CN116368104A - 玻璃基板以及电子设备的制造方法 - Google Patents

Abstract

矩形形状的玻璃基板1具有沿着拉板方向(Y)的第一边(1y)以及沿着宽度方向(X)的第二边(1x)，第二边(1x)的长度为1500mm以上并且厚度为1.3mm以下。在以成为在宽度方向(X)上以等间隔(L)分离的位置关系的方式从宽度方向(X)的一端侧依次设定有呈相同的大小的矩形形状的七个评价区域A、B、C、D、E、F、G的情况下，评价区域C、D、E的拉板方向(Y)上的表背挠曲差Y₁‑Y₂的平均值ΔH_C‑E为负。

Description

玻璃基板以及电子设备的制造方法

技术领域

本发明涉及玻璃基板以及电子设备的制造方法。

背景技术

在面板显示器(例如，液晶显示器、有机电激光显示)等电子设备的制造工序中，包括使用光刻法在玻璃基板(母玻璃)之上重合形成多层的薄膜图案的成膜工序。这些薄膜图案面板伴随着显示器的高精细化而变得更复杂且细致(例如，专利文献1以及2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-74582号公报

专利文献2：国际公开第2017/150266号

发明内容

发明要解决的课题

另外，形成于玻璃基板上的薄膜图案(例如栅极电极的图案)例如由总间距(totalpitch)这样的指标来评价。总间距为是否按照设计限制了薄膜图案的指标，通过附加了例如管理标记等的预先确定的两点间的设计距离与实测距离之差的值来进行管理。当该总间距之差(以下称作“总间距偏移”)变得过大时，意味着薄膜图案以相对于设计大幅度偏离的状态形成，因此产生像素的开口率降低、像素间的光泄漏等，电子设备的品质可能显著降低。

作为总间距偏移变大的原因之一，可以举出在薄膜图案的成膜工序中在曝光装置配置玻璃基板时玻璃基板不规则地位置偏移。详细而言，玻璃基板实际上不是理想的平面，受到退火条件的影响而呈相对于理想的平面稍微偏离的形状。因此，当玻璃基板为不适当形状时，在将玻璃基板吸附于曝光装置的吸附平台上的过程中，使玻璃基板仿照吸附平台而变形的力沿不适当的方向施加，玻璃基板的位置不规则地变动。在该状态下，当进行曝光时曝光误差变大，结果是，形成于玻璃基板上的薄膜图案的总间距偏移变大。另外，在玻璃基板特别是涂布了黑色矩阵(BM)膜之后利用光掩模进行图案化，之后在涂布RGB3色的滤色片的滤色工序中，若在形成更高精细的显示器时产生图案的偏移，则有时在最终的画面显示时产生颜色的偏差(不均匀)。

本发明的课题在于提供能够可靠地减小薄膜图案的总间距偏移的玻璃基板。另外，本发明的课题还在于提供具备可靠地减小了薄膜图案的总间距偏移的玻璃基板的电子设备。

用于解决课题的方案

(a)为了解决上述的课题而做出的本发明为一种玻璃基板，其呈矩形形状且具有沿着拉板方向的第一边以及沿着与拉板方向正交的宽度方向的第二边，第二边的长度为1500mm以上并且厚度为1.3mm以下，一方的主表面为保证面，

所述玻璃基板的特征在于，

在从宽度方向的一端侧依次设定有呈相同的大小的矩形形状的七个评价区域A、B、C、D、E、F、G的情况下，由下述的数学式(1)求出的中央部的评价区域C、D、E的拉板方向上的表背挠曲差的平均值ΔH_C-E为负，

表背挠曲差＝(Y₁-Y₂)[mm] (1)

Y₁：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向下时的拉板方向上的挠曲，

Y₂：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向上时的拉板方向上的挠曲。

如此一来，玻璃基板在将保证面向上的状态下，与评价区域C、D、E对应的宽度方向的中央部沿拉板方向成为碗型形状。这里，在观察玻璃基板中的沿着拉板方向的任意线状区域(截面)的情况下，该线状区域在退火时在相同的场所通过并被拉板。即，即使拉板方向的位置不同，沿着拉板方向的该线状区域的热履历等退火条件也实质上相同。因此，表现出若宽度方向的位置相同则拉板方向的形状实质上相同的倾向。因而，若为上述的结构，则玻璃基板在将保证面向上的状态下，宽度方向的中央部并不局限于评价区域的范围内，在拉板方向的大致全长的范围内沿拉板方向成为碗型形状。若为呈这种碗型形状的玻璃基板，则在利用吸附平台吸附保证面的背侧的非保证面时，吸附以拉板方向的中央部作为起点从中央部朝向拉板方向的端部依次顺畅地推进，因此能够抑制位置偏移的产生。即，能够可靠地减小在玻璃基板的保证面形成的薄膜图案的总间距偏移。

(b)在上述的(a)的结构中，优选的是，评价区域A、B、C、D、E、F、G的拉板方向上的表背挠曲差的平均值ΔH_A-G为负。

如此一来，玻璃基板的宽度方向的大致整体在拉板方向的大致全长的范围内成为碗型形状。因而，在利用吸附平台吸附玻璃基板的非保证面时，能够进一步抑制在玻璃基板产生位置偏移的情况，因此能够进一步减小薄膜图案的总间距偏移。

(c)在上述的(a)或者(b)的结构中，优选的是，在将评价区域A、B、C、D、E、F、G的拉板方向上的表背挠曲差各自的值设为ΔH_A、ΔH_B、ΔH_C、ΔH_D、ΔH_E、ΔH_F、ΔH_G时，ΔH_A～ΔH_G中的至少ΔH_C、ΔH_D、ΔH_E分别为负。

如此一来，玻璃基板的面内的形状变化小，成为形状平缓变化的碗型形状。因而，在利用吸附平台吸附玻璃基板的非保证面时，能够进一步抑制在玻璃基板产生位置偏移的情况，因此能够进一步减小薄膜图案的总间距偏移。

(d)在上述的(a)～(c)中的任一结构中，优选的是，评价区域A、B、C、D、E、F、G中的拉板方向上的表背挠曲差的最大值ΔH_max与评价区域A、B、C、D、E、F、G中的拉板方向上的表背挠曲差的最小值ΔH_min之差ΔH_max-ΔH_min为0.5mm以下。

如此一来，能够减小拉板方向上的表背挠曲差的偏差。即，能够抑制拉板方向上的玻璃基板的较大的形状变化，因此在利用吸附平台吸附玻璃基板的非保证面时，能够抑制产生吸附不足、吸附不良的情况。因而，能够有助于薄膜图案的总间距偏移的减小。

(e)在上述的(a)～(d)中的任一结构中，优选的是，由下述的数学式(2)求出的中央部的评价区域C、D、E的宽度方向上的表背挠曲差的平均值ΔV_C-E为ΔV_C-E≤0，

表背挠曲差＝(X₁-X₂)[mm] (2)

