TW202138459A - 樹脂組成物、遮光膜及帶隔壁的基板 - Google Patents

樹脂組成物、遮光膜及帶隔壁的基板 Download PDF

Info

Publication number
TW202138459A
TW202138459A TW110110900A TW110110900A TW202138459A TW 202138459 A TW202138459 A TW 202138459A TW 110110900 A TW110110900 A TW 110110900A TW 110110900 A TW110110900 A TW 110110900A TW 202138459 A TW202138459 A TW 202138459A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light
resin composition
substrate
partition wall
compound
Prior art date
Application number
TW110110900A
Other languages
English (en)
Inventor
飯塚英祐
諏訪充史
小林秀行
Original Assignee
日商東麗股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商東麗股份有限公司 filed Critical 日商東麗股份有限公司
Publication of TW202138459A publication Critical patent/TW202138459A/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/06—Silver salts

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本發明揭示一種對於形成顯示裝置的基板上的隔壁而言有用的樹脂組成物，其能夠能夠形成耐候性優異、兼具可見光整體的高反射性與藍色光的高遮光性的隔壁，且比較廉價。樹脂組成物含有：樹脂、光聚合起始劑或醌二疊氮化合物、白色顏料、有機銀化合物、以及還原劑。作為還原劑，可列舉分子內含有兩個以上的酚性羥基的化合物或含有烯二醇基的化合物。

