TW202210298A - 積層體及圖像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

一種積層體，包括前面板及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板，前面板在溫度60℃及相對濕度90%RH下的屈服點處的應變A[%]與透濕度B[g/（m² ·Day）]滿足A/B≧0.005（%·m² ·Day）/g。

Description

積層體及圖像顯示裝置

本發明是有關於一種積層體及包括該積層體的圖像顯示裝置。

韓國公開專利10-2016-0069560中，提出了在依次具有圖像顯示面板、黏著層及可撓性膜的圖像顯示裝置中，為了改善在圖像顯示裝置的表面產生的起伏，黏著層在彎曲區域與圖像顯示面板分離配置。

[發明所欲解決之課題]

包括前面板及兩面具有黏著劑層的圓偏光板的積層體若在濕熱環境中反覆彎曲，則在彎曲部產生折痕，從而例如有時會在反射圖像上產生應變，視認性降低。

本發明的目的在於提供一種積層體及具備該積層體的圖像顯示裝置，所述積層體是包括前面板及在兩面具有黏著劑層的圓偏光板的能夠彎曲的積層體，其中，即使在以前面板側為內側而在高溫高濕環境下彎曲的狀態下長時間放置後，亦不易看到在彎折的部分，在前面板側的表面產生的起伏，視認性優異。

本發明提供以下的積層體及圖像顯示裝置。

[1]一種積層體，包括前面板及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板，其中 所述前面板在溫度60℃及相對濕度90%RH下的屈服點處的應變A[%]與透濕度B[g/（m² ·Day）]滿足下述式（1）， A/B≧0.005（%·m² ·Day）/g   （1）。 [2]如[1]所述的積層體，其中，當將所述前面板的厚度設為a[μm]，將所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的厚度設為b[μm]，將所述前面板在溫度60℃及相對濕度90%RH下的拉伸彈性係數設為c[MPa]時，滿足下述式（2）： [（b/a）×c]≧850 MPa     （2）。 [3]如[1]或[2]所述的積層體，其中，所述a及所述c滿足下述式（3）： a/c≦0.050 μm/MPa     （3）。 [4]如[1]至[3]中任一項所述的積層體，其中，所述前面板具有硬塗層。 [5]如[1]至[4]中任一項所述的積層體，其中，所述前面板具有耐磨耗層。 [6]如[4]所述的積層體，其中，所述前面板具有耐磨耗層，且 所述耐磨耗層形成在所述硬塗層的視認側。 [7]如[5]或[6]所述的積層體，其中，所述耐磨耗層構成所述前面板的視認側表面。 [8]如[1]至[7]中任一項所述的積層體，其中，所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板依次包括第一黏著劑層、直線偏光板、相位差層、及第二黏著劑層。 [9]如[8]所述的積層體，其中，所述直線偏光板包括在至少一個表面具有硬塗層的熱塑性樹脂膜。 [10]如[8]或[9]所述的積層體，其中，所述直線偏光板是包括含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物的硬化物層作為偏光片的膜。 [11]如[1]至[10]中任一項所述的積層體，其中，所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的厚度為100 μm以下。 [12]一種圖像顯示裝置，包括如[1]至[11]中任一項所述的積層體。

根據本發明，可提供一種積層體及具備該積層體的圖像顯示裝置，所述積層體是包括前面板及在兩面具有黏著劑層的圓偏光板的能夠彎曲的積層體，其中，即使在以前面板側為內側而在高溫高濕環境下彎曲的狀態下長時間放置後，亦不易看到在彎折的部分，在前面板側的表面產生的折痕，視認性優異。

以下，參照圖式說明本發明的實施方式，但本發明並不限定於以下的實施方式。在以下的所有圖式中，為了使各構成要素容易理解而適當調整比例尺來進行表示，圖式中所示的各構成要素的比例尺與實際的構成要素的比例尺未必一致。

＜積層體＞ 圖1是根據本發明的一個實施方式的光學積層體的概略剖面圖。圖1所示的積層體100包括前面板10及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20。光學積層體100較佳為前面板10側成為視認側。視認側是指將積層體100用於圖像顯示裝置時圖像顯示裝置的被視認的一側。再者，在前面板10為以提高後述的耐衝擊性等為目的而經由黏著劑層積層樹脂膜的結構的情況下，該結構中所含的黏著劑層為構成前面板10的要素，不視為兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的黏著劑層。

積層體100能夠以前面板10側為內側進行彎曲。能夠彎曲是指可在不使前面板10及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20產生裂紋的情況下使積層體100彎曲。彎曲包括在彎曲部分形成曲面的彎折形態。於彎折形態下，彎折的內表面的彎曲半徑並無特別限定。另外，彎曲包括內表面的折彎角大於0˚且小於180˚的折彎形態以及內表面的彎曲半徑近似為零或內表面的折彎角為0˚的折疊形態。積層體100在彎曲的狀態下在60℃、90%RH的烘箱中放置6小時後，即使在使彎曲復原的情況下，亦較佳為在前面板10及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20上不產生裂紋。積層體100能夠彎曲，因此適合於可撓性顯示器。

[式（1）] 前面板10在溫度60℃及相對濕度90%RH下的屈服點處的應變A[%]與透濕度B[g/（m² ·Day）]滿足下述式（1）。 A/B≧0.005（%·m² ·Day）/g   （1）

本發明者對將包括前面板及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的積層體在高溫高濕環境下以彎曲的狀態長時間放置後，在彎折的部分產生的折痕進行了研究。發現：藉由以在溫度60℃及相對濕度90%RH下測定的屈服點處的應變A[%]與透濕度B[g/（m² ·Day）]滿足式（1）的方式選擇前面板，即使將前面板作為內側在高溫高濕環境下以彎曲的狀態長時間放置後亦不易看到所述產生的折痕，有在前面板側的表面獲得良好的視認性的傾向。推測此種傾向是由於前面板的彈性區域變大、以及水分引起的物性變化變小。在本說明書中，前面板在溫度60℃及相對濕度90%RH下的屈服點處的應變（以下，為了簡化亦簡稱為應變）及透濕度藉由後述的實施例一欄中記載的方法測定。前面板具有多層結構時，應變及透濕度是在多層結構的狀態下測定而得的值。

就獲得良好的視認性的觀點而言，式（1）的左側較佳為0.010（%·m² ·Day）/g以上，更佳為0.045（%·m² ·Day）/g以上，進而佳為0.1（%·m² ·Day）/g以上，特佳為0.3（%·m² ·Day）/g以上。式（1）的左邊通常為1（%·m² ·Day）/g以下。

[式（2）] 當將前面板10的厚度設為a[μm]，將兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的厚度設為b[μm]，將前面板10在溫度60℃下及相對濕度90%RH下的拉伸彈性係數設為c[MPa]時，就獲得良好的視認性的觀點而言，積層體100較佳為滿足下述式（2）。本說明書中，拉伸彈性係數只要並無特別說明，是指在溫度60℃及相對濕度90%RH的環境下測定而得的值。拉伸彈性係數及厚度藉由後述的實施例一欄中記載的方法進行測定。在前面板具有多層結構時，厚度及拉伸彈性係數是在多層結構的狀態下測定而得的值。 [（b/a）×c]≧850 MPa     （2）

藉由積層體100滿足式（2），即使將前面板10作為內側而在高溫高濕環境下以彎曲的狀態長時間放置後，亦抑制在彎折的部分中，在前面板10側的表面產生的折痕，而具有易獲得良好的視認性的傾向。前面板10及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20可以滿足式（2）的方式選擇。

就獲得良好的視認性的觀點而言，式（2）的左邊較佳為900 MPa以上，更佳為1000 MPa以上，進而佳為1500 MPa以上，特佳為2000 MPa以上，更特佳為2500 MPa以上。式（2）的左邊例如可為15000 MPa以下，較佳為10000 MPa以下，更佳為5000 MPa以下，進而佳為4000 MPa以下，特佳為3000 MPa以下。

[式（3）] 就獲得良好的視認性的觀點而言，前面板10的厚度a[μm]及前面板10的拉伸彈性係數c[MPa]較佳為滿足下述式（3）。 a/c≦0.05 μm/MPa       （3）

