TW202118096A - 熱電模組、及熱電模組用柱之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可在簡易構成之前提下更加抑制電化學遷移之熱電模組。熱電模組具備：下部基板；上部基板，於下部基板之上方對向而配置；p型及n型之熱電元件，於該等下部基板與上部基板之間分別配置有複數個；第一電極，配置於下部基板之上表面及上部基板之下表面，將前述p型及n型之熱電元件交互依次連接而形成串聯電路；以及第二電極，設於前述下部基板上，將前述串聯電路之端部之熱電元件與柱連接；柱具有：柱本體，由鎳所形成；以及鎳鈍態膜，覆蓋柱本體之側面。

Description

熱電模組、及熱電模組用柱之製造方法
本發明係關於一種熱電模組、及熱電模組用柱之製造方法。 本案針對2019年10月16日申請之日本國專利申請第2019-189374號、2019年10月16日申請之日本國專利申請第2019-189375號、2019年10月16日申請之日本國專利申請第2019-189376號主張優先權，並於此援用其内容。
作為藉由帕爾帖效應（Peltier effect）來吸熱或發熱之電路元件，熱電模組至今被廣泛應用。作為一例，如專利文獻1中所記載，熱電模組具備p型與n型之熱電元件；將這些熱電元件連接之一對電極；用以對電極供給電流之柱；以及從外側將這些熱電元件、電極、及柱覆蓋之殼體。p型之熱電元件與n型之熱電元件係交互且串聯地連接，於該串聯電路之兩端部分別設有由鎳所形成之柱狀之柱(post)。將一柱設為正極、將另一柱設為負極而供給電流。藉此，於熱電元件發現帕爾帖效應，在一電極中發生吸熱，在另一電極中發生發熱。
此處，於熱電元件之調溫溫度低於周圍環境氛圍之露點之情形，存在於熱電模組產生結露之可能性。若產生結露，則會在上述柱之表面誘發被稱為電化學遷移之現象。所謂電化學遷移，係電性電路上之電極間之絕緣性由於電性的、化學的或熱等之原因而發生不良，因電極金屬作為離子溶出、還原而引起短路之現象。 為了避免此電化學遷移，可考慮使殼體相對於外部成為密閉，且使殼體内部充滿惰性氣體之構成。
又，為了避免如上述之現象，例如，在專利文獻2所記載之裝置中，採用除了熱電模組之電路基板外，追加設置與該電路基板電性地獨立之虛擬基板之構成。藉此，可在上述電化學遷移發生時，降低立刻發生電路之短路之可能性。又，於該文獻中亦記載有藉由對虛擬基板實施撥水加工來抑制水滴之滯留，進而降低短路頻率之技術。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開2016-111326公報
[專利文獻2]特開2009-206501公報
[發明所欲解決之問題]
如上述將殼體密封且使其内部充滿惰性氣體之情形，由於會導致製造相關之成本、工時之增加，因此不可謂是經濟的。因此，針對可在簡易構成之前提下更加抑制電化學遷移之熱電模組之需求與日俱增。
又，如上述設置虛擬基板之情形，雖可避免一次短路，但無法避免二次或三次短路。再加上，亦存在用以構裝熱電元件之空間減少之可能性。
本發明係為解決上述課題而完成者，以提供一種可在簡易構成之前提下更加抑制電化學遷移之熱電模組、及熱電模組用柱之製造方法為目的。 [解決問題之手段]
