TW202222721A - 玻璃基板及電子元件的製造方法 - Google Patents

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伊藤茂嘉
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日商日本電氣硝子股份有限公司
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Abstract

矩形狀的玻璃基板1具有沿著板拉伸方向Y的第一邊1y及沿著寬度方向X的第二邊1x，第二邊1x的長度為1500 mm以上，厚度為1.3 mm以下。於以成為在寬度方向X上等間隔L分離的位置關係的方式，自寬度方向X的一端側依序設定呈相同大小的矩形狀的七個評價區域A、B、C、D、E、F、G的情況下，評價區域C、D、E的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E為負。

Description

玻璃基板及電子元件的製造方法
本發明是有關於一種玻璃基板及電子元件的製造方法。
於面板顯示器（例如，液晶顯示器、有機電致發光顯示器）等電子元件的製造步驟中，包括使用光微影術而於玻璃基板（素玻璃）上重疊多層薄膜圖案而形成的成膜步驟。該些薄膜圖案伴隨著面板顯示器的高精細化而變得更複雜且緻密（例如，專利文獻1及專利文獻2）。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2016-74582號公報 [專利文獻2]國際公開第2017/150266號
[發明所欲解決之課題]
但是，形成於玻璃基板上的薄膜圖案（例如閘電極的圖案）例如是利用總間距這一指標進行評價。總間距為是否如設計般限制了薄膜圖案的指標，例如是利用標注有管理標記等的預定的兩點間的設計距離與實測距離的差進行管理。若該總間距的差（以下稱為「總間距偏移」）變得過大，則意味著薄膜圖案以大幅偏離設計的狀態形成，因此有產生畫素的開口率降低或畫素間的漏光等而電子元件的品質顯著降低的擔憂。
作為總間距偏移變大的原因之一，可列舉於在薄膜圖案的成膜步驟中將玻璃基板配置於曝光裝置時，玻璃基板不規則地位移。詳細而言，玻璃基板實際上並非理想的平面，受到緩冷條件的影響而呈稍微偏離理想的平面的形狀。因此，若玻璃基板為不適當的形狀，則於將玻璃基板吸附於曝光裝置的吸附平台上的過程中，在不適當的方向上施加使玻璃基板模仿吸附平台變形的力，玻璃基板的位置不規則地變動。於該狀態下，進行曝光時，曝光誤差變大，結果形成於玻璃基板上的薄膜圖案的總間距偏移變大。另外，特別是於在玻璃基板上塗佈黑色矩陣（Black Matrix，BM）膜後，利用光罩進行圖案化，之後，於塗佈有RGB三色的彩色濾光片的彩色濾光片步驟中，若於形成更高精細的顯示器時產生圖案的偏移，則存在於進行最終畫面顯示時，產生顏色不均（不均勻）的情況。
本發明的課題在於提供一種能夠確實地減低薄膜圖案的總間距偏移的玻璃基板。另外，本發明的課題在於提供一種包括確實地減低了薄膜圖案的總間距偏移的玻璃基板的電子元件。 [解決課題之手段]
（a） 為解決所述課題而創造的本發明是一種矩形狀玻璃基板，其特徵在於具有沿著板拉伸方向的第一邊及沿著與板拉伸方向正交的寬度方向的第二邊，第二邊的長度為1500 mm以上且厚度為1.3 mm以下，將其中一主表面設為保證面，於自寬度方向的一端側依序設定呈相同大小的矩形狀的七個評價區域A、B、C、D、E、F、G的情況下，由下述式（1）求出的中央部的評價區域C、D、E的板拉伸方向上的表背彎曲差的平均值ΔH C-E為負。 表背彎曲差=（Y 1-Y 2）[mm]   …（1） Y 1：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝下時的板拉伸方向上的彎曲 Y 2：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝上時的板拉伸方向上的彎曲
據此，玻璃基板於使保證面朝上的狀態下，與評價區域C、D、E對應的寬度方向的中央部在板拉伸方向上成為碗型形狀。此處，於觀察玻璃基板中沿著板拉伸方向的任意線狀區域（剖面）的情況下，該線狀區域於緩冷時通過相同的地方來進行板拉伸。即，即便板拉伸方向的位置不同，沿著板拉伸方向的該線狀區域的熱歷程等緩冷條件實質上亦相同。因此，若寬度方向的位置相同，則板拉伸方向的形狀顯示出實質上相同的傾向。因此，若為所述結構，則玻璃基板於使保證面朝上的狀態下，寬度方向的中央部並不限於評價區域的範圍內而於板拉伸方向的大致全長上且在板拉伸方向上成為碗型形狀。若為此種呈碗型形狀的玻璃基板，則於利用吸附平台來吸附保證面的背側的非保證面時，以板拉伸方向的中央部為起點，自中央部朝向板拉伸方向的端部依序順利地進行吸附，因此可抑制位移的產生。即，能夠確實地減低形成於玻璃基板的保證面的薄膜圖案的總間距偏移。
（b） 於所述（a）的結構中，較佳為評價區域A、B、C、D、E、F、G的板拉伸方向上的表背彎曲差的平均值ΔH A-G為負。
據此，玻璃基板的寬度方向的大致整體於板拉伸方向的大致全長上成為碗型形狀。因此，於利用吸附平台來吸附玻璃基板的非保證面時，可進一步抑制玻璃基板產生位移，因此可進一步減低薄膜圖案的總間距偏移。
（c） 於所述（a）或（b）的結構中，較佳為於將評價區域A、B、C、D、E、F、G的板拉伸方向上的表背彎曲差各自的值設為ΔH A、ΔH B、ΔH C、ΔH D、ΔH E、ΔH F、ΔH G時，ΔH A～ΔH G中的至少ΔH C、ΔH D、ΔH E分別為負。
據此，成為玻璃基板的面內的形狀變化少且形狀平滑地變化的碗型形狀。因此，於利用吸附平台來吸附玻璃基板的非保證面時，可進一步抑制玻璃基板產生位移，因此可進一步減低薄膜圖案的總間距偏移。
（d） 於所述（a）～（c）的任一結構中，較佳為評價區域A、B、C、D、E、F、G中的板拉伸方向上的表背彎曲差的最大值ΔH max與評價區域A、B、C、D、E、F、G中的板拉伸方向上的表背彎曲差的最小值ΔH min的差ΔH max-ΔH min為0.5 mm以下。
據此，可減低板拉伸方向上的表背彎曲差的不均。即，可抑制板拉伸方向上的玻璃基板的大的形狀變化，因此於利用吸附平台來吸附玻璃基板的非保證面時，可抑制產生吸附不足或吸附不良。因此，可有助於薄膜圖案的總間距偏移的減低。
（e） 於所述（a）～（d）的任一結構中，較佳為由下述式（2）求出的中央部的評價區域C、D、E的寬度方向上的表背彎曲差的平均值ΔV C-E為ΔV C-E≦0。 表背彎曲差=（X 1-X 2）[mm]   …（2） X 1：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝下時的寬度方向上的彎曲 X 2：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝上時的寬度方向上的彎曲
據此，玻璃基板於使保證面朝上的狀態下，與評價區域C、D、E對應的寬度方向的中央部在寬度方向上亦成為碗型形狀或大致平坦形狀。因此，於利用吸附平台來吸附玻璃基板的非保證面時，可進一步抑制玻璃基板產生位移。即，可進一步減低薄膜圖案的總間距偏移。
（f） 於所述（e）的結構中，較佳為評價區域A、B、C、D、E、F、G的寬度方向上的表背彎曲差的平均值ΔV A-G為負。
據此，玻璃基板於使保證面朝上的狀態下，寬度方向整體在寬度方向上亦成為碗型形狀。因此，於利用吸附平台來吸附玻璃基板的非保證面時，可進一步抑制玻璃基板產生位移，因此可進一步減低薄膜圖案的總間距偏移。
（g） 於所述（e）或（f）的結構中，較佳為評價區域A、B、C、D、E、F、G中的寬度方向上的表背彎曲差的最大值ΔV max與評價區域A、B、C、D、E、F、G中的寬度方向上的表背彎曲差的最小值ΔV min的差ΔV max-ΔV min為0.7 mm以下。
據此，可減低寬度方向上的表背彎曲差的不均。即，可抑制寬度方向上的玻璃基板的大的形狀變化，因此於利用吸附平台來吸附玻璃基板的非保證面時，可更確實地抑制產生吸附不足或吸附不良。因此，可進一步減低薄膜圖案的總間距偏移。
（h） 於所述（a）～（g）的任一結構中，較佳為玻璃基板為顯示器用的低鹼玻璃基板，且應變點為670℃以上，楊氏模量為77 GPa以上，且於500℃下保持1小時時的熱收縮量為40 ppm以下。
（i） 於所述（a）～（h）的任一結構中，較佳為非保證面的算術平均粗糙度Ra為0.5 nm以下。
