TW202207530A - 在經由柔性互連耦合的基板中包括多向天線的設備 - Google Patents
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Abstract
一種設備包括:包括第一天線的第一基板、耦合至該第一基板的積體設備、位於該第一基板和該積體設備之上的包封層、包括第二天線的第二基板、以及耦合至該第一基板和該第二基板的柔性連接。該設備包括形成在包封層的表面和第一基板的表面之上的遮罩件。遮罩件包括電磁干擾(EMI)遮罩件。
Description
本專利申請案主張於2020年3月5日提出申請的題為「DEVICE COMPRISING MULTI-DIRECTIONAL ANTENNAS IN SUBSTRATES COUPLED THROUGH FLEXIBLE INTERCONNECTS(在經由柔性互連耦合的基板中包括多向天線的設備)」的美國非臨時申請案第16/810,621號的優先權,該申請案已被轉讓給本案受讓人並由此經由引用之方式明確併入於本文。
各種特徵係關於具有天線的設備,但是更特定言之係關於在經由柔性互連耦合的基板中包括多向天線的設備。
圖1圖示了包括基板102和晶粒103的封裝100。晶粒103耦合至基板102。基板102包括介電層120和複數個互連122。基板102亦包括第一天線150和第二天線160。第一天線150和第二天線160兩者皆被嵌入在基板102中。第一天線150由第一複數個互連152定義,並且第二天線160由第二複數個互連162定義。第一天線150和第二天線160兩者皆指向相同的方向,這可能限制了封裝100的整體效能,因為信號可能來自不同的方向。存在提供具有改進的傳輸和接收效能的封裝的持續需求。
各種特徵涉及具有天線的設備,但是更具體地涉及在經由柔性互連耦合的基板中包括多向天線的設備。
一個實例提供了一種設備,該設備包括:包括第一天線的第一基板、耦合至該第一基板的積體設備、位於該第一基板和該積體設備之上的包封層、包括第二天線的第二基板、以及耦合至該第一基板和該第二基板的柔性連接。
另一實例提供了一種裝置,該裝置包括:包括第一天線的第一基板、耦合至該第一基板的積體設備、位於該第一基板和該積體設備之上的用於包封的構件、包括第二天線的第二基板、以及耦合至該第一基板和該第二基板的用於柔性連接的構件。
另一實例提供了一種用於製造設備的方法。該方法提供包括第一天線和第二天線的基板。該方法移除該基板的部分以定義(i)包括該第一天線的第一基板、(ii)包括該第二天線的第二基板、以及(iii)耦合至該第一基板和該第二基板的柔性連接。該方法將積體設備耦合至該基板。該方法在該基板和該積體設備之上形成包封層。
在以下描述中,提供了具體細節以提供對本案的各個態樣的透徹理解。然而,本領域一般技藝人士將理解,沒有該等具體細節亦可以實踐該等態樣。例如,電路可能用方塊圖示出以避免使該等態樣湮沒在不必要的細節中。在其他實例中,公知的電路、結構和技術可能不被詳細示出以免湮沒本案的該等態樣。
本案描述了一種設備,該設備包括:包括第一天線的第一基板、耦合至該第一基板的積體設備、位於該第一基板和該積體設備之上的包封層、包括第二天線的第二基板、以及耦合至該第一基板和該第二基板的柔性連接。柔性連接被嵌入在第一基板和第二基板中。第一天線可被嵌入在第一基板中。第二天線可被嵌入在第二基板中。第一天線可被配置成面向第一天線方向。第二天線可被配置成面向與第一天線方向不同的第二天線方向。該設備包括形成在包封層的表面和第一基板的表面之上的遮罩件。遮罩件可被形成在第一基板的側表面之上。遮罩件包括電磁干擾(EMI)遮罩件。本案中描述的設備可以提供具有較小形狀因數的天線設備或封裝天線(AiP)及/或經由使用多向天線和遮罩該設備及/或封裝的各個元件來提供更好的效能(例如,更好的傳輸和接收效能)。該設備及/或AiP可包括射頻(RF)封裝。包括具有多向天線和柔性連接的基板的示例性設備
圖2圖示了包括封裝202、封裝204和柔性連接206的設備200的剖面視圖。如將在下文進一步描述的,設備200包括幫助改進設備200的效能的多向天線。設備200可包括封裝天線(AiP)。設備200可包括射頻(RF)封裝。設備200可被配置成提供無線保真(WiFi)通訊及/或蜂巢通訊(例如,2G、3G、4G、5G)。設備200可被配置成支援行動通訊全球系統(GSM)、通用行動電信系統(UMTS)及/或長期進化(LTE)。設備200可被配置成傳送和接收具有不同頻率及/或通訊協定的信號。
封裝202(例如,第一封裝)包括基板220(例如,第一基板)、一或多個積體設備(例如,222、224)、一或多個被動設備(例如,226、228)、包封層210和遮罩件230。基板220包括一或多個介電層221和複數個互連223。積體設備可包括晶粒(例如,處理器晶粒、記憶體晶粒)。如將在以下進一步描述的,該複數個互連223中的一些互連可被配置為一或多個天線。
封裝204(例如,第二封裝)包括基板240(例如,第二基板)、一或多個積體設備(例如,242)、一或多個被動設備(例如,246)、包封層270和遮罩件250。基板240包括一或多個介電層241和複數個互連243。積體設備可包括晶粒(例如,處理器晶粒、記憶體晶粒)。如將在以下進一步描述的,該複數個互連243中的一些互連可被配置為一或多個天線(例如,來自該複數個互連243的至少一個互連可以定義至少一個天線)。