Description

樹脂組成物、遮光膜及帶隔壁的基板
本發明是有關於一種樹脂組成物、由樹脂組成物形成的遮光膜、及具有經圖案形成的隔壁的帶隔壁的基板。
近年來，作為提高了光利用效率的彩色顯示裝置，提出有包括包含波長變換用螢光體的波長變換部、偏光分離機構及偏光變換機構的彩色顯示裝置（例如參照專利文獻1）。例如提出有如下彩色顯示裝置，包括：藍色光源、液晶元件、以及波長變換部，所述波長變換部具有受藍色光激發而發出紅色的螢光的螢光體、受藍色光激發而發出綠色的螢光的螢光體、以及使藍色光散射的光散射層（例如參照專利文獻2）。
但是，包含如專利文獻1、專利文獻2所記載般的顏色變換螢光體的彩色濾光片由於在所有方向上產生螢光，因此光的取出效率低，亮度不充分。特別是被稱為4K、8K的高精細顯示裝置中，畫素尺寸變小，因而亮度的課題顯著，因此要求更高的亮度。 [現有技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2000-131683號公報 專利文獻2：日本專利特開2009-244383號公報 專利文獻3：日本專利特開2000-347394號公報 專利文獻4：日本專利特開2006-259421號公報 專利文獻5：WO2020/008969
[發明所欲解決之課題] 一般而言，於此種顯示裝置中，藉由利用隔壁將顏色變換螢光體隔開，來防止鄰接間畫素的光的混色。特別是，若顏色變換螢光體的激發光洩漏至鄰接畫素，則於鄰接畫素內發光，成為混色的原因，因此大多數情況下，隔壁對藍色光（波長450 nm）的遮光性變得極為重要。另外，為了提高顯示裝置的亮度，有效的是利用反射性高的隔壁將顏色變換螢光體隔開。根據以上，要求兼具藍色光的高遮光性與可見光整體的高反射性的隔壁材料。
為了形成兼具藍色光的高遮光性與可見光整體的高反射性的隔壁，發明者等人首先研究了使用如下材料的方法，所述材料是於使用了表現出高反射率的氧化鈦白色顏料的白色隔壁材料中添加藍色的補色即黃色的顏料而成。但是，該方法中，曝光光整體被白色顏料與黃色顏料吸收，曝光時光無法到達膜的底部，圖案加工性差的課題變得明確。
因此，發明者等人設計出在製膜後進行圖案曝光的步驟時透過曝光光，於120℃以上且250℃以下的溫度下對曝光的膜進行加熱後，使遮光性上升的設計。另外，藉由使用如下的樹脂組成物，其含有：樹脂；有機金屬化合物，含有選自由銀、金、鉑及鈀所組成的群組中的至少一種金屬；光聚合起始劑或醌二疊氮化合物；以及溶媒，從而達成了該設計（參照專利文獻5）。特別是發現，若使用有機銀化合物，則加熱後由於銀奈米粒子的生成，膜會黃色化，藍色光的遮光性會上升。
然而，該技術中，若於加熱後的膜中殘存未反應的有機銀化合物，則會因光或熱而分解，膜色發生變化，因此新明確了耐候性存在課題。另外，由於需要大量（固體成分中1%以上）使用高價的有機銀化合物，因此成本上亦存在課題。進而，為了使膜的遮光性充分上升，需要150℃以上的加熱，於要求100℃～120℃左右的低溫下的加熱條件的情況下，無法應用本技術。
因此，本發明的目的在於比較廉價地提供一種樹脂組成物，其即便於100～120℃左右的加熱條件下，亦能夠形成耐熱性優異、兼具藍色光的高遮光性與可見光整體的高反射性的隔壁。 [解決課題之手段]
本申請案發明者等人進行了努力研究，結果發現，藉由含有樹脂、光聚合起始劑或醌二疊氮化物、白色顏料及/或遮光顏料、有機銀化合物、以及還原劑的樹脂組成物，能夠形成耐候性優異、兼具可見光整體的高反射性與藍色光的高遮光性的隔壁，從而完成本發明。
即，本申請案發明提供以下。 （1）一種樹脂組成物，含有：樹脂、光聚合起始劑或醌二疊氮化合物、白色顏料及/或遮光顏料、有機銀化合物、以及還原劑。 （2）如（1）所述的樹脂組成物，其中所述還原劑是分子內含有兩個以上的酚性羥基的化合物或含有烯二醇（endiol）基的化合物。 （3）如（1）或（2）所述的樹脂組成物，其中所述有機銀化合物為下述通式（1）所表示的化合物。
[化1]
Figure 02_image001
（通式（1）中，R1 表示氫或碳數1～30的有機基） （4）如（1）或（2）所述的樹脂組成物，其中所述有機銀化合物為至少具有下述通式（2）所表示的結構的聚合物化合物。
[化2]
Figure 02_image003
（通式（2）中，R2 及R3 分別獨立地表示氫或碳數1～30的有機基） 如（1）至（4）中任一項所述的樹脂組成物，其中所述還原劑為下述通式（3）所表示的對苯二酚（hydroquinone）化合物。
[化3]
Figure 02_image005
（通式（3）中，R4 、R5 、R6 及R7 分別獨立地表示氫、羥基、或碳數1～30的有機基） （6）如（1）至（5）中任一項所述的樹脂組成物，其中所述樹脂為具有苯乙烯基的聚矽氧烷。 （7）如（1）至（6）中任一項所述的樹脂組成物，更含有具有光自由基聚合性基的撥液化合物。 （8）一種遮光膜，其是使如（1）至（7）中任一項所述的樹脂組成物硬化而成。 （9）一種帶隔壁的基板，其是藉由如（1）至（7）中任一項所述的樹脂組成物而於基底基板上具有（A-1）經圖案形成的隔壁的帶隔壁的基板，其中波長450 nm下的每10 μm厚度的反射率為10%～60%，波長450 nm下的每10 μm厚度的光學密度（optical density，OD）值為1.5～5.0。 （10）一種帶隔壁的基板，其是於基底基板上具有（A-1）經圖案形成的隔壁的帶隔壁的基板，其中所述經圖案形成的隔壁含有樹脂、白色顏料及/或遮光顏料、氧化銀及/或銀粒子、以及醌化合物。 （11）如（9）所述的帶隔壁的基板，其中所述（A-1）經圖案形成的隔壁含有樹脂、白色顏料、以及氧化銀及/或銀粒子。 （12）如（9）至（11）中任一項所述的帶隔壁的基板，其中所述（A-1）經圖案形成的隔壁更含有撥液化合物，（A-1）經圖案形成的隔壁中的撥液化合物的含量為0.01重量%～10重量%。 （13）如（9）至（12）中任一項所述的帶隔壁的基板，其中於所述基底基板與（A-1）經圖案形成的隔壁之間更具有（A-2）每1.0 μm厚度的OD值為0.5以上的經圖案形成的遮光隔壁。 （14）如（9）至（13）中任一項所述的帶隔壁的基板，更具有由所述（A-1）經圖案形成的隔壁隔開而排列的（B）含有顏色變換發光材料的畫素層。 （15）如（14）所述的帶隔壁的基板，其中所述顏色變換發光材料含有選自量子點及吡咯亞甲基衍生物中的螢光體。 （16）如（14）或（15）所述的帶隔壁的基板，其中於所述基底基板與（B）含有顏色變換發光材料的畫素層之間更具有厚度1 μm～5 μm的彩色濾光片。 （17）一種顯示裝置，包括：如（9）至（16）中任一項所述的帶隔壁的基板；以及選自液晶單元、有機電致發光（electroluminescence，EL）單元、迷你發光二極體（mini-light-emitting diode，迷你LED）單元及微型（micro）LED單元中的發光光源。 [發明的效果]
本發明的樹脂組成物於製膜後進行圖案曝光的步驟時使曝光光透過，但若於100℃以上且250℃以下的溫度下對曝光的膜進行加熱，則膜中有機銀化合物被還原劑還原而有效率地生成黃色粒子，藍色光的遮光性提高，因此能夠形成耐候性優異、兼具可見光整體的高反射性與藍色光的高遮光性的微細厚膜隔壁圖案。
以下，具體說明本發明的樹脂組成物、由樹脂組成物形成的遮光膜、以及帶隔壁的基板的較佳實施方式，但本發明不限定於以下的實施方式，可根據目的或用途進行各種變更來實施。
本發明的樹脂組成物可較佳地用作用於形成將顏色變換螢光體或選自有機EL單元、迷你LED單元、微型LED單元中的發光光源等隔開的隔壁的材料。本發明的樹脂組成物含有：樹脂、光聚合起始劑或醌二疊氮化合物、白色顏料及/或遮光顏料、有機銀化合物、以及還原劑。
樹脂具有提高隔壁的耐裂紋性及耐光性的功能。就提高熱處理中的隔壁的耐裂紋性的觀點而言，樹脂於樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為10重量%以上，更佳為20重量%以上。另一方面，就提高耐光性的觀點而言，樹脂於樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為60重量%以下，更佳為50重量%以下。此處，所謂固體成分，是指於樹脂組成物所含的成分中，去除溶媒等揮發性成分後的全部成分。固體成分的量可藉由測定對樹脂組成物進行加熱而使揮發性成分蒸發後的剩餘成分來求出。
作為樹脂，例如可列舉聚矽氧烷、聚醯亞胺、聚醯亞胺前驅物、聚苯並噁唑、聚苯並噁唑前驅物、(甲基)丙烯酸聚合物等。此處，所謂(甲基)丙烯酸聚合物，是指甲基丙烯酸酯及/或丙烯酸酯的聚合物。亦可含有兩種以上該些化合物。該些中，就耐熱性及耐光性優異的方面而言，較佳為聚矽氧烷。
聚矽氧烷是有機矽烷的水解、脫水縮合物。於本發明的樹脂組成物具有負型感光性的情況下，聚矽氧烷較佳為至少含有下述通式（4）所表示的重複單元。亦可更含有其他重複單元。藉由含有通式（4）所表示的源自二官能烷氧基矽烷化合物的重複單元，可抑制由加熱引起的聚矽氧烷的過度的熱聚合（縮合），可提高隔壁的耐裂紋性。於聚矽氧烷中的全部重複單元中，較佳為含有10莫耳%～80莫耳%的通式（4）所表示的重複單元。藉由含有10莫耳%以上的通式（4）所表示的重複單元，可進一步提高耐裂紋性。通式（4）所表示的重複單元的含量更佳為15莫耳%以上，進而佳為20莫耳%以上。另一方面，藉由含有80莫耳%以下的通式（4）所表示的重複單元，可於聚合時充分提高聚矽氧烷的分子量，提高塗佈性。通式（4）所表示的重複單元的含量更佳為70莫耳%以下。
[化4]
Figure 02_image007
所述通式（4）中，R8 及R9 分別可相同亦可不同，表示碳數1～20的一價有機基。就使聚合時的聚矽氧烷的分子量調整容易的觀點而言，R8 及R9 較佳為選自碳數1～6的烷基及碳數6～12的芳基中的基。其中，烷基及芳基的氫的至少一部分可被自由基聚合性基取代。該情況下，於負型感光性樹脂組成物的硬化物中，自由基聚合性基可進行自由基聚合。
聚矽氧烷較佳為更含有下述通式（5）所表示的重複單元。藉由含有通式（5）所表示的源自三官能烷氧基矽烷化合物的重複單元，製膜後聚矽氧烷的交聯密度變高，可提高膜的硬度及耐化學品性。於聚矽氧烷中的全部重複單元中，較佳為含有10莫耳%～80莫耳%的通式（5）所表示的重複單元。通式（5）所表示的重複單元的含量更佳為15莫耳%以上，進而佳為20莫耳%以上。另一方面，藉由含有80莫耳%以下的通式（5）所表示的重複單元，可抑制由加熱引起的聚矽氧烷的過度的熱聚合（縮合），提高隔壁的耐裂紋性。通式（5）所表示的重複單元的含量更佳為70莫耳%以下。
[化5]
Figure 02_image009
所述通式（5）中，R10 表示碳數1～20的一價有機基。就使聚合時的聚矽氧烷的分子量調整容易的觀點而言，R10 較佳為選自碳數1～6的烷基及碳數6～12的芳基中的基。其中，烷基及芳基的氫的至少一部分可被自由基聚合性基取代。該情況下，於負型感光性樹脂組成物的硬化物中，自由基聚合性基可進行自由基聚合。另外，聚矽氧烷中亦可包含兩種以上的具有不同R10 的通式（5）所表示的重複單元。通式（5）中，作為R10 ，較佳為包含含有苯乙烯基的重複單元。藉由包含含有苯乙烯基的源自三官能烷氧基矽烷化合物的重複單元，即便於100℃～120℃左右的低溫加熱條件下，製膜後聚矽氧烷的交聯密度亦變高，可提高膜的硬度與耐化學品性。
所述通式（4）及通式（5）所表示的重複單元分別源自下述通式（6）及通式（7）所表示的烷氧基矽烷化合物。即，含有所述通式（4）及通式（5）所表示的重複單元的聚矽氧烷可藉由對含有下述通式（6）及通式（7）所表示的烷氧基矽烷化合物的烷氧基矽烷化合物進行水解及縮聚而獲得。亦可更使用其他烷氧基矽烷化合物。再者，通式（6）及通式（7）中，「-(OR11 )2 」及「-(OR11 )3 」的表記是指Si原子上分別鍵結有兩個及三個「-(OR11 )」。
[化6]
Figure 02_image011
所述通式（6）及通式（7）中，R8 ～R10 分別表示與通式（4）及通式（5）中的R8 ～R10 相同的基。R11 可相同亦可不同，表示碳數1～20的一價有機基，較佳為碳數1～6的烷基。
作為通式（6）所表示的烷氧基矽烷化合物，例如可列舉：二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、乙基甲基二甲氧基矽烷、乙基甲基二乙氧基矽烷、甲基丙基二甲氧基矽烷、甲基丙基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、苯乙烯基甲基二甲氧基矽烷、苯乙烯基甲基二乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基乙基二甲氧基矽烷、甲基苯基二甲氧基矽烷、甲基苯基二乙氧基矽烷、3-二甲基甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、3-二甲基乙氧基矽烷基丙基丁二酸酐、3-二甲基甲氧基矽烷基丙酸、3-二甲基乙氧基矽烷基丙酸、3-二甲基甲氧基矽烷基丙基環己基二羧酸酐、3-二甲基乙氧基矽烷基丙基環己基二羧酸酐、雙(三氟甲基)二甲氧基矽烷、雙(三氟丙基)二甲氧基矽烷、雙(三氟丙基)二乙氧基矽烷、三氟丙基甲基二甲氧基矽烷、三氟丙基甲基二乙氧基矽烷、三氟丙基乙基二甲氧基矽烷、三氟丙基乙基二乙氧基矽烷、十七氟癸基甲基二甲氧基矽烷等。亦可使用兩種以上該些化合物。
作為通式（7）所表示的烷氧基矽烷化合物，例如可列舉：甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、異丁基三甲氧基矽烷、異丁基三乙氧基矽烷、環己基三甲氧基矽烷、環己基三乙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-脲基丙基三甲氧基矽烷、3-脲基丙基三乙氧基矽烷等三官能烷氧基矽烷化合物；3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三乙氧基矽烷、3-乙基-3-{[3-(三甲氧基矽烷基)丙氧基]甲基}氧雜環丁烷、3-乙基-3-{[3-(三乙氧基矽烷基)丙氧基]甲基}氧雜環丁烷等含環氧基或氧雜環丁烷基的烷氧基矽烷化合物；苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、1-萘基三甲氧基矽烷、2-萘基三甲氧基矽烷、2-萘基三甲氧基矽烷、2-萘基三甲氧基矽烷、甲苯基三甲氧基矽烷、甲苯基三乙氧基矽烷、1-苯基乙基三甲氧基矽烷、1-苯基乙基三乙氧基矽烷、2-苯基乙基三甲氧基矽烷、2-苯基乙基三乙氧基矽烷、3-三甲氧基矽烷基丙基鄰苯二甲酸酐、3-三乙氧基矽烷基丙基鄰苯二甲酸酐等含芳香環的烷氧基矽烷化合物；苯乙烯基三甲氧基矽烷、苯乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、烯丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯基丙基三乙氧基矽烷等含自由基聚合性基的烷氧基矽烷化合物；3-三甲氧基矽烷基丙酸、3-三乙氧基矽烷基丙酸、4-三甲氧基矽烷基丁酸、4-三乙氧基矽烷基丁酸、5-三甲氧基矽烷基戊酸、5-三乙氧基矽烷基戊酸、3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、3-三乙氧基矽烷基丙基丁二酸酐、3-三甲氧基矽烷基丙基環己基二羧酸酐、3-三乙氧基矽烷基丙基環己基二羧酸酐、3-三甲氧基矽烷基丙基鄰苯二甲酸酐、3-三乙氧基矽烷基丙基鄰苯二甲酸酐等含羧基的烷氧基矽烷化合物；三氟丙基三甲氧基矽烷、三氟丙基三乙氧基矽烷、全氟戊基三甲氧基矽烷、全氟戊基三乙氧基矽烷、十三氟辛基三甲氧基矽烷、十三氟辛基三乙氧基矽烷、十三氟辛基三丙氧基矽烷、十三氟辛基三異丙氧基矽烷、十七氟癸基三甲氧基矽烷、十七氟癸基三乙氧基矽烷等含氟基的烷氧基矽烷化合物等。亦可使用兩種以上該些化合物。
於本發明的樹脂組成物具有負型感光性的情況下，作為通式（6）及/或通式（7）所表示的烷氧基矽烷化合物，較佳為含有至少一種含自由基聚合性基的烷氧基矽烷化合物。藉由含有含自由基聚合性基的烷氧基矽烷化合物，利用曝光部中產生的自由基來進行交聯反應，可提高曝光部的硬化度。另外，於本發明的樹脂組成物具有負型感光性的情況下，作為通式（6）及/或通式（7）所表示的烷氧基矽烷化合物，較佳為含有至少一種含羧基的烷氧基矽烷化合物。藉由含有含羧基的烷氧基矽烷化合物，未曝光部的溶解性提高，於圖案加工時可提高解析度。
作為其他烷氧基矽烷化合物，例如可列舉四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、矽酸鹽51（四乙氧基矽烷寡聚物）等四官能烷氧基矽烷化合物；三甲基甲氧基矽烷、三苯基甲氧基矽烷等單官能烷氧基矽烷化合物等。亦可使用兩種以上該些化合物。
就使聚矽氧烷的所有重複單元中的通式（4）所表示的重複單元的含量為所述範圍內的觀點而言，作為聚矽氧烷的原料的烷氧基矽烷化合物中通式（6）所表示的烷氧基矽烷化合物的含量較佳為10莫耳%以上，更佳為15莫耳%以上，進而佳為20莫耳%以上。另一方面，就同樣的觀點而言，通式（7）所表示的烷氧基矽烷化合物的含量較佳為80莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下。
就塗佈性的觀點而言，聚矽氧烷的重量平均分子量（Mw）較佳為1,000以上，更佳為2,000以上。另一方面，就顯影性的觀點而言，聚矽氧烷的Mw較佳為500,000以下，更佳為300,000以下。此處，本發明中的聚矽氧烷的Mw是指利用凝膠滲透層析法（Gel Permeation Chromatography，GPC）測定的聚苯乙烯換算值。測定方法如後述的實施例中所記載般。
聚矽氧烷可藉由如下方式而獲得：於將所述有機矽烷化合物水解後，使該水解物於溶媒的存在下或無溶媒下進行脫水縮合反應。
水解的各種條件可考慮反應規模、反應容器的大小、形狀等，根據適合於目標用途的物性進行設定。作為各種條件，例如可列舉氧濃度、反應溫度、反應時間等。
水解反應中可使用鹽酸、乙酸、甲酸、硝酸、草酸、鹽酸、硫酸、磷酸、聚磷酸、多元羧酸或其酐、離子交換樹脂等酸觸媒。該些中，較佳為包含選自甲酸、乙酸及磷酸中的酸的酸性水溶液。
於在水解反應中使用酸觸媒的情況下，就使水解更迅速地進行的觀點而言，相對於水解反應中使用的所有烷氧基矽烷化合物100重量份，酸觸媒的添加量較佳為0.05重量份以上，更佳為0.1重量份以上。另一方面，就適度地調整水解反應的進行的觀點而言，相對於所有烷氧基矽烷化合物100重量份，酸觸媒的添加量較佳為20重量份以下，更佳為10重量份以下。此處，所有烷氧基矽烷化合物量是指包含烷氧基矽烷化合物、其水解物及其縮合物的全部的量。以下相同。
水解反應可於溶媒中進行。可考慮樹脂組成物的穩定性、潤濕性、揮發性等適宜選擇溶媒。
於藉由水解反應而生成溶媒的情況下，亦能夠於無溶媒下進行水解。於在樹脂組成物中使用的情況下，亦較佳為於水解反應結束後進一步添加溶媒，藉此將樹脂組成物調整為適當的濃度。另外，亦能夠於水解後藉由加熱及/或減壓下將生成醇等的總量或一部分餾出、去除，其後添加合適的溶媒。
作為脫水縮合反應的方法，例如可列舉對藉由有機矽烷化合物的水解反應而獲得的矽烷醇化合物溶液直接進行加熱的方法等。加熱溫度較佳為50℃以上且溶媒的沸點以下，加熱時間較佳為1小時～100小時。另外，為了提高聚矽氧烷的聚合度，亦可進行再加熱或鹼觸媒的添加。另外，亦可根據目的於脫水縮合反應後，於加熱及/或減壓下將適量的生成醇等餾出、去除，其後添加合適的溶媒。
本發明的樹脂組成物於用於後述的隔壁（A-1）的圖案形成的情況下，較佳為具有負型或正型的感光性。於賦予負型感光性的情況下，較佳為含有光聚合起始劑，可形成高精細的圖案形狀的隔壁。負型感光性樹脂組成物較佳為更含有光聚合性化合物。另一方面，於賦予正型感光性的情況下，較佳為含有醌二疊氮化合物。
光聚合起始劑只要藉由光（包括紫外線、電子束）的照射而分解及/或反應從而產生自由基，則可為任意的光聚合起始劑。例如可列舉：2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1等α-胺基苯烷基酮化合物；2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基戊基)-氧化膦等醯基氧化膦化合物；1-苯基-1,2-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲醯基肟)]、1-苯基-1,2-丁酮-2-(O-甲氧基羰基)肟、1,3-二苯基丙烷三酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)等肟酯化合物；2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基-苯基酮等α-羥基酮化合物；2,2-二乙氧基苯乙酮、2,3-二乙氧基苯乙酮、4-第三丁基二氯苯乙酮、苯亞甲基苯乙酮、4-疊氮基苯亞甲基苯乙酮等苯乙酮化合物等。亦可含有兩種以上該些化合物。
就有效果地進行自由基硬化的觀點而言，本發明的樹脂組成物中的光聚合起始劑的含量於固體成分中較佳為0.01重量%以上，更佳為1重量%以上。另一方面，就抑制殘留的光聚合起始劑的溶出等的觀點而言，光聚合起始劑的含量於固體成分中較佳為20重量%以下，更佳為10重量%以下。
本發明中的光聚合性化合物是指於分子中具有兩個以上的乙烯性不飽和雙鍵的化合物。若考慮自由基聚合性的容易性，則光聚合性化合物較佳為具有(甲基)丙烯酸基。
作為光聚合性化合物，例如可列舉：二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯、1,10-癸二醇二甲基丙烯酸酯、二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三季戊四醇七丙烯酸酯、三季戊四醇八丙烯酸酯、四季戊四醇九丙烯酸酯、四季戊四醇十丙烯酸酯、五季戊四醇十一丙烯酸酯、五季戊四醇十二丙烯酸酯、三季戊四醇七甲基丙烯酸酯、三季戊四醇八甲基丙烯酸酯、四季戊四醇九甲基丙烯酸酯、四季戊四醇十甲基丙烯酸酯、五季戊四醇十一甲基丙烯酸酯、五季戊四醇十二甲基丙烯酸酯、二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯等。亦可含有兩種以上該些化合物。
就有效果地進行自由基硬化的觀點而言，本發明的樹脂組成物中的光聚合性化合物的含量於固體成分中較佳為1重量%以上。另一方面，就抑制自由基的過剩反應且提高解析度的觀點而言，光聚合性化合物的含量於固體成分中較佳為50重量%以下。
作為醌二疊氮化合物，較佳為萘醌二疊氮的磺酸利用酯而鍵結於具有酚性羥基的化合物上的化合物。作為此處使用的具有酚性羥基的化合物，例如可列舉：Bis-Z、TekP-4HBPA（四P-DO-BPA）、TrisP-HAP、TrisP-PA、BisRS-2P、BisRS-3P（以上為商品名，本州化學工業（股）製造）；BIR-PC、BIR-PTBP、BIR-BIPC-F（以上為商品名，旭有機材工業（股）製造）；4,4'-磺醯基二苯酚、BPFL（商品名，JFE化學（股）製造）等。作為醌二疊氮化合物，較佳為於該些具有酚性羥基的化合物中利用酯鍵導入4-萘醌二疊氮磺酸或5-萘醌二疊氮磺酸的化合物，例如可列舉THP-17、TDF-517（商品名，東洋合成工業（股）製造）、SBF-525（商品名，安智電子材料（AZ Electronic Materials）（股）製造）等。
就提高感度的觀點而言，本發明的樹脂組成物中的醌二疊氮化合物的含量於固體成分中較佳為0.5重量%以上，更佳為1重量%以上。另一方面，就提高解析度的觀點而言，醌二疊氮化合物的含量於固體成分中較佳為25重量%以下，更佳為20重量%以下。
本發明的樹脂組成物較佳為更含有白色顏料及/或遮光顏料。白色顏料具有進一步提高隔壁的反射率的功能。遮光顏料具有進一步提高隔壁對特定波長的光的遮光性的功能。
作為顏料，於樹脂組成物中僅含有白色顏料的情況下、以及同時含有白色顏料及遮光顏料的情況下，可獲得兼具高反射性與高遮光性的隔壁。另一方面，作為顏料，於樹脂組成物中僅含有遮光顏料的情況下，可獲得對特定波長具有高遮光性的隔壁。
作為白色顏料，例如可列舉二氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅、硫酸鋇、該些的複合化合物等。亦可含有兩種以上該些化合物。該些中，較佳為反射率高且容易在工業上利用的二氧化鈦。
二氧化鈦的結晶結構分為銳鈦礦型、金紅石型及板鈦礦型。該些中，就光觸媒活性低的方面而言，較佳為金紅石型氧化鈦。
亦可對白色顏料實施表面處理。較佳為利用選自Al、Si及Zr中的金屬進行表面處理，可提高形成的隔壁的耐光性及耐熱性。
就進一步提高隔壁的反射率的觀點而言，白色顏料的平均一次粒徑較佳為100 nm～500 nm，更佳為150 nm～350 nm。此處，白色顏料的平均一次粒徑可使用粒度分佈測定裝置（N4-PLUS；貝克曼-庫爾特（Beckman-Coulter）（股）製造）等，藉由雷射繞射法進行測定。
作為可較佳地用作白色顏料的二氧化鈦顏料，例如可列舉：R960，杜邦（股）製造（金紅石型、SiO2 /Al2 O3 處理、平均一次粒徑210 nm）；CR-97，石原產業（股）製造（金紅石型、Al2 O3 /ZrO2 處理、平均一次粒徑250 nm）；JR-301，帝化（Tayca）（股）製造（金紅石型、Al2 O3 處理、平均一次粒徑300 nm）；JR-405，帝化（Tayca）（股）製造（金紅石型、Al2 O3 處理、平均一次粒徑210 nm）；JR-600A，帝化（Tayca）（股）（金紅石型、Al2 O3 處理、平均一次粒徑250 nm）；JR-603，帝化（Tayca）（股）（金紅石型、Al2 O3 /ZrO2 處理、平均一次粒徑280 nm）等。亦可含有兩種以上該些化合物。
就進一步提高反射率的觀點而言，樹脂組成物中的白色顏料的含量較佳為固體成分中的10重量%以上，更佳為15重量%以上。另一方面，就提高隔壁的表面平滑性的觀點而言，白色顏料的含量較佳為固體成分中的60重量%以下，更佳為55重量%以下。
遮光顏料只要是提高波長光的遮光性者，則可為任意者，例如可列舉紅色顏料、藍色顏料、黑色顏料、綠色顏料、黃色顏料等。
作為紅色顏料，例如可列舉：顏料紅（pigment red）（以下簡稱為PR）9、PR177、PR179、PR180、PR192、PR209、PR215、PR216、PR217、PR220、PR223、PR224、PR226、PR227、PR228、PR240、PR254等。亦可含有兩種以上該些化合物。
作為藍色顏料，例如可列舉：顏料藍（pigment blue）（以下簡稱為PB）15、PB15：3、PB15：4、PB15：6等。亦可含有兩種以上該些化合物。
作為黑色顏料，例如可列舉黑色有機顏料、混色有機顏料、黑色無機顏料等。
作為黑色有機顏料，例如可列舉碳黑、苝黑、苯胺黑、苯並呋喃酮系顏料等。該些亦可被樹脂被覆。
作為混色有機顏料，例如可列舉將選自紅、藍、綠、紫、黃色、品紅及青等中的兩種以上的顏料混合而模擬黑色化的顏料。該些中，就兼具適度高的OD值與圖案加工性的觀點而言，較佳為紅色顏料與藍色顏料的混合顏料。混合顏料中的紅色顏料與藍色顏料的重量比較佳為20/80～80/20，更佳為30/70～70/30。
作為黑色無機顏料，例如可列舉：石墨；鈦、銅、鐵、錳、鈷、鉻、鎳、鋯、鋅、鈣、銀、金、鉑、鈀等金屬的微粒子；金屬氧化物；金屬複合氧化物；金屬硫化物；金屬氮化物；金屬氧氮化物；金屬碳化物等。亦可含有兩種以上該些化合物。
作為綠色顏料，例如可列舉：C.I.顏料綠（pigment green）（以下簡稱為PG）7、PG36、PG58、PG37、PG59等。亦可含有兩種以上該些化合物。
作為黃色顏料，例如可列舉：顏料黃（pigment yellow）（以下簡稱為PY）PY137、PY138、PY139、PY147、PY148、PY150、PY153、PY154、PY166、PY168、PY185等。亦可含有兩種以上該些化合物。
就提高特定波長光的遮光性的觀點而言，遮光顏料於樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為固體成分中的0.005重量%以上，更佳為0.05重量%以上。另一方面，就圖案加工性的觀點而言，較佳為30重量%以下，更佳為15重量%以下。就兼具隔壁的遮光性與圖案加工性的觀點而言，遮光顏料的平均一次粒徑較佳為1 nm～300 nm，更佳為2 nm～50 nm。此處，遮光顏料的平均一次粒徑可使用粒度分佈測定裝置（N4-PLUS；貝克曼-庫爾特（Beckman-Coulter）（股）製造）等，藉由雷射繞射法進行測定。
本發明的樹脂組成物較佳為更含有有機銀化合物。有機銀化合物藉由於曝光步驟及/或加熱步驟中分解、凝聚而產生銀奈米粒子等黃色粒子，可提高膜的遮光性。作為有機銀化合物，只要是於曝光步驟及/或加熱步驟中產生黃色粒子的化合物則可為任意者。作為先前已知的有機銀化合物，例如可列舉：日本專利特開平10-62899號公報的段落「0048」～段落「0049」、歐洲專利申請案公開第803,764A1號說明書的第18頁第24行～第19頁第37行、歐洲專利申請案公開第962,812A1號說明書、日本專利特開平11-349591號公報、日本專利特開2000-7683號公報、日本專利特開2000-72711號公報、日本專利特開2002-23301號公報、日本專利特開2002-23303號公報、日本專利特開2002-49119號公報、196446號公報、歐洲專利申請案公開第1246001A1號說明書、歐洲專利申請案公開第1258775A1號說明書、日本專利特開2003-140290號公報、日本專利特開2003-195445號公報、日本專利特開2003-295378號公報、日本專利特開2003-295379號公報、日本專利特開2003-295380號公報、日本專利特開2003-295381號公報、日本專利特開2003-270755號公報等中記載的有機銀化合物、或脂肪族羧酸的銀鹽等。
該些中，就更加黃色化的觀點而言，較佳為下述通式（1）所表示的化合物及/或具有下述通式（2）所表示的結構的聚合物化合物。
[化7]
Figure 02_image013
通式（1）中，R1 表示氫或碳數1～30的有機基。此處，作為「碳數1～30的有機基」，較佳為碳數1～30的烷基（包含直鏈狀及分支狀烷基）及/或碳數6～30的芳香族烴基。作為該些的較佳具體例，可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、正戊基、異戊基、正己基、異己基、正庚基、異庚基、正辛基、異辛基、正壬基、異壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基、苯基、苄基、甲苯基、聯苯基及萘基。
[化8]
Figure 02_image015
通式（2）中，R2 及R3 分別獨立地表示氫或碳數1～30的有機基。此處，作為「碳數1～30的有機基」，較佳為碳數1～30的烷基（包含直鏈狀及分支狀烷基）及/或碳數6～30的芳香族烴基。作為該些的較佳具體例，可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、正戊基、異戊基、正己基、異己基、正庚基、異庚基、正辛基、異辛基、正壬基、異壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基、苯基、苄基、甲苯基、聯苯基及萘基。另外，a為1以上的整數，較佳為1～10000，更佳為5～1000。
作為通式（1）所表示的有機銀化合物，例如可列舉：乙酸銀、丙酸銀、丁酸銀、戊酸銀、己酸銀、庚酸銀、辛酸銀、壬酸銀、癸酸銀、新癸酸銀、水楊酸銀、碳酸銀、對甲苯磺酸銀、三氟乙酸銀、2-乙基己酸銀、二乙基二硫代胺基甲酸銀、苯甲酸銀、吡啶-2-羧酸銀、山萮酸銀、花生酸銀、硬脂酸銀、油酸銀、月桂酸銀、己酸銀、肉豆蔻酸銀、棕櫚酸銀等。亦可含有兩種以上該些化合物。該些中，就於有機溶劑中的進一步的溶解性與黃色化的觀點而言，較佳為新癸酸銀、辛酸銀、水楊酸銀。
通式（2）所表示的有機銀化合物具有如下結構，即，具有羧基的(甲基)丙烯酸聚合物中的羧基成為銀鹽的結構。通式（2）所表示的有機銀化合物例如如後述的製備例所示，藉由將具有羧基的(甲基)丙烯酸聚合物與硝酸銀於胺催化劑存在下、於有機溶媒中攪拌而獲得。
所述具有羧基的(甲基)丙烯酸聚合物藉由將不飽和羧酸聚合而獲得。作為不飽和羧酸的例子，例如可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、乙烯基乙酸、或酸酐等。該些可單獨使用，亦可與其他能夠共聚的乙烯性不飽和化合物組合使用。作為能夠共聚的乙烯性不飽和化合物，具體而言，可列舉：丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第二丁酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸正戊酯、丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯等不飽和羧酸烷基酯；苯乙烯、對甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯等芳香族乙烯基化合物、丙烯酸胺基乙酯等不飽和羧酸胺基烷基酯；丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯等不飽和羧酸縮水甘油酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等羧酸乙烯酯；丙烯腈、甲基丙烯腈、α-氯丙烯腈等氰化乙烯基化合物；1,3-丁二烯、異戊二烯等脂肪族共軛二烯；分別於末端具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基的聚苯乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚矽酮等巨分子單體等，但並不限定於該些。關於(甲基)丙烯酸聚合物，並無特別限定。
所述具有羧基的(甲基)丙烯酸聚合物亦可使用市售的製品。作為市售的具有羧基的(甲基)丙烯酸聚合物，例如可列舉：AX3-BX-TR-101、AX3-BX-TR-102、AX3-BX-TR-106、AX3-BX-TR-107、AX3-BX-TR-108、AX3-BX-TR-109、AX3-BX-TR-110、AX3-RD-TR-501、AX3-RD-TR-502、AX3-RD-TR-503、AX3-RD-TR-504、AX3-RD-TR-103、AX3-RD-TR-104（商品名，日本觸媒股份有限公司製造）；SPCR-10X、SPCR-10P、SPCR-24X、SPCR-18X、SPCR-215X（商品名，昭和電工股份有限公司製造）；X-4007（商品名，日油股份有限公司製造）等。該些中，較佳為SPCR-10X、SPCR-10P、SPCR-24X、SPCR-18X、SPCR-215X。亦可使用兩種以上該些化合物。
另外，對於通式（2）所表示的聚合物化合物的重量平均分子量（Mw）並無特別限制，但較佳為藉由GPC測定的聚苯乙烯換算為5000～50000，更佳為8000～35000。若Mw小於5000，則熱硬化時會發生圖案下垂，解析度降低。另一方面，若Mw大於50000，則銀難以被還原，難以形成黃色粒子。
有機銀化合物於樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為0.1重量%以上，更佳為0.4重量%以上。藉由將有機銀化合物的含量設為0.4重量%以上，可使所得的隔壁更加黃色化，隔壁對藍色光的遮光性提高。另一方面，若有機銀化合物的含量過多，則藉由因有機銀化合物的分解而部分地產生的自由基而發生過剩反應，難以形成圖案。另外，有機銀化合物的價格高，因此若含量過多，則樹脂組成物的成本會變高。因此，有機銀化合物於樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為10重量%以下，更佳為5.0重量%以下。
本發明的樹脂組成物較佳為更含有還原劑。還原劑藉由促進有機銀化合物的還原，而更有效率地生成黃色粒子，即便於100℃～120℃左右的低溫加熱條件下，亦可提高膜的遮光性。藉此，例如，即便於基底中存在有機EL材料般的擔心耐熱性的材料，需要低溫加熱條件的用途中，亦能夠應用本技術。另外，由於可降低樹脂組成物中的有機銀化合物的含量，因此能夠更廉價地提供樹脂組成物。另外，若於加熱後的膜中殘存未反應的有機銀化合物，則會因光或熱而分解，膜色發生變化，因此會成為耐候性差的膜，但藉由含有還原劑，硬化後膜中殘存的有機銀化合物的量減少，耐候性提高。
還原劑若為促進有機銀化合物的還原的化合物則可為任意者，但就更有效率地還原有機銀化合物的觀點而言，較佳為於分子內含有兩個以上的酚性羥基的化合物或含有烯二醇基的化合物。
作為於分子內含有兩個以上的酚性羥基的化合物，例如可列舉：兒茶酚化合物、對苯二酚化合物、間苯二酚化合物、蒽氫醌化合物等二元酚化合物；或含有三個以上的酚性羥基的多酚化合物。該些中，就還原性的觀點而言，更佳為下述通式（3）所表示的對苯二酚化合物。
[化9]
Figure 02_image017
通式（3）中，R4 、R5 、R6 及R7 分別獨立地表示氫、羥基、或碳數1～30的有機基。此處，作為「碳數1～30的有機基」，較佳為碳數1～30的烷基（包含直鏈狀及分支狀烷基）及/或碳數6～30的芳香族烴基。作為該些的較佳具體例，可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、正戊基、異戊基、正己基、異己基、正庚基、異庚基、正辛基、異辛基、正壬基、異壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基、苯基、苄基、甲苯基、聯苯基及萘基。