藉由積層體100滿足式（3），即使將前面板10作為內側而在高溫高濕環境下以彎曲的狀態長時間放置後，亦抑制在彎折的部分中，在前面板10側的表面產生的折痕，而有易獲得良好的視認性的傾向。前面板10可以進一步滿足式（3）的方式選擇。

就獲得良好的視認性的觀點而言，式（3）的左邊較佳為0.04 μm/MPa以下，更佳為0.03 μm/MPa以下。式（3）的左邊例如可為0.001 μm/MPa以上，較佳為0.005 μm/MPa以上，更佳為0.01 μm/MPa以上，特佳為0.02 μm/MPa以上。

本發明者發現，在包括前面板及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的積層體中，將前面板作為內側在高溫高濕環境下以彎曲的狀態長時間放置後產生的折痕根據其階差及寬度，易見度可能發生變化。積層體100在彎曲的狀態下在60℃、90%RH的烘箱中放置6小時後，將彎曲復原時，在彎折的部分在前面板10側的表面產生的折痕的階差相對於寬度的比（階差/寬度）（μm/mm）例如為34 μm/mm以下的情況下，有不易看到折痕的傾向。就折痕的不易觀察度的觀點而言，積層體100的所述比（階差/寬度）（μm/mm）較佳為31 μm/mm以下，更佳為26 μm/mm以下，進而佳為22 μm/mm以下。上述折痕的比（階差/寬度）（μm/mm）藉由在後述的實施例的欄中說明的方法求出。

積層體100的所述折痕的階差例如可小於550 μm，就可獲得良好的視認性的觀點而言，較佳為500 μm以下，更佳為450 μm以下，進而佳為400 μm以下。所述折痕的階差通常為0 μm以上，例如可為1 μm以上、或5 μm以上、或10 μm以上、或100 μm以上、或300 μm以上。所述折痕的階差越低，越有不易看到折痕的傾向。所述折痕的階差藉由後述的實施例一欄中說明的方法測定。

積層體100的所述折痕的寬度例如可為15.5 mm以上，就獲得良好的視認性的觀點而言，較佳為16 mm以上，更佳為16.5 mm以上。所述折痕的寬度通常為50 mm以下，例如可為40 mm以下、或30 mm以下、或20 mm以下。所述折痕的寬度越寬，越有不易看到折痕的傾向。所述折痕的寬度藉由後述的實施例一欄中說明的方法測定。

積層體100在俯視下，例如可為方形形狀，較佳為具有長邊及短邊的方形形狀，更佳為長方形。於積層體100在俯視下為長方形的情況下，長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下，較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下，較佳為30 mm以上且500 mm以下，更佳為50 mm以上且300 mm以下。對於構成光學積層體100的各層，可對角部進行R加工，或者對端部進行切口加工，或者進行穿孔加工。在本說明書中，俯視是指自積層體100的積層方向（厚度方向）觀察時的情況。

積層體100的厚度根據積層體所需的功能以及積層體的用途等而不同，因此並無特別限定，例如可為20 μm以上且500 μm以下，就視認性及彎曲性的觀點而言，較佳為30 μm以上且400 μm以下，更佳為40 μm以上且350 μm以下，進而佳為50 μm以上且300 μm以下，特佳為60 μm以上且250 μm以下，更特佳為70 μm以上且200 μm以下，進而特佳為80 μm以上且160 μm以下，尤佳為90 μm以上且155 μm以下。

積層體100例如可用於顯示裝置等中。顯示裝置並無特別限定，例如可列舉：有機電致發光（organic electroluminescence，有機EL）顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、電致發光顯示裝置等。積層體100能夠彎曲，且在彎曲後不易看到所產生的折痕，因此適合於可撓性顯示器。

[前面板] 以滿足所述式（1）的方式選擇前面板10。前面板10可構成圖像顯示裝置的視認側的最表面。前面板10可具有保護圖像顯示裝置的前表面的功能。

就視認性的觀點而言，前面板10的應變A[%]例如可為1%以上且5%以下，較佳為1.5%以上且4.5%以下，更佳為2%以上且4%以下，進而佳為2.5%以上且3.5%以下。前面板10的應變A[%]高，有積層體100的視認性變良好的傾向。應變A處於所述範圍，在確保直到引起折痕的塑性變形的空間這一點上有利。

就視認性的觀點而言，前面板10的透濕度B[g/（m² ·Day）]例如可為0.1 g/（m² ·Day）以上且1000 g/（m² ·Day）以下，較佳為0.5 g/（m² ·Day）以上且500 g/（m² ·Day）以下，更佳為1 g/（m² ·Day）以上且200 g/（m² ·Day）以下，進而佳為5 g/（m² ·Day）以上且100 g/（m² ·Day）以下，特佳為10 g/（m² ·Day）以上且50 g/（m² ·Day）以下。前面板10的透濕度B[g/（m² ·Day）]低，有積層體100的視認性變得良好的傾向。前面板10的透濕度B處於所述範圍，在不易發生水分引起的前面板10的物性變化這一點上是有利的。

就積層體的視認性及薄型化的觀點而言，前面板10的厚度a[μm]例如可為10 μm以上且100 μm以下，較佳為20 μm以上且90 μm以下，更佳為30 μm以上且80 μm以下，進而佳為40 μm以上且70 μm以下，特佳為45 μm以上且65 μm以下。

前面板10的拉伸彈性係數c[MPa]例如可為800 MPa以上，就抑制彎曲後的起伏的觀點而言，較佳為1000 MPa以上且10000 MPa以下，更佳為1200 MPa以上且8000 MPa以下，進而佳為1400 MPa以上且7000 MPa以下，特佳為1600 MPa以上且6000 MPa以下。拉伸彈性係數例如可藉由構成前面板的板狀體的材料或厚度的選擇、後述的形成硬塗層的硬塗層形成用組成物的組成或其硬化物的厚度的選擇、以及該些的組合而調節至所述範圍。

前面板10可以是能夠透過光的板狀體。前面板10可具有僅由一層構成的單層結構，亦可具有由兩層以上構成的多層結構。作為其例子，可列舉樹脂製的板狀體（例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等）、玻璃製的板狀體（例如玻璃板、玻璃膜等）、樹脂製的板狀體與玻璃製的板狀體的積層體等。前面板10為了提高耐衝擊性，亦可具有經由黏著劑層而積層了樹脂膜的結構。

當前面板10為樹脂製的板狀體時，樹脂製的板狀體例如是能夠透射光的樹脂膜。作為構成樹脂膜等樹脂製板狀體的熱塑性樹脂，例如可列舉：鏈狀聚烯烴系樹脂（聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚甲基戊烯系樹脂等）、環狀聚烯烴系樹脂（降冰片烯系樹脂等）等聚烯烴系樹脂；三乙醯纖維素等纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；乙烯-乙酸乙烯酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醚醯亞胺系樹脂；聚(甲基)丙烯酸甲酯樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚氯乙烯系樹脂；聚偏二氯乙烯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙烯縮醛系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚醯胺醯亞胺系樹脂等。熱塑性樹脂可單獨使用或混合兩種以上使用。 其中，作為構成前面板的熱塑性樹脂，就可撓性、強度及透明性的觀點而言，較佳為環狀聚烯烴系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂，更佳為環狀聚烯烴系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂，進而佳為聚醯胺醯亞胺系樹脂。作為聚醯胺醯亞胺系樹脂的具體例子，可列舉日本專利特開2018-119141號公報中記載的聚醯胺醯亞胺膜等。

前面板10可為在基材膜的至少一面設置有硬塗層的膜。作為基材膜，可使用由上述樹脂製成的膜。藉由設置硬塗層，可製成提高了硬度及耐劃傷性的樹脂膜。硬塗層可形成在基材膜的單面或兩面，較佳為形成在基材膜的單面。在硬塗層形成於前面板10的單面的情況下，在前面板10的與硬塗層相反一側的面上配置兩面帶有黏著劑層的圓偏光板。

硬塗層可包含含有活性能量線硬化型樹脂的硬塗層形成用組成物（以下亦稱為HC（hard coat）層形成用組成物）的硬化物。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高強度，硬塗層可含有添加劑。添加劑沒有限定，可列舉無機系微粒、有機系微粒、或者該些的混合物。HC層形成用組成物例如可按照韓國公開專利10-2018-0127050等中記載的方法來製備。