封裝202經由柔性連接器206被耦合到封裝204。因此,柔性連接206可被耦合至封裝202(例如,第一封裝)和封裝204(例如,第二封裝)。柔性連接206可被嵌入在封裝202和封裝204中。柔性連接206包括至少一個介電層260和至少一個互連262。該至少一個介電層260可包括聚醯亞胺或液晶聚合物。柔性連接206可被配置成將封裝202和封裝204電耦合。柔性連接206可被配置成允許不同的電流(例如,信號、功率、接地)在封裝202與封裝204之間行進。例如,柔性連接206可包括(i)被配置用於信號(例如,輸入/輸出信號)的至少一個第一互連、(ii)被配置用於功率的至少一個第二互連、以及(iii)被配置用於接地的至少一個第三互連。柔性連接206是可彎曲的,使得封裝204可以相對於封裝202成一角度定位,反之亦然。柔性連接206可以是用於柔性連接的構件。儘管未圖示,但是柔性連接206可包括覆蓋保護材料或被保護材料覆蓋。在至少一些實現中,柔性連接206可被配置成可彎曲至多達180度而不會斷裂。因此,例如,柔性連接206的元件(諸如至少一個介電層260和至少一個互連262)可彎曲至多達180度而不會導致柔性連接206的損壞、破裂及/或斷裂。柔性連接206的各種實現可彎曲至多達不同度。例如,在至少一些實現中,柔性連接206可被配置成可彎曲至多達90度而不會斷裂及/或破裂。在至少一些實現中,柔性連接206可被配置成可彎曲至少10度(或更多)而不會斷裂及/或破裂。術語「柔性的」可意謂元件(i)可彎曲至少10度(或更多)而不會斷裂及/或破裂,及/或(ii)可彎曲至多達180度而不會斷裂及/或破裂。
如圖2所示,封裝202相對於封裝204來定位,以使得針對封裝202的天線方向面向第一方向(例如,沿X方向、Y方向、Z方向),並且針對封裝204的天線方向面向與第一方向不同的第二方向(例如,沿Y方向、Y方向、Z方向)。例如,封裝202可包括包含第一天線方向的第一天線,並且封裝204可包括包含第二天線方向的第二天線。該配置及/或其他配置可允許設備200提供更好的傳輸及/或接收效能,因為各個天線在多個且不同的方向上對準,而不是僅在一個方向上對準。
圖3圖示了設備200的封裝202的剖面特寫視圖。如圖3所示,封裝202包括基板220、積體設備222、積體設備224、被動設備226、被動設備228、包封層210和遮罩件230。基板220包括一或多個介電層221和複數個互連223(例如,跡線、焊盤、通孔)。該一或多個介電層221可包括預浸料、增層堆積膜(ABF)、聚醯亞胺及/或其組合。基板220包括第一表面(例如,頂表面)和第二表面(例如,底表面)。積體設備222、積體設備224、被動設備226和被動設備228被耦合至基板220的第一表面。包封層210位於基板220的第一表面之上,以使得包封層210可以包封積體設備222、積體設備224、被動設備226和被動設備228。包封層210可包括模塑、樹脂及/或環氧樹脂。包封層210可以是用於包封的構件。遮罩件230位於並且形成在包封層210的外表面和基板220的一或多個表面之上。例如,遮罩件230可以形成在並且位於基板220的第一表面及/或側表面之上。遮罩件230包括電磁干擾(EMI)遮罩件。遮罩件230可以是用於遮罩的構件(例如,用於EMI遮罩的構件)。
如以上所提及的,基板220包括複數個互連223,其中一些互連可被配置成作為一或多個天線來操作。圖3圖示了形成在基板220中的天線(例如,350a、350b、350c、350d)。天線(例如,350a、350b、350c、350d)可以是基於來自複數個互連223的互連形成的嵌入式天線。天線(例如,350a、350b、350c、350d)可被定位(例如,嵌入)在基板220中,以使得天線(例如,350a、350b、350c、350d)面向基板220的第二表面(例如,底表面)。基板220的第二表面面向的方向可被視為天線(例如,350a、350b、350c、350d)的天線方向(例如,第一天線方向)。天線(例如,350a、350b、350c、350d)可以經由該複數個互連223電耦合至積體設備(例如,222、224)中的一者或多者。
圖3亦圖示了耦合至基板220的柔性連接206。柔性連接206可被嵌入在基板220中。柔性連接206可被認為是基板220的一部分。柔性連接206包括至少一個介電層260和至少一個互連262。該至少一個介電層260可以是基板220的至少一個介電層221的一部分。該至少一個互連262可被耦合至該複數個互連223。該至少一個介電層260和該至少一個互連262可以是柔性的及/或可彎曲的。
圖4圖示了設備200的封裝204的剖面特寫視圖。如圖4中示出的,封裝204包括基板240、積體設備242、被動設備246、包封層270和遮罩件250。基板240包括一或多個介電層241和複數個互連243(例如,跡線、焊盤、通孔)。基板240包括第一表面(例如,頂表面)和第二表面(例如,底表面)。積體設備242和被動設備246被耦合至基板240的第一表面。包封層270位於基板240的第一表面之上,以使得包封層270包封積體設備242和被動設備246。包封層270可包括模塑、樹脂及/或環氧樹脂。包封層270可以是用於包封的構件。遮罩件250位於並且形成在包封層270的外表面和基板240的一或多個表面之上。例如,遮罩件250可以形成在並且位於基板240的第一表面及/或側表面之上。遮罩件250包括電磁干擾(EMI)遮罩件。遮罩件250可以是用於遮罩的構件(例如,用於EMI遮罩的構件)。