作為下述通式（3）所表示的對苯二酚化合物，例如可列舉：對苯二酚、甲基對苯二酚、乙基對苯二酚、丙基對苯二酚、丁基對苯二酚、第三丁基對苯二酚、2,3-二甲基對苯二酚、2,3-二乙基對苯二酚、2,3-二丙基對苯二酚、2,3-二丁基對苯二酚、2,3-二第三丁基對苯二酚、2,5-二甲基對苯二酚、2,5-二乙基對苯二酚、2,5-二丙基對苯二酚、2,5-二丁基對苯二酚、2,5-二第三丁基對苯二酚、對苯二酚二甲醚、對苯二酚二乙醚、1,2,4-苯三醇、2,5-二羥基苯乙酮、2,5-二羥基苯甲酸、苯基對苯二酚、2,6-二甲基對苯二酚、2,6-二乙基對苯二酚、2,6-二丙基對苯二酚、2,6-二丁基對苯二酚、2,6-二第三丁基對苯二酚、2,6-二羥基苯乙酮、2,6-二羥基苯甲酸、苯基對苯二酚、苯基對苯二酚、2,5-第三戊基對苯二酚等。該些中，就還原性、有機溶劑中的溶解性及保存穩定性的觀點而言，較佳為第三丁基對苯二酚、2,3-二甲基對苯二酚、2,6-二甲基對苯二酚、2,5-第三戊基對苯二酚、2,3-二丙基對苯二酚、2,3-二丁基對苯二酚、2,3-二第三丁基對苯二酚、2,5-二丙基對苯二酚、2,5-二丁基對苯二酚、2,5-二第三丁基對苯二酚。
作為含有烯二醇基的化合物，例如可列舉：抗壞血酸、α-吡咯酮（α-pyridoin）、果糖、木糖、葡萄糖、二氧丙酮（dioxyacetone）、乙醇醛（glycolaldehyde）、安息香、單氧丙酮、苯甲醯基甲醇。該些中，就還原性與有機溶劑中的溶解性的觀點而言，較佳為乙醇醛。
還原劑於樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為0.01重量%以上，更佳為0.1重量%以上。藉由將還原劑的含量設為0.1重量%以上，可更有效果地還原有機銀化合物，使所得的隔壁更加黃色化，隔壁對藍色光的遮光性提高。另外，硬化後膜中殘存的有機銀化合物的量減少，耐候性提高。
另一方面，於樹脂組成物為負型感光性樹脂組成物的情況下，若還原劑的含量過多，則還原劑會於曝光時捕獲因光聚合起始劑的分解而產生的自由基，從而曝光靈敏度降低。因此，還原劑於樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為3.0重量%以下，更佳為1.5重量%以下。
本發明的樹脂組成物較佳為更含有撥液化合物。撥液化合物是指對樹脂組成物賦予排斥水或有機溶媒的性質（撥液性能）的化合物。若為具有此種性質的化合物則並無特別限定，具體而言，可較佳地使用具有氟烷基的化合物。藉由含有撥液化合物，於形成後述的隔壁（A-1）後，可對隔壁的頂部賦予撥液性能。藉此，例如於形成後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素時，可容易地向各個畫素分開塗佈組成不同的顏色變換發光材料。
撥液化合物較佳為具有光自由基聚合性基的撥液化合物。藉由具有光自由基聚合性基，可與樹脂形成牢固的鍵結，因此可更容易地對隔壁的頂部賦予撥液性能。
作為撥液化合物，例如可列舉：1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2,2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、全氟烷基-N-乙基磺醯基甘胺酸鹽、磷酸雙(N-全氟辛基磺醯基-N-乙基胺基乙基)酯、單全氟烷基乙基磷酸酯等於末端、主鏈及側鏈具有氟烷基或伸氟烷基的化合物等。另外，作為市售的撥液化合物，可列舉：「美佳法（Megafac）」（註冊商標）F142D、F172、F173、F183、F444、F477（以上為大日本油墨化學工業（股）製造）；艾福拓（Eftop）EF301、303、352（新秋田化成（股）製造）；弗拉德（Fluorad）FC-430、FC-431（住友3M（股）製造））；「阿薩佳（Asahi Guard）」（註冊商標）AG710、「沙福隆（Surflon）」（註冊商標）S-382、SC-101、SC-102、SC-103、SC-104、SC-105、SC-106（旭硝子（股）製造）；BM-1000、BM-1100（裕商（股）製造）；NBX-15、FTX-218、DFX-18（尼歐斯（Neos）（股）製造）等。亦可含有兩種以上該些化合物。
作為具有光自由基聚合性基的撥液化合物，例如可列舉「美佳法（Megafac）」（註冊商標）RS-72-A、RS-75-A、RS-76-E、RS-56、RS-72-K、RS-75、RS-76-E、RS-76-NS、RS-76、RS-90（以上為商品名，迪愛生（DIC）（股）製造）等。再者，該情況下，於包含負型感光性樹脂組成物的光硬化物的隔壁（A-1）中，光聚合性基可進行光聚合。
就提高隔壁的撥液性能、提高噴墨塗佈性的觀點而言，樹脂組成物中的撥液化合物的含量較佳為固體成分中的0.01重量%以上，更佳為0.1重量%以上。另一方面，就提高與樹脂或白色顏料的相容性的觀點而言，撥液化合物的含量較佳為固體成分中的10重量%以下，更佳為5重量%以下。
本發明的樹脂組成物亦可更含有有機銀化合物以外的有機金屬化合物。作為有機銀化合物以外的有機金屬化合物，較佳為含有選自由金、鉑及鈀所組成的群組中的至少一種金屬的有機金屬化合物。含有選自由金、鉑及鈀所組成的群組中的至少一種金屬的有機金屬化合物於曝光步驟及/或加熱步驟中，藉由分解、凝聚而成為黑色粒子，因此可在不使圖案加工性惡化的情況下進一步提高膜的遮光性。
作為有機銀化合物以外的有機金屬化合物，例如可列舉：氯(三苯基膦)金、樹脂酸金（Gold Resinate）MR7901-P、四氯金酸四水合物等有機金化合物；雙(乙醯丙酮)鉑、二氯雙(三苯基膦)鉑、二氯雙(苄腈)鉑等有機鉑化合物；雙(乙醯丙酮)鈀、二氯雙(三苯基膦)鈀、二氯雙(苄腈)鈀、四(三苯基膦)鈀、二亞苄基丙酮鈀等有機鈀化合物等。亦可含有兩種以上該些化合物。
該些中，就進一步提高遮光性的觀點而言，較佳為選自雙(乙醯丙酮)鈀、二氯雙(三苯基膦)鈀、二氯雙(苄腈)鈀及四(三苯基膦)鈀中的有機金屬化合物。
於本發明的樹脂組成物中，有機銀化合物以外的有機金屬化合物於固體成分中所佔的含量較佳為0.2重量%～5重量%。藉由設為0.2重量%以上，可進一步提高所得的膜的遮光性。更佳為0.5重量%以上。另一方面，藉由將有機銀化合物以外的有機金屬化合物的含量設為5重量%以下，可進一步提高反射率。更佳為3重量%以下。
本發明的樹脂組成物亦可更含有具有磷原子的配位性化合物（以下，有時記載為「配位性化合物」）。配位性化合物與樹脂組成物中的有機金屬化合物配位，提高有機金屬化合物於溶媒中的溶解性，促進有機金屬化合物的分解，可進一步提高所得的膜的遮光性。作為配位性化合物，例如可列舉：三苯基膦、三-第三丁基膦、三甲基膦、三環己基膦、四氟硼酸三-第三丁基膦、三(2-呋喃基)膦、三(1-金剛烷基)膦、三(二乙基胺基)膦、三(4-甲氧基苯基)膦、三(O-甲苯基)膦等。亦可含有兩種以上該些化合物。相對於有機金屬化合物，配位性化合物於本發明的樹脂組成物的固體成分中所佔的含量較佳為0.5莫耳當量～3.0莫耳當量。
另外，本發明的樹脂組成物視需要可含有聚合抑制劑、界面活性劑、密接性改良劑等。
藉由於本發明的樹脂組成物中含有界面活性劑，可提高塗佈時的流動性。作為界面活性劑，例如可列舉：「美佳法（Megafac）」（註冊商標）F142D、F172、F173、F183、F445、F470、F475、F477（以上為商品名，大日本油墨化學工業（股）製造），NBX-15、FTX-218（以上為商品名，尼歐斯（Neos）（股）製造）等氟系界面活性劑；「畢克（BYK）」（註冊商標）-333、301、331、345、307（以上為商品名，日本畢克化學（BYK-Chemie Japan）（股）製造）等矽酮系界面活性劑；聚環氧烷系界面活性劑；聚(甲基)丙烯酸酯系界面活性劑等。亦可含有兩種以上該些化合物。
藉由於本發明的樹脂組成物中含有密接性改良劑，與基底基板的密接性提高，可獲得可靠性高的隔壁。作為密接性改良劑，例如可列舉脂環式環氧化合物、矽烷偶合劑等。該些中，就耐熱性的觀點而言，較佳為脂環式環氧化合物。
作為脂環式環氧化合物，例如可列舉：3',4'-環氧基環己基甲基-3,4-環氧基環己烷羧酸酯、2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物、ε-己內酯改質3',4'-環氧基環己基甲基3',4'-環氧基環己烷羧酸酯、1,2-環氧基-4-乙烯基環己烷、丁烷四羧酸四(3,4-環氧基環己基甲基)修飾ε-己內酯、甲基丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯等。亦可含有兩種以上該些化合物。
就進一步提高與基底基板的密接性的觀點而言，本發明的樹脂組成物中的密接性改良劑的含量較佳為固體成分中的0.1重量%以上，更佳為1重量%以上。另一方面，就圖案加工性的觀點而言，密接性改良劑的含量較佳為固體成分中的20重量%以下，更佳為10重量%以下。
本發明的樹脂組成物較佳為更含有溶劑。溶媒具有將樹脂組成物的黏度調整為適合塗佈的範圍且提高隔壁的均勻性的功能。作為溶媒，較佳為組合大氣壓下的沸點超過150℃且250℃以下的溶媒與150℃以下的溶媒。
作為溶媒，例如可列舉：異丙醇、二丙酮醇等醇類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等醚類；甲基乙基酮、乙醯丙酮、甲基丙基酮、甲基丁基酮、甲基異丁基酮、二異丁基酮、環戊酮等酮類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺類；乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸異丁酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯等乙酸酯類；甲苯、二甲苯、己烷、環己烷等芳香族或脂肪族烴、γ-丁內酯、N-甲基-2-吡咯啶酮、二甲基亞碸等。亦可含有兩種以上該些化合物。該些中，就塗佈性的觀點而言，較佳為組合作為大氣壓下的沸點超過150℃且250℃以下的溶媒的二丙酮醇與作為150℃以下的溶媒的丙二醇單甲醚。
溶媒的含量可根據塗佈方法等任意設定。例如於藉由旋塗進行膜形成的情況下，溶媒的含量一般設為於樹脂組成物中為50重量%以上且95重量%以下。
本發明的樹脂組成物例如可藉由將所述樹脂、光聚合起始劑或醌二疊氮化合物、白色顏料及/或遮光顏料、有機銀化合物、還原劑及視需要的其他成分混合來製造。
其次，對本發明的遮光膜進行說明。本發明的遮光膜是將所述本發明的樹脂組成物硬化而獲得。除了後述的隔壁（A-1）之外，本發明的遮光膜亦可較佳地用作覆蓋基材用裝飾圖案等單片玻璃解決方案（One Glass Solution，OGS）型觸控面板中的遮光圖案。遮光膜的膜厚較佳為10 μm以上。
其次，對本發明的遮光膜的製造方法進行舉例說明。本發明的遮光膜的製造方法較佳為包括：製膜步驟，於基底基板上塗佈本發明的樹脂組成物並乾燥而獲得乾燥膜；曝光步驟，對獲得的乾燥膜進行圖案曝光；顯影步驟，溶解去除曝光後的乾燥膜中可溶於顯影液的部分；以及加熱步驟，藉由對顯影後的乾燥膜進行加熱而使其硬化。
本發明的遮光膜的製造方法的特徵在於，於所述加熱步驟中，藉由於100℃以上且250℃以下的溫度下加熱顯影後的膜，而使波長450 nm下的每10 μm膜厚的OD值上升1.0以上。就進一步提高OD值的觀點而言，加熱步驟時的加熱溫度較佳為150℃以上，更佳為180℃以上。
就抑制要加熱的膜產生裂紋的觀點而言，加熱步驟時的加熱溫度較佳為250℃以下，更佳為240℃以下。加熱時間較佳為15分鐘～2小時。由本發明的樹脂組成物所形成的膜於曝光時OD值低，且於圖案形成後OD值上升，因此於曝光步驟中使其充分光硬化至底部，可獲得後述的具有較佳的錐角的隔壁。此外，由於圖案形成後的在波長450 nm下的OD值高，因此可獲得兼具可見光整體的高反射率性與藍色光的高遮光性的隔壁。
作為所述製膜步驟中的樹脂組成物的塗佈方法，例如可列舉狹縫塗佈法、旋塗法等。作為乾燥裝置，例如可列舉熱風烘箱或加熱板等。乾燥溫度較佳為80℃～120℃，乾燥時間較佳為1分鐘～15分鐘。
曝光步驟是藉由曝光使乾燥膜的必要部分光硬化，或者使乾燥膜的不需要的部分光分解，使乾燥膜的任意部分可溶於顯影液的步驟。於曝光步驟中，可經由具有規定的開口部的光罩進行曝光，亦可不使用光罩而使用雷射等直接描繪任意的圖案。
作為曝光裝置，例如可列舉近接式曝光機（proximity exposure machine）。作為於曝光步驟中照射的活性光線，例如可列舉近紅外線、可見光線、紫外線，較佳為紫外線。另外，作為其光源，例如可列舉低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、鹵素燈（halogen lamp）、殺菌燈等，但較佳為超高壓水銀燈。
曝光條件可根據要曝光的乾燥膜的厚度適宜選擇。一般而言，較佳為使用輸出為1 mW/cm2 ～100 mW/cm2 的超高壓水銀燈，以1 mJ/cm2 ～10,000 mJ/cm2 的曝光量進行曝光。
顯影步驟是利用顯影液溶解去除曝光後的乾燥膜中可溶於顯影液的部分，獲得僅殘存有不溶於顯影液的部分的、經圖案形成為任意的圖案形狀的乾燥膜（以下稱為加熱前圖案）的步驟。作為圖案形狀，例如可列舉格子狀、條紋狀、孔狀等形狀。
作為顯影方法，例如可列舉浸漬法、噴霧法、塗刷法等。
作為顯影液，可適宜選擇能夠溶解曝光後的乾燥膜中不需要的部分的溶媒，較佳為以水為主成分的水溶液。例如於樹脂組成物含有具有羧基的聚合物的情況下，作為顯影液，較佳為鹼水溶液。作為鹼水溶液，例如可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、氫氧化鈣等無機鹼水溶液；四甲基氫氧化銨、三甲基苄基氫氧化銨等有機鹼水溶液等。該些中，就提高解析度的觀點而言，較佳為氫氧化鉀水溶液或氫氧化四甲銨水溶液。就提高顯影性的觀點而言，鹼水溶液的濃度較佳為0.05重量%以上，更佳為0.1重量%以上。另一方面，就抑制加熱前圖案的剝離或腐蝕的觀點而言，鹼水溶液的濃度較佳為5重量%以下，更佳為1重量%以下。另外，就提高解析度的觀點而言，顯影液中亦可含有界面活性劑。為了容易進行步驟管理，顯影溫度較佳為20℃～50℃。
加熱步驟是對在顯影步驟中形成的加熱前圖案進行加熱硬化的步驟。作為加熱裝置，例如可列舉加熱板、烘箱等。較佳的加熱溫度及加熱時間如上所述。
其次，對本發明的帶隔壁的基板進行說明。本發明的帶隔壁的基板於基底基板上具有（A-1）經圖案形成的隔壁（以下，有時記載為「隔壁（A-1）」）。基底基板具有作為帶隔壁的基板中的支持體的功能。於具有含有後述的顏色變換發光材料的畫素的情況下，隔壁具有抑制鄰接畫素間的光混色的功能。
於本發明的帶隔壁的基板中，隔壁（A-1）的特徵在於：波長450 nm下的每10 μm厚度的反射率為10%～60%，波長450 nm下的每10 μm厚度的OD值為1.5～5.0。藉由將反射率設為10%以上、OD值設為5.0以下，可利用隔壁（A-1）側面的反射來提高顯示裝置的亮度。另一方面，藉由將波長450 nm下的反射率設為60%以下、OD值設為1.5以上，可抑制透過隔壁（A-1）的藍色光且抑制鄰接畫素間的光混色。
圖1中示出具有經圖案形成的隔壁的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2。
＜基底基板＞ 作為基底基板，例如可列舉：玻璃板、樹脂板、樹脂膜等。作為玻璃板的材質，較佳為無鹼玻璃。作為樹脂板及樹脂膜的材質，較佳為聚酯、(甲基)丙烯酸聚合物、透明聚醯亞胺、聚醚碸等。玻璃板及樹脂板的厚度較佳為1 mm以下，更佳為0.8 mm以下。樹脂膜的厚度較佳為100 μm以下。
＜隔壁（A-1）＞ 隔壁（A-1）的特徵在於：波長450 nm下的每10 μm厚度的反射率為10%～60%，波長450 nm下的每10 μm厚度的OD值為1.5～5.0。此處，隔壁（A-1）的厚度是指隔壁（A-1）的高度及/或隔壁（A-1）的寬度。隔壁（A-1）的高度是指隔壁（A-1）的與基底基板垂直的方向（高度方向）的長度。於圖1所示的帶隔壁的基板的情況下，隔壁2的高度由符號H表示。另外，隔壁（A-1）的寬度是指隔壁（A-1）的與基底基板水平的方向的長度。於圖1所示的帶隔壁的基板的情況下，隔壁2的寬度由符號L表示。再者，於本說明書中，「高度」亦有時稱為「厚度」。
於本發明中，認為隔壁側面的反射率有助於顯示裝置的亮度提高，遮光性有助於混色抑制。另一方面，認為每厚度單位的反射率及OD值不論高度方向、寬度方向如何均相同，因此於本發明中，著眼於隔壁的每厚度單位的反射率及OD值。再者，如後所述，隔壁（A-1）的厚度較佳為0.5 μm～100 μm，寬度較佳為1 μm～100 μm。因此，於本發明中，選擇10 μm作為隔壁（A-1）的厚度的代表值，著眼於每10 μm厚度的反射率及OD值。
若波長450 nm下的每10 μm厚度的反射率未滿10%，則隔壁側面的反射變小，顯示裝置的亮度變得不充分。波長450 nm下的每10 μm厚度的反射率較佳為10%以上，更佳為20%以上，進而佳為30%以上。波長450 nm下的每10 μm厚度的反射率越高，隔壁側面的藍色激發光的反射越大，因此於在隔壁間含有後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素的情況下，顏色變換效率提高，可提高顯示裝置的亮度。
另外，波長550 nm下的隔壁（A-1）的每10 μm厚度的反射率較佳為30%以上，更佳為40%以上，進而佳為50%以上。波長550 nm下的每10 μm厚度的反射率越高，隔壁側面的綠色光的反射越大，因此於在隔壁間含有後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素的情況下，可有效率地反射畫素內發出的綠色光，提高顯示裝置的亮度。
進而，波長630 nm下的隔壁（A-1）的每10 μm厚度的反射率較佳為30%以上，更佳為40%以上，進而佳為50%以上。波長630 nm下的每10 μm厚度的反射率越高，隔壁側面的紅色光的反射越大，因此於在隔壁間含有後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素的情況下，可有效率地反射畫素內發出的紅色光，提高顯示裝置的亮度。
另外，若波長450 nm下的隔壁（A-1）的每10 μm厚度的OD值未滿1.5，則藉由藍色激發光洩漏至鄰接畫素而發生光的混色。波長450 nm下的隔壁（A-1）的每10 μm厚度的OD值較佳為1.5以上，更佳為2.0以上，進而佳為2.5以上。
另外，波長550 nm下的隔壁（A-1）的每10 μm厚度的OD值較佳為1.0以上，更佳為1.5以上，進而佳為2.0以上。波長550 nm下的每10 μm厚度的OD值越高，隔壁側面的綠色光的遮光性越大，因此於在隔壁間含有後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素的情況下，可有效率地遮光畫素內發出的綠色光而防止混色，提高顯示裝置的對比度。
進而，波長630 nm下的隔壁（A-1）的每10 μm厚度的OD值較佳為1.0以上，更佳為1.5以上，進而佳為2.0以上。波長630 nm下的每10 μm厚度的OD值越高，隔壁側面的紅色光的遮光性越大，因此於在隔壁間含有後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素的情況下，可有效率地遮光畫素內發出的紅色光而防止混色，提高顯示裝置的對比度。
關於隔壁（A-1）的波長450 nm、550 nm及630 nm下的每10 μm厚度的反射率，可對厚度10 μm的隔壁（A-1），自上表面使用分光測色計（例如，柯尼卡美能達（Konica Minolta）（股）製造的CM-2600d），藉由包含鏡面反射（Specular Component Included，SCI）模式進行測定。其中，於無法確保對於測定而言充分的面積的情況下，或者無法採取厚度10 μm的測定樣品的情況下，於隔壁（A-1）的組成已知的情況下，亦可製作與隔壁（A-1）相同組成的厚度10 μm的整體膜，代替隔壁（A-1）而對整體膜同樣地測定反射率，藉此求出每10 μm厚度的反射率。例如，亦可使用形成隔壁（A-1）的材料，將厚度設為10 μm，除不進行圖案形成以外藉由與隔壁（A-1）的形成相同的加工條件而製作整體膜，對所獲得的整體膜，自上表面同樣地測定反射率。
關於隔壁（A-1）的波長450 nm、550 nm及630 nm下的每10 μm厚度的OD值，可對厚度10 μm的隔壁（A-1），自上表面使用光學濃度計（例如，日立高科技（Hitachi High-Tech Science）製造的U-4100）測定入射光及透過光的強度，藉由下述式（1）算出。其中，於無法確保對於測定而言充分的面積的情況下，或者無法採取厚度10 μm的測定樣品的情況下，於隔壁（A-1）的組成已知的情況下，亦可與反射率的測定同樣地，製作與隔壁（A-1）相同組成的厚度10 μm的整體膜，代替隔壁（A-1）而對整體膜同樣地測定OD值，藉此求出每10 μm厚度的OD值。
OD值=log10（I0 /I） ···（1） I0 ：入射光強度 I：透過光強度。
再者，作為用於使反射率及OD值為所述範圍內的方法，例如可列舉將隔壁（A-1）設為後述的較佳組成等。
隔壁（A-1）的錐角較佳為45°～110°。所謂隔壁（A-1）的錐角，是指隔壁剖面的側邊與底邊所成的角度。於圖1所示的帶隔壁的基板的情況下，隔壁2的錐角由符號θ表示。藉由將錐角設為45°以上，隔壁（A-1）的上部與底部的寬度之差變小，可容易地使隔壁（A-1）的寬度形成在後述的較佳的範圍內。錐角更佳為70°以上。另一方面，藉由將錐角設為110°以下，於藉由噴墨塗佈來形成後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素時，可抑制墨水的潰決，提高噴墨塗佈性。此處，所謂墨水的潰決，是指墨水越過隔壁而混入至相接的畫素部分的現象。錐角更佳為95°以下。關於隔壁（A-1）的錐角，可藉由使用光學顯微鏡（FE-SEM（例如，日立製作所（股）製造的S-4800）），以加速電壓3.0 kV、倍率2,500倍觀察隔壁（A-1）的任意剖面，測定隔壁（A-1）的剖面的側邊與底邊所成的角度來求出。
再者，作為用於使隔壁（A-1）的錐角為所述範圍內的方法，例如可列舉將隔壁（A-1）設為後述的較佳組成、使用所述本發明的樹脂組成物來形成等。
關於隔壁（A-1）的厚度，於帶隔壁的基板具有後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素的情況下，較佳為大於所述畫素的厚度。具體而言，隔壁（A-1）的厚度較佳為0.5 μm以上，更佳為10 μm以上。另一方面，就效率更良好地提取畫素底部的發光的觀點而言，隔壁（A-1）的厚度較佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下。另外，隔壁（A-1）的寬度較佳為足以用於利用隔壁側面的光反射來進一步提高亮度且進一步抑制漏光所引起的鄰接畫素的光混色。具體而言，隔壁的寬度較佳為1 μm以上，更佳為5 μm以上。另一方面，就更多地確保畫素的發光區域而進一步提高亮度的觀點而言，隔壁（A-1）的寬度較佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下。
隔壁（A-1）具有與圖像顯示裝置的畫面尺寸相對應的規定畫素數的重覆圖案。作為圖像顯示裝置的畫素數，例如可列舉橫4000個、縱2000個。畫素數影響所顯示的圖像的解析度（精細度）。因此，需要形成與所要求的圖像的解析度及圖像顯示裝置的畫面尺寸相對應的數量的畫素，較佳為與其一併決定隔壁的圖案形成尺寸。
隔壁（A-1）較佳為含有樹脂、白色顏料及/或遮光顏料、氧化銀及/或銀粒子、以及醌化合物。樹脂具有提高隔壁的耐裂紋性及耐光性的功能。白色顏料具有進一步提高隔壁的反射率的功能。遮光顏料具有提高隔壁對特定波長的光的遮光性的功能。氧化銀及/或銀粒子具有調整OD值、抑制鄰接畫素中的光混色的功能。關於醌化合物，於在樹脂組成物中含有氫醌化合物作為還原劑的情況下，於氫醌化合物促進有機銀化合物的還原時，藉由自身被氧化而於隔壁中生成。
樹脂、白色顏料、遮光顏料如作為構成樹脂組成物的材料於上文說明般。就提高熱處理中的隔壁的耐裂紋性的觀點而言，隔壁（A-1）中的樹脂的含量較佳為10重量%以上，更佳為20重量%以上。另一方面，就提高耐光性的觀點而言，隔壁（A-1）中的樹脂的含量較佳為60重量%以下，更佳為50重量%以下。
就進一步提高反射率的觀點而言，隔壁（A-1）中的白色顏料的含量較佳為20重量%以上，更佳為30重量%以上。另一方面，就提高隔壁的表面平滑性的觀點而言，隔壁（A-1）中的白色顏料的含量較佳為60重量%以下，更佳為55重量%以下。
就提高特定波長光的遮光性的觀點而言，隔壁（A-1）中的遮光顏料的含量較佳為固體成分中的0.005重量%以上，更佳為0.05重量%以上。另一方面，就不損害隔壁的反射率的觀點而言，較佳為30重量%以下，更佳為15重量%以下。
氧化銀及/或銀粒子是指藉由所述樹脂組成物中的有機金屬化合物於曝光步驟及/或加熱步驟中分解、凝聚而產生的黃色粒子或黑色粒子。就將反射率及OD調整為所述範圍來進一步抑制鄰接畫素中的光混色的觀點而言，隔壁（A-1）中的氧化銀及/或銀粒子的含量較佳為0.1重量%以上，更佳為0.4重量%以上。另一方面，就將反射率及OD調整為所述範圍的觀點而言，隔壁（A-1）中的氧化銀及/或銀粒子的含量較佳為10重量%以下，更佳為3.0重量%以下。
隔壁（A-1）較佳為更含有撥液化合物。藉由含有撥液化合物，可對隔壁（A-1）賦予撥液性能，例如於形成後述的（B）含有顏色變換發光材料的畫素時，可容易地向各個畫素分開塗佈組成不同的顏色變換發光材料。撥液化合物如作為構成樹脂組成物的材料於上文所述般。
就提高隔壁的撥液性能、提高噴墨塗佈性的觀點而言，隔壁（A-1）中的撥液化合物的含量較佳為0.01重量%以上，更佳為0.1重量%以上。另一方面，就提高與樹脂或白色顏料的相容性的觀點而言，隔壁（A-1）中的撥液化合物的含量較佳為10重量%以下，更佳為5重量%以下。
就提高噴墨塗佈性、使顏色變換發光材料的分開塗佈容易的觀點而言，隔壁（A-1）相對於丙二醇單甲醚乙酸酯的表面接觸角較佳為10°以上，更佳為20°以上，進而佳為40°以上。另一方面，就提高隔壁與基底基板的密接性的觀點而言，隔壁（A-1）的表面接觸角較佳為70°以下，更佳為60°以下。此處，隔壁（A-1）的表面接觸角可依據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）R3257（製定年月日=1999/04/20）中規定的基板玻璃表面的潤濕性試驗方法，對隔壁上部進行測定。再者，作為使隔壁（A-1）的表面接觸角為所述範圍內的方法，例如可列舉使用所述撥液化合物的方法等。
作為於基底基板上圖案形成隔壁（A-1）的方法，就圖案形狀的調整容易的方面而言，較佳為感光性糊劑法。作為利用感光性糊劑法圖案形成隔壁的方法，例如較佳為如下方法，包括：塗佈步驟，於基底基板上塗佈所述樹脂組成物並乾燥而獲得乾燥膜；曝光步驟，根據所期望的圖案形狀對所獲得的乾燥膜進行圖案曝光；顯影步驟，溶解去除曝光後的乾燥膜中的可溶於顯影液的部分；以及加熱步驟，使顯影後的隔壁硬化。樹脂組成物較佳為具有正型或負型的感光性。圖案曝光可經由具有規定的開口部的光罩進行曝光，亦可不使用光罩，而使用雷射光等直接描繪任意的圖案。再者，於帶隔壁的基板具有後述的彩色濾光片及/或遮光隔壁（A-2）的情況下，可於彩色濾光片及/或遮光隔壁（A-2）上同樣地圖案形成隔壁（A-1）。關於各步驟，如作為遮光膜的製造方法於上文說明般。
本發明的帶隔壁的基板較佳為更具有由所述隔壁（A-1）隔開而排列的（B）含有顏色變換發光材料的畫素（以下，有時記載為「畫素（B）」）。
畫素（B）具有藉由變換入射光的波長區域的至少一部分並放出與入射光不同的波長區域的出射光，從而能夠進行彩色顯示的功能。
圖2中示出具有經圖案形成的隔壁（A-1）及畫素（B）的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2，於由隔壁2隔開的區域排列有畫素3。
顏色變換材料較佳為含有選自無機螢光體及有機螢光體中的螢光體。
本發明的帶隔壁的基板例如可將發出藍色光的背光與形成於薄膜電晶體（Thin Film Transistor，TFT）上的液晶及畫素（B）組合，作為顯示裝置使用。該情況下，在與紅色畫素對應的區域中較佳為含有被藍色的激發光激發而發出紅色的螢光的紅色用螢光體。同樣地，在與綠色畫素對應的區域中較佳為含有被藍色的激發光激發而發出綠色的螢光的綠色用螢光體。在與藍色畫素對應的區域中較佳為不含有螢光體。
作為無機螢光體，較佳為藉由藍色的激發光而發出綠色或紅色等各種顏色的螢光體，即，被波長400 nm～500 nm的激發光激發、發光光譜在500 nm～700 nm的區域具有峰值的螢光體。作為所述無機螢光體，例如可列舉：釔鋁石榴石（Yttrium Aluminum Garnet，YAG）系螢光體、鋱鋁石榴石（Terbium Aluminium Garnet，TAG）系螢光體、矽鋁氮氧化物（Sialon）系螢光體、Mn4+ 活性氟化物錯合物螢光體、被稱為量子點的無機半導體等。亦可使用兩種以上該些化合物。該些中，較佳為量子點。與其他螢光體相比，量子點的平均粒徑小，因此可使（B）畫素的表面平滑化，抑制表面的光散射，因此可進一步提高光的取出效率，進一步提高亮度。
作為量子點的材料，例如可列舉II-IV族、III-V族、IV-VI族、IV族的半導體等。作為該些無機半導體，例如可列舉：Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C（包含金剛石）、P、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdSeZn、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、Si3 N4 、Ge3 N4 、Al2 O3 等。亦可使用兩種以上該些化合物。
作為有機螢光體，較佳為藉由藍色的激發光而發出綠色或紅色等各種顏色的螢光體。作為發出紅色的螢光的螢光體，可列舉具有下述結構式（8）所表示的基本骨架的吡咯亞甲基衍生物，作為發出綠色的螢光的螢光體，可列舉具有下述結構式（9）所表示的基本骨架的吡咯亞甲基衍生物等。除此以外，可列舉藉由取代基的選擇而發出紅色或綠色的螢光的苝系衍生物、卟啉系衍生物、噁嗪系衍生物、吡嗪系衍生物等。亦可含有兩種以上該些化合物。該些中，就量子產率高的方面而言，較佳為吡咯亞甲基衍生物。吡咯亞甲基衍生物例如可藉由日本專利特開2011-241160號公報中記載的方法而獲得。
[化10]
Figure 02_image019
有機螢光體可溶於溶媒中，因此可容易地形成所期望厚度的畫素（B）。
就提高顏色特性的觀點而言，畫素（B）的厚度較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上。另一方面，就顯示裝置的薄型化或曲面加工性的觀點而言，畫素（B）的厚度較佳為30 μm以下，更佳為20 μm以下。
各畫素（B）的大小一般為20 μm～200 μm左右。
畫素（B）較佳為由隔壁（A-1）隔開而排列。藉由於畫素與畫素之間設置隔壁，可進一步抑制發出的光的擴散或混色。
作為畫素（B）的形成方法，例如可列舉將含有顏色變換發光材料的塗液（以下，顏色變換發光材料塗液）填充至由隔壁（A-1）隔開的空間中的方法。顏色變換發光材料塗液亦可更含有樹脂或溶媒。
作為顏色變換發光材料塗液的填充方法，可列舉光微影法、噴墨法等，但就容易向各畫素分開塗佈種類不同的顏色變換發光材料的觀點而言，較佳為噴墨塗佈法等。
亦可對所獲得的塗佈膜進行減壓乾燥及/或加熱乾燥。於進行減壓乾燥的情況下，為了防止乾燥溶媒再凝結於減壓室內壁，減壓乾燥溫度較佳為80℃以下。減壓乾燥的壓力較佳為塗佈膜中所含的溶媒的蒸氣壓以下，較佳為1 Pa～1000 Pa。減壓乾燥時間較佳為10秒～600秒。於進行加熱乾燥的情況下，作為加熱乾燥裝置，例如可列舉烘箱或加熱板等。加熱乾燥溫度較佳為60℃～200℃。加熱乾燥時間較佳為1分鐘～60分鐘。
＜遮光隔壁（A-2）＞ 本發明的帶隔壁的基板較佳為於所述基底基板與（A-1）經圖案形成的隔壁之間更具有（A-2）每1.0 μm厚度的OD值為0.5以上的、經圖案形成的隔壁（以下，有時記載為「遮光隔壁（A-2）」）。藉由具有遮光隔壁（A-2），可提高遮光性，抑制顯示裝置中的背光的漏光，獲得高對比度且鮮明的圖像。
圖3中示出表示具有遮光隔壁的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2及遮光隔壁4，於由隔壁2及遮光隔壁4隔開的區域排列有畫素3。
遮光隔壁（A-2）的每1.0 μm厚度的OD值為0.5以上。此處，遮光隔壁（A-2）的厚度如後所述，較佳為0.5 μm～10 μm。於本發明中，選擇1.0 μm作為遮光隔壁（A-2）的厚度的代表值，著眼於每1.0 μm厚度的OD值。藉由將每1.0 μm厚度的OD值設為0.5以上，可進一步提高遮光性，獲得更高對比度且鮮明的圖像。每1.0 μm厚度的OD值更佳為1.0以上。另一方面，較佳為每1.0 μm厚度的OD值為4.0以下，可提高圖案加工性。每1.0 μm厚度的OD值更佳為3.0以下。遮光隔壁（A-2）的OD值可與所述隔壁（A-1）的OD值同樣地測定。再者，作為用以使OD值為所述範圍內的方法，例如可列舉將遮光隔壁（A-2）設為後述的較佳組成等。
就提高遮光性的觀點而言，遮光隔壁（A-2）的厚度較佳為0.5 μm以上，更佳為1.0 μm以上。另一方面，就提高平坦性的觀點而言，遮光隔壁（A-2）的厚度較佳為10 μm以下，更佳為5 μm以下。另外，遮光隔壁（A-2）的寬度較佳為與所述隔壁（A-1）為相同程度。
遮光隔壁（A-2）較佳為含有樹脂及黑色顏料。樹脂具有提高隔壁的耐裂紋性及耐光性的功能。黑色顏料具有吸收入射的光且減少射出光的功能。
作為樹脂，例如可列舉：環氧樹脂、(甲基)丙烯酸聚合物、聚胺基甲酸酯、聚酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚矽氧烷等。亦可含有兩種以上該些化合物。該些中，就耐熱性及耐溶媒性優異的方面而言，較佳為聚醯亞胺。
作為黑色顏料，可列舉作為所述樹脂組成物中的黑色顏料而例示的顏料、氧化鈀、氧化鉑、氧化金、氧化銀等。就具有高遮光性的方面而言，較佳為選自氮化鈦、氮化鋯、碳黑、氧化鈀、氧化鉑、氧化金及氧化銀中的黑色顏料。
作為於基底基板上圖案形成遮光隔壁（A-2）的方法，例如較佳為使用日本專利特開2015-1654號公報中記載的感光性材料，與所述隔壁（A-1）同樣地藉由感光性糊劑法進行圖案形成的方法。
另外，本發明的帶隔壁的基板較佳為於基底基板與所述畫素（B）之間更具有厚度1 μm～5 μm的彩色濾光片（以下，有時記載為「彩色濾光片」）。彩色濾光片具有使特定波長區域的可見光透過並將透過光設為所期望的色相的功能。藉由具有彩色濾光片，可提高顯示裝置的色純度。藉由將彩色濾光片的厚度設為1 μm以上，可進一步提高色純度。另一方面，藉由將彩色濾光片的厚度設為5 μm以下，可進一步提高亮度。
圖4中示出具有彩色濾光片的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2及彩色濾光片5，於彩色濾光片5上具有畫素3。
作為彩色濾光片，例如可列舉：用於液晶顯示器等平板顯示器，且使用在光致抗蝕劑中分散有顏料的顏料分散型材料的彩色濾光片等。更具體而言，可列舉：選擇性地透過400 nm～550 nm的波長的藍色彩色濾光片、選擇性地透過500 nm～600 nm的波長的綠色彩色濾光片、選擇性地透過500 nm以上的波長的黃色彩色濾光片、選擇性地透過600 nm以上的波長的紅色彩色濾光片等。
另外，彩色濾光片可與含有顏色變換發光材料的畫素（B）隔離地積層，亦可一體化地積層。
本發明的帶隔壁的基板較佳為於基底基板與所述畫素（B）之間更具有由遮光隔壁隔開的厚度1 μm～5 μm的彩色濾光片。
圖5中示出具有由遮光隔壁隔開的彩色濾光片的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有由經圖案形成的遮光隔壁4隔開的彩色濾光片5，於其上具有隔壁2及畫素3。
本發明的帶隔壁的基板較佳為於畫素（B）的上部或下部更具有（C）波長550 nm下的折射率為1.20～1.35的低折射率層（以下，有時記載為「低折射率層（C）」）。藉由具有低折射率層（C），可進一步提高光的提取效率，進一步提高顯示裝置的亮度。
圖6中示出具有低折射率層的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2及畫素3，於該些之上更具有低折射率層6。
於顯示裝置中，就適度地抑制背光的光反射且效率良好地使光入射至畫素（B）的觀點而言，低折射率層（C）的折射率較佳為1.20以上，更佳為1.23以上。另一方面，就提高亮度的觀點而言，低折射率層（C）的折射率較佳為1.35以下，更佳為1.30以下。此處，關於低折射率層（C）的折射率，可使用稜鏡偶合器，於大氣壓下、20℃的條件下，自與硬化膜面垂直的方向照射波長550 nm的光進行測定。
低折射率層（C）較佳為含有聚矽氧烷及不具有中空結構的二氧化矽粒子。聚矽氧烷與二氧化矽粒子等無機粒子的相容性高，作為可形成透明層的黏合劑發揮功能。另外，藉由含有二氧化矽粒子，可效率良好地於低折射率層（C）中形成微小的空隙並減少折射率，可容易地將折射率調整為所述範圍內。進而，藉由使用不具有中空結構的二氧化矽粒子，不具有容易產生硬化收縮時的裂紋的中空結構，因此可抑制裂紋。
低折射率層（C）中所含的聚矽氧烷較佳為含有氟。藉由含有氟，可容易地將低折射率層（C）的折射率調整為1.20～1.35。含氟聚矽氧烷可藉由對至少包含下述通式（10）所表示的含氟烷氧基矽烷化合物的多個烷氧基矽烷化合物進行水解及縮聚而獲得。亦可更使用其他烷氧基矽烷化合物。再者，通式（10）中，「-(OR12 )4-m 」的表記是指Si原子上鍵結有（4-m）個「-(OR12 )」。
[化11]
Figure 02_image021
所述通式（10）中，R13 表示氟數3～17的氟烷基。氟烷基的碳數較佳為1～20。R12 表示與通式（6）～通式（7）中的R11 相同的基。m表示1或2。4-m個R12 及m個R13 分別可相同亦可不同。
作為通式（10）所表示的含氟烷氧基矽烷化合物，例如可列舉：三氟乙基三甲氧基矽烷、三氟乙基三乙氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、三氟丙基三乙氧基矽烷、三氟乙基乙基二甲氧基矽烷、三氟乙基乙基二乙氧基矽烷、三氟乙基乙基二異丙氧基矽烷等。亦可使用兩種以上該些化合物。