根據本發明之第一樣態，熱電模組具備：下部基板；上部基板，於該下部基板之上方對向而配置；p型及n型之熱電元件，於該等下部基板與上部基板之間分別配置有複數個；第一電極，配置於前述下部基板之上表面及前述上部基板之下表面，將前述p型及n型之熱電元件交互依次連接而形成串聯電路；以及第二電極，設於前述下部基板上，將前述串聯電路之端部之熱電元件與柱連接；前述柱具有：柱本體，由鎳所形成；以及鎳鈍態膜，覆蓋該柱本體之側面。
根據本發明之第二樣態，熱電模組具備：下部基板；上部基板，於該下部基板之上方對向而配置；p型熱電元件及n型熱電元件，於該等下部基板與上部基板之間分別配置有複數個；電極，配置於前述下部基板之上表面及前述上部基板之下表面，以形成串聯電路之方式，將前述p型熱電元件與n型熱電元件交互依次連接；一對柱，於前述下部基板上空出間隔而立設，分別電性地連接於前述串聯電路之兩端；以及撥水塗佈層，積層於前述下部基板上之前述一對柱之間之區域。
根據本發明之第三樣態，熱電模組具備：下部基板；上部基板，於該下部基板之上方對向而配置；p型及n型之熱電元件，於該等下部基板與上部基板之間分別配置有複數個；連接電極，配置於前述下部基板之上表面及前述上部基板之下表面，以形成串聯電路之方式，將前述p型及n型之熱電元件交互依次連接；端部電極，配置於前述下部基板之上表面，與前述串聯電路之端部之前述熱電元件連接；加熱用熱電元件，配置於前述端部電極上，具有與前述串聯電路之端部之熱電元件相同之多個載體；以及柱，立設於該加熱用熱電元件上。 ［發明效果］
根據本發明，能提供一種可在簡易構成之前提下更加抑制電化學遷移之熱電模組、及熱電模組用柱之製造方法。
（光模組之構成） 以下，針對本發明之實施形態之光模組100及熱電模組1A至1C，參照圖1至圖14進行說明。光模組100例如用於光通訊。 如圖1所示，光模組100具備：熱電模組1A至1C、發光元件101、散熱片102、第一頭座103、受光元件104、第二頭座105、溫度感測器106、金屬板107、透鏡108、透鏡保持具109、導線112、以及殼體113。
進而，光模組100具有：光隔離器115、光套管116、光纖117、以及套筒118。
熱電模組1A至1C係藉由帕爾帖效應來吸熱或發熱之電路元件。關於熱電模組1A至1C之詳細構成，留待後述。
發光元件101射出光。發光元件101例如包含發出雷射光之雷射二極體。散熱片102支承發光元件101。散熱片102發散由發光元件101產生之熱。第一頭座103支承散熱片102。散熱片102固定於第一頭座103。
受光元件104檢測從發光元件101產生之光。受光元件104例如包含光二極體。第二頭座105支承受光元件104。受光元件104固定於第二頭座105。
溫度感測器106檢測金屬板107之溫度。溫度感測器106例如包含熱敏電阻。
金屬板107支承第一頭座103、第二頭座105、及溫度感測器106。第一頭座103、第二頭座105、及溫度感測器106藉由焊接固定於金屬板107。
透鏡108聚集從發光元件101射出之光。透鏡保持具109支承透鏡108。
殼體113收容熱電模組1A至1C、發光元件101、散熱片102、第一頭座103、受光元件104、第二頭座105、溫度感測器106、金屬板107、透鏡108、透鏡保持具109。於殼體113形成有從發光元件101射出之光所通過之開口部114。
光隔離器115配置為於殼體113之外側堵塞開口部114。光隔離器115使往一方向行進之光通過，並遮斷往反方向行進之光。從發光元件101射出且通過透鏡108之光，經過開口部114入射至光隔離器115。入射至光隔離器115之光通過光隔離器115。
