TW202134755A - 光學積層體、撓性圖像顯示裝置 - Google Patents

光學積層體、撓性圖像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種可構成撓性圖像顯示裝置且彎曲後不易視認變形的光學積層體。光學積層體1依序包括前表面板2、第一黏著劑層3、圓偏光板4、第二黏著劑層5、及背面板6。該光學積層體將任意的彎曲軸作為中心，以具有前表面板之側成為內側的方式、且以具有前表面板之側彼此的表面間距離為3.0 mm並相向的方式彎曲的狀態下，在溫度60℃且相對濕度90%的條件下靜置6小時，恢復至彎曲前的狀態時，彎曲部的第一黏著劑層與第二黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT1 ）、非彎曲部的第一黏著劑層與第二黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT2 ）、彎曲前的第一黏著劑層與第二黏著劑層的合計厚度（T0 ）的關係滿足下述式（1）。（|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100≦3.0···（1）

Description

光學積層體、撓性圖像顯示裝置
本發明是有關於一種光學積層體、撓性圖像顯示裝置。
近年來，不斷推進能夠折疊的撓性圖像顯示裝置的開發。為了即便反覆進行圖像顯示裝置的折疊與展開亦可維持顯示面的平坦性，需要不僅圖像顯示元件耐受變形，而且積層於圖像顯示元件上的偏光板等膜亦耐受變形。先前提出一種抑制折疊的彎曲部產生褶皺的圖像顯示裝置（例如，參照專利文獻1）。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2019-91030
[發明所欲解決之課題] 構成撓性圖像顯示裝置的光學積層體容易於彎曲部殘留變形，於該情況下，反射像歪曲，圖像的視認性變差。因此，本發明的目的在於提供一種可構成撓性圖像顯示裝置且彎曲後不易視認變形的光學積層體。另外，本發明的目的在於提供一種包括此種光學積層體的撓性圖像顯示裝置。
[解決課題之手段] 本發明提供一種光學積層體，其依序包括前表面板、第一黏著劑層、圓偏光板、第二黏著劑層、及背面板，將任意的彎曲軸作為中心，以具有前表面板之側成為內側的方式、且以具有前表面板之側彼此的表面間距離為3.0 mm並相向的方式彎曲的狀態下，在溫度60℃且相對濕度90%的條件下靜置6小時，恢復至彎曲前的狀態時，彎曲部的第一黏著劑層及第二黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT1 ）、非彎曲部的第一黏著劑層及第二黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT2 ）、彎曲前的第一黏著劑層及第二黏著劑層的合計厚度（T0 ）的關係滿足下述式（1）。 （|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100≦3.0          ···（1）
另外，本發明提供一種光學積層體，其依序包括前表面板、第一黏著劑層、圓偏光板、第二黏著劑層、及背面板，於溫度60℃且相對濕度90%的環境下求出的第一黏著劑層及第二黏著劑層的應變（%）-應力（kPa）曲線的自原點至最大應力值的斜率（kPa）的值的合計為0.25～1.8。
另外，本發明提供一種撓性圖像顯示裝置，其包括所述光學積層體，且背面板包含圖像顯示元件。
[發明的效果] 根據本發明，可提供可構成撓性圖像顯示裝置且彎曲後不易視認變形的光學積層體。另外，本發明可提供包括此種光學積層體的撓性圖像顯示裝置。
以下，參照圖式詳細說明本發明的較佳的實施形態。再者，於各圖中對相同部分或相當部分標註相同符號，並省略重覆說明。
本實施形態的光學積層體作為其一實施形態，構成撓性圖像顯示裝置，例如為有機電致發光（有機EL）顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等。該撓性圖像顯示裝置亦可藉由包括觸控感測器而具有觸控面板功能。
＜光學積層體＞ 如圖1所示般，本實施形態的光學積層體1如撓性圖像顯示裝置所呈現般，設想將平面狀者折疊成兩個。如圖1的（A）、（B）所示般，本實施形態的光學積層體1俯視時呈矩形，依序積層有前表面板2、第一黏著劑層3、圓偏光板4、第二黏著劑層5、及背面板6而成，作為其整體具有可撓性。
光學積層體1的矩形的大小例如可為一邊的長度為10 mm以上且600 mm以下，於具有短邊與長邊的情況下，例如短邊的長度為10 mm以上且300 mm以下，長邊的長度為50 mm以上且600 mm以下。光學積層體1的厚度例如為100 μm以上且500 μm以下。
光學積層體1可於任意的部位彎曲。此處所謂「彎曲」是指面狀者彎折。彎折部分的彎曲半徑可為15 mm以下，亦可為10 mm以下，抑或可為5 mm以下。彎曲半徑例如為0.5 mm～5.0 mm的範圍內。如圖1所示般，於在光學積層體1的中央部分設定彎曲軸8的情況下，藉由以具有前表面板2之側成為內側面的方式使光學積層體1彎曲，可使將彎曲軸8作為中心的兩翼的具有前表面板之側彼此以相互大致平行的方式相向（對面）。於該相向狀態下，具有前表面板之側彼此可接觸，亦可不接觸。另外，只要無特別記載，則「彎曲」包含內表面的角度大於0度且未滿180度的曲折的形態，且包含內表面的彎曲半徑近似為零、或者內表面的曲折角為0度的形態。
（彎曲試驗） 光學積層體1較佳為於自彎曲的彎曲狀態恢復至平面狀態時，於彎曲軸8的附近不易形成階差。具體而言，將彎曲軸8作為中心，以具有前表面板2之側彼此的表面間距離（相向距離）=3.0 mm（彎曲半徑=1.5 mm）並相向的方式彎曲的狀態下，於溫度60℃且相對濕度（RH）90%的條件下靜置6小時。此時，為了容易保持彎曲狀態，較佳為於具有前表面板2之側彼此之間夾持具有3.0 mm厚度的夾具。而且，將光學積層體1恢復至彎曲前的狀態。而且，以具有前表面板2之側朝上的方式載置於平坦的面上。