就抑制裂紋的觀點而言，低折射率層（C）中的聚矽氧烷的含量較佳為4重量%以上。另一方面，就確保二氧化矽粒子間的網絡引起的觸變性、於低折射率層（C）中適度地保持空氣層、進一步降低折射率的觀點而言，聚矽氧烷的含量較佳為32重量%以下。
作為低折射率層（C）中的不具有中空結構的二氧化矽粒子，例如可列舉日產化學工業（股）製造的「斯諾特（SNOWTEX）」（註冊商標）或「有機二氧化矽溶膠（organosilica sol）」（註冊商標）系列（異丙醇分散液、甲基乙基酮分散液、丙二醇單甲醚分散液、甲醇分散液等。商品編號PGM-ST、PMA-ST、IPA-ST、IPA-ST-L、IPA-ST-ZL、IPA-ST-UP、MEK-ST-UP）等。亦可含有兩種以上該些化合物。
就確保二氧化矽粒子間的網絡引起的觸變性、於低折射率層（C）中適度地保持空氣層、進一步降低折射率的觀點而言，低折射率層（C）中的不具有中空結構的二氧化矽粒子的含量較佳為68重量%以上。另一方面，就抑制裂紋的觀點而言，不具有中空結構的二氧化矽粒子的含量較佳為96重量%以下。
就覆蓋畫素（B）的階差並抑制缺陷的產生的觀點而言，低折射率層（C）的厚度較佳為0.1 μm以上，更佳為0.5 μm以上。另一方面，就減少作為低折射率層（C）的裂紋的原因的應力的觀點而言，低折射率層（C）的厚度較佳為20 μm以下，更佳為10 μm以下。
作為低折射率層（C）的形成方法，就形成方法容易的方面而言，較佳為塗佈法。例如，將含有聚矽氧烷與二氧化矽粒子的低折射率用樹脂組成物塗佈於畫素（B）上，於乾燥後進行加熱，藉此可形成低折射率層（C）。
另外，本發明的帶隔壁的基板較佳為於所述低折射率層（C）上更具有厚度50 nm～1,000 nm的無機保護層I。藉由具有無機保護層I，大氣中的水分難以到達低折射率層（C），因此可抑制低折射率層（C）的折射率變動，抑制亮度劣化。
圖7及圖8中示出具有低折射率層及無機保護層I的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2及畫素3，於該些之上或之下更具有低折射率層6及無機保護層I 7。
本發明的帶隔壁的基板較佳為在畫素（B）與彩色濾光片之間具有所述低折射率層（C），進而，較佳為於所述低折射率層（C）上更具有厚度50 nm～1,000 nm的無機保護層（I）。藉由在畫素（B）與彩色濾光片之間具有所述低折射率層（C），發出的光的光提取提高效果變高，顯示器的亮度提高。
圖9中示出在畫素（B）與彩色濾光片之間具有所述低折射率層及無機保護層（I）的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有由遮光隔壁4隔開的彩色濾光片5，於該些之上具有低折射率層6及無機保護層（I）7，進而於該些之上具有經圖案形成的隔壁2及畫素3。
另外，本發明的帶隔壁的基板較佳為在所述畫素（B）與所述低折射率層（C）之間更具有厚度50 nm～1,000 nm的無機保護層（II）。藉由具有無機保護層（II），形成畫素（B）的原料不易自畫素（B）向低折射率層移動，因此可抑制低折射率層（C）的折射率變動，抑制亮度劣化。
圖10中示出具有低折射率層及無機保護層（II）的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2及畫素3，於該些上更具有無機保護層（II）8及低折射率層6。
另外，本發明的帶隔壁的基板較佳為在彩色濾光片與所述畫素（B）之間更具有厚度50 nm～1,000 nm的無機保護層（III）及/或黃色有機保護層。藉由具有無機保護層（III），彩色濾光片的形成原料不易自彩色濾光片到達含有顏色變換發光材料的畫素（B），因此可抑制含有顏色變換發光材料的畫素（B）的亮度劣化。另外，藉由具有黃色有機保護層，可截止未被含有顏色變換發光材料的畫素（B）完全變換的藍色洩漏光，提高顏色再現性。
圖11中示出具有彩色濾光片及無機保護層（III）及/或黃色有機保護層的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有經圖案形成的隔壁2及彩色濾光片5，於該些之上具有無機保護層（III）及/或黃色有機保護層9，進而於該些之上具有由隔壁2隔開而排列的畫素3。
另外，本發明的帶隔壁的基板較佳為於所述基底基板上更具有厚度50 nm～1,000 nm的無機保護層（IV）及/或黃色有機保護層。無機保護層（IV）及/或黃色有機保護層作為折射率調整層發揮作用，可更有效率地提取自畫素（B）發出的光，進一步提高顯示裝置的亮度。另外，黃色有機保護層截止未被含有顏色變換發光材料的畫素（B）完全變換的藍色洩漏光，可提高顏色再現性。無機保護層（IV）及/或黃色有機保護層更佳為設置於基底基板與隔壁（A）及畫素（B）之間。
圖12中示出具有無機保護層（IV）及/或黃色有機保護層的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上具有無機保護層（IV）及/或黃色有機保護層10，於該些之上具有經圖案形成的隔壁2及畫素3。
作為構成無機保護層（I）～無機保護層（IV）的材料，例如可列舉：氧化矽、氧化銦錫、氧化鎵鋅等金屬氧化物；氮化矽等金屬氮化物；氟化鎂等氟化物等。亦可含有兩種以上該些化合物。該些中，就水蒸氣透過性低、透過性高的方面而言，更佳為氮化矽或氧化矽。
就充分抑制水蒸氣等物質透過的觀點而言，無機保護層（I）～無機保護層（IV）的厚度較佳為50 nm以上，更佳為100 nm以上。另一方面，就抑制透過率的降低的觀點而言，無機保護層（I）～無機保護層（IV）的厚度較佳為800 nm以下，更佳為500 nm以下。
無機保護層（I）～無機保護層（IV）的厚度可藉由如下方式測定：使用橫截面拋光機（cross section polisher）等研磨裝置，使與基底基板垂直的剖面露出，使用掃描式電子顯微鏡或穿透式電子顯微鏡對剖面進行放大觀察。
作為無機保護層（I）～無機保護層（IV）的形成方法，例如可列舉濺鍍法等。無機保護層較佳為無色透明或黃色透明。
黃色有機保護層例如可對含有上述的有機銀化合物的樹脂組成物進行圖案加工而獲得。如上所述，有機銀化合物於圖案形成時，藉由於加熱步驟中分解、凝聚而成為黃色粒子，具有使保護層黃色化的功能。於黃色有機保護層用樹脂組成物中，有機銀化合物的含量較佳為固體成分中的0.2重量%～5重量%。藉由將有機銀化合物的含量設為0.2重量%以上，可進一步黃色化。有機銀化合物的含量更佳為固體成分中的1.5重量%以上。另一方面，藉由將有機銀化合物的含量設為固體成分中的5重量%以下，可進一步提高透過率。
形成黃色有機保護層的樹脂組成物可含有黃色顏料。作為黃色顏料，例如可列舉：顏料黃（pigment yellow）（以下簡稱為PY）PY137、PY138、PY139、PY147、PY148、PY150、PY153、PY154、PY166、PY168、PY185等。其中，就選擇性地遮擋藍色光的觀點而言，較佳為選自PY139、PY147、PY148及PY150中的黃色顏料。
作為圖案形成黃色有機保護層的方法，較佳為與所述隔壁（A-1）同樣地藉由感光性糊劑法進行圖案形成的方法。
如圖7所示，於在彩色濾光片7上形成黃色有機保護層8的情況下，黃色有機保護層8亦可具有作為使彩色濾光片的各畫素平坦化的外塗層的作用。
就充分遮擋藍色洩漏光的觀點而言，黃色有機保護層的厚度較佳為100 nm以上，更佳為500 nm以上。另一方面，就抑制光提取效率的降低的觀點而言，黃色有機保護層的厚度較佳為3000 nm以下，更佳為2000 nm以下。
本發明的帶隔壁的基板亦可用於使用了迷你LED或微型LED的顯示裝置，其中排列有多個與由形成於基板上的隔壁分離的各畫素對應的LED。各畫素的導通（ON）/斷開（OFF）能夠藉由迷你LED或微型LED的ON/OFF來實現，不需要液晶。即，本發明的帶隔壁的基板除了於分離各畫素的隔壁中使用以外，亦可於背光中的分離迷你LED或微型LED的隔壁中使用。
例如，本發明的帶隔壁的基板較佳為於所述基底基板上更具有選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源。藉由利用隔壁將選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源隔開，可防止各畫素間的混色，提高顯示器的顯示色純度。
圖13中示出具有選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上且於經圖案形成的隔壁2之間，具有選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源11。
另外，本發明的帶隔壁的基板較佳為於選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源上更具有畫素（B）。
圖14中示出具有選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源及畫素的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。於基底基板1上且於經圖案形成的隔壁2之間，具有選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源11，進而於其上具有畫素3。
其次，對本發明的顯示裝置進行說明。本發明的顯示裝置具有所述帶隔壁的基板、以及發光光源。作為發光光源，較佳為選自液晶單元、有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源。就發光特性優異的方面而言，作為發光光源，更佳為有機EL單元。所謂迷你LED單元，是指排列有多個縱橫的長度為100 μm～10 mm左右的LED的單元。所謂微型LED單元，是指排列有多個縱橫的長度未滿100 μm的LED的單元。
關於本發明的顯示裝置的製造方法，列舉具有本發明的帶隔壁的基板及有機EL單元的顯示裝置的一例進行說明。於玻璃基板上塗佈感光性聚醯亞胺樹脂，使用光微影法形成具有開口部的絕緣膜。於其上濺鍍鋁後，藉由光微影法進行鋁的圖案化，於無絕緣膜的開口部形成包含鋁的背面電極層。接著，於其上，作為電子傳輸層，藉由真空蒸鍍法使三(8-羥基喹啉)鋁（以下，簡稱為Alq3）成膜，其後作為發光層，形成於Alq3中摻雜有二氰基亞甲基吡喃、喹吖啶酮及4,4'-雙(2,2-二苯基乙烯基)聯苯的白色發光層。其次，作為電洞傳輸層，利用真空蒸鍍法使N,N'-二苯基-N,N'-雙(α-萘基)-1,1'-聯苯-4,4'-二胺成膜。最後，作為透明電極，藉由濺鍍而使氧化銦錫（indium tin oxide，ITO）成膜，製作具有白色發光層的有機EL單元。藉由使以所述方式獲得的有機EL單元與所述帶隔壁的基板相向並利用密封劑貼合，可製作顯示裝置。 [實施例]
以下，列舉實施例及比較例對本發明進行更具體的說明，但本發明不限定於該些範圍。再者，關於所用的化合物中使用簡稱的化合物，將名稱示於以下。
PGMEA：丙二醇單甲醚乙酸酯 EDM：二乙二醇乙基甲基醚 DAA：二丙酮醇 BHT：二丁基羥基甲苯。
合成例1～合成例6的聚矽氧烷溶液的固體成分濃度藉由以下方法求出。秤取1.5 g聚矽氧烷溶液至鋁杯中，使用加熱板於250℃下加熱30分鐘而使液體成分蒸發。對加熱後殘留於鋁杯中的固體成分的重量進行秤量，根據相對於加熱前的重量的比例求出固體成分濃度。
合成例1～合成例6的聚矽氧烷的重量平均分子量是藉由以下方法來測定聚苯乙烯換算的重量平均分子量。 裝置：沃特世（Waters）公司製造的帶RI檢測器的GPC測定裝置（2695） 管柱：PLgel MIXED-C管柱（聚合物實驗室（Polymer Laboratories）公司製造，300 mm）×兩根（串聯連結） 測定溫度：40℃ 流速：1 mL/min 溶媒：四氫呋喃（tetrahydrofuran，THF）0.5質量%溶液 標準物質：聚苯乙烯 檢測模式：RI
合成例1～合成例6的聚矽氧烷中的各重複單元的含有比率藉由以下方法求出。將聚矽氧烷溶液注入至直徑10 mm的「鐵氟龍（Teflon）」（註冊商標）製造的核磁共振（nuclear magnetic resonance，NMR）樣品管中，進行29 Si-NMR測定，根據源自特定的有機矽烷的Si的積分值相對於源自有機矽烷的Si整體的積分值的比例計算出各重複單元的含有比率。以下示出29 Si-NMR測定條件。
裝置：核磁共振裝置（JNM-GX270；日本電子（股）製造） 測定法：閘控去偶（gated decoupling）法 測定核頻率：53.6693 MHz（29 Si核） 光譜寬度：20000 Hz 脈波寬度：12 μs（45°脈波） 脈波重覆時間：30.0秒 溶媒：丙酮-d6 標準物質：四甲基矽烷 測定溫度：23℃ 試樣轉速：0.0 Hz。
合成例1 聚矽氧烷（PSL-1）溶液 於1000 ml的三口燒瓶中裝入203.13 g（0.831 mol）的二苯基二甲氧基矽烷、76.06 g（0.306 mol）的3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、21.56 g（0.088 mol）的3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、42.08 g（0.350 mol）的二甲基二甲氧基矽烷、45.91 g（0.175 mol）的3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、1.475 g的BHT及308.45 g的PGMEA，一邊於40℃下攪拌一邊歷時30分鐘添加在水76.39 g中溶解有磷酸3.887 g（相對於裝入單體而為1.0重量%）的磷酸水溶液。其後，將燒瓶浸漬於70℃的油浴中並攪拌60分鐘後，歷時30分鐘將油浴升溫至115℃。於升溫開始1小時後溶液溫度（內溫）達到100℃，自此進行2小時加熱攪拌（內溫為100℃～110℃），獲得聚矽氧烷溶液。再者，於升溫及加熱攪拌中，以0.05升/分鐘來流通氮氣95體積%、氧氣5體積%的混合氣體。反應中餾出作為副產物的甲醇及水合計173.99 g。以固體成分濃度成為40重量%的方式於所獲得的聚矽氧烷溶液中追加PGMEA，獲得聚矽氧烷（PSL-1）溶液。再者，所獲得的聚矽氧烷（PSL-1）的重量平均分子量為6,000。另外，聚矽氧烷（PSL-1）中，源自二苯基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐的各重複單元的莫耳比分別為47.5 mol%、17.5 mol%、5 mol%、20 mol%及10 mol%。
合成例2 聚矽氧烷（PSL-2）溶液 於1000 ml的三口燒瓶中裝入164.83 g（0.831 mol）的苯基三甲氧基矽烷、76.06 g（0.306 mol）的3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、21.56 g（0.088 mol）的3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、42.08 g（0.350 mol）的二甲基二甲氧基矽烷、45.91 g（0.175 mol）的3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、1.186 g的BHT及255.58 g的PGMEA，一邊於40℃下攪拌一邊歷時30分鐘添加在水91.35 g中溶解有磷酸3.504 g（相對於裝入單體而為1.0重量%）的磷酸水溶液。其後，將燒瓶浸漬於70℃的油浴中並攪拌60分鐘後，歷時30分鐘將油浴升溫至115℃。於升溫開始1小時後溶液溫度（內溫）達到100℃，自此進行2小時加熱攪拌（內溫為100℃～110℃），獲得聚矽氧烷溶液。再者，於升溫及加熱攪拌中，以0.05升/分鐘來流通氮氣95體積%、氧氣5體積%的混合氣體。反應中餾出作為副產物的甲醇及水合計208.08 g。以固體成分濃度成為40重量%的方式於所獲得的聚矽氧烷溶液中追加PGMEA，獲得聚矽氧烷（PSL-2）溶液。再者，所獲得的聚矽氧烷（PSL-2）的重量平均分子量為5,500。另外，聚矽氧烷（PSL-2）中，源自苯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐的各重複單元的莫耳比分別為47.5 mol%、17.5 mol%、5 mol%、20 mol%及10 mol%。
合成例3 聚矽氧烷（PSL-3）溶液 於1000 ml的三口燒瓶中裝入71.16 g（0.306 mol）的3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、78.52 g（0.35 mol）的苯乙烯基三甲氧基矽烷、21.56 g（0.088 mol）的3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、113.22 g（0.83 mol）的甲基三甲氧基矽烷、45.91 g（0.175 mol）的3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、1.080 g的BHT及234.92 g的PGMEA，一邊於40℃下攪拌一邊歷時30分鐘添加在水92.14 g中溶解有磷酸3.304 g（相對於裝入單體而為1.0重量%）的磷酸水溶液。其後，將燒瓶浸漬於70℃的油浴中並攪拌60分鐘後，歷時30分鐘將油浴升溫至115℃。於升溫開始1小時後溶液溫度（內溫）達到100℃，自此進行2小時加熱攪拌（內溫為100℃～110℃），獲得聚矽氧烷溶液。再者，於升溫及加熱攪拌中，以0.05升/分鐘來流通氮氣95體積%、氧氣5體積%的混合氣體。反應中餾出作為副產物的甲醇及水合計209 g。以固體成分濃度成為40重量%的方式於所獲得的聚矽氧烷溶液中追加PGMEA，獲得聚矽氧烷（PSL-3）溶液。再者，所獲得的聚矽氧烷（PSL-3）的重量平均分子量為12,000。另外，聚矽氧烷（PSL-3）中，源自3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐的各重複單元的莫耳比分別為17.5 mol%、20 mol%、5 mol%、47.5 mol%及10 mol%。
合成例4 聚矽氧烷（PSL-4）溶液 於1000 ml的三口燒瓶中裝入71.16 g（0.306 mol）的3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、19.63 g（0.088 mol）的苯乙烯基三甲氧基矽烷、21.56 g（0.088 mol）的3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、148.97 g（1.09 mol）的甲基三甲氧基矽烷、45.91 g（0.175 mol）的3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、0.963 g的BHT及212.01 g的PGMEA，一邊於40℃下攪拌一邊歷時30分鐘添加在水92.14 g中溶解有磷酸3.072 g（相對於裝入單體而為1.0重量%）的磷酸水溶液。其後，將燒瓶浸漬於70℃的油浴中並攪拌60分鐘後，歷時30分鐘將油浴升溫至115℃。於升溫開始1小時後溶液溫度（內溫）達到100℃，自此進行2小時加熱攪拌（內溫為100℃～110℃），獲得聚矽氧烷溶液。再者，於升溫及加熱攪拌中，以0.05升/分鐘來流通氮氣95體積%、氧氣5體積%的混合氣體。反應中餾出作為副產物的甲醇及水合計209 g。以固體成分濃度成為40重量%的方式於所獲得的聚矽氧烷溶液中追加PGMEA，獲得聚矽氧烷（PSL-4）溶液。再者，所獲得的聚矽氧烷（PSL-4）的重量平均分子量為10,000。另外，聚矽氧烷（PSL-4）中，源自3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐的各重複單元的莫耳比分別為17.5 mol%、5 mol%、5 mol%、62.5 mol%及10 mol%。
合成例5 聚矽氧烷（PSL-5）溶液 於1000 ml的三口燒瓶中裝入71.16 g（0.306 mol）的3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、157.03 g（0.70 mol）的苯乙烯基三甲氧基矽烷、21.56 g（0.088 mol）的3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、65.55 g（0.481 mol）的甲基三甲氧基矽烷、45.91 g（0.175 mol）的3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、1.235 g的BHT及265.45 g的PGMEA，一邊於40℃下攪拌一邊歷時30分鐘添加在水92.14 g中溶解有磷酸3.072 g（相對於裝入單體而為1.0重量%）的磷酸水溶液。其後，將燒瓶浸漬於70℃的油浴中並攪拌60分鐘後，歷時30分鐘將油浴升溫至115℃。於升溫開始1小時後溶液溫度（內溫）達到100℃，自此進行2小時加熱攪拌（內溫為100℃～110℃），獲得聚矽氧烷溶液。再者，於升溫及加熱攪拌中，以0.05升/分鐘來流通氮氣95體積%、氧氣5體積%的混合氣體。反應中餾出作為副產物的甲醇及水合計209 g。以固體成分濃度成為40重量%的方式於所獲得的聚矽氧烷溶液中追加PGMEA，獲得聚矽氧烷（PSL-5）溶液。再者，所獲得的聚矽氧烷（PSL-5）的重量平均分子量為10,000。另外，聚矽氧烷（PSL-5）中，源自3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐的各重複單元的莫耳比分別為17.5 mol%、40 mol%、5 mol%、27.5 mol%及10 mol%。
合成例6 聚矽氧烷（PSL-6）溶液 於1000 ml的三口燒瓶中裝入213.82 g（0.875 mol）的二苯基二甲氧基矽烷、43.12 g（0.175 mol）的3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、68.86 g（0.263 mol）的四乙氧基矽烷、59.59 g（0.438 mol）的甲基三甲氧基矽烷、1.413 g的BHT及298.06 g的PGMEA，一邊於40℃下攪拌一邊歷時30分鐘添加在水83.48 g中溶解有磷酸3.854 g（相對於裝入單體而為1.0重量%）的磷酸水溶液。其後，將燒瓶浸漬於70℃的油浴中並攪拌60分鐘後，歷時30分鐘將油浴升溫至115℃。於升溫開始1小時後溶液溫度（內溫）達到100℃，自此進行2小時加熱攪拌（內溫為100℃～110℃），獲得聚矽氧烷溶液。再者，於升溫及加熱攪拌中，以0.05升/分鐘來流通氮氣95體積%、氧氣5體積%的混合氣體。反應中餾出作為副產物的甲醇及水合計282.58 g。以固體成分濃度成為40重量%的方式於所獲得的聚矽氧烷溶液中追加PGMEA，獲得聚矽氧烷（PSL-6）溶液。再者，所獲得的聚矽氧烷（PSL-6）的重量平均分子量為5,500。另外，聚矽氧烷（PSL-6）中，源自二苯基二甲氧基矽烷、3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷的各重複單元的莫耳比分別為50 mol%、10 mol%、15 mol%及25 mol%。
將合成例1～合成例6的組成匯總示於表1中。
[表1]
      原料（mol%）   
構成通式（4）的 烷氧基矽烷 構成通式（5）的 烷氧基矽烷 其他 烷氧基矽烷
合成例 1 聚矽氧烷 （PSL-1） 溶液 二苯基二甲氧基矽烷 （47.5） 二甲基二甲氧基矽烷 （20） 3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 （17.5） 3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷 （5） 3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐 （10） -
合成例 2 聚矽氧烷 （PSL-2） 溶液 二甲基二甲氧基矽烷 （20） 苯基三甲氧基矽烷 （47.5） 3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 （17.5） 3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷 （5） 3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐 （10） -
合成例 3 聚矽氧烷 （PSL-3） 溶液 3-甲基丙烯醯氧基丙基 甲基二甲氧基矽烷 （17.5） 苯乙烯基三甲氧基矽烷 （20） 3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷 （5） 甲基三甲氧基矽烷 （47.5） 3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐 （10） -
合成例 4 聚矽氧烷 （PSL-4） 溶液 3-甲基丙烯醯氧基丙基 甲基二甲氧基矽烷 （17.5） 苯乙烯基三甲氧基矽烷 （5） 3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷 （5） 甲基三甲氧基矽烷 （62.5） 3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐 （10） -
合成例 5 聚矽氧烷 （PSL-5） 溶液 3-甲基丙烯醯氧基丙基 甲基二甲氧基矽烷 （17.5） 苯乙烯基三甲氧基矽烷 （40） 3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷 （5） 甲基三甲氧基矽烷 （27.5） 3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐 （10） -
合成例 6 聚矽氧烷 （PSL-6） 溶液 二苯基二甲氧基矽烷 （50） 甲基三甲氧基矽烷 （25） 3-(3,4-環氧基環己基)丙基三甲氧基矽烷 （10） 四乙氧基矽烷 （15）
合成例7 綠色有機螢光體 將3,5-二溴苯甲醛（3.0 g）、4-第三丁基苯基硼酸（5.3 g）、四(三苯基膦)鈀（0）（0.4 g）及碳酸鉀（2.0 g）放入燒瓶中，進行氮氣置換。於其中添加進行了脫氣的甲苯（30 mL）及進行了脫氣的水（10 mL），進行4小時回流。將反應溶液冷卻至室溫，於進行分液後，利用飽和食鹽水對有機層進行清洗。利用硫酸鎂對該有機層加以乾燥並進行過濾後，將溶媒蒸餾去除。藉由矽膠管柱層析法對所獲得的反應產物進行精製，從而獲得3,5-雙(4-第三丁基苯基)苯甲醛（3.5 g）的白色固體。其次，將3,5-雙(4-第三丁基苯基)苯甲醛（1.5 g）與2,4-二甲基吡咯（0.7 g）放入燒瓶中，加入脫水二氯甲烷（200 mL）及三氟乙酸（1滴），於氮氣環境下攪拌4小時。於所述反應混合物中加入2,3-二氯-5,6-二氰基-1,4-苯醌（0.85 g）的脫水二氯甲烷溶液，進而攪拌1小時。反應結束後，添加三氟化硼二乙醚錯合物（7.0 mL）及二異丙基乙基胺（7.0 mL），攪拌4小時後，進而加入水（100 mL）加以攪拌，並對有機層進行分液。利用硫酸鎂對該有機層加以乾燥並進行過濾後，將溶媒蒸餾去除。藉由矽膠管柱層析法對所獲得的反應產物進行精製，從而獲得綠色粉末0.4 g（產率17%）。所獲得的綠色粉末的1 H-NMR分析結果如下，從而確認到以上所獲得的綠色粉末為下述結構式所表示的[G-1]。
1 H-NMR（CDCl3 （d=ppm））：7.95(s, 1H), 7.63-7.48(m, 10H), 6.00(s, 2H), 2.58(s, 6H), 1.50(s, 6H), 1.37(s, 18H)。
[化12]
Figure 02_image023
合成例8 紅色有機螢光體 於氮氣流下，將4-(4-第三丁基苯基)-2-(4-甲氧基苯基)吡咯300 mg、2-甲氧基苯甲醯氯201 mg及甲苯10 ml的混合溶液於120℃下加熱6小時。冷卻至室溫後，將溶媒蒸發（evaporate）。利用乙醇20 ml對所獲得的殘留物進行清洗，並加以真空乾燥，藉此獲得2-(2-甲氧基苯甲醯基)-3-(4-第三丁基苯基)-5-(4-甲氧基苯基)吡咯260 mg。其次，於氮氣流下，將2-(2-甲氧基苯甲醯基)-3-(4-第三丁基苯基)-5-(4-甲氧基苯基)吡咯260 mg、4-(4-第三丁基苯基)-2-(4-甲氧基苯基)吡咯180 mg、甲磺酸酐206 mg及進行了脫氣的甲苯10 ml的混合溶液於125℃下加熱7小時。將所述反應混合物冷卻至室溫後，注入水20 ml，並利用二氯甲烷30 ml進行萃取。於利用水20 ml將有機層清洗兩次後，進行蒸發，並進行真空乾燥，藉此獲得作為殘留物的吡咯亞甲基體。其次，於氮氣流下，於所獲得的吡咯亞甲基體與甲苯10 ml的混合溶液中加入二異丙基乙基胺305 mg及三氟化硼二乙醚錯合物670 mg，於室溫下攪拌3小時。於所述反應混合物中注入水20 ml並利用二氯甲烷30 ml進行萃取。利用水20 ml將有機層清洗兩次，並利用硫酸鎂加以乾燥後，進行蒸發。藉由矽膠管柱層析法進行精製，並加以真空乾燥後，獲得紫紅色粉末0.27 g（產率70%）。所獲得的紫紅色粉末的1 H-NMR分析結果如下，從而確認到以上所獲得的紫紅色粉末為下述結構式所表示的[R-1]。
1 H-NMR（CDCl3 （d=ppm））：1.19(s, 18H), 3.42(s, 3H), 3.85(s, 6H), 5.72(d, 1H), 6.20(t, 1H), 6.42-6.97(m, 16H), 7.89(d, 4H)。
[化13]
Figure 02_image025
合成例9 含二氧化矽粒子的聚矽氧烷溶液（LS-1） 於500 ml的三口燒瓶中放入0.05 g（0.4 mmol）的甲基三甲氧基矽烷、0.66 g（3.0 mmol）的三氟丙基三甲氧基矽烷、0.10 g（0.4 mmol）的三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、7.97 g（34 mmol）的γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷及224.37 g的15.6重量%的二氧化矽粒子的異丙醇分散液（IPA-ST-UP：日產化學工業（股）製造），加入乙二醇單第三丁醚163.93 g。一邊於室溫下攪拌，一邊歷時3分鐘添加在水4.09 g中溶解有磷酸0.088 g的磷酸水溶液。其後，將燒瓶浸漬於40℃的油浴中並攪拌60分鐘後，歷時30分鐘將油浴升溫至115℃。於升溫開始1小時後溶液的內溫達到100℃，自此進而進行2小時加熱攪拌（內溫為100℃～110℃），藉此獲得含二氧化矽粒子的聚矽氧烷溶液（LS-1）。再者，於升溫及加熱攪拌中，以0.05 l（升）/分鐘來流通氮氣。反應中餾出作為副產物的甲醇及水合計194.01 g。所獲得的含二氧化矽粒子的聚矽氧烷溶液（LS-1）的固體成分濃度為24.3重量%，固體成分中的聚矽氧烷與二氧化矽粒子的含量分別為15重量%及85重量%。所獲得的含二氧化矽粒子的聚矽氧烷（LS-1）中，聚矽氧烷的源自甲基三甲氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、3-三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐及γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷的各重複單元的莫耳比分別為1.0 mol%、8.0 mol%、1.0 mol%及90.0 mol%。
實施例1 隔壁用樹脂組成物（P-1） 將5.00 g的作為白色顏料的二氧化鈦顏料（R-960；日本巴斯夫（BASF Japan）（股）製造（以下「R-960」））、5.00 g的作為樹脂的藉由合成例1而獲得的聚矽氧烷（PSL-1）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-1）。另外，將作為有機銀化合物的新癸酸銀0.50 g溶解於EDM 4.50 g中，獲得有機銀化合物溶液（OA-1）。
其次，使所述顏料分散液（MW-1）8.25 g、聚矽氧烷（PSL-1）溶液7.025 g、所述有機銀化合物溶液（OA-1）1.031 g、作為還原劑的第三丁基對苯二酚0.026 g、作為光聚合起始劑的乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯肟)（「豔佳固（Irgacure）」（註冊商標）OXE-02，日本巴斯夫（股）製造（以下「OXE-2」））0.155 g、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦（「豔佳固（Irgacure）」819，日本巴斯夫（股）製造（以下「IC-819」））0.258 g、作為光聚合性化合物的二季戊四醇六丙烯酸酯（「卡亞拉得（KAYARAD）」（註冊商標）DPHA，新日本藥業（股）製造（以下「DPHA」））2.063 g、作為撥液化合物的光聚合性含氟化合物（「美佳法（Megafac）」（註冊商標）RS-72A，20重量%PGMEA稀釋溶液品，DIC（股）製造（以下「RS-72A」））0.258 g、3',4'-環氧基環己基甲基-3,4-環氧基環己烷羧酸酯（「賽羅西德（Celloxide）」（註冊商標）2021P，大賽璐（Daicel）（股）製造（以下「賽羅西德（Celloxide）（註冊商標）2021P」））0.021 g、乙烯雙(氧乙烯)雙[3-(5-第三丁基-4-羥基-間甲苯)丙酸酯]（「易璐諾斯（IRGANOX）」（註冊商標）1010，日本巴斯夫（股）製造（以下「易璐諾斯（IRGANOX）（註冊商標）1010」））0.031 g及丙烯酸系界面活性劑（「BYK」（註冊商標）352，日本畢克化學（BYK-Chemie Japan）（股）製造（以下「BYK-352」））的PGMEA 10重量%稀釋溶液0.103 g（相當於濃度500 ppm）溶解於溶媒PGMEA 1.405 g中，並進行攪拌。利用5.0 μm的過濾器對所獲得的混合物進行過濾，獲得隔壁用樹脂組成物（P-1）。
實施例2 隔壁用樹脂組成物（P-2） 將所述有機銀化合物溶液（OA-1）的添加量設為0.722 g，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.10 g，將PGMEA的添加量設為1.64 g，除此以外，以與實施例1相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-2）。
實施例3 隔壁用樹脂組成物（P-3） 將所述有機銀化合物溶液（OA-1）的添加量設為0.516 g，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.15 g，將PGMEA的添加量設為1.79 g，除此以外，以與實施例1相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-3）。
實施例4 隔壁用樹脂組成物（P-4） 將所述有機銀化合物溶液（OA-1）的添加量設為0.206 g，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.32 g，將PGMEA的添加量設為2.02 g，除此以外，以與實施例1相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-4）。
實施例5 隔壁用樹脂組成物（P-5） 使所述顏料分散液（MW-1）6.59 g、聚矽氧烷（PSL-1）溶液4.78 g、所述有機銀化合物溶液（OA-1）4.12 g、作為還原劑的第三丁基對苯二酚0.021 g、作為光聚合起始劑的0.124 g的OXE-02、0.206 g的IC-819、作為光聚合性化合物的1.648 g的DPHA、作為撥液化合物的0.206 g的RS-72A、0.016 g的賽羅西德（Celloxide）2021P、0.025 g的易璐諾斯（IRGANOX）1010、及BYK-352的PGMEA 10重量%稀釋溶液0.103 g溶解於溶媒PGMEA 2.76 g中，進行攪拌。利用5.0 μm的過濾器對所獲得的混合物進行過濾，獲得隔壁用樹脂組成物（P-5）。
實施例6 隔壁用樹脂組成物（P-6） 將所述有機銀化合物溶液（OA-1）的添加量設為0.516 g，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.19 g，將第三丁基對苯二酚的添加量設為0.010 g，將PGMEA的添加量設為1.77 g，除此以外，以與實施例1相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-6）。
實施例7 隔壁用樹脂組成物（P-7） 將作為有機銀化合物的水楊酸銀0.50 g溶解於EDM 4.50 g中，獲得有機銀化合物溶液（OA-2）。使用有機銀化合物溶液（OA-2）來代替所述有機銀化合物溶液（OA-1），除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-7）。
實施例8 隔壁用樹脂組成物（P-8） 將作為有機銀化合物的辛酸銀0.50 g溶解於EDM 4.50 g中，獲得有機銀化合物溶液（OA-3）。使用有機銀化合物溶液（OA-3）來代替所述有機銀化合物溶液（OA-1），除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-8）。
實施例9 隔壁用樹脂組成物（P-9） 將作為有機銀化合物的後述的製備例8中獲得的有機銀化合物（APAG-1）2.50 g溶解於EDM 2.50 g中，獲得有機銀化合物溶液（OA-4）。使用有機銀化合物溶液（OA-4）來代替所述有機銀化合物溶液（OA-1），除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-9）。