亦較佳為在所述硬塗層的視認側形成有耐磨耗層，以提高耐磨耗性、或防止由皮脂等帶來的污染。前面板可具有耐磨耗層，耐磨耗層可為構成前面板的視認側表面的層。耐磨耗層可包含源自氟化合物的結構。作為氟化合物，較佳為具有矽原子並且在矽原子中具有烷氧基或鹵素般的水解性基的化合物。藉由水解性基進行脫水縮合反應可形成塗膜，並且藉由與基材表面的活性氫反應可提高耐磨耗層的密接性。此外，氟化合物具有全氟烷基或全氟聚醚結構時，可賦予撥水性，因此較佳。特佳為具有全氟聚醚結構及碳數4以上的長鏈烷基的含氟聚有機矽氧烷化合物。亦較佳為使用兩種以上的化合物作為氟化合物。作為進而較佳含有的氟化合物，為含有碳數2以上的伸烷基、及全氟伸烷基的含氟有機矽氧烷化合物。

耐磨耗層的厚度例如為1 nm～20 nm。另外，耐磨耗層具有防水性，水接觸角例如為110°～125°左右。利用滑落法測定的接觸角滯後及滑落角分別為3°～20°左右、2°～55°左右。進而，耐磨耗層亦可於不阻礙本發明的效果的範圍內含有矽烷醇縮合觸媒、抗氧化劑、防鏽劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、防黴劑、抗菌劑、生物附著防止劑、消臭劑、顏料、阻燃劑、抗靜電劑等各種添加劑。

亦可於耐磨耗層與硬塗層之間設置底塗層。作為底塗劑，例如有紫外線硬化型、熱硬化型、濕氣硬化劑、或二液硬化型的環氧系化合物等底塗劑。另外，作為底塗劑，可使用聚醯胺酸，亦較佳使用矽烷偶合劑。底塗層的厚度例如為0.001 μm～2 μm。

作為獲得包括耐磨耗層與硬塗層的積層體的方法，可藉由以下方式來形成，即，於硬塗層上視需要塗佈底塗劑，進行乾燥硬化而形成底塗層，然後塗佈包含氟化合物的組成物（耐磨耗層塗佈用組成物），並進行乾燥。作為塗佈的方法，例如可列舉：浸漬塗佈法、輥塗法、棒塗法、旋轉塗佈法、噴霧塗佈法、模具塗佈法、凹版印刷塗佈法等。另外，亦較佳為於塗佈底塗劑、或耐磨耗層塗佈用組成物前，對塗佈面實施電漿處理、電暈處理或紫外線處理等親水化處理。該積層體亦可直接積層在前面板上，亦可使用接著劑或黏著劑將積層在另一透明基材上而得者貼合在前面板上。 作為前面板10的層結構，自視認側起依次例如可列舉：硬塗層/基材膜、硬塗層/基材膜/硬塗層、耐磨耗層/硬塗層/基材膜、耐磨耗層/硬塗層/基材膜/硬塗層、耐磨耗層/底塗層/硬塗層/基材膜、耐磨耗層/底塗層/硬塗層/基材膜/硬塗層、硬塗層/基材膜/黏著劑層/耐衝擊性膜、硬塗層/基材膜/硬塗層/黏著劑層/耐衝擊性膜、耐磨耗層/硬塗層/基材膜/黏著劑層/耐衝擊性膜、耐磨耗層/硬塗層/基材膜/硬塗層/黏著劑層/耐衝擊性膜等。

當前面板10是玻璃板時，玻璃板較佳地使用顯示用強化玻璃。藉由使用玻璃板，可構成具有優異的機械強度及表面硬度的前面板10。

當將光學積層體100用於顯示裝置時，前面板10不僅具有保護顯示裝置的前表面（畫面）的功能（作為窗口膜的功能），可亦具有作為進行由觸控感測器面板30檢測到的觸控的操作面的功能，此外，亦可具有藍光隔斷功能、視角調整功能等。

[兩面帶有黏著劑層的圓偏光板] 兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20較佳為依次包括第一黏著劑層、直線偏光板、相位差層、及第二黏著劑層。在該實施方式中，兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的厚度可為自第一黏著劑層中的與直線偏光板側為相反側的表面起至第二黏著劑層中的與直線偏光板側為相反側的表面的距離。以直線偏光板的吸收軸與相位差層的遲相軸成為規定角度的方式配置直線偏光板及相位差層的圓偏光板能夠發揮防反射功能。相位差層包括λ/4層時，直線偏光板的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度可為45°±10°。直線偏光板與相位差層可藉由後述的貼合層而貼合。以下，有時亦將第一黏著劑層及第二黏著劑層統稱為黏著劑層。

兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的厚度b[μm]例如可為200 μm以下，較佳為150 μm以下，更佳為100 μm以下，進而佳為75 μm以下，特佳為50 μm以下。兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20的厚度b[μm]通常為10 μm以上，例如為15 μm以上或20 μm以上。

（直線偏光板） 作為直線偏光板，例如，可列舉包括吸附有二色性色素的延伸膜或延伸層、或者塗佈二色性色素並使其硬化而獲得的硬化物層作為偏光片的膜等。作為二色性色素，具體而言，可使用碘或二色性有機染料。二色性有機染料包括C.I.直接紅（C. I. DIRECT RED）39等包含雙偶氮化合物的二色性直接染料、包含三偶氮、四偶氮等化合物的二色性直接染料。

作為用作偏光片的塗佈二色性色素並使其硬化而獲得的硬化物層，可列舉如下的硬化物層等，即，塗佈含有具有液晶性的二色性色素的組成物或含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物並使其硬化而得到的硬化物層等。在將塗佈二色性色素並使其硬化而獲得的硬化物層用作偏光片的情況下，與吸附二色性色素的延伸膜或延伸層相比，彎曲方向沒有限制，因此較佳。

直線偏光板可僅由偏光片構成，亦可除了偏光片以外，更包括後述的保護層、熱塑性樹脂膜、基材、配向膜、保護層。直線偏光板的厚度例如為2 μm以上且100 μm以下，較佳為10 μm以上且60 μm以下。

（1）包括吸附了二色性色素的延伸膜或延伸層作為偏光片的直線偏光板 作為偏光片的吸附了二色性色素的延伸膜通常可經由如下步驟來製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸的步驟；藉由用二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟；及利用硼酸水溶液對吸附了二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟；以及在利用硼酸水溶液進行處理後進行水洗的步驟。可將該偏光片直接用作直線偏光板，亦可將在所述偏光片的一面或兩面貼合了後述的熱塑性樹脂膜的偏光片用作直線偏光板。偏光片的厚度較佳為2 μm以上且40 μm以下，亦可為3 μm以上且10 μm以下。

聚乙烯醇系樹脂是藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可使用乙酸乙烯酯與能夠與其共聚合的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其他單量體，例如可列舉不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%～100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如亦可使用經醛類改質的聚乙烯縮甲醛（polyvinyl formal）或聚乙烯縮醛（polyvinyl acetal）。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下，較佳為1500以上且5000以下。

接著，對具備吸附了二色性色素的延伸層作為偏光片的直線偏光板進行說明。作為偏光片的吸附了二色性色素的延伸層通常可經由如下步驟來製造：將含有上述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈在基材膜上的步驟、將得到的積層膜單軸延伸的步驟、藉由用二色性色素對經單軸延伸後的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色，吸附該二色性色素而製成偏光片的步驟、用硼酸水溶液處理吸附有二色性色素的膜的步驟、以及用硼酸水溶液處理後進行水洗的步驟。 根據需要，可自偏光片剝離除去基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。

作為延伸膜或延伸層的偏光片亦可以在其單面或兩面貼合有熱塑性樹脂膜的形態組裝到積層體中。該熱塑性樹脂膜可作為偏光片用保護膜或相位差膜發揮功能。熱塑性樹脂膜例如可為包含如下樹脂的膜，即，鏈狀聚烯烴系樹脂（聚丙烯系樹脂等）、環狀聚烯烴系樹脂（降冰片烯系樹脂等）等聚烯烴系樹脂；三乙醯纖維素等纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或者該些的混合物等。

就薄型化的觀點而言，熱塑性樹脂膜的厚度通常為300 μm以下，較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，進而佳為80 μm以下，進一步較佳為60 μm以下，另外通常為5 μm以上，較佳為10 μm以上，進而佳為20 μm以上。熱塑性樹脂膜可具有相位差，亦可不具有相位差。熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層貼合在偏光片上。

