的偏光玻璃，及具有此種偏光玻璃的光隔離器。
一般來說，作為用於光隔離器的偏光元件，係利用由銀或銅所形成的針狀金屬微粒，在玻璃基體中的長軸方向上朝著特定的方向定向地分散所形成的偏光玻璃。此種偏光玻璃，習知可以透過還原被伸長的含鹵化銅顆粒的玻璃或含鹵化銀顆粒的玻璃來製造，例如，專利文獻1揭示了一種由含有鹵化銅顆粒的玻璃，並透過以下步驟製造偏光玻璃的方法。
（1）將含有氯化亞銅的玻璃材料製備成所需的組成，在約1450°C下熔化，然後冷卻至室溫。 （2）然後，進行熱處理，讓氯化亞銅微粒在玻璃中析出。 （3）析出氯化亞銅微粒後，透過機械加工製作具有適當形狀的預成形物（preform）。 （4）在預定條件下拉伸預成形物以獲得氯化亞銅的針狀微粒。 （5）將被延伸的玻璃在氫氣環境中還原，得到針狀金屬銅微粒。
此種偏光玻璃，一般來說，常見的厚度為0.20mm，較薄的厚度0.15mm及0.12mm也已投入實際應用，但根據光隔離器小型化的需求，還需要更薄的偏光玻璃。此外，近年來，在光通訊領域中，隨著通訊速度的提高，而使用了高頻率且更高能量的雷射光，導致光隔離器容易積蓄熱能，因此被使用於光隔離器的偏光玻璃，需要具有高的耐熱性。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本發明專利5-208844號公開說明書
（發明所欲解決之問題）
圖4為對透過專利文獻1記載的方法製造的偏光玻璃的耐熱性進行試驗的結果示意圖，一般使用的厚度為0.20mm、0.15mm、0.12mm的習知偏光玻璃中，從玻璃的兩表面向內形成的金屬層（還原層）的厚度為0.038mm，將該些偏光玻璃分別以420°C、440°C和460°C的溫度進行2小時的熱處理，並於熱處理前後，比較在測定波長為1650nm的消光比。如圖4所示，厚度為0.20mm的習知偏光玻璃的消光比在420°C時下降1.57dB，在440°C時下降2.36dB，在460°C時下降6.32dB。接著，厚度為0.15mm的習知偏光玻璃的消光比在420°C時降低了0.36dB，在440°C時降低了0.14dB，在460°C時降低了4.22dB。最後，厚度為0.12mm的習知偏光玻璃的消光比在420°C時下降0.32dB，在440°C時下降0.19dB，在460°C時下降3.21dB。
鑒於上述，本申請的目的在於，提供一種相較於習知偏光玻璃更薄，且具有較優耐熱性的偏光玻璃，以及具有此種偏光玻璃的光隔離器。 （解決問題之手段）
本發明人為了實現上述目的而進行了深入研究，結果，隨使偏光玻璃自身的厚度變薄，致使透過還原工程形成於兩面的金屬層之間存在的未還原層（金屬鹵化物層）變薄，在抑制消光比的降低的同時，亦可以得到優異耐熱性的偏光玻璃。本發明是基於這樣的發現而完成的。
即，本申請在一實施例中提供一種偏光玻璃，包括金屬層及金屬鹵化物層。金屬層係由略呈針狀的多個金屬微粒平行地且定向分散而形成，且金屬層從偏光玻璃的兩表面朝向內側形成。金屬鹵化物層形成於金屬層之中並具有金屬鹵素微粒。偏光玻璃的總厚度小於0.12mm，金屬層的厚度為0.030mm至0.045mm，金屬鹵化物層的厚度為0.001mm至0.040mm。
此外，本申請在一實施例中提供一種偏光玻璃，包括金屬層及金屬鹵化物層。金屬層係由略呈針狀的多個金屬微粒平行地且定向分散而形成，且金屬層從偏光玻璃的兩表面朝向內側形成。金屬鹵化物層形成於金屬層之中並具有金屬鹵素微粒。偏光玻璃的總厚度小於0.12mm，金屬層的厚度為0.010mm至0.030mm，金屬鹵化物層的厚度為0.001mm至0.060mm。
在一些實施例中，金屬微粒係為銅或銀之微粒。
又，本申請在一實施例中提供一種光隔離器，光隔離器具備上述任一種偏光玻璃。 （發明之效果）