實施例10 隔壁用樹脂組成物（P-10） 作為還原劑，使用2,3-二甲基對苯二酚來代替第三丁基對苯二酚，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-10）。
實施例11 隔壁用樹脂組成物（P-11） 作為還原劑，使用三甲基對苯二酚來代替第三丁基對苯二酚，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-11）。
實施例12 隔壁用樹脂組成物（P-12） 作為還原劑，使用2,6-二甲基對苯二酚來代替第三丁基對苯二酚，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-12）。
實施例13 隔壁用樹脂組成物（P-13） 作為還原劑，使用苯基對苯二酚來代替第三丁基對苯二酚，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-13）。
實施例14 隔壁用樹脂組成物（P-14） 作為還原劑，使用2,5-第三戊基對苯二酚來代替第三丁基對苯二酚，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-14）。
實施例15 隔壁用樹脂組成物（P-15） 作為還原劑，使用對苯二酚來代替第三丁基對苯二酚，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-15）。
實施例16 隔壁用樹脂組成物（P-16） 作為還原劑，使用乙醇醛來代替第三丁基對苯二酚，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-16）。
實施例17 隔壁用樹脂組成物（P-17） 將第三丁基對苯二酚的添加量設為0.005 g，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.15 g，將PGMEA的添加量設為1.61 g，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-17）。
實施例18 隔壁用樹脂組成物（P-18） 將第三丁基對苯二酚的添加量設為0.413 g，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為6.14 g，將PGMEA的添加量設為2.22 g，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-18）。
實施例19 隔壁用樹脂組成物（P-19） 將作為白色顏料的5.00 g的R-960、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-2）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-2）。添加8.25 g的顏料分散液（MW-2）來代替所述顏料分散液（MW-1），添加7.10 g的聚矽氧烷（PSL-2）溶液來代替所述聚矽氧烷（PSL-1）溶液，且添加1.64 g的PGMEA，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-19）。
實施例20 隔壁用樹脂組成物（P-20） 將作為白色顏料的5.00 g的R-960、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-3）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-3）。添加8.25 g的顏料分散液（MW-3）來代替所述顏料分散液（MW-1），添加7.10 g的聚矽氧烷（PSL-3）溶液來代替所述聚矽氧烷（PSL-1）溶液，且添加1.64 g的PGMEA，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-20）。
實施例21 隔壁用樹脂組成物（P-21） 將作為白色顏料的5.00 g的R-960、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-4）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-4）。添加8.25 g的顏料分散液（MW-4）來代替所述顏料分散液（MW-1），添加7.10 g的聚矽氧烷（PSL-4）溶液來代替所述聚矽氧烷（PSL-1）溶液，且添加1.64 g的PGMEA，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-21）。
實施例22 隔壁用樹脂組成物（P-22） 將作為白色顏料的5.00 g的R-960、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-5）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-5）。添加8.25 g的顏料分散液（MW-5）來代替所述顏料分散液（MW-1），添加7.10 g的聚矽氧烷（PSL-5）溶液來代替所述聚矽氧烷（PSL-1）溶液，且添加1.64 g的PGMEA，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-22）。
實施例23 隔壁用樹脂組成物（P-23） 將作為白色顏料的5.00 g的R-960、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-6）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-6）。使顏料分散液（MW-6）8.25 g、聚矽氧烷（PSL-6）溶液7.941 g、所述有機銀化合物溶液（OA-1）0.722 g、作為還原劑的第三丁基對苯二酚0.026 g、作為醌二疊氮化合物的2.063 g的THP-17（商品名，東洋合成工業（股）製造）、作為撥液化合物的0.258 g的RS-72A、0.021 g的賽羅西德（Celloxide）2021P、0.031 g的易璐諾斯（IRGANOX）1010、及BYK-352的PGMEA 10重量%稀釋溶液0.103 g溶解於溶媒PGMEA 1.018 g中，進行攪拌。利用5.0 μm的過濾器對所獲得的混合物進行過濾，獲得隔壁用樹脂組成物（P-23）。
實施例24 隔壁用樹脂組成物（P-24） 不添加撥液化合物RS-72A，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.23 g，將PGMEA的添加量設為1.77 g，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-24）。
實施例25 隔壁用樹脂組成物（P-25） 將作為白色顏料的5.00 g的R-960、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-1）溶液、作為遮光顏料的0.0188 g的氮化鈦混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-7）。添加8.27 g的顏料分散液（MW-7）來代替所述顏料分散液（MW-1），將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.06 g，將PGMEA的添加量設為2.31 g，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-25）。
實施例26 隔壁用樹脂組成物（P-26） 將作為白色顏料的5.00 g的R-960、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-1）溶液、作為遮光顏料的0.0113 g的顏料紅254（PR254）、0.0075 g的顏料藍15：6N（PB15：6N）混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-8）。添加8.27 g的顏料分散液（MW-8）來代替所述顏料分散液（MW-1），將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.06 g，將PGMEA的添加量設為2.31 g，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-26）。
實施例27 隔壁用樹脂組成物（P-27） 將作為有機金屬化合物的雙(乙醯丙酮)鈀0.103 g、作為具有磷原子的配位性化合物的三苯基膦0.089 g（相對於有機金屬化合物為而等莫耳量）溶解於DAA 1.726 g中，獲得有機金屬化合物溶液（OM-1）。添加1.17 g的有機金屬化合物溶液（OM-1），將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為6.86 g，將PGMEA的添加量設為0.92 g，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-27）。
實施例28 隔壁用樹脂組成物（P-28） 將作為遮光顏料的氮化鈦5.00 g、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-1）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-9）。使0.164 g的所述顏料分散液（MW-9）、14.51 g的聚矽氧烷（PSL-1）溶液、作為還原劑的第三丁基對苯二酚0.021 g、作為光聚合起始劑的0.164 g的OXE-02、0.328 g的IC-819、作為光聚合性化合物的1.640 g的DPHA、作為撥液化合物的0.205 g的RS-72A、0.016 g的賽羅西德（Celloxide）2021P、0.025 g的易璐諾斯（IRGANOX）1010、及BYK-352的PGMEA 10重量%稀釋溶液0.103 g溶解於溶媒PGMEA 2.75 g中，進行攪拌。利用5.0 μm的過濾器對所獲得的混合物進行過濾，獲得隔壁用樹脂組成物（P-28）。
實施例29 隔壁用樹脂組成物（P-29） 將作為遮光顏料的3.00 g的PR254、2.00 g的PB15：6N、作為樹脂的5.00 g的聚矽氧烷（PSL-1）溶液混合，使用填充有氧化鋯珠的磨機型分散機進行分散，獲得顏料分散液（MW-10）。添加0.574 g的所述顏料分散液（MW-10），將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為13.49 g，將PGMEA的添加量設為3.37 g，除此以外，以與實施例28相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-29）。
比較例1 隔壁用樹脂組成物（P-30） 使聚矽氧烷（PSL-1）溶液13.40 g、所述有機銀化合物溶液（OA-1）0.574 g、作為還原劑的第三丁基對苯二酚0.021 g、作為光聚合起始劑的0.123 g的OXE-02、0.246 g的IC-819、作為光聚合性化合物的1.640 g的DPHA、作為撥液化合物的0.205 g的RS-72A、0.016 g的賽羅西德（Celloxide）2021P、0.025 g的易璐諾斯（IRGANOX）1010、及BYK-352的PGMEA 10重量%稀釋溶液0.103 g溶解於溶媒PGMEA 0.02 g中，進行攪拌。利用5.0 μm的過濾器對所獲得的混合物進行過濾，獲得隔壁用樹脂組成物（P-30）。
比較例2 隔壁用樹脂組成物（P-31） 不添加所述有機銀化合物溶液（OA-1），將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.28 g，將PGMEA的添加量設為2.18 g，除此以外，以與實施例2相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-31）。
比較例3 隔壁用樹脂組成物（P-32） 不添加還原劑第三丁基對苯二酚，將聚矽氧烷（PSL-1）溶液的添加量設為7.09 g，將PGMEA的添加量設為1.37 g，除此以外，以與實施例1相同的方式獲得隔壁用樹脂組成物（P-32）。
將實施例1～實施例29及比較例1～比較例3的組成匯總示於表2中。
[表2-1]
   隔壁用 樹脂 組成物 樹脂 （重量%） 光聚合起始劑 （重量%） 醌二疊氮 化合物 （重量%） 白色顏料 （重量%） 有機銀化合物 （重量%） 還原劑 （重量%） 遮光顏料 （重量%） 其他有機 金屬化合物 （重量%） 配位性化合物 （重量%） ［相對於其他有 機金屬化合物 的莫耳當量］ 撥液化合物 （重量%） 光聚合性 化合物 （重量%） 溶媒 （重量%） 其他添加劑 （重量%）
聚合抑制劑 密接性改良劑 界面活性劑
實施例 1 P-1 PSL-1 （16.8） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.5） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （45） EDM （5） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 2 P-2 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 3 P-3 PSL-1 （17.1） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.25） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （48） EDM （2） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 4 P-4 PSL-1 （17.2） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.10） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （48） EDM （2） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 5 P-5 PSL-1 （11.9） OXE-02 （0.60） IC-819 （1.00） - R-960 （16.0） 新癸酸銀 （2.0） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.20） DPHA （8） PGMEA （42） EDM （18） IRGANOX 1010 （0.12） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 6 P-6 PSL-1 （17.2） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.25） 第三丁基 對苯二酚 （0.05） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （48） EDM （2） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 7 P-7 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25）    R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125）          RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 8 P-8 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
[表2-2]
   隔壁用 樹脂 組成物 樹脂 （重量%） 光聚合起始劑 （重量%） 醌二疊氮 化合物 （重量%） 白色顏料 （重量%） 有機銀化合物 （重量%） 還原劑 （重量%） 遮光顏料 （重量%） 其他有機 金屬化合物 （重量%） 配位性化合物 （重量%） ［相對於其他有 機金屬化合物 的莫耳當量］ 撥液化合物 （重量%） 光聚合性 化合物 （重量%） 溶媒 （重量%） 其他添加劑 （重量%）
聚合抑制劑 密接性改良劑 界面活性劑
實施例 9 P-9 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） APAG-1 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （48） EDM （2） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 10 P-10 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 2,3-二甲基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 11 P-11 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 三甲基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 12 P-12 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 2,6-二甲基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 13 P-13 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 苯基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 14 P-14 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 2,5-第三戊基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 15 P-15 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25）    R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 對苯二酚 （0.125）          RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 16 P-16 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 乙醇醛 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
[表2-3]
   隔壁用 樹脂 組成物 樹脂 （重量%） 光聚合起始劑 （重量%） 醌二疊氮 化合物 （重量%） 白色顏料 （重量%） 有機銀化合物 （重量%） 還原劑 （重量%） 遮光顏料 （重量%） 其他有機 金屬化合物 （重量%） 配位性化合物 （重量%） ［相對於其他有 機金屬化合物 的莫耳當量］ 撥液化合物 （重量%） 光聚合性 化合物 （重量%） 溶媒 （重量%） 其他添加劑 （重量%）
聚合抑制劑 密接性改良劑 界面活性劑
實施例 17 P-17 PSL-1 （17.1） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.025） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （48） EDM （2） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 18 P-18 PSL-1 （15.1） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （2.0） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （48） EDM （2） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 19 P-19 PSL-2 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 20 P-20 PSL-3 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 21 P-21 PSL-4 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 22 P-22 PSL-5 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 23 P-23 PSL-6 （19.0）    THP-17 R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125）          RS-72A （0.25）    PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 24 P-24 PSL-1 （17.2） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - - DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
[表2-4]
   隔壁用 樹脂 組成物 樹脂 （重量%） 光聚合起始劑 （重量%） 醌二疊氮 化合物 （重量%） 白色顏料 （重量%） 有機銀化合物 （重量%） 還原劑 （重量%） 遮光顏料 （重量%） 其他有機 金屬化合物 （重量%） 配位性化合物 （重量%） ［相對於其他有 機金屬化合物 的莫耳當量］ 撥液化合物 （重量%） 光聚合性 化合物 （重量%） 溶媒 （重量%） 其他添加劑 （重量%）
聚合抑制劑 密接性改良劑 界面活性劑
實施例 25 P-25 PSL-1 （16.9） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） TiN （0.075） - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 26 P-26 PSL-1 （16.9） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） PR254 （0.045） PB15：6N （0.030） - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 27 P-27 PSL-1 （16.5） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.35） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - 雙(乙醯丙酮)鉑 （0.25） 三苯基膦 （0.22） [1.0莫耳當量] RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （43） EDM（3） DAA（4） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 28 P-28 PSL-1 （28.4） OXE-02 （0.60） IC-819 （2.00） - - 新癸酸銀 （0.50） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） TiN （0.50） - - RS-72A （0.20） DPHA （8） PGMEA （57） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.12） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
實施例 29 P-29 PSL-1 （26.4） OXE-02 （0.60） IC-819 （2.00） - - 新癸酸銀 （0.50） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） PR254 （1.8） PB15：6N （1.2） - - RS-72A （0.20） DPHA （8） PGMEA （57） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.12） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
比較例 1 P-30 PSL-1 （29.4） OXE-02 （0.60） IC-819 （1.00） - - 新癸酸銀 （0.50） 第三丁基 對苯二酚 （0.125） - - - RS-72A （0.20） DPHA （8） PGMEA （57） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.12） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
比較例 2 P-31 PSL-1 （17.3） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25）    R-960 （20.0）    第三丁基 對苯二酚 （0.125）          RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
比較例 3 P-32 PSL-1 （17.0） OXE-02 （0.75） IC-819 （1.25） - R-960 （20.0） 新癸酸銀 （0.50） - - - - RS-72A （0.25） DPHA （10） PGMEA （47） EDM （3） IRGANOX 1010 （0.15） Celloxide 2021P （0.1） BYK-352 （500 ppm）
製備例1 顏色變換發光材料組成物（CL-1） 將20重量份的綠色量子點材料（路米特（Lumidot）640 CdSe/ZnS，平均粒徑6.3 nm：奧德里奇（Aldrich）公司製造）的0.5重量%甲苯溶液、45重量份的DPHA、5重量份的「豔佳固（Irgacure）」（註冊商標）907（日本巴斯夫（股）製造）、166重量份的丙烯酸樹脂（SPCR-18（商品名），昭和電工（股）製造）的30重量%PGMEA溶液及97重量份的甲苯混合並進行攪拌而均勻地溶解。利用0.45 μm的注射器過濾器對所獲得的混合物進行過濾，製備顏色變換發光材料組成物（CL-1）。
製備例2 顏色變換發光材料組成物（CL-2） 使用0.4重量份的藉由合成例10而獲得的綠色螢光體G-1來代替綠色量子點材料，且將甲苯的添加量變更為117重量份，除此以外，以與製備例1相同的方式製備顏色變換發光材料組成物（CL-2）。
製備例3 顏色變換發光材料組成物（CL-3） 使用0.4重量份的藉由合成例11而獲得的紅色螢光體R-1來代替綠色量子點材料，且將甲苯的添加量變更為117重量份，除此以外，以與製備例1相同的方式製備顏色變換發光材料組成物（CL-3）。
製備例4 彩色濾光片形成材料（CF-1） 將90 g的C.I.顏料綠59、60 g的C.I.顏料黃150、75 g的高分子分散劑（「BYK」（註冊商標）-6919（商品名）畢克化學（BYK-Chemie）公司製造（以下「BYK-6919」））、100 g的黏合劑樹脂（「艾迪科阿克爾斯（ADEKA ARKLS）」（註冊商標）WR301（商品名）艾迪科（ADEKA）（股）製造）、及675 g的PGMEA混合，製作漿料。利用管（tube）將放入有漿料的燒杯與戴諾磨機（Dyno-Mill）相連，使用直徑0.5 mm的氧化鋯珠作為介質，以圓周速度14 m/s進行8小時的分散處理，製作顏料綠59分散液（GD-1）。
將顏料綠59分散液（GD-1）56.54 g、3.14 g的丙烯酸樹脂（「沙克馬（Cyclomer）」（註冊商標）P（ACA）Z250（商品名）大賽璐奧奈科斯（Daicel-Allnex）（股）製造（以下「P（ACA）Z250」））、2.64 g的DPHA、光聚合起始劑（「奧普陶瑪（Optomer）」（註冊商標）NCI-831（商品名）艾迪科（ADEKA）（股）製造（以下「NCI-831」））0.330 g、0.04 g的界面活性劑（「BYK」（註冊商標）-333（商品名）畢克化學（BYK-Chemie）公司製造（以下「BYK-333」））、作為聚合抑制劑的0.01 g的BHT及作為溶媒的37.30 g的PGMEA 混合，製作彩色濾光片形成材料（CF-1）。
製備例5 遮光隔壁用樹脂組成物 將碳黑（MA100（商品名）三菱化學（股）製造）150 g、75 g的高分子分散劑BYK-6919、100 g的P（ACA）Z250及675 g的PGMEA混合，製作漿料。利用管將放入有漿料的燒杯與戴諾磨機相連，使用直徑0.5 mm的氧化鋯珠作為介質，以圓周速度14 m/s進行8小時的分散處理，製作顏料分散液（MB-1）。
將顏料分散液（MB-1）56.54 g、3.14 g的P（ACA）Z250、2.64 g的DPHA、0.330 g的NCI-831、0.04 g的BYK-333、作為聚合抑制劑的第三丁基兒茶酚0.01 g及37.30 g的PGMEA混合，製作遮光隔壁用樹脂組成物。
製備例6 低折射率層形成材料 將5.350 g的藉由合成例7而獲得的含二氧化矽粒子的聚矽氧烷溶液（LS-1）、1.170 g的乙二醇單-第三丁醚及3.48 g的DAA混合後，利用0.45 μm的注射器過濾器進行過濾，製備低折射率層形成材料。
製備例7 黃色有機保護層形成材料（YL-1） 將150 g的C.I.顏料黃150、75 g的高分子分散劑（「BYK」（註冊商標）-6919（商品名）畢克化學（BYK-Chemie）公司製造（以下「BYK-6919」））、100 g的黏合劑樹脂（「艾迪科阿克爾斯（ADEKA ARKLS）」（註冊商標）WR301（商品名）艾迪科（ADEKA）（股）製造）及675 g的PGMEA混合，製作漿料。利用管將放入有漿料的燒杯與戴諾磨機相連，使用直徑0.5 mm的氧化鋯珠作為介質，以圓周速度14 m/s進行8小時的分散處理，製作顏料黃150分散液（YD-1）。
使顏料黃150分散液（YD-1）3.09 g、作為樹脂的23.54 g的聚矽氧烷（PSL-1）溶液、作為光聚合性化合物的6.02 g的DPHA、作為有機金屬化合物的6.02 g的使用新癸酸銀製備的有機金屬化合物溶液（OM-2）、作為光聚合起始劑的0.20 g的OXE-02、0.40 g的IC-819、0.060 g的易璐諾斯（IRGANOX）（註冊商標）1010及BYK-352的PGMEA 10重量%稀釋溶液0.050 g（相當於濃度500 ppm）溶解於61.15 g的溶媒PGMEA中，並進行攪拌。利用5.0 μm的過濾器對所獲得的混合物進行過濾，獲得黃色有機保護層形成材料（YL-1）。
製備例8 有機銀化合物（APAG-1） 使作為(甲基)丙烯酸聚合物溶液的SPCR-10P（（商品名），昭和電工（股）製造）的30重量%PGMEA溶液5.0 g溶解於丙酮5.0 g中，滴加二乙醇胺0.0555 g（相對於(甲基)丙烯酸聚合物而為1.5莫耳當量），於室溫下攪拌1小時而生成(甲基)丙烯酸聚合物溶液的胺鹽。接著，向該溶液中添加硝酸銀（I）0.0287 g，於室溫下攪拌1小時，結果產生沈澱。利用5.0 μm的過濾器進行過濾後，以固體成分成為20%的方式添加PGMEA，獲得有機銀化合物（APAG-1）。
實施例30～實施例52、實施例54～實施例59、比較例4～比較例6 使用10 cm見方的無鹼玻璃基板（AGC科技玻璃（AGC Techno Glass）（股）製造，厚度0.7 mm）作為基底基板。於其上旋塗表2～表5所示的隔壁用樹脂組成物，使用加熱板（商品名SCW-636，大日本網屏製造（股）製造），於溫度100℃下乾燥3分鐘，製作乾燥膜。針對所製作的乾燥膜，使用平行光遮罩對準曝光機（商品名PLA-501F，佳能（Cannon）（股）製造），將超高壓水銀燈作為光源，介隔光罩，以曝光量300 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光。其後，使用自動顯影裝置（瀧澤產業（股）製造的「AD-2000（商品名）」），使用0.045重量%氫氧化鉀水溶液進行100秒噴淋顯影，繼而使用水進行30秒淋洗。進而，使用烘箱（商品名IHPS-222，愛斯佩克（Espec）（股）製造），於空氣中於溫度230℃下加熱30分鐘，於玻璃基板上形成使高度10 μm、寬度20 μm的隔壁形成為短邊80 μm、長邊280 μm的間距間隔的格子狀圖案的隔壁。
於由所獲得的帶隔壁的基板的隔壁隔開的區域，於氮氣環境下，使用噴墨法塗佈表3～表5所示的顏色變換發光材料組成物，於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素，獲得圖2所示的結構的帶隔壁的基板。
實施例53 使用10 cm見方的無鹼玻璃基板（AGC科技玻璃（AGC Techno Glass）（股）製造，厚度0.7 mm）作為基底基板。於其上旋塗隔壁用樹脂組成物（P-23），使用加熱板（商品名SCW-636，大日本網屏製造（股）製造），於溫度100℃下乾燥3分鐘，製作乾燥膜。針對所製作的乾燥膜，使用平行光遮罩對準曝光機（商品名PLA-501F，佳能（Cannon）（股）製造），將超高壓水銀燈作為光源，介隔光罩，以曝光量300 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光。其後，使用自動顯影裝置（瀧澤產業（股）製造的「AD-2000（商品名）」），利用2.38重量%氫氧化四甲基銨水溶液進行90秒噴淋顯影，繼而利用水進行30秒淋洗。其後，與之前同樣地，不介隔光罩，以曝光量500 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光，且進行漂白。進而，使用烘箱（商品名IHPS-222，愛斯佩克（Espec）（股）製造），於空氣中於溫度230℃下加熱30分鐘，於玻璃基板上形成使高度10 μm、寬度20 μm的隔壁形成為短邊80 μm、長邊280 μm的間距間隔的格子狀圖案的隔壁。
於由所獲得的帶隔壁的基板的隔壁隔開的區域，於氮氣環境下，使用噴墨法塗佈顏色變換發光材料組成物（CL-2），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素，獲得圖2所示的結構的帶隔壁的基板。
實施例60 使用10 cm見方的無鹼玻璃基板（AGC科技玻璃（AGC Techno Glass）（股）製造，厚度0.7 mm）作為基底基板。於其上旋塗藉由製備例5而獲得的遮光隔壁形成材料，使用加熱板（商品名SCW-636，大日本網屏製造（股）製造），於溫度90℃下乾燥2分鐘，製作乾燥膜。針對所製作的乾燥膜，使用平行光遮罩對準曝光機（商品名PLA-501F，佳能（Cannon）（股）製造），將超高壓水銀燈作為光源，介隔光罩，以曝光量40 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光。其後，使用自動顯影裝置（瀧澤產業（股）製造的「AD-2000（商品名）」），利用0.3重量%四甲基銨水溶液進行50秒顯影，繼而利用水進行30秒淋洗。進而，使用烘箱（商品名IHPS-222，愛斯佩克（Espec）（股）製造），於空氣中於溫度230℃下加熱30分鐘，獲得如下的帶遮光隔壁的基板，其於玻璃基板上使高度2.0 μm、寬度20 μm、每1.0 μm厚度的OD值為2.0的隔壁形成為短邊40 μm、長邊280 μm的間距間隔的格子狀圖案。
其後，藉由與實施例32同樣的方法，獲得如下的帶隔壁的基板，其於遮光隔壁上使高度10 μm、寬度20 μm的隔壁形成為與短邊40 μm、長邊280 μm的間距間隔的遮光隔壁同樣的格子狀圖案。於由所獲得的帶隔壁的基板的隔壁隔開的區域，於氮氣環境下，使用噴墨法塗佈藉由製備例2而獲得的顏色變換發光材料組成物（CL-2），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素，獲得圖3所示的結構的帶隔壁的基板。
實施例61 於藉由與實施例32同樣的方法獲得的由畫素形成前的帶隔壁的基板的隔壁隔開的區域，以硬化後的膜厚成為2.5 μm的方式塗佈藉由製備例4而獲得的彩色濾光片形成材料（CF-1），進行真空乾燥。介隔以於帶隔壁的基板的開口部的區域被曝光的方式設計的光罩，以曝光量40 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光。於藉由0.3重量%四甲基銨水溶液進行50秒顯影後，於230℃下進行30分鐘加熱硬化，於由隔壁隔開的區域形成高度2.5 μm、短邊40 μm、長邊280 μm的彩色濾光片層。其後，於彩色濾光片上，於氮氣環境下，使用噴墨法塗佈藉由製備例2而獲得的顏色變換發光材料組成物（CL-2），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素，獲得圖4所示的結構的帶隔壁的基板。
