TW202039239A - 積層體及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明的目的在於提供一種積層體及具備其的圖像顯示裝置，所述積層體是具備前表面板和在兩面具有黏著劑層的圓偏光板的能夠彎曲的積層體，其中，即使在以前表面板側為內側而在常溫（23℃）下彎曲的狀態下長時間放置後，在彎曲的部分，在前表面板側的表面產生的起伏亦小，視認性優異。本發明提供一種積層體，其具備前表面板和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板，當將前表面板的厚度設為a[μm]，將兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的厚度設為b[μm]，將前表面板在溫度23℃下的最大彈性能設為c[106 N/m2 ]時，所述積層體滿足[（b/a）×c]>0.72。

Description

積層體及圖像顯示裝置
本發明是有關於一種積層體及包括該積層體的圖像顯示裝置。
專利文獻1中，提出了在依次具有圖像顯示面板、黏著層及可撓性膜的圖像顯示裝置中，黏著層在彎曲區域與圖像顯示面板分離配置。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]韓國公開專利10-2016-0069560
[發明所欲解決之課題] 具備前表面板和兩面具有黏著劑層的圓偏光板的積層體在彎曲的狀態下放置在常溫環境下後，自彎曲的狀態釋放時，彎曲的部分有時會產生起伏。此種起伏有時會降低表面的平滑性。若表面的平滑性降低，則例如反射像會發生畸變，視認性降低。本發明的目的在於提供一種積層體及具備該積層體的圖像顯示裝置，所述積層體是具備前表面板和在兩面具有黏著劑層的圓偏光板的能夠彎曲的積層體，其中，即使在以前表面板側為內側而在常溫（23℃）下彎曲的狀態下長時間放置後，在彎曲的部分，在前表面板側的表面產生的起伏亦小，視認性優異。 [解決課題之手段]
本發明提供以下的積層體及圖像顯示裝置。 [1]一種積層體，具備前表面板和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板，當將所述前表面板的厚度設為a[μm]，將所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的厚度設為b[μm]，將所述前表面板在溫度23℃下的最大彈性能設為c[106 N/m2 ]時，所述積層體滿足下述式（1）： [（b/a）×c]>0.72     （1）。 [2]如[1]所述的積層體，其中，所述c滿足下式（2）： c≧0.7           （2）。 [3]如[1]或[2]所述的積層體，其中，所述前表面板包含聚醯胺醯亞胺系樹脂膜。 [4]如[1]至[3]中任一項所述的積層體，其中，所述前表面板具有硬塗層。 [5]如[1]至[4]中任一項所述的積層體，其中，所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板依次包含第一黏著劑層、直線偏光板、相位差層、及第二黏著劑層。 [6]一種圖像顯示裝置，具備如[1]至[5]中任一項所述的積層體。 [發明的效果]
根據本發明，可提供一種積層體及具備該積層體的圖像顯示裝置，所述積層體是具備前表面板和在兩面具有黏著劑層的圓偏光板的能夠彎曲的積層體，其中，即使在以前表面板側為內側而在常溫（23℃）下彎曲的狀態下長時間放置後，在彎曲的部分，在前表面板側的表面產生的起伏亦小，視認性優異。
以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但是本發明不限於以下的實施方式。在以下的所有圖式中，為了使各構成要素容易理解而適當調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各構成要素的比例尺與實際的構成要素的比例尺未必一致。
＜積層體＞ 圖1是本發明的一個實施方式的積層體的概略剖面圖。圖1所示的積層體100具備前表面板10和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20。
積層體100至少在以前表面板10為內側的方向上能夠彎曲。能夠彎曲是指可在以前表面板10為內側的方向上彎曲而不會產生裂紋。
當將前表面板10的厚度設為a[μm]，將兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的厚度設為b[μm]，將前表面板10在溫度23℃下的最大彈性能設為c[106 N/m2 ]時，積層體100滿足下述式（1）。 [（b/a）×c]>0.72     （1）
藉由積層體100滿足式（1），即使在以前表面板10為內側而在常溫（23℃）下彎曲的狀態下長時間放置後，亦能夠抑制在彎曲的部分中，在前表面板10側的表面產生的起伏，而能夠確保均勻的視認性。
最大彈性能c是在根據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS） K7161進行前表面板10的拉伸試驗時得到的應力應變曲線中，達到屈服點所需的彈性能。最大彈性能量c藉由在後述的實施例一欄中記載的方法來測定。
前面板10及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20以滿足上述式（1）的方式選擇。自改善表面的起伏的觀點出發，積層體100較佳為滿足下述式（1a），更佳為滿足下述式（1b），進而佳為滿足下述式（1c），特佳為滿足下述式（1d）。 [（b/a）×c]≧1.0      （1a） [（b/a）×c]≧1.1      （1b） [（b/a）×c]≧1.5      （1c） [（b/a）×c]≧2.0      （1d） 另外，積層體100較佳為滿足下述式（1e）。 [（b/a）×c]≦5.0      （1e）
本發明人發現，將具備前表面板和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的積層體以前表面板為內側，在常溫（23℃）下以彎曲的狀態長時間放置後，有時在彎曲部分的前表面板側的表面產生起伏，無法確保均勻的面內視認性。研究結果發現，藉由以具備前表面板和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的積層體滿足式（1）的方式調整前表面板的厚度、兩面帶有黏著劑層的圓偏光的厚度、及前表面板在溫度23℃下的最大彈性能，可抑制上述起伏。