（j） 於所述（a）～（i）的任一結構中，較佳為第二邊的長度為2200 mm以上。
（k） 於所述（j）的結構中，進而佳為第一邊的長度為1900 mm以上。
（l） 於所述（a）～（k）的任一結構中，較佳為玻璃基板的厚度為0.5 mm以下。
（m） 為解決所述課題而創造的本發明是一種電子元件的製造方法，其特徵在於包括：準備步驟，準備適宜具備所述（a）～（l）結構的玻璃基板；以及製作步驟，使用玻璃基板來製作電子元件；製作步驟包括將使保證面朝上的玻璃基板以載置於吸附平台的狀態進行吸附的吸附步驟，於吸附步驟中，以玻璃基板的板拉伸方向的中央部為起點，沿著板拉伸方向進行玻璃基板的吸附。
據此，藉由已敘述的相同的理由，可製造包括確實地減低了薄膜圖案的總間距偏移的玻璃基板的電子元件。 [發明的效果]
根據本發明，可提供一種能夠確實地減低薄膜圖案的總間距偏移的玻璃基板及包括確實地減低了薄膜圖案的總間距偏移的玻璃基板的電子元件。
以下，參照隨附圖式對本發明的實施方式進行說明。
（第一實施方式） 如圖1所示，本實施方式的玻璃基板1例如可藉由溢流下拉法、流孔下引法、再拉法等下拉法或浮式法等公知的伴隨板拉伸的成形方法來製造。於本實施方式中，可藉由溢流下拉法來成形玻璃帶，藉由自該玻璃帶的切出而獲得規定尺寸的矩形狀的玻璃基板1。若為溢流下拉法，則所成形的玻璃帶的表背兩表面是於成形過程中不接觸成形體的任何部位地成形，因此有成為具有非常平滑的表面性狀的鍛造面的優點。再者，藉由溢流下拉法而成形的玻璃基板1於板厚方向的中央區域具有成形合流面。
玻璃基板1具有沿著板拉伸方向Y的第一邊1y及沿著與板拉伸方向Y正交的寬度方向X的第二邊1x。玻璃基板1的板拉伸方向Y例如可藉由在暗室中一邊調整玻璃基板1的角度一邊自光源（例如氙燈）照射光，將其透射光投影於螢幕上，以條紋狀的條紋圖案的形式觀測。因此，即便是成型後的玻璃基板1的狀態，於成形時亦可特定板拉伸方向Y。
玻璃基板1中，將其中一主表面設為保證面1a，將另一主表面設為非保證面1b。保證面1a為保證規定的品質，於製造電子元件時供薄膜圖案形成的面，於玻璃基板1的搬送、加工等各步驟中盡可能維持非接觸狀態。於該情況下，位於保證面1a的背側的非保證面1b設為於搬送時或加工等各步驟時搬送裝置等所接觸的接觸面。
作為玻璃基板1，例如可列舉顯示器用的低鹼玻璃基板。此處，作為「顯示器」，例如可列舉液晶顯示器、有機電致發光（Electroluminescence，EL）顯示器等。另外，所謂「低鹼玻璃」是指鹼成分（鹼金屬氧化物）少的玻璃或實質上不含鹼成分的玻璃。
作為具體的低鹼玻璃的組成，較佳為以莫耳%計而含有60%～75%的SiO 2、5%～20%的Al 2O 3、0%～15%的B 2O 3、0%～未滿1%的Li 2O+Na 2O+K 2O（Li 2O、Na 2O及K 2O的合計量）、0%～10%的MgO、0%～15%的CaO、0%～10%的SrO、0%～10%的BaO，其中，特佳為以下的玻璃組成例。
作為第一玻璃組成的例子，較佳為以莫耳%計而含有60%～70%的SiO 2、9.5%～17%（特別是11%～15%）的Al 2O 3、0%～9%（特別是5%～7%）的B 2O 3、0%～未滿1%（特別是0%～0.5%）的Li 2O+Na 2O+K 2O、0%～8%（特別是2%～6%）的MgO、2%～15%（特別是6%～11%）的CaO、0%～10%（特別是0.1%～3%）的SrO、0.1%～5%的BaO。據此，可提高液相黏度與楊氏模量。結果，容易製作薄壁的玻璃板G，進而容易減低該玻璃板G的彎曲量。
作為第二玻璃組成的例子，較佳為以莫耳%計而含有62%～72%的SiO 2、9.5%～16%（特別是11%～15%）的Al 2O 3、1%～8%（特別是2%～4%）的B 2O 3、0%～未滿1%（特別是0%～0.5%）的Li 2O+Na 2O+K 2O、1%～9%（特別是4%～8%）的MgO、2%～10%（特別是3%～8%）的CaO、0.1%～5%（特別是1%～3%）的SrO、0.1%～5%（特別是1%～3%）的BaO。據此，可提高液相黏度與楊氏模量。結果，容易製作薄壁的玻璃板G，進而容易減低該玻璃板G的彎曲量。
作為第三玻璃組成的例子，較佳為以莫耳%計而含有67%～77%的SiO 2、9%～14%的Al 2O 3、0%～3%（特別是0%～未滿1%）的B 2O 3、0%～未滿1%（特別是0%～0.5%）的Li 2O+Na 2O+K 2O、0%～5%（特別是2%～5%）的MgO、0%～10%（特別是6%～9%）的CaO、0%～5%的SrO、0%～7%（特別是3%～6%）BaO。據此，容易將應變點提高至730℃以上。
以兩點支撐玻璃基板1時的最大彎曲量Y max（mm）可由以下的式（3）規定。 Y max=5g/32×d（1-ν 2）/E×10 -9×L 4/t 2（3） 此處，g：重力加速度[m/S 2]、d：玻璃基板的密度[g/cm 3]、E：楊氏模量[GPa]、ν：泊松比、L：支撐點間的距離[mm]、t：玻璃基板的板厚[mm]。
如式（3）記載般，玻璃基板1的彎曲量與板厚的平方成反比，因此板厚越小的玻璃基板1，對於彎曲的影響越顯著。特別是於0.5 mm以下的薄的玻璃基板1的情況下，玻璃基板1容易彎曲。因此，於薄的玻璃基板1的情況下，玻璃基板1的彎曲大幅影響成膜步驟內的玻璃基板1的形狀。
如式（3）記載般，玻璃基板1的彎曲量與保持玻璃基板1時的支撐點間距離的四次方成比例。因此，於大板的玻璃基板1的情況下，玻璃基板1的彎曲亦大幅影響成膜步驟內的玻璃基板1的形狀。
於式（3）中，泊松比於顯示器用玻璃基板中為大致0.2左右，由於無差，因此對彎曲造成大的影響的特性成為楊氏模量。楊氏模量大的玻璃材質可抑制玻璃基板1的彎曲變形，因此可抑制玻璃基板1於熱處理步驟、搬送步驟等的顯示器步驟內的變形。因此，可較佳地用作高精細的顯示器用玻璃基板。
玻璃基板1的第一邊1y的長度較佳為1300 mm以上、1500 mm以上、1800 mm以上、1900 mm以上、特別是2100 mm以上。另外，玻璃基板1的第二邊1x的長度較佳為1500 mm以上、1800 mm以上、2150 mm以上、2200 mm以上、特別是2400 mm以上。另一方面，第一邊1y與第二邊1x的長度均較佳為4000 mm以下。於本實施方式中，第一邊1y的長度為2200 mm或1950 mm，第二邊1x的長度為2500 mm或2250 mm。
玻璃基板1的厚度較佳為1.3 mm以下、1.0 mm以下、0.7 mm以下、特別是0.5 mm以下。另一方面，玻璃基板1的厚度較佳為0.2 mm以上、特別是0.3 mm以上。
玻璃基板1的楊氏模量較佳為77 GPa以上、80 GPa以上、特別是83 GPa以上。再者，「楊氏模量」是指利用基於日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）R1602的動態彈性模數測定法（共振法）而測定的值。
另外，於伴隨熱處理步驟的情況下，產生由熱處理引起的玻璃基板1的收縮（壓實），所述熱處理步驟是於在玻璃基板1上成膜後以高溫進行加熱。因此，於玻璃基板1被供於例如高精細的顯示器元件的製造步驟中的情況下，較佳為具有收縮量小的特性。
玻璃基板1的應變點較佳為670℃以上、700℃以上、特別是720℃以上。據此，例如於高精細的顯示器元件、特別是氧化物薄膜電晶體（Thin Film Transistor，TFT）或低溫多晶矽TFT的製造步驟中，容易抑制玻璃基板1的熱收縮或變形。另一方面，若玻璃基板1的應變點過高，則成形步驟內、特別是緩冷步驟中的溫度變得過高，而難以控制玻璃基板1的形狀，製造成本容易高漲。因此，玻璃板1的應變點較佳為800℃以下、790℃以下、特別是780℃以下。再者，「應變點」是基於美國試驗材料學會（American Society for Testing Material，ASTM）C336及C338的方法而測定的值。
玻璃板1的於500℃下保持1小時時的熱收縮量較佳為40 ppm以下、30 ppm以下、特別是20 ppm以下。據此，即便是伴隨熱處理步驟的情況，亦可抑制由熱處理引起的玻璃基板1的收縮（壓實），所述熱處理步驟是於在玻璃基板1上成膜後以高溫進行加熱。因此，可較佳地用作高精細的顯示器用玻璃基板。再者，「熱收縮量」是利用以下方法來測定。首先，準備160 mm×30 mm的長條狀試樣作為測定用的試樣。於距該長條狀試樣的長邊方向的端20 mm～40 mm附近，利用#1000的耐水研磨紙進行標記，在與標記正交的方向上折斷分割，獲得兩個試驗片。以規定條件對折斷分割的其中一試驗片進行熱處理後，將未進行熱處理的另一試樣片與進行了熱處理的試樣片並排並利用膠帶等加以固定。於該狀態下，藉由雷射顯微鏡來讀取標記的位移量（ΔL1、ΔL2），並藉由下述（4）來算出熱收縮量。 熱收縮量[ppm]=（ΔL1[μm]+ΔL2[μm]）/160×10 -3（4）