如以上所提及的,基板240包括複數個互連243,其中一些互連可被配置成作為一或多個天線來操作。圖4圖示了形成在基板240中的天線(例如,450a、450b、450c、450d)。天線(例如,450a、450b、450c、450d)可以是基於來自複數個互連243的互連形成的嵌入式天線。天線(例如,450a、450b、450c、450d)可被定位(例如,嵌入)在基板240中,以使得天線(例如,450a、450b、450c、450d)面向基板240的第二表面(例如,底表面)。基板240的第二表面面向的方向可被視為天線(例如,450a、450b、450c、450d)的天線方向(例如,第二天線方向)。天線(例如,450a、450b、450c、450d)可以經由該複數個互連243電耦合至積體設備(例如,222、224、242)中的一者或多者。
圖4亦圖示了耦合至基板240的柔性連接206。柔性連接206可被嵌入在基板240中。柔性連接206可被認為是基板240的一部分。柔性連接206包括至少一個介電層260和至少一個互連262。該至少一個介電層260可以是基板240的至少一個介電層241的一部分。該至少一個互連262可被耦合至該複數個互連243。
如將在以下進一步描述的,基板220及/或基板240可包括被配置為外部輸入/輸出(I / O)端子的互連,其允許基板220及/或基板240耦合至外部元件。此外,如以下將進一步描述的,基板220、基板240和柔性連接206可被併發地製造為同一基板的一部分。
已經描述了包括具有多向天線的基板的設備的實例,以下進一步圖示和描述了包括具有多向天線的基板的設備的各種其他實例。包括具有多向天線和柔性連接的基板的示例性設備
圖5圖示了包括封裝202、封裝504和柔性連接206的設備500的剖面視圖。設備500的封裝202和柔性連接206與設備200的封裝202和柔性連接206相似,並且因此可包括與設備200的封裝202和柔性連接206相似的元件。設備500的封裝202包括耦合至基板220的連接器550。連接器550可被耦合至該複數個互連223。連接器550可被配置為封裝202的外部輸入/輸出(I/O)端子。
圖5圖示了封裝504經由柔性連接206耦合至封裝202。封裝504與設備200的封裝204相似,並且因此可包括與設備200的封裝204相似的元件。封裝504與封裝204之間的一個區別在於封裝504不包括積體設備。封裝504包括基板240和天線(例如,450a、450b、450c、450d)。天線(例如,450a、450b、450c、450d)可以經由柔性連接206耦合(例如,電耦合)至封裝202。
圖6圖示了包括封裝202、封裝604和柔性連接206的設備600的剖面視圖。設備600的封裝202和柔性連接206與設備200的封裝202和柔性連接206相似,並且因此可包括與設備200的封裝202和柔性連接206相似的元件。
圖6圖示了封裝604經由柔性連接206耦合至封裝202。封裝604與設備200的封裝204相似,並且因此可包括與設備200的封裝204相似的組件。封裝604與封裝204之間的一個區別在於封裝604不包括積體設備。封裝604包括基板240和天線(例如,450a、450b、450c、450d)。天線(例如,450a、450b、450c、450d)可以經由柔性連接206耦合(例如,電耦合)至封裝202。封裝604的基板240亦包括複數個互連650(例如,著陸焊盤陣列),其被配置為基板240的外部輸入/輸出(I/O)端子。因此,在一些實現中,天線(例如,450a、450b、450c、450d)可以經由該複數個互連650耦合至外部元件(例如,積體設備)。該複數個互連650可被視為該複數個互連243的一部分。
圖7圖示了包括封裝202、封裝204和柔性連接206的設備700的剖面視圖。設備700的封裝202和柔性連接206與設備200的封裝202和柔性連接206相似,並且因此可包括與設備200的封裝202和柔性連接206相似的元件。封裝202包括耦合至該複數個互連223的複數個焊料互連750。該複數個焊料互連750可以使封裝202能夠耦合至外部元件。
圖8圖示了包括封裝202、封裝804和柔性連接206的設備800的剖面視圖。設備800的封裝202和柔性連接206與設備200的封裝202和柔性連接206相似,並且因此可包括與設備200的封裝202和柔性連接206相似的元件。封裝202包括耦合至該複數個互連223的複數個互連850(例如,著陸焊盤陣列)。該複數個互連850可以使封裝202能夠耦合至外部元件。該複數個互連850可被視為該複數個互連223的一部分。
圖8圖示了封裝804經由柔性連接206耦合至封裝202。封裝804與設備200的封裝204相似,並且因此可包括與設備200的封裝204相似的元件。封裝804包括耦合至該複數個互連243的複數個互連860(例如,著陸焊盤陣列)。該複數個互連860可以使封裝804能夠耦合至外部元件。