如此，透過本申請，可以實現相較於習知偏光玻璃更薄，且具優異耐熱性的偏光玻璃，以及具有此種偏光玻璃的光隔離器。
關於本申請的實施例，請參照下文的圖式及說明。圖中相同或相應的部分由相同的附圖標記表示，並且將不再贅述。
圖1為根據本申請一實施例偏光玻璃的結構示意圖，圖1（a）為平面圖，圖1（b）為側剖視圖。此外，圖2為根據本申請一實施例具有偏光玻璃的光隔離器及其周邊光學系統構成之概略側剖視圖。如圖1及圖2所示，在本實施例中的偏光玻璃10（圖2中，以偏光元件10a、10b表示），是安裝在光隔離器100的法拉第旋轉器110的兩側的偏光元件，且係由銀或銅構成的針狀金屬微粒在玻璃基板的長軸方向上朝著特定方向定向地分散所形成的光學元件。
如圖2所示，在本實施例中的光隔離器100的周邊的光學系統，以光隔離器100為中心，構成有透鏡115、115´、光纖116、半導體雷射等光源117。在圖2中，標號118、118´係表示返回至光源117的反饋光之光束，光束118係表示透過光纖116的端面反射的反射光等，光束118´係表示透射過偏光元件10B的光束。如圖2所示的光隔離器100，偏光元件10A、10B的偏光透射軸相互以45度角配置，且法拉地旋轉器110的偏光面旋轉角為45度，如此以設定出光路長度。從光源117射出的光束（圖未示出），透過透鏡115´變換成平行光束，只有和偏光元件10b的偏光透射軸平行的方向上具有偏光的光入射至法拉第旋轉器110。入射至法拉第旋轉器110的光的偏光方向，藉由永磁體（圖未示出）引起的法拉第效應旋轉45度。如上述，由於偏光元件10A、10B的偏光透射軸相互以45度角配置，透射過法拉第旋轉器110的光的偏光方向，和偏光元件10A的偏光透射軸一致。因此，透過法拉第旋轉器110的光幾乎沒有損失地透射過偏光元件10A，並由透鏡115聚光，再入射至光纖116。
透過光纖116的端面，或被配置於光纖116的後段的光學元件（圖未示出）反射並返回到光源的反饋光束118，儘管經由與從上述光源117發射的光束相反的光路返回到光源117，在此狀況下，因為法拉第旋轉器110的非均向性，透射過法拉第旋轉器110的反饋光束118的偏光方向，由於與偏光元件10B的偏光透射軸呈90度的角度，反饋光束118在透射過偏光元件10B的時候，光能將大幅地損失（即，反饋光束118被阻擋）。
如此，透過在法拉第旋轉器110的兩側設置有偏光玻璃10的光隔離器100，可以阻擋返回到光源117的反饋光束118'。
如圖1所示，本實施例的偏光玻璃10，呈矩形板狀（例如，11mm（寬方向）×11mm（長方向）、厚度0.02~0.11mm）之外觀，在表面及背面上形成係由兩表面略呈針狀的大量金屬微粒平行且定向地分散而成的金屬層，金屬層12、14之間形成有具有金屬鹵化微粒的金屬鹵化物層（未還原層）16(圖1（b）)。金屬層12、14透過後述的還原工程，以析出由銀或銅構成的針狀金屬微粒並形成有預定厚度（例如，0.010~0.045mm）的層。此外，透過後述的還原工程形成金屬層12、14，金屬鹵化物層16從而形成於金屬層12、14內部並形成有預定厚度（例如，0.001~0.060mm）的層。 （偏光玻璃10的製造方法）
本實施例中的偏光玻璃10，透過以下的順序製造而成。 （1）將含有銅或銀的玻璃材料製備成所需的組成，在約1450°C下熔化，然後冷卻至室溫（玻璃基體的製造工程）。 （2）透過施以熱處理，從玻璃中析出氯化亞銅或氯化銀的微粒（金屬鹵化物微粒的析出工程）。 （3）透過機械加工製作具有適當形狀的預成形物（預成形物製造工程）。 （4）將預成形物於預定的條件下加熱拉伸，得到玻璃板（玻璃的拉伸工程）。 （5）將玻璃板切斷，將兩表面拋光以製成兩表面拋光物（拋光物製造工程）。 （6）將拋光物於氫氣環境中進行還原，析出針狀的金屬（銅或銀）微粒，並形成金屬層12、14以及金屬鹵化物層（還原工程）。 （玻璃基體）