積層體100的面方向的形狀例如可以是方形形狀，較佳為具有長邊和短邊的方形形狀，更佳為長方形。當積層體100的面方向的形狀為長方形時，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。對於構成光學積層體100的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。
積層體100的厚度根據積層體所需的功能以及積層體的用途等而不同，因此沒有特別限定，例如為20 μm以上且500 μm以下，較佳為30 μm以上且400 μm以下，更佳為50 μm以上且300 μm以下。
積層體100例如能夠在顯示裝置等中使用。顯示裝置沒有特別限定，例如可列舉：有機電致發光（有機（electroluminescence，EL））顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電場發光顯示裝置等。積層體100因為抑制了彎曲後的起伏，所以適合於撓性顯示器。
[前表面板] 前表面板10可以是能夠透射光的板狀體。前表面板10可僅包含1層，亦可包含2層以上。作為其例子，可列舉樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）等。前表面板可以是構成顯示裝置的最表面的層。
自抑制彎曲後的起伏以及積層體的薄型化的觀點出發，前表面板10的厚度a[μm]例如可為10 μm以上且300 μm以下，較佳為20 μm以上且200 μm以下，更佳為30 μm以上且100 μm以下。在本發明中，各層的厚度可按照後述實施例一欄中說明的厚度測定方法進行測定。
自抑制積層體的起伏的觀點來看，前表面板10較佳為滿足下述式（2），更佳為滿足下述式（2a）。 c≧0.7              （2） c≧0.75             （2a）
自抑制積層體的起伏的觀點來看，前表面板10較佳為滿足下述式（2b）。 c≦3.0              （2b）
前表面板10的最大彈性能c例如可藉由構成前表面板的板狀體的材料或厚度的選擇、後述的形成硬塗層的硬塗層形成用組成物的組成或其硬化物的厚度的選擇、以及該些的組合而調節至上述範圍。
當前表面板10為樹脂製的板狀體時，樹脂製的板狀體例如是能夠透射光的樹脂膜。作為構成樹脂膜等樹脂製板狀體的熱塑性樹脂，例如可列舉：鏈狀聚烯烴系樹脂（聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚甲基戊烯系樹脂等）、環狀聚烯烴系樹脂（降冰片烯系樹脂等）等聚烯烴系樹脂；三乙醯纖維素等纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；乙烯-乙酸乙烯酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醚醯亞胺系樹脂；聚(甲基)丙烯酸甲酯樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；聚偏二氯乙烯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙烯縮醛系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂等。熱塑性樹脂可單獨使用或混合兩種以上使用。 其中，作為構成前表面板的熱塑性樹脂，自可撓性、強度及透明性的觀點出發，較佳為環狀聚烯烴系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂，更佳為聚醯胺醯亞胺系樹脂。作為聚醯胺醯亞胺系樹脂的具體例子，可列舉日本專利特開2018-119141號公報中記載的聚醯胺醯亞胺膜等。
前表面板10可以是在基材膜的至少一面設置有硬塗層的膜。作為基材膜，可使用由上述樹脂製成的膜。硬塗層可形成在基材膜的一面上，亦可形成在兩面上。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及劃痕性的樹脂膜。
硬塗層可包含含有活性能量線硬化型樹脂的硬塗層形成用組成物（以下亦稱為HC（hard coat）層形成用組成物）的硬化物。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高硬度，硬塗層可含有添加劑。添加劑沒有限定，可舉出無機系微粒、有機系微粒、或者該些的混合物。HC層形成用組成物例如可按照韓國公開專利10-2018-0127050等中記載的方法來製備。
當前表面板10是玻璃板時，玻璃板較佳地使用顯示用強化玻璃。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的前表面板10。
當積層體100用於顯示裝置時，前表面板10不僅具有保護顯示裝置的前表面（畫面）的功能（作為窗口膜的功能），可亦具有作為進行由觸控感測器面板30檢測到的觸控的操作面的功能，此外，亦可具有藍光隔斷功能、視角調整功能等。
[兩面帶有黏著劑層的圓偏光板] 兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20較佳為依次包含第一黏著劑層、直線偏光板、相位差層、及第二黏著劑層。在該實施方式中，兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的厚度可為自第一黏著劑層中的與直線偏光板側為相反側的表面起至第二黏著劑層中的與直線偏光板側為相反側的表面的距離。以直線偏光板的吸收軸和相位差層的遲相軸成為規定角度的方式配置直線偏光層和相位差層的圓偏光板能夠發揮防反射功能。相位差層包含λ/4板時，直線偏光板的吸收軸與λ/4板的遲相軸所成的角度可為45°±10°。直線偏光板和相位差層可藉由後述的貼合層貼合。以下，有時亦將第一黏著劑層及第二黏著劑層統稱為黏著劑層。
兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的厚度b例如可為10 μm以上200 μm以下，較佳為15 μm以上150 μm以下，更佳為20 μm以上100 μm以下。
（直線偏光板） 作為直線偏光板，可列舉包含吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層、或者塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜作為偏振片的膜等。作為二色性色素，具體而言，可使用碘或二色性的有機染料。二色性有機染料包括包含C.I.直接紅（DIRECT RED）39等雙偶氮化合物的二色性直接染料、包含三偶氮、四偶氮等化合物的二色性直接染料。