圖9圖示了包括封裝902、封裝904和柔性連接206的設備900的剖面視圖。設備900的封裝902和柔性連接206與設備200的封裝202和柔性連接206相似,並且因此可包括與設備200的封裝202和柔性連接206相似的元件。封裝902包括耦合至基板220的積體設備(例如,222、224、922)和被動設備(例如,226、228)。包封層210可位於基板220的第一表面的大部分之上。包封層210可包封積體設備(例如,222、224、922)和被動設備(例如,226、228)。遮罩件230可以形成在包封層210的外表面和基板220的部分之上。
圖9圖示了封裝904經由柔性連接206耦合至封裝902。封裝904與設備200的封裝204相似,並且因此可包括與設備200的封裝204相似的組件。封裝904包括基板240、基板940、積體設備242、被動設備246、包封層270和遮罩件250。積體設備242和被動設備246被耦合至基板940。基板940可包括一或多個介電層和複數個互連。積體設備242和被動設備246經由基板940耦合至基板240。包封層270可包封積體設備242、被動設備246和基板940。遮罩件250可位於包封層270的外表面之上。
不同的實現可以經由柔性連接206不同地耦合各基板。圖10-15圖示了經由柔性連接耦合的基板的各種配置和佈置。圖10圖示了包括基板220、基板240和柔性連接206的設備1000的實例,其中基板220和基板240沿著基板220的長度和基板240的長度耦合至柔性連接206。
圖11圖示了包括基板220、基板240和柔性連接206的設備1100的實例,其中基板220和基板240沿著基板220的寬度和基板240的寬度耦合至柔性連接206。柔性連接206可被認為是基板220和基板240的一部分。
圖12圖示了包括基板220、基板240和柔性連接206的設備1200的實例,其中基板220和基板240沿著基板220的寬度和基板240的長度耦合至柔性連接206。
圖13圖示了包括基板220、基板240和柔性連接206的設備1300的實例,其中基板220和基板240沿著基板220的寬度和基板240的長度耦合至柔性連接206,以使得基板220和基板240形成T形。
在一些實現中,多於兩個基板可以經由若干柔性連接被耦合在一起。圖14圖示了包括基板220、基板240a、基板240b、柔性連接206a和柔性連接206b的設備1400的實例,其中基板220和基板240a沿著基板220的第一側的寬度和基板240a的長度耦合至柔性連接206a。另外,基板220和基板240b沿著基板220的第二側的寬度和基板240b的長度耦合至柔性連接206b。柔性連接206a可被認為是基板220和基板240a的一部分。柔性連接206b可被認為是基板220和基板240b的一部分。
圖15圖示了包括基板220、基板240a、基板240b、柔性連接206a和柔性連接206b的設備1500的實例,其中基板220和基板240a沿著基板220的第一側的寬度和基板240a的長度耦合至柔性連接206a。另外,基板220和基板240b沿著基板220的第二側的長度和基板240b的長度耦合至柔性連接206b。柔性連接206a可被認為是基板220和基板240a的一部分。柔性連接206b可被認為是基板220和基板240b的一部分。
不同的實現可以使用具有不同大小和形狀的基板。不同的實現可包括沿著各基板的不同表面耦合的不同數目的基板、不同數目的柔性連接。不同基板之間的相對角度可以變化,並且不限於垂直角度。各基板之間的相對位置及/或角度可以在0-360度的範圍中。因此,所示出的基板的位置、形狀、大小、角度僅僅是示例性的。此外,各種元件(例如,積體設備、被動設備)、(諸)包封層及/或(諸)遮罩件可被耦合至基板及/或形成在基板之上。
已經描述了包括多向天線的設備的各種配置和佈置,以下將進一步描述用於製造包括多向天線的設備的順序。用於製造包括具有多向天線和柔性連接的基板的設備的示例性順序
圖16(其包括圖16A-16F)圖示了用於提供或製造包括具有多向天線的若干基板的設備的示例性順序。在一些實現中,圖16A-16F的順序可被用於提供或製造圖2的設備200,或本案中所描述的設備(例如,500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500)中的任一者。
應注意,圖16A-16F的順序可以組合一或多個階段以簡化及/或闡明用於提供或製造設備的順序。在一些實現中,該等程序的次序可被改變或修改。在一些實現中,可以在不脫離本案的精神的情況下替代或置換一或多個程序。
如圖16A中示出的,階段1圖示了在提供載體1600之後的狀態。載體1600可包括帶、晶片及/或基板。
階段2圖示了在載體1600之上形成若干介電層1610和複數個互連1612(例如,跡線、焊盤、通孔)之後的狀態。沉積製程可被用來形成介電層1610。形成複數個互連1612可包括形成晶種層,執行光刻製程、鍍敷製程、剝離製程及/或蝕刻製程。在一些實現中,沉積、光刻製程、鍍敷製程、剝離製程及/或蝕刻製程可以反覆運算地被執行。
階段3圖示了在介電層1620和該複數個互連1612之上形成介電層1620之後的狀態。沉積製程可被用來形成介電層1620。
階段4圖示了在介電層1620中形成空腔1621之後的狀態。蝕刻製程可被用來形成空腔。
如圖16B中示出的,階段5圖示了在空腔1621和介電層1620之上形成複數個互連1622之後的狀態。複數個互連1622可包括跡線、焊盤及/或通孔。形成複數個互連1622可包括形成晶種層,執行光刻製程、鍍敷製程、剝離製程及/或蝕刻製程。