玻璃基板1的形狀、具體而言是玻璃基板1的沿著板拉伸方向Y的方向的形狀與沿著寬度方向X的方向的形狀可分別使用表背彎曲差進行評價。
首先，對根據表背彎曲差Y 1-Y 2來評價玻璃基板1的沿著板拉伸方向Y的方向的形狀的方法進行說明。
如圖1所示，針對一片玻璃基板1，設定沿著寬度方向X的方向的位置相互不同的七個矩形狀的評價區域A～評價區域G。各評價區域A～評價區域G是自寬度方向X的一端側依序設定。評價區域B～評價區域F是沿著寬度方向X呈一列且無間隙地並排配置。另外，評價區域A及評價區域G的板拉伸方向Y的位置與評價區域B～評價區域F不同。評價區域A的中央側的寬度方向的位置與評價區域B重覆，評價區域G的中央側的寬度方向的位置與評價區域F重覆。此時，各評價區域A～評價區域G設定於玻璃基板1的保證面中例如在成膜步驟中供薄膜圖案形成的有效區（省略圖示）內。本實施方式的有效區的沿著寬度方向X的尺寸為2500 mm。
此處，於本實施方式中，各評價區域A～評價區域G是沿著板拉伸方向Y的邊2y的長度為500 mm、沿著寬度方向X的邊2x的長度為400 mm的矩形狀。評價區域A與評價區域B的寬度方向的位置重覆的長度、及評價區域G與評價區域F的寬度方向的位置重覆的長度為150 mm。於有效區的沿著寬度方向X的尺寸並非2500 mm的情況下，沿著寬度方向X的邊2x的長度設定為有效區的沿著寬度方向X的尺寸的16%。另外，評價區域A與評價區域B的寬度方向的位置重覆的長度、及評價區域G與評價區域F的寬度方向的位置重覆的長度設定為有效區的沿著寬度方向X的尺寸的6%。沿著板拉伸方向Y的邊2y的長度設為沿著寬度方向X的邊2x的長度的125%。
自玻璃基板1採取與各評價區域A～評價區域G對應的位置及大小的試樣玻璃（玻璃片）3，針對一片玻璃基板1獲取與評價區域A～評價區域G對應的七片試樣玻璃3。即，試樣玻璃3具有相當於評價區域A～評價區域G的邊2y的沿著板拉伸方向Y的邊3y、及相當於評價區域A～評價區域G的邊2x的沿著寬度方向X的邊3x。
以所述方式準備七片試樣玻璃3後，測定各試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2。具體而言，如圖2所示，於使試樣玻璃3的非保證面3b（與玻璃基板1的非保證面1b相同側的面）朝上的狀態下，利用一對支撐構件4來支撐試樣玻璃3的板拉伸方向Y的兩端部。此時，關於利用一對支撐構件4的試樣玻璃3的支撐跨距M，於沿著板拉伸方向Y的邊3y的長度為500 mm、沿著寬度方向X的邊3x的長度為400 mm的情況下，設定為480 mm，於其以外的情況下，設定為自試樣玻璃3的與板拉伸方向Y平行的邊3y的長度減去20 mm而得的值。於該狀態下，如圖3所示，測定試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的第一彎曲Y 1（圖中的實線所示的狀態）的大小。所測定的第一彎曲Y 1的大小換算為支撐跨距M為350 mm時的第一彎曲Y 1。例如，於支撐跨距M為M1（任意值）mm的情況下，利用Y 1×（350/M1）進行換算。
同樣地，於使試樣玻璃3表背反轉而使試樣玻璃3的保證面3a（與玻璃基板1的保證面1a相同側的面）朝上的狀態下，利用一對支撐構件4來支撐試樣玻璃3的板拉伸方向Y的兩端部。於該狀態下，如圖3所示，測定試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的第二彎曲Y 2（圖中的一點鏈線所示的狀態）的大小。所測定的第二彎曲Y 2的大小換算為支撐跨距M為350 mm時的第二彎曲Y 2。
於以所述方式測定第一彎曲Y 1及第二彎曲Y 2後，自第一彎曲Y 1減去第二彎曲Y 2，藉此獲取板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2。
藉由對與各評價區域A～評價區域G對應的全部的試樣玻璃3進行以上的作業，可把握各評價區域A～評價區域G的板拉伸方向Y的形狀。例如，如圖3所示，於第一彎曲Y 1小於第二彎曲Y 2且表背彎曲差Y 1-Y 2為負的情況下，玻璃基板1中試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的彎曲方向為保證面3a凹陷的方向，其大小可利用表背彎曲差Y 1-Y 2的絕對值進行評價。另一方面，於第一彎曲Y 1大於第二彎曲Y 2且表背彎曲差Y 1-Y 2為正的情況下（省略圖示），玻璃基板1中試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的彎曲方向為非保證面3b凹陷的方向，其大小可利用表背彎曲差Y 1-Y 2的絕對值進行評價。此處，於觀察玻璃基板1中沿著板拉伸方向Y的任意線狀區域（剖面）的情況下，即便板拉伸方向Y的位置不同，該線狀區域上的各地點的緩冷條件亦實質上相同。因此，若寬度方向X的位置相同，則板拉伸方向Y的形狀顯示出實質上相同的傾向。因此，僅利用與各評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3來求出表背彎曲差Y 1-Y 2，就可間接地把握玻璃基板1的有效區整體的板拉伸方向Y的形狀。
其次，對根據表背彎曲差X 1-X 2來評價玻璃基板1的沿著寬度方向X的方向的形狀的方法進行說明。
於準備與圖1所示的評價區域A～評價區域G對應的七片試樣玻璃3後，測定各試樣玻璃3的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2。所準備的試樣玻璃3可為於評價沿著板拉伸方向Y的方向的形狀時使用的試樣玻璃3。具體而言，如圖4所示，於使試樣玻璃3的非保證面3b朝上的狀態下，利用一對支撐構件5來支撐試樣玻璃3的寬度方向X的兩端部。此時，關於利用一對支撐構件5的試樣玻璃3的支撐跨距N，於沿著板拉伸方向Y的邊3y的長度為500 mm、沿著寬度方向X的邊3x的長度為400 mm的情況下，設定為380 mm，於其以外的情況下，設定為自試樣玻璃3的與寬度方向X平行的邊3x的長度減去20 mm而得的值。於該狀態下，如圖5所示，測定試樣玻璃3的寬度方向X上的第一彎曲X 1（圖中的實線所示的狀態）的大小。所測定的第一彎曲X 1的大小換算為支撐跨距N為350 mm時的第一彎曲X 1。
同樣地，於使試樣玻璃3表背反轉而使試樣玻璃3的保證面3a朝上的狀態下，利用一對支撐構件5來支撐試樣玻璃3的寬度方向X的兩端部。於該狀態下，如圖5所示，測定試樣玻璃3的寬度方向X上的第二彎曲X 2（圖中的一點鏈線所示的狀態）的大小。所測定的第二彎曲X 2的大小換算為支撐跨距N為350 mm時的第二彎曲X 2。
於以所述方式測定第一彎曲X 1及第二彎曲X 2後，自第一彎曲X 1減去第二彎曲X 2，藉此獲取寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2。
藉由對與各評價區域A～評價區域G對應的全部的試樣玻璃3進行以上的作業，可把握各評價區域A～評價區域G的寬度方向X的形狀。例如，如圖5所示，於第一彎曲X 1小於第二彎曲X 2且表背彎曲差X 1-X 2為負的情況下，玻璃基板1中試樣玻璃3的寬度方向X上的彎曲方向為保證面3a凹陷的方向，其大小可利用表背彎曲差X 1-X 2的絕對值進行評價。另一方面，於第一彎曲X 1大於第二彎曲X 2且表背彎曲差X 1-X 2為正的情況下（省略圖示），玻璃基板1中試樣玻璃3的寬度方向X上的彎曲方向為非保證面3b凹陷的方向，其大小可利用表背彎曲差X 1-X 2的絕對值進行評價。此處，於觀察玻璃基板1中沿著寬度方向X的任意線狀區域（剖面）的情況下，若寬度方向X的位置不同，則該線狀區域上的各地點的緩冷條件實質上不同。然而，各評價區域A～評價區域G於玻璃基板1的有效區的整個寬度方向X區域中擴展，因此若利用與各評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3來求出表背彎曲差X 1-X 2，則可直接地把握玻璃基板1的有效區整體的寬度方向X的形狀。
根據所述表背彎曲差來評價本實施方式的玻璃基板1的形狀時，具有如下所述的形狀品質。