而且，於光學積層體1的彎曲軸8附近的剖面形狀中，求出最低高度位置、與將彎曲軸作為中心其兩翼的最高高度位置（階差1、階差2）各個的差的平均值，將該值設為「階差」。另外，將兩翼的最高高度位置彼此的水平距離設為「寬度」。此時，「階差」較佳為560 μm以下，更佳為520 μm以下，進而佳為460 μm以下。「寬度」較佳為15 mm以上，更佳為18 mm以上，進而佳為20 mm以上。「階差/寬度」（μm/mm）比較佳為30以下，更佳為25以下，進而佳為23以下。「階差/寬度」（μm/mm）比可為10以上，亦可為15以上，抑或可為20以上。再者，該高度位置或寬度的測定是使用亞蒙泰克（Ammon Teck）公司的三維測定器（型號名：PREMIUM-600C）測定最表面的階差1、階差2與寬度。測定N=5，求出平均值。
＜第一黏著劑層、第二黏著劑層＞ 第一黏著劑層3及第二黏著劑層5分別可於溫度60℃且相對濕度90%的環境下求出應變（%）-應力（kPa）曲線，進而可求出自其原點至最大應力值的斜率（kPa/%）的值。
將黏著劑層供於拉伸試驗時，可描繪出橫軸取應變、縱軸取應力的應變-應力曲線。一般而言，隨著應變變大，黏著劑層產生的應力亦變大，於黏著劑層即將發生凝聚破壞之前應力最大。於溫度60℃且相對濕度90%的環境下求出的黏著劑層的應變-應力曲線中，自原點至最大應力值的斜率G由（最大應力值）/（應力最大時的應變）來表示。G不僅反映黏著劑層發生彈性變形時的應力變化，而且亦反映發生塑性變形時的應力變化，可作為黏著劑層發生凝聚破壞之前的耐久性的指標。於G大時，相對於黏著劑層的應變而言產生的應力大，黏著劑層的凝聚力優異。於G小時，相對於黏著劑層的應變而言產生的應力小，黏著劑層容易變形。另外，於G小時，黏著劑層具有適度的凝聚力，於黏著劑層與被黏構件之間不易產生剝離。G可按照後述的實施例一欄中記載的方法來求出。
第一黏著劑層3的所述斜率（kPa）的值較佳為0.1～0.9，更佳為0.1～0.6，進而佳為0.2～0.5。另外，第二黏著劑層5的所述斜率（kPa）的值較佳為0.1～0.9，更佳為0.1～0.6，進而佳為0.2～0.5。另外，第一黏著劑層3的所述斜率（kPa）的值與第二黏著劑層5的所述斜率（kPa）的值的合計較佳為0.25～1.8，更佳為0.3～1.5，進而佳為0.4～1.0。藉由合計值如所述般，光學積層體1於彎曲後不易殘留變形。
G可藉由調整構成黏著劑層中所使用的黏著劑組成物中包含的原料聚合物的單體的種類及調配量；聚合起始劑、交聯劑及其他添加劑的種類及調配量；改變活性能量線、熱及其他交聯度的因素等，設為所期望的數值範圍。例如黏著劑組成物中包含的原料聚合物包含大量的源於具有反應性官能基的單體的結構單元時，G有變大的傾向。作為反應性官能基，例如可列舉：羥基、羧基、胺基、醯胺基、及環氧基等。
將光學積層體1供於所述彎曲試驗時，第一黏著劑層3及第二黏著劑層5較佳為關於彎曲前後的厚度變化具有以下的關係。將彎曲部（彎曲軸8的部分）的第一黏著劑層3與第二黏著劑層5的合計厚度於彎曲前後的變化設為「ΔT1 」，將非彎曲部的第一黏著劑層3與第二黏著劑層5的合計厚度於彎曲前後的變化設為「ΔT2 」，將彎曲前的第一黏著劑層3與第二黏著劑層5的合計厚度設為「T0 」時，該些較佳為滿足下述式（1）。 （|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100≦3.0          ···（1）
此處，關於ΔT1 及ΔT2 ，於將彎曲後的彎曲部的合計厚度設為「T1 」，將彎曲後的非彎曲部的合計厚度設為「T2 」，將彎曲前的合計厚度設為「T0 」時，被定義為ΔT1 =T1 -T0 、ΔT2 =T2 -T0 。
該些厚度可藉由利用掃描式電子顯微鏡（SEM）的光學積層體的剖面觀察來求出。彎曲前的合計厚度（T0 ）及彎曲後的非彎曲部的合計厚度（T2 ）是採取非彎曲部的進行彎曲試驗時貼合於玻璃板的部分的中央部測定任意三個部位，作為其平均值而算出。彎曲部的厚度可為於俯視時彎曲軸的正下方位置處的厚度。
所述式（1）的右邊的值可為2.0，亦可為1.5，抑或可為1.0。（|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100的值可超過0，亦可為0.1以上，抑或可為0.5以上。藉由第一黏著劑層3及第二黏著劑層5的合計厚度的關係如所述般，光學積層體1於彎曲後不易殘留變形。
第一黏著劑層3及第二黏著劑層5均可包含一層，亦可包含兩層以上，但較佳為包含一層。第二黏著劑層5於以下敘述的黏著劑組成物的組成及調配成分、厚度等方面，可與第一黏著劑層3相同，亦可不同。
第一黏著劑層3及第二黏著劑層5可包括將(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酯系樹脂、矽酮系樹脂、聚乙烯醚系樹脂作為主要成分（原料聚合物）的黏著劑組成物。作為構成第一黏著劑層3及第二黏著劑層5的黏著劑組成物，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂作為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
作為黏著劑組成物中所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂，可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合體或共聚物。較佳為於原料聚合物中使極性單體共聚。作為極性單體，可列舉：(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。作為構成(甲基)丙烯酸系樹脂的單體，亦可使用具有苯甲醯基的光反應性化合物，可例示韓國公開專利10-2019-0005427中作為化學式1記載的化合物。此種光反應性化合物藉由追加的光硬化進行活化而誘導追加交聯，因此可提高耐久性。
黏著劑組成物可僅包含所述原料聚合物，但通常進而含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：二價以上且於與羧基之間形成羧酸金屬鹽的金屬離子、於與羧基之間形成醯胺鍵的多胺化合物、於與羧基之間形成酯鍵的聚環氧化合物或多元醇、於與羧基之間形成醯胺鍵的聚異氰酸酯化合物。交聯劑較佳為聚異氰酸酯化合物。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有受到紫外線或電子束之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有於活性能量線照射前亦具有黏著性而可與膜等被黏物密接，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密接力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除含有原料聚合物、交聯劑以外，進而含有活性能量線聚合性化合物。視需要亦可含有光聚合起始劑、光增感劑等。