作為用作偏振片的，塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜，可列舉塗佈含有具有液晶性的二色性色素的組成物或含有二色性色素和聚合性液晶的組成物並使其硬化而得到的層等含有聚合性液晶化合物的硬化物的膜等。塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜與吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層相比，彎曲方向沒有限制，因此較佳。
直線偏光板可僅由偏振片構成，亦可除了偏振片以外，更包括後述的保護層、熱塑性樹脂膜、基材、配向膜、保護層。直線偏光板的厚度例如為2 μm以上且100 μm以下，較佳為10 μm以上且60 μm以下。
（1）具備拉伸膜或拉伸層作為偏振片的直線偏光板 首先，對具備吸附了二色性色素的拉伸膜作為偏振片的直線偏光板進行說明。作為偏振片的吸附了二色性色素的拉伸膜通常可經由如下步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸拉伸的步驟；藉由用二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；及利用硼酸水溶液對吸附了二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及在利用硼酸水溶液進行處理後進行水洗的步驟。可將該偏振片直接用作直線偏光板，亦可將在所述偏振片的一面或兩面貼合了後述的熱塑性樹脂膜的偏振片用作直線偏光板。偏振片的厚度較佳為2 μm以上且40 μm以下。
聚乙烯醇系樹脂藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得到。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，還使用乙酸乙烯酯和能夠與其共聚的其他單體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚的其他單體，例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%～100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改質，例如亦可使用醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯縮醛。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。
接著，對具備吸附了二色性色素的拉伸層作為偏振片的直線偏光板進行說明。作為偏振片的吸附了二色性色素的拉伸層通常可經由如下步驟來製造：將含有上述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈在基材膜上的步驟、將得到的積層膜單軸拉伸的步驟、藉由用二色性色素對經單軸拉伸後的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色，吸附該二色性色素而製成偏振片的步驟、用硼酸水溶液處理吸附有二色性色素的膜的步驟、以及用硼酸水溶液處理後進行水洗的步驟。 根據需要，可自偏振片剝離除去基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
作為拉伸膜或拉伸層的偏振片亦可以在其單面或兩面貼合有熱塑性樹脂膜的形態組裝到積層體中。該熱塑性樹脂膜可作為偏振片用保護膜或相位差膜發揮功能。熱塑性樹脂膜例如可為包含如下樹脂的膜，即，鏈狀聚烯烴系樹脂（聚丙烯系樹脂等）、環狀聚烯烴系樹脂（降冰片烯系樹脂等）等聚烯烴系樹脂；三乙醯纖維素等纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或者該些的混合物等。
自薄型化的觀點出發，熱塑性樹脂膜的厚度通常為300 μm以下，較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，進而佳為80 μm以下，進一步佳為60 μm以下，另外通常為5 μm以上，較佳為20 μm以上。熱塑性樹脂膜可具有相位差，亦可不具有相位差。熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層貼合在偏振片上。
（2）具備塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜作為偏振片的直線偏光板 對具備塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜作為偏振片的直線偏光板進行說明。用作偏振片的，塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜可列舉：在基材上塗佈含有具有液晶性的二色性色素的組成物、或者含有二色性色素和液晶化合物的組成物並使其硬化而得到的膜等。該膜可剝離或與基材一起作為直線偏光板使用，或者亦可以在其一面或兩面具有熱塑性樹脂膜的構成作為直線偏光板使用。
基材可以是熱塑性樹脂膜。基材的例子及厚度可與上述熱塑性樹脂膜的說明中例示者相同。基材可以是在至少一個表面具有硬塗層、防反射層或防靜電層的熱塑性樹脂膜。基材可僅在未形成偏振片的一側的表面上形成硬塗層、防反射層、防靜電層等。基材亦可僅在形成有偏振片的一側的表面上形成硬塗層、防反射層、防靜電層等。硬塗層的例子與上述前表面板的說明中的HC層形成用組成物的例子相同。
作為熱塑性樹脂膜，可列舉與具備上述拉伸膜或拉伸層作為偏振片的直線偏光板相同者。熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層貼合在偏振片上。
塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜較佳為薄，但過薄時強度降低，加工性有變差的傾向。該膜的厚度通常為20 μm以下，較佳為5 μm以下，更佳為0.5 μm以上3 μm以下。
作為塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜，具體而言，可列舉日本專利特開2013-37353號公報或日本專利特開2013-33249號公報等中記載的膜。