即，玻璃基板1中，與位於寬度方向X的中央部的評價區域C、D、E對應的試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E成為負。藉此，玻璃基板1於使保證面1a朝上的狀態下，寬度方向X的中央部於板拉伸方向Y的大致全長上且在板拉伸方向Y上成為碗型形狀（凹形狀）。而且，若為此種呈碗型形狀的玻璃基板1，則例如如圖6A～圖6C所示，於使保證面1a朝上的狀態下，利用吸附平台S來吸附其背側的非保證面1b時，以板拉伸方向Y的中央部1c為起點，沿著板拉伸方向Y依序順利地進行吸附。因此，可抑制玻璃基板1於吸附平台S上的位移。即，能夠確實地減低形成於玻璃基板1的保證面1a的薄膜圖案的總間距偏移。
玻璃基板1較佳為全部的與評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH A-G為負。藉此，玻璃基板1的有效區的寬度方向X整體於板拉伸方向Y的大致全長上成為碗型形狀。因此，可進一步抑制玻璃基板1產生位移。再者，評價區域A～評價區域G的全部表背彎曲差Y 1-Y 2的值無需為負，一部分的值亦可為正。
玻璃基板1較佳為於將評價區域A～評價區域G的板拉伸方向Y上的表背彎曲差各自的值設為ΔH A、ΔH B、ΔH C、ΔH D、ΔH E、ΔH F、ΔH G時，ΔH A～ΔH G中的至少ΔH C、ΔH D、ΔH E分別為負。特佳為相當於中央部的包含ΔH C、ΔH D、ΔH E的至少2/3以上的區域全部為負。藉此，成為玻璃基板1的面內的形狀變化少且形狀平滑地變化的碗型形狀。
玻璃基板1較佳為全部的與評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的最大值ΔH max、和全部的與評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的最小值ΔH min的差ΔH max-ΔH min為0.5 mm以下，進而佳為0.3 mm以下。藉此，可減低板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的不均。即，可抑制板拉伸方向Y上的玻璃基板1的大的形狀變化，因此於利用吸附平台S來吸附玻璃基板1的非保證面1b時，可抑制產生吸附不足或吸附不良。
玻璃基板1較佳為與位於寬度方向X的中央部的評價區域C、D、E對應的試樣玻璃3的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的平均值ΔV C-E為ΔV C-E≦0。藉此，玻璃基板1於使保證面1a朝上的狀態下，寬度方向X的中央部在寬度方向X上亦成為碗型形狀或大致平坦狀。因此，可更確實地抑制玻璃基板1於吸附平台S上產生位移。藉由設為ΔV C-E＜0，自玻璃基板1的中央部向周緣部的吸附不會延遲地進行，因此吸附狀態的玻璃基板的形狀變得平坦且穩定。因此，較佳為ΔV C-E＜0。
玻璃基板1較佳為全部的與評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的平均值ΔV A-G為負。藉此，玻璃基板1的有效區的寬度方向X整體在寬度方向X上亦成為碗型形狀。因此，可更確實地抑制玻璃基板1於吸附平台S上產生位移。再者，評價區域A～評價區域G的全部的表背彎曲差X 1-X 2的值無需為負，一部分的值亦可為正。
玻璃基板1的全部的與評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的最大值ΔV max、和全部的與評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃3的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的最小值ΔV min的差ΔV max-ΔV min較佳為0.7 mm以下，進而佳為0.4 mm以下，最佳為0.3 mm以下。藉此，可減低寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的不均。即，可抑制寬度方向X上的玻璃基板1的大的形狀變化，因此於利用吸附平台S來吸附玻璃基板1的非保證面1b時，可抑制產生吸附不足或吸附不良。
此處，作為玻璃基板1不規則地位移而產生總間距偏移的原因，玻璃基板1的非保證面1b的粗糙度（算術平均粗糙度Ra例如為0.5 nm以下）非常小亦產生影響。特別是於藉由溢流下拉法來成形玻璃基板1的情況下，玻璃基板1的非保證面1b的粗糙度容易變小。若玻璃基板1的非保證面1b的粗糙度小，則成膜時於平台上產生靜電，玻璃基板1的滑動變差，容易阻礙玻璃基板1對於平台的追隨。特別是於玻璃基板1的中央部的表背彎曲差為正及/或周緣部的表背彎曲差為負且向上呈凸形狀的玻璃基板1的情況下，周緣部的彎曲變得相對較大，可抑制平台上的周緣部的玻璃擴散。其結果，於玻璃基板1未穩定移動至所期望的位置的狀態下進行吸附，在玻璃基板1與平台之間產生空隙，會成為位移（總間距偏移）的原因。然而，於本申請案發明中，如上所述般管理玻璃基板1的形狀（彎曲），因此如上所述，即便於非保證面1b的粗糙度小的情況下（算術平均粗糙度Ra為0.5 nm以下），亦可抑制總間距偏移。再者，「算術平均粗糙度Ra」是依據JIS R 1683：2014的算術平均粗糙度，可藉由原子力顯微鏡來測定。
其次，對使用包括以上結構的玻璃基板1的電子元件的製造方法進行說明。此處，電子元件例如為液晶顯示器等面板顯示器，可用作行動電話（特別是智慧型手機）、平板電腦、數位相機、觸控面板顯示器、大型電視等的零件。
此種電子元件的製造方法包括：準備步驟，準備所述玻璃基板1；以及製作步驟，使用玻璃基板1來製作電子元件。
關於製作步驟，雖省略圖示，但包括藉由光微影術而於玻璃基板1的保證面1a上形成薄膜圖案的成膜步驟。
例如，於製造薄膜電晶體（TFT）的情況下，成膜步驟依序包括：金屬膜形成步驟，於玻璃基板1的保證面1a上形成成為薄膜圖案（電晶體配線）的原料的金屬膜（例如，銅、鋁等）；抗蝕劑膜形成步驟，於金屬膜上形成抗蝕劑膜；曝光步驟，對抗蝕劑膜照射紫外線等光而轉印光罩的圖案；顯影步驟，去除抗蝕劑層的曝光部（正型）或非曝光部（負型）；蝕刻步驟，去除未被抗蝕劑膜覆蓋的部分的金屬膜；以及抗蝕劑膜去除步驟，去除抗蝕劑膜。
例如，於製造彩色濾光片的情況下，包括抗蝕劑膜的成膜步驟、R的濾光膜的成膜步驟、G的濾光膜的成膜步驟以及B的濾光膜的成膜步驟。該些各成膜步驟包括膜形成步驟、曝光步驟以及顯影步驟。
其中，曝光步驟包括如下吸附步驟作為介隔光罩照射光的前步驟，所述吸附步驟如圖6A～圖6C所示，於將使保證面1a朝上的玻璃基板1載置於吸附平台S的狀態下，利用吸附平台S來吸附玻璃基板1的非保證面1b。吸附平台S構成為吸附範圍自板拉伸方向Y的中央部朝向板拉伸方向Y的端部逐漸擴大。再者，於圖6A～圖6C中，省略了金屬膜等膜的圖示。
於吸附步驟中，載置於吸附平台S的玻璃基板1於使保證面1a朝上的狀態下，至少寬度方向X的中央部1c在板拉伸方向Y上呈碗型形狀。因此，於吸附步驟中，可以玻璃基板1的中央部1c為起點，沿著板拉伸方向Y進行玻璃基板1的吸附。詳細而言，最初，如圖6A所示，玻璃基板1的中央部1c吸附於吸附平台S。之後，如圖6B所示，自中央部1c朝向第二邊1x（即，板拉伸方向Y的端部），如箭頭W所示，依序進行吸附。然後，藉由此種吸附的進行，如圖6C所示，玻璃基板1整體不會大幅位移地正確地吸附於吸附平台S。因此，於曝光步驟中，可將光罩的圖案正確地轉印於抗蝕劑膜上，因此可確實地減低形成於玻璃基板1的保證面1a的薄膜圖案的總間距偏移。
其次，對包括以上結構的玻璃基板1的製造方法進行說明。
如圖7及圖8所示，玻璃基板1的製造裝置11包括成形爐12、位於成形爐12的下方的緩冷爐14、位於緩冷爐14的下方的冷卻室15及位於冷卻室15的下方的切斷室16。成形爐12與緩冷爐14之間、緩冷爐14與冷卻室15之間、以及冷卻室15與切斷室16之間分別由具有供玻璃帶Gr通過的開口部（例如狹縫）的隔斷構件（例如建築物的底板）F1、F2、F3隔斷。
成形爐12是用於藉由溢流下拉法而由熔融玻璃Gm成形玻璃帶Gr的區域。於成形爐12的內部配置有由熔融玻璃Gm成形玻璃帶Gr的成形體13及對利用成形體13成形的玻璃帶Gr的寬度方向X的兩端部進行冷卻的邊緣輥17。