光套管116將從光隔離器115射出之光引導至光纖117。套筒118支承光套管116。
其次，針對光模組100之動作進行說明。從發光元件101射出之光藉由透鏡108聚集之後，經由開口部114入射至光隔離器115。入射至光隔離器115之光在通過光隔離器115之後，經過光套管116入射至光纖117之端面。
從發光元件101產生之熱，透過散熱片102及第一頭座103傳達至金屬板107。溫度感測器106檢測金屬板107之溫度。於溫度感測器106偵測出金屬板107之溫度達到預先指定之規定溫度之情形，電流供給至熱電模組1A至1C。熱電模組1A至1C之熱電元件3通電，藉此，熱電模組1A至1C藉由帕爾帖效應來吸熱。藉此，發光元件101被冷卻。發光元件101係藉由熱電模組來調節溫度。
第一實施形態 ＜熱電模組＞ 如圖2所示，熱電模組1A具有：一對基板2（上部基板21及下部基板22）、配置於該等基板2彼此之間之複數個熱電元件3（p型熱電元件3P及n型熱電元件3N）、連接該等熱電元件3之第一電極4A（上部電極41及下部電極42）、柱111、以及第二電極4B。
上部基板21及下部基板22形成由電性絕緣材料所形成之板狀。作為一例，上部基板21及下部基板22由陶瓷所形成。上部基板21於上方與下部基板22對向，且空出間隔而配置。
熱電元件3於上部基板21與下部基板22之間，在與該等上部基板21及下部基板22之厚度方向正交之面方向，彼此空出間隔配置有複數個。亦即，熱電元件3配置為於下部基板22之上表面及上部基板21之下表面，隔著後述之電極4而對向。於熱電元件3，對應於該熱電元件3所含之半導體之極性，含有p型熱電元件3P與n型熱電元件3N。本實施形態中，該等p型熱電元件3P與n型熱電元件3N排列為在剖視時成為交互。
如圖2所示，於p型熱電元件3P及n型熱電元件3N之上端面設有上部電極41，於下端面設有下部電極42。上部電極41及下部電極42皆係由金屬箔等於基板2上形成之佈線構件。p型熱電元件3P、及與該p型熱電元件3P相鄰之n型熱電元件3N係藉由下部電極42彼此連接。n型熱電元件3N、及與該n型熱電元件3N相鄰之p型熱電元件3P係藉由上部電極41彼此連接。藉此，p型熱電元件3P與n型熱電元件3N交互依次連接，形成串聯電路。
於下部基板22之上表面立設有柱111。柱111透過設於下部基板22之上表面之第二電極4B，與位於上述串聯電路之端部之熱電元件3電性地連接。於柱111之上端面連接有用以從外部供給電流之導線112。亦即，透過該柱111，電流從導線112供給至熱電元件3。此外，雖圖2中僅顯示了1個柱111，但柱111係作為正極、負極分別設有1個、合計2個。
＜柱＞ 如圖3所示，柱111具有：柱本體5、分別設於該柱本體5之上下方向上之兩端面之中間層6、設於中間層6外側之鍍敷部7、以及覆蓋柱本體5側面之鈍態膜5F（鎳鈍態膜）。
柱本體5形成藉由鎳形成為一體之角柱狀。鈍態膜5F係於鎳之表面形成之氧化皮膜。鈍態膜5F由於即便於溶液或酸亦不會溶解，因此可保護内部的鎳（柱本體5）並抑制氧化之進行。此外，所謂柱本體5之「側面」，係指除了與下部電極42接合之面、及與該接合之面對向之面以外之其他4個面。
中間層6係為了改善鍍敷部7之咬合而設置之金屬膜。具體而言作為中間層6，適合使用從包含金、鈀、鉑、及銠之群中選擇之至少一種。此外，亦可採用不設置該中間層6，而對於柱本體5直接設置鍍敷部7（後述）之構成。