階段6圖示了在介電層1620和該複數個互連1622之上形成介電層1630和複數個互連1632之後的狀態。沉積製程可被用來形成介電層1630。形成複數個互連1632可包括形成晶種層,執行光刻製程、鍍敷製程、剝離製程及/或蝕刻製程。
階段7圖示了在介電層1630之上形成介電層1640之後的狀態。沉積製程可被用來形成介電層1640。
如圖16C中所示,階段8圖示了在介電層1640之上形成複數個互連1642之後的狀態。形成複數個互連1642可包括在介電層1640中形成空腔。形成複數個互連1642可包括形成晶種層,執行光刻製程、鍍敷製程、剝離製程及/或蝕刻製程。注意,來自複數個互連1642、1632及/或1622的一些互連可被用於形成針對基板的天線(例如,350a、450a)。
階段9圖示了在介電層1640及/或該複數個互連1642之上形成介電層1650之後的狀態。沉積製程可被用來形成介電層1650。
階段10圖示了將載體1600從基板1670解耦之後的狀態。基板1670可包括介電層(例如1610、1620、1630、1640、1650)和複數個互連(例如,1612、1622、1632、1642)。用於製造基板1670的製程的各實例包括半加成製程(SAP)和經修改的半加成製程(mSAP)。然而,不同的實現可以不同地製造基板1670。
如圖16D中所示,階段11圖示了在鋸割製程被用於去除基板1670的部分之後的狀態。蝕刻製程、機械製程及/或雷射製程可被用於去除基板1670的部分。基板1670的被去除的部分可包括一或多個介電層。鋸割製程可以留下基板1670的一部分,其暴露及/或定義柔性連接206。柔性連接206可包括至少一個介電層260和至少一個互連262。該至少一個介電層260可以由至少一個介電層(例如,1610、1620、1630、1640、1650)形成。該至少一個互連262可以由互連(例如,1612、1622、1632、1642)中的至少一者形成。鋸割製程亦可以定義可經由柔性連接206被耦合在一起的兩個基板(例如,基板220、基板240)。
階段12圖示了元件被耦合至基板1670之後的狀態。具體而言,積體設備(例如222、224、242)和被動設備(例如,226、228、246)被耦合至基板1670的第一表面。在一些實現中,拾放操作可被用於耦合積體設備及/或被動設備。積體設備及/或被動設備可以經由焊料互連耦合至基板220和240。
如圖16E中所示,階段13圖示了在積體設備和被動設備之上形成包封層210和包封層270之後的狀態。在一些實現中,可在積體設備及/或被動設備之上形成一個包封層或分開的包封層。可以藉由使用壓縮和轉移模塑製程、片狀模塑製程,或液態模塑製程在基板220和240之上提供包封層210和270。在一些實現中,包封層210和包封層270可被視為同一包封層的一部分。
階段14圖示了形成遮罩件230和遮罩件250之後的狀態。遮罩件230形成在耦合至基板220的包封層210之上。遮罩件250形成在耦合至基板240的包封層270之上。濺鍍製程可被用於形成遮罩件230及/或遮罩件250。遮罩件230可形成在且位於包封層210的外表面及/或基板220的表面(例如,側表面)之上。遮罩件250可形成在且位於包封層270的外表面及/或基板240的表面(例如,側表面)之上。在一些實現中,保護材料可被佈置或形成在柔性連接206之上。
如圖16F中所示,階段15圖示了在彎曲柔性連接206以使得基板220以針對基板220和基板220中的(諸)天線的天線方向面向第一方向(例如,第一天線方向)的方式對準並且基板240以針對基板240和基板240中的(諸)天線的天線方向面向與第一方向不同的第二方向(例如,第二天線方向)的方式對準之後的狀態。注意,柔性連接206可以按任何數目的方式、按任何數目的角度是柔性的或彎曲的。注意,階段13、14及/或15可以圖示包括封裝202、封裝204和柔性連接206的設備200。包括具有多向天線和柔性連接的基板的設備的示例性流程圖
在一些實現中,製造包括具有多向天線的若干基板的設備包括若干程序。圖17圖示了用於提供或製造包括具有多向天線的若干基板的設備的方法1700的示例性流程圖。在一些實現中,圖17的方法1700可被用於提供或製造本案中所描述的圖2的設備200。然而,方法1700可被用於提供或製造本案中所描述的設備(例如,300、500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500)中的任一者。
應注意,圖17的順序可以組合一或多個程序以簡化及/或闡明用於提供或製造包括具有多向天線的若干基板的設備的方法。在一些實現中,該等程序的次序可被改變或修改。
該方法(在1705)形成包括至少一個介電層(例如,221)和互連(例如,223)的基板(例如,1670)。該等互連中的一些互連可以在基板中形成一或多個天線。基板的製造可包括層壓製程和鍍敷製程。用於製造基板的製程的各實例包括半加成製程(SAP)和經修改的半加成製程(mSAP)。然而,不同的實現可以不同地製造基板。圖16A-16C中的階段1-10圖示了製造可包括天線(例如,嵌入式天線)的基板的實例。
該方法(在1710)去除基板(例如,1670)的部分以暴露及/或定義第一基板(例如,220)與第二基板(例如,240)之間的柔性連接206。蝕刻製程、機械製程及/或雷射製程可被用於去除基板1670的部分。基板中被去除的部分包括至少一個介電層。在一些實現中,可去除至少一個金屬層(例如,互連)。圖16D中的階段11圖示了基板中已經被去除以形成柔性連接206的部分的實例。