於成形體13的頂部設置有沿著寬度方向形成的槽部（溢流槽）18。於槽部18的一端側連接有供給管19。熔融玻璃Gm通過該供給管19而供給至槽部18內。熔融玻璃Gm的供給方法並不限定於此。例如，可設為自槽部18的兩端側供給熔融玻璃Gm，亦可設為自槽部18的上方供給熔融玻璃Gm。
成形體13的兩外側面20分別包括呈沿著鉛垂方向的平面狀的垂直面部21、及與垂直面部21的下方相連並呈相對於鉛垂方向傾斜的平面狀的傾斜面部22。各垂直面部21是相互平行的平面。各傾斜面部22是傾斜成隨著朝向下方而相互接近的平面。即，成形體13藉由形成各傾斜面部22而呈自側方觀察時朝向下方前端逐漸變細的楔狀，各傾斜面部22相交的角部形成成形體13的下端部13a。再者，垂直面部21可將形狀變更為傾斜面或曲面等，亦可省略。
邊緣輥17構成為於成形體13的正下方夾持玻璃帶Gr的寬度方向的各端部的輥對。邊緣輥17是懸臂型輥，於成形步驟中始終進行內部冷卻。因此，有時亦將邊緣輥17稱為冷卻輥。
緩冷爐14是用於減低玻璃帶Gr的翹曲及內部應變的區域。於緩冷爐14的內部配置有退火爐輥23。退火爐輥23構成為夾持玻璃帶Gr的寬度方向的各端部的輥對。退火爐輥23可為以跨越玻璃帶Gr的整個寬度方向區域的方式配置的雙端支撐型輥，於本實施方式中為懸臂型輥。退火爐輥23在上下方向上設置有多段。
冷卻室15是用於將玻璃帶Gr冷卻至室溫附近的區域。於冷卻室15的內部配置有搬送輥24。搬送輥24構成為夾持玻璃帶Gr的寬度方向的各端部的輥對。搬送輥24可為以跨越玻璃帶Gr的整個寬度方向區域的方式配置的雙端支撐型輥，於本實施方式中為懸臂型輥。搬送輥24在上下方向上設置有多段。
於退火爐輥23及/或搬送輥24中，亦可包含不夾持玻璃帶Gr的寬度方向X的兩端部的輥。即，亦可使構成退火爐輥23及/或搬送輥24的輥對的相向間隔大於玻璃帶Gr的寬度方向X的兩端部的厚度，以使玻璃帶Gr通過輥對之間。再者，於本實施方式中，利用製造裝置11而獲得的玻璃帶Gr的寬度方向X的兩端部因成形過程的收縮等的影響而包含厚度大於寬度方向X的中央部的耳部。
切斷室16是用於將玻璃帶Gr切斷成規定的大小，獲得作為玻璃物品的玻璃基板1的區域。於切斷室16的內部配置有切斷玻璃帶Gr的切斷裝置（省略圖示）。於本實施方式中，利用切斷裝置進行的玻璃帶Gr的切斷方法是於玻璃帶Gr上形成劃線後，沿著劃線折斷分割的劃線切斷，但並不限定於此。切斷裝置的切斷方法例如亦可為雷射割斷或雷射熔斷等。
於使用所述製造裝置11的玻璃基板1的製造方法中，首先，於成形爐12中，向成形體13的槽部18供給熔融玻璃Gm，使自槽部18向兩側溢出的熔融玻璃Gm分別沿著垂直面部21及傾斜面部22流下，於下端部13a再次合流。藉此，由熔融玻璃Gm連續成形帶狀的玻璃帶Gr（成形步驟）。其次，於緩冷爐14中，對玻璃帶Gr進行緩冷（緩冷步驟），於冷卻室15中，將玻璃帶Gr冷卻至室溫附近（冷卻步驟）。之後，於切斷室16中，將玻璃帶Gr切斷，獲得玻璃基板1（切斷步驟）。切斷步驟包括：第一切斷步驟，將玻璃帶Gr以規定長度為單位在寬度方向X上切斷而獲得玻璃基板1；以及第二切斷步驟，將玻璃基板1的寬度方向X的兩端部的耳部切斷並去除。如上所述般製造的玻璃基板1的板拉伸方向Y相當於圖7及圖8中的玻璃帶Gr的上下方向。再者，於本製造方法中，成形步驟的後步驟並無特別限定。例如，本製造方法亦可更包括將玻璃基板1製成所期望的尺寸的精密切斷步驟、端面加工步驟、清洗步驟、檢查步驟、捆包步驟等。
此處，例如，於利用所述緩冷爐14實施的緩冷步驟中適當地對玻璃帶Gr進行緩冷，藉此於自玻璃帶Gr切出的玻璃基板1中可獲得所述形狀品質。詳細而言，例如如圖9所示，於緩冷爐14中，利用上段的退火爐輥23a與下段的退火爐輥23b使玻璃帶Gr的厚度方向的位置錯開，藉此可製造具有所述形狀品質的玻璃基板1。於將上下方向上的上段的退火爐輥23a與下段的退火爐輥23b的間隔設為P，將厚度方向上的上段的退火爐輥23a與下段的退火爐輥23b的距離設為Q的情況下，只要將Q/P設為0.022以上即可，較佳為設為0.03以上，進而佳為設為0.04以上。
滿足所述位置關係的多段退火爐輥23a、23b較佳為設置於玻璃帶Gr的溫度為應變點～軟化點的區域。或者，滿足所述位置關係的多段退火爐輥23a、23b較佳為設置於玻璃帶Gr的黏度為10 14.5dPa·s～10 7.6dPa·s的區域。
如上所述，於緩冷爐14中，利用上段的退火爐輥23a與下段的退火爐輥23b使玻璃帶Gr的厚度方向的位置錯開，藉此在板拉伸方向Y及寬度方向X上，玻璃帶Gr成為碗形狀。玻璃帶Gr的寬度方向X的形狀亦可藉由利用退火爐輥23a使作用於玻璃帶Gr上的寬度方向的張力變化來調整。例如，關於玻璃帶Gr的寬度方向X的形狀，若增加作用於玻璃帶Gr的寬度方向的張力，則接近平坦形狀，若減小張力，則彎曲而成為碗形狀。作用於玻璃帶Gr的寬度方向的張力例如可根據玻璃帶Gr的溫度來調整。
再者，本發明並不限定於所述實施方式的結構，並不限定於所述作用效果。本發明能夠於不脫離本發明的主旨的範圍內進行各種變更。
例如，玻璃基板1中，若平均值ΔH C-E為負，則平均值ΔV C-E可為正。 [實施例]
以下，對本發明的實施例進行說明，但本發明並不限定於該實施例。
本發明人們實施用於確認本發明的效果的比較試驗作為第一實施例。於該試驗中，製作實施例1～實施例10的玻璃基板及比較例1～比較例8的玻璃基板，並評價各例中的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2與寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2。另外，於各例中，亦對根據表背彎曲差Y 1-Y 2或表背彎曲差X 1-X 2而求出的ΔH C-E、ΔH A-G、ΔH max-ΔH min、ΔV C-E、ΔV A-G、ΔV max-ΔV min進行評價。進而，對總間距偏移及彩色濾光片的顏色不均進行評價。
本發明的實施例的顯示器用低鹼玻璃基板使用應變點為685℃、楊氏模量為78 GPa、500℃-1小時的熱處理後的壓實（熱收縮量）為約25 ppm的日本電氣硝子股份有限公司製造的OA-11材質。基於以下若干例進行評價。
第一實施例中的各例的評價條件如下所述。 （1）各例中的玻璃基板的板拉伸方向Y的邊的長度為2200 mm，寬度方向X的邊的長度為2500 mm，厚度為0.5 mm。 （2）各例中的玻璃基板的七個評價區域A～評價區域G是以圖1所示的態樣設定。各評價區域A～評價區域G的板拉伸方向Y的邊的長度為500 mm，寬度方向X的邊的長度為400 mm。在寬度方向X上鄰接的評價區域的寬度方向中心間的間隔L1、L2在評價區域B～評價區域F間為400 mm，在評價區域A與評價區域B之間及評價區域F與評價區域G之間為250 mm。 （3）於測定表背彎曲差Y 1-Y 2時，各例中的與各評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃的板拉伸方向Y的支撐跨距M設定為480 mm。於測定表背彎曲差X 1-X 2時，各例中的與各評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃的寬度方向X的支撐跨度N設定為380 mm。再者，於各例的各評價區域中，用於測定表背彎曲差Y 1-Y 2的試樣玻璃與用於測定表背彎曲差X 1-X 2的試樣玻璃使用相同的玻璃。 （4）於各例中的玻璃基板上形成包含黑色矩陣的彩色濾光片的薄膜圖案，並測定總間距，同時評價顏色不均。將所測定的總間距以優良（◎）、良好（〇）、可（△）、不可（×）這四階段進行評價。顏色不均以良好（〇）、可（△）、不可（×）這三階段進行評價。
將於以上的條件下進行的比較試驗的結果示於表1～表4中。再者，表1是實施例1～實施例8的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的結果，表2是實施例1～實施例8的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的結果。另一方面，表3是比較例1～比較例8的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的結果，表4是比較例1～比較例8的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的結果。
[表1]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10
