TW202124998A - 附加飾積層體、光學積層體及撓性影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

附加飾積層體具備：第1構件、第2構件、被前述第1構件及前述第2構件夾持之黏著構件、及以與前述黏著構件接觸之方式設置之加飾層。前述第1構件於前述撓性影像顯示裝置中配置於較前述第2構件更靠視辨側。前述第1構件及前述第2構件不包含黏著構件。在將前述附加飾積層體平坦放置之狀態下，從視辨側觀看前述第1構件時令在中心之前述第1構件與前述黏著構件之界面的積層方向的位置為L10，令在前述中心之前述第1構件之視辨側表面的前述積層方向的位置為L11，且令前述第1構件之與前述加飾層相對向之部分中離視辨側最近之位置為L12，此時自L10至L11為止之高度A1與自L10至L12為止之高度B1滿足A1＜B1之條件。

Description

附加飾積層體、光學積層體及撓性影像顯示裝置
本發明涉及用於撓性影像顯示裝置之附加飾積層體、包含其之光學積層體及撓性影像顯示裝置。
撓性影像顯示裝置具備有例如視窗構件、光學薄膜與包含顯示面板之面板構件。撓性影像顯示裝置亦有更具備觸控感測器之情形。於撓性影像顯示裝置所含之該等構件之間或構件內配置有接著層或黏著層。又，在組裝撓性影像顯示裝置時，有時提供呈現使撓性影像顯示裝置之面板構件除外的積層結構維持於分離件上之狀態的光學積層體。例如，剝離光學積層體之分離件，並與面板構件貼合後，便可形成撓性影像顯示裝置。
撓性影像顯示裝置或光學積層體中，在顯示影像之顯示部之外周會存在驅動元件或觸控感測器之導引配線。因此，於撓性影像顯示裝置或光學積層體設有加飾層，以免從外部看見導引配線。加飾層一般係以與黏著層接觸之方式配置在較觸控感測器更靠視辨側。
專利文獻1提出一種光學積層體，其於積層方向上依序具備前面板、貼合層及背面板，並且該光學積層體更具備著色層，該著色層係設於前述背面板之前述貼合層之第1表面上或與前述第1表面相反之側的第2表面上之一部分。專利文獻1還提出了光學積層體更具備不與著色層接觸之遮蔽層。專利文獻1中記載了以下例子：著色層40設於偏光板60a之第1貼合層20側之表面上的一部分，而遮蔽層50設於偏光板60a之第2貼合層21側之表面上的一部分。且專利文獻1中還記載了以下例子：著色層40在偏光板60a與觸控感測器70之間設於觸控感測器之第2貼合層21側之表面上的一部分。
專利文獻2提出一種光學構件，其具有偏光件、相位差薄膜及平滑化層，且於該相位差薄膜之周緣部形成有相當於加飾層之印刷層。專利文獻2中記載了液晶顯示裝置從視辨側起依序具備光學構件、液晶單元及偏光板。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2019-191560號公報(請求項1及2、圖6及圖8) 專利文獻2：日本專利特開2016-65928號公報(請求項1、[0067])
發明欲解決之課題 在撓性影像顯示裝置或光學積層體中，若設置加飾層可遮蔽導引配線等。但，從視辨側觀看時，有加飾層之側部周邊亮白光造成外觀受損之情形。
用以解決課題之手段 本發明第1態樣涉及一種附加飾積層體，其係用於撓性影像顯示裝置者； 前述附加飾積層體具備：第1構件、第2構件、被前述第1構件及前述第2構件夾持之黏著構件、及以與前述黏著構件接觸之方式設置之加飾層； 前述第1構件於前述撓性影像顯示裝置中配置於較前述第2構件更靠視辨側； 前述第1構件及前述第2構件不包含黏著構件； 在將前述附加飾積層體平坦放置之狀態下，從視辨側觀看前述第1構件時令在中心之前述第1構件與前述黏著構件之界面的積層方向的位置為L10，令在前述中心之前述第1構件之視辨側表面的前述積層方向的位置為L11，且令前述第1構件之與前述加飾層相對向之部分中離視辨側最近之位置為L12，此時自L10至L11為止之高度A1與自L10至L12為止之高度B1滿足A1＜B1之條件。
本發明第2態樣涉及一種光學積層體，其包含上述附加飾積層體； 前述光學積層體具備： 視窗構件； 構件A，係積層於前述視窗構件者； 構件B，係隔著前述構件A積層於前述視窗構件者； 分離件，係隔著前述構件A及前述構件B積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述構件A及前述構件B之其中一者為光學薄膜，另一者為觸控感測器； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜、前述觸控感測器或前述分離件；並且 於較前述觸控感測器更靠視辨側設置有前述加飾層。
本發明第3態樣涉及一種光學積層體，其包含上述附加飾積層體； 前述光學積層體具備： 視窗構件； 光學薄膜，係積層於前述視窗構件者； 分離件，係隔著前述光學薄膜積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜或前述分離件；並且 於較前述分離件更靠視辨側設置有前述加飾層。
本發明第4態樣涉及一種撓性影像顯示裝置，其包含上述附加飾積層體； 前述撓性影像顯示裝置具備： 視窗構件； 構件A，係積層於前述視窗構件者； 構件B，係隔著前述構件A積層於前述視窗構件者； 構件C，係隔著前述構件A及前述構件B積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述構件A及前述構件B之其中一者為光學薄膜，另一者為觸控感測器； 前述構件C至少包含面板構件； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜或前述觸控感測器；並且 於較前述觸控感測器更靠視辨側設置有前述加飾層。
本發明第5態樣涉及一種撓性影像顯示裝置，其包含上述附加飾積層體； 前述撓性影像顯示裝置具備： 視窗構件； 光學薄膜，係積層於前述視窗構件者； 附觸控感測器之面板構件，係隔著前述光學薄膜積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜或前述附觸控感測器之面板構件；並且 於較前述附觸控感測器之面板構件更靠視辨側設置有前述加飾層。
發明效果 針對撓性影像顯示裝置或光學積層體，可提升設有加飾層時的外觀。
撓性影像顯示裝置或光學積層體具有積層有複數個構成構件之結構。藉由於鄰接之構成構件間或構成構件內配置黏著構件，易藉由黏著構件緩和使撓性影像顯示裝置撓曲時之應力。黏著構件與藉由硬化來接著各構件間或構成各構件之層間的接著構件不同，因其即便在貼合各構件間或層間貼合之狀態下仍具備高黏性。
此外，接著構件係已硬化之接著劑，為不具流動性者。另一方面，黏著構件為非硬化性接著劑，其具有流動性。
在撓性影像顯示裝置或光學積層體中，加飾層例如可設置成與黏著構件接觸。加飾層係以從視辨側看不到導引配線之方式設置者，故可見光之透射率低。因此，為了不損及面板構件之視辨性，在從視辨側觀看時，加飾層係設於例如外緣側之一部分。又，由確保在工業上高生產性之觀點來看，加飾層與黏著構件一般會個別製作，再積層並壓接。黏著構件具備流動性及高黏性，因此可藉由黏著構件在某程度上吸收設於其一部分之加飾層的高低差。惟，在撓性影像顯示裝置或光學積層體中，在著眼於包含配置於更靠視辨側之第1構件與第2構件及被該等構件夾持之黏著構件的積層體時，可知當以與黏著構件接觸之方式設置加飾層時，從視辨側起觀看時，有加飾層之側部周邊亮白光，造成外觀受損之情形。此外，從視辨側觀看時，即便在加飾層之側部周邊亮白光之情況下，在從與視辨側相反之側觀看積層體時，幾乎不會觀察到亮白光的現象。加飾層之側部周邊亮白光時，大多會觀察到沿著加飾層之內側的側部亮白光的線。
會發生如上述之亮白光之現象的機制之細節尚不明確，但推測其理由如下。首先，在透過黏著構件使第1構件與第2構件壓接時，若配置有加飾層，因加飾層具有厚度，故會對第1構件、第2構件及黏著構件之與加飾層相對向的部分施加應力。因黏著構件之流動性及黏性，而可藉由黏著構件緩和某程度的應力。但並非全部的應力會被緩和，故應力會加諸於第1構件及第2構件上。第2構件之與加飾層相對向的部分若被加飾層按壓，第2構件會變形成從與加飾層相對向之部分朝從視辨側觀看時之中心側向視辨側凸之狀態。尤其是在加飾層之側部周邊，加飾層會對第2構件產生巨大的應變，而在呈凸之部分中第2部分之表面的梯度便會變大。吾等認為在該梯度大之凸面部分容易反射來自視辨側之光線，從而發生從視辨側觀看時加飾層之側部周邊亮白光之現象。
鑑於所述課題，本發明附加飾積層體係可用於撓性影像顯示裝置(或光學積層體)者。附加飾積層體具備：第1構件、第2構件、被第1構件及第2構件夾持之黏著構件、及以與黏著構件接觸之方式設置之加飾層。第1構件在撓性影像顯示裝置中配置於較第2構件更靠視辨側。第1構件及第2構件不包含黏著構件。在將附加飾積層體平坦放置之狀態下，從視辨側觀看第1構件時令在中心之第1構件與前述黏著構件之界面的積層方向的位置為L10，令在上述中心之第1構件之視辨側表面的積層方向的位置為L11，且令第1構件之與加飾層相對向之部分中離視辨側最近之位置為L12，此時自L10至L11為止之高度(或距離)A1與自L10至L12為止之高度(或距離)B1滿足A1＜B1之條件。
此外，本說明書中，關於附加飾積層體、構成撓性影像顯示裝置或光學積層體之各構件的積層方向(換言之為各構件之平均厚度方向)，有時會將各構件或構成各構件之層的相對位置關係使用撓性影像顯示裝置或光學積層體之「視辨側」或「與視辨側相反之側」的表現方式來表現。又，本說明書中，附加飾積層體係指具備加飾層之積層體。
上述附加飾積層體中，係使第1構件之與加飾層相對向之部分朝視辨側變形。亦即，藉由第1構件之變形使第1構件吸收加飾層造成之應力。藉由使第1構件吸收加飾層造成之應力，可相對減輕加諸於第2構件之應力。吾等認為藉此可降低第2構件之與加飾層相對向之部分的變形，而抑制來自視辨側之光線的反射。結果，可抑制加飾層之側部周邊亮白光之現象的發生。因此，可提升設有加飾層時之外觀。
另，即使使第1構件之與加飾層相對向之部分大幅變形，仍不會觀察到加飾層之側部周邊亮白光之現象。認為其係因即便在從視辨側觀看時觀察到亮白光之現象，仍從與視辨側相反之側觀看時不會觀察到亮白光之現象類似。亦即，即便第1構件之與加飾層相對向的部分被加飾層按壓而變形，外緣側之部分仍係變形成朝視辨側突出。因此，第1構件之表面的梯度大的部分從視辨側觀看時會呈凹面。吾等認為在這種凹面上來自視辨側之光線會散射，故不會觀察到亮白光之現象。
另，光學積層體係在剝離了分離件之狀態下供於撓性影像顯示裝置之組裝。因此，在第2構件為分離件時，即便分離件的變形明顯，在撓性影像顯示裝置中外觀降低並不會有變顯著之情形。然而，由於有時會在光學積層體之狀態下流通，因此即使為第2構件為分離件之光學積層體仍要求不會觀察到如上述之亮白光之現象。