該方法(在1715)將(諸)積體設備(例如,222、224、242)及/或(諸)被動設備(例如,226、228、246)耦合到至少一個基板(例如,220、240)的第一表面。焊料互連可被用於將(諸)積體設備及/或(諸)被動設備耦合至基板。回流製程可被用於將積體設備和被動設備耦合至基板。圖16D中的階段12圖示了耦合到至少一個基板的(諸)積體設備及/或(諸)被動設備的實例。
該方法(在1720)用至少一個包封層(例如,210、270)包封(諸)積體設備和(諸)被動設備。例如,可以提供包封層210,以使得包封層210包封位於基板之上的積體設備及/或被動設備。不同的實現可以藉由使用各種製程在基板之上提供包封層210。例如,可以藉由使用壓縮和轉移模塑製程、片狀模塑製程,或液態模塑製程在基板之上提供包封層210。圖16E中的階段13圖示了在至少一個基板之上形成至少一個包封層的實例。
該方法(在1725)在包封層(例如,210、270)之上以及在基板220和基板240的側部之上形成遮罩件(例如,230、250)。遮罩件212可包括一或多個金屬層(例如,(諸)圖案化金屬層)。遮罩件212可被配置成作為電磁干擾(EMI)遮罩件來操作。鍍敷製程、化學氣相沉積(CVD)製程、實體氣相沉積(PVD)製程、濺鍍製程及/或噴塗可被用於形成遮罩件。圖16E中的階段14圖示了在包封層及/或基板之上形成遮罩件的實例。
該方法(在1730)彎曲柔性連接(例如,206)以相對於基板220來定位基板240,以使得基板220面向第一天線方向,並且基板240面向與第一天線方向不同的第二天線方向。圖16F中的階段15圖示了彎曲耦合兩個基板的柔性連接的實例。在一些實現中,該方法可以在柔性連接206周圍提供保護材料。示例性電子設備
圖18圖示了可整合有前述設備、積體設備、積體電路(IC)封裝、積體電路(IC)設備、半導體設備、積體電路、晶粒、中介體、封裝、層疊封裝(PoP)、系統級封裝(SiP),或片上系統(SoC)中的任一者的各種電子設備。例如,行動電話設備1802、膝上型電腦設備1804、固定位置終端設備1806、可穿戴設備1808,或機動交通工具1810可包括如本文中所描述的設備1800。設備1800可以是例如本文中所描述的設備及/或積體電路(IC)封裝中的任一者。圖18中所圖示的設備1802、1804、1806和1808、以及交通工具1810僅僅是示例性的。其他電子設備亦能以設備1800為其特徵,此類電子設備包括但不限於包括以下設備的設備(例如,電子設備)群組:行動設備、掌上型個人通訊系統(PCS)單元、可攜式資料單元(諸如個人數位助理)、賦能全球定位系統(GPS)的設備、導航設備、機上盒、音樂播放機、視訊播放機、娛樂單元、固定位置資料單元(諸如儀錶讀取裝備)、通訊設備、智慧型電話、平板電腦、電腦、可穿戴設備(例如,手錶、眼鏡)、物聯網路(IoT)設備、伺服器、路由器、機動交通工具(例如,自動駕駛交通工具)中所實現的電子設備,或者儲存或取得資料或電腦指令的任何其他設備,或者其任何組合。
圖2-15、16A–16F及/或17-18中所圖示的各元件、程序、特徵,及/或功能中的一者或多者可以被重新安排及/或組合成單個元件、程序、特徵或功能,或者在若干元件、程序或功能中實施。亦可添加附加元件、組件、程序,及/或功能而不會脫離本案。亦應注意,圖2-15、16A–16F及/或17-18及其在本案中的對應描述不限於晶粒及/或IC。在一些實現中,圖2-15、16A–16F及/或17-18及其對應描述可被用於製造、建立、提供,及/或生產設備及/或積體設備。在一些實現中,設備可以包括晶粒、積體設備、積體被動設備(IPD)、晶粒封裝、積體電路(IC)設備、設備封裝、積體電路(IC)封裝、晶片、半導體設備、層疊封裝(PoP)設備、散熱設備及/或中介體。
注意,本案中的附圖可以表示各個部分、元件、物件、設備、封裝、積體設備、積體電路,及/或電晶體的實際表示或概念表示。在一些實例中,附圖可能不是按比例的。在一些實例中,為了清楚起見,可能未圖示所有元件及/或部件。在一些實例中,附圖中的各個部件及/或元件的定位、位置、尺寸,及/或形狀可以是示例性的。在一些實現中,附圖中的各個元件及/或部件可以是可任選的。
措辭「示例性」在本文中用於意謂「用作示例、實例,或說明」。本文中描述為「示例性」的任何實現或態樣不必被解釋為優於或勝過本案的其他態樣。同樣,術語「態樣」不要求本案的所有態樣皆包括所論述的特徵、優點或操作模式。術語「耦合」在本文中用於指兩個物件之間的直接或間接耦合。例如,若物件A實體地接觸物件B,且物件B接觸物件C,則物件A和C仍可被認為是彼此耦合的——即便其並非彼此直接實體接觸。術語「電耦合」可意謂兩個物件直接或間接耦合在一起,以使得電流(例如,信號、功率、地)可以在兩個物件之間傳遞。電耦合的兩個物件在該兩個物件之間可以有或者可以沒有電流傳遞。術語「第一」、「第二」、「第三」和「第四」(及/或高於第四的任何事物)的使用是任意的。所描述的任何元件可以是第一、第二、第三或第四。例如,被稱為第二元件的元件可以是第一元件、第二元件、第三元件或第四元件。術語「包封」意謂物件可以部分地包封或完全包封另一物件。進一步注意到,如在本案中在一個元件位於另一元件之上的上下文中所使用的術語「之上」可被用來意謂元件在另一元件上及/或在另一元件中(例如,在元件的表面上或被嵌入在元件中)。由此,例如,第一元件在第二元件之上可意謂:(1)第一元件在第二元件之上,但是不直接接觸第二元件;(2)第一元件在第二元件上(例如,在第二元件的表面上);及/或(3)第一元件在第二元件中(例如,被嵌入在第二元件中)。如本案中所使用的術語「大約‘值X’」或「大致值X」意謂在「值X」的百分之十以內。例如,大約1的值或大致1的值將意謂在0.9-1.1範圍中的值。