X₁：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向下时的宽度方向上的挠曲，

X₂：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向上时的宽度方向上的挠曲。

如此一来，玻璃基板在将保证面向上的状态下，与评价区域C、D、E对应的宽度方向的中央部沿宽度方向也成为碗型形状或者大致平坦形状。因此，在利用吸附平台吸附玻璃基板的非保证面时，能够进一步减小在玻璃基板产生位置偏移的情况。即，能够进一步减小薄膜图案的总间距偏移。

(f)在上述的(e)的结构中，优选的是，评价区域A、B、C、D、E、F、G的宽度方向上的表背挠曲差的平均值ΔV_A-G为负。

如此一来，玻璃基板在将保证面向上的状态下，宽度方向整体也沿宽度方向成为碗型形状。因而，在利用吸附平台吸附玻璃基板的非保证面时，能够进一步减小在玻璃基板产生位置偏移的情况，因此能够进一步减小薄膜图案的总间距偏移。

(g)在上述的(e)或者(f)的结构中，优选的是，评价区域A、B、C、D、E、F、G中的宽度方向上的表背挠曲差的最大值ΔV_max与评价区域A、B、C、D、E、F、G中的宽度方向上的表背挠曲差的最小值ΔV_min之差ΔV_max-ΔV_min为0.7mm以下。

如此一来，能够减小宽度方向上的表背挠曲差的偏差。即，能够抑制宽度方向上的玻璃基板的较大的形状变化，因此在利用吸附平台吸附玻璃基板的非保证面时，能够更可靠地抑制产生吸附不足、吸附不良的情况。因而，能够进一步减小薄膜图案的总间距偏移。

(h)在上述的(a)～(g)中的任一结构中，优选的是，玻璃基板为显示器用的无碱玻璃基板，应变点为670℃以上，杨氏模量为77GPa以上，并且在以500℃保持了一小时时的热收缩量为40ppm以下。

(i)在上述的(a)～(h)中的任一结构中，优选的是，非保证面的算术平均粗糙度Ra为0.5nm以下。

(j)在上述的(a)～(i)中的任一结构中，优选的是，第二边的长度为2200mm以上。

(k)在上述的(j)的结构中，进一步优选的是，第一边的长度为1900mm以上。

(1)在上述的(a)～(k)中的任一结构中，优选的是，玻璃基板的厚度为0.5mm以下。

(m)为了解决上述的课题而做出的本发明为一种电子设备的制造方法，具备：准备工序，准备适当具备上述(a)～(1)结构的玻璃基板；以及制作工序，使用玻璃基板来制作电子设备，

所述电子设备的制造方法的特征在于，

制作工序包括将使保证面向上的玻璃基板在载置于吸附平台的状态下吸附的吸附工序，

在吸附工序中，以玻璃基板的拉板方向的中央部为起点，沿着拉板方向推进玻璃基板的吸附。

如此一来，基于已叙述的相同理由，能够制造具备薄膜图案的总间距偏移可靠地减小了的玻璃基板的电子设备。

发明效果

根据本发明，能够提供能够可靠地减小薄膜图案的总间距偏移的玻璃基板以及具备薄膜图案的总间距偏移可靠地减小了的玻璃基板的电子设备。

附图说明

图1是本发明的一实施方式的玻璃基板的俯视图。

图2是用于说明从玻璃基板切出的试样玻璃的拉板方向上的表背挠曲差的测定方法的俯视图。

图3是从箭头I的朝向观察由图2所示的方法测定表背挠曲差的试样玻璃时的侧视图。

图4是用于说明从玻璃基板切出的试样玻璃的宽度方向上的表背挠曲差的测定方法的俯视图。

图5是从箭头II的朝向观察由图4所示的方法测定表背挠曲差的试样玻璃时的侧视图。

图6A是示出本发明的一实施方式的电子部件的制造方法所包括的吸附工序的图，且示出吸附工序的初期的状态。

图6B是示出本发明的一实施方式的电子部件的制造方法所包括的吸附工序的图，且示出吸附工序的中期的状态。

图6C是示出本发明的一实施方式的电子部件的制造方法所包括的吸附工序的图，且示出吸附工序的终期的状态。

图7是示出用于制造本发明的一实施方式的玻璃基板的制造装置的侧剖视图。

图8是示出用于制造本发明的一实施方式的玻璃基板的制造装置的正剖视图。

图9是图7的退火辊周边的放大图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。

(第一实施方式)

如图1所示，本实施方式的玻璃基板1例如由溢流下拉法、狭缝下拉法、再拉法等下拉法、浮法等公知的伴随着拉板的成形方法来制造。在本实施方式中，通过利用溢流下拉法成形玻璃带，并进行从该玻璃带的切出，从而得到规定尺寸的矩形形状的玻璃基板1。若为溢流下拉法，则成形后的玻璃带的表背两面在成形过程中与成形体的任何部位均不接触地成形，因此存在成为具有非常平滑的表面性状的锻造面这样的优点。需要说明的是，由溢流下拉法成形的玻璃基板1在板厚方向的中央区域具有成形合流面。

玻璃基板1具有沿着拉板方向Y的第一边1y以及沿着与拉板方向Y正交的宽度方向X的第二边1x。对于玻璃基板1的拉板方向Y而言，例如通过在暗室中一边调整玻璃基板1的角度一边从光源(例如氙灯)照射光，并将其透过光向屏幕投影，从而能够观测为条状的条纹图样。因而，即使是成形后的玻璃基板1的状态，也能够在成形时确定拉板方向Y。

在玻璃基板1中，一方的主表面成为保证面1a，另一方的主表面成为非保证面1b。保证面1a是保证规定的品质且在电子设备的制造时形成薄膜图案的面，并在玻璃基板1的搬运、加工等各工序中尽量维持非接触状态。在该情况下，位于保证面1a的背侧的非保证面1b为在搬运时或者加工等各工序时搬运装置等所接触的接触面。

作为玻璃基板1，例如，可以举出显示器用的低碱玻璃基板。这里，作为“显示器”，例如，可以举出液晶显示器、有机EL显示器等。另外，“低碱玻璃”是指碱成分(碱金属氧化物)少的玻璃或者实质上不包含碱成分的玻璃。

作为具体的低碱玻璃的组成，优选以摩尔计％含有60～75％的SiO₂、5～20％的Al₂O₃、0～15％的B₂O₃、0以上且小于1％的Li₂O+Na₂O+K₂O(Li₂O、Na₂O以及K₂O的合量)、0～10％的MgO、0～15％的CaO、0～10％的SrO、0～10％的BaO，其中，特别是优选为以下的玻璃组成例。

作为第一玻璃组成的例子，优选为以摩尔％计含有60～70％的SiO₂、9.5～17％(特别是11～15％)的Al₂O₃、0～9％(特别是5～7％)的B₂O₃、0以上且小于1％(特别是0～0.5％)的Li₂O+Na₂O+K₂O、0～8％(特别是2～6％)的MgO、2～15％(特别是6～11％)的CaO、0～10％(特别是0.1～3％)的SrO、0.1～5％的BaO。如此一来，能够提高液相粘度与杨氏模量。结果是，容易制作薄壁的玻璃板G，并且容易减小该玻璃板G的挠曲量。