附加飾積層體中，表示第1構件之變形程度的(B1-A1)宜為1µm以上。此時，抑制第2構件變形的效果會更提高。
從視辨側觀看第2構件時令在中心之第2構件與黏著構件之界面的積層方向的位置為L20，令在上述中心之第2構件之與視辨側相反之側之表面的積層方向的位置為L21，且令第2構件之與加飾層相對向之部分中離視辨側最遠之位置為L22，並令自L20至L21為止之高度(或距離)為A2且令自L20至L22為止之高度(或距離)為B2，此時(B1-A1)與(B2-A2)同等或滿足(B1-A1)＞(B2-A2)之條件。此時，可減輕被第2構件吸收之加飾層造成之應力，從而可更有效使第1構件吸收應力。因此，可更提高設有加飾層時之外觀提升的效果。
由可減輕被第2構件吸收之加飾層造成之應力，以更有效使第1構件吸收應力之觀點來看，宜滿足(B2-A2)≦5µm之條件。
又，所謂將附加飾積層體平坦放置的狀態，係指以使附加飾積層體之積層方向與鉛直方向平行之方式，將附加飾積層體(或是包含附加飾積層體之撓性影像顯示裝置或光學積層體)放置於水平的台上之狀態。
(B1-A1)及(B2-A2)各自可根據將附加飾積層體、撓性影像顯示裝置或光學積層體通過上述之中心且裁切加飾層這類之截面的影像來測定。所述截面之影像可藉由X射線CT(Computed Tomography)拍攝。
令第1構件之彈性模數(GPa)為E1，且令第1構件之厚度(mm)為T1時，E1×T1所示R1宜滿足0.5kN/mm以下之條件。彈性模數與厚度之積R1表示第1構件的硬度(或韌性)的程度。當將第1構件之硬度控制在所述範圍內時，便更容易利用第1構件之變形來吸收加飾層造成之應力。因此，可更提高減輕第2構件變形的效果。
使第1構件及第2構件各自吸收之加飾層所造成之應力的平衡亦可藉由各構件之硬度(或韌性)來控制。令第2構件之彈性模數(GPa)為E2，且令第2構件之厚度(mm)為T2時，第2構件之硬度R2(或韌性)以E2×T2表示。而且，第1構件之硬度R1與第2構件之硬度R2宜同等或宜滿足R2＞R1之條件。此外，所述關係與上述之(B1-A1)與(B2-A2)同等或滿足(B1-A1)＞(B2-A2)之條件的關係在實質上為相同意思。換言之，當R1與R2同等時，意指(B1-A1)與(B2-A2)同等，而在R2＞R1時，意指(B1-A1)＞(B2-A2)。各構件之變形的平衡例如可藉由調節各構件之硬度的平衡來調節。
此外，R1與R2同等係指滿足0.5≦R2/R1≦2之條件的範圍。R2＞R1時，比R2/R1為R2/R1＞1。因此，比R2/R1可謂滿足R2/R1≧0.5。藉由設為R2/R1≧0.5，可更有效減輕加飾層造成之第2構件的變形。
R1(kN/mm)宜滿足0.01≦R1≦2.5。R2(kN/mm)宜滿足0.01≦R2≦2.5。當第1構件及第2構件各自的硬度為所述範圍時，可減輕第2構件之變形，並容易在第1構件與第2構件之間以良好的平衡使加飾層造成之應力分散。
當比R2/R1滿足R2/R1＞2之條件時，可謂第2構件之硬度較第1構件充分更大。此時，可使第1構件吸收加飾層造成之大部分的應力，因此可更有效抑制第2構件之變形。
當第2構件之硬度R2較小時，一般容易發生加飾層造成第2構件的變形。即使為所述情況下，當比R2/R1滿足0.5≦R2/R1≦2之條件時，仍可容易利用第1構件之變形來緩和加飾層造成之應力。因此，可更有效減輕第2構件的變形。此處，R1及R2分別宜滿足0.5kN/mm以下之條件。
第1構件及第2構件各自的彈性模數E1及E2(GPa)係分別準備3個各構件測定用試樣，藉由拉伸試驗測定各試樣的彈性模數並將其平均化而得之平均值(算術平均值)。拉伸試驗可使用下述裝置在下述條件下進行。 拉伸試驗機：(股)島津製作所製，Autograph AG-1S 控制：行程 標點距離：100mm 拉伸速度：50mm/分鐘 彈性模數算出範圍：10N/mm2 ~20N/mm2
此外，彈性模數測定用試樣係如下製作。首先，測定各構件之長及寬之彈性模數。接著，將各構件以彈性模數高的方向的長度設為150mm且將彈性模數低的方向的長度設為10mm之方式裁切成短籤狀，藉以製作出試樣。各構件之裁切可使用例如DUMBBELL CO., LTD.製之多用途試驗片裁切機。
各構件之硬度或其平衡例如可藉由調節各構件之材質、層構成及/或厚度來調節。
以下針對附加飾積層體之構成來更具體地說明。
(加飾層) 附加飾積層體中，加飾層係以與被夾持於第1構件與第2構件之間的黏著構件接觸之方式設置。加飾層例如係配置於第1構件之第2構件側的表面及第2構件之第1構件側的表面之至少一者上。由容易降低加飾層造成之第2構件變形之觀點來看，宜僅於第1構件之第2構件側的表面或第2構件之第1構件側的表面之任一者配置加飾層。另，當第2構件為分離件時，加飾層宜配置於第1構件之第2構件側的表面。
加飾層一般係以框狀圖案設置於顯示影像之顯示部之外緣附近的部分，以從外部不會視辨到驅動元件或觸控感測器之導引配線。惟，加飾層的形狀不限於框狀，只要為可遮蔽導引配線等之形狀即可。
對於加飾層除了要求不反射來自視辨側之光外，還要求遮蔽來自與視辨側相反之側的光。所述加飾層例如可以墨水層、金屬薄膜、含金屬微粒子之薄膜構成。含金屬微粒子之薄膜包含例如金屬微粒子與黏結劑樹脂。加飾層可為單層結構亦可為積層結構。積層結構之加飾層亦可為例如選自墨水層、金屬薄膜及含金屬微粒子之薄膜中之至少2種的積層體。該積層體亦包含含有2種以上組成不同之墨水層、2種以上組成不同之金屬薄膜、或2種以上組成不同之含金屬微粒子之薄膜的積層體。
由容易降低第2構件之變形的觀點來看，加飾層之厚度宜為20µm以下，亦可為15µm以下。由容易利用黏著構件消除加飾層造成之高低差的觀點來看，加飾層之厚度可設為10µm以下，亦可設為8µm以下或5µm以下。又，當加飾層之厚度為所述範圍內時，容易確保撓性影像顯示裝置的高耐撓曲性。由確保導引配線之更高的遮蔽效果之觀點來看，加飾層之厚度宜為10nm以上，且30nm以上或50nm以上較佳。
上述加飾層之厚度的上限值與下限值可任意組合。
加飾層例如亦可藉由將含加飾層之構成成分的塗佈劑塗佈於構件之要形成上述加飾層的表面來形成。且，加飾層亦可藉由以氣相法使構成成分堆積於構件之要形成上述加飾層的表面來形成。為金屬薄膜時，尤其藉由利用氣相法可易形成厚度小之加飾層。氣相法可舉濺鍍法、真空蒸鍍法、化學氣相成長(CVD：Chemical Vapor Deposition)法、電子束蒸鍍法等。
亦可在塗佈塗佈劑之前，於構件之要形成上述加飾層的表面上配置有底漆層。例如，在加飾層設於第1構件之第2構件側的表面時，亦可於加飾層與第1構件之第2構件側的表面之間配置有底漆層。而在加飾層設於第2構件之第1構件側的表面時，亦可於加飾層與第2構件之第1構件側的表面之間配置有底漆層。
底漆層例如包含選自於由金屬化合物(金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬硫化物等)及樹脂材料所構成群組中之至少一種。底漆層宜為透明。
由不僅容易利用黏著構件吸收加飾層之高低差，還容易抑制底漆層造成之光學影響的觀點來看，底漆層之厚度宜小。底漆層之厚度例如為500nm以下，且宜為100nm以下或30nm以下。
另，將附加飾積層體應用於撓性影像顯示裝置或光學積層體時，只要加飾層設成例如在較觸控感測器(或附觸控感測器之面板構件)更靠視辨側以與至少1層黏著構件接觸之方式配置之狀態即可。而關於不含觸控感測器之光學積層體，當第2構件為分離件時，只要加飾層設成在較分離件更靠視辨側以與至少1層黏著構件接觸之方式配置之狀態即可。
(黏著構件) 在附加飾積層體中，藉由加飾層配置成與黏著構件接觸，可利用黏著構件之流動性或黏性來緩和加飾層造成之應力。
由易確保更高的應力緩和效果之觀點來看，黏著構件之厚度例如為3µm以上，亦可為5µm以上或6µm以上。又，當黏著構件之層的厚度為所述範圍內時，容易確保撓性影像顯示裝置的高撓曲性。黏著構件之厚度亦可設為10µm以上。此時，易吸收加飾層造成之高低差，而可抑制在加飾層之端部附近產生氣泡。
由容易吸收加飾層造成之高低差的觀點來看，黏著構件的厚度可設為加飾層之厚度的1.5倍以上，亦可設為2倍以上或2.5倍以上，更可設為3倍以上。
黏著構件之厚度可為50µm以下，亦可為40µm以下或30µm以下。當黏著構件之厚度在所述範圍內時，加飾層造成之應力易傳導至第1構件及第2構件，而第2構件更容易變形。但藉由如上述方式控制第1構件與第2構件之變形或硬度的平衡，即使黏著構件之厚度在所述範圍內，仍可有效抑制第2構件之變形。
上述黏著構件之層的厚度的下限值與上限值可任意組合。例如可將黏著構件之厚度設為10µm以上且50µm以下(或是40µm以下或30µm以下)。又，亦可將黏著構件之厚度設為加飾層之厚度的1.5倍以上且50µm以下(或是40µm以下或30µm以下)。
黏著構件之厚度可根據附加飾積層體、或包含附加飾積層體的撓性影像顯示裝置或光學積層體之截面的X射線CT所得影像來測定。黏著構件的厚度係於上述截面之影像中，針對黏著構件之不與加飾層相對向之部分於任意複數處(例如5處)測定厚度並平均化來求得。
黏著構件在25℃下之儲存彈性模數一般為10MPa以下，可為3MPa以下，亦可為2MPa以下或1.5MPa以下。黏著構件之儲存彈性模數在所述範圍內時，可確保高接著性。由以黏著構件吸收加飾層造成之高低差，以更提升降低第2構件變形之效果的觀點來看，黏著構件在25℃下之儲存彈性模數宜設為1MPa以下。
黏著構件在25℃下之儲存彈性模數可為0.001MPa以上，亦可為0.005MPa以上。
上述黏著構件之儲存彈性模數的上限值與下限值可任意組合。
另，接著構件在25℃下之儲存彈性模數大於10MPa，可為100MPa以上，一般為1GPa左右。本說明書中，接著構件意指具有所述儲存彈性模數者。 如此一來，黏著構件便能藉由儲存彈性模數與接著構件區別。
黏著構件之儲存彈性模數可依循JIS K 7244-1：1998來測定。具體上，首先使用黏著構件製作厚度約1.5mm的成形物。將該成形品衝裁成直徑7.9mm之圓盤狀而製作出試驗片。將該試驗片夾入平行板，用動態黏彈性測定裝置(例如Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，在下述條件下進行黏彈性測定，求出25℃下之儲存彈性模數。此外，接著構件的儲存彈性模數亦可依循黏著構件之情況來求得。
(測定條件) 變形模式：扭轉 測定頻率：1Hz 測定溫度：-40℃~+150℃ 升溫溫度：5℃/分鐘
由確保面板構件之高視辨性的觀點來看，黏著構件之全光線透射率宜為85%以上，90%以上較佳。