評價區域A的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.14 0.00 0.01 0.15 -0.02 0.00 0.00 0.19 0.00 0.26
評價區域B的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.04 0.00 -0.06 -0.07 -0.05 -0.14 -0.08 0.14 -0.16 -0.16
評價區域C的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.00 0.00 -0.14 -0.07 -0.19 -0.21 -0.20 -0.17 -0.29 -0.13
評價區域D的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.02 -0.13 -0.21 0.03 -0.21 -0.18 -0.28 -0.19 -0.29 0.00
評價區域E的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.02 -0.10 -0.23 -0.03 -0.16 -0.14 -0.10 -0.14 -0.11 0.00
評價區域F的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.03 0.00 -0.09 -0.06 0.02 0.09 0.00 -0.09 0.00 -0.22
評價區域G的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.03 0.05 -0.02 0.18 0.08 0.06 0.07 -0.17 0.09 -0.14
ΔH C-E[mm] -0.01 -0.08 -0.19 -0.02 -0.18 -0.18 -0.19 -0.17 -0.23 -0.04
ΔH A-G[mm] -0.03 -0.03 -0.11 0.02 -0.08 -0.07 -0.08 -0.06 -0.11 -0.06
ΔH max-ΔH min[mm] 0.17 0.18 0.24 0.25 0.29 0.30 0.35 0.39 0.39 0.48
總間距偏移 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 〇 〇 〇
CF的顏色不均 〇 △ 〇 △ 〇 〇 △ △ △ △
[表2]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10
評價區域A的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.01 0.17 0.04 0.03 -0.12 0.00 0.00 0.17 -0.13 0.29
評價區域B的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.03 0.00 -0.12 -0.09 -0.05 0.07 0.00 -0.08 -0.10 0.15
評價區域C的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.06 0.00 -0.02 -0.05 -0.25 -0.09 -0.11 0.11 -0.10 -0.37
評價區域D的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.03 0.00 -0.13 -0.03 0.09 0.00 0.11 -0.15 0.06 -0.57
評價區域E的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.03 0.00 -0.13 -0.02 0.05 -0.13 0.00 -0.28 0.00 -0.09
評價區域F的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.03 -0.08 -0.19 0.03 -0.06 -0.05 -0.14 -0.18 -0.10 -0.11
評價區域G的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.04 0.10 0.09 0.00 0.05 -0.05 0.00 0.08 -0.04 0.11
ΔV C-E[mm] -0.04 0.00 -0.09 -0.03 -0.03 -0.07 0.00 -0.10 -0.02 -0.34
ΔV A-G[mm] -0.02 0.03 -0.07 -0.02 -0.04 -0.03 -0.02 -0.05 -0.06 -0.09
ΔV max-ΔV min[mm] 0.09 0.25 0.28 0.12 0.34 0.20 0.25 0.44 0.18 0.86
總間距偏移 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 〇 〇 〇
CF的顏色不均 〇 △ 〇 △ 〇 〇 △ △ △ △
[表3]
   比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 比較例7 比較例8
評價區域A的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.19 -0.17 -0.11 0.33 -0.03 -0.03 0.10 -0.11
評價區域B的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.18 -0.16 0.06 0.19 0.00 0.12 0.00 -0.04
評價區域C的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.22 0.31 0.14 0.13 0.13 0.26 0.00 0.00
評價區域D的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.17 0.28 0.12 0.09 0.18 0.36 0.15 0.05
評價區域E的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.28 0.18 0.24 0.06 0.17 0.31 0.00 0.00
評價區域F的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.37 -0.33 0.29 0.00 -0.06 -0.03 -0.14 0.00
評價區域G的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.18 0.18 0.17 0.30 -0.13 -0.03 -0.09 -0.25
ΔH C-E[mm] 0.22 0.25 0.17 0.09 0.16 0.31 0.05 0.02
ΔH A-G[mm] 0.01 0.04 0.13 0.16 0.04 0.14 0.00 -0.05
ΔH max-ΔH min[mm] 0.64 0.64 0.41 0.33 0.31 0.39 0.29 0.29
總間距偏移 × × × × × × △ △
CF的顏色不均 × × × × × × × ×
[表4]
   比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 比較例7 比較例8
評價區域A的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.09 0.19 -0.41 -0.33 -0.28 -0.29 0.17 -0.09
評價區域B的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.29 -0.13 0.05 -0.17 0.02 -0.18 0.07 -0.15
評價區域C的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.64 0.07 0.41 0.39 0.03 -0.03 -0.39 -0.52