作为第二玻璃组成的例子，优选为以摩尔％计含有62～72％的SiO₂、9.5～16％(特别是11～15％)的Al₂O₃、1～8％(特别是2～4％)的B₂O₃、0以上且小于1％(特别是0～0.5％)的Li₂O+Na₂O+K₂O、1～9％(特别是4～8％)的MgO、2～10％(特别是3～8％)的CaO、0.1～5％(特别是1～3％)的SrO、0.1～5％(特别是1～3％)的BaO。如此一来，能够提高液相粘度与杨氏模量。结果是，容易制作薄壁的玻璃板G，并且容易减小该玻璃板G的挠曲量。

作为第三玻璃组成的例子，优选为以摩尔％计含有67～77％的SiO₂、9～14％的Al₂O₃、0～3％(特别是0以上且小于1％)的B₂O₃、0以上且小于1％(特别是0～0.5％)的Li₂O+Na₂O+K₂O、0～5％(特别是2～5％)的MgO、0～10％(特别是6～9％)的CaO、0～5％的SrO、0～7％(特别是3～6％)的BaO。如此一来，容易将应变点提高至730℃以上。

以两点支承玻璃基板1的情况下的最大挠曲量Y_max(mm)能够由以下的数学式(3)来规定。

Y_max＝5g/32×d(1-v²)/E×10^-9×L⁴/t² (3)

这里，g：重力加速度[m/S²]，d：玻璃基板的密度[g/cm³]，E：杨氏模量[GPa]，v：泊松比，L：支承点间的距离[mm]，t：玻璃基板的板厚[mm]。

如数学式(3)所记载的那样，由于玻璃基板1的挠曲量与板厚的二次方成反比，因此越是板厚小的玻璃基板1则对于挠曲的影响越显著。特别是在0.5mm以下的薄的玻璃基板1的情况下，玻璃基板1容易挠曲。因此，在薄的玻璃基板1的情况下，玻璃基板1的挠曲对成膜工序内的玻璃基板1的形状有较大影响。

如数学式(3)记载的那样，玻璃基板1的挠曲量与保持玻璃基板1时的支承点间距离的4次方成正比。因此，在较大的玻璃基板1的情况下，玻璃基板1的挠曲也对成膜工序内的玻璃基板1的形状有较大影响。

在数学式(3)中，泊松比在显示器用玻璃基板的情况下大致为0.2程度且没有差别，因此对挠曲带来较大影响的特性成为杨氏模量。杨氏模量大的玻璃材质能够抑制玻璃基板1的挠曲变形，因此能够抑制热处理工序、搬运工序等显示器工序内的玻璃基板1的变形。因此，能够合适地利用为高精细的显示器用玻璃基板。

玻璃基板1的第一边1y的长度优选为1300mm以上，优选为1500mm以上，优选为1800mm以上，优选为1900mm以上，特别是优选为2100mm以上。另外，玻璃基板1的第二边1x的长度优选为1500mm以上，优选为1800mm以上，优选为2150mm以上，优选为2200mm以上，特别是优选为2400mm以上。另一方面，第一边1y与第二边1x的长度均优选为4000mm以下。在本实施方式中，第一边1y的长度为2200mm或者1950mm，第二边1x的长度为2500mm或者2250mm。

玻璃基板1的厚度优选为1.3mm以下，优选为1.0mm以下，优选为0.7mm以下，特别是优选为0.5mm以下。另一方面，玻璃基板1的厚度优选为0.2mm以上，特别是优选为0.3mm以上。

玻璃基板1的杨氏模量优选为77GPa以上，优选为80GPa以上，特别是优选为83GPa以上。需要说明的是，“杨氏模量”是指根据基于JISR1602的动态弹性率测定法(共振法)而测定出的值。

另外，在伴随在向玻璃基板1的成膜后以高温进行加热的热处理工序的情况下，产生由热处理带来的玻璃基板1的收缩(压缩)。因此，玻璃基板1在向例如高精细的显示器设备的制造工序供给的情况下，优选具有收缩量小的特性。

玻璃基板1的应变点优选为670℃以上，优选为700℃以上，特别是优选为720℃以上。如此一来，在例如高精细的显示器设备、特别是氧化物TFT或者低温多晶硅TFT的制造工序中，容易抑制玻璃基板1的热收缩、变形。另一方面，当玻璃基板1的应变点过高时，在成形工序内、特别是退火工序的温度变得过高，难以控制玻璃基板1的形状且制造成本容易高涨。因而，玻璃板1的应变点优选为800℃以下，优选为790℃以下，特别是优选为780℃以下。需要说明的是，“应变点”是基于ASTMC336以及C338的方法测定出的值。

玻璃板1的以500℃保持了一小时时的热收缩量优选为40ppm以下，优选为30ppm以下，特别是优选为20ppm以下。如此一来，即使在伴随在向玻璃基板1的成膜后以高温进行加热的热处理工序的情况下，也抑制由热处理带来的玻璃基板1的收缩(压缩)。因此，能够合适地利用为高精细的显示器用玻璃基板。需要说明的是，“热收缩量”如接下来那样的方法测定。首先，作为测定用的试样，准备160mm×30mm的长方形试样。在该长方形试样的长边方向的距端部为20～40mm附近利用#1000的耐水研磨纸进行标记，并沿与标记正交的方向进行折断，从而得到两个试验片。在以规定条件对折断得到的一方的试验片进行了热处理之后，将未进行热处理的另一方的试样片与进行了热处理的试样片并排并利用胶带等进行固定。在该状态下，利用激光显微镜读取标记的位置偏移量(ΔL1、ΔL2)，并通过下述(4)计算热收缩量。

热收缩量[ppm]＝(ΔL1[μm]+ΔL2[μm])/160×10^-3 (4)

玻璃基板1的形状具体而言玻璃基板1的沿着拉板方向Y的朝向的形状与沿着宽度方向X的朝向的形状分别能够使用表背挠曲差来评价。

首先，对利用表背挠曲差Y₁-Y₂来评价玻璃基板1的沿着拉板方向Y的朝向的形状的方法进行说明。

如图1所示，对一张玻璃基板1设定沿着宽度方向X的方向的位置相互不同的七个矩形形状的评价区域A～G。各评价区域A～G从宽度方向X的一端侧起依次设定。评价区域B～F沿着宽度方向X呈一列并且没有间隙地并排配置。另外，评价区域A以及G的拉板方向Y的位置与评价区域B～F不同。评价区域A的中央侧与评价区域B宽度方向的位置重叠，评价区域G的中央侧与评价区域F宽度方向的位置重叠。此时，各评价区域A～G设定在玻璃基板1的保证面中的例如通过成膜工序而形成薄膜图案的有效区域(省略图示)内。本实施方式的有效区域的沿着宽度方向X的尺寸为2500mm。