黏著構件之全光線透射率可依循JIS K 7136K：2000來測定。測定可使用於無鹼玻璃(厚度0.8~1.0mm，全光線透射率92%)上將黏著構件配置至約1.5mm之厚度為止而成的試驗片。
黏著構件由黏著劑構成。黏著劑之種類並無特別限制，可舉例如丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑及纖維素系黏著劑等。黏著劑中可包含例如基底聚合物、交聯劑、添加劑(例如增黏劑、耦合劑、聚合抑制劑、交聯延遲劑、觸媒、塑化劑、軟化劑、充填劑、著色劑、金屬粉、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、抗劣化劑、界面活性劑、抗靜電劑、表面潤滑劑、調平劑、防腐劑、無機或有機系材料之粒子(金屬化合物粒子(金屬氧化物粒子等)、樹脂粒子等)等)，惟不受該等所限。
當使用可獲得如上述之儲存彈性模數的黏著劑作為黏著劑，因可容易緩和加飾層造成之應力故有利。
黏著構件例如可藉由將構成黏著構件之黏著劑塗佈或轉印已成形成薄片狀之黏著劑至第1構件及第2構件中之任一者的表面來形成。然後，藉由將第1構件及第2構件之另一者積層於黏著構件，黏著構件會被配置於第1構件及第2構件間。於第1構件及第2構件中之任一者之表面形成加飾層之後，若以覆蓋加飾層之方式塗佈黏著劑，則有加飾層被破壞之情形，故一般加飾層與黏著構件係個別製作再積層。此時，加飾層造成第2構件的變形則容易成為問題。但即使為所述情況下，藉由如上述方式在第1構件與第2構件控制變形或硬度的平衡，仍可有效抑制第2構件之變形。
(第1構件及第2構件) 在本發明中，藉由如上述方式在第1構件與第2構件控制變形或硬度的平衡，能抑制第2構件過度變形，從而抑制在設置加飾層時之撓性影像顯示裝置或光學積層體的外觀降低。
第1構件及第2構件各自設為不包含黏著構件者。在此，黏著構件係指具備如上述之在25℃下之儲存彈性模數的黏著構件。
(B1-A1)宜為1µm以上，可為2µm以上，亦可為3µm以上或5µm以上。(B1-A1)在所述範圍內時，可更提高抑制第2構件變形之效果。而由容易確保撓性影像顯示裝置或光學積層體之視辨側表面的高平滑性之觀點，(B1-A1)例如為10µm以下。
表示第2構件之變形程度的(B2-A2)宜為5µm以下，3µm以下較佳。當(B2-A2)在所述範圍內時，針對撓性影像顯示裝置或光學積層體可確保更良好的外觀。(B2-A2)可取0µm以上之值。
第1構件及第2構件之變形程度的關係宜為(B1-A1)與(B2-A2)同等或宜滿足(B1-A1)＞(B2-A2)之條件。其中，以(B1-A1)≧(B2-A2)較佳。在所述情況下，針對撓性影像顯示裝置或光學積層體可確保更良好的外觀。
第1構件之硬度R1例如為0.01kN/mm以上，亦可為0.05kN/mm以上或0.1kN/mm以上。R1例如為2.5kN/mm以下，可為1kN/mm以下或0.5kN/mm以下，亦可為0.35kN/mm以下或0.3kN/mm以下。當R1為所述範圍時，藉由第1構件之變形來吸收加飾層造成之應力的效果會提高。該等下限值與上限值可任意組合。
第2構件之硬度R2例如為2.5kN/mm以下。R2可為1kN/mm以下或0.5kN/mm以下，亦可為0.3kN/mm以下。R2例如為0.01kN/mm以上，亦可為0.05kN/mm以上或0.1kN/mm以上。當R2在所述範圍內時，便容易取得第1構件及第2構件之硬度的平衡，而容易利用第1構件之變形來吸收加飾層造成之應力。該等上限值與下限值可任意組合。
當比R2/R1滿足R2/R1＞2之條件時，可更有效地抑制第2構件之變形。此時之比R2/R1的上限並無特別限制。由容易確保撓性影像顯示裝置之高撓曲性的觀點來看，比R2/R1可為30以下，亦可為20以下或16以下。
R1及R2各自為0.5kN/mm以下時，即使為0.5≦R2/R1≦2之範圍，仍可更有效地減輕第2構件之變形。比R2/R1亦可為0.5~1.5或0.5~1。另，R1及R2各自的下限值可自上述範圍選擇。
第1構件及第2構件各自只要為構成撓性影像顯示裝置或用於其之光學積層體的構件、或是構成該構件之1層或2以上之層的積層體即可。第1構件及第2構件各自只要考量到因應用途之層構成與上述各構件之變形或硬度之平衡來決定即可。
第1構件具體上可構成視窗構件或光學薄膜。第2構件具體上可構成視窗構件、光學薄膜、觸控感測器、附觸控感測器之面板構件或分離件。第1構件及第2構件各自可為視窗構件或光學薄膜，亦可為構成視窗構件及光學薄膜之各自之1層或2以上之層的積層體。又，第2構件可為構成觸控感測器之1層或2以上之層的積層體，亦可為觸控感測器、附觸控感測器之面板構件或分離件。
第1構件與第2構件可因應所欲之撓性影像顯示裝置或光學積層體之層構成從上述之各選項任意組合。例如光學積層體一般為包含分離件且不含面板構件之構成。因此，光學積層體中，第2構件可構成視窗構件、光學薄膜、觸控感測器或分離件。撓性影像顯示裝置一般為不含分離件而包含面板構件之構成。因此，撓性影像顯示裝置中，第2構件可構成視窗構件、光學薄膜、觸控感測器或附觸控感測器之面板構件。
又，附加飾積層體只要至少具備有第1構件、第2構件、被該等構件夾持之黏著構件、及以與黏著構件接觸之方式設置之加飾層即可。附加飾積層體亦可更包含其他構件。例如，當第1構件與第2構件之組合為構成視窗構件之第1構件與構成光學薄膜之第2構件之組合時，附加飾積層體亦可更具備有選自於由構成視窗構件之1層或2以上之層的積層體、構成光學薄膜之1層或2以上之層的積層體、觸控感測器(或附觸控感測器面板之構件)及分離件所構成群組中之至少1個構件。又，附加飾積層體亦可具備有配置於各構成構件間及構成構件內之至少一者的黏著構件之層。附加飾積層體除了配置於第1構件與第2構件之間的黏著構件(以下亦稱第1黏著構件)外，還可具備有2層以上黏著構件(以下亦稱第2黏著構件)。
第2黏著構件之構成並無特別限制，可參照第1黏著構件之說明。第2黏著構件之厚度亦可參照關於第1黏著構件之說明。第1黏著構件及第2黏著構件中，構成至少2層之黏著構件的黏著劑可相同，構成各黏著構件之黏著劑亦可不同。第2黏著構件可依循第1黏著構件之情況來形成。
附加飾積層體除了以與第1黏著構件接觸之方式配置的加飾層(以下亦稱第1加飾層)外，亦可具備有以與第2黏著構件接觸之方式配置的其他加飾層(以下亦稱第2加飾層)。第2加飾層可為1層，亦可為2層以上。附加飾積層體具備2層以上第2加飾層時，各第2加飾層一般係以與第2黏著構件之不同層接觸之方式配置。惟，不限於該情況，例如2個第2加飾層亦可以與1個第2黏著構件接觸之方式配置。關於第2加飾層，可參照關於第1加飾層之說明。
以下，更具體說明可成為第1構件及第2構件之各構成構件。
(視窗構件) 視窗構件為了防止光學薄膜、觸控感測器、附觸控感測器之面板構件及面板構件破損，係配置於撓性影像顯示裝置或光學積層體之視辨側的最表面。
視窗構件一般具備有選自於由視窗薄膜及視窗玻璃所構成群組中之至少1層。對於撓性影像顯示裝置或光學積層體要求高柔軟性(高可換性等)、高透明性(高全光線透射率及低霧度等)及高硬度。視窗薄膜之材質或視窗玻璃只要為滿足該等物性者即無特別限制。
視窗玻璃可舉例如薄玻璃基板。
視窗玻璃之厚度例如為5µm以上且40µm以下，亦可為10µm以上且35µm以下。視窗玻璃為所述厚度時，易兼顧高強度與高撓曲性。
視窗薄膜可舉例如透明樹脂薄膜。構成透明樹脂薄膜之樹脂可舉例如選自聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、苯乙烯系樹脂、碸系樹脂、環氧系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚醚醚酮系樹脂、硫化物系樹脂、乙烯醇系樹脂、胺甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂及聚碳酸酯系樹脂中之至少一種。惟，構成透明樹脂薄膜之樹脂不受該等所限。
視窗薄膜之厚度例如為20µm以上且500µm以下，亦可為30µm以上且200µm以下。視窗薄膜為所述厚度時，易兼顧高強度與高撓曲性。
本說明書中，關於黏著構件以外的構件(成形體)或黏著劑以外之材料，所謂透明者意指試驗片之全光線透射率在80%以上者。全光線透射率之測定可使用以透明材料或構件構成之厚度約1.5mm的試驗片。全光線透射率可依循黏著構件之情況來測定。
視窗構件亦可具備有硬塗層。硬塗層一般係與視窗薄膜積層。由可容易獲得視窗薄膜之高度防止破損之效果的觀點來看，硬塗層宜至少設於視窗薄膜之視辨側的表面。
硬塗層的厚度例如為1µm以上且100µm以下，亦可為1µm以上且50µm以下。視窗構件具備複數硬塗層時，只要將各硬塗層的厚度設為所述範圍即可。
硬塗層例如係藉由於成為基底之層(例如視窗薄膜)的表面塗佈硬化性之塗佈劑並使其硬化來形成。
塗佈劑例如可利用光學薄膜用途者。塗佈劑可舉例如丙烯酸系塗佈劑、三聚氰胺系塗佈劑、胺甲酸酯系塗佈劑、環氧系塗佈劑、聚矽氧系塗佈劑、無機系塗佈劑，惟不受該等所限。
塗佈劑亦可包含添加劑。添加劑可舉例如矽烷耦合劑、著色劑、染料、粉體或粒子(顏料、無機或有機填充劑、無機或有機系材料之粒子等)、界面活性劑、塑化劑、抗靜電劑、表面潤滑劑、調平劑、抗氧化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、防污材等，惟不受該等所限。
視窗構件視需求亦可具備有其他層(以下稱層Aw)。層Aw可舉例如抗反射層、防眩層、防污層、抗黏著層、色相調整層、抗靜電層、易接著層、防止離子或寡聚物等析出之層、衝擊吸收層、防飛散層等。視窗構件可包含有1層層Aw，亦可包含有複數層。層Aw例如係設於構成視窗構件之1層(例如視窗薄膜或視窗玻璃)或2以上之層的積層體(例如視窗薄膜與硬塗層之積層體)之視辨側的表面側或與視辨側相反之側的表面。層Aw可於構成視窗構件之層上藉由塗佈等來直接形成，亦可透過接著構件或黏著構件來積層。
第1構件及第2構件各自亦可構成視窗構件。更具體來說，第1構件可為視窗構件，亦可為構成視窗構件之1層或2以上之層的積層體。又，亦可以第1構件與第2構件以及該等之間的加飾層及黏著構件來構成視窗構件。
此外，視窗構件中亦可包含有黏著構件，但第1構件及第2構件各自不包含黏著構件。因此，當視窗構件包含黏著構件時，構成視窗構件之積層結構中，不含黏著構件之區塊(更具體來說為黏著構件以外之1層或不含黏著構件之2以上之層的積層體)便相當於第1構件或第2構件。
視窗構件之厚度Tw例如為0.02mm以上且0.6mm以下，亦可為0.03mm以上且0.3mm以下。