鍍敷部7具有於柱本體5之上端側之面亦即第一面形成之上部鍍敷部71（第一鍍敷部）、以及於下端側之面亦即第二面形成之下部鍍敷部72（第二鍍敷部）。上部鍍敷部71係由金所形成的鍍敷層。下部鍍敷部72係由金與錫之合金所形成的鍍敷層。此外，中間層6只要設於下部鍍敷部72與柱111之間、及上部鍍敷部71與柱111之間之至少一者即可。
＜柱之製造方法＞ 其次，參照圖4至圖6對柱111之製造方法進行說明。如圖4所示，該製造方法包含準備步驟S1、形成中間層步驟S2、鍍敷處理步驟S3、切割步驟S4、以及形成鈍態膜步驟S5。
準備步驟S1中，準備由鎳所形成之板材（原料體8）（圖5）。原料體8具有面向在厚度方向彼此分離之方向之一對端面。更詳細而言，於原料體8在XY平面内展開之情形，上述厚度方向係XYZ座標系中之Z軸方向。形成中間層步驟S2中，於該原料體8之厚度方向一側之面（上表面）、及另一側之面（下表面）形成上述中間層6。此外，亦可不執行該形成中間層步驟S2，而執行後續之鍍敷處理步驟S3。鍍敷處理步驟S3中，於中間層6之更外側形成上述鍍敷部7。具體而言，於上表面側形成金之上部鍍敷部71，於下表面側形成金與錫之合金之下部鍍敷部72。藉此，獲得鍍敷完畢原料體8G（圖6）。其後，對於該鍍敷完畢原料體8G實施切割處理（切割步驟S4）。藉由切割處理，將鍍敷完畢原料體8G從厚度方向切斷（切割）成格子狀。藉此，獲得複數個柱111（圖7）。其後，將柱111浸漬於酸性溶液中（形成鈍態膜步驟S5）。作為此種溶液（氧化劑），較佳地使用濃硝酸或熱濃硫酸。此外，由於熱濃硫酸係不揮發性，因此容易於製造後之柱111殘留一部分之成分。由於有時會由所殘留之硫酸成分發生電解反應，而亦會發生上述電化學遷移，因此，更佳為使用濃硝酸。藉由接觸溶液而於柱111之側面發生氧化反應。其結果，於柱111之側面形成氧化皮膜亦即鈍態膜5F。此外，由於在柱111之上端及下端形成金或金及錫之鍍敷部7，因此不會發生由溶液導致之氧化反應。亦即，該步驟中，僅對於柱111之側面選擇性地形成鈍態膜5F。藉由以上，完成柱111之製造之所有步驟。
＜效果＞ 此處，若熱電元件3之調溫溫度低於周圍環境氛圍之露點，則存在於熱電模組1A產生結露之可能性。若產生結露，則會在上述柱111誘發被稱為電化學遷移之現象。所謂電化學遷移，係電性電路上之電極間之絕緣性因電性的、化學的或熱等之原因而發生不良，因電極金屬作為離子溶出、還原而引起短路之現象。若發生此種現象，則有對熱電模組1A之穩定動作招致障礙之可能性。為了避免此電化學遷移，作為一例，可考慮使殼體相對於外部成為密閉，且使殼體内部充滿惰性氣體之構成。
然而，在密閉殼體且使其内部充滿惰性氣體之情形，由於會導致製造相關之成本、工時之增加，因此不可謂是經濟的。因此，針對可在簡易構成之前提下更加抑制電化學遷移之熱電模組之需求與日俱增。
是以，本實施形態中，藉由鎳形成柱111（柱本體5），而於其側面形成有鈍態膜5F。藉由形成該鈍態膜5F，即便於產生如上述之結露之情形，亦可防止因水分導致之變性或劣化。藉此，可提高柱111之環境耐性。
又，上述構成中，於柱本體5之上端面形成有金之上部鍍敷部71，於下端面形成有金與錫之合金之下部鍍敷部72。藉此，可增進對於上部鍍敷部71連接（bonding）導線112時之咬合。又，對下部鍍敷部72而言，可提高透過焊接之對下部電極42之咬合。