作為活性能量線聚合性化合物，例如可列舉：於分子內具有至少一個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯單體；使兩種以上含官能基的化合物反應而獲得且於分子內具有至少兩個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯低聚物等含(甲基)丙烯醯氧基的化合物等(甲基)丙烯酸系化合物。相對於黏著劑組成物的固體成分100質量份，黏著劑組成物可包含0.1質量份以上的活性能量線聚合性化合物，可包含10質量份以下、5質量份以下或2質量份以下。
作為光聚合起始劑，例如可列舉：二苯甲酮、苯偶醯二甲基縮酮、1-羥基環己基苯基酮等。光聚合起始劑可包含一種或兩種以上。於黏著劑組成物包含光聚合起始劑時，例如相對於黏著劑組成物的固體成分100質量份，其總含量可為0.01質量份以上且3.0質量份以下。
黏著劑組成物可包含用以賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
第一黏著劑層3及第二黏著劑層5可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥而形成。第一黏著劑層3及第二黏著劑層5亦可利用使用黏著劑組成物形成的黏著片形成。於使用活性能量線硬化型黏著劑組成物的情況下，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的黏著劑層。
第一黏著劑層3及第二黏著劑層5的厚度並無特別限定，例如較佳為1 μm以上且100 μm以下，更佳為3 μm以上且50 μm以下，亦可為20 μm以上。
就提高第一黏著劑層3及第二黏著劑層5的凝聚力的觀點而言，於將第一黏著劑層3及第二黏著劑層5設為厚度150 μm的基準黏著劑層時，於溫度25℃下的剪切彈性係數較佳為0.01 MPa以上，更佳為0.02 MPa以上，且較佳為0.50 MPa以下，更佳為0.10 MPa以下，亦可為0.08 MPa以下。剪切彈性係數可使用黏彈性測定裝置（MCR-301、安東帕（Anton Paar）公司）進行測定。可將黏著劑層以厚度成為150 μm的方式積層多片並接合於玻璃板後，於與測定晶片接著的狀態下，以-20℃至100℃的溫度區域，於頻率1.0 Hz、變形量1%、升溫速度5℃/min的條件下進行測定。於第一黏著劑層3及第二黏著劑層5的剪切彈性係數為該範圍時，光學積層體1即便彎曲亦不易發生凝聚破壞，亦不易產生氣泡。剪切彈性係數可藉由變更構成黏著劑組成物中包含的原料聚合物的單體的種類及含量、添加劑、交聯度等進行調整。
本實施形態的光學積層體1的基本結構如以上般。先前，構成撓性圖像顯示裝置的光學積層體容易於彎曲部殘留變形，於該情況下，反射像歪曲，圖像的視認性變差，但根據本實施形態的光學積層體1，於彎曲後不易殘留變形。
＜其他結構＞ 以下，對構成光學積層體1的各構件的更詳細的結構或材料進行說明。
（前表面板） 前表面板2只要為能夠透過光的板狀體，則材料及厚度並無限定，可僅包括一層，亦可包括兩層以上。作為其例子，可列舉：樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體。前表面板可為構成顯示裝置的最表面的層，可具有作為窗貼膜的功能。
前表面板2的厚度可為10 μm以上且1,000 μm以下，較佳為20 μm以上且500 μm以下，更佳為30 μm以上且300 μm以下，亦可為30 μm以上且100 μm以下。該厚度與後述的偏光片或保護膜等的厚度相同，可利用薄膜厚度測定器（型號：數位儀錶架（DZ-501、索尼公司製造））進行測定。
於前表面板2為樹脂製的板狀體的情況下，樹脂製的板狀體只要能夠透過光，則並無限定。作為樹脂，例如可列舉由三乙醯纖維素、乙醯纖維素丁酸酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、聚酯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚(甲基)丙烯酸、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的膜。該些高分子可單獨使用或將兩種以上混合而使用。就強度及透明性提高的觀點而言，較佳為由聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺等高分子形成的樹脂膜。樹脂製的板狀體的厚度例如可為10 μm以上且1,000 μm以下，較佳為20 μm以上且500 μm以下，更佳為30 μm以上且300 μm以下，亦可為100 μm以下。
於前表面板2為玻璃製的板狀體的情況下，該板狀體亦可為超薄型玻璃（Ultra-Thin Glass：UTG）。超薄型玻璃的厚度較佳為5 μm～50 μm。市售的玻璃板可藉由進行蝕刻而薄型化，可根據其程度調整玻璃板的厚度來獲得超薄型玻璃。玻璃製的板狀體較佳為進行化學強化。
前表面板2可為於基材膜的至少一面設置硬塗層而進一步提高了硬度的膜。作為基材膜，可使用由所述樹脂形成的膜。硬塗層可形成於基材膜的其中一面，亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐刮傷性的樹脂膜。硬塗層例如為紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高硬度，硬塗層可包含添加劑。添加劑並無限定，可列舉：無機系微粒子、有機系微粒子、或者該些的混合物。
（圓偏光板） 本實施形態的圓偏光板4可為圓偏光板（λ/4板），亦可為橢圓偏光板。即，本實施形態的「圓偏光板」是包含圓偏光板與橢圓偏光板的概念。圓偏光板4為將具有偏光片的直線偏光板與相位差膜積層而成者。