（配向膜） 配向膜可配置在上述基材與含有具有液晶性的二色性色素的組成物、或含有二色性色素與液晶化合物的組成物的硬化物的層之間。配向膜具有使形成於其上的液晶層沿所希望的方向進行液晶配向的配向限制力。作為配向膜，可列舉包含配向性聚合物的配向性聚合物層、包含光配向聚合物的光配向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或多個溝槽（groove）的溝槽槽配向膜。配向膜的厚度例如可為10 nm以上500 nm以下，較佳為10 nm以上200 nm以下。
配向性聚合物層可將配向性聚合物溶解在溶劑中而成的組成物塗佈在基材上，除去溶劑，並根據需要進行摩擦處理而形成。在此種情況下，配向限制力在包含配向性聚合物的配向性聚合物層中，可根據配向性聚合物的表面狀態或摩擦條件而任意調整。
光配向性聚合物層可藉由在基材層上塗佈含有具有光反應性基的聚合物或單體與溶劑的組成物並照射偏光而形成。在此種情況下，配向限制力在光配向性聚合物層中可根據對光配向性聚合物的偏光照射條件等而任意調整。
溝槽配向膜例如可藉由如下方法等而形成，即，經由具有圖案形狀的狹縫的曝光用遮罩對感光性聚醯亞胺膜表面進行曝光、顯影等而形成凹凸圖案的方法；在表面具有槽的板狀的母盤上形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化的層，將該層轉印到基材上並使其硬化的方法；藉由在基材上形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化的層，且將具有凹凸的卷狀的母盤按壓在該層上等而形成凹凸，並使所述層硬化的方法等。
（保護層） 保護層可用來保護偏振片的表面。當直線偏光板包含熱塑性樹脂膜時，保護層可配置在偏振片的與熱塑性樹脂膜相反的一側。作為保護層，可包含作為上述熱塑性樹脂膜的材料而例示的樹脂膜，亦可是塗佈型的保護層。塗佈型的保護層例如可以是塗佈環氧樹脂等陽離子硬化性組成物或(甲基)丙烯酸酯等自由基硬化性組成物並使其硬化而成的保護層，亦可以是塗佈聚乙烯醇系樹脂等水溶液並使其乾燥而成的保護層，視需要可包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料或染料般的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、滑劑等。
保護層的厚度例如可為200 μm以下，較佳為0.1 μm以上且100 μm以下。
（相位差層） 相位差層可包括一層或兩層以上的相位差層。作為相位差層，可以是如λ/4層、λ/2層般的正A層及正C層。相位差層可包含作為上述熱塑性樹脂膜的材料而例示的樹脂膜，亦可包含聚合性液晶化合物硬化而成的層。相位差層可更含有配向膜或基材。相位差層的厚度例如可為1 μm以上50 μm以下。
（黏著劑層） 第一黏著劑層為兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20所具有的黏著劑層。第一黏著劑層為了貼合兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20與前表面板10而配置。第二黏著劑層為兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20所具有的黏著劑層。第二黏著劑層為了貼合兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20和後述的背面板而配置。黏著劑層可使用黏著劑組成物形成。黏著劑層可以是單層結構，亦可以是多層結構，但較佳為單層結構。第一黏著劑層及第二黏著劑層可分別包含同種的黏著劑層，或者亦可包含不同種類的黏著劑層。
黏著劑組成物可以是以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、矽酮系、聚乙烯醚系之類的樹脂為主要成分的黏著劑組成物。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型、熱硬化型。
作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（原料聚合物），例如較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯之類的(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。
原料聚合物較佳為使極性單體共聚。作為極性單體，例如可舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之類的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可僅含有所述原料聚合物，但通常更含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：為2價以上的金屬離子，且與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；為多胺化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者；為聚環氧化合物或多元醇，且與羧基之間形成酯鍵者；為聚異氰酸酯化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。
所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物是指如下的黏著劑組成物，具有受到紫外線或電子線之類的活性能量線的照射而硬化的性質，從而具有在活性能量線照射前仍具有黏著性而可與膜等被黏物密著，且藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密著力的性質。
活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外，更含有活性能量線聚合性化合物。此外，根據需要，亦含有光聚合引發劑或光敏劑等。
作為活性能量線聚合性化合物，例如可列舉分子內具有至少一個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯單體；使兩種以上含官能基的化合物反應而得且分子內具有至少兩個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯寡聚物等含(甲基)丙烯醯氧基的化合物等(甲基)丙烯酸系化合物。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、增黏劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合引發劑等添加劑。