在一些實現中,互連是設備或封裝中允許或促進兩個點、元件及/或元件之間的電連接的元件或元件。在一些實現中,互連可包括跡線、通孔、焊盤、柱、重分佈金屬層,及/或凸塊下金屬化(UBM)層。在一些實現中,互連是可被配置成為信號(例如,資料信號)、接地及/或功率提供電路徑的導電材料。互連可以是電路的一部分。互連可包括多於一個元件或元件。互連可以由一或多個互連來定義。不同實現可使用不同製程及/或順序來形成互連。在一些實現中,化學氣相沉積(CVD)製程、實體氣相沉積(PVD)製程、濺鍍製程、噴塗,及/或鍍敷製程可被用於形成互連。
亦注意到,本文中所包含的各種揭示可以作為被圖示為流程圖、流程圖、結構圖或方塊圖的程序來描述。儘管流程圖可以將操作描述為按次序的程序,但很多操作可以並行地或同時地進行。另外,可以重新排列操作的次序。程序在其操作完成時終止。
本文中所描述的本案的各種特徵可實現於不同系統中而不會脫離本案。應當注意,本案的以上各態樣僅是實例,且不應被解釋成限定本案。對本案的各態樣的描述意欲是說明性的,而非限定所附請求項的範圍。由此,本發明的教示可以現成地應用於其他類型的裝置,並且許多替換、修改和變形對於本領域技藝人士將是顯而易見的。
100:封裝
102:基板
103:晶粒
120:介電層
122:互連
150:第一天線
152:互連
160:第二天線
162:互連
200:設備
202:封裝
204:封裝
206:柔性連接
206a:柔性連接
206b:柔性連接
210:包封層
220:基板
221:介電層
222:積體設備
223:互連
224:積體設備
226:被動設備
228:被動設備
230:遮罩件
240:基板
240a:基板
240b:基板
241:介電層
242:積體設備
243:互連
246:被動設備
250:遮罩件
260:介電層
262:互連
270:包封層
350a:天線
350b:天線
350c:天線
350d:天線
450a:天線
450b:天線
450c:天線
450d:天線
500:設備
504:封裝
550:連接器
600:設備
604:封裝
650:互連
700:設備
750:焊料互連
800:設備
804:封裝
850:互連
860:互連
900:設備
902:封裝
904:封裝
922:積體設備
940:基板
1000:設備
1100:設備
1200:設備
1300:設備
1400:設備
1500:設備
1600:載體
1610:介電層
1612:互連
1620:介電層
1621:空腔
1622:互連
1630:介電層
1632:互連
1640:介電層
1642:互連
1650:介電層
1670:基板
1700:方法
1705:步驟
1710:步驟
1715:步驟
1720:步驟
1725:步驟
1730:步驟
1800:設備
1802:設備
1804:設備
1806:設備
1808:設備
1810:交通工具
在結合附圖理解下文闡述的詳細描述時,各種特徵、本質和優點會變得明顯,在附圖中,相像的元件符號貫穿始終作相應標識。
圖1圖示了包括基板的封裝的剖面視圖,該基板具有嵌入在該基板中的天線。
圖2圖示了包括各自具有嵌入式天線的基板的示例性設備的剖面視圖,其中該等基板經由柔性連接來耦合。
圖3圖示了包括柔性連接和嵌入式天線的示例性第一基板的剖面視圖。
圖4圖示了包括柔性連接和嵌入式天線的示例性第二基板的剖面視圖。
圖5圖示了包括各自具有嵌入式天線的基板的示例性設備的剖面視圖,其中該等基板經由柔性連接來耦合。
圖6圖示了包括各自具有嵌入式天線的基板的示例性設備的剖面視圖,其中該等基板經由柔性連接來耦合。
圖7圖示了包括各自具有嵌入式天線的基板的示例性設備的剖面視圖,其中該等基板經由柔性連接來耦合。
圖8圖示了包括各自具有嵌入式天線的基板的示例性設備的剖面視圖,其中該等基板經由柔性連接來耦合。
圖9圖示了包括各自具有嵌入式天線的基板的示例性設備的剖面視圖,其中該等基板經由柔性連接來耦合。
圖10圖示了經由柔性連接耦合至第二基板的第一基板的示例性配置的視圖。
圖11圖示了經由柔性連接耦合至第二基板的第一基板的示例性配置的視圖。
圖12圖示了經由柔性連接耦合至第二基板的第一基板的示例性配置的視圖。
圖13圖示了經由柔性連接耦合至第二基板的第一基板的示例性配置的視圖。
圖14圖示了經由柔性連接耦合至第二基板的第一基板的示例性配置的視圖。
圖15圖示了經由柔性連接耦合至第二基板的第一基板的示例性配置的視圖。
圖16(包括圖16A-16F)圖示了用於製造包括各自具有嵌入式天線的若干基板的設備的示例性順序。
圖17圖示了用於製造包括各自具有嵌入式天線的若干基板的設備的方法的示例性流程圖。
圖18圖示了可以整合本文中所描述的晶粒、積體設備、積體被動設備(IPD)、被動元件、封裝,及/或設備封裝的各種電子設備。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記)