·直線偏光板 直線偏光板包括偏光片與積層於其單面或兩面的保護膜。作為直線偏光板，可列舉包含吸附了二色性色素的延伸膜、或者塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜作為偏光片的膜等。作為二色性色素，具體而言，可使用碘或二色性的有機染料。於二色性有機染料中包含C.I.直接紅（DIRECT RED）39等包含雙偶氮化合物的二色性直接染料、包含三偶氮、四偶氮等化合物的二色性直接染料。作為塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片，可列舉塗佈包含具有液晶性的二色性色素的組成物或包含二色性色素與聚合性液晶的組成物並使其硬化而獲得的層等包含聚合性液晶化合物的硬化物的偏光片。與吸附了二色性色素的延伸膜或延伸層相比，塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片的彎曲方向並無限制，因此較佳。
（1）作為延伸膜或延伸層的偏光片 作為吸附了二色性色素的延伸膜的偏光片通常可經過如下步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸的步驟；藉由利用二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；利用硼酸水溶液對吸附了二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後水洗的步驟。偏光片的厚度例如為2 μm以上且40 μm以下。偏光片的厚度可為5 μm以上，亦可為20 μm以下、15 μm以下、進而可為10 μm以下。
聚乙烯醇系樹脂是藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了使用作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，可使用乙酸乙烯酯和能夠與其共聚的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚的其他單量體，例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上且100莫耳%以下左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如可使用經醛類改質的聚乙烯縮甲醛或聚乙烯縮醛。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。
作為吸附了二色性色素的延伸層的偏光片通常可經過如下步驟來製造：將包含所述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材膜上的步驟；將所獲得的積層膜單軸延伸的步驟；藉由利用二色性色素對經單軸延伸的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色，吸附該二色性色素而製成偏光片的步驟；利用硼酸水溶液對吸附了二色性色素的膜進行處理的步驟；以及於利用硼酸水溶液進行處理後水洗的步驟。作為吸附了二色性色素的延伸層的偏光片視需要可自偏光片剝離去除基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為延伸膜或延伸層的偏光片亦可以於其單面或兩面貼合有熱塑性樹脂膜的形態組入至積層體中。所述熱塑性樹脂膜可作為偏光片用的保護膜、或相位差膜發揮功能。熱塑性樹脂膜例如可為包含鏈狀聚烯烴系樹脂（聚丙烯系樹脂等）、環狀聚烯烴系樹脂（降冰片烯系樹脂等）等聚烯烴系樹脂；三乙醯纖維素等纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或者該些的混合物等的膜。
熱塑性樹脂膜可具有相位差，亦可不具有相位差。就薄型化的觀點而言，熱塑性樹脂膜的厚度通常為300 μm以下，較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，進而佳為80 μm以下，再者進而佳為60 μm以下。熱塑性樹脂膜的厚度通常為5 μm以上，較佳為10 μm以上。熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層而貼合於偏光片。
（2）塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片 作為塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片，可列舉：將包含具有液晶性的聚合性的二色性色素的組成物或者包含二色性色素與聚合性液晶的組成物塗佈於基材膜並使其硬化而獲得的層等包含聚合性液晶化合物的硬化物的偏光片。
塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片視需要可自偏光片剝離去除基材膜。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。偏光片可包括配向膜。配向膜亦可被剝離。
塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片亦可以於其單面或兩面貼合有熱塑性樹脂膜的形態組入至光學積層體中。作為熱塑性樹脂膜，可使用與作為延伸膜或延伸層的偏光片中可使用的熱塑性樹脂膜相同者。熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層貼合於偏光片。
塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片可於其單面或兩面形成外塗（OC）層作為保護層。可列舉光硬化性樹脂或水溶性聚合物等。作為光硬化性樹脂，例如可列舉：(甲基)丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、環氧系樹脂、矽酮系樹脂等。作為水溶性聚合物，例如可列舉：聚(甲基)丙烯醯胺系聚合物；聚乙烯醇、及乙烯-乙烯醇共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、(甲基)丙烯酸或其酸酐-乙烯醇共聚物等乙烯醇系聚合物；羧基乙烯系聚合物；聚乙烯基吡咯啶酮；澱粉類；海藻酸鈉；聚環氧乙烷系聚合物等。OC層的厚度較佳為20 μm以下，更佳為15 μm以下，進而佳為10 μm以下，可為5 μm以下，且為0.05 μm以上，亦可為0.5 μm以上。