本實施例中的偏光玻璃10的玻璃基體，係為矽酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃或硼矽酸鹽玻璃等玻璃，用於析出銅微粒的具體原料組成以重量百分比計算時，以 SiO 2：48~65、 B 2O 3：13~33、 Al 2O 3：6~13、 AlF 3：0~5、 鹼金屬氧化物：7~17、 鹼金屬氯化物：0~5、 鹼土金屬氧化物：0~5、 氧化銅和鹵化銅：0.3~2.5、 SnO：0~0.6、 As 2O 3：0~5， 該些原料所組成，並可以包含Y 2O 3、La 2O 3、V 2O 5、Ta 2O 5、WO 3及Nb 2O 5之中至少一種添加成分。此外，在此種狀況下，每種選擇的添加成分的含量以莫耳百分比計算在0.05～4％的範圍內，選擇多種添加成分時的總含量以莫耳百分比計算為在6％以下，另外，以玻璃基體整體的重量百分比換算時，玻璃基板中含有的Cl可以為0.47～0.58重量百分比。
此外，作為析出銀微粒情況的具體原料組成為， SiO 2：50~65%、 B 2O 3：15~22%、 Al 2O 2：0~4%、 ZrO 2：2~8%、 6%＜Al 2O 3+ZrO 2＜12%、 R 2O：6~16%（然而，R係為Li、Na和K中的至少一種）、 Li 2O：0~3%、 Na 2O: 0~9%、 K 2O：4~16%、 Li 2O+Na 2O＜K 2O、 BaO及/或SrO：0~7%、 TiO 2：0~3%， 根據上述，對於100重量百分比的組合物， Ag：0.15~1.0%、 Cl及/或Br：可以至少含有Ag的化學當量或更多。
透過此種製造工程所製造的偏光玻璃10中，針狀金屬微粒僅存在於偏光玻璃10的表面附近（也就是說，金屬層12、14），其存在的範圍（也就是說，金屬層12、14分別的厚度）取決於還原步驟的條件，例如大氣溫度和暴露於還原環境的時間。也就是說，透過控制還原工程的條件，可以控制金屬層12、14的厚度，也可以控制形成於金屬層12、14之間的金屬鹵化物層16的厚度。
在此，發明人對偏光玻璃10的耐熱性進行了深入研究，結果，偏光玻璃10的轉化溫度（glass transition temperature, Tg），約為500°C，如上所述，厚度0.20mm、0.15mm、0.12mm的狀況中（也就是說，習知的偏光玻璃），可知在500°C以下，偏光玻璃的消光比將下降（也就是說，偏光特性劣化），且偏光玻璃越厚，降低量越顯著（如圖4所示）。關於此點，由於偏光玻璃內部的鹵化物金屬CuCl、AgCl、AgBr的熔點，分別為430°C、455°C、434°C，當偏光玻璃10暴露於430~455°C的高溫時，金屬鹵化物層16的針狀鹵化物金屬液化，透過緩和存在於其附近的金屬層12、14的內部應變，結果，拉伸的針狀之形狀變鈍，因為針狀的金屬微粒子的形狀變鈍，使得長寬比（縱橫比）降低，致使消光比下降。因此，在本實施例中，透過將偏光玻璃10的總厚度變薄，以控制金屬鹵化物層16的厚度（也就是說，薄化），減少鹵化物金屬液化及固化的影響，提升偏光玻璃10的耐熱性。此外，一般來說，偏光玻璃10的消光特性，除了針狀金屬微粒的長寬比以外，也會根據其密度和微粒的大小及金屬層12、14的厚度而變化。另一方面，當針狀金屬微粒變得太大或金屬層12和14的厚度變得太厚時，插入損耗（insertion loss）特性將惡化。關於此些參數根據偏光玻璃10的組成具有適當的範圍，並在適當的範圍內進行設計（容後詳述）。