進而，於該等上部鍍敷部71及下部鍍敷部72與柱本體5之間設有中間層6。藉此，可更加降低發生上部鍍敷部71及下部鍍敷部72之剝離或脫落之可能性。
又，根據上述製造方法，於在原料體8之厚度方向兩面形成中間層6、及鍍敷部7之後，可僅藉由切割鍍敷完畢原料體8G而在短時間内有效率地製造大量的柱111。藉此，可降低工時或成本。進而，該製造方法中，可僅藉由將柱111浸漬於酸性溶液中，而僅於該柱111之側面選擇性地輕易形成鈍態膜5F。又，由於此時柱111之上端及下端由分別包含金之鍍敷部7覆蓋，因此不會發生由溶液導致之氧化反應。藉此，相較於例如在於柱本體5形成鍍敷部7之前，將該柱本體5浸漬於溶液後去除上端及下端之鈍態膜而形成鍍敷部7之情形，可省略進行該去除之步驟而相應地使製造步驟更有效率。
第二實施形態 ＜熱電模組＞ 如圖8或圖9所示，熱電模組1B具有：一對基板2（上部基板21及下部基板22）、配置於該等基板2彼此之間之複數個熱電元件3（p型熱電元件3P及n型熱電元件3N）、連接該等熱電元件3之連接電極4C（電極4）、柱110、111、以及將該等柱110、111及熱電元件3連接之端部電極4T。
上部基板21及下部基板22形成由電性絕緣材料所形成之板狀。上部基板21於上方與下部基板22對向，且空出間隔而配置。上部基板21及下部基板22作為一例由陶瓷所形成。 該等上部基板21及下部基板22分別係藉由將陶瓷粉末燒結且含浸浸透性撥水材料，而成型為板狀之粉末燒結體。本實施形態中，該等上部基板21及下部基板22皆包含上述浸透性撥水材料。因此，於水滴附著於上部基板21及下部基板22之情形，該水滴被撥水材料成分排斥而往其他區域移動。
熱電元件3於上部基板21與下部基板22之間，在與該等上部基板21及下部基板22之厚度方向正交之面方向，彼此空出間隔配置有複數個。亦即，熱電元件3配置為於下部基板22之上表面及上部基板21之下表面，隔著後述之連接電極4C而對向。於熱電元件3，對應於該熱電元件3所含之半導體之極性，含有p型熱電元件3P與n型熱電元件3N。本實施形態中，該等p型熱電元件3P與n型熱電元件3N排列為在剖視時成為交互。
連接電極4C包含上部電極41與下部電極42。如圖8所示，於p型熱電元件3P及n型熱電元件3N之上端面設有上部電極41，於下端面設有下部電極42。上部電極41及下部電極42皆係由金屬箔等於基板2上形成之佈線構件。p型熱電元件3P、及與該p型熱電元件3P相鄰之n型熱電元件3N係藉由下部電極42彼此連接。n型熱電元件3N、及與該n型熱電元件3N相鄰之p型熱電元件3P係藉由上部電極41彼此連接。藉此，p型熱電元件3P與n型熱電元件3N交互依次連接，形成串聯電路。
如圖9所示，於下部基板22之上表面彼此空出間隔立設有一對柱110、111。柱110、111透過端部電極4T，與位於上述串聯電路之端部之熱電元件3電性地連接。於柱110、111之上端面連接有用以從外部供給電流之導線112。亦即，透過該等柱110、111，電流從導線112供給至熱電元件3。柱110、111係分別作為正極或負極而發揮功能。
如圖10或圖11擴大所示，於該等柱110、111之間之區域，設有積層於下部基板22之上表面22S之撥水塗佈層A1。撥水塗佈層A1係由例如樹脂所形成之薄膜狀層，且具有排斥附著於自身之水之性質。因此，於在該撥水塗佈層A1上產生由結露形成之水滴之情形，該水滴被撥水塗佈層A1排斥而往其他區域移動。