塗佈包含二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的偏光片的厚度通常為10 μm以下，較佳為0.5 μm以上且8 μm以下，更佳為1 μm以上且5 μm以下。
可於直線偏光板積層後述的相位差膜（例如，包含λ/4板作為相位差層的相位差膜）來獲得圓偏光板。此時，偏光片的吸收軸與λ/4板的慢軸所呈的角度可為45°±10°。
·相位差膜 相位差膜可包含一層或兩層以上的相位差層。作為相位差層，可為λ/4板或λ/2板之類的正A板、及正C板。λ/4板亦可為逆波長分散性。於相位差層包含λ/2板的情況下，自直線偏光層側依次積層λ/2板及λ/4板。於相位差層包含正C板的情況下，可自直線偏光層側依次積層λ/4板及正C板，亦可自直線偏光板側依次積層正C板及λ/4板。
相位差層可由作為所述保護膜的材料而例示的樹脂材料形成，亦可由聚合性液晶化合物硬化而成的層形成。相位差層可進而包含配向膜或基材膜，亦可具有用以貼合λ/4板與λ/2板的貼合層。貼合層為黏著劑層或接著劑層，可使用所述黏著劑組成物或公知的接著劑組成物來形成。
相位差膜整體的厚度並無特別限定，例如可設為1 μm以上且50 μm以下。
（背面板） 作為背面板6，可使用能夠透過光的板狀體、或通常的顯示裝置中所使用的結構要素等。作為背面板6中使用的通常的顯示裝置中所使用的結構要素，例如可列舉：隔板、觸控感測器面板、有機EL顯示元件等。作為顯示裝置中的結構要素的積層順序，例如可列舉：前表面板/圓偏光板/隔板、前表面板/圓偏光板/有機EL顯示元件、前表面板/圓偏光板/觸控感測器面板/有機EL顯示元件、前表面板/觸控感測器面板/圓偏光板/有機EL顯示元件等。背面板6較佳為觸控感測器面板。
[觸控感測器面板] 觸控感測器面板只要為具有能夠檢測出被觸控的位置的感測器（即觸控感測器）的面板，則並無限定。觸控感測器的檢測方式並無限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。就低成本而言，可較佳地使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。
作為電阻膜方式的觸控感測器的一例，可列舉如下構件，所述構件包括相互相向配置的一對基板、夾持於該些一對基板之間的絕緣性間隔物、於各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路。於設置有電阻膜方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，前表面板的表面被觸控時，相向的電阻膜短路，於電阻膜中流動電流。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓的變化，從而檢測被觸控的位置。
作為靜電電容耦合方式的觸控感測器的一例，可列舉如下構件，所述構件包括基板、設置於基板的整個面上的位置檢測用透明電極、以及觸控位置檢測電路。於設置有靜電電容耦合方式的觸控感測器的圖像顯示裝置中，前表面板的表面被觸控時，於被觸控的點，透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地，從而檢測被觸控的位置。
觸控感測器面板的厚度例如可為5 μm以上且2000 μm以下，較佳為5 μm以上且100 μm以下，進而佳為5 μm以上且50 μm以下。
觸控感測器面板可為於基材膜上形成有觸控感測器的圖案的構件。基材膜的例示可與所述熱塑性樹脂膜的說明中的例示相同。另外，觸控感測器面板亦可自基材膜經由黏著劑層轉印至被黏物。觸控感測器圖案的厚度例如可為1 μm以上且20 μm以下。
圖像顯示元件可帶有觸控感測器面板。作為觸控感測器面板，只要為能夠檢測出被觸控的位置的感測器，則檢測方式並無限定，可例示：電阻膜方式、靜電電容耦合方式、光感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等的觸控感測器面板。就低成本而言，可較佳地使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。
（其他黏著劑層） 本實施形態的光學積層體1中，除使用第一黏著劑層3及第二黏著劑層5以外，如直線偏光板與相位差膜的貼合中使用的黏著劑層、以及相位差膜中的作為所述貼合層的黏著劑層般，可使用其他黏著劑層。作為用於形成該些黏著劑層的黏著劑組成物，並無特別限定，例如只要包含(甲基)丙烯酸系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、聚酯系聚合物、矽酮系聚合物、聚乙烯醚系聚合物、橡膠系聚合物等聚合物作為主要成分即可。此處所謂「主要成分」，是指包含黏著劑組成物的所有固體成分中50質量%以上的成分。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型、熱硬化型。
所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物是如下的黏著劑組成物：具有受到紫外線或電子束之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有於活性能量線照射前亦具有黏著性而可與膜等被黏物密接，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密接力的性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除含有原料聚合物、交聯劑以外，進而含有活性能量線聚合性化合物。進而，視需要亦有時含有光聚合起始劑或光增感劑等。
黏著劑層可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥而形成。
黏著劑層的厚度例如較佳為3 μm以上且100 μm以下，更佳為5 μm以上且50 μm以下，亦可為20 μm以下。
以上，對本發明的較佳的實施形態進行了說明，但本發明並不受所述實施形態的任何限定。例如，於所述實施形態中將光學積層體的俯視形狀設為具有90°的頂點的矩形，但頂點可帶有圓角，亦可於邊具有凹陷。另外，並不限於矩形，亦可為圓形及其他形狀。 [實施例]
以下，列舉實施例及比較例更具體地說明本發明的內容。再者，本發明並不限定於下述實施例。