視窗構件之厚度Tw、構成視窗構件之各層或2以上之積層體的厚度可根據附加飾積層體、包含附加飾積層體的撓性影像顯示裝置或光學積層體之截面的X射線CT所得影像來測定。視窗構件之厚度Tw、構成視窗構件之各層或2以上之積層體的厚度係藉由在上述截面之影像中於任意複數處(例如5處)測定厚度並平均化來求得。
此外，本說明書中，附加飾積層體、構成包含附加飾積層體的光學積層體或撓性影像顯示裝置之構件的厚度、或者構成構件之各層或2以上之積層體的厚度係依循為視窗構件之厚度Tw、構成視窗構件之各層或2以上之積層體的厚度之情況來求得。
視窗構件之彈性模數Ew例如為0.53GPa以上且16GPa以下，亦可為1GPa以上且15GPa以下、1GPa以上且10GPa以下或3GPa以上且8GPa以下。
惟，當第1構件或第2構件構成視窗構件時，係以使表示第1構件之硬度的R1或表示第2構件之硬度的R2成為上述範圍之方式，將Ew及Tw各自在上述範圍內進行調節。
(光學薄膜) 光學薄膜係具有光學機能之薄膜。光學薄膜一般係包含具有光學機能之至少1層的積層體。光學薄膜可舉在影像顯示裝置之領域等中所利用者。撓性影像顯示裝置或光學積層體中，附加飾積層體所含第1構件及第2構件各自可構成光學薄膜。具體而言，第1構件及第2構件各自可為光學薄膜，或亦可為構成光學薄膜之1層或2以上之層的積層體。
例如，當第1構件為光學薄膜或構成光學薄膜之1層或2以上之層的積層體時，第2構件可為構成光學薄膜之1層或2以上之層的積層體、觸控感測器、附觸控感測器之面板構件或分離件。當第2構件為光學薄膜或構成光學薄膜之1層或2以上之層的積層體時，第1構件可構成視窗構件或可為構成光學薄膜之1層或2以上之層的積層體。
具有光學機能之層可舉例如具有光學各向異性之層(例如光學各向異性薄膜)。具有光學各向異性之層可舉例如偏光件、相位差層、視角擴大薄膜、視角限制(防窺)薄膜、增亮薄膜、光學補償薄膜，惟不受該等所限。2以上之層的積層體亦可為具有2以上選自該等具有光學各向異性之層者。2以上之層的積層體可為具有光學各向異性之層全部具有不同的功能者，亦可為至少2層具有相同功能者。例如，積層體可包含有偏光件與相位差層，亦可包含2層組成不同之相位差層。
光學薄膜亦可包含有至少1層具有光學機能之層與維持該層之基材層(或用以保護之保護層)。例如，層狀偏光件與維持偏光件之基材層的積層體會稱為偏光板。光學薄膜亦可為至少具備偏光件或偏光板者。
光學薄膜亦可具備有在上述具有光學各向異性之層中之偏光件、偏光件以外之具有光學各向異性之至少1層(以下稱為層Bo)、及視需要之至少一基材層。光學薄膜亦可將偏光件與基材層之積層體以偏光板之形式來具有。
層Bo可隔著基材層積層於偏光板，亦可不隔著基材層積層於偏光件。為後者時，層Bo便會以基材層之形式兼具維持或保護偏光件之功能。
偏光件並無特別限制，可利用在影像顯示裝置之領域等中所利用者。偏光件可舉例如使親水性高分子薄膜吸附二色性物質並進行單軸延伸的薄膜、多烯系定向薄膜。構成親水性高分子薄膜之親水性高分子可舉例如聚乙烯醇系樹脂(亦包含部分縮甲醛化聚乙烯醇系樹脂)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物之部分皂化物。二色性物質可舉例如碘、二色性染料。構成多烯系定向薄膜之材料可舉例如聚乙烯醇系樹脂之脫水處理物、聚氯乙烯系樹脂之脫鹽酸處理物。
偏光件亦可使用厚度為10µm以下之薄型偏光件。薄型偏光件可舉例如日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、國際公開第2010/100917號手冊、日本專利第4691205號公報、日本專利第4751481號公報中所記載之偏光件。薄型偏光件可藉由例如包含在使聚乙烯醇系樹脂層與樹脂基材層積層之狀態下延伸的步驟及利用二色性材料染色的步驟之製法來獲得。
偏光板之厚度例如為200µm以下。由易確保更高之撓曲性的觀點來看，偏光板之厚度宜為100µm以下，且80µm以下或70µm以下較佳。偏光板之厚度例如為10µm以上。
層Bo之厚度例如為0.1µm以上且100µm以下。偏光件不透過基材層而積層於層Bo時(亦即，層Bo具有維持或保護偏光件或之功能時)，宜以使層Bo與偏光件之積層體的厚度成為針對偏光板之厚度所記載之範圍的方式來調節層Bo之厚度。
基材層可使用薄玻璃基板、高分子薄膜等。高分子薄膜可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性及光學各向同性優異之高分子薄膜。具有所述性質的高分子材料可舉例如選自於由以下所構成群組中之至少一種：纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(亦包含環狀聚烯烴系樹脂)、丙烯酸系樹脂、醯亞胺系樹脂(包含苯基馬來醯亞胺系樹脂)、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂(亦包含聚芳酯系樹脂)、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、硫化物系樹脂(例如聚伸苯硫系樹脂)、聚醚醚酮系樹脂、環氧系樹脂及胺甲酸酯系樹脂。惟，構成基材層之高分子材料不受該等所限。
光學薄膜可包含有1層基材層，亦可包含有2層以上基材層。基材層可配置於具有光學機能之1層的一表面上，亦可配置在兩表面上。又，基材層亦可包含2層以上於一表面配置有基材層之具有光學機能的層。光學薄膜包含2層以上基材層時，全部基材層之組成可不同，亦可至少2層基材層之組成相同。
此外，構成光學薄膜之層亦可利用塗敷等直接積層於鄰接之層上。又，構成光學薄膜之層亦可透過接著構件或黏著構件積層於鄰接之層上。第1構件及第2構件各自不包含黏著構件。因此，當光學薄膜包含黏著構件時，構成光學薄膜之積層結構中，不含黏著構件之區塊(更具體來說為黏著構件以外之1層或不含黏著構件之2以上之層的積層體)便相當於第1構件或第2構件。
光學薄膜的厚度To例如為0.005mm以上且0.5mm以下，亦可為0.01mm以上且0.1mm以下。
光學薄膜的彈性模數Eo例如為0.001GPa以上且100GPa以下，亦可為1GPa以上且80GPa以下。
惟，當第1構件或第2構件構成光學薄膜時，係以使表示第1構件之硬度的R1或表示第2構件之硬度的R2成為上述範圍之方式，將Eo及To各自在上述範圍內進行調節。
(觸控感測器) 觸控感測器可使用例如在影像顯示裝置之領域等中所利用者。觸控感測器可舉例如電阻膜式、電容式、光學式或超音波式者，惟不受該等所限。撓性影像顯示裝置及光學積層體中，當於觸控感測器與視窗構件之間存在光學薄膜時，若使用電容式觸控感測器，便可容易獲得高感度。
電容式觸控感測器一般具備有透明導電層。這種觸控感測器可舉例如透明導電層與透明基材之積層體。透明基材可舉例如透明薄膜。
透明導電層並無特別限定，可使用導電性金屬氧化物、金屬奈米線等。金屬氧化物可舉例如包含氧化錫之氧化銦(ITO：Indium Tin Oxide)、含銻之氧化錫。透明導電層亦可為以金屬氧化物或金屬構成之導電性圖案。導電性圖案之形狀可舉條紋狀、四方狀、格子狀等，惟不受該等所限。
透明導電層之表面電阻值例如為0.1Ω/□以上且1000Ω/□以下，亦可為0.5Ω/□以上且500Ω/□以下。
透明導電層之厚度例如為0.005µm以上且10µm以下，亦可為0.01µm以上且3µm以下。
透明薄膜可使用例如透明樹脂薄膜。構成透明樹脂薄膜之樹脂可舉聚酯系樹脂(亦包含聚芳酯系樹脂)、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、硫化物系樹脂(例如聚伸苯硫系樹脂)、聚醚醚酮系樹脂、纖維素系樹脂、環氧系樹脂、胺甲酸酯系樹脂等。透明樹脂薄膜可包含一種該等樹脂，亦可包含二種以上。該等樹脂中又以聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂為佳。惟，構成透明樹脂薄膜的樹脂不受該等樹脂所限。
由提高透明導電層與透明基材之密著性之觀點來看，透明基材亦可使用經表面處理者。表面處理可採用公知者。又，視需求，亦可在積層透明導電層之前，對透明基材進行例如除塵或清淨化處理(利用溶劑或超音波等之洗淨處理等)。
觸控感測器視需求亦可包含透明導電層及透明基材以外之其他層(以下稱為層Ct)。例如，亦可於透明導電層與透明基材之間設置底塗層或防止寡聚物析出之層作為層Ct。又，亦可於透明導電層及透明基材之至少一者之表面積層層Ct。層Ct可舉具有所期望之功能的機能層(例如具有上述光學機能之層(具有光學各向異性之層等))等。惟，層Ct不受該等層所限。層Ct視需求亦可透過接著構件或黏著構件積層於透明導電層或透明基材上。
觸控感測器整體的厚度Tt例如為0.005mm以上且0.25mm以下，亦可為0.01mm以上且0.2mm以下。
觸控感測器之彈性模數Et例如為1GPa以上且10GPa以下，亦可為3GPa以上且8GPa以下。
惟，當第2構件構成觸控感測器時，係以使表示第1構件之硬度的R1或表示第2構件之硬度的R2成為上述範圍之方式，將Et及Tt各自在上述範圍內進行調節。
(附觸控感測器之面板構件) 附觸控感測器之面板構件係觸控感測器與面板構件一體化而成者。這種附觸控感測器之面板構件亦包含有例如於有機發光二極體(OLED：Organic Light Emitting Diode)之薄膜密封層上形成有金屬網格電極的電容式觸控感測器之構成者。觸控感測器亦可參照上述說明。惟，令附觸控感測器之面板構件為不含黏著構件者。
面板構件例如至少包含影像顯示面板。亦可於影像顯示面板之視辨側配置有密封構件(薄膜密封層等)。密封構件一般係直接配置於影像顯示面板之視辨側的表面。
影像顯示面板可使用公知之物。影像顯示面板可舉例如有機電致發光(EL：Electro Luminescence)面板。
附觸控感測器之面板構件亦可具備有保護構件。保護構件可舉例如維持或保護面板構件的片材或薄膜(或基板)。保護構件只要為具有用以維持面板構件並保護面板構件之適度的強度、及不會妨礙撓性影像顯示裝置之撓曲性之適度的柔軟性者即可。保護構件可使用樹脂片材等。樹脂片材之材質無特別限制，例如可因應影像顯示面板之種類來適當選擇。
附觸控感測器之面板構件整體的厚度Tp例如為0.005mm以上且0.1mm以下，亦可為0.01mm以上且0.05mm以下。
附觸控感測器之面板構件之彈性模數Ep例如為1GPa以上且10GPa以下，亦可為3GPa以上且8GPa以下。
第2構件為附觸控感測器面板之面板構件時，係以使表示附觸控感測器之面板構件之硬度的Ep×Tp成為上述R2之範圍之方式來分別調節Ep及Tp。