黏著劑層可藉由將所述黏著劑組成物的例如有機溶劑稀釋液塗佈在基材上並使其乾燥而形成。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的硬化物。
第一黏著劑層和第二黏著劑層的厚度分別為例如0.5 μm以上且100 μm以下，較佳為0.7 μm以上且50 μm以下，更佳為1 μm以上且30 μm以下。
黏著劑層在25℃下的儲存彈性係數較佳為0.01 MPa～1.0 MPa，更佳為0.02 MPa～0.1 MPa。儲存彈性係數例如在以下條件下測定。將黏著劑層以厚度0.6 mm的方式積層多個。自得到的黏著劑層中沖裁出直徑8 mm的圓柱體（高0.6 mm），將其作為儲存彈性係數的測定用樣品。可根據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS） K7244-6，使用黏彈性測定裝置並藉由扭轉剪切法進行測定。頻率可設為1 Hz。
[其他構成要素] 積層體100可經由第二黏著劑層貼合背面板。作為背面板，可列舉觸控感測器面板、有機EL顯示元件等顯示元件或該些的組合等。
圖2表示另一形態的積層體200的概略剖面圖。積層體200具備前表面板10和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20。兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20依次具有第一黏著劑層30、直線偏光板40、貼合層50、相位差層60和第二黏著劑層70，直線偏光板40依次具有基材41、配向膜42、偏振片43、及保護層44，相位差層60依次具有λ/4層61、貼合層62、及正C層63。
（貼合層） 貼合層50及貼合層62是黏著劑層或接著劑層，可使用黏著劑組成物或接著劑組成物來形成。貼合層可以是單層結構，亦可以是多層結構，但較佳為單層結構。作為黏著劑組成物，可與上述的黏著劑層的說明中例示的黏著劑組成物相同。
作為接著劑組成物，可為公知的接著劑組成物，作為其例子，可列舉：聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等水系接著劑組成物；藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的活性能量線硬化型接著劑組成物等。
貼合層50及貼合層62的厚度例如為0.5 μm以上且100 μm以下，較佳為0.7 μm以上且50 μm以下，更佳為1 μm以上且30 μm以下。
積層體200可藉由包括如下步驟的方法來製造，即，經由黏著劑層或接著劑層將構成積層體的層彼此貼合的步驟。在經由黏著劑層或接著劑層將層彼此貼合的情況下，為了提高密著性，較佳為對貼合面的一方或雙方實施例如電暈處理等表面活性化處理。
偏振片43可經由配向膜42而形成在基材41上。偏振片43可藉由塗佈含有二色性色素及聚合性液晶化合物的偏振片形成用組成物並使其硬化來形成。偏振片形成用組成物除了上述二色性色素和聚合性液晶化合物以外，較佳為更含有聚合起始劑、調平劑、溶劑，可更含有光敏劑、聚合抑制劑等。
相位差層60可藉由在基材上及存在配向膜時在配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物的相位差層形成用組成物，使聚合性液晶化合物聚合而製造。相位差層形成用組成物更含有溶劑、聚合起始劑，可更含有光敏劑、聚合抑制劑、調平劑等。基材及配向膜可形成在相位差層中，或者亦可自相位差層剝離而不成為積層體的構成要素。
偏振片形成用組成物及相位差層形成用組成物的塗佈、乾燥及聚合性液晶化合物的聚合可藉由以往公知的塗佈方法、乾燥方法及聚合方法進行。
黏著劑層30及黏著劑層70可作為黏著片準備。黏著片例如可藉由如下方式等來製作：在甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑中溶解或分散黏著劑組成物來製備黏著劑液，並利用其在實施了脫模處理的剝離膜上以片狀形成包含黏著劑的層，並在該黏著劑層上再貼合其他剝離膜。可藉由將剝離了一個剝離膜的黏著片貼合在一層上，接著剝離另一個剝離膜，貼合另一層的方法來貼合各層。積層體200可藉由將形成有黏著劑層30及黏著劑層70的圓偏光板與前表面板10貼合來製造，亦可藉由將形成有黏著劑層30的前表面板10與形成有黏著劑層70的圓偏光板貼合來製造，更可藉由將形成有黏著劑層30的前表面板10與圓偏光板貼合，繼而形成黏著劑層70來製造。
＜圖像顯示裝置＞ 作為圖像顯示裝置，沒有特別限定，例如可舉出有機電致發光（有機（electroluminescence，EL））顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電場發光顯示裝置等。本實施方式的圖像顯示裝置由於具有可彎曲的積層體，因此能夠較佳地用於撓性顯示器，特佳地用於有機EL顯示裝置。 [實施例]
以下，藉由實施例更詳細地說明本發明。例中「%」及「份」只要沒有特別說明，為質量%及質量份。
[層的厚度] 使用接觸式膜厚測定裝置（尼康（Nikon）股份有限公司製「MS-5C」）進行測定。但是，對於偏振片、相位差層以及配向膜，使用雷射顯微鏡（LEXT、奧林巴斯（Olympus）股份有限公司製）進行測定。
[最大彈性能] 按照JIS K7161，使用通用試驗機（UTM（Universal Testing Machine，奧托古拉夫（autograph）AG-X，島津製作所股份有限公司）進行拉伸試驗，在以應力[MPa]為縱軸、以應變[%]為橫軸的座標系中取得應力應變曲線。關於拉伸條件，在常溫（溫度23℃）下，速度設為4 mm/分鐘、寬度設為10 mm、標點距離設為50 mm。在得到的應力應變曲線中確認到屈服點的情況下，如圖3的（a）所示，求出由原點、屈服點以及自屈服點下垂至橫軸的垂線與橫軸的交點這3點包圍的面積（斜線部）作為最大彈性能。在得到的應力應變曲線中未確認到屈服點的情況下，如圖3的（b）所示，求出由原點、除去載荷時不返回原來的長度而產生0.2%的殘留應變的點（以下稱為a點）、以及自a點下垂至橫軸的垂線與橫軸的交點這3點包圍的面積（斜線部）作為最大彈性能。
[起伏評價] 在各實施例及比較例中得到的積層體上，經由積層體所具備的黏著劑層貼合聚對苯二甲酸乙二酯（Polyethylene Terephthalate，PET）膜，得到試驗片。PET膜模仿圖像顯示元件，其厚度為100 μm。雷射切割試驗片，在下述條件下實施常溫彎曲試驗，然後使用干涉顯微鏡測定彎曲部的起伏。關於起伏，以積層體的前表面板位於上方的方式設置在干涉顯微鏡，作為藉由干涉顯微鏡在積層體的彎曲部的前表面板側表面觀察到的凹凸中最高的部位和最低的部位的高低差的平均值（n=6）而求出。 （常溫彎曲試驗） 在將積層體以前表面板側為內側、以曲率半徑1 mm（1R）彎曲的狀態下，在溫度23℃下放置10天。