實施例62 使用10 cm見方的無鹼玻璃基板（AGC科技玻璃（AGC Techno Glass）（股）製造，厚度0.7 mm）作為基底基板。於其上旋塗藉由製備例5而獲得的遮光隔壁形成材料，使用加熱板（商品名SCW-636，大日本網屏製造（股）製造），於溫度90℃下乾燥2分鐘，製作乾燥膜。針對所製作的乾燥膜，使用平行光遮罩對準曝光機（商品名PLA-501F，佳能（Cannon）（股）製造），將超高壓水銀燈作為光源，介隔光罩，以曝光量40 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光。其後，使用自動顯影裝置（瀧澤產業（股）製造的「AD-2000（商品名）」），利用0.3重量%四甲基銨水溶液進行50秒顯影，繼而利用水進行30秒淋洗。進而，使用烘箱（商品名IHPS-222，愛斯佩克（Espec）（股）製造），於空氣中於溫度230℃下加熱30分鐘，獲得如下的帶遮光隔壁的基板，其於玻璃基板上使高度2.0 μm、寬度20 μm、每1.0 μm厚度的OD值為2.0的隔壁形成為短邊40 μm、長邊280 μm的間距間隔的格子狀圖案。
其後，於由遮光隔壁隔開的區域，以硬化後的膜厚成為2.5 μm的方式塗佈藉由製備例4而獲得的彩色濾光片形成材料（CF-1），進行真空乾燥。介隔以於帶隔壁的基板的開口部的區域被曝光的方式設計的光罩，以曝光量40 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光。於藉由0.3重量%四甲基銨水溶液進行50秒顯影後，於230℃下進行30分鐘加熱硬化，於由隔壁隔開的區域形成高度2.5 μm、短邊40 μm、長邊280 μm的彩色濾光片層。
其後，旋塗藉由製備例6而獲得的低折射率層形成材料，使用加熱板（商品名SCW-636，大日本網屏製造（股）製造），於溫度90℃下乾燥2分鐘，製作乾燥膜。進而，使用烘箱（商品名IHPS-222，愛斯佩克（Espec）（股）製造），於空氣中、於溫度90℃下加熱30分鐘，形成高度1.0 μm、折射率1.25的低折射率層。
進而，其後於低折射率層上，使用電漿CVD裝置（PD-220NL，莎姆克（samco）公司製造），形成相當於高度50 nm～1,000 nm的無機保護層I的膜厚300 nm的氮化矽膜。
於該些之上，藉由與實施例32同樣的方法，獲得如下的帶隔壁的基板，其使高度10 μm、寬度20 μm的隔壁形成為與短邊40 μm、長邊280 μm的間距間隔的遮光隔壁同樣的格子狀圖案。於由所獲得的帶隔壁的基板的隔壁隔開的區域，於氮氣環境下，使用噴墨法塗佈藉由製備例2而獲得的顏色變換發光材料組成物（CL-2），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素，獲得圖9所示的結構的帶隔壁的基板。
實施例63 於藉由與實施例61同樣的方法而獲得的形成有厚度2.5 μm、短邊40 μm、長邊280 μm的彩色濾光片層的、畫素形成前的帶隔壁的基板的彩色濾光片上，使用電漿CVD裝置（PD-220NL，莎姆克（samco）公司製造），形成相當於厚度50 nm～1,000 nm的無機保護層III的膜厚300 nm的氮化矽膜。進而，於無機保護層III上，於氮氣環境下，使用噴墨法塗佈藉由製備例2而獲得的顏色變換發光材料組成物（CL-2），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素，獲得圖11所示的結構的帶隔壁的基板。
實施例64 於藉由與實施例61同樣的方法而獲得的形成有厚度2.5 μm、短邊40 μm、長邊280 μm的彩色濾光片的、畫素形成前的帶隔壁的基板的彩色濾光片上，塗佈藉由製備例7而獲得的黃色有機保護層形成材料（YL-1），進行真空乾燥。介隔以於帶隔壁的基板的開口部的區域被曝光的方式設計的光罩，以曝光量30 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）進行曝光。於藉由0.3重量%四甲基銨水溶液進行50秒顯影後，於230℃下進行30分鐘加熱硬化，形成厚度1.0 μm、短邊40 μm、長邊280 μm的黃色有機保護層。進而，於黃色有機保護層上，於氮氣環境下，使用噴墨法塗佈藉由製備例2而獲得的顏色變換發光材料組成物（CL-2），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素，獲得圖11所示的結構的帶隔壁的基板。
將各實施例及比較例的結構示於表3～表5中。
[表3]
   隔壁用 樹脂 組成物 隔壁 畫素 遮光隔壁 彩色濾光片層 低折射率層 保護層
樹脂 含有率 （重量%） 白色顏料 含有率 （重量%） 理論 氧化銀及 /或銀粒子 含有率 （重量%） 理論 醌化合物 含有率 （重量%） 其他顏料 含有率 （重量%） 撥液劑 含有率 （重量%） 顏色變換 發光材料 組成物 畫素 高度 （μm） 遮光隔壁 高度 （μm） 彩色濾光片 高度 （μm） 低折射率層 高度 （μm） 低折射率層 折射率 無機保護層 高度 （nm） 黃色有機保護層 高度 （nm）
實施例 30 P-1 33.6 40 1.0 0.25 - 0.5 CL-1 5.0 - - - - - -
實施例 31 P-1 33.6 40 1.0 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 32 P-2 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 33 P-3 34.2 40 0.5 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 34 P-4 34.4 40 0.2 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 35 P-5 23.8 40 5.0 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 36 P-6 34.4 40 0.5 0.10 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 37 P-7 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 38 P-8 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 39 P-9 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 40 P-10 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 41 P-11 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 42 P-12 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 43 P-13 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 44 P-14 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 45 P-15 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 46 P-16 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 47 P-17 34.2 40 0.7 0.05 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
[表4]
   隔壁用 樹脂 組成物 隔壁 畫素 遮光隔壁 彩色濾光片層 低折射率層 保護層
樹脂 含有率 （重量%） 白色顏料 含有率 （重量%） 理論 氧化銀及 /或銀粒子 含有率 （重量%） 理論 氧化銀及 /或銀粒子 含有率 （重量%） 其他顏料 含有率 （重量%） 撥液劑 含有率 （重量%） 顏色變換 發光材料 組成物 畫素 高度 （μm） 遮光隔壁 高度 （μm） 彩色濾光片 高度 （μm） 低折射率層 高度 （μm） 低折射率層 折射率 無機保護層 高度 （nm） 黃色有機保護層 高度 （nm）
實施例 48 P-18 30.2 40 0.7 4 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 49 P-19 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 GL-2 5.0 - - - - - -
實施例 50 P-20 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 51 P-21 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 52 P-22 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 53 P-23 38.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 54 P-24 34.4 40 0.7 0.25 - - CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 55 P-25 33.8 40 0.7 0.25 0.15 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 56 P-26 33.8 40 0.7 0.25 0.15 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 57 P-27 33.0 40 0.7 0.25 0.50 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
[表5]
   隔壁用 樹脂 組成物 隔壁 畫素 遮光隔壁 彩色濾光片層 低折射率層 保護層
樹脂 含有率 （重量%） 白色顏料 含有率 （重量%） 理論 氧化銀及 /或銀粒子 含有率 （重量%） 理論 氧化銀及 /或銀粒子 含有率 （重量%） 其他顏料 含有率 （重量%） 撥液劑 含有率 （重量%） 顏色變換 發光材料 組成物 畫素 高度 （μm） 遮光隔壁 高度 （μm） 彩色濾光片 高度 （μm） 低折射率層 高度 （μm） 低折射率層 折射率 無機保護層 高度 （nm） 黃色有機保護層 高度 （nm）
實施例 58 P-28 58.8 - 0.7 0.25 1.0 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 59 P-29 52.8 - 0.7 0.25 6.0 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
實施例 60 P-2 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 2.0 - - - - -
實施例 61 P-2 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - 2.5 - - - -
實施例 62 P-2 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 2.0 2.5 10 1.25 300 -
實施例 63 P-2 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - 2.5 - - 300 -
實施例 64 P-2 34.0 40 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - 2.5 - - - 1000.0
比較例 4 P-30 58.8 - 0.7 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
比較例 5 P-31 34.6 40 - 0.25 - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
比較例 6 P-32 34.0 40 1.0 - - 0.5 CL-2 5.0 - - - - - -
以下示出各實施例及比較例的評價方法。
＜低折射率層的折射率＞ 藉由旋轉器將各實施例中使用的低折射率層形成材料塗佈於矽晶圓上，使用加熱板（商品名SCW-636，大日本網屏製造（股）製造），於溫度90℃下乾燥2分鐘。其後，使用烘箱（IHPS-222；愛斯佩克（Espec）（股）製造），於空氣中於90℃下加熱30分鐘，製作硬化膜。使用稜鏡偶合器（PC-2000（麥克恩（Metricon）（股）製造）），於大氣壓下、20℃的條件下，自與硬化膜面垂直的方向照射波長550 nm的光，測定折射率，四捨五入至小數點以下第三位。
＜耐裂紋性＞ 以加熱後的膜厚分別成為10 μm、15 μm、20 μm及25 μm的方式旋塗各實施例及比較例中使用的隔壁形成樹脂組成物。關於實施例36～實施例60、實施例62～實施例71及比較例5～比較例8中使用的隔壁形成樹脂組成物之後的步驟，於曝光時不介隔光罩地對整體進行曝光，除此以外，於與各實施例及比較例相同的條件下進行加工，於玻璃基板上製作整體膜。關於實施例61中使用的隔壁形成樹脂組成物之後的步驟，於不曝光地進行顯影後進行漂白，除此以外，於與實施例62相同的條件下進行加工，於玻璃基板上製作整體膜。將所獲得的整體膜作為藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板的隔壁的模型，目視觀察具有整體膜的玻璃基板，評價整體膜有無裂紋。於確認到即便一個裂紋的情況下，亦判斷為該膜厚無耐裂紋性。例如，於膜厚15 μm時無裂紋、膜厚20 μm時有裂紋的情況下，將耐裂紋膜厚判定為「≧15 μm」。另外，將即便為25 μm亦無裂紋時的耐裂紋膜厚判定為「≧25 μm」，將即便為10 μm亦有裂紋時的耐裂紋膜厚判定為「＜10 μm」，作為耐裂紋性。
＜解析度＞ 使用旋塗機（商品名1H-360S，米卡薩（Mikasa）（股）製造），將各實施例及比較例中使用的隔壁用樹脂組成物以加熱後的膜厚成為10 μm的方式旋塗於10 cm見方的無鹼玻璃基板上，使用加熱板（商品名SCW-636，大日本網屏製造（股）製造），於溫度100℃下乾燥3分鐘，製作膜厚10 μm的乾燥膜。
針對所製作的乾燥膜，使用平行光遮罩對準曝光機（商品名PLA-501F，佳能（Cannon）（股）製造），將超高壓水銀燈作為光源，介隔具有100 μm、80 μm、60 μm、50 μm、40 μm、30 μm及20 μm的各寬度的線與空間圖案的遮罩，於曝光量300 mJ/cm2 （g射線、h射線、i射線）下，以100 μm的間隙進行曝光。其後，使用自動顯影裝置（瀧澤產業（股）製造的「AD-2000（商品名）」），使用0.045重量%氫氧化鉀水溶液進行100秒噴淋顯影，繼而使用水進行30秒淋洗。
使用調整為倍率100倍的顯微鏡，對顯影後的圖案進行放大觀察，將於未曝光部中未確認到殘渣的圖案中最窄的線寬作為解析度。其中，將於100 μm寬的圖案附近的未曝光部亦有殘渣的情況視為「＞100 μm」。
＜反射率＞ 對於實施例30～實施例52、實施例54～實施例59及比較例4～比較例6中使用的隔壁形成樹脂組成物，於曝光時不介隔光罩地對整體進行曝光，除此以外，於與各實施例及比較例相同的條件下進行加工，於玻璃基板上製作高度10 μm的整體膜。關於實施例53中使用的隔壁形成樹脂組成物，於不曝光地進行顯影後進行漂白，除此以外，於與實施例53相同的條件下進行加工，於玻璃基板上製作高度10 μm的整體膜。關於所獲得的具有整體膜的玻璃基板，使用分光測色計（商品名CM-2600d，柯尼卡美能達（Konica Minolta）（股）製造），自整體膜側利用SCI模式測定波長450 nm、550 nm及630 nm下的反射率。其中，於整體膜中產生裂紋或褶皺的情況下，因龜裂等原因而無法獲得準確的值，因此未實施反射率的測定。
＜OD值＞ 作為藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板的隔壁的模型，與反射率的評價同樣地於玻璃基板上製作高度10 μm的整體膜。關於所獲得的具有整體膜的玻璃基板，使用光學濃度計（日立高科技製造的U-4100）測定入射光及透過光的強度，藉由上文所述的式（1）算出波長450 nm、550 nm及630 nm下OD值。再者，關於OD值，分別測定加熱步驟前的整體膜與加熱步驟後的OD值，包含其差在內，記載於表6～表8中。
另外，關於實施例60及實施例62，作為遮光隔壁（A-2）的模型，同樣地於玻璃基板上製作整體膜。關於所獲得的具有整體膜的玻璃基板，使用光學濃度計（日立高科技製造的U-4100）測定入射光及透過光的強度，藉由上文所述的式（1）算出。
＜耐候性＞ 作為藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板的隔壁的模型，與反射率的評價同樣地於玻璃基板上製作高度10 μm的整體膜。關於所獲得的具有整體膜的玻璃基板，使用分光測色計（商品名CM-2600d，柯尼卡美能達（Konica Minolta）（股）製造），自整體膜側利用SCI模式測定色度（L*值、a*及b*值）。其後，將各具有整體膜的玻璃基板放置於台式氙加速耐候性試驗機（商品名Q-SUN Xe-1，Q-Lab公司製造），以波長340 nm的光於照射量0.42 W/m2 、腔室溫度45℃的條件下進行100 h耐候性試驗。其後，對各具有整體膜的玻璃基板，再次自整體膜側利用SCI模式測定色度（L*值、a*及b*值），藉由以下式（2）求出反射色度座標的變化量ΔE。
ΔE={（ΔL*）2 +（Δa*）2 +（Δb*）2 }1/2 …（2） 藉由下述基準對算出的ΔE進行耐候性評價。ΔE越小，表示耐候性越高。
A：ΔE＜3.0 B：3.0≦ΔE≦6.0 C：6.0≦ΔE
＜錐角＞ 於各實施例及比較例中，使用光學顯微鏡（FE-SEM（S-4800）；日立製作所（股）製造），以加速電壓3.0 kV觀測畫素形成前的帶隔壁的基板的任意的剖面，測定錐角。
＜表面接觸角＞ 作為藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板的隔壁的模型，與反射率的評價同樣地於玻璃基板上製作高度10 μm的整體膜。關於所獲得的整體膜的表面，使用協和界面科學（股）製造的DM-700，微量注射器：協和界面科學（股）製造的接觸角計用鐵氟龍（Teflon）（註冊商標）塗佈針22G，於25℃下、大氣中，依據JIS R3257（製定年月日=1999/04/20）規定的基板玻璃表面的潤濕性試驗方法，測定表面接觸角。其中，使用丙二醇單甲醚乙酸酯來代替水，測定整體膜的表面與丙二醇單甲醚乙酸酯的接觸角。
＜噴墨塗佈性＞ 於藉由各實施例及比較例所獲得的、形成畫素之前的帶隔壁的基板中，針對由格子狀的隔壁包圍的畫素部分，將PGMEA作為墨水，使用噴墨塗佈裝置（英捷特蘭博（InkjetLabo），群集科技（Cluster Technology）（股）製造），進行噴墨塗佈。每一個格子狀圖案塗佈160 pL的PGMEA，觀察有無潰決（墨水越過隔壁而混入至相鄰的畫素部分中的現象），藉由下述基準來評價噴墨塗佈性。潰決越少，表示撥液性能越高，噴墨塗佈性越優異。
A：墨水未自畫素內溢出。 B：於一部分中墨水自畫素內溢出至隔壁的上表面。 C：於整個面上墨水自畫素內溢出至隔壁的上表面。
＜高度＞ 關於藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板的各層，使用薩氟慕（SURFCOM）觸針式膜厚測定裝置，測定各層形成前後的膜厚，算出其差分，藉此測定高度。
另外，關於實施例62～實施例63，使用橫截面拋光機等研磨裝置，使與基底基板垂直的剖面露出，利用掃描式電子顯微鏡或穿透式電子顯微鏡對剖面進行放大觀察，藉此測定各無機保護層的高度。
＜低溫加熱後的OD值變化＞ 使用各實施例及比較例中使用的隔壁形成用樹脂組成物，將最後的加熱條件變更為空氣中、100℃下、60分鐘，除此以外，以與所述OD值的評價相同的方式於玻璃基板上製作高度10 μm的整體膜。關於所獲得的整體膜，與所述OD值的評價同樣地，使用光學濃度計（日立高科技製造的U-4100）測定入射光及透過光的強度後，算出OD值。分別測定加熱步驟前的整體膜及加熱步驟後的波長450 nm的OD值，並算出其差，藉此，藉由下述來基準評價低溫加熱時的OD值變化。
A：ΔOD值＞1.5 B：0.5≦ΔOD值≦1.5 C：ΔOD值＜0.5
＜低溫硬化性＞ 使用各實施例及比較例中使用的隔壁形成用樹脂組成物，將最後的加熱條件變更為空氣中、100℃下、60分鐘，除此以外，以相同的方式形成隔壁。對於所獲得的帶隔壁的基板，與所述噴墨塗佈性的評價同樣地，將1,6-己二醇二丙烯酸酯作為墨水，向隔壁內進行噴墨塗佈。其後，在1小時後、3小時後對畫素內進行觀察，藉由下述基準來評價隔壁的低溫硬化性。越無向鄰接畫素的滲出，則表示隔壁的低溫硬化性越優異。
A：自噴墨塗佈起3小時後，亦未見墨水向鄰接畫素的滲出 B：自噴墨塗佈起1小時後，未見墨水向鄰接畫素的浸出，但3小時後可見浸出 C：剛剛噴墨塗佈後，即刻可見墨水向鄰接畫素的滲出
＜保存穩定性＞ 關於各實施例及比較例中使用的隔壁形成用樹脂組成物，於剛剛製備後、自製備起在25℃下保管3天後、及保管7天後，進行與所述解析度的評價同樣的評價，藉此，藉由下述基準來評價保存穩定性。
A：剛剛製備後、在25℃下保管3天後、及在25℃下保管7天後進行的評價中，分別能夠加工的解析度未變化 B：剛剛製備後、及在25℃下保管3天後進行的評價中，分別能夠加工的解析度未變化，但在25℃下保管7天後進行的評價中，能夠加工的解析度惡化 C：與剛剛製備後相比，在25℃下保管3天後進行的評價中，能夠加工的解析度惡化
＜亮度＞ 將搭載有市售的LED背光（峰值波長465 nm）的面狀發光裝置作為光源，以畫素部成為光源側的方式，設置藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板。於所述面狀發光裝置中流通30 mA的電流而點亮LED元件，使用分光放射亮度計（CS-1000，柯尼卡美能達（Konica Minolta）公司製造），測定基於CIE1931標準的亮度（單位：cd/cm2 ），作為初始亮度。其中，亮度的評價是藉由將實施例69的初始亮度作為標準100的相對值進行。
另外，於室溫（23℃）下，於將LED元件點亮48小時後，同樣地測定亮度，評價亮度的經時變化。其中，亮度的評價是藉由將實施例69的初始亮度作為標準100的相對值進行。
＜顏色特性＞ 於市售的白色反射板上，以將畫素配置於白色反射板側的方式設置藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板。使用分光測色計（CM-2600d，柯尼卡美能達（Konica Minolta）公司製造，測定直徑Φ8 mm），自帶隔壁的基板的基底基板側照射光，測定包含正反射光的光譜。
幾乎可再現自然界的顏色的顏色標準BT.2020所定義的色域將色度圖中所示的光譜軌跡上的紅、綠及藍規定為三原色，紅、綠及藍的波長分別相當於630 nm、532 nm及467 nm。根據所獲得的反射光譜的470 nm、530 nm及630 nm的三個波長的反射率（R），藉由以下基準來評價畫素的發光色。
A：R530 /（R630 +R530 +R470 ）≧0.55 B：R530 /（R630 +R530 +R470 ）＜0.55。
＜顯示特性＞ 基於以下基準來評價將藉由各實施例及比較例而獲得的帶隔壁的基板與有機EL元件組合而製作的顯示裝置的顯示特性。
A：綠色顯示非常鮮豔，為鮮明、對比度優異的顯示裝置。 B：雖然色彩看起來稍微不自然，但為無問題的顯示裝置。
＜混色＞ 於藉由各實施例及比較例所獲得的形成畫素前的帶隔壁的基板中，於由格子狀的隔壁包圍的畫素部分的一部分，使用噴墨法塗佈顏色變換發光材料組成物（CL-2），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素。其後，於由格子狀的隔壁包圍的畫素部分中，於塗佈顏色變換發光材料組成物（CL-2）的區域的相鄰區域，使用噴墨法塗佈顏色變換發光材料組成物（CL-3），於100℃下乾燥30分鐘，形成厚度5.0 μm的畫素。
另一方面，製作具有與由格子狀的隔壁包圍的畫素部分相同的寬度的藍色有機EL單元，使所述帶隔壁的基板與藍色有機EL單元相向，藉由密封劑進行貼合，獲得圖15所示的結構的顯示裝置。
於圖15中的藍色有機EL單元11中，於僅使在由顏色變換發光材料組成物（CL-2）形成的畫素3（CL-2）的正下方貼合的藍色有機EL單元點亮的狀態下，針對由顏色變換發光材料組成物（CL-3）形成的畫素3（CL-3）部分，使用顯微分光光度計LVmicro-V（蘭達維肖恩（Lambda Vision）（股）製造），測定波長630 nm下的吸光強度A（630 nm）。吸光強度A（630 nm）的值越小，表示越不易發生混色。藉由下述判定基準來判定混色。
A：A（630 nm）＜0.01 B：0.01≦A（630 nm）≦0.5 C：0.5＜A（630 nm）。
將各實施例及比較例評價結果示於表6～表8中。
[表6]
   耐裂紋性 解析度 （μm） 反射率（%） 加熱步驟後OD值 加熱步驟 前後的 OD值差 （450 nm） 耐候性 錐角 （°） 表面 接觸角 （°） 噴墨 塗佈性 低溫加熱 後的OD值 變化 低溫 硬化性 保存 穩定性 亮度（相對值） 顏色特性 顯示 特性 混色
450 nm 550 nm 630 nm 450 nm 550 nm 630 nm 初期 48 小時後 色純度 判定
實施例30 ≧25 μm 30 26 50 52 3.70 1.63 1.30 2.90 A 85 25 A A C A 185 174 0.20 B B A
實施例31 ≧25 μm 30 26 50 52 3.70 1.63 1.30 2.90 A 85 25 A A C A 165 162 0.20 B B A
實施例32 ≧25 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 86 25 A A C A 172 161 0.22 B B A
實施例33 ≧25 μm 30 40 62 63 3.22 1.25 1.00 2.42 A 87 25 A B C A 177 170 0.24 B B A
實施例34 ≧25 μm 30 55 69 68 2.50 1.00 0.95 1.70 A 87 25 A C C A 187 178 0.29 B B A
實施例35 ≧25 μm 30 12 38 47 4.50 3.50 2.20 3.70 B 85 25 A A C A 142 133 0.12 B B A
實施例36 ≧25 μm 30 46 65 69 3.10 1.15 1.04 2.30 A 85 25 A B C A 180 169 0.26 B B A
實施例37 ≧25 μm 30 37 58 60 3.30 1.35 1.15 2.50 A 86 25 A A C A 175 165 0.24 B B A
實施例38 ≧25 μm 30 35 57 58 3.28 1.33 1.17 2.48 A 84 24 A A C A 174 163 0.23 B B A
實施例39 ≧25 μm 30 45 64 64 2.65 1.15 0.97 1.85 A 85 25 A A C A 185 176 0.26 B B A
實施例40 ≧25 μm 30 32 54 57 3.51 1.56 1.25 2.71 A 87 25 A A C B 173 165 0.22 B B A
實施例41 ≧25 μm 50 28 50 55 3.60 1.60 1.30 2.80 A 92 25 A A C B 169 158 0.21 B B A
實施例42 ≧25 μm 50 28 50 55 3.60 1.60 1.30 2.80 A 90 25 A A C A 169 158 0.21 B B A
實施例43 ≧25 μm 50 35 58 60 3.37 1.47 1.15 2.57 A 89 24 A A C A 176 167 0.23 B B A
實施例44 ≧25 μm 50 32 50 55 3.60 1.60 1.30 2.80 A 90 25 A B C A 169 158 0.23 B B A
實施例45 ≧25 μm 50 25 50 55 3.70 1.63 1.30 2.90 A 95 21 A A C C 169 158 0.19 B B A
實施例46 ≧25 μm 50 35 58 60 3.37 1.47 1.15 2.57 A 91 24 A A C B 176 167 0.23 B B A
實施例47 ≧25 μm 30 42 64 66 3.12 1.14 0.95 2.32 B 90 25 A C C A 178 168 0.24 B B A
[表7]
   耐裂紋性 解析度 （μm） 反射率（%） 加熱步驟後OD值 加熱步驟 前後的 OD值差 （450 nm） 耐候性 錐角 （°） 表面 接觸角 （°） 噴墨 塗佈性 低溫加熱 後的OD值 變化 低溫 硬化性 保存 穩定性 亮度（相對值） 顏色特性 顯示 特性 混色
450 nm 550 nm 630 nm 450 nm 550 nm 630 nm 初期 48 小時後 色純度 判定
實施例48 ≧25 μm 50 31 55 56 3.52 1.54 1.25 2.72 A 100 21 A A C C 175 165 0.22 B B A
實施例49 ≧20 μm 30 35 57 54 3.41 1.48 1.10 2.61 A 87 25 A A C A 183 174 0.24 B B A
實施例50 ≧20 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 80 40 A A A A 172 161 0.22 B B A
實施例51 ≧20 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 87 30 A A B A 172 161 0.22 B B A
實施例52 ≧15 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 70 42 A A A A 172 161 0.22 B B A
實施例53 ≧20 μm 20 40 63 62 3.35 1.25 1.05 2.55 A 84 15 B A C B 177 167 0.24 B B A
實施例54 ≧25 μm 30 32 55 57 3.52 1.57 1.24 2.72 A 87 5 C A C A 175 165 0.22 B B A
實施例55 ≧25 μm 30 25 25 26 3.70 2.20 1.70 2.70 A 94 25 A A C A 162 153 0.33 B B A
實施例56 ≧25 μm 40 20 30 45 3.40 3.50 1.52 2.70 A 92 25 A A C A 163 155 0.33 B B A
實施例57 ≧25 μm 30 25 45 46 4.05 2.30 1.55 3.25 A 90 25 A A C A 161 150 0.22 B B A
[表8]
   耐裂紋性 解析度 （μm） 反射率（%） 加熱步驟後OD值 加熱步驟 前後的 OD值差 （450 nm） 耐候性 錐角 （°） 表面 接觸角 （°） 噴墨 塗佈性 低溫加熱 後的OD值 變化 低溫 硬化性 保存 穩定性 亮度（相對值） 顏色特性 顯示 特性 混色
450 nm 550 nm 630 nm 450 nm 550 nm 630 nm 初期 48 小時後 色純度 判定
實施例58 ≧25 μm 20 5 5 5 2.00 2.50 2.00 1.00 A 90 24 A B C A 100 90 0.33 B B A
實施例59 ≧25 μm 20 5 5 5 2.00 3.25 1.65 1.00 A 90 24 A B C A 100 90 0.33 B B A
實施例60 ≧25 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 86 25 A A C A 175 162 0.48 B A A
實施例61 ≧25 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 86 25 A A C A 165 157 0.63 A B A
實施例62 ≧25 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 86 25 A A C A 185 175 0.70 A A A
實施例63 ≧25 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 86 25 A A C A 186 175 0.69 A B A
實施例64 ≧25 μm 30 31 54 56 3.52 1.57 1.26 2.72 A 86 25 A A C A 166 153 0.69 A A A
比較例4 ≧20 μm 20 7 7 7 1.02 0.02 0.01 1.00 A 90 26 A B C A 125 112 0.33 B B C
比較例5 ≧25 μm 30 80 77 70 0.80 1.04 1.15 0 A 89 27 A C C A 195 185 0.35 B B B
比較例6 ≧25 μm 30 65 60 54 1.10 1.15 1.16 0.30 B 88 25 A C C A 177 180 0.36 B B A
1:基底基板 2:隔壁 3:畫素 3（CL-2）:由顏色變換發光材料組成物（CL-2）所形成的畫素 3（CL-3）:由顏色變換發光材料組成物（CL-3）所形成的畫素 4:遮光隔壁 5:彩色濾光片 6:低折射率層 7:無機保護層I 8:無機保護層II 9:無機保護層III及/或黃色有機保護層 10:無機保護層IV及/或黃色有機保護層 11:選自有機EL單元、迷你LED單元及微型LED單元中的發光光源 12:藍色有機EL單元 H:隔壁的厚度 L:隔壁的寬度 θ:錐角
圖1是表示具有經圖案形成的隔壁的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖2是表示具有經圖案形成的隔壁及含有顏色變換發光材料的畫素的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖3是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料及遮光隔壁的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖4是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料及彩色濾光片的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖5是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料、遮光隔壁及彩色濾光片的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖6是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料及低折射率層的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖7是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料、低折射率層及無機保護層I的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖8是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料、低折射率層及無機保護層I的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖9是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料、遮光隔壁、彩色濾光片、低折射率層及無機保護層I的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖10是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料、低折射率層及無機保護層II的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖11是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料、彩色濾光片、無機保護層III及/或黃色有機保護層的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖12是表示具有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料、無機保護層IV及/或黃色有機保護層的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖13是表示具有含有經圖案形成的隔壁以及選自有機EL單元、迷你LED單元、微型LED單元中的發光光源的畫素的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖14是表示具有含有經圖案形成的隔壁、顏色變換發光材料以及選自有機EL單元、迷你LED單元、微型LED單元中的發光光源的畫素的本發明的帶隔壁的基板的一態樣的剖面圖。 圖15是表示實施例中用於混色評價的顯示裝置的結構的剖面圖。
1:基底基板
2:隔壁
H:隔壁的厚度
L:隔壁的寬度
θ:錐角