（2）包括塗佈二色性色素並使其硬化而獲得的硬化物層作為偏光片的直線偏光板 就包括塗佈二色性色素並使其硬化而獲得的硬化物層作為偏光片的直線偏光板而言，例如塗佈二色性色素並使其硬化而得的膜可列舉如下的膜等，即，包括將含有具有液晶性的二色性色素的組成物、或含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物塗佈在基材上並使其硬化而得到的硬化物層作為偏光片的膜等。該膜可剝離基材或與基材一起作為直線偏光板使用，或者亦可以在其單面或兩面具有熱塑性樹脂膜的構成作為直線偏光板使用。就彎曲性的觀點而言，直線偏光板較佳為含有將包含二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物塗佈在基材上並使其硬化而得到的硬化物層（以下亦稱為含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物的硬化物層）作為偏光片的膜。

基材可為熱塑性樹脂膜。基材的例子及厚度可與上述熱塑性樹脂膜的說明中例示者相同。基材可以是在至少一個表面具有硬塗層、防反射層或防靜電層的熱塑性樹脂膜。基材可僅在未形成偏光片的一側的表面上形成硬塗層、防反射層、防靜電層等。基材亦可僅在形成有偏光片的一側的表面上形成硬塗層、防反射層、防靜電層等。硬塗層的例子與上述前面板的說明中的HC層形成用組成物的例子相同。

作為熱塑性樹脂膜，可列舉與具備上述延伸膜或延伸層作為偏光片的直線偏光板相同者。熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層貼合在偏光片上。

包括塗佈二色性色素並使其硬化而得到的硬化物層的膜較佳為薄，但過薄時強度降低，加工性有變差的傾向。該膜的厚度通常為20 μm以下，較佳為5 μm以下，更佳為0.5 μm以上3 μm以下。

作為包括塗佈二色性色素並使其硬化而成的硬化物層的膜，具體而言，可列舉日本專利特開2013-37353號公報或日本專利特開2013-33249號公報等中記載的膜。

（配向膜） 配向膜可配置在所述基材與硬化物層之間，所述硬化物層將含有具有液晶性的二色性色素的組成物、或含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物硬化而成。配向膜具有使形成於其上的液晶層沿所希望的方向進行液晶配向的配向限制力。作為配向膜，可列舉包含配向性聚合物的配向性聚合物層、包含光配向聚合物的光配向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或多個溝槽（groove）的溝槽槽配向膜。配向膜的厚度例如可為10 nm以上500 nm以下，較佳為10 nm以上200 nm以下。

配向性聚合物層可將配向性聚合物溶解在溶劑中而成的組成物塗佈在基材上，除去溶劑，並根據需要進行摩擦處理而形成。在此種情況下，配向限制力在包含配向性聚合物的配向性聚合物層中，可根據配向性聚合物的表面狀態或摩擦條件而任意調整。

光配向性聚合物層可藉由在基材層上塗佈含有具有光反應性基的聚合物或單體與溶劑的組成物並照射偏光而形成。在此種情況下，配向限制力在光配向性聚合物層中可根據對光配向性聚合物的偏光照射條件等而任意調整。

溝槽配向膜例如可藉由如下方法等而形成，即，經由具有圖案形狀的狹縫的曝光用遮罩對感光性聚醯亞胺膜表面進行曝光、顯影等而形成凹凸圖案的方法；在表面具有槽的板狀的母盤上形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化的層，將該層轉印到基材上並使其硬化的方法；藉由在基材上形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化的層，且將具有凹凸的卷狀的母盤按壓在該層上等而形成凹凸，並使所述層硬化的方法等。

（保護層） 保護層可用來保護偏光片的表面。當直線偏光板包含熱塑性樹脂膜時，保護層可配置在偏光片的與熱塑性樹脂膜相反的一側。作為保護層，可包含作為上述熱塑性樹脂膜的材料而例示的樹脂膜，亦可是塗佈型的保護層。塗佈型的保護層例如可以是塗佈環氧樹脂等陽離子硬化性組成物或(甲基)丙烯酸酯等自由基硬化性組成物並使其硬化而成的保護層，亦可以是塗佈聚乙烯醇系樹脂等水溶液並使其乾燥而成的保護層，視需要可包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料或染料般的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、滑劑等。

在保護層為樹脂膜的情況下，保護層的厚度例如可為5 μm以上且200 μm以下，就薄型化的觀點而言，較佳為10 μm以上且100 μm以下。 在保護層為塗佈型的保護層的情況下，保護層的厚度例如可為0.1 μm以上且30 μm以下，就薄型化的觀點而言，較佳為0.5 μm以上且20 μm以下，更佳為1 μm以上且10 μm以下。

（相位差層） 相位差層可包括一層或兩層以上的相位差層。作為相位差層，可以是如λ/4層、λ/2層般的正A層及正C層。相位差層可包含作為上述熱塑性樹脂膜的材料而例示的樹脂膜，亦可包含聚合性液晶化合物硬化而成的層。相位差層可更含有配向膜或基材。 相位差層較佳為包括λ/4層，進而佳為包括λ/4層與λ/2層或正C層的至少任一者。在相位差層包括λ/2層的情況下，可自直線偏光板側起依次積層λ/2層及λ/4層。在相位差層包括正C層的情況下，可自直線偏光板側起依次積層λ/4層及正C層，亦可自直線偏光板側起依次積層正C層及λ/4層。相位差層的厚度例如可為0.1 μm以上且50 μm以下，較佳為1 μm以上且10 μm以下，更佳為0.5 μm以上且8 μm以下。

（黏著劑層） 第一黏著劑層為兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20所具有的黏著劑層。第一黏著劑層為了貼合兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20與前面板10而配置。第二黏著劑層為兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20所具有的黏著劑層。第二黏著劑層為了貼合兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20及後述的其他層等而配置。黏著劑層可使用黏著劑組成物形成。黏著劑層可以是單層結構，亦可以是多層結構，但較佳為單層結構。第一黏著劑層及第二黏著劑層可分別包含同種的黏著劑層，或者亦可包含不同種類的黏著劑層。

黏著劑組成物可以是以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、矽酮系、聚乙烯醚系之類的樹脂為主要成分的黏著劑組成物。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型、熱硬化型。

作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂（原料聚合物），例如較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯之類的(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。

原料聚合物中較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之類的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。

黏著劑組成物可僅含有所述原料聚合物，但通常更含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：為2價以上的金屬離子，且與羧基之間形成羧酸金屬鹽者；為多胺化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者；為聚環氧化合物或多元醇，且與羧基之間形成酯鍵者；為聚異氰酸酯化合物，且與羧基之間形成醯胺鍵者。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。

所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物，是指具有受到紫外線或電子射線之類的活性能量線的照射而硬化的性質，且具有即便在活性能量線照射前亦具有黏著性而可與膜等被黏物密接，藉由活性能量線的照射而硬化，可調整密接力等的性質的黏著劑組成物。

活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外，更含有活性能量線聚合性化合物。此外，根據需要，亦含有光聚合引發劑或光增感劑等。

作為活性能量線聚合性化合物，例如可列舉：分子內具有至少一個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯單體；使兩種以上含官能基的化合物反應而得且分子內具有至少兩個(甲基)丙烯醯氧基的(甲基)丙烯酸酯寡聚物等含(甲基)丙烯醯氧基的化合物等(甲基)丙烯酸系化合物。

黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠（樹脂珠、玻璃珠等）、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、增黏劑、填充劑（金屬粉或其他無機粉末等）、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合引發劑等添加劑。

黏著劑層可藉由將所述黏著劑組成物的例如有機溶劑稀釋液塗佈在基材上並使其乾燥而形成。使用活性能量線硬化型黏著劑組成物時，藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線，可製成具有所期望的硬化度的硬化物。

第一黏著劑層和第二黏著劑層的厚度分別為例如0.5 μm以上且100 μm以下，較佳為0.7 μm以上且50 μm以下，更佳為1 μm以上且30 μm以下。

黏著劑層在25℃下的儲存彈性係數較佳為0.01 MPa～1.0 MPa，更佳為0.02 MPa～0.1 MPa。儲存彈性係數例如在以下條件下測定。將黏著劑層以厚度0.6 mm的方式積層多個。自得到的黏著劑層中沖裁出直徑8 mm的圓柱體（高0.6 mm），將其作為儲存彈性係數的測定用樣品。可根據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS） K7244-6，使用黏彈性測定裝置並藉由扭轉剪切法進行測定。頻率可設為1 Hz。