[視認性] 針對起伏評價後的積層體，釋放彎曲的狀態而使其成為平面狀態。將該積層體在螢光燈下設置成使前表面板側為上方，觀察映入積層體表面的螢光燈的圖像。在彎曲的部分，將螢光燈的圖像中未觀察到失真的情況設為○，將螢光燈的圖像中觀察到失真的情況設為×。
[前表面板1] （聚醯胺醯亞胺膜） 在氮氣環境下，向具備攪拌葉片的1L可分離式燒瓶中加入2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺（2,2'-bis(trifluoro methyl)benzidine，TFMB）14.67g（45.8 mmol）及將水分量調整為200 ppm的N,N-二甲基乙醯胺（N,N-dimethyl acetamide，DMAc）233.3g，在室溫下進行攪拌，同時使TFMB溶解於DMAc。接著，向燒瓶中添加4,4'-氧基二鄰苯二甲酸二酐（4,4'-oxy diphthalic dianhydride，OPDA）4.283 g（13.8 mmol），在室溫下攪拌16.5小時。然後，向燒瓶中加入4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)（4,4'-oxy bis (benzoyl chloride)，OBBC）1.359 g（4.61 mmol）和對苯二甲醯氯（terephthaloyl chloride，TPC）5.609 g（27.6 mmol），在室溫下攪拌1小時。接著，向燒瓶中加入乙酸酐4.937 g（48.35 mmol）和4-甲基吡啶1.501 g（16.12 mmol），在室溫下攪拌30分鐘後，用油浴升溫至70℃，再攪拌3小時，得到反應液。 將得到的反應液冷卻至室溫後，加入甲醇360 g和離子交換水170 g，得到聚醯胺醯亞胺的沈澱。將其在甲醇中浸漬12小時，過濾回收，用甲醇清洗。接著，在100℃下進行沈澱物的減壓乾燥，得到厚度50 μm的聚醯胺醯亞胺（Polyamideimide，PAI）樹脂。
（HC層形成用組成物1） HC層形成用組成物1包含：多官能丙烯酸酯（米若末（Miramer） M340、美源（Miwon）特種化工（Specialty Chemical）製）30質量份、奈米矽凝膠的丙二醇單甲醚分散體（12 nm、固體成分40%）50質量份、乙基乙酸酯17質量份，光聚合起始劑（豔佳固（Irgacure）-184、汽巴公司（Ciba Corporation）製）2.7質量份和氟系添加劑（KY1203、信越化學股份有限公司製）0.3質量份。
（前表面板1的製作） 將上述HC層形成用組成物塗佈在聚醯胺醯亞胺膜的一個面上，將得到的塗膜在溫度80℃下乾燥5分鐘，使用紫外線（Ultraviolet，UV）照射裝置（SPOT CURE SP-7，牛尾（USHIO）電機股份有限公司製），照射曝光量500 mJ/cm2 （365 nm基準）的UV光，形成HC層1。以硬化後的厚度達到10.0 μm的方式進行塗敷。如上所述，得到了具有HC層1/聚醯胺醯亞胺膜的構成的前表面板1。
[前表面板2] 在前表面板1的聚醯胺醯亞胺膜的製備中，除了代替OPDA4.283 g而使用4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐（6FDA）6.140 g，代替TFMB14.67 g（45.8 mmol）而使用TFMB8.809 g（27.5 mmol）及2,2'-二甲基聯苯胺（methyl benzidine MB）3.889 g（18.3 mmol）以外，與前表面板1的聚醯胺醯亞胺膜的製備同樣地，得到厚度40 μm的聚醯胺醯亞胺樹脂。
[前表面板3] 準備環烯烴（cycloolefine，COP）膜（厚度40 μm，日本瑞翁（Zeon）股份有限公司製）。
[前表面板4] 準備了三乙醯纖維素（Triacetyl Cellulose，TAC）膜（厚度40 μm）。
[偏振片形成用組成物的製備] （聚合性液晶化合物） 聚合性液晶化合物使用式（1-6）所示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物（1-6）]和式（1-7）所示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物（1-7）]。
[化1]
Figure 02_image001
[化2]
Figure 02_image003
化合物（1-6）和化合物（1-7）藉由路伯等人（Lub et al.）著、《荷蘭皇家化學期刊，Recl.Trav.Chim.Pays-bas》、115、321-328（1996）記載的方法合成。
（二色性色素） 二色性色素使用下述式（2-1a）、（2-1b）、（2-3a）所示的日本專利特開2013-101328號公報的實施例中記載的偶氮色素。
[化3]
Figure 02_image005
[化4]
Figure 02_image007
[化5]
Figure 02_image009
（偏振片形成用組成物的製備） 偏振片形成用組成物藉由將化合物（1-6）75質量份、化合物（1-7）25質量份、作為二色性染料的上述式（2-1a）、（2-1b）、（2-3a）所示的偶氮色素各2.5質量份、作為聚合起始劑的2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮（豔佳固（Irgacure）369、日本巴斯夫（BASF Japan）公司製）6質量份、以及作為調平劑的聚丙烯酸酯化合物（BYK-361N、BYK-Chemie公司製）1.2質量份與作為溶劑的甲苯400質量份混合，並將得到的混合物在80℃下攪拌1小時來製備。
[黏著劑層1] 以下述表1所示的各成分的比例製備形成黏著劑層1的黏著劑組成物。利用塗敷器以乾燥後的厚度為25 μm的方式將該黏著劑組成物塗佈在經脫模處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）的脫模處理面上。將塗佈層在100℃下乾燥1分鐘，得到具備黏著劑層1的膜。然後，在黏著劑層1上貼合進行了脫模處理的另一聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）。然後，在溫度23℃、相對濕度50%RH條件下養護7天。 表1中的單體欄中的符號表示以下含義。 BA：丙烯酸丁酯 MMA：丙烯酸甲酯 EHA：丙烯酸2-乙基己酯 AA：丙烯酸 表1中的交聯劑及矽烷偶合劑使用了以下物質。 交聯劑：科羅奈特（Coronate）L（東曹股份有限公司製） 矽烷偶合劑：KBM-403（信越化學工業股份有限公司製）