＜黏著劑層的製造＞ 於以氮氣回流、容易進行溫度調節的方式設置冷卻裝置的1L的反應器中投入包含表1所示的丙烯酸2-乙基己酯（2-ethyl hexyl acrylate，2-EHA）、丙烯酸正丁酯（n-butyl acrylate，n-BA）、丙烯酸2-丙基庚酯（2-propyl heptyl acrylate，2-PHA）、丙烯酸（acrylic acid，AA）、丙烯酸山萮酯（behenyl acrylate，C22A）、丙烯酸辛基癸酯（octyl decyl acrylate，ODA）的單體混合物。為了去除氧而將氮氣回流1小時後，將溶液維持為60℃。於將所述單體混合物均勻混合後，以表1所示的調配量投入光聚合起始劑苯偶醯二甲基縮酮（I-651）及1-羥基環己基苯基酮（I-184）。於攪拌的同時照射UV燈（10 mW），從而製造丙烯酸系聚合體（聚合物A、聚合物B、聚合物C、聚合物D）。
[表1]
丙烯酸系聚合體 單體組成（質量份） 光聚合起始劑（質量份）
2-EHA n-BA 2-PHA AA C22A ODA I-651 I-184
聚合物A 91 4 2.5 0 1 1.5 0.04 0.06
聚合物B 90 4 2.5 1 1 1.5 0.04 0.06
聚合物C 86 4 2.5 5 1 1.5 0.04 0.06
聚合物D 81 4 2.5 10 1 1.5 0.04 0.06
所使用的化合物的獲取來源如以下般。 2-EHA：東京化成工業股份有限公司、日本 n-BA：東京化成工業股份有限公司、日本 2-PHA：巴斯夫（BASF）、德國 AA：東京化成工業股份有限公司、日本 C22A：東京化成工業股份有限公司、日本 ODA：美源特別化學（Miwon specialty chemical）、韓國 I-651：巴斯夫（BASF）、德國 I-184：巴斯夫（BASF）、德國
相對於所獲得的各丙烯酸系聚合體100質量份，混合丙烯酸異癸酯（isodecyl acrylate，IDA）1.5質量份與1-羥基環己基苯基酮（I-184）0.05質量份，從而製備黏著劑組成物。將各黏著劑組成物以厚度成為25 μm的方式塗佈於經矽脫模處理的脫模膜A（聚對苯二甲酸乙二酯膜、厚度38 μm）上。於其上接合另一脫模膜B（聚對苯二甲酸乙二酯膜、厚度38 μm），進行UV照射，從而製作包含脫模膜A/黏著劑層/脫模膜B的黏著片。UV照射的條件設為累計光量400 mJ/cm2 、照度1.8 mW/cm2 （UVV基準）。表2中示出各丙烯酸系聚合體與各黏著劑層的對應關係。另外，表2中一併示出利用以下的方法求出的「G」。
＜自原點至最大應力值的斜率G＞ 使用黏著劑層A～黏著劑層D，求出於溫度60℃且相對濕度90%的環境下測定的應變（%）-應力（kPa）曲線中的自原點至最大應力值的斜率（kPa/%）的值（「G」）。對其進行了使用動態機械分析裝置（DMA、Q-800、TA儀器（TA Instruments）公司製造）的拉伸試驗。首先，如圖2所示，準備經由黏著劑層將兩個聚碳酸酯（polycarbonate，PC）棒101、101的端部彼此接合的試驗片。黏著劑層102的形狀為寬×長×厚為6 mm×10 mm×25 μm，PC棒101、PC棒101的形狀為寬×長×厚為6 mm×20 mm×1 mm。黏著劑層102與PC棒101、PC棒101的接著面積為寬×長為6 mm×10 mm。將試驗片的PC棒101的兩端部的長5 mm的區域A作為夾具固定部位，於此安裝夾具並固定單個夾具。將另一夾具安裝於另一夾具固定部位即區域A的部分，於溫度60℃且相對濕度90%的環境下，以100 μm/min的速度拉伸，製成應變（%）-應力（MPa）曲線。於所獲得的應變-應力曲線中計算自原點至應力達到最大為止的斜率（「G」）。
[表2]
丙烯酸系聚合體 黏著劑層 G（kPa）
聚合物A 黏著劑層A 0.1
聚合物B 黏著劑層B 0.2
聚合物C 黏著劑層C 0.5
聚合物D 黏著劑層D 1.1
與黏著劑層A～黏著劑層D獨立地製造黏著劑層E。使用與製造聚合物A～聚合物D的裝置相同的裝置，使丙烯酸丁酯（butyl acrylate，BA）68質量份、甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate，MMA）30質量份、丙烯酸2-乙基己酯（2-EHA）1質量份、丙烯酸（AA）1質量份聚合，從而製造丙烯酸系聚合體（聚合物E）。相對於該聚合物E 100質量份，混合作為交聯劑的考勞奈特（CORONATE）L（東曹公司製造）3質量份、作為矽烷偶合劑的KBM-403（信越化學工業公司製造）0.5質量份，製備黏著劑組成物。利用敷料器以乾燥後的厚度成為5 μm的方式將該黏著劑組成物塗佈於經脫模處理的脫模膜上。將塗佈層於100℃下乾燥1分鐘，製造黏著劑層E。之後，於黏著劑層上貼合經脫模處理的另一脫模膜。之後，於溫度23℃且相對濕度50%的條件下養護七天，從而製作包括黏著劑層E的黏著片。
＜實施例1＞ [直線偏光板] 準備三乙醯纖維素（TAC）膜（厚25 μm）作為基材。藉由棒塗法於其上塗佈配向膜形成用組成物。將塗膜於80℃下乾燥1分鐘。繼而，使用所述UV照射裝置及線柵，對塗膜照射偏光UV，對塗膜賦予配向性能。曝光量為100 mJ/cm2 （365 nm基準）。線柵是使用UIS-27132##（牛尾電機股份有限公司製造）。如此，形成了配向膜。配向膜的厚度為100 nm。利用棒塗法將包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片形成用組成物塗佈於所形成的配向膜上。將塗膜於100℃下加熱乾燥2分鐘後，冷卻至室溫。使用所述UV照射裝置，以累計光量1200 mJ/cm2 （365 nm基準）對塗膜照射紫外線，藉此形成偏光片。所獲得的偏光片的厚度為3 μm。以乾燥後的厚度成為0.5 μm的方式將包含聚乙烯醇與水的組成物塗敷於偏光片上，於溫度80℃下乾燥3分鐘而形成保護層（保護膜）。如此製作了具有基材/配向膜/偏光片/保護層的結構的直線偏光板。