(分離件) 分離件例如可使用具備基材片材與配置於基材片材之至少一表面的剝離劑之剝離片材。分離件係在剝離劑與黏著構件接觸之狀態下配置。當第2構件為分離件時，分離件係在剝離劑與第1黏著構件接觸之狀態下配置。
基材片材只要為具有適當之強度及柔軟性且可輕易形成剝離劑之層者即可。基材片材可使用樹脂薄膜、紙或該等之積層體等。基材片材之材質可因應剝離劑之種類、光學積層體之構成等來決定。樹脂薄膜亦可使用例如聚酯薄膜(聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等)、聚烯烴薄膜(聚丙烯薄膜等)。基材片材之厚度亦無特別限制，可考量所期望之剝離性來選擇。剝離劑可使用公知之物，且宜選擇黏著構件對分離件的殘存量少者。例如亦可使用聚矽氧系剝離劑、氟系剝離劑。
分離件之厚度Ts例如為0.01mm以上且1mm以下，亦可為0.05mm以上且0.5mm以下。
分離件之彈性模數Es例如為0.001GPa以上且100GPa以下，亦可為1GPa以上且80GPa以下。
第2構件為分離件時，係以使表示分離件之硬度的Es×Ts成為上述R2之範圍之方式來分別調節Es及Ts。
附加飾積層體例如可藉由於第1構件及第2構件之其中一構件之一表面配置加飾層，並於另一構件之一表面配置黏著構件後，以使黏著構件與加飾層接觸之方式疊合第1構件及第2構件，並於厚度方向上加壓來製作。如所述藉由在中介有黏著構件之狀態下加壓，第1構件與第2構件會被接著。亦可將事先製出之附加飾積層體供於撓性影像顯示裝置或光學積層體之製作。且，亦可於進行積層撓性影像顯示裝置或光學積層體之構成構件或層來製作撓性影像顯示裝置或光學積層體之過程中形成附加飾積層體。
進一步包含其他構件或層之附加飾積層體可藉由一邊使黏著構件中介於鄰接之構件間或鄰接的層間，一邊積層各構件或各層來製作。積層順序無特別限制。
圖1~圖6係顯示本發明附加飾積層體的實施形態。惟，附加飾積層體不受該等實施形態所限。
圖1係第1實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。附加飾積層體具備：第1構件I、第2構件II、中介於第1構件I與第2構件II之間的黏著構件(第1黏著構件)21、及以與黏著構件21接觸之方式設置的框狀加飾層30。加飾層30亦可配置於第2構件II之第1構件I側的表面。惟，不限於該情況，加飾層30亦可配置於第1構件I之第2構件II側的表面。在將附加飾積層體平坦放置之狀態下，從撓性影像顯示裝置之視辨側觀看第1構件I時令在中心之第1構件I與黏著構件21之界面的積層方向的位置為L10，令在上述中心之第1構件I之視辨側表面的積層方向的位置為L11，且令第1構件I之與加飾層30相對向之部分中離視辨側最近之位置為L12，此時自L10至L11為止之高度(或距離)A1與自L10至L12為止之高度(或距離)B1滿足A1＜B1之條件。
又，從撓性影像顯示裝置之視辨側觀看第2構件II時令在中心之第2構件II與黏著構件21之界面的積層方向的位置為L20，令在上述中心之第2構件II之與視辨側相反之側之表面的積層方向的位置為L21，且令第2構件II之與加飾層30相對向之部分中離視辨側最遠之位置為L22，並令自L20至L21為止之高度(或距離)為A2且令自L20至L22為止之高度(或距離)B2。此時，(B1-A1)與(B2-A2)宜同等或宜滿足(B1-A1)＞(B2-A2)之條件。
圖2係第2實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。第2實施形態之附加飾積層體具備有作為第1構件I之光學薄膜12、作為第2構件II之分離件S、及中介於光學薄膜12及分離件S之間的黏著構件(第1黏著構件)21。於第1構件I之第2構件II側的表面(與視辨側相反之側的表面)在與黏著構件21接觸之狀態下設有框狀加飾層30。惟，不限於該情況，加飾層30亦可設於第2構件II之第1構件I側的表面。光學薄膜12之視辨側的表面係透過黏著構件(第2黏著構件)22積層有視窗構件11。
視窗構件11例如為視窗薄膜111A與積層於視窗薄膜111A之硬塗層112的積層體11A。硬塗層112宜設於視窗薄膜111A之視辨側的表面。
光學薄膜12為以偏光件121及基材層(保護薄膜)122構成之偏光板與相位差層123的積層體12A。相位差層123係配置於觸控感測器13側，且積層於偏光板之偏光件121側。
圖3係第3實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。第3實施形態之附加飾積層體係視窗構件11。作為附加飾積層體之的視窗構件11具備有作為第1構件I之2層的積層體11B、作為第2構件II之1層11C、中介於積層體11B及層11C之間的黏著構件21。於第1構件I之第2構件II側的表面(與視辨側相反之側的表面)在與黏著構件21接觸之狀態下設有框狀加飾層30。惟，不限於該情況，加飾層30亦可設於第2構件II之第1構件I側的表面。
層11C例如為薄玻璃基板。積層體11B例如具備有視窗薄膜111B與積層於視窗薄膜111B之硬塗層112。硬塗層112宜設於視窗薄膜111B之視辨側的表面。
圖4係第4實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。第4實施形態之附加飾積層體具備有視窗構件11、光學薄膜12與中介於其等之間的黏著構件(第2黏著構件)122。視窗構件11例如為視窗薄膜111A與硬塗層112的積層體11A。光學薄膜12A具備有作為第1構件I之層12B、作為第2構件II之積層體12A、及中介於層12B及積層體12A之間的黏著構件(第1黏著構件)21。於第1構件I之第2構件II側的表面(與視辨側相反之側的表面)在與黏著構件21接觸之狀態下設有框狀加飾層30。惟，不限於該情況，加飾層30亦可設於第2構件II之第1構件I側的表面。層12B係透明樹脂薄膜。
圖5係第5實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。第5實施形態之附加飾積層體具備視窗構件11、光學薄膜12與中介於其等之間的黏著構件(第2黏著構件22)。光學薄膜12具備有作為第1構件I之積層體12C、作為第2構件II之積層體12D、及中介於該等積層體12C及12D之間的黏著構件(第1黏著構件)21。於第2構件II之第1構件I側的表面(視辨側的表面)在與黏著構件21接觸之狀態下設有框狀加飾層30。
積層體12C係由偏光件121及基材層(保護薄膜)122構成之偏光板。偏光件121係配置於黏著構件21側。積層體12D為2層相位差層124及125之積層體。
圖6係第6實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。第6實施形態之附加飾積層體中，於第1構件I之第2構件II側的表面(與視辨側相反之側的表面)在與黏著構件21接觸之狀態下設有框狀加飾層30。除此之外的構成與第5實施形態相同。
[撓性影像顯示裝置及光學積層體] 本發明撓性影像顯示裝置及光學積層體各自包含有上述附加飾積層體。
更具體說明，一實施形態之撓性影像顯示裝置具備：視窗構件、積層於視窗構件之構件A、隔著構件A積層於視窗構件之構件B、隔著構件A及構件B積層於視窗構件之構件C、及包含與加飾層接觸之黏著構件的複數層黏著構件。構件A及構件B之其中一者為光學薄膜，另一者為觸控感測器。構件C至少包含面板構件。於此，附加飾積層體的第1構件構成視窗構件或光學薄膜。第2構件構成視窗構件、光學薄膜或觸控感測器。加飾層係設於較觸控感測器更靠視辨側。
其他實施形態之撓性影像顯示裝置係包含附觸控感測器之面板構件者。更具體來說，撓性影像顯示裝置具備：視窗構件、積層於視窗構件之光學薄膜、隔著光學薄膜積層於視窗構件之附觸控感測器之面板構件、及包含與加飾層接觸之黏著構件的複數層黏著構件。於此，附加飾積層體的第1構件構成視窗構件或光學薄膜。第2構件構成視窗構件、光學薄膜或附觸控感測器之面板構件。加飾層係設於較附觸控感測器之面板構件更靠視辨側。
又，本發明中包含含上述附加飾積層體且可用於撓性影像顯示裝置的光學積層體。
本發明一實施形態之光學積層體具備：視窗構件、積層於視窗構件之構件A、隔著構件A積層於視窗構件之構件B、隔著構件A及構件B積層於視窗構件之分離件、及包含與加飾層接觸之黏著構件的複數層黏著構件。構件A及構件B之其中一者為光學薄膜，另一者為觸控感測器。於此，附加飾積層體的第1構件構成視窗構件或光學薄膜。第2構件構成視窗構件、光學薄膜、觸控感測器或分離件。加飾層係設於較觸控感測器更靠視辨側。
本發明其他實施形態之光學積層體具備：視窗構件、積層於視窗構件之光學薄膜、隔著光學薄膜積層於視窗構件之分離件、及包含與加飾層接觸之黏著構件的複數層黏著構件。於此，附加飾積層體的第1構件構成視窗構件或光學薄膜。第2構件構成視窗構件、光學薄膜或分離件。加飾層係設於較分離件更靠視辨側。
此外，撓性影像顯示裝置或光學積層體中，設於第1構件與第2構件之間且與加飾層接觸之黏著構件相當於上述第1黏著構件。複數層黏著構件相當於第1黏著構件及第2黏著構件。
光學積層體可在已剝離分離件之狀態下用於撓性影像顯示裝置。上述撓性影像顯示裝置會在視窗構件配置於視辨側之狀態下包含在已剝離分離件之狀態下的光學積層體。
(面板構件) 關於撓性影像顯示裝置所含面板構件，可參照上述關於附觸控感測器之面板構件的面板構件之說明。面板構件亦可具備有保護構件。關於保護構件亦可參照關於附觸控感測器之面板構件之說明。
(黏著構件) 光學積層體或撓性影像顯示裝置具備有複數層黏著構件。各黏著構件一般為層狀。
複數層黏著構件各自因應光學積層體之層構成等配置於選自下述之位置上：視窗構件內、光學薄膜內、視窗構件與構件A(或光學薄膜)之間、構件A與構件B之間、構件B與分離件之間、及光學薄膜與分離件之間。
複數層黏著構件各自因應撓性影像顯示裝置之層構成等配置於選自下述之位置上：視窗構件內、光學薄膜內、視窗構件與構件A(或光學薄膜)之間、構件A與構件B之間、構件B與構件C之間、光學薄膜與附觸控感測器之面板構件之間。
依上所述，撓性影像顯示裝置或光學積層體所含黏著構件(亦即複數層黏著構件)包含鄰接之各構件間所含黏著構件及各構件內所含黏著構件兩者。
各構件內之黏著構件的個數無特別限制，可為0層，可為1層，亦可為2層以上。
撓性影像顯示裝置或光學積層體所含黏著構件例如可為8層以下，可為7層或6層以下，亦可為5層或4層以下。
撓性影像顯示裝置及光學積層體可藉由例如將構成構件在將黏著構件配置於各構件間(及視需求於構成各構件之層間)的同時積層來製作。此時，藉由於所期望之位置設有加飾層的構件或層透過黏著構件積層其他構件或層，可獲得包含附加飾積層體的撓性影像顯示裝置或光學積層體。又，亦可在製作附加飾積層體後，積層構成撓性影像顯示裝置或光學積層體之其他構成構件、層或該等之積層體與附加飾積層體。各構件及各層之積層順序無特別限制。