[黏著劑層2] 除了使乾燥後的厚度為5 μm以外，與黏著劑層1同樣地得到具備黏著劑層2的膜。
[黏著劑層3] 以下述表1所示的各成分的比例製備形成黏著劑層3的黏著劑組成物。利用塗敷器以乾燥後的厚度為5 μm的方式將該黏著劑組成物塗佈在經脫模處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）的脫模處理面上。將塗佈層在100℃下乾燥1分鐘，得到具備黏著劑層3的膜。然後，在黏著劑層上貼合進行了脫模處理的另一聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）。然後，在溫度23℃、相對濕度50%RH的條件下養護7天。
[表1] Table（表）1
黏著劑組成物[質量份] 25℃下的儲存彈性係數G'[MPa] 厚度 [μm]
構成(甲基)丙烯酸系樹脂的單體 交聯劑 矽烷偶合劑
BA MMA HEA AA
黏著劑層1 98 4 0 1 0.6 0.5 0.5 0.08 25
黏著劑層2 98.4 0 1 0.6 0.5 0.5 0.08 5
黏著劑層3 68 30 1 1 3 0.5 0.7 5
[基材1] 準備三乙醯纖維素（TAC）膜（厚度25 μm）。
[基材2] （HC層形成用組成物2） 使18官能的具有丙烯醯氧基（有時稱為丙烯醯基）的樹狀聚合物丙烯酸酯（米若末（Miramer） SP1106、美源特種化工（Miwon Specialty Chemical）公司）2.0質量份、6官能的具有丙烯醯基的胺基甲酸酯丙烯酸酯（米若末（Miramer） PU-620D、美源特種化工（Miwon Speciality Chemical）公司）10.0質量份、3官能的具有丙烯醯基的丙烯酸酯單體（M340、美源特種化工（Miwon Speciality Chemical）公司）8質量份、光聚合起始劑（豔佳固（Irgacure）（註冊商標）184、巴斯夫（BASF）公司製）2質量份，以及調平劑（BYK-UV3530、日本畢克化學（BYK-Chemie Japan）股份有限公司）0.1質量份溶解於甲基乙基酮（methyl ethyl ketone，MEK）70質量份並攪拌混合，得到硬塗層形成用組成物2。
（基材2的製作） 將上述HC層形成用組成物2塗佈在環烯烴（COP）膜（厚度13 μm）的一個面上，並將得到的塗膜在溫度80℃下乾燥5分鐘，使用UV照射裝置（SPOT CURE SP-7，牛尾（USHIO）電機股份有限公司製），照射曝光量500 mJ/cm2 （365 nm基準）的UV光，形成HC層2。以硬化後的厚度達到2 μm的方式進行塗敷。如上所述，得到基材2。
[λ/4層] 將下述結構的光配向性材料5份（重量平均分子量：30，000）和環戊酮95份混合，將得到的混合物在80℃下攪拌1小時，藉此得到水平配向膜形成用組成物。
[化6]
Figure 02_image011
相對於以90：10的質量比混合了以下所示的聚合性液晶化合物A、及聚合性液晶化合物B的混合物100份，添加1.0份調平劑（F-556；迪愛生（DIC）股份有限公司製）、及6份作為聚合起始劑的2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮（「豔佳固（Irgacure）369（Irg369）」、日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司製）。
以固體成分濃度為13%的方式再添加N-甲基-2-吡咯烷酮（N-methyl-2-pyrrolidone，NMP），在80℃下攪拌1小時，藉此得到相位差層形成用組成物（1）。
聚合性液晶化合物A藉由日本專利特開2010-31223號公報中記載的方法製造。另外，聚合性液晶化合物B藉由日本專利特開2009-173893號公報中記載的方法製造。以下示出各自的分子結構。
（聚合性液晶化合物A）
[化7]
Figure 02_image012
（聚合性液晶化合物B）
[化8]
Figure 02_image014
使用電暈處理裝置（AGF-B10、春日電機股份有限公司製）在輸出0.3 kW、處理速度3 m/分鐘的條件下對包含環烯烴聚合物（COP）膜（日本瑞翁（Zeon）股份有限公司製、ZF-14、厚度23 μm）的基材膜進行1次電暈處理。利用棒塗機將水平配向膜形成用組成物塗佈在實施了電暈處理的基材的表面。將塗佈膜在80℃下乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置（SPOT CURE SP-7；牛尾（USHIO）電機股份有限公司製），以100 mJ/cm2 的累計光量實施偏光UV曝光。用雷射顯微鏡（LEXT、奧林巴斯股份有限公司製）測定得到的水平配向膜的厚度，結果為100 nm。
接著，在室溫25℃、濕度30%RH環境下，使相位差層形成用組成物（1）穿過孔徑0.2 μm的PTFE製薄膜過濾器（愛多邦得科（Advantec）東洋（股）製、產品編號：T300A025A），並使用棒塗機塗佈於在25℃下保溫的帶配向膜的基材膜上。將塗膜在120℃下乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈（尤尼庫瑞（UNICURE） VB-15201BY-A，牛尾（USHIO）電機股份有限公司製），照射紫外線（氮氣氛下，波長：365 nm，波長365 nm下的累計光量：1000 mJ/cm2 ），藉此製作光學膜。用雷射顯微鏡（LEXT，奧林巴斯股份有限公司製）測定得到的塗膜的厚度，結果為2 μm。
如此，得到依次積層有聚合性液晶化合物硬化而成的層（λ/4層）、水平配向膜及基材膜的積層體（相位差層1）。相位差層1顯示出逆波長分散性。
[正C層] 作為垂直配向膜形成用組成物，以1：1：4：5的比例混合丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠基酯、三丙烯酸二季戊四醇酯和雙(2-乙烯基氧基乙基)醚，作為聚合起始劑，使用以4%的比例添加了路西林（LUCIRIN） TPO而成的混合物。
相位差層形成用組成物（2）是將光聚合性向列型液晶化合物（默克（Merck）公司製造，RMM28B）和溶媒調製成固體成分為1 g～1.5 g而製作。溶媒使用將甲基乙基酮（MEK）、甲基異丁基酮（methyl isobutyl ketone，MIBK）和環己酮（cyclohexanone，CHN）以質量比（MEK：MIBK：CHN）計為35：30：35的比例混合而成的混合溶媒。