这里，在本实施方式中，各评价区域A～G是沿着拉板方向Y的边2y的长度为500mm且沿着宽度方向X的边2x的长度为400mm的矩形形状。评价区域A与评价区域B的宽度方向的位置重叠的长度以及评价区域G与评价区域F的宽度方向的位置重叠的长度为150mm。在有效区域的沿着宽度方向X的尺寸不为2500mm的情况下，沿着宽度方向X的边2x的长度设定为有效区域的沿着宽度方向X的尺寸的16％。另外，评价区域A与评价区域B的宽度方向的位置重叠的长度以及评价区域G与评价区域F的宽度方向的位置重叠的长度设定为有效区域的沿着宽度方向X的尺寸的6％。沿着拉板方向Y的边2y的长度为沿着宽度方向X的边2x的长度的125％。

从玻璃基板1提取与各评价区域A～G应的位置以及大小的试样玻璃(玻璃片)3，并针对一张玻璃基板1，取得与评价区域A～G对应的7张试样玻璃3。即，试样玻璃3具有相当于评价区域A～G的边2y的沿着拉板方向Y的边3y以及相当于评价区域A～G的边2x的沿着宽度方向X的边3x。

在如此准备了7张试样玻璃3之后，对各试样玻璃3的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂进行测定。具体而言，如图2所示，在将试样玻璃3的非保证面3b(与玻璃基板1的非保证面1b相同一侧的面)设为向上的状态下，利用一对支承构件4支承试样玻璃3的拉板方向Y的两端部。此时，一对支承构件4支承试样玻璃3的支承跨距M在沿着拉板方向Y的边3y的长度为500mm且沿着宽度方向X的边3x的长度为400mm的情况下，设定为480mm，除此以外的情况下，设定为从试样玻璃3的与拉板方向Y平行的边3y的长度减去20mm得到的值。在该状态下，如图3所示，对试样玻璃3的拉板方向Y上的第一挠曲Y₁(由图中的实线所示的状态)的大小进行测定。测定出的第一挠曲Y₁的大小换算为支承跨距M为350mm的情况下的第一挠曲Y₁。例如在支承跨距M为M1(任意值)mm的情况下，通过Y₁×(350/M1)来换算。

同样，在使试样玻璃3表背反转并将试样玻璃3的保证面3a(与玻璃基板1的保证面1a相同一侧的面)向上的状态下，利用一对支承构件4支承试样玻璃3的拉板方向Y的两端部。在该状态下，如图3所示，对试样玻璃3的拉板方向Y上的第二挠曲Y₂(由图中的单点划线所示的状态)的大小进行测定。测定出的第二挠曲Y₂的大小换算为支承跨距M为350mm的情况下的第二挠曲Y₂。

如此一来，在对第一挠曲Y₁以及第二挠曲Y₂进行了测定之后，从第一挠曲Y₁减去第二挠曲Y₂，从而取得拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂。

对与各评价区域A～G对应的全部试样玻璃3进行以上的作业，从而能够掌握各评价区域A～G中的拉板方向Y的形状。例如如图3所示，在第一挠曲Y₁比第二挠曲Y₂小，表背挠曲差Y₁-Y₂为负的情况下，玻璃基板1中的试样玻璃3的拉板方向Y上的挠曲方向为保证面3a凹陷的朝向，其大小能够由表背挠曲差Y₁-Y₂的绝对值来评价。另一方面，在第一挠曲Y₁比第二挠曲Y₂大，表背挠曲差Y₁-Y₂为正的情况下(省略图示)，玻璃基板1中的试样玻璃3的拉板方向Y上的挠曲方向为非保证面3b凹陷的朝向，其大小能够由表背挠曲差Y₁-Y₂的绝对值评价。这里，在观察玻璃基板1中沿着拉板方向Y的任意线状区域(截面)的情况下，即使拉板方向Y上的位置不同，该线状区域上的各地点的退火条件也实质上相同。因此，表示出只要宽度方向X的位置相同则拉板方向Y的形状实质上也相同的倾向。因而，只是通过在与各评价区域A～G对应的试样玻璃3求出表背挠曲差Y₁-Y₂，就能够间接掌握玻璃基板1的有效区域整体的拉板方向Y的形状。

接下来，对利用表背挠曲差X₁-X₂来评价玻璃基板1的沿着宽度方向X的朝向的形状的方法进行说明。

在准备了与图1所示的评价区域A～G对应的7张试样玻璃3之后，对各试样玻璃3的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂进行测定。准备的试样玻璃3可以为在评价沿着拉板方向Y的朝向的形状时使用的试样玻璃3。具体而言，如图4所示，在将试样玻璃3的非保证面3b向上的状态下，利用一对支承构件5支承试样玻璃3的宽度方向X的两端部。此时，一对支承构件5支承试样玻璃3的支承跨距N在沿着拉板方向Y的边3y的长度为500mm且沿着宽度方向X的边3x的长度为400mm的情况下，设定为380mm，除此以外的情况下，设定为从试样玻璃3的与宽度方向X平行的边3x的长度减去20mm得到的值。在该状态下，如图5所示，对试样玻璃3的宽度方向X上的第一挠曲X₁(由图中的实线所示的状态)的大小进行测定。测定出的第一挠曲X₁的大小换算为支承跨距N为350mm的情况下的第一挠曲X₁。

同样，在使试样玻璃3表背反转，将试样玻璃3的保证面3a向上的状态下，利用一对支承构件5支承试样玻璃3的宽度方向X的两端部。在该状态下，如图5所示，对试样玻璃3的宽度方向X上的第二挠曲X₂(由图中的单点划线所示的状态)的大小进行测定。测定出的第二挠曲X₂的大小换算为支承跨距N为350mm的情况下的第二挠曲X₂。

如此一来，在对第一挠曲X₁以及第二挠曲X₂进行了测定之后，从第一挠曲X₁减去第二挠曲X₂，从而取得宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂。

通过对与各评价区域A～G对应的全部试样玻璃3进行以上的作业，从而能够掌握各评价区域A～G中的宽度方向X的形状。例如如图5所示，在第一挠曲X₁比第二挠曲X₂小，表背挠曲差X₁-X₂为负的情况下，玻璃基板1中的试样玻璃3的宽度方向X上的挠曲方向为保证面3a凹陷的朝向，其大小能够由表背挠曲差X₁-X₂的绝对值来评价。另一方面，在第一挠曲X₁比第二挠曲X₂大，表背挠曲差X₁-X₂为正的情况下(省略图示)，玻璃基板1中的试样玻璃3的宽度方向X上的挠曲方向为非保证面3b凹陷的朝向，其大小能够由表背挠曲差X₁-X₂的绝对值来评价。这里，在观察玻璃基板1中的沿着宽度方向X的任意线状区域(剖面)的情况下，若宽度方向X的位置不同，则该线状区域上的各地点的退火条件实质上不同。然而，由于各评价区域A～G在玻璃基板1的有效区域的宽度方向X整个区域上扩展，因此只要在与各评价区域A～G对应的试样玻璃3求出表背挠曲差X₁-X₂，则能够直接掌握玻璃基板1的有效区域整体的宽度方向X的形状。