關於使金屬鹵化物層16變薄的另一種方法，係為增加金屬層12和14的厚度而不改變偏光玻璃10的總厚度。但是，此種方法存在使金屬層12、14變厚需要花費較多時間（也就是說，還原工程較花費時間）以及成本增加的問題。
一般來說，氫從偏光玻璃10的表面擴散的距離L由下式（1）表示。 L=2（Dt） 1/2…（1） 此處，D係為擴散係數，t係為時間。 擴散距離L，與時間t的平方根成正比，因此需要四倍的還原時間才能使金屬層12、14的厚度加倍。此外，在金屬層12、14較厚的情況下，金屬層12、14與金屬鹵化物層16的邊界變得難以觀察。發明人深入研究後，結果，如果各金屬層12、14的厚度在0.045mm以內，金屬層12、14與金屬鹵化物層16之間的邊界，可以用光學顯微鏡或數位顯微鏡（例如，KEYENCE公司的數位顯微鏡VHX系列）清楚地觀察，各厚度的測量精度可以在±0.002mm以內。但是，如果金屬層12、14的厚度超過0.045mm，則金屬層12、14與金屬鹵化物層16的邊界將變得不清楚，而導致±0.005mm以上的測量誤差。 另外，如果還原時間變長，金屬層12、14的厚度超過0.045mm，則在還原的金屬層12、14中，可能殘留大量的不完全還原部，即金屬鹵化物。接著，對此種偏光玻璃10進行耐熱性試驗時（也就是說，加熱時），如上所述，殘留在金屬層12、14中的金屬鹵化物透過在因液化和冷卻時的固化而產生的凝固熱來緩和內部應變，使得針狀金屬微粒的形狀變鈍，結果，產生金屬微粒的長寬比下降，及消光比下降的問題。 此外，如果在金屬層12、14的內部含有此種的金屬鹵化物，由於受到影響的針狀金屬微粒彼此更接近地存在，致使消光比下降更多。在這種情況下，金屬層12、14越厚、金屬鹵化物層16越薄，則耐熱性沒有得到提高。另外，在金屬層12、14的厚度為0.010mm以下的情況下，具有偏光特性的金屬層12、14的厚度過薄，無法得到充分的消光比。此外，發明人深入研究後，結果，已知金屬層12、14的厚度為0.009mm以下的偏光玻璃10，消光比為25dB左右，因為消光比過低，不適合用於光隔離器。
如此，在本實施例中，透過將各金屬層12、14的厚度作為0.010~0.045mm，及將偏光玻璃10的總厚度變薄，使的金屬鹵化物層16變薄，減少鹵化物金屬液化、固化的影響，提升偏光玻璃10的耐熱性。具體來說，偏光玻璃10的厚度小於0.12mm，透過控制還原工程的條件以控制金屬層12、14的厚度，各金屬層12、14的厚度係為0.030~0.045mm的情況下，金屬鹵化物層16的厚度範圍設定為0.001~0.040mm，各金屬層12、14的厚度係為0.010~0.030mm的情況下，金屬鹵化物層16的厚度範圍設定為0.001~0.060mm。
下文中，關於本實施例的偏光玻璃10，請參照實施例和比較例進一步的描述，但本申請不限於以下實施例。 （第一實施例） 〔1. 玻璃基體的製造工程〕
第一實施例的偏光玻璃，以重量百分比換算時，使用了SiO 2：58.4、B 2O 3：20.1、Al 2O 2：6.7、AlF 3：2.0、Na 2O：8.8、NaCl：1.7、Y 2O 3：1.7、CuCl：0.5、SnO：0.1的玻璃基體。作為原料，透過將SiO 2、H 3BO 3、Al(OH) 3、Al3 2、Na 2CO 3、NaCl、Y 2O 3、CuCl、SnO加入五公升的白金坩堝，並於1450°C下溶解後，倒入石墨模具中成形，並冷卻至室溫來進行製造。 〔2. 金屬鹵化物微粒的析出工程〕
將該玻璃基體置於耐熱模具中，並在700°C下進行熱處理6小時以析出CuCl微粒。 〔3. 預成形物製造工程〕