[其他層] 積層體100可經由第二黏著劑層而貼合其他層、例如，觸控感測器面板、有機電致發光（electroluminescence，EL）顯示元件等的顯示元件或該些的組合等。

圖2表示另一形態的積層體200的概略剖面圖。積層體200具備前面板10和兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20。兩面帶有黏著劑層的圓偏光板20依次具有第一黏著劑層30、直線偏光板40、貼合層50、相位差層60和第二黏著劑層70，直線偏光板40依次具有基材41、配向膜42、偏光片43、及保護層44，相位差層60依次具有λ/4層61、貼合層62、及正C層63。

（貼合層） 貼合層50及貼合層62是黏著劑層或接著劑層，可使用黏著劑組成物或接著劑組成物來形成。貼合層可以是單層結構，亦可以是多層結構，但較佳為單層結構。作為黏著劑組成物，可與上述的黏著劑層的說明中例示的黏著劑組成物相同。

作為接著劑組成物，可以是公知的接著劑組成物，作為其例子，可列舉聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等水系接著劑組成物；藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的活性能量線硬化型接著劑組成物等。

貼合層50及貼合層62的厚度例如為0.5 μm以上且100 μm以下，較佳為0.7 μm以上且50 μm以下，更佳為1 μm以上且30 μm以下。

積層體200可藉由包括如下步驟的方法來製造，即，經由黏著劑層或接著劑層將構成積層體的層彼此貼合的步驟。在經由黏著劑層或接著劑層將層彼此貼合的情況下，為了提高密著性，較佳為對貼合面的一方或雙方實施例如電暈處理等表面活性化處理。

偏光片43可經由配向膜42而形成在基材41上。偏光片43可藉由塗佈含有二色性色素及聚合性液晶化合物的偏光片形成用組成物並使其硬化來形成。偏光片形成用組成物除了所述的二色性色素及聚合性液晶化合物以外，較佳為更含有聚合起始劑、調平劑、溶劑，可更含有光增感劑、聚合抑制劑、調平劑等。

相位差層60可藉由在基材上及存在配向膜時在配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物的相位差層形成用組成物，使聚合性液晶化合物聚合而製造。相位差層形成用組成物更含有溶劑、聚合起始劑，可更含有光敏劑、聚合抑制劑、調平劑等。基材及配向膜可形成在相位差層中，或者亦可自相位差層剝離而不成為積層體的構成要素。

偏光片形成用組成物及相位差層形成用組成物的塗佈、乾燥及聚合性液晶化合物的聚合可藉由以往公知的塗佈方法、乾燥方法及聚合方法進行。

黏著劑層30及黏著劑層70可作為黏著片準備。黏著片例如可藉由如下方式等來製作：在甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑中溶解或分散黏著劑組成物來製備黏著劑液，並利用其在實施了脫模處理的剝離膜上以片狀形成包含黏著劑的層，並在該黏著劑層上再貼合其他剝離膜。可藉由將剝離了一個剝離膜的黏著片貼合在一層上，接著剝離另一個剝離膜，貼合另一層的方法來貼合各層。

＜圖像顯示裝置＞ 作為圖像顯示裝置，沒有特別限定，例如可舉出有機電致發光（有機EL）顯示裝置、無機電致發光（無機EL）顯示裝置、液晶顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電場發光顯示裝置等。本實施方式的圖像顯示裝置由於具有可彎曲的積層體，因此較佳地適於撓性顯示器，特佳地適於有機EL顯示裝置。 [實施例]

以下，藉由實施例而對本發明進行更詳細說明。例中的「%」及「份」只要並無特別說明，則為質量%及質量份。

[應變] 前面板的應變如下般進行測定。按照JIS K7161，使用通用試驗機（UTM（Universal Testing Machine，奧托古拉夫（Autograph）AG-X，島津製作所股份有限公司），在溫度60℃、濕度90%RH且速度4 mm/分，寬度10 mm、標點距離50 mm的延伸條件下進行了拉伸試驗。在以應力[MPa]為縱軸、以應變[%]為橫軸的坐標系中取得應力應變曲線，求出屈服點處的應變[%]。再者，在未確認到屈服點的情況下，使用在除去負荷時不會恢復到原來的長度，會產生0.2%的殘留應變的點。

[透濕度] 前面板的透濕度如以下般測定。藉由依據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）K 7129的透濕度試驗法，在測定溫度37.6℃、測定濕度90%RH、測定時間24小時下測定透濕度（水蒸氣透過率）。前面板的透濕度使用膜康（MOCON）公司製造的商品名：PERMATRAN_W 3/33 MA進行測定。

[層的厚度] 使用接觸式膜厚測定裝置（MS-5C、尼康（Nikon）股份有限公司製造）進行測定。但是，對於偏光片、相位差層以及配向膜，使用雷射顯微鏡（LEXT、奧林巴斯（Olympus）股份有限公司製）進行測定。

[拉伸彈性係數] 拉伸彈性係數按照JIS K7161，使用通用試驗機（UTM（Universal Testing Machine，奧托古拉夫（Autograph）AG-X，島津製作所股份有限公司）測定。關於延伸條件，設為溫度60℃、濕度90%RH且速度4 mm/分鐘、寬度10 mm、標點距離50 mm。

[視認性的評價] 參照圖3的（a）～圖3的（c）來說明視認性的評價方法。將積層體300切成20 mm×110 mm的尺寸。如圖3的（a）所示，將積層體300經由黏著劑層303、黏著劑層304（厚度25 μm）黏貼在兩片玻璃板301、302（厚度2 mm）上。積層體300的與前面板相反一側的面和黏著劑層303、黏著劑層304相接觸。此時，黏著劑層303、黏著劑層304配置成自彎曲線CL朝兩側各偏離40 mm。接著，如圖3的（b）所示，以積層體300的前面板為內側，以在兩片玻璃板301、302之間夾著彎曲的積層體300的方式彎曲成U字形狀。此時，以使相向的前面板彼此的距離為3.0 mm（彎曲半徑1.5R）的方式夾持3.0 mm厚的板305。其後，將積層體300以彎曲的狀態在60℃、90%RH的烘箱中放置6小時後，將彎曲復原，評價產生的折痕的形狀。 如圖3的（c）所示，將自彎曲中解放出來的積層體300放置在二維測定器的載置台306上，測定彎曲部的階差H1、階差H2及寬度W。階差H1及階差H2設為以載置台306為基準，自彎曲部與載置台306接觸的部位（接點）起在兩側方向上分別成為最高的地點處的高度，寬度W設為隔著接點的兩側分別成為最高的地點之間的距離。將階差H1及階差H2的平均值設為折痕的階差，將寬度W設為折痕的寬度，求出折痕的階差相對於寬度的比（階差/寬度）。 在螢光燈下目視觀察積層體的前面板側的表面，按照以下的基準評價彎曲部的視認性。若彎曲部的視認性為弱或中，則可允許。 （視認性的基準） 強：自前面板側的正面方向及傾斜方向觀察時可看到折痕。 中：自前面板側的正面方向觀察時看不到折痕，但自傾斜方向觀察時可看到折痕，或者自前面板側的傾斜方向觀察時看不到折痕，但自正面方向觀察時可看到折痕。 弱：自前面板側的正面方向觀察時及自傾斜方向觀察時，均幾乎看不到折痕。

[耐磨耗性評價] 在實施例及比較例的積層體的前面板側的最表面滴下3微升的水，利用克呂式（KRUSS）公司的接觸角測定器測定接觸角度。使用耐磨耗測試用橡皮磨擦表面1500次後，利用與所述相同的方法測定水接觸角度，磨耗後接觸角度降低率按下述式求出： 磨耗後接觸角度降低率[%]=（磨耗前接觸角度-磨耗後接觸角度）/磨耗前接觸角度。 基於求出的磨耗後接觸角降低率，按照以下的基準評價耐磨耗性。有磨耗後接觸角降低率越低，耐磨耗性越良好的傾向。 A：磨耗後接觸角度降低率5%以下 B：磨耗後接觸角度降低率超過5%且為10%以下 C：磨耗後接觸角度降低率超過10%