例如，可將視窗構件與構件A(或光學薄膜)在使該等構件間中介有黏著構件之狀態下積層，接著將構件A(或光學薄膜)與構件B(或分離件)在使該等構件間中介有黏著構件之狀態下積層。又，亦可將構件A(或光學薄膜)與構件B(或分離件)在使該等構件間中介有黏著構件之狀態下積層後，將構件A(或光學薄膜)與視窗構件在使該等構件間中介有黏著構件之狀態下積層。各黏著構件宜預先貼附於夾持各黏著構件之構件的其中一者。
光學積層體中，亦可在將構件B與構件A積層之前，於構件B之與構件A側相反之側的面配置黏著構件。又，亦可在將構件B與構件A積層後之適當階段中，於構件B之與構件A側相反之側的面配置黏著構件。光學積層體中，在配置於構件B之與構件A側相反之側的面之黏著構件上，係在構件B的面配置黏著構件前或配置後積層分離件。
撓性影像顯示裝置亦可藉由事先製作光學積層體，並從光學積層體剝離分離件後，將露出之黏著構件貼附至構件C或構件B來製作。又，亦可使構件C與構件B以在該等之間中介有黏著構件方式積層後，於構件B上將構件A以在該等之間中介有黏著構件方式積層，接著於構件A上將視窗構件以在該等之間中介有黏著構件方式積層，藉此來製作撓性影像顯示裝置。又，亦可預先製作構件C與構件B之積層體、及視窗構件與構件A之積層體，並使該等積層體在使構件A與構件B之間中介有黏著構件之狀態下積層。具備附觸控感測器之面板構件之撓性影像顯示裝置例如亦可藉由事先製作光學積層體，並從光學積層體剝離分離件後，將露出之黏著構件貼附至光學薄膜來製作。又，亦可將視窗構件與光學薄膜以在該等之間中介有黏著構件方式積層後，於光學薄膜上將附觸控感測器之面板構件以在該等之間中介有黏著構件方式積層，藉此來製作撓性影像顯示裝置。亦可使附觸控感測器之面板構件與光學薄膜以在該等之間中介有黏著構件方式積層後，於光學薄膜上將視窗構件以在該等之間中介有黏著構件方式積層，藉此來製作撓性影像顯示裝置。
該等製造方法僅為例示，不受該等所限。
圖7係一實施形態之撓性影像顯示裝置的概略截面圖。撓性影像顯示裝置1具備視窗構件11、作為構件A之光學薄膜12、作為構件B之觸控感測器13及作為構件C之面板構件14的積層體。光學薄膜12與視窗構件11係在光學薄膜12與視窗構件11之間中介有黏著構件(第2黏著構件)22之狀態下積層。觸控感測器13係隔著光學薄膜12積層於視窗構件11上。光學薄膜12與觸控感測器13之間中介有黏著構件(第1黏著構件)21。面板構件14係隔著光學薄膜12及觸控感測器13積層於視窗構件11上。觸控感測器13與面板構件14之間中介有黏著構件(第2黏著構件)22。圖7中之面板構件14除外之構成與分離件(未圖示)之積層體相當於光學積層體。光學積層體中，分離件係以與配置於觸控感測器13之與視辨側相反之側的黏著構件22接觸之方式配置。視窗構件11及光學薄膜12與圖2相同。
觸控感測器13包含透明導電層131與作為透明基材之透明薄膜(觸控感測器薄膜)132。觸控感測器13中，透明導電層131係以與配置於光學薄膜12與觸控感測器13之間的黏著構件21(第1黏著構件)接觸之方式配置。
面板構件14具備有機EL面板(有機EL顯示器)141與薄膜密封層142。面板構件14中，薄膜密封層142係以與配置於觸控感測器13與面板構件14之間的黏著構件(第2黏著構件)22接觸之方式配置。
圖7中，光學薄膜12相當於附加飾積層體之第1構件I，而觸控感測器13相當於第2構件II。第1構件I與第2構件II之間中介有黏著構件21。圖7中，係於第1構件I之第2構件II側的表面在與第1黏著構件21接觸之狀態下設有框狀加飾層30。惟，不限於該情況，加飾層30亦可設於第2構件II之第1構件I側的表面。藉由將第1構件I與第2構件II之變形或硬度的關係控制成如上所述，能抑制配置加飾層30造成之第2構件II的過度變形，從而提升包含加飾層30時之撓性影像顯示裝置1的外觀。
實施例 以下，基於實施例及比較例具體說明本發明，惟本發明不受以下實施例所限。
《實施例1~5及比較例1~2》 (1)製作評估用試樣 使用下述各構件，依下述程序製作如圖2~圖6、圖9A及圖9B所示附加飾積層體的評估用試樣。
(i)準備視窗構件及光學薄膜或構成該等之層或積層體、以及分離件 (a)視窗構件11 (a1)構成視窗構件之層的積層體(或視窗構件)11A 作為視窗構件11A，係使用在作為視窗薄膜111A之透明聚醯亞胺薄膜之單面設有丙烯酸系硬塗層112(厚度10µm)者。硬塗層112係使用硬塗層用塗佈劑形成。更具體而言，首先於透明聚醯亞胺薄膜之單面塗佈塗佈劑形成塗佈層後，將塗佈層與透明聚醯亞胺薄膜一同在90℃下加熱2分鐘。接著，使用高壓水銀燈對塗佈層以累積光量300mJ/cm2 照射紫外線，藉此形成硬塗層112。經由以上程序製作出積層體11A。依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之積層體11A的彈性模數為6.3GPa。
作為透明聚醯亞胺薄膜係使用KOLON公司製、製品名「A_50_O」且厚度80µm。積層體11A之硬度為6.3GPa×0.09mm=0.57kN/mm。
此外，硬塗層用塗佈劑係混合作為基底樹脂之多官能丙烯酸酯(Aica Kogyo Company, Limited製，製品名「Z-850-16」)100質量份、調平劑(DIC公司製，商品名：GRANDIC PC-4100)5質量份及光聚合引發劑(Ciba Japan公司製，商品名：IRGACURE 907)3質量份，並以甲基異丁基酮稀釋成乾燥固體成分濃度成為50質量%而調製。
(a2)構成視窗構件11之層的積層體11B 將具有戊二醯亞胺環單元的甲基丙烯酸樹脂丸粒藉由擠製成形為薄膜狀後延伸而成之丙烯酸系薄膜(厚度40µm)作為視窗薄膜111B來使用。將在視窗薄膜111B之單面設有丙烯酸系硬塗層112(厚度10µm)者作為構成視窗構件11的積層體11B來使用。硬塗層112係依與視窗構件11A之硬塗層112相同方式來製作。 依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之積層體11B的彈性模數為3.0GPa，硬度為3.0GPa×0.05mm=0.15kN/mm。
(a3)構成視窗構件11之層11C 準備厚度30µm的玻璃基板作為構成視窗構件11之層11C(視窗玻璃111C)。 依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之層11C的彈性模數為75GPa，硬度為75GPa×0.03mm=2.25kN/mm。
(b)光學薄膜12 依下述程序準備光學薄膜12、或是構成光學薄膜12之層或其積層體。
(b1)構成光學薄膜之層的積層體12A (製作偏光件121) 作為熱塑性樹脂製基材係準備含7莫耳%異酞酸單元的非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度100μm)，並對表面以58W/m2 ・min之輸出放電量進行電暈處理。
準備添加有乙醯乙醯基改質聚乙烯醇(日本合成化學工業(股)製，商品名：GOHSEFIMER Z200(平均聚合度1200、皂化度98.5莫耳%、乙醯乙醯基化度5莫耳%)1質量%之聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2%)後，準備含5.5質量%之聚乙烯醇(PVA)系樹脂的水性塗敷液。
將塗敷液以乾燥後之膜厚成為12µm的方式塗佈於基材表面，並在60℃的氣體環境下利用熱風乾燥來乾燥10分鐘，藉此製作出於基材上設有PVA系樹脂之層的積層體。
將所得積層體首先在空氣中在130℃下進行自由端延伸成1.8倍(空中輔助延伸)，藉此生成延伸積層體。接著藉由將延伸積層體浸漬在液溫30℃的硼酸不溶解水溶液中30秒鐘，進行對延伸積層體所含PVA分子經定向的PVA層進行不溶解之步驟。本步驟的硼酸不溶解水溶液係硼酸含量相對於水100質量份為3質量份的硼酸水溶液。藉由將所得延伸積層體染色而生成著色積層體。著色積層體係以使構成最後生成的偏光件之PVA層的單體透射率成為40~44%之方式，將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中預定時間，藉此利用碘使延伸積層體所含PVA層染色而成者。本步驟中，染色液係包含碘及碘化鉀之水溶液(碘濃度：0.1~0.4質量%、碘化鉀濃度：0.7~2.8質量%、碘與碘化鉀之濃度比：1比7)。接著藉由將著色積層體浸漬於30℃之硼酸交聯水溶液中60秒鐘，進行對已吸附碘之PVA層的PVA分子彼此施行交聯處理之步驟。本步驟的硼酸交聯水溶液係包含硼酸及碘化鉀之水溶液(硼酸含量：相對於水100質量份為3質量份，碘化鉀含量：相對於水100質量份為3質量份)。
將所得著色積層體在硼酸水溶液中以延伸溫度70℃，沿與在上述之空氣中進行延伸之相同方向延伸成3.05倍(硼酸水中延伸)，藉此獲得最後延伸倍率為5.50倍之積層體。將所得積層體從硼酸水溶液取出，並以碘化鉀溶液(碘化鉀含量：相對於水100重量份為4重量份)洗淨附著於PVA層表面之硼酸。將洗淨後的積層體進行利用60℃的溫風之乾燥步驟來乾燥。乾燥後之積層體所含偏光件121的厚度為5μm。
(形成保護薄膜122) 保護薄膜(透明樹脂薄膜)122係使用將具有戊二醯亞胺環單元的甲基丙烯酸樹脂丸粒藉由擠製成形為薄膜狀後延伸而成之丙烯酸系薄膜。保護薄膜之厚度為40µm。使用接著劑(活性能量線硬化型接著劑)貼合保護薄膜122與偏光件121，並於下述條件下照射紫外線使接著劑硬化，藉此製作出偏光板。 充有鎵之金屬鹵素燈：Fusion UV Systems.Inc公司製，商品名「Light HAMMER10」 閥：V閥 峰值照度：1600mW/cm2 累積照射量：1000mJ/cm2 (波長380~440nm)
接著劑係將下述成分以接著劑100質量%中之含量成為下述之值之比率混合，並在50℃下攪拌1小時來調製。 羥乙基丙烯醯胺…11.4質量% 三丙二醇二丙烯酸酯…57.1質量% 丙烯醯基嗎福林…11.4質量% 2-乙醯乙醯氧基乙基甲基丙烯酸酯…4.6質量% 丙烯酸系聚合物(ARUFON UP-1190，東亞合成公司製)…11.4質量% 2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林丙-1-酮…2.8質量% 二乙基9-氧硫
Figure 109129631-A0101-12-01
Figure 109129631-A0101-12-02