然後，將其加工成形狀為120×250×4mm的預成形物。 〔4. 玻璃的拉伸工程〕
將預成形物在拉絲爐中以約620°C的溫度加熱和拉伸，以獲得具有約18mm的寬度和約0.5mm的厚度的玻璃板。 〔5. 拋光物的製造工程〕
對玻璃板進行兩表面切割和拋光，以製作主平面為11平方毫米，厚度分別為0.1mm和0.08mm，兩種的兩表面拋光物。 〔6. 還原工程〕
將此兩種兩表面拋光物在氫氣環境下，以440°C進行7小時的熱處理，將被拉伸的CuCl微粒還原，析出針狀Cu金屬微粒，以製造具有偏光特性的偏光玻璃10。圖3為還原工程後的第一實施例之偏光玻璃截面的數位顯微鏡照片，圖3（a）為表示厚度0.1mm的偏光玻璃10之截面，圖3（b）為表示厚度0.08mm的偏光玻璃10之截面。如圖3所示，形成於偏光玻璃10的表面及背面的金屬層12、14，和形成於金屬層12、14之間的金屬鹵化物層（未還原層）16的顏色不同。圖3中的偏光玻璃10的外側（左右）部分是為了使偏光玻璃10的邊界清楚顯示而準備的背景。 （第一比較例）
作為第一比較例，與第一實施例同樣的方法，製造主平面11平方毫米，厚度分別為0.06mm、0.12mm、0.15mm、0.20mm的四種偏光玻璃。
表1為表示第一實施例的偏光玻璃10及第一比較例的偏光玻璃的截面構造。表1中的金屬層厚度（單表面）、金屬層厚度（兩表面總和）、及未還原層厚度，是將各樣品分為二份，並使用數位顯微鏡測定，得到斷裂面的厚度方向之金屬層（金屬層12、14：Cu層（棕色的著色部份））及未還原層的厚度（金屬鹵化物層16：（未著色部份））。表1中各數值的單位為「mm」。此外，在表1中的「*」為表示第一比較例。
[表1]
Figure 02_image001
〔耐熱性試驗1〕
關於第一實施例的偏光玻璃10及第一比較例的偏光玻璃的各樣品，在常溫下測定消光比後，分別立於SUS製造的支架並置入於電器爐，再分別於420°C、440°C、460°C各溫度下進行2小時的熱處理。熱處理後，測定各樣品的消光比，並比較熱處理前後的消光比。
表2為表示關於第一實施例的偏光玻璃10及第一比較例的偏光玻璃，在測定波長1650nm下比較熱處理前後的消光比結果。表2中各數值的單位為「dB」。此外，在表2中的「*」為表示第一比較例。
[表2]
Figure 02_image003
根據表2可得知，以460°C進行2小時的熱處理的消光比的下降，明顯地隨著偏光玻璃的厚度變薄而減少。此外，在厚度0.12mm（第一比較例）的狀況下，消光比的下降為-3.21dB，和在厚度0.20mm（第一比較例）的狀況比較下，消光比的下降約為一半。另外，在厚度0.10mm（第一實施例）及厚度0.08mm（第一實施例）的狀況下，消光比的下降分別為-2.57dB及-2.50dB，和在厚度0.20mm（第一比較例）的狀況比較下，消光比的下降被抑制，降低量減少約60%左右。接著，在厚度0.10mm、0.08mm（第一實施例）的狀況下，進行了420°C、440°C、460°C等溫度的熱處理，消光比為-3.00dB以下，其耐熱性顯著地提高。此外，沒有金屬鹵化物層16（未還原層）且厚度0.06mm的樣品，其金屬層12、14的厚度較其他厚度的樣品薄，而其熱處理前的消光比與其他厚度的樣品比較下，由於大約低了10dB，即使熱處理後的消光比下降被抑制得較低，也是因為初始消光比較低，使得熱處理後的消光比降低量會相較於其他樣品還要少。