[前面板1] （聚醯胺醯亞胺膜） 在氮氣環境下，向包括攪拌葉片的1L可分離式燒瓶中加入2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺（TFMB）8.809 g（27.5 mmol）、2,2'-二甲基聯苯胺（MB）3.889 g （18.3 mmol）、及將水分量調製為200 ppm的N,N-二甲基乙醯胺（DMAc）233.3 g，在室溫下進行攪拌，同時使TFMB及MB溶解於DMAc中。接著，向燒瓶中添加4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐（6FDA）6.140 g，在室溫下攪拌16.5小時。然後，向燒瓶中加入4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)（4,4'-oxy bis (benzoyl chloride)，OBBC）1.359 g（4.61 mmol）和對苯二甲醯氯（terephthaloyl chloride，TPC）5.609 g（27.6 mmol），在室溫下攪拌1小時。接著，向燒瓶中加入乙酸酐4.937 g（48.35 mmol）和4-甲基吡啶1.501 g（16.12 mmol），在室溫下攪拌30分鐘後，用油浴升溫至70℃，再攪拌3小時，得到反應液。 將得到的反應液冷卻至室溫後，加入甲醇360 g和離子交換水170 g，得到聚醯胺醯亞胺的沈澱。將其在甲醇中浸漬12小時，過濾回收，用甲醇清洗。接著，在100℃下進行沈澱物的減壓乾燥，得到厚度40 μm的聚醯胺醯亞胺膜（以下，亦稱為PAI（Polyamideimide））。

（HC層形成用組成物1） HC層形成用組成物1包含：多官能丙烯酸酯（米若末（Miramer） M340、美源（Miwon）特種化工（Specialty Chemical）製）30質量份、奈米矽凝膠的丙二醇單甲醚分散體（12 nm、固體成分40%）50質量份、乙基乙酸酯17質量份，光聚合起始劑（豔佳固（Irgacure）-184、汽巴公司（Ciba Corporation）製）2.7質量份和氟系添加劑（KY1203、信越化學工業股份有限公司製）0.3質量份。

（前面板1的製作） 將所述HC層形成用組成物1以硬化後的厚度成為5 μm的方式塗佈在聚醯胺醯亞胺膜的一個面上，並將得到的塗膜在溫度80℃下乾燥5分鐘，使用UV照射裝置（SPOT CURE SP-7，牛尾（USHIO）電機股份有限公司製造），照射曝光量500 mJ/cm² （365 nm基準）的UV光，形成HC層1。接著，同樣地，以硬化後的厚度達到5 μm的方式在另一個面上形成HC層1。如上所述，獲得了具有HC層1（厚度5 μm）/PAI（厚度40 μm）/HC層1（厚度μm）的層結構的前面板1。

[前面板2] 在前面板1的聚醯胺醯亞胺膜的製備中，使用4.283 g 4,4'-氧雙鄰苯二甲酸二酐（OPDA）代替6.140 g 6FDA，使用14.67 g（45.8 mmol）TFMB代替8.809 g TFMB及3.889 g MB以外，與前面板1同樣地獲得具有HC層1（厚度5 μm）/PAI（厚度50 μm）/HC層1（厚度5 μm）的層結構的前面板2。

[前面板3] 將所述HC層形成用組成物1以硬化後的厚度成為10 μm的方式塗佈在環烯烴膜（以下，亦稱為COP）（厚度40 μm、日本瑞翁（ZEON）股份有限公司製造）的一個面上，並將得到的塗膜在溫度80℃下乾燥5分鐘，使用UV照射裝置（SPOT CURE SP-7，牛尾（USHIO）電機股份有限公司製造），照射曝光量500 mJ/cm² （365 nm基準）的UV光，形成HC層1。如上所述，獲得了具有HC層1（厚度10 μm）/COP（厚度40 μm）的層結構的前面板1。

[前面板4] 將聚碳酸酯膜（以下亦稱為PC）（厚度40 μm、帝人股份有限公司製造）以1.1～1.3倍的延伸倍率在輸送方向上一邊加熱一邊以厚度成為40 μm的方式進行單軸延伸。除了使用所述單軸延伸的PC代替前面板3的COP以外，與前面板3同樣地獲得具有HC層1（厚度10 μm）/PC（厚度40 μm）的層結構的前面板4。

[前面板5] 參考國際公開WO2014/030474（參考例1及實施例1）製作雙軸配向聚對苯二甲酸乙二酯膜（以下亦稱為PET）（厚度50 μm）。除了使用所述PET代替前面板3的COP以外，與前面板3同樣地獲得具有HC層1（厚度10 μm）/PET（厚度50 μm）的層結構的前面板5。

[前面板6] 準備了三乙醯纖維素（Triacetyl Cellulose，TAC）膜（厚度40 μm）。

[前面板7] 對如上所述製作的前面板1的最表面實施電漿處理，使用噴嘴將含有0.3%過氟聚三亞甲基氧化物、99.7%乙基九氟異丁基醚的耐磨耗層形成用組成物塗佈在電漿處理面上後，在150℃，80%RH條件下實施15分鐘乾燥，形成厚度10 nm的耐磨耗層，獲得前面板7。

[偏光片形成用組成物的製備] （聚合性液晶化合物） 聚合性液晶化合物使用式（1-6）所示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物（1-6）]及式（1-7）所示的聚合性液晶化合物[以下亦稱為化合物（1-7）]。 [化1]

[化2]

化合物（1-6）和化合物（1-7）藉由路伯等人（Lub et al.）著、《荷蘭皇家化學期刊，Recl.Trav.Chim.Pays-bas》、115、321-328（1996）記載的方法合成。

（二色性色素） 二色性色素使用下述式（2-1a）、式（2-1b）、式（2-3a）所表示的日本專利特開2013-101328號公報的實施例中記載的偶氮色素。

[化3]

[化4]

[化5]

（偏光片形成用組成物的製備） 偏光片形成用組成物藉由將化合物（1-6）75質量份、化合物（1-7）25質量份、作為二色性染料的上述式（2-1a）、（2-1b）、（2-3a）所示的偶氮色素各2.5質量份、作為聚合起始劑的2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮（豔佳固（Irgacure）369、日本巴斯夫（BASF Japan）公司製）6質量份、以及作為調平劑的聚丙烯酸酯化合物（BYK-361N、BYK-Chemie公司製）1.2質量份與作為溶劑的甲苯400質量份混合，並將得到的混合物在80℃下攪拌1小時來製備。

[黏著劑層1] 以下述表1所示的各成分的比例製備形成黏著劑層1的黏著劑組成物。利用塗敷器以乾燥後的厚度為25 μm的方式將該黏著劑組成物塗佈在經脫模處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）的脫模處理面上。將塗佈層在100℃下乾燥1分鐘，得到具備黏著劑層1的膜。然後，在黏著劑層1上貼合進行了脫模處理的另一聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）。然後，在溫度23℃、相對濕度50%RH條件下養護7天。 表1中的單體欄中的符號表示以下含義。 BA：丙烯酸丁酯 MMA：甲基丙烯酸甲酯 EHA：丙烯酸2-乙基己酯 AA：丙烯酸 表1中的交聯劑及矽烷偶合劑使用了以下物質。 交聯劑：科羅奈特（Coronate）L（東曹股份有限公司製） 矽烷偶合劑：KBM-403（信越化學工業股份有限公司製）

[黏著劑層2] 除了使乾燥後的厚度為5 μm以外，與黏著劑層1同樣地得到具備黏著劑層2的膜。

[黏著劑層3] 以下述表1所示的各成分的比例製備形成黏著劑層3的黏著劑組成物。利用塗敷器以乾燥後的厚度為5 μm的方式將該黏著劑組成物塗佈在經脫模處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）的脫模處理面上。 將塗佈層在100℃下乾燥1分鐘，得到具備黏著劑層3的膜。然後，在黏著劑層上貼合進行了脫模處理的另一聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）。然後，在溫度23℃、相對濕度50%RH的條件下養護7天。