…1.3質量%
(製作相位差層123) 相位差層123係使用具備液晶材料經定向及固定化之1/4波長板用相位差層與1/2波長板用相位差層這2層的相位差膜。形成1/2波長板用相位差層、1/4波長板用相位差層之材料係使用展現向列型液晶相之聚合性液晶材料(BASF公司製・商品名PaliocolorLC242)。相位差層123係參照日本專利特開2018-28573號公報之段落[0118]~[0120]之記載而製作。
(製作積層體12A) 使用上述接著劑(活性能量線硬化型接著劑)以捲料對捲料方式連續貼合上述所得偏光板與相位差層123。此時，係以慢軸與吸收軸之軸角度成為45°的方式積層。依上述方式製作出構成光學薄膜之層的積層體12A。依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之積層體12A的彈性模數為5.0GPa，硬度為5.0GPa×0.05mm=0.25kN/mm。
(b2)構成光學薄膜之層12B 依(b1)記載之程序製作透明樹脂薄膜122，作為構成光學薄膜之層12B來使用。 依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之層12B的彈性模數為3.0GPa，硬度為3.0GPa×0.04mm=0.12kN/mm。
(b3)構成光學薄膜之層的積層體12C 依(b1)記載之程序製作偏光件121及保護薄膜(透明樹脂薄膜)122之積層體(偏光板)，作為構成光學薄膜之層的積層體12C來使用。 依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之積層體12C的彈性模數為4.9GPa，硬度為4.9GPa×0.045mm=0.22kN/mm。
(b4)構成光學薄膜之層的積層體12D (製作構成相位差層124之相位差薄膜) 使用具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器之由2台直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。於反應器中，饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷(BPFM)29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10-2 質量份(6.78×10-5 mol)。
將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加熱，並於反應器內之溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使反應器內之溫度達到220℃，並控制維持該溫度。在反應器內之溫度達到220℃之時間點開始減壓，並使90分鐘後之壓力成為13.3kPa。
將在聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含之些許量單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並在50分鐘後使第1反應器內之溫度成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後，進行聚合直到攪拌動力成為預定值為止。在攪拌動力達到預定值之時間點時將氮導入反應器使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯擠製至水中，裁切束狀物而得到丸粒。
使用擠製機將所得聚酯碳酸酯99.5質量份與聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)0.5質量份熔融捏合，獲得樹脂組成物(PMMA含量：0.5質量%)之丸粒。將該樹脂組成物(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(Isuzu Chemical Industries Co., Ltd.，螺桿徑25mm，缸筒設定溫度：220℃)、T型模(寬：300mm，設定溫度：220℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出長3m、寬200mm、厚100μm之長條未延伸薄膜。將所得長條未延伸薄膜以固定端單軸延伸法沿寬度方向(橫向)延伸成2.7倍，而製作出厚度37µm之相位差薄膜。
(製作包含相位差層125之積層薄膜) 將下述化學式(I)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，權宜上以嵌段聚合物表示：重量平均分子量5000)所示側鏈型液晶聚合物20質量份、展現向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製：商品名PaliocolorLC242)80質量份及光聚合引發劑(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.製：商品名IRGACURE 907)5質量份溶解於環戊酮200質量份，而調製出液晶塗敷液。
[化學式1]
Figure 02_image001
將所得液晶塗敷液使用棒塗機塗佈至基材薄膜(降莰烯系樹脂薄膜：日本ZEON(股)製，商品名「ZEONEX」)後，在80℃下加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶定向。對該液晶層照射紫外線使液晶層硬化而於基材薄膜上形成成為相位差層125之液晶固化層(厚：0.58μm)。該層顯示nz＞nx=ny之折射率特性。此處，nx為液晶固化層之面內之折射率成最大方向(亦即慢軸方向)的折射率。ny為液晶固化層於面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率。「nz」為液晶固化層之厚度方向的折射率。
(製作積層體12D) 於構成相位差層124之相位差薄膜之一主面透過丙烯酸系接著劑貼附積層薄膜之液晶固化層。接著去除積層薄膜所含基材薄膜。依上述方式，製作出相位差層124與相當於液晶固化層之相位差層125積層而成之積層體12D。
依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之積層體12D的彈性模數為3.7GPa，硬度為3.7GPa×0.038mm=0.14kN/mm。
(b5)構成光學薄膜12之層12E 準備厚度30µm之玻璃基板126作為構成光學薄膜12之層12E。 依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之層12E的彈性模數為75GPa，硬度為75GPa×0.03mm=2.25kN/mm。
(c)分離件S 藉由以聚矽氧系剝離劑處理厚度50µm之透明聚對苯二甲酸乙二酯薄膜之一主面而準備出分離件S。 依循為第1構件或第2構件時之所述程序求得之分離件S的彈性模數Es為4.2GPa，硬度為Es×Ts(=0.05mm)=0.21kN/mm。
(ii)形成加飾層 於附加飾積層體之用來設置加飾層30的構件或層之表面，利用網版印刷設置框狀黑色墨水層(寬15mm、厚5µm)作為加飾層30。黑色墨水係使用Teikoku Printing Inks Mfg. Co., Ltd製INQ-HF979。
(iii)調製黏著劑 依下述程序調製出用以製作黏著構件21及22的丙烯酸系黏著劑(丙烯酸系黏著劑組成物)。
(調製丙烯酸系寡聚物) 作為單體成分係混合甲基丙烯酸二環戊酯60質量份及甲基丙烯酸甲酯40質量份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油3.5質量份及作為聚合溶劑之甲苯100質量份，並在氮氣環境下在70℃下攪拌1小時。接著，投入作為熱聚合引發劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.2質量份，並在70℃下反應2小時後，升溫至80℃使其反應2小時。之後，將反應液加熱至130℃，並將甲苯、鏈轉移劑及未反應單體乾燥去除而獲得固態丙烯酸系寡聚物。丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量為5100，玻璃轉移溫度(Tg)為130℃。
(調製預聚物組成物) 摻混丙烯酸月桂酯43質量份、丙烯酸2-乙基己酯44質量份、丙烯酸4-羥丁酯6質量份及N-乙烯基-2-吡咯啶酮7質量份、以及作為光聚合引發劑之BASF製「IRGACURE 184」0.015質量份，並照射紫外線進行聚合，藉此獲得預聚物組成物(聚合率：約10%)。
(調製丙烯酸系黏著劑) 於上述預聚物組成物100質量份中，添加1,6-己二醇二丙烯酸酯0.07質量份、上述丙烯酸系寡聚物1質量份及矽烷耦合劑(信越化學製「KBM403J」)0.3質量份，並均勻地混合，藉此調製出丙烯酸系黏著劑。
(iv)形成黏著劑層 使用上述(iii)調製出之黏著劑形成用以形成黏著構件21、22之各層的黏著劑層。更具體而言，係將黏著劑以噴注式塗佈機均勻塗佈於剝離薄膜，並以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而於剝離薄膜表面形成了黏著劑層。作為剝離薄膜係使用經聚矽氧系剝離劑處理過之厚度38µm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(透明基材、分離件)。黏著劑層之厚度係以使試樣中之黏著構件21之厚度成為25µm且使試樣中之黏著構件22之厚度成為15µm之方式，藉由黏著劑之塗佈量來調節。依所述程序求得黏著構件之儲存彈性模數為0.3MPa。
(v)製作積層體 上述(i)中所製作出之各構件或構成各構件之層或其積層體係視需求裁切成預定尺寸。從剝離薄膜將黏著劑層轉印至夾持各黏著構件之構件或層之其中一者的一主面上，並以夾持黏著劑層之方式積層各構件或是層或積層體後，以手墨輥壓附。依上所述程序，製作出利用黏著構件積層有各構件或是層或積層體之評估用試樣。此外，於欲使分離件S之表面接觸黏著構件時，係以使分離件S之經剝離劑處理過之主面與黏著構件接觸的方式配置黏著構件。