根據以上結果，在第一實施例中，藉由將偏光玻璃10的厚度設為低於0.12mm，各金屬層12、14的厚度設為高於0.030mm，金屬鹵化物層16的厚度設為低於0.044mm，能夠使偏光玻璃10較習知偏光玻璃薄，也可以顯著地提高耐熱性。因此，如上所述，金屬層12、14的厚度如果過厚，將需要更多還原時間，且金屬層12、14和金屬鹵化物層16之間的邊界將變得不清楚，如果厚度超過0.045mm，恐導致金屬鹵化物16和邊界附近的金屬層12、14內的鹵化物金属殘留，故可知各金屬層12、14的厚度為0.030~0.045mm。此外，若是偏光玻璃的總厚度過薄使得沒有金屬鹵化物層16，且具有消光特性的金屬層12、14的厚度變薄時，將無法得到足夠的消光比，因此金屬鹵化物層16的厚度設定為0.001~0.040mm的範圍較佳。此外金屬鹵化物層16的厚度設定為0.001~0.030mm的範圍時，能有更佳的耐熱性。 （第二實施例） 〔1. 玻璃基體的製造工程〕
第二實施例的偏光玻璃，以重量百分比換算時，使用了SiO 2：58.7、B 2O 3：18.0、Al 2O 3：2.0、Li 2O：1.8、K 2O：7.9、BaO：3.4、TiO 2：1.5、ZrO 2：5.9、Ag：0.3、Cl：0.5的玻璃基體。作為原料，透過將SiO 2、H 3BO 3、Al(OH) 3、Li 2CO 3、K 2CO 3、KNO 3、BaCO 3、TiO 2、ZrO 2、KCl、AgCl加入五公升的白金坩堝，並於1450°C下溶解後，倒入石墨模具中成形，並冷卻至室溫來進行製造。 〔2. 金屬鹵化物微粒的析出工程〕
將該玻璃基體置於耐熱模具中，並在720°C下進行熱處理6小時以析出AgCl微粒。 〔3. 預成形物製造工程〕
然後，將其加工成形狀為110×280×4mm的預成形物。 〔4. 玻璃的拉伸工程〕
將預成形物在拉絲爐中以約640°C的溫度加熱和拉伸，以獲得具有約17mm的寬度和約0.6mm的厚度的玻璃板。 〔5. 拋光物的製造工程〕
對玻璃板進行兩表面切割和拋光，以製作主平面為11平方毫米，厚度分別為0.1mm、0.08mm及0.006mm，三種的兩表面拋光物。 〔6. 還原工程〕
將此三種兩表面拋光物在氫氣環境下，以440°C進行4小時的熱處理，將被拉伸的AgCl微粒還原，析出針狀Ag金屬微粒，以製造具有偏光特性的偏光玻璃10。 （第二比較例）
作為第二比較例，與第二實施例同樣的方法，製造主平面11平方毫米，厚度分別為0.046mm、0.12mm、0.15mm、0.20mm的四種偏光玻璃。
表3為表示第二實施例的偏光玻璃10及第二比較例的偏光玻璃的截面構造。表3中的金屬層厚度（單表面）、金屬層厚度（兩表面總和）、及未還原層厚度，是將各樣品分為二份，並使用光學顯微鏡測定，得到斷裂面的厚度方向之金屬層（金屬層12、14：Ag層（土黃色的著色部份））及未還原層的厚度（金屬鹵化物層16：（未著色部份））。表3中各數值的單位為「mm」。此外，在表3中的「*」為表示第二比較例。
[表3]
Figure 02_image005
〔耐熱性試驗2〕
關於第二實施例的偏光玻璃10及第二比較例的偏光玻璃的各樣品，在常溫下測定消光比後，分別立於SUS製造的支架並置入於電器爐，再分別於420°C、440°C、460°C各溫度下進行2小時的熱處理。熱處理後，測定各樣品的消光比，並比較熱處理前後的消光比。
表4為表示關於第二實施例的偏光玻璃10及第二比較例1的偏光玻璃，在測定波長1650nm下比較熱處理前後的消光比結果。表4中各數值的單位為「dB」。此外，在表4中的「*」為表示第二比較例。
[表4]
Figure 02_image007
根據表4可得知，以460°C進行2小時的熱處理的消光比的下降，明顯地隨著偏光玻璃的厚度變薄而減少。此外，在厚度0.10mm、0.08mm、0.06mm（第二實施例）的狀況下，進行了420°C、440°C、460°C等溫度的熱處理，消光比為-2.62dB以下，其耐熱性顯著地提高。另外，沒有金屬鹵化物層16（未還原層）且厚度0.046mm（第二比較例）的樣品，其金屬層12、14的厚度較其他厚度的樣品薄，而其熱處理前的消光比與其他厚度的樣品比較下，由於大約低了10dB，即使熱處理後的消光比下降被抑制得較低，也是因為初始消光比較低，使得熱處理後的消光比降低量會相較於其他樣品還要少。