[表1] 表1

	黏著劑組成物[質量份]	25℃下的儲存彈性係數G' [MPa]	厚度 [μm]
構成(甲基)丙烯酸系樹脂的單體	交聯劑	矽烷偶合劑
BA	MMA	HEA	AA
黏著劑層1	98.4	0	1	0.6	0.5	0.5	0.08	25
黏著劑層2	98.4	0	1	0.6	0.5	0.5	0.08	5
黏著劑層3	68	30	1	1	3	0.5	0.7	5

[基材1] 準備三乙醯纖維素（TAC）膜（厚度25 μm）。

[基材2] （HC層形成用組成物2） 使18官能的具有丙烯醯氧基（有時稱為丙烯醯基）的樹狀聚合物丙烯酸酯（米若末（Miramer） SP1106、美源特種化工（Miwon Specialty Chemical）公司）2.0質量份、6官能的具有丙烯醯基的胺基甲酸酯丙烯酸酯（米若末（Miramer） PU-620D、美源特種化工（Miwon Speciality Chemical）公司）10.0質量份、3官能的具有丙烯醯基的丙烯酸酯單體（M340、美源特種化工（Miwon Speciality Chemical）公司）8質量份、光聚合起始劑（豔佳固（Irgacure）（註冊商標）184、巴斯夫（BASF）公司製）2質量份，以及調平劑（BYK-UV3530、日本畢克化學（BYK-Chemie Japan）股份有限公司）0.1質量份溶解於甲基乙基酮（methyl ethyl ketone，MEK）70質量份並攪拌混合，得到硬塗層形成用組成物2。

（基材2的製作） 將上述HC層形成用組成物2塗佈在環烯烴（COP）膜（厚度13 μm）的一個面上，並將得到的塗膜在溫度80℃下乾燥5分鐘，使用UV照射裝置（SPOT CURE SP-7，牛尾（USHIO）電機股份有限公司製），照射曝光量500 mJ/cm² （365 nm基準）的UV光，形成HC層2。以硬化後的厚度達到2 μm的方式進行塗敷。如上所述，得到基材2。

[λ/4層] 將下述結構的光配向性材料5份（重量平均分子量：30，000）和環戊酮95份混合，將得到的混合物在80℃下攪拌1小時，藉此得到水平配向膜形成用組成物。 [化6]

相對於以90：10質量比混合了以下所示的聚合性液晶化合物A及聚合性液晶化合物B的混合物100份，添加1.0份調平劑（F-556；DIC股份有限公司製）、及6份作為聚合起始劑的2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮（「豔佳固（Irgacure）369（Irg369）」、日本BASF股份有限公司製）。

進而，以固體成分濃度為13%的方式添加N-甲基-2-吡咯啶酮（N-methyl-pyrrolidone，NMP），在80℃下攪拌1小時，藉此得到相位差層形成用組成物（1）。

聚合性液晶化合物A藉由日本專利特開2010-31223號公報中記載的方法製造。另外，聚合性液晶化合物B按照日本專利特開2009-173893號公報中記載的方法製造。以下表示各自的分子結構。

（聚合性液晶化合物A） [化7]

（聚合性液晶化合物B） [化8]

使用電暈處理裝置（AGF-B10、春日電機股份有限公司製）在輸出0.3 kW、處理速度3 m/分鐘的條件下對包含環烯烴聚合物（Cycloolefin Polymer，COP）膜（日本瑞翁（Zeon）股份有限公司製、ZF-14、厚度23 μm）的基材膜進行1次電暈處理。在實施了電暈處理的基材的表面，利用棒塗機塗佈水平配向膜形成用組成物。將塗佈膜在80℃下乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置（SPOT CURE SP-7；牛尾（Ushio）電機股份有限公司製），以100 mJ/cm² 的累計光量實施偏光UV曝光。用雷射顯微鏡（LEXT、奧林巴司（Olympus）股份有限公司製）測定得到的水平配向膜的厚度，結果為100 nm。

接著，在室溫25℃、濕度30%RH環境下，將相位差層形成用組成物（1）穿過孔徑0.2 μm的PTFE製薄膜過濾器（愛多邦得科（Advantec）東洋（股）製、產品編號：T300A025A），於在25℃下保溫的帶配向膜的基材膜上使用棒塗機進行塗佈。將塗膜在120℃下乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈（尤尼庫瑞（UNICURE） VB-15201BY-A，牛尾（USHIO）電機股份有限公司製），照射紫外線（氮氣氛下，波長：365 nm，波長365 nm下的累計光量：1000 mJ/cm² ），藉此製作光學膜。用雷射顯微鏡（LEXT，奧林巴斯股份有限公司製）測定得到的塗膜的厚度，結果為2 μm。

如此，得到依次積層有聚合性液晶化合物硬化而成的層（λ/4層）、水平配向膜及基材膜的積層體（相位差層1）。相位差層1顯示出逆波長分散性。

[正C層] 作為垂直配向膜形成用組成物，以1：1：4：5的比例混合2-丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、三丙烯酸二季戊四醇酯和雙(2-乙烯基氧基乙基)醚，作為聚合起始劑，使用以4%的比例添加露西林蒂珀（LUCIRIN TPO）而得的混合物。

相位差層形成用組成物（2）是將光聚合性向列液晶化合物（默克（Merck）公司製造，RMM28B）和溶劑製備成固體成分為1 g～1.5 g來製作。溶劑使用將甲基乙基酮（methyl ethyl ketone，MEK）、甲基異丁基酮（methyl  isobutyl ketone，MIBK）和環己酮（cyclo hexanone，CHN）以質量比（MEK：MIBK：CHN）計為35：30：35的比例混合而成的混合溶劑。

準備厚度38 μm的聚對苯二甲酸乙二酯（Polyethylene Terephthalate，PET）膜作為基材膜。以膜厚為3 μm的方式在基材膜的單面塗佈垂直配向膜形成用組成物，照射200 mJ/cm² 的紫外線，製作垂直配向膜。

在垂直配向膜上藉由模塗佈來塗佈相位差層形成用組成物（2）。 塗佈量為4 g（wet）～5 g（wet）。使乾燥溫度為75℃、乾燥時間為120秒，使塗膜乾燥。然後，對塗膜照射紫外線（UV），使聚合性液晶化合物聚合。用雷射顯微鏡（LEXT，奧林巴斯（Olympus）股份有限公司製）測定得到的塗膜的厚度，結果為1 μm。

如此，得到了依次積層有聚合性液晶化合物硬化而成的層（正C層）、垂直配向膜、以及基材膜的積層體（相位差層2）。相位差層2中，聚合性液晶化合物硬化而成的層和配向膜的合計厚度為4 μm。

[相位差層] 將上述相位差層1和相位差層2以與基材膜側的表面為相反側的表面成為貼合面的方式經由黏著劑層3貼合，得到具有基材膜/水平配向膜/（λ/4層）/黏著劑層3/正C層/垂直配向膜/基材膜的構成的相位差層。

＜實施例1＞ 首先，準備基材1。藉由棒塗法在基材1上塗佈配向膜形成用組成物。將塗膜在80℃下乾燥1分鐘。接著，使用上述UV照射裝置以及線柵，對塗膜照射偏光UV，對塗膜賦予配向性能。曝光量為100 mJ/cm² （365 nm基準）。線柵使用UIS-27132##（牛尾（Ushio）電機股份有限公司製造）。如此，形成了配向膜。配向膜的厚度為100 nm。

在形成的配向膜上，藉由棒塗法塗佈所述偏光片形成用組成物。將塗膜在100℃下加熱乾燥2分鐘後，冷卻至室溫。使用上述UV照射裝置，以累計光量1200 mJ/cm² （365 nm基準）對塗膜照射紫外線，藉此形成偏光片。得到的偏光片的厚度為3 μm。以乾燥後的厚度為0.5 μm的方式在偏光片上塗佈含有聚乙烯醇和水的組成物，在溫度80℃下乾燥3分鐘，形成保護層。如此，製作了具有基材1/配向膜/偏光片/保護層的構成的直線偏光板。