若利用上述的表背挠曲差来评价本实施方式的玻璃基板1的形状，则具有接下来那样的形状品质。

即，在玻璃基板1中，与位于宽度方向X的中央部的评价区域C、D、E对应的试样玻璃3的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_C-E为负。由此，玻璃基板1在将保证面1a向上的状态下，宽度方向X的中央部在拉板方向Y的大致全长的范围内沿拉板方向Y成为碗型形状(凹形状)。并且，若为这种呈碗型形状的玻璃基板1，则例如如图6的(a)～(c)所示，在将保证面1a向上的状态下，在利用吸附平台S吸附其背侧的非保证面1b时，吸附以拉板方向Y的中央部1c作为起点沿着拉板方向Y依次顺畅地推进。因此，能够抑制吸附平台S上的玻璃基板1的位置偏移。即，能够可靠地减小形成于玻璃基板1的保证面1a的薄膜图案的总间距偏移。

玻璃基板1优选为与全部评价区域A～G对应的试样玻璃3的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_A-G为负。由此，玻璃基板1的有效区域的宽度方向X整体在拉板方向Y的大致全长的范围内成为碗型形状。因而，能够进一步抑制玻璃基板1的位置偏移的产生。需要说明的是，不需要评价区域A～G的表背挠曲差Y₁-Y₂的值全部为负，一部分的值可以为正。

玻璃基板1优选为在将评价区域A～G的拉板方向Y上的表背挠曲差各自的值设为ΔH_A、ΔH_B、ΔH_C、ΔH_D、ΔH_E、ΔH_F、ΔH_G时，ΔH_A～ΔH_G中的至少ΔH_C、ΔH_D、ΔH_E分别为负。特别优选为包括相当于中央部的ΔH_C、ΔH_D、ΔH_E的至少2/3以上的区域全部为负。由此，玻璃基板1的面内的形状变化小，成为形状平缓变化的碗型形状。

玻璃基板1优选为与全部评价区域A～G对应的试样玻璃3的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的最大值ΔH_max和与全部评价区域A～G对应的试样玻璃3的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的最小值ΔH_min之差ΔH_max-ΔH_min为0.5mm以下，进一步优选为0.3mm以下。由此，拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的偏差减小。即，能够抑制拉板方向Y上的玻璃基板1的较大的形状变化，因此在利用吸附平台S吸附玻璃基板1的非保证面1b时能够抑制产生吸附不足、吸附不良的情况。

玻璃基板1优选为与位于宽度方向X的中央部的评价区域C、D、E对应的试样玻璃3的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的平均值ΔV_C-E为ΔV_C-E≤0。由此，玻璃基板1在将保证面1a向上的状态下宽度方向X的中央部也沿宽度方向X为碗型形状或者大致平坦状。因而，能够更可靠地抑制吸附平台S上的玻璃基板1的位置偏移的产生。通过设为ΔV_C-E＜0，从而从玻璃基板1的中央部向周缘部的吸附没有延迟地推进，因此吸附着的状态的玻璃基板的形状平坦且稳定。因此，优选为ΔV_C-E＜0。

玻璃基板1优选为与全部评价区域A～G对应的试样玻璃3的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的平均值ΔV_A-G为负。由此，玻璃基板1的有效区域的宽度方向X整体也沿宽度方向X呈碗型形状。因而，能够更可靠地抑制吸附平台S上的玻璃基板1的位置偏移的产生。需要说明的是，不需要评价区域A～G的表背挠曲差X₁-X₂的值全部为负，一部分的值可以为正。

玻璃基板1优选为与全部评价区域A～G对应的试样玻璃3的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的最大值ΔV_max和与全部评价区域A～G对应的试样玻璃3的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的最小值ΔV_min之差ΔV_max-ΔV_min为0.7mm以下，进一步优选为0.4mm以下，最优选为0.3mm以下。由此，减小宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的偏差。即，能够抑制宽度方向X上的玻璃基板1的较大的形状变化，因此能够抑制在利用吸附平台S吸附玻璃基板1的非保证面1b时产生吸附不足、吸附不良的情况。

这里，作为玻璃基板1不规则地位置偏移而产生总间距偏移的原因，玻璃基板1的非保证面1b的粗糙度(算术平均粗糙度Ra例如为0.5nm以下)非常小也有影响。特别是在利用溢流下拉法成形了玻璃基板1的情况下，玻璃基板1的非保证面1b的粗糙度容易变小。当玻璃基板1的非保证面1b的粗糙度小时，在成膜时在平台上产生静电而玻璃基板1的滑动性变差，容易阻碍玻璃基板1向平台的跟随。特别是，在玻璃基板1的中央部的表背挠曲差为正和/或周缘部的表背挠曲差为负的向上呈凸形状的玻璃基板1的情况下，周缘部的挠曲变得比较大，平台上的周缘部的玻璃扩展被抑制。其结果是，在玻璃基板1未稳定移动到所期望的位置的状态下推进吸附，在玻璃基板1与平台之间产生空隙，可能成为位置偏移(总间距偏移)的原因。然而，在本申请发明中，如上述那样，管理玻璃基板1的形状(挠曲)，因此即使在如此非保证面1b的粗糙度小的情况下(算术平均粗糙度Ra为0.5nm以下)也能够抑制总间距偏移。需要说明的是，“算术平均粗糙度Ra”是依照JISR1683：2014得到的算术平均粗糙度，并由原子力显微镜测定。

接下来，对使用了具备以上的结构的玻璃基板1的电子设备的制造方法进行说明。这里，电子设备例如是液晶显示器等面板显示器，并被用作移动电话(特别是智能手机)、平板电脑、数码相机、触摸面板显示器、大型电视等的部件。

这种电子设备的制造方法包括：准备工序，准备上述的玻璃基板1；以及制作工序，使用玻璃基板1来制作电子设备。

虽然省略图示，但是制作工序包括利用光刻法对玻璃基板1的保证面1a形成薄膜图案的成膜工序。

例如在制造薄膜晶体管(TFT)的情况下，成膜工序依次包括：金属膜形成工序，在玻璃基板1的保证面1a形成成为薄膜图案(晶体管布线)的原料的金属膜(例如铜、铝等)；抗蚀剂膜形成工序，在金属膜之上形成抗蚀剂膜；曝光工序，向抗蚀剂膜照射紫外线等光而转印光掩模的图案；显影工序，将抗蚀剂层的曝光部(正型)或者非曝光部(负型)去除；蚀刻工序，将未被抗蚀剂膜覆盖的部分的金属膜去除；抗蚀剂膜去除工序，将抗蚀剂膜去除。