[前表面板] （聚醯胺醯亞胺膜） 於氮氣環境下，向包括攪拌葉片的1L可分離式燒瓶中加入2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺（TFMB）14.67 g（45.8 mmol）及水分量製備成200 ppm的N,N-二甲基乙醯胺（N,N-dimethyl acetamide，DMAc）233.3 g，於室溫下攪拌的同時使TFMB溶解於DMAc中。其次，向燒瓶中加入4,4'-氧基二鄰苯二甲酸二酐（4,4'-oxy diphthalic acid dianhydride，OPDA）4.283 g（13.8 mmol），於室溫下攪拌16.5小時。之後，將4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)（4,4'-oxybis(benzoyl chloride)，OBBC）1.359 g（4.61 mmol）及對苯二甲醯氯（terephthaloyl chloride，TPC）5.609 g（27.6 mmol）加入燒瓶中，於室溫下攪拌1小時。繼而，向燒瓶中加入乙酸酐4.937 g（48.35 mmol）與4-甲基吡啶1.501 g（16.12 mmol），於室溫下攪拌30分鐘後，使用油浴升溫至70℃，進而攪拌3小時來獲得反應液。將所獲得的反應液冷卻至室溫後，加入甲醇360 g及離子交換水170 g而獲得聚醯胺醯亞胺的沈澱。將其於甲醇中浸漬12小時，藉由過濾來回收，並利用甲醇進行清洗。其次，於100℃下進行沈澱物的減壓乾燥，從而獲得厚度40 μm的聚醯胺醯亞胺（polyamide imide，PAI）樹脂。
（硬塗層形成用組成物） 混合多官能丙烯酸酯（米拉邁（Miramer）M340、美源特別化學（Miwon Specialty Chemical）製造）30質量份、奈米氧化矽溶膠的丙二醇單甲醚分散體（12 nm、固體成分40%）50質量份、乙酸乙酯17質量份、光聚合起始劑（豔佳固（Irgacure）-184、汽巴公司（Ciba Corporation）製造）2.7質量份、氟系添加劑（KY1203、信越化學工業股份有限公司製造）0.3質量份，獲得硬塗層形成用組成物。
（前表面板的製作） 將所述硬塗層形成用組成物塗敷於聚醯胺醯亞胺膜的其中一面，將所獲得的塗膜於溫度80℃下乾燥5分鐘，使用UV照射裝置（SPOT CURE SP-7、牛尾電機股份有限公司製造），照射曝光量500 mJ/cm2 （365 nm基準）的UV光來形成硬塗層。以硬化後的厚度成為10.0 μm的方式進行塗敷。如以上般獲得具有硬塗層/聚醯胺醯亞胺膜的結構的前表面板。
[光學積層體] 對前表面板的與積層有硬塗層的面為相反側的面、和剝離以上製作的包括黏著劑層B的黏著片的一脫模膜而露出的黏著劑層B的面實施電暈處理後，將兩者貼合。繼而，對剝離黏著片的另一脫模膜而露出的黏著劑層B的面和直線偏光板的基材（TAC膜）側的面實施電暈處理後，將兩者貼合。之後，對直線偏光板的保護層側的面、和剝離以上製作的包括黏著劑層E的黏著片的一脫模膜而露出的黏著劑層E的面實施電暈處理後，將兩者貼合。其次，自黏著劑層E剝離另一脫模膜而使黏著劑層E露出。如此獲得具有前表面板/黏著劑層B/基材/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層E的結構的積層體。
準備將包含聚合性液晶化合物進行硬化而成的層的λ/4板與包含聚合性液晶化合物進行硬化而成的層的正C層經由黏著劑層E積層而成的相位差膜。以λ/4板側成為所述積層體的保護層側的方式，經由黏著劑層E將該相位差膜積層於所述積層體上，從而製作圓偏光板。λ/4板的慢軸相對於偏光片的吸收軸為45°。
之後，自包括黏著劑層A的另一黏著片剝離其中一脫模膜，使黏著劑層A的面露出。對正C層的面與黏著劑層A的面實施電暈處理後，將兩者貼合。繼而，自黏著劑層A剝離另一脫模膜，積層有機EL面板的替代品（35 μm的聚醯亞胺（PI）膜/黏著劑層A/50 μm的PI膜）。如此獲得具有前表面板/黏著劑層B/基材/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層E/（λ/4層）/黏著劑層E/正C層/黏著劑層A/有機EL面板的替代品的結構的實施例1的光學積層體。
於變更所使用的黏著劑的同時與所述實施例1同樣地製作以下的實施例2～實施例3、及比較例1～比較例2的光學積層體。
＜實施例2＞ 前表面板/黏著劑層B/基材/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層E/（λ/4層）/黏著劑層E/正C層/黏著劑層B/有機EL面板的替代品 ＜實施例3＞ 前表面板/黏著劑層C/基材/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層E/（λ/4層）/黏著劑層E/正C層/黏著劑層C/有機EL面板的替代品 ＜比較例1＞ 前表面板/黏著劑層A/基材/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層E/（λ/4層）/黏著劑層E/正C層/黏著劑層A/有機EL面板的替代品 ＜比較例2＞ 前表面板/黏著劑層D/基材/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層E/（λ/4層）/黏著劑層E/正C層/黏著劑層D/有機EL面板的替代品
使用實施例1～實施例3及比較例1～比較例2的光學積層體，進行以下的各試驗。
＜彎曲後的情況（彎曲試驗）＞ 將各光學積層體切成20 mm×110 mm的尺寸後，如圖3的（A）所示，使用黏著劑層於有機EL面板的替代品側貼合厚度2 mm的兩片玻璃板201、201。兩片玻璃板201、201具有光學積層體的一半面積，黏著劑層202、黏著劑層202以厚度25 μm自光學積層體的中心線向兩側各離開40 mm進行貼合。將其載置於平坦的台上時，玻璃板201、玻璃板201彼此於其側面接觸。以光學積層體側成為內側的方式，利用中央部分的彎曲軸使光學積層體彎折（圖3的（B）），使相向的面彼此的距離為3.0 mm（使用3.0 mm厚的板，1.5R（圖3中未圖示）），藉此準備「玻璃/黏著劑層/光學積層體（夾持3.0 mm厚的板的「U」字形狀）/黏著劑層/玻璃」的測定用樣品。於溫度60℃且相對濕度90%的烘箱內放置6小時後，確認彎折的部分即彎曲部的形狀。於比較例2的光學積層體中，彎曲後於黏著劑層與被黏構件之間產生剝離。
（階差、寬度） 打開彎曲的光學積層體，使前表面板側朝上並載置於平坦的台上，使用二維測定機測定褶皺的形狀。於圖4所示般的剖面形狀中，求出最低高度位置（H1 ）、與將彎曲軸作為中心其兩翼的最高高度位置（H21 、H22 ）的各自的差的平均值，將該值設為「階差」（{（H21 -H1 ）+（H22 -H1 ）}/2）。另外，將兩翼的最高高度位置彼此的水平距離（D）設為「寬度」。而且，求出所述「階差/寬度」比（單位為「μm/mm」）。將結果示於表3。