自包括黏著劑層1的膜剝離其中一個聚對苯二甲酸乙二酯膜。對前面板1及露出的黏著劑層1的面實施電暈處理後，將兩者貼合。

接著，自黏著劑層1剝離另一個聚對苯二甲酸乙二酯膜。對露出的黏著劑層1的面及直線偏光板的基材1側的面實施電暈處理後，將兩者貼合。自包括黏著劑層3的膜剝離其中一個聚對苯二甲酸乙二酯膜。然後，對直線偏光板的保護層側的面及露出的黏著劑層3的面實施電暈處理後，將兩者貼合。接著，自黏著劑層3剝離另一個聚對苯二甲酸乙二酯膜，使黏著劑層3露出。如此，得到具有前面板1/黏著劑層1/基材1/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層3的構成的積層體。

自上述相位差層剝離了在相位差層1的形成中使用的基材膜。將露出的λ/4層與黏著劑層3貼合。偏光片的吸收軸與λ/4層的遲相軸所成的角度為45°。接著，剝離用於形成相位差層2的基材膜，使正C層露出。然後，準備另一具備黏著劑層1的膜，剝離其中一個聚對苯二甲酸乙二酯膜，使黏著劑層1的面露出。對露出的正C層的面和黏著劑層1的面實施電暈處理後，將兩者貼合。接著，自黏著劑層1剝離另一個聚對苯二甲酸乙二酯膜，積層作為有機EL面板的代用品的聚對苯二甲酸乙二酯膜（厚度38 μm）。如此，得到具有前面板1/黏著劑層1/基材1/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層3/（λ/4層）/黏著劑層3/正C層/黏著劑層1/聚對苯二甲酸乙二酯膜的結構的實施例1的積層體。將結果示於表2中。實施例1中，兩面帶有黏著劑層的圓偏光板包括黏著劑層1/基材1/配向膜/偏光片/保護層/黏著劑層3/（λ/4層）/黏著劑層3/正C層/黏著劑層1。

＜實施例2＞ 除了在實施例1中使用前面板2代替使用前面板1之外，與實施例1同樣地獲得實施例2的積層體。將結果示於表2中。

＜實施例3＞ 除了在實施例1中在前面板3的與HC層1相反一側的面上貼合黏著劑層1代替貼合前面板1及黏著劑層1以外，與實施例1同樣地獲得實施例3的積層體。將結果示於表2中。

＜實施例4＞ 除了在實施例1中在前面板4的與HC層1相反一側的面上貼合黏著劑層1代替貼合前面板1及黏著劑層1以外，與實施例1同樣地獲得實施例4的積層體。將結果示於表2中。

＜實施例5＞ 在實施例1中，代替準備基材1，在基材1上塗佈配向膜形成用組成物，而準備基材2，在基材2的HC層2上塗佈配向膜形成用組成物，以及代替使用具備黏著劑層1的膜而使用具備黏著劑層2的膜，除此之外，與實施例1同樣地得到實施例5的積層體。將結果示於表2中。

＜實施例6＞ 除了在實施例1中在前面板5的與HC層1相反一側的面上貼合黏著劑層1代替貼合前面板1及黏著劑層1以外，與實施例1同樣地獲得實施例6的積層體。將結果示於表2中。

＜實施例7＞ 除了在實施例1中在前面板7的與耐磨耗層相反一側的面上貼合黏著劑層1來代替貼合前面板1及黏著劑層1以外，與實施例1同樣地獲得實施例7的積層體。將結果示於表2中。

＜比較例1＞ 除了在實施例5中，使用前面板6代替使用前面板1之外，與實施例5同樣地製作比較例1的積層體。將結果示於表2中。

[表2] 表2

	實施例	比較例
1	2	3	4	5	6	7	1
前面板	種類	前面板1	前面板2	前面板3	前面板4	前面板1	前面板5	前面板7	前面板6
層構成 （括號內表示層的厚度[μm]）	耐磨耗層	-	-	-	-	-	-	耐磨耗層 （0.01）	-
HC層	HC層1 （5）	HC層1 （5）	HC層1 （10）	HC層1 （10）	HC層1 （5）	HC層1 （10）	HC層1 （5）	TAC （40）
熱塑性樹脂膜	PAI （40）	PAI （50）	COP （40）	PC （40）	PAI （40）	PET （50）	PAI （40）	-
HC層	HC層1 （5）	HC層1 （5）	-	-	HC層1 （5）	-	HC層1 （5）	-
厚度a[μm]	50	60	50	50	50	60	50	40
拉伸彈性係數c[MPa]	3360	4480	1700	2700	3360	3100	3360	731.4
屈服點處的應變A[%]	1.8	2.1	3.2	2.3	1.8	1.6	1.8	2.2
透濕度B[g/（m2 ·Day）]	140	170	10	50	140	10	130	1600
前表面帶有黏著劑層的圓偏光板	厚度b[μm]	94.6	94.6	94.6	94.6	44.6	94.6	94.6	44.6
參數	A/B[（%·m2 ·Day）/g]	0.013	0.012	0.320	0.046	0.013	0.160	0.014	0.001
[（b/a）×c][MPa]	6357	7063	3216	5108	2997	4888	6357	816
a/c[μm/MPa]	0.015	0.013	0.029	0.019	0.015	0.019	0.015	0.055
折痕形狀	折痕的階差[μm]	470	460	370	410	490	404	460	550
折痕的寬度[mm]	16.4	16.5	16.8	16.5	16	15.9	16.6	16
比（階差/寬度）[μm/mm]	28.7	27.9	22.0	24.8	30.6	25.4	27.7	34.4
評價結果	視認性	中	中	弱	弱~中	中	弱〜中	中	強
耐磨耗性	B	B	B	B	B	B	A	C

10:前面板 20:兩面帶有黏著劑層的圓偏光板 30:第一黏著劑層 40:直線偏光板 41:基材 42:配向膜 43:偏光片 44:保護層 50:貼合層 60:相位差層 61:λ/4層 62:貼合層 63:正C層 70:第二黏著劑層 100、200、300:積層體 301、302:玻璃板 303、304:黏著劑層 305:板 306:載置台 CL:彎曲線 H1、H2:階差 W:寬度

圖1是表示本發明的一形態的積層體的概略剖面圖。 圖2是表示本發明的一形態的積層體的概略剖面圖。 圖3的（a）~圖3的（c）是用於說明積層體的視認性的評價方法的概略圖。

10:前面板

20:兩面帶有黏著劑層的圓偏光板

30:第一黏著劑層

40:直線偏光板

41:基材

42:配向膜

43:偏光片

44:保護層

50:貼合層

60:相位差層

61:λ/4層

62:貼合層

63:正C層

70:第二黏著劑層

200:積層體

Claims (12)

1. 一種積層體，包括前面板、及兩面帶有黏著劑層的圓偏光板， 所述前面板在溫度60℃及相對濕度90%RH下的屈服點處的應變A[%]與透濕度B[g/（m² ·Day）]滿足下述式（1）， A/B≧0.005（%·m² ·Day）/g   （1）。
2. 如請求項1所述的積層體，其中，當將所述前面板的厚度設為a[μm]，將所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的厚度設為b[μm]，將所述前面板在溫度60℃及相對濕度90%RH下的拉伸彈性係數設為c[MPa]時，滿足下述式（2）： [（b/a）×c]≧850 MPa    （2）。
3. 如請求項1或請求項2所述的積層體，其中，所述a及所述c滿足下述式（3）： a/c≦0.050 μm/MPa         （3）。
4. 如請求項1至請求項3中任一項所述的積層體，其中，所述前面板具有硬塗層。
5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的積層體，其中，所述前面板具有耐磨耗層。
6. 如請求項4所述的積層體，其中，所述前面板具有耐磨耗層，且 所述耐磨耗層形成在所述硬塗層的視認側。
7. 如請求項5或請求項6所述的積層體，其中，所述耐磨耗層構成所述前面板的視認側表面。
8. 如請求項1至請求項7中任一項所述的積層體，其中，所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板依次包括第一黏著劑層、直線偏光板、相位差層、及第二黏著劑層。
9. 如請求項8所述的積層體，其中，所述直線偏光板包括在至少一個表面具有硬塗層的熱塑性樹脂膜。
10. 如請求項8或請求項9所述的積層體，其中，所述直線偏光板是包含含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物的硬化物層作為偏光片的膜。
11. 如請求項1至請求項10中任一項所述的積層體，其中所述兩面帶有黏著劑層的圓偏光板的厚度為100 μm以下。
12. 一種圖像顯示裝置，包括如請求項1至請求項11中任一項所述的積層體。

Images