在例如滤色片制造的情况下，包括抗蚀剂膜的成膜工序、R的过滤膜的成膜工序、G的过滤膜的成膜工序以及B的过滤膜的成膜工序。这些各成膜工序包括膜形成工序、曝光工序以及显影工序。

其中，曝光工序作为隔着光掩模照射光的前工序，包括如图6A～图6C所示在将使保证面1a向上的玻璃基板1载置于吸附平台S的状态下利用吸附平台S吸附玻璃基板1的非保证面1b的吸附工序。吸附平台S构成为从拉板方向Y的中央部趋向拉板方向Y的端部而吸附范围逐渐扩大。需要说明的是，在图6A～图6C中，省略金属膜这样的膜的图示。

在吸附工序中，载置于吸附平台S的玻璃基板1在将保证面1a向上的状态下至少宽度方向X的中央部1c沿拉板方向Y呈碗型形状。因此，在吸附工序中，能够以玻璃基板1的中央部1c作为起点沿着拉板方向Y推进玻璃基板1的吸附。详细而言，最初，如图6A所示，玻璃基板1的中央部1c被吸附于吸附平台S。之后，如图6B所示，从中央部1c朝向第二边1x(即，拉板方向Y的端部)如箭头W所示依次推进吸附。然后，通过这种吸附的推进，如图6C所示，玻璃基板1整体不会大幅度位置偏移地被吸附平台S正确地吸附。因而，在曝光工序中，能够正确地向抗蚀剂膜转印光掩模的图案，因此能够可靠地减小在玻璃基板1的保证面1a形成的薄膜图案的总间距偏移。

接下来，对具备以上的结构的玻璃基板1的制造方法进行说明。

如图7以及图8所示，玻璃基板1的制造装置11具备成形炉12、位于成形炉12的下方的退火炉14、位于退火炉14的下方的冷却室15、以及位于冷却室15的下方的切断室16。成形炉12与退火炉14之间、退火炉14与冷却室15之间以及冷却室15与切断室16之间分别被具有供玻璃带Gr通过的开口部(例如狭缝)的分隔构件(例如建筑物的地板面)F1、F2、F3分隔。

成形炉12是用于利用溢流下拉法从熔融玻璃Gm成形玻璃带Gr的区域。在成形炉12的内部配置有从熔融玻璃Gm成形玻璃带Gr的成形体13以及对由成形体13成形的玻璃带Gr的宽度方向X的两端部进行冷却的边缘辊17。

在成形体13的顶部设置有沿着宽度方向形成的槽部(溢流槽)18。在槽部18的一端侧连接有供给管19。通过该供给管19向槽部18内供给熔融玻璃Gm。熔融玻璃Gm的供给方法并不限定于此。例如既可以从槽部18的两端侧供给熔融玻璃Gm，也可以从槽部18的上方供给熔融玻璃Gm。

成形体13的两外侧面20分别具备沿着铅垂方向的呈平面状的垂直面部21以及与垂直面部21的下方相连且相对于铅垂方向倾斜的呈平面状的倾斜面部22。各垂直面部21为相互平行的平面。各倾斜面部22为以随着趋向下方而相互接近的方式倾斜的平面。即，成形体13形成各倾斜面部22，从而在从侧方观察的情况下呈趋向下方而前端变细的楔形，各倾斜面部22相交的角部形成成形体13的下端部13a。需要说明的是，垂直面部21既可以将形状变更为倾斜面、曲面等，也可以省略。

边缘辊17构成为在成形体13的正下方夹持玻璃带Gr的宽度方向的各端部的辊对。边缘辊17为悬臂类型的辊，在成形工序中内部始终被冷却。因此，边缘辊17也有时被称作冷却辊。

退火炉14是用于减小玻璃带Gr的翘曲以及内部应变的区域。在退火炉14的内部配置有退火辊23。退火辊23构成为夹持玻璃带Gr的宽度方向的各端部的辊对。退火辊23可以是以跨玻璃带Gr的宽度方向整个区域的方式配置的双支承类型的辊，但在本实施方式中为悬臂类型的辊。退火辊23在上下方向上设置有多段。

冷却室15是用于将玻璃带Gr冷却到室温附近的区域。在冷却室15的内部配置有搬运辊24。搬运辊24构成为夹持玻璃带Gr的宽度方向的各端部的辊对。搬运辊24可以是以跨玻璃带Gr的宽度方向整个区域的方式配置的双支承类型的辊，但在本实施方式中为悬臂类型的辊。搬运辊24沿上下方向设置有多段。

在退火辊23和/或搬运辊24之中可以包括不夹持玻璃带Gr的宽度方向X的两端部的辊。即，既可以将构成退火辊23和/或搬运辊24的辊对的对置间隔设为比玻璃带Gr的宽度方向X的两端部的厚度大，也可以设为使玻璃带Gr在辊对之间通过。需要说明的是，在本实施方式中，由制造装置11得到的玻璃带Gr的宽度方向X的两端部在成形过程的收缩等的影响下包括厚度比宽度方向X的中央部大的耳部。

切断室16是用于将玻璃带Gr切断为规定的大小并得到作为玻璃物品的玻璃基板1的区域。在切断室16的内部配置有将玻璃带Gr切断的切断装置(省略图示)。在本实施方式中，切断装置切断玻璃带Gr的切断方法是在玻璃带Gr形成了刻划线之后沿着刻划线折断的刻划切断，但并不限定于此。切断装置的切断方法例如也可以是激光割断、激光熔断等。

在使用了上述的制造装置11的玻璃基板1的制造方法中，首先，在成形炉12中，向成形体13的槽部18供给熔融玻璃Gm，并使从槽部18向两侧溢出了的熔融玻璃Gm沿着各个垂直面部21以及倾斜面部22流下并在下端部13a再次合流。由此，从熔融玻璃Gm连续成形带状的玻璃带Gr(成形工序)。接下来，在退火炉14中，将玻璃带Gr退火(退火工序)，在冷却室15中，将玻璃带Gr冷却到室温附近(冷却工序)。之后，在切断室16中，切断玻璃带Gr并得到玻璃基板1(切断工序)。切断工序包括将玻璃带Gr按照规定长度沿宽度方向X切断而得到玻璃基板1的第一切断工序以及将玻璃基板1的宽度方向X的两端部的耳部切断并去除的第二切断工序。如此制造出的玻璃基板1的拉板方向Y相当于图7以及图8中的玻璃带Gr的上下方向。需要说明的是，在本制造方法中，成形工序的后工序没有特别限定。例如，本制造方法也可以还包括使玻璃基板1成为期望的尺寸的精密切断工序、端面加工工序、清洗工序、检查工序、捆包工序等。