評價區域D的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.69 0.08 0.29 0.46 0.15 0.01 -0.47 -0.29
評價區域E的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.61 0.13 0.24 0.49 0.04 -0.11 -0.15 0.07
評價區域F的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.74 -0.41 0.18 -0.29 0.00 -0.19 -0.12 0.12
評價區域G的表背彎曲差X 1-X 2[mm] -0.19 -0.24 -0.05 -0.19 -0.39 -0.09 0.10 0.26
ΔV C-E[mm] 0.19 0.10 0.31 0.45 0.07 -0.04 -0.34 -0.25
ΔV A-G[mm] -0.11 -0.04 0.10 0.05 -0.06 -0.13 -0.11 -0.09
ΔV max-ΔV min[mm] 1.38 0.60 0.82 0.82 0.54 0.30 0.64 0.77
總間距偏移 × × × × × × △ △
CF的顏色不均 × × × × × × × ×
根據表1及表2而亦可知：於實施例1～實施例10中，評價區域C～評價區域E的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E為負值，彩色濾光片的總間距偏移的評價及顏色不均的評價均為優良、良好或可。相對於此，根據表3及表4而亦可知：於比較例1～比較例8中，評價區域C～評價區域E的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E為正值，總間距偏移的評價及顏色不均的評價均為不可。根據以上所述而亦可確認：至少評價區域C～評價區域E的板拉伸方向上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E為負的情況對於薄膜圖案的總間距偏移的減低而言有效。
於實施例1～實施例6中，ΔH max-ΔH min及ΔV max-ΔV min均為0.3 mm以下，總間距偏移的評價為優良。相對於此，於實施例7～實施例10中，ΔH max-ΔH min及ΔV max-ΔV min的任一者或兩者增加而成為超過0.3 mm的數值，總間距偏移的評價為降低為良好。據此而可確認：藉由減低ΔH max-ΔH min及ΔV max-ΔV min而可進一步減低總間距偏移。
於實施例1、實施例3、實施例5及實施例6中，ΔH A-G及ΔV A-G均為負值，成為分別在板拉伸方向Y整體及寬度方向X整體上保證面側凹陷的碗型形狀，顏色不均的評價為良好。相對於此，於實施例4中，ΔH A-G為正值，板拉伸方向Y的中央為碗型形狀，但板拉伸方向Y的兩端未成為碗型形狀。另外，於實施例2中，ΔV A-G為正值，寬度方向X的中央為碗型形狀，但寬度方向X的兩端未成為碗型形狀。其結果，於實施例2及實施例4中，顏色不均的評價降低為可。據此而可確認：藉由將ΔH A-G及ΔV A-G均設為負值而可進一步減低總間距偏移。
其次，對第二實施例進行說明。第二實施例中的各例的評價條件如下所述。 （1）各例中的玻璃基板的板拉伸方向Y的邊的長度為1950 mm，寬度方向X的邊的長度為2250 mm，厚度為0.4 mm。 （2）各例中的玻璃基板的七個評價區域A～評價區域G是與圖1所示的態樣同樣地設定。各評價區域A～評價區域G的板拉伸方向Y的邊的長度為500 mm，寬度方向X的邊的長度為400 mm。在寬度方向X上鄰接的評價區域的寬度方向中心間的間隔L1、L2在評價區域B～評價區域F間為400 mm，在評價區域A與評價區域B之間及評價區域F與評價區域G之間為125 mm。 （3）於測定表背彎曲差Y 1-Y 2時，各例中的與各評價區域A～評價區域F對應的試樣玻璃的板拉伸方向Y的支撐跨距M設定為480 mm。於測定表背彎曲差X 1-X 2時，各例中的與各評價區域A～評價區域G對應的試樣玻璃的寬度方向X的支撐跨度N設定為380 mm。再者，於各例的各評價區域中，用於測定表背彎曲差Y 1-Y 2的試樣玻璃與用於測定表背彎曲差X 1-X 2的試樣玻璃使用相同的玻璃。 （4）於各例中的玻璃基板上形成包含黑色矩陣的彩色濾光片的薄膜圖案，並測定總間距，同時評價顏色不均。將所測定的總間距以優良（◎）、良好（〇）、可（△）、不可（×）這四階段進行評價。顏色不均以良好（〇）、可（△）、不可（×）這三階段進行評價。
將於以上的條件下進行的比較試驗的結果示於表5～表6中。再者，表5是實施例11～實施例14及比較例9、比較例10的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的結果，表6是實施例11～實施例14及比較例9、比較例10的寬度方向X上的表背彎曲差X 1-X 2的結果。
[表5]
   實施例11 實施例12 實施例13 實施例14 比較例9 比較例10
評價區域A的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.00 -0.07 0.00 0.00 -0.05 0.28
評價區域B的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.07 -0.06 -0.13 0.00 0.05 0.26
評價區域C的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.07 -0.05 -0.09 -0.14 0.05 0.29
評價區域D的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.10 -0.07 -0.06 -0.15 0.08 0.32
評價區域E的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.09 -0.09 -0.08 -0.13 0.11 0.30
評價區域F的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] 0.00 0.00 0.00 0.00 0.15 0.31
評價區域G的表背彎曲差Y 1-Y 2[mm] -0.05 0.00 0.00 0.00 0.18 0.17
ΔH C-E[mm] -0.07 -0.05 -0.06 -0.11 0.10 0.31
ΔH A-G[mm] -0.05 -0.05 -0.05 -0.06 0.08 0.28
ΔH max-ΔH min[mm] 0.10 0.09 0.13 0.15 0.23 0.15
總間距偏移 ◎ ◎ 〇 〇 × ×
CF的顏色不均 △ 〇 △ △ × ×
[表6]
   實施例11 實施例12 實施例13 實施例14 比較例9 比較例10
評價區域A的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.00 -0.11 -0.07 0.29 -0.05 -0.11
評價區域B的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.00 -0.11 -0.18 0.00 0.14 -0.15
評價區域C的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.10 -0.11 0.18 -0.08 0.14 -0.10
評價區域D的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.08 -0.14 0.16 -0.18 0.16 -0.07
評價區域E的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.05 -0.13 0.18 -0.36 0.12 -0.09
評價區域F的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.09 -0.17 0.10 0.36 0.12 -0.01
評價區域G的表背彎曲差X 1-X 2[mm] 0.06 0.05 0.18 0.10 0.00 0.16
ΔV C-E[mm] 0.08 -0.14 0.16 -0.07 0.14 -0.07