根據以上結果，在第二實施例中，藉由將偏光玻璃10的厚度設為低於0.12mm，各金屬層12、14的厚度設為低於0.028mm（大約0.030mm），金屬鹵化物層16的厚度設為低於0.064mm，能夠使偏光玻璃10較習知偏光玻璃薄，也可以顯著地提高耐熱性。因此，如上所述，由於在金屬層12、14的厚度為0.010mm以下的狀況，具有偏光特性的金屬層12、14的厚度太薄，無法得到足夠的消光比，故可知金屬層12、14的厚度為0.010~0.030mm。此外，若是偏光玻璃的總厚度過薄使得沒有金屬鹵化物層16，且具有消光特性的金屬層12、14的厚度變薄時，將無法得到足夠的消光比，因此可得知金屬鹵化物層16的厚度設定為0.001~0.060mm的範圍較佳。此外金屬鹵化物層16的厚度設定為0.001~0.050mm的範圍時，能有更佳的耐熱性。 （第一實施例（第一比較例）與第二實施例（第二比較例）之間的比較）
第一比較例厚度0.06mm的偏光玻璃（表1、表2），與第二比較例厚度0.046mm的偏光玻璃（表3、表4）比較下，兩者的未還原層厚度皆為0.000mm，但第一比較例厚度0.06mm的偏光玻璃，以460°C進行2小時的熱處理的消光比的下降，係為-2.31dB（表2），第二比較例厚度0.046mm的偏光玻璃，係為-1.69dB。也就是說，第二比較例厚度0.046mm的偏光玻璃，相較於第一比較例厚度0.06mm的偏光玻璃，更抑制了消光比的下降。其理由為，第一比較例厚度0.06mm的偏光玻璃的各金屬層12、14厚度為0.030mm，第二比較例厚度0.046mm的偏光玻璃的各金屬層12、14厚度為0.023mm，由於第一比較例的金屬層12、14較厚，如上所述，由於金屬層12、14中存在較多還原不充分的金屬鹵化物，在460°C下進行熱處理2小時後，殘留的金屬鹵化物因為液化、固化產生的影響，針狀金屬微粒的形狀變得更加鈍，致使消光比的降低量增加。
接著，第一實施例厚度0.08mm的偏光玻璃10（表1、表2），與第二實施例厚度0.06mm的偏光玻璃10（表3、表4）比較下，兩者的未還原層厚度皆為0.004mm，但第一實施例厚度0.08mm的偏光玻璃10，以460°C進行2小時的熱處理的消光比的下降，係為-2.50dB（表2），第二實施例厚度0.06mm的偏光玻璃10，係為-1.82dB。也就是說，第二實施例厚度0.06mm的偏光玻璃10，相較於第一比較例厚度0.08mm的偏光玻璃10，更抑制了消光比的下降。其理由，和第一比較例厚度0.06mm的偏光玻璃及第二比較例厚度0.046mm的偏光玻璃之比較理由相同，由於第一實施例厚度0.08mm的偏光玻璃10的金屬層12、14較厚，金屬層12、14中存在較多還原不充分的金屬鹵化物，在460°C下進行熱處理2小時後，殘留的金屬鹵化物因為液化、固化產生的影響，針狀金屬微粒的形狀變得更加鈍，致使消光比的降低量增加。