这里，例如，利用由上述的退火炉14实施的退火工序将玻璃带Gr适当地退火，从而能够在从玻璃带Gr切出的玻璃基板1中得到上述的形状品质。详细而言，例如如图9所示，在退火炉14中，通过利用上段的退火辊23a与下段的退火辊23b将玻璃带Gr的厚度方向的位置偏移，从而能够制造具有上述的形状品质的玻璃基板1。在将上下方向上的上段的退火辊23a与下段的退火辊23b的间隔设为P，且将厚度方向上的上段的退火辊23a与下段的退火辊23b的距离设为Q的情况下，将Q/P设为0.022以上即可，优选为0.03以上，进一步优选为0.04以上。

满足上述的位置关系的多段的退火辊23a、23b优选设置于玻璃带Gr的温度为应变点～软化点的区域。或者，满足上述的位置关系的多段的退火辊23a、23b优选设置于玻璃带Gr的粘度为10^14.5～10^7.6dPa·s的区域。

如此，在退火炉14中，通过利用上段的退火辊23a与下段的退火辊23b将玻璃带Gr的厚度方向的位置偏移，从而在拉板方向Y以及宽度方向X上玻璃带Gr呈碗形状。玻璃带Gr的宽度方向X的形状也能够通过利用退火辊23a使作用于玻璃带Gr的宽度方向的张力变化来调整。例如，对于玻璃带Gr的宽度方向X的形状而言，若使作用于玻璃带Gr的宽度方向的张力增加，则接近平坦形状，若使张力减小，则弯曲而成为碗形状。作用于玻璃带Gr的宽度方向的张力例如能够通过玻璃带Gr的温度来调整。

需要说明的是，本发明并不限定于上述实施方式的结构，且也不限定于上述的作用效果。本发明能够在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种变更。

例如，玻璃基板1若平均值ΔH_C-E为负，则平均值ΔV_C-E也可以为正。

实施例

以下，对本发明的实施例进行说明，但本发明并不限定于该实施例。

本发明人们作为第一实施例，实施了用于确认本发明的效果的比较试验。在该试验中，制作实施例1～10的玻璃基板以及比较例1～8的玻璃基板，并对各例中的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂与宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂进行了评价。另外，在各例中，也对根据表背挠曲差Y₁-Y₂、表背挠曲差X₁-X₂求出的ΔH_C-E、ΔH_A-G、ΔH_max-ΔH_min、ΔV_C-E、ΔV_A-G、ΔV_max-ΔV_min进行了评价。而且，对总间距偏移以及滤色片的颜色的偏差进行了评价。

在本发明的实施例的显示器用低碱玻璃基板中使用了应变点为685℃、杨氏模量为78GPa、500℃-1小时的热处理后的压缩(热收缩量)约为25ppm的日本电气硝子株式会社制OA-11材质。以下，进行了基于几个例子的评价。

第一实施例中的各例的评价条件如下所述。

(1)各例中的玻璃基板的拉板方向Y的边的长度为2200mm，宽度方向X的边的长度为2500mm，厚度为0.5mm。

(2)各例的玻璃基板的七个评价区域A～G通过图1所示的方案进行了设定。各评价区域A～G的拉板方向Y的边的长度为500mm，宽度方向X的边的长度为400mm。在宽度方向X上相邻的评价区域的宽度方向中心间的间隔L1、L2在评价区域B～F间为400mm，在评价区域A与B之间以及F与G之间为250mm。

(3)在测定表背挠曲差Y₁-Y₂时，各例中的与各评价区域A～G对应的试样玻璃的拉板方向Y的支承跨距M设定为480mm。在测定表背挠曲差X₁-X₂时，各例中的与各评价区域A～G对应的试样玻璃的宽度方向X的支承跨距N设定为380mm。需要说明的是，在各例的各评价区域中，用于测定表背挠曲差Y₁-Y₂的试样玻璃以及用于测定表背挠曲差X₁-X₂的试样玻璃使用了相同的玻璃。

(4)在各例中的玻璃基板形成由黑色矩阵构成的滤色片的薄膜图案，并测定总间距并且对颜色的偏差进行了评价。以优(◎)、良(○)、可(Δ)、不可(×)这四个等级对测定的总间距进行了评价。颜色的偏差以良(○)、可(△)、不可(×)这三个等级进行了评价。

将在以上的条件下进行了试验的比较试验的结果在表1～表4中示出。需要说明的是，表1为实施例1～8的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的结果，表2为实施例1～8的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的结果。另一方面，表3为比较例1～8的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的结果，表4为比较例1～8的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的结果。

【表1】

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【表2】

【表3】

【表4】

从表1以及表2也可知，在实施例1～10中，评价区域C～E的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_C-E为负的值，滤色片的总间距偏移的评价以及颜色的偏差的评价均为优、良、或者可。与此相对，从表3以及表4也可知，在比较例1～8中，评价区域C～E的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_C-E为正的值，总间距偏移的评价以及颜色的偏差的评价均为不可。根据以上，也能够确认至少评价区域C～E的拉板方向上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_C-E为负对薄膜图案的总间距偏移的减小是有效的。

在实施例1～6中，ΔH_max-ΔH_min以及ΔV_max-ΔV_min均为0.3mm以下，总间距偏移的评价为优。与此相对，在实施例7～10中，ΔH_max-ΔH_min以及ΔV_max-ΔV_min的任一方或者双方增加而成为超过0.3mm的数值，总间距偏移的评价降低为良。根据这些，能够确认通过减小ΔH_max-ΔH_min以及ΔV_max-ΔV_min从而能够进一步减小总间距偏移。

在实施例1、3、5以及6中，ΔH_A-G以及ΔV_A-G均成为负的值，分别在拉板方向Y整体以及宽度方向X整体中成为保证面侧凹陷的碗型形状，颜色的偏差的评价为良。与此相对，在实施例4中，ΔH_A-G为正的值，拉板方向Y的中央成为碗型形状，拉板方向Y的两端未成为碗型形状。另外，在实施例2中，ΔV_A-G为正的值，宽度方向X的中央成为碗型形状，但宽度方向X的两端未成为碗型形状。其结果是，在实施例2以及4中，颜色的偏差的评价降低为可。根据这些，能够确认通过将ΔH_A-G以及ΔV_A-G均设为负的值从而能够进一步减小总间距偏移。

接下来对第二实施例进行说明。第二实施例中的各例的评价条件如下所述。

(1)各例中的玻璃基板的拉板方向Y的边的长度为1950mm，宽度方向X的边的长度为2250mm，厚度为0.4mm。

(2)各例中的玻璃基板的七个评价区域A～G设定为与图1所示的方案相同。各评价区域A～G的拉板方向Y的边的长度为500mm，宽度方向X的边的长度为400mm。在宽度方向X上相邻的评价区域的宽度方向中心间的间隔L1、L2在评价区域B～F间为400mm，在评价区域A与B之间以及F与G之间为125mm。