圖9A及圖9B分別為比較例1及2之附加飾積層體的概略截面圖。圖9A之附加飾積層體具備有：作為第1構件I之構成視窗構件11之層的積層體11A與作為第2構件II之構成光學薄膜12之層的積層體12A、及中介於該等之間的黏著構件21。圖9B之附加飾積層體具備有：作為第1構件I之構成光學薄膜12之層(玻璃基板)12E、作為第2構件II之構成光學薄膜12之層的積層體12A、及中介於該等之間的黏著構件21。該等附加飾積層體中，框狀加飾層30係以與黏著構件21接觸之方式配置於第1構件I之第2構件II側的表面。積層體11A及積層體12A之構成與圖2之情況相同。
(2)評估 從視辨側觀看評估試樣時，當於加飾層30之內側的側部看到亮白光之線時評估為B，未看到時評估為A，藉此評估外觀。
將實施例及比較例之結果列於表1。表1中，e1~e5為實施例1~5，r1~r2為比較例1~2。圖8係從視辨側拍攝實施例4之附加飾積層體的加飾層及其內側之側部周邊而得之照片。圖10係從視辨側拍攝比較例1之附加飾積層體的加飾層及其內側之側部周邊而得之照片。
[表1]
Figure 02_image003
如圖10所示，在r1中，於加飾層30之內側的側部附近看到了亮白光之線。並且，關於r2亦與r1之情況相同有看到亮白光之線。相對於此，如圖8所示，在e4中，未於加飾層30之內側的側部附近觀察到亮白光之線，有確保良好的外觀。關於其他實施例e1~e3及e5，亦與e4之情況相同，有確認到良好的外觀。吾等認為所述比較例與實施例之結果的差異係因藉由以第1構件I與第2構件II控制變形或硬度之平衡，而降低了第2構件II之變形之故。
吾等已就本發明以目前較佳實施態樣進行說明，惟不得將上述揭示作限定性解釋。對本發明所屬技術領域中之技藝人士來說參閱上述揭示即可進行各種變形及變更，理應自明。因此，在未脫離本發明之核心精神及範圍下所有變形及變更即可解釋為包含於所附申請專利範圍中。
產業上之可利用性 附加飾積層體及光學積層體可用於撓性影像顯示裝置。
1:撓性影像顯示裝置 11:視窗構件 11A,11B,11C:構成視窗構件之層或其積層體 111A,111B:視窗薄膜 111C:視窗玻璃 112:硬塗層 12:光學薄膜 12A~12E:構成光學薄膜之層或其積層體 121:偏光件 122:保護薄膜(透明樹脂薄膜) 123~125:相位差層 126:玻璃基板 13:觸控感測器 131:透明導電層 132:透明薄膜 14:面板構件 141:有機EL面板 142:薄膜密封層 21:黏著構件(第1黏著構件) 22:黏著構件(第2黏著構件) 30:加飾層 A1:自L10至L11為止之高度 A2:自L20至L21為止之高度 B1:自L10至L12為止之高度 B2:自L20至L22為止之高度 L10:在中心之第1構件與黏著構件之界面的積層方向的位置 L11:在中心之第1構件之視辨側表面的積層方向的位置 L12:第1構件之與加飾層相對向之部分中離視辨側最近之位置 L20:在中心之第2構件與黏著構件之界面的積層方向的位置 L21:在中心之第2構件之與視辨側相反之側之表面的積層方向的位置 L22:第2構件之與加飾層相對向之部分中離視辨側最遠之位置 S:分離件 I:第1構件 II:第2構件
圖1係顯示第1實施形態之附加飾積層體之A1、B1、A2及B2之概略截面圖。 圖2係第2實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。 圖3係第3實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。 圖4係第4實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。 圖5係第5實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。 圖6係第6實施形態之附加飾積層體的概略截面圖。 圖7係撓性影像顯示裝置的概略截面圖。 圖8係從視辨側拍攝實施例4之附加飾積層體的加飾層及其內側之側部周邊而得之照片。 圖9A係比較例1之附加飾積層體的概略截面圖。 圖9B係比較例2之附加飾積層體的概略截面圖。 圖10係從視辨側拍攝比較例1之附加飾積層體的加飾層及其內側之側部周邊而得之照片。
21:黏著構件(第1黏著構件)
30:加飾層
A1:自L10至L11為止之高度
A2:自L20至L21為止之高度
B1:自L10至L12為止之高度
B2:自L20至L22為止之高度
L10:在中心之第1構件與黏著構件之界面的積層方向的位置
L11:在中心之第1構件之視辨側表面的積層方向的位置
L12:第1構件之與加飾層相對向之部分中離視辨側最近之位置
L20:在中心之第2構件與黏著構件之界面的積層方向的位置
L21:在中心之第2構件之與視辨側相反之側之表面的積層方向的位置
L22:第2構件之與加飾層相對向之部分中離視辨側最遠之位置
I:第1構件
II:第2構件

Claims (17)

  1. 一種附加飾積層體，係用於撓性影像顯示裝置者； 前述附加飾積層體具備：第1構件、第2構件、被前述第1構件及前述第2構件夾持之黏著構件、及以與前述黏著構件接觸之方式設置之加飾層； 前述第1構件於前述撓性影像顯示裝置中配置於較前述第2構件更靠視辨側； 前述第1構件及前述第2構件不包含黏著構件； 在將前述附加飾積層體平坦放置之狀態下，從視辨側觀看前述第1構件時令在中心之前述第1構件與前述黏著構件之界面的積層方向的位置為L10，令在前述中心之前述第1構件之視辨側表面的前述積層方向的位置為L11，且令前述第1構件之與前述加飾層相對向之部分中離視辨側最近之位置為L12，此時自L10至L11為止之高度A1與自L10至L12為止之高度B1滿足A1＜B1之條件。
  2. 如請求項1之附加飾積層體，其滿足(B1-A1)≧1µm之條件。
  3. 如請求項1或2之附加飾積層體，其從視辨側觀看前述第2構件時令在中心之前述第2構件與前述黏著構件之界面的積層方向的位置為L20，令在前述中心之前述第2構件之與視辨側相反之側之表面的前述積層方向的位置為L21，且令前述第2構件之與前述加飾層相對向之部分中離視辨側最遠之位置為L22，並令自L20至L21為止之高度為A2且令自L20至L22為止之高度B2，此時滿足(B2-A2)≦5μm之條件。
  4. 如請求項2或3之附加飾積層體，其從視辨側觀看前述第2構件時令在中心之前述第2構件與前述黏著構件之界面的前述積層方向的位置為L20，令在前述中心之前述第2構件之與視辨側相反之側之表面的前述積層方向的位置為L21，且令前述第2構件之與前述加飾層相對向之部分中離視辨側最遠之位置為L22，並令自L20至L21為止之高度為A2且令自L20至L22為止之高度為B2，此時滿足(B1-A1)≧(B2-A2)之條件。
  5. 如請求項1至3中任一項之附加飾積層體，其中令前述第1構件之彈性模數(GPa)為E1，且令前述第1構件之厚度(mm)為T1時，E1×T1所示前述第1構件之硬度R1滿足0.5kN/mm以下之條件。
  6. 如請求項1至3及5中任一項之附加飾積層體，其中令前述第1構件及前述第2構件各自的彈性模數(GPa)為E1及E2，且令前述第1構件及前述第2構件各自的厚度(mm)為T1及T2時，E2×T2所示前述第2構件之硬度R2相對於E1×T1所示前述第1構件之硬度R1的比：R2/R1滿足R2/R1≧0.5之條件。
  7. 如請求項6之附加飾積層體，其中前述R1(kN/mm)滿足0.01≦R1≦2.5，且 前述R2(kN/mm)滿足0.01≦R2≦2.5。
  8. 如請求項6或7之附加飾積層體，其中前述比R2/R1滿足R2/R1＞2之條件。
  9. 如請求項6或7之附加飾積層體，其中前述比R2/R1滿足0.5≦R2/R1≦2之條件，且 前述硬度R1及前述硬度R2各自滿足0.5kN/mm以下之條件。
  10. 如請求項1至9中任一項之附加飾積層體，其中前述黏著構件在25℃下之儲存彈性模數滿足1MPa以下之條件。
  11. 如請求項1至10中任一項之附加飾積層體，其中前述加飾層之厚度滿足20µm以下之條件。
  12. 如請求項1至11中任一項之附加飾積層體，其中前述加飾層接觸之前述黏著構件的厚度滿足前述加飾層之厚度的1.5倍以上的條件，且滿足50µm以下之條件。
  13. 如請求項1至12中任一項之附加飾積層體，其中前述第1構件構成視窗構件或光學薄膜，且 前述第2構件構成視窗構件、光學薄膜、觸控感測器、附觸控感測器之面板構件或分離件。
  14. 一種光學積層體，包含如請求項1至12中任一項之附加飾積層體； 前述光學積層體具備： 視窗構件； 構件A，係積層於前述視窗構件者； 構件B，係隔著前述構件A積層於前述視窗構件者； 分離件，係隔著前述構件A及前述構件B積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述構件A及前述構件B之其中一者為光學薄膜，另一者為觸控感測器； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜、前述觸控感測器或前述分離件；並且 於較前述觸控感測器更靠視辨側設置有前述加飾層。
  15. 一種光學積層體，包含如請求項1至12中任一項之附加飾積層體； 前述光學積層體具備： 視窗構件； 光學薄膜，係積層於前述視窗構件者； 分離件，係隔著前述光學薄膜積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜或前述分離件；並且 於較前述分離件更靠視辨側設置有前述加飾層。
  16. 一種撓性影像顯示裝置，包含如請求項1至12中任一項之附加飾積層體； 前述撓性影像顯示裝置具備： 視窗構件； 構件A，係積層於前述視窗構件者； 構件B，係隔著前述構件A積層於前述視窗構件者； 構件C，係隔著前述構件A及前述構件B積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述構件A及前述構件B之其中一者為光學薄膜，另一者為觸控感測器； 前述構件C至少包含面板構件； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜或前述觸控感測器；並且 於較前述觸控感測器更靠視辨側設置有前述加飾層。
  17. 一種撓性影像顯示裝置，包含如請求項1至12中任一項之附加飾積層體； 前述撓性影像顯示裝置具備： 視窗構件； 光學薄膜，係積層於前述視窗構件者； 附觸控感測器之面板構件，係隔著前述光學薄膜積層於前述視窗構件者；及 複數層黏著構件，係包含與前述加飾層接觸之前述黏著構件； 前述第1構件構成前述視窗構件或前述光學薄膜； 前述第2構件構成前述視窗構件、前述光學薄膜或前述附觸控感測器之面板構件；並且 於較前述附觸控感測器之面板構件更靠視辨側設置有前述加飾層。
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