無
國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記)
無
200:設備
202:封裝
204:封裝
206:柔性連接
210:包封層
220:基板
221:介電層
222:積體設備
223:互連
224:積體設備
226:被動設備
228:被動設備
230:遮罩件
240:基板
241:介電層
242:積體設備
243:互連
246:被動設備
250:遮罩件
260:介電層
262:互連
270:包封層
Claims (25)
- 一種設備,包括: 包括一第一天線的一第一基板; 耦合至該第一基板的一積體設備; 位於該第一基板和該積體設備之上的一包封層; 包括一第二天線的一第二基板;及 耦合至該第一基板和該第二基板的一柔性連接。
- 如請求項1所述之設備,進一步包括位於該包封層之上的一遮罩件。
- 如請求項2所述之設備, 其中該遮罩件進一步位於該第一基板的一側表面之上,並且 其中該遮罩件包括一電磁干擾(EMI)遮罩件。
- 如請求項3所述之設備,其中該包封層包封該積體設備。
- 如請求項1所述之設備,其中該柔性連接被嵌入在該第一基板和該第二基板中。
- 如請求項1所述之設備, 其中該第一天線被嵌入在該第一基板中, 其中該第一基板面向一第一天線方向, 其中該第二天線被嵌入在該第二基板中,並且 其中該第二基板面向一第二天線方向。
- 如請求項1所述之設備,其中該第一基板和該積體設備形成針對該設備的一第一封裝。
- 如請求項7所述之設備,其中該第一封裝包括一封裝天線(AiP)。
- 如請求項1所述之設備,進一步包括: 耦合至該第二基板的一第二積體設備;及 位於該第二基板和該第二積體設備之上的一第二包封層。
- 如請求項1所述之設備,其中該設備被併入到從包括以下各項的一群組中選擇的一特定設備中:一音樂播放機、一視訊播放機、一娛樂單元、一導航設備、一通訊設備、一行動設備、一行動電話、一智慧型電話、一個人數位助理、一固定位置終端、一平板電腦、一電腦、一可穿戴設備、一膝上型電腦、一伺服器、以及一機動交通工具中的一設備。
- 一種裝置,包括: 包括一第一天線的一第一基板; 被耦合至該第一基板的一積體設備; 位於該第一基板和該積體設備之上的用於包封的構件; 包括一第二天線的一第二基板;及 耦合至該第一基板和該第二基板的用於柔性連接的構件。
- 如請求項11所述之裝置,進一步包括位於該用於包封的構件之上的用於遮罩的構件。
- 如請求項12所述之裝置, 其中該用於遮罩的構件進一步位於該第一基板的一側表面之上,並且 其中該用於遮罩的構件包括用於電磁干擾(EMI)遮罩的構件。
- 如請求項13所述之裝置,其中該用於包封的構件包封該積體設備。
- 如請求項11所述之裝置,其中該用於柔性連接的構件被嵌入在該第一基板和該第二基板中。
- 如請求項11所述之設備, 其中該第一天線被嵌入在該第一基板中, 其中該第一基板面向一第一天線方向, 其中該第二天線被嵌入在該第二基板中,並且 其中該第二基板面向一第二天線方向。
- 如請求項11所述之裝置,其中該第一基板和該積體設備形成針對該裝置的一第一封裝。
- 如請求項17所述之裝置,其中該第一封裝包括一封裝天線(AiP)。
- 如請求項11所述之裝置,進一步包括: 耦合至該第二基板的一第二積體設備;及 位於該第二基板和該第二積體設備之上的用於第二包封的構件。
- 如請求項11所述之裝置,其中該裝置被併入到從包括以下各項的一群組中選擇的一設備中:一音樂播放機、一視訊播放機、一娛樂單元、一導航設備、一通訊設備、一行動設備、一行動電話、一智慧型電話、一個人數位助理、一固定位置終端、一平板電腦、一電腦、一可穿戴設備、一膝上型電腦、一伺服器、以及一機動交通工具中的一設備。
- 一種用於製造一設備的方法,包括以下步驟: 提供包括一第一天線和一第二天線的一基板; 去除該基板的部分以定義(i)包括該第一天線的一第一基板、(ii)包括該第二天線的一第二基板、以及(iii)耦合至該第一基板和該第二基板的一柔性連接; 將一積體設備耦合至該基板;及 在該基板和該積體設備之上形成一包封層。
- 如請求項21所述之方法,進一步包括以下步驟:形成位於該包封層之上的一遮罩件。
- 如請求項22所述之方法, 其中該遮罩件形成在該第一基板的一側表面之上,並且 其中該遮罩件包括一電磁干擾(EMI)遮罩件。
- 如請求項21所述之方法,其中該柔性連接被嵌入在該第一基板和該第二基板中。
- 如請求項21所述之方法, 其中該第一天線被嵌入在該第一基板中, 其中該第一基板面向一第一天線方向, 其中該第二天線被嵌入在該第二基板中,並且 其中該第二基板面向一第二天線方向。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/810,621 US11495873B2 (en) | 2020-03-05 | 2020-03-05 | Device comprising multi-directional antennas in substrates coupled through flexible interconnects |
US16/810,621 | 2020-03-05 |
Publications (1)
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