Claims (17)

  1. 一種樹脂組成物，含有：樹脂、光聚合起始劑或醌二疊氮化物、白色顏料及/或遮光顏料、有機銀化合物、以及還原劑。
  2. 如請求項1所述的樹脂組成物，其中所述還原劑是分子內含有兩個以上的酚性羥基的化合物或含有烯二醇基的化合物。
  3. 如請求項1或請求項2所述的樹脂組成物，其中所述有機銀化合物為下述通式（1）所表示的化合物，
    Figure 03_image027
    通式（1）中，R1 表示氫或碳數1～30的有機基。
  4. 如請求項1或請求項2所述的樹脂組成物，其中所述有機銀化合物為至少具有下述通式（2）所表示的結構的聚合物化合物，
    Figure 03_image029
    通式（2）中，R2 及R3 分別獨立地表示氫或碳數1～30的有機基。
  5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的樹脂組成物，其中所述還原劑為下述通式（3）所表示的對苯二酚化合物，
    Figure 03_image031
    通式（3）中，R4 、R5 、R6 及R7 分別獨立地表示氫、羥基、或碳數1～30的有機基。
  6. 如請求項1至請求項5中任一項所述的樹脂組成物，其中所述樹脂為具有苯乙烯基的聚矽氧烷。
  7. 如請求項1至請求項6中任一項所述的樹脂組成物，更含有具有光自由基聚合性基的撥液化合物。
  8. 一種遮光膜，其是使如請求項1至請求項7中任一項所述的樹脂組成物硬化而成。
  9. 一種帶隔壁的基板，其是藉由如請求項1至請求項7中任一項所述的樹脂組成物而於基底基板上具有（A-1）經圖案形成的隔壁的帶隔壁的基板，其中波長450 nm下的每10 μm厚度的反射率為10%～60%，波長450 nm下的每10 μm厚度的光學密度值為1.5～5.0。
  10. 一種帶隔壁的基板，其是於基底基板上具有（A-1）經圖案形成的隔壁的帶隔壁的基板，其中所述經圖案形成的隔壁含有樹脂、白色顏料及/或遮光顏料、氧化銀及/或銀粒子、以及醌化合物。
  11. 如請求項9所述的帶隔壁的基板，其中所述（A-1）經圖案形成的隔壁含有樹脂、白色顏料、以及氧化銀及/或銀粒子。
  12. 如請求項9至請求項11中任一項所述的帶隔壁的基板，其中所述（A-1）經圖案形成的隔壁更含有撥液化合物，（A-1）經圖案形成的隔壁中的撥液化合物的含量為0.01重量%～10重量%。
  13. 如請求項9至請求項12中任一項所述的帶隔壁的基板，其中於所述基底基板與（A-1）經圖案形成的隔壁之間更具有（A-2）每1.0 μm厚度的光學密度值為0.5以上的經圖案形成的遮光隔壁。
  14. 如請求項9至請求項13中任一項所述的帶隔壁的基板，更具有由所述（A-1）經圖案形成的隔壁隔開而排列的（B）含有顏色變換發光材料的畫素層。
  15. 如請求項14所述的帶隔壁的基板，其中所述顏色變換發光材料含有選自量子點及吡咯亞甲基衍生物中的螢光體。
  16. 如請求項14或請求項15所述的帶隔壁的基板，其中於所述基底基板與（B）含有顏色變換發光材料的畫素層之間更具有厚度1 μm～5 μm的彩色濾光片。
  17. 一種顯示裝置，包括：如請求項9至請求項16中任一項所述的帶隔壁的基板；以及選自液晶單元、有機電致發光單元、迷你發光二極體單元及微型發光二極體單元中的發光光源。
TW110110900A 2020-03-30 2021-03-25 樹脂組成物、遮光膜及帶隔壁的基板 TW202138459A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020-061244 2020-03-30
JP2020061244 2020-03-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202138459A true TW202138459A (zh) 2021-10-16