準備厚度38 μm的聚對苯二甲酸乙二酯（PET）膜作為基材膜。以膜厚為3 μm的方式在基材膜的單面塗佈垂直配向膜形成用組成物，照射200 mJ/cm2 的紫外線，來製作垂直配向膜。
在垂直配向層上藉由模塗佈法塗敷相位差層形成用組成物（2）。塗敷量為4 g（wet）～5 g（wet）。在使乾燥溫度為75℃、乾燥時間為120秒的條件下，使塗膜乾燥。然後，對塗膜照射紫外線（UV），使聚合性液晶化合物聚合。
如此，得到了依次積層有聚合性液晶化合物硬化而成的層（正C層）、垂直配向膜、以及基材膜的積層體（相位差層2）。相位差層2中，聚合性液晶化合物硬化而成的層和配向膜的合計厚度為4 μm。
[相位差層] 將上述相位差層1和相位差層2以與基材膜側的表面為相反側的表面成為貼合面的方式經由黏著劑層3貼合，得到具有基材膜/水平配向膜/λ/4層//黏著劑層3/正C層/垂直配向膜/基材膜的構成的相位差層。
＜實施例1＞ 首先，準備基材1。藉由棒塗法在基材1上塗佈配向膜形成用組成物。將塗膜在80℃下乾燥1分鐘。接著，使用上述UV照射裝置以及線柵，對塗膜照射偏光UV，對塗膜賦予配向性能。曝光量為100 mJ/cm2 （365 nm基準）。線柵使用UIS-27132##（牛尾（USHIO）電機股份有限公司製造）。如此，形成了配向膜。配向膜的厚度為100 nm。
在形成的配向膜上，藉由棒塗法塗佈所述偏振片形成用組成物。將塗膜在100℃下加熱乾燥2分鐘後，冷卻至室溫。使用上述UV照射裝置，以累計光量1200 mJ/cm2 （365 nm基準）對塗膜照射紫外線，藉此形成偏振片。得到的偏振片的厚度為3 μm。以乾燥後的厚度為0.5 μm的方式在偏振片上塗佈含有聚乙烯醇和水的組成物，在溫度80℃下乾燥3分鐘，形成保護層。如此，製作了具有基材1/配向膜/偏振片/保護層的構成的直線偏光板。
對前表面板1的與HC層1相反一側的面和剝離具備黏著劑層1的膜的其中一個聚對苯二甲酸乙二酯膜而露出的黏著劑層1的面實施電暈處理後，將兩者貼合。
接著，對自黏著劑層1剝離另一個聚對苯二甲酸乙二酯膜而露出的黏著劑層1的面和直線偏光板的基材1側的面實施電暈處理後，將兩者貼合。然後，對直線偏光板的保護層側的面和剝離具備黏著劑層3的膜的其中一個聚對苯二甲酸乙二酯膜而露出的黏著劑層3的面實施電暈處理後，將兩者貼合。接著，自黏著劑層3剝離另一個聚對苯二甲酸乙二酯膜，使黏著劑層3露出。如此，得到具有前表面板1/黏著劑層1/基材1/配向膜/偏振片/保護層/黏著劑層3的構成的積層體。
自上述相位差層剝離了在相位差層1的形成中使用的基材膜。將露出的λ/4層與黏著劑層3貼合。偏振片的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度為45°。接著，剝離用於形成相位差層2的基材膜，使正C層露出。然後，準備另一具備黏著劑層1的膜，剝離其中一個聚對苯二甲酸乙二酯膜，使黏著劑層1的面露出。對露出的正C層的面和黏著劑層1的面實施電暈處理後，將兩者貼合。接著，自黏著劑層1剝離另一個聚對苯二甲酸乙二酯膜。如此，得到具有前表面板1/黏著劑層1/基材1/配向膜/偏振片/保護層/黏著劑層3/（λ/4層）/黏著劑層3/正C層/黏著劑層1的構成的實施例1的積層體。結果如表2所示。實施例1中，兩面帶有黏著劑層的圓偏光板包含黏著劑層1/基材1/配向膜/偏振片/保護層/黏著劑層3/（λ/4層）/黏著劑層3/正C層/黏著劑層1。
＜實施例2＞ 除了在實施例1中使用前表面板2代替使用前表面板1之外，與實施例1同樣地獲得實施例2的積層體。將結果示於表2。
＜實施例3＞ 除了在實施例1中使用前表面板3代替使用前表面板1之外，與實施例1同樣地獲得實施例3的積層體。將結果示於表2。
＜比較例1＞ 在實施例1中，使用前表面4代替使用前表面板1，代替準備基材1，在基材1上塗佈配向膜形成用組成物，而準備基材2，在基材2的HC層2上塗佈配向膜形成用組成物，以及代替使用具備黏著劑層1的膜而使用具備黏著劑層2的膜，除此之外，與實施例1同樣地得到比較例1的積層體。將結果示於表2。
[表2]
Table（表）2
  實施例1 實施例2 實施例3 比較例1
前表面板 前表面板1 前表面板2 前表面板3 前表面板4
前表面板構成 （括號內表示厚度[μm]） HC層1（10）/PAI（50） PAI（40） COP（40） TAC（40）
前表面板厚度（a）[μm] 60 40 40 40
前表面板的最大彈性能（c）[106 N/m2 ] 0.73 0.79 1 0.64
兩面帶有黏著劑層的 圓偏光板的厚度（b）[μm] 94.6 94.6 94.6 44.6
[（b/a）×c] 1.15 1.87 2.37 0.71
起伏[μm] 35 32 30 85
面內視認性 ○ ○ ○ ×
10:前表面板 20:兩面帶有黏著劑層的圓偏光板 30:第一黏著劑層/黏著劑層 40:直線偏光板 41:基材 42:配向膜 43:偏振片 44:保護層 50:貼合層 60:相位差層 61:λ/4層 62:貼合層 63:正C層 70:第二黏著劑層/黏著劑層 100、200:積層體
圖1是表示本發明的一形態的積層體的概略剖面圖。 圖2是表示本發明的一形態的積層體的概略剖面圖。 圖3的（a）及（b）是用於說明最大彈性能的應力應變曲線圖。
10:前表面板
20:兩面帶有黏著劑層的圓偏光板
100:積層體

Claims (6)

  1. 一種積層體，具備前表面板和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板，當將所述前表面板的厚度設為a[μm]，將所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的厚度設為b[μm]，將所述前表面板在溫度23℃下的最大彈性能設為c[106 N/m2 ]時，所述積層體滿足下述式（1）： [（b/a）×c]>0.72     （1）。
  2. 如請求項1所述的積層體，其中，所述c滿足下式（2）： c≧0.7           （2）。
  3. 如請求項1或2所述的積層體，其中，所述前表面板包含聚醯胺醯亞胺系樹脂膜。
  4. 如請求項1至3中任一項所述的積層體，其中，所述前表面板具有硬塗層。
  5. 如請求項1至4中任一項所述的積層體，其中，所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板包含第一黏著劑層、直線偏光板、相位差層、及第二黏著劑層。
  6. 一種圖像顯示裝置，具備如請求項1至5中任一項所述的積層體。
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