此外，第一實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10（表1、表2），與第二實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10（表3、表4）比較下，第一實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10之未還原層厚度為0.024mm，以460°C進行2小時的熱處理的消光比的下降，係為-2.57dB（表2），第二實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10之未還原層厚度為0.044mm，其消光比的下降，係為-2.62dB。也就是說，第一實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10與第二實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10，消光比的下降程度相近。其理由，與上述理由相同，第二實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10的金屬層12、14較薄，金屬層12、14中存在較少還原不充分的金屬鹵化物，在460°C下進行熱處理2小時後，第二實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10的消光比下降被抑制得比第一實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10還要低，即使第二實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10的未還原層厚度增加0.020mm，整體來說，熱處理後的消光比的下降程度，仍與第一實施例厚度0.10mm的偏光玻璃10相近。
以上為對本申請實施例的說明，但本申請不限於上述該些實施例，在不脫離本申請之技術思想的範圍內，可以進行各種變化。
另外，本次公開的實施方式在所有方面均是例示，應認為其不是限制性的內容。本發明的範圍不是由上述的說明示出，而是由申請專利範圍示出，包括與申請專利範圍等同的含義以及範圍內的所有變更。
10:偏光玻璃 10A:偏光元件 10B:偏光元件 12:金屬層 14:金屬層 16:金屬鹵化物層 100:光隔離器 110:法拉第旋轉器 115:透鏡 115´:透鏡 116:光纖 117:光源 118:反饋光束 118´:反饋光束
[圖1]為根據本申請一實施例偏光玻璃的結構示意圖。 [圖2]為根據本申請一實施例具有偏光玻璃的光隔離器及其周邊光學系統構成之概略側剖視圖。 [圖3]為根據本申請一實施例偏光玻璃（實施例1）的截面之數位顯微鏡照片。 [圖4]為以習知技術的方法製造的偏光玻璃之耐熱性試驗的結果示意圖。
10:偏光玻璃
12:金屬層
14:金屬層
16:金屬鹵化物層

Claims (4)

  1. 一種偏光玻璃，包括： 金屬層，係由略呈針狀的多個金屬微粒平行地且定向分散而形成，且該金屬層從該偏光玻璃的兩表面朝向內側形成；以及 金屬鹵化物層，形成於該金屬層之中，並具有金屬鹵化微粒； 其中，該偏光玻璃的總厚度小於0.12mm； 其中，該金屬層的厚度為0.030mm至0.045mm； 其中，該金屬鹵化物層的厚度為0.001mm至0.040mm。
  2. 一種偏光玻璃，包括： 金屬層，略呈針狀的多個金屬微粒平行地且定向分散而形成，且該金屬層從該偏光玻璃的兩表面朝向內側形成；以及 金屬鹵化物層，形成於該金屬層之中，並具有金屬鹵素微粒； 其中，該偏光玻璃的總厚度小於0.12mm； 其中，該金屬層的厚度為0.010mm至0.030mm； 其中，該金屬鹵化物層的厚度為0.001mm至0.060mm。
  3. 如請求項1或2所述之偏光玻璃，其中該金屬微粒係為銅或銀之微粒。
  4. 一種光隔離器，包括如請求項1至3任一項所述之偏光玻璃。
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