Family

ID=77929869

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110110900A TW202138459A (zh) 2020-03-30 2021-03-25 樹脂組成物、遮光膜及帶隔壁的基板

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7115635B2 (zh)
KR (1) KR20220161259A (zh)
CN (1) CN115427514B (zh)
TW (1) TW202138459A (zh)
WO (1) WO2021200357A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240141756A (ko) 2022-02-16 2024-09-27 도레이 카부시키가이샤 수지 조성물, 차광막, 차광막의 제조 방법 및 격벽 구비 기판, 표시 장치

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5393638A (en) * 1990-06-12 1995-02-28 Canon Kabushiki Kaisha Image forming method
JP2000131683A (ja) 1998-10-29 2000-05-12 Hitachi Ltd カラー表示装置
JP4352509B2 (ja) 1999-06-07 2009-10-28 東レ株式会社 感光性ペーストおよびディスプレイ用部材の製造方法
JP3832163B2 (ja) 1999-12-06 2006-10-11 コニカミノルタホールディングス株式会社 熱現像感光材料の画像形成方法
JP4401196B2 (ja) * 2003-03-10 2010-01-20 富士フイルム株式会社 染料含有硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
GB0422386D0 (en) 2004-10-08 2004-11-10 Qinetiq Ltd Active filler particles in inks
JP4197177B2 (ja) 2005-03-18 2008-12-17 東京応化工業株式会社 ブラックマトリックス形成用光硬化性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム、ブラックマトリックスの形成方法、ブラックマトリックス及びそのブラックマトリックスを有するプラズマディスプレイパネル
JP2008051934A (ja) * 2006-08-23 2008-03-06 Fujifilm Corp 感光性組成物及びそれを用いた感光性転写材料、表示装置用遮光膜及びその製造方法、遮光膜付基板並びに表示装置
JP2009244383A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 液晶表示装置
US9566569B2 (en) 2015-05-11 2017-02-14 Eastman Kodak Company Metal catalytic compositions and articles therefrom
SG11201802613SA (en) * 2015-09-30 2018-04-27 Toray Industries Negative type coloring photosensitive resin composition, cured film, element, and display device
KR102247840B1 (ko) * 2016-03-18 2021-05-03 제이에스알 가부시끼가이샤 표시 소자용 기판, 표시 소자용 기판의 제조 방법 및 표시 소자
US10889755B2 (en) * 2016-11-22 2021-01-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive resin composition, complex, laminated structure and display device, and electronic device including the same
CN115356873A (zh) * 2018-07-05 2022-11-18 东丽株式会社 树脂组合物、遮光膜、遮光膜的制造方法及带隔壁的基板

Also Published As

Publication number Publication date
CN115427514B (zh) 2024-01-02
KR20220161259A (ko) 2022-12-06
CN115427514A (zh) 2022-12-02
JP7115635B2 (ja) 2022-08-09
WO2021200357A1 (ja) 2021-10-07
JPWO2021200357A1 (zh) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI783160B (zh) 樹脂組成物、遮光膜及遮光膜的製造方法
JP7306264B2 (ja) ネガ型感光性着色組成物、硬化膜、それを用いたタッチパネル
CN106415393B (zh) 负型感光性树脂组合物、使其固化而成的固化膜及其制造方法、以及具有其的光学设备及背面照射型cmos图像传感器
KR20120102090A (ko) 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그것으로부터 형성된 경화막, 및 경화막을 갖는 소자
JP2021161401A (ja) 樹脂組成物、遮光膜、遮光膜の製造方法および隔壁付き基板
JP2021005083A (ja) 黄色カラーフィルターおよび黄色カラーフィルター付き基板
JP5444704B2 (ja) 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP7115635B2 (ja) 樹脂組成物、遮光膜、および隔壁付き基板
JP2021162860A (ja) ネガ型感光性着色組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、隔壁付き基板、および画像表示装置
WO2023157713A1 (ja) 樹脂組成物、遮光膜、遮光膜の製造方法および隔壁付き基板、表示装置
WO2023048016A1 (ja) 樹脂組成物、遮光膜、および隔壁付き基板
JP2023119574A (ja) 樹脂組成物、遮光膜、遮光膜の製造方法、隔壁付き基板および表示装置
JP2023031448A (ja) 隔壁付き基板、波長変換基板、波長変換基板の製造方法および表示装置