(3)在测定表背挠曲差Y₁-Y₂时，各例中的与各评价区域A～F对应的试样玻璃的拉板方向Y的支承跨距M设定为480mm。在测定表背挠曲差X1-X2时，各例中的与各评价区域A～G对应的试样玻璃的宽度方向X的支承跨距N设定为380mm。需要说明的是，在各例的各评价区域中，用于测定表背挠曲差Y₁-Y₂的试样玻璃与用于测定表背挠曲差X₁-X₂的试样玻璃使用了相同的玻璃。

(4)在各例中的玻璃基板形成由黑色矩阵构成的滤色片的薄膜图案，并测定总间距并且对颜色的偏差进行了评价。以优(◎)、良(○)、可(△)、不可(×)这四个等级对测定总间距进行了评价。颜色的偏差以良(○)、可(△)、不可(×)这三个等级进行了评价。

将在以上的条件下进行了试验的比较试验的结果在表5～表6中示出。需要说明的是，表5是实施例11～14以及比较例9、10的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的结果，表6是实施例11～14以及比较例9、10的宽度方向X上的表背挠曲差X₁-X₂的结果。

【表5】

【表6】

从表5以及表6也可知，在实施例11～14中，评价区域C～E的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_C-E为负的值，滤色片的总间距偏移的评价以及颜色的偏差的评价均为优、良或者可。与此相对，在比较例9、10中，评价区域C～E的拉板方向Y上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_C-E为正的值，总间距偏移的评价以及颜色的偏差的评价均为不可。根据以上，能够确认至少评价区域C～E的拉板方向上的表背挠曲差Y₁-Y₂的平均值ΔH_C-E为负对薄膜图案的总间距偏移的减小是有效的。

在实施例11、12中，ΔH_max-ΔH_min以及ΔV_max-ΔV_min均为0.3mm以下，总间距偏移的评价为优。与此相对，在实施例13、14中，ΔV_max-ΔV_min增加而成为超过0.3mm的数值，总间距偏移的评价降低为良。根据这些，能够确认通过减小ΔH_max-ΔH_min以及ΔV_max-ΔV_min从而能够进一步减小总间距偏移。

在实施例12中，ΔH_A-G以及ΔV_A-G均为负的值，分别在拉板方向Y整体以及宽度方向X整体成为保证面侧凹陷的碗型形状，颜色的偏差的评价为良。与此相对，在实施例11、13以及14中，ΔH_A-G为负的值，拉板方向Y的中央部以及两端成为碗型形状，但ΔV_C-E以及ΔV_A-G为正的值，宽度方向X未成为碗型形状。其结果是，在实施例11、13以及14中，颜色的偏差的评价降低为可。能够确认通过将该ΔH_A-G以及ΔV_A-G均设为负的值从而能够进一步减小总间距偏移。

附图标记说明

1：玻璃基板，1a：保证面，1b：非保证面，1x：沿着宽度方向的边，1y：沿着拉板方向的边，3：试样玻璃，3a：保证面，3b：非保证面，3x：沿着宽度方向的边，3y：沿着拉板方向的边，11：制造装置，12：成形炉，13：成形体，14：退火炉，15：冷却室，16：切断室，17：边缘辊，23：退火辊，24：搬运辊，A～G：评价区域，Gm：熔融玻璃，Gr：玻璃带，S：吸附平台，X₁、X₂：宽度方向上的挠曲，Y₁、Y₂：拉板方向上的挠曲，X：宽度方向，Y：拉板方向。

Claims (13)

1.一种玻璃基板，其呈矩形形状且具有沿着拉板方向的第一边以及沿着与所述拉板方向正交的宽度方向的第二边，所述第二边的长度为1500mm以上并且厚度为1.3mm以下，一方的主表面为保证面，

所述玻璃基板的特征在于，

在从所述宽度方向的一端侧依次设定有呈相同的大小的矩形形状的七个评价区域A、B、C、D、E、F、G的情况下，由下述的数学式(1)求出的中央部的所述评价区域C、D、E的所述拉板方向上的表背挠曲差的平均值ΔH_C-E为负，

表背挠曲差＝(Y₁-Y₂)[mm] (1)

Y₁：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向下时的拉板方向上的挠曲，

Y₂：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向上时的拉板方向上的挠曲。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板，其中，

所述评价区域A、B、C、D、E、F、G的所述拉板方向上的表背挠曲差的平均值ΔH_A-G为负。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板，其中，

在将所述评价区域A、B、C、D、E、F、G的所述拉板方向上的表背挠曲差各自的值设为ΔH_A、ΔH_B、ΔH_C、ΔH_D、ΔH_E、ΔH_F、ΔH_G时，ΔH_A～ΔH_G中的至少ΔH_C、ΔH_D、ΔH_E分别为负。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的玻璃基板，其中，

所述评价区域A、B、C、D、E、F、G中的所述拉板方向上的表背挠曲差的最大值ΔH_max与所述评价区域A、B、C、D、E、F、G中的所述拉板方向上的表背挠曲差的最小值ΔH_min之差ΔH_max-ΔH_min为0.5mm以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的玻璃基板，其中，

由下述的数学式(2)求出的中央部的所述评价区域C、D、E的所述宽度方向上的表背挠曲差的平均值ΔV_C-E为ΔV_C-E≤0，

表背挠曲差＝(X₁-X₂)[mm] (2)

X₁：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向下时的宽度方向上的挠曲，

X₂：关于与测定表背挠曲差的评价区域对应的试样玻璃，使保证面向上时的宽度方向上的挠曲。

6.根据权利要求5所述的玻璃基板，其中，

所述评价区域A、B、C、D、E、F、G的所述宽度方向上的表背挠曲差的平均值ΔV_A-G为负。

7.根据权利要求5或6所述的玻璃基板，其中，

所述评价区域A、B、C、D、E、F、G中的所述宽度方向上的表背挠曲差的最大值ΔV_max与所述评价区域A、B、C、D、E、F、G中的所述宽度方向上的表背挠曲差的最小值ΔV_min之差ΔV_max-ΔV_min为0.7mm以下。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的玻璃基板，其中，

所述玻璃基板为显示器用的低碱玻璃基板，应变点为670℃以上，杨氏模量为77GPa以上，并且在以500℃保持了一小时时的热收缩量为40ppm以下。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的玻璃基板，其中，

所述非保证面的算术平均粗糙度Ra为0.5nm以下。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的玻璃基板，其中，

所述第二边的长度为2200mm以上。

11.根据权利要求10所述的玻璃基板，其中，

所述第一边的长度为1900mm以上。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的玻璃基板，其中，

所述厚度为0.5mm以下。

13.一种电子设备的制造方法，具备：准备工序，准备权利要求1～12中任一项所述的玻璃基板；以及制作工序，使用所述玻璃基板来制作电子设备，

所述电子设备的制造方法的特征在于，

所述制作工序包括将使所述保证面向上的所述玻璃基板在载置于吸附平台的状态下吸附的吸附工序，

在所述吸附工序中，以所述玻璃基板的所述拉板方向的中央部为起点，沿着所述拉板方向推进所述玻璃基板的吸附。

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