（視認性） 如所述般打開光學積層體的狀態下，利用螢光燈的反射像觀察彎曲部的歪曲，目視評價表面的平滑性。該觀察是於暗室（螢光燈熄滅時為0.02勒克斯，點亮時於光學積層體所處的位置為2000勒克斯。於該照度的測定時使用「YL-102數位式照度計（Digital Light Meter）」（UNIS公司製造））及室內（螢光燈點亮時約300勒克斯）進行。評價基準如以下般。將評價結果示於表3。 A：於暗室及室內幾乎未見螢光燈的反射像歪曲。 B：可見暗室的螢光燈的反射像歪曲，但於室內幾乎未見。 C：於暗室及室內顯著可見螢光燈的反射像歪曲。
（厚度變化） 於所述彎曲前後，觀察兩個黏著劑層的厚度變化。即，關於前表面板與基材之間的黏著劑層（第一黏著劑層）、和正C層與有機EL面板的替代品之間的黏著劑層（第二黏著劑層）的合計厚度，藉由利用掃描式電子顯微鏡（SEM）的光學積層體的剖面觀察求出 ·彎曲前的合計厚度（T0 ） ·彎曲後的彎曲部的合計厚度（T1 ） ·彎曲後的非彎曲部的合計厚度（T2 ） 。彎曲部的厚度是將光學積層體的俯視下相當於彎曲軸正下方的位置的厚度作為測定對象。此處，根據彎曲部的兩黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT1 =T1 -T0 ）、非彎曲部的兩黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT2 =T2 -T0 ）、彎曲前的合計厚度（T0 ），計算「（|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100」的值。將結果示於表3。
＜彎曲耐久性＞ 使用光學積層體進行靜態彎曲耐久性試驗。如圖5所示般，準備包括兩個載台301、301的彎曲裝置（Science Town公司製造、STS-VRT-500），於載台301、載台301上載置光學積層體（圖5的（A））。將兩個載台301、301之間的距離（間隙）設定為3 mm（1.5R）。該載台301、載台301能夠以兩個載台之間（間隙）為中心擺動，初始時兩個載台301、301構成同一平面。於溫度60℃且相對濕度90%的環境下，使兩個載台301、301於上方旋轉90度而關閉兩個載台301、301（圖5的（B）），以該姿勢保持十天。經過十天後，確認是否於黏著劑層產生氣泡或剝離。評價基準如以下般。將評價結果示於表3。 A：於黏著劑內部未產生氣泡/剝離。 C：於黏著劑內部產生氣泡/剝離。
[表3]
  實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2
（|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100 1.6 1 0.7 5.2 3.5
G1 +G2 （kPa） 0.3 0.4 1.0 0.2 2.2
階差/寬度（μm/mm） 24.3 25.0 22.0 31.6 35.0
視認性 A A A B C
彎曲耐久性 A A A A C
於表3中，將前表面板與基材的貼合中使用的黏著劑層（第一黏著劑層）的G值表示為「G1 」，將正C層與有機EL面板的替代品的貼合中使用的黏著劑層（第二黏著劑層）的G值表示為「G2 」。根據該些結果，可知於「（|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100」的值小的情況下，視認性良好。另外，可知於兩G值（G1 、G2 ）的合計過小的情況下（比較例1），視認性變差，於過大的情況下（比較例2），彎曲耐久性變差。 [產業上之可利用性]
本發明可用作圖像顯示裝置的一態樣。
1:光學積層體 2:前表面板 3:第一黏著劑層 4:圓偏光板 5:第二黏著劑層 6:背面板 8:彎曲軸 101:PC棒 102:黏著劑層 201:玻璃板 202:黏著劑層 301:載台 A:區域 D:水平距離 H1 :最低高度位置 H21 、H22 :最高高度位置
圖1是表示本發明的一實施形態的光學積層體的圖。（A）為平面圖，（B）為（A）的IB-IB剖面圖。 圖2的（A）、（B）均是說明使用動態機械分析裝置的拉伸試驗的圖。 圖3的（A）、（B）均是說明光學積層體的彎曲試驗的圖。 圖4是表示階差及寬度的求出方法的剖面圖。 圖5的（A）、（B）均是說明靜態彎曲耐久性試驗的概略圖。
1:光學積層體
2:前表面板
3:第一黏著劑層
4:圓偏光板
5:第二黏著劑層
6:背面板
8:彎曲軸

Claims (3)

  1. 一種光學積層體，其依序包括前表面板、第一黏著劑層、圓偏光板、第二黏著劑層、及背面板， 將任意的彎曲軸作為中心，以具有所述前表面板之側成為內側的方式、且以具有所述前表面板之側彼此的表面間距離為3.0 mm並相向的方式彎曲的狀態下，在溫度60℃且相對濕度90%的條件下靜置6小時，恢復至彎曲前的狀態時， 彎曲部的所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT1 ）、 非彎曲部的所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的合計厚度於彎曲前後的變化（ΔT2 ）、以及 彎曲前的所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的合計厚度（T0 ）的關係滿足下述式（1）， （|ΔT1 -ΔT2 |/T0 ）×100≦3.0          ···（1）。
  2. 一種光學積層體，其依序包括前表面板、第一黏著劑層、圓偏光板、第二黏著劑層、及背面板， 於溫度60℃且相對濕度90%的環境下求出的所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層的應變（%）-應力（kPa）曲線的自原點至最大應力值的斜率（kPa）的值的合計為0.25～1.8。
  3. 一種撓性圖像顯示裝置，其包括如請求項1或請求項2所述的光學積層體， 所述背面板包含圖像顯示元件。
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