ΔV A-G[mm] 0.05 -0.10 0.08 0.02 0.09 -0.05
ΔV max-ΔV min[mm] 0.10 0.22 0.36 0.72 0.21 0.31
總間距偏移 ◎ ◎ 〇 〇 × ×
CF的顏色不均 △ 〇 △ △ × ×
根據表5及表6而亦可知：於實施例11～實施例14中，評價區域C～評價區域E的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E為負值，彩色濾光片的總間距偏移的評價及顏色不均的評價均為優良、良好或可。相對於此，於比較例9、比較例10中，評價區域C～評價區域E的板拉伸方向Y上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E為正值，總間距偏移的評價及顏色不均的評價均為不可。根據以上所述而亦可確認：至少評價區域C～評價區域E的板拉伸方向上的表背彎曲差Y 1-Y 2的平均值ΔH C-E為負的情況對於薄膜圖案的總間距偏移的減低而言有效。
於實施例11、實施例12中，ΔH max-ΔH min及ΔV max-ΔV min均為0.3 mm以下，總間距偏移的評價為優良。相對於此，於實施例13、實施例14中，ΔV max-ΔV min增加而成為超過0.3 mm的數值，總間距偏移的評價降低為良好。據此而可確認：藉由減低ΔH max-ΔH min及ΔV max-ΔV min而可進一步減低總間距偏移。
於實施例12中，ΔH A-G及ΔV A-G均為負值，成為分別在板拉伸方向Y整體及寬度方向X整體上保證面側凹陷的碗型形狀，顏色不均的評價為良好。相對於此，於實施例11、實施例13及實施例14中，ΔH A-G為負值，板拉伸方向Y的中央部及兩端為碗型形狀，但ΔV C-E及ΔV A-G為正值，寬度方向X未成為碗型形狀。其結果，於實施例11、實施例13及實施例14中，顏色不均的評價降低為可。根據所述情況可確認：藉由將ΔH A-G及ΔV A-G均設為負值而可進一步減低總間距偏移。
1:玻璃基板 1a:保證面 1b:非保證面 1c:中央部 1x:沿著寬度方向的邊（第二邊） 1y:沿著板拉伸方向的邊（第一邊） 2x:沿著寬度方向的邊 2y:沿著板拉伸方向的邊 3:試樣玻璃 3a:保證面 3b:非保證面 3x:沿著寬度方向的邊 3y:沿著板拉伸方向的邊 4、5:支撐構件 11:製造裝置 12:成形爐 13:成形體 13a:下端部 14:緩冷爐 15:冷卻室 16:切斷室 17:邊緣輥 18:槽部（溢流槽） 19:供給管 20:外側面 21:垂直面部 22:傾斜面部 23、23a、23b:退火爐輥 24:搬送輥 A～G:評價區域 F1、F2、F3:隔斷構件 Gm:熔融玻璃 Gr:玻璃帶 I、II、W:箭頭 L1、L2、P:間隔 M、N:支撐跨距 Q:距離 S:吸附平台 X 1、X 2:寬度方向上的彎曲 Y 1、Y 2:板拉伸方向上的彎曲 X:寬度方向 Y:板拉伸方向
圖1是本發明的一實施方式的玻璃基板的平面圖。 圖2是用於對自玻璃基板切出的試樣玻璃的板拉伸方向上的表背彎曲差的測定方法進行說明的平面圖。 圖3是自箭頭I的方向觀察利用圖2所示的方法測定表背彎曲差的試樣玻璃的側面圖。 圖4是用於對自玻璃基板切出的試樣玻璃的寬度方向上的表背彎曲差的測定方法進行說明的平面圖。 圖5是自箭頭II的方向觀察利用圖4所示的方法測定表背彎曲差的試樣玻璃的側面圖。 圖6A是表示本發明的一實施方式的電子零件的製造方法中所包括的吸附步驟的圖，且表示吸附步驟的初始階段的狀態。 圖6B是表示本發明的一實施方式的電子零件的製造方法中所包括的吸附步驟的圖，且表示吸附步驟的中間階段的狀態。 圖6C是表示本發明的一實施方式的電子零件的製造方法中所包括的吸附步驟的圖，且表示吸附步驟的最終階段的狀態。 圖7是表示用於製造本發明的一實施方式的玻璃基板的製造裝置的側面剖面圖。 圖8是表示用於製造本發明的一實施方式的玻璃基板的製造裝置的正面剖面圖。 圖9是圖7的退火爐輥周邊的放大圖。
1:玻璃基板
1a:保證面
1b:非保證面
1x:沿著寬度方向的邊(第二邊)
1y:沿著板拉伸方向的邊(第一邊)
2x:沿著寬度方向的邊
2y:沿著板拉伸方向的邊
A、B、C、D、E、F、G:評價區域
L1、L2:間隔
X:寬度方向
Y:板拉伸方向

Claims (13)

  1. 一種玻璃基板，其特徵在於：其為如下矩形狀的玻璃基板，所述矩形狀的玻璃基板具有沿著板拉伸方向的第一邊及沿著與所述板拉伸方向正交的寬度方向的第二邊，所述第二邊的長度為1500 mm以上且厚度為1.3 mm以下，將其中一主表面設為保證面， 於自所述寬度方向的一端側依序設定呈相同大小的矩形狀的七個評價區域A、B、C、D、E、F、G的情況下，由下述式（1）求出的中央部的所述評價區域C、D、E的所述板拉伸方向上的表背彎曲差的平均值ΔH C-E為負； 表背彎曲差=（Y 1-Y 2）[mm]   …（1） Y 1：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝下時的板拉伸方向上的彎曲 Y 2：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝上時的板拉伸方向上的彎曲。
  2. 如請求項1所述的玻璃基板，其中，所述評價區域A、B、C、D、E、F、G的所述板拉伸方向上的表背彎曲差的平均值ΔH A-G為負。
  3. 如請求項1或請求項2所述的玻璃基板，其中，於將所述評價區域A、B、C、D、E、F、G的所述板拉伸方向上的表背彎曲差各自的值設為ΔH A、ΔH B、ΔH C、ΔH D、ΔH E、ΔH F、ΔH G時，ΔH A～ΔH G中的至少ΔH C、ΔH D、ΔH E分別為負。
  4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的玻璃基板，其中，所述評價區域A、B、C、D、E、F、G中的所述板拉伸方向上的表背彎曲差的最大值ΔH max與所述評價區域A、B、C、D、E、F、G中的所述板拉伸方向上的表背彎曲差的最小值ΔH min的差ΔH max-ΔH min為0.5 mm以下。
  5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的玻璃基板，其中，由下述式（2）求出的中央部的所述評價區域C、D、E的所述寬度方向上的表背彎曲差的平均值ΔV C-E為ΔV C-E≦0； 表背彎曲差=（X 1-X 2）[mm]   …（2） X 1：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝下時的寬度方向上的彎曲 X 2：針對與測定表背彎曲差的評價區域對應的試樣玻璃，使保證面朝上時的寬度方向上的彎曲。
  6. 如請求項5所述的玻璃基板，其中，所述評價區域A、B、C、D、E、F、G的所述寬度方向上的表背彎曲差的平均值ΔV A-G為負。
  7. 如請求項5或請求項6所述的玻璃基板，其中，所述評價區域A、B、C、D、E、F、G中的所述寬度方向上的表背彎曲差的最大值ΔV max與所述評價區域A、B、C、D、E、F、G中的所述寬度方向上的表背彎曲差的最小值ΔV min的差ΔV max-ΔV min為0.7 mm以下。
  8. 如請求項1至請求項7中任一項所述的玻璃基板，其為顯示器用的低鹼玻璃基板，且應變點為670℃以上，楊氏模量為77 GPa以上，且於500℃下保持1小時時的熱收縮量為40 ppm以下。
  9. 如請求項1至請求項8中任一項所述的玻璃基板，其中，所述非保證面的算術平均粗糙度Ra為0.5 nm以下。
  10. 如請求項1至請求項9中任一項所述的玻璃基板，其中，所述第二邊的長度為2200 mm以上。
  11. 如請求項10所述的玻璃基板，其中，所述第一邊的長度為1900 mm以上。
  12. 如請求項1至請求項11中任一項所述的玻璃基板，其中，所述厚度為0.5 mm以下。
  13. 一種電子元件的製造方法，其特徵在於包括：準備步驟，準備如請求項1至請求項12中任一項所述的玻璃基板；以及製作步驟，使用所述玻璃基板來製作電子元件；且所述電子元件的製造方法中， 所述製作步驟包括將使所述保證面朝上的所述玻璃基板以載置於吸附平台的狀態進行吸附的吸附步驟， 於所述吸附步驟中，以所述玻璃基板的所述板拉伸方向的中央部為起點，沿著所述板拉伸方向進行所述玻璃基板的吸附。
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