進而，於下部基板22之上表面22S中環狀包圍各柱110、111之外周部之區域、亦即除了設有上述撥水塗佈層A1之區域以外之區域，設有親水塗佈層A2。親水塗佈層A2係由與撥水塗佈層A1不同種類之樹脂所形成之薄膜狀層，且具有不排斥而保持附著於自身之水之性質。
又，於柱110、111中之彼此對向之面（對向面50S、51S）上，分別設有由撥水性材料所形成之對向面撥水塗佈層C1。對向面撥水塗佈層C1與上述撥水塗佈層A1同樣地，具有排斥附著於自身之水之性質。因此，於在該對向面撥水塗佈層C1上產生由結露形成之水滴之情形，該水滴被對向面撥水塗佈層C1排斥後，隨著重力而往下方移動。
再加上，於柱110、111中之與上述對向面50S、51S不同之外側面50T、51T，分別設有對向面親水塗佈層C2。此處，所謂外側面50T，係於俯視柱110時，除了對向面50S以外之其餘的3個面。所謂外側面51T，係於俯視柱111時，除了對向面51S以外之其餘的3個面。對向面親水塗佈層C2與上述親水塗佈層A2同樣地，具有不排斥而保持附著於自身之水之性質。
＜效果＞ 此處，若熱電元件3之調溫溫度低於周圍環境氛圍之露點，則存在於熱電模組1B產生結露之可能性。若產生結露，則會在上述柱110、111誘發被稱為電化學遷移之現象。所謂電化學遷移，係電性電路上之電極間之絕緣性因電性的、化學的或熱等之原因而發生不良，因電極金屬作為離子溶出、還原而引起短路之現象。若發生此種現象，則有對熱電模組1B之穩定動作招致障礙之可能性。
是以，本實施形態中，於下部基板22之上表面22S中之柱110、111彼此之間之區域，設有撥水塗佈層A1。藉此，於在柱110、111彼此之間產生水滴之情形，若該水滴附著於撥水塗佈層A1則立刻被排斥而往其他區域移動。亦即，可抑制水滴滯留於柱110、111彼此之間之情況。其結果，可降低發生上述電化學遷移之可能性。
進而，本實施形態中，於下部基板22之上表面22S中包圍各柱110、111之外周部之區域，設有親水塗佈層A2。因此，被上述撥水塗佈層A1排斥之水滴由該親水塗佈層A2捕捉。藉此，可降低水滴進而往其他區域流出之可能性。 其結果，可更降低發生上述電化學遷移之可能性。
再加上，本實施形態中，於柱110、111之對向面50S、51S，分別設有對向面撥水塗佈層C1。因此，附著於該對向面撥水塗佈層C1之水滴被排斥後，因重力而往下方移動。亦即，可抑制水滴滯留於該對向面撥水塗佈層C1上之情況。其結果，可降低發生上述電化學遷移之可能性。
又，本實施形態中，於柱110、111中除了上述對向面50S、51S以外其餘的外側面50T、51T，設有對向面親水塗佈層C2。因此，被上述對向面撥水塗佈層C1排斥之水滴中不往下方移動之一部分之成分，朝向該親水塗佈層A2移動而被捕捉。藉此，可降低水滴進而往其他區域流出之可能性。其結果，可更降低發生上述電化學遷移之可能性。
又，本實施形態中，上部基板21及下部基板22中之至少一者係藉由將陶瓷粉末燒結且含浸浸透性撥水材料而形成。 因此，於水滴附著於上部基板21及下部基板22中之至少一者之情形，該水滴被撥水材料成分排斥而往其他區域移動。其結果，可進而降低發生上述電化學遷移之可能性。
第三實施形態 ＜熱電模組＞ 如圖12或圖13所示，熱電模組1C具有：一對基板2（上部基板21及下部基板22）、配置於該等基板2彼此之間之複數個熱電元件3（p型熱電元件3P及n型熱電元件3N）、連接該等熱電元件3之連接電極4C（電極4）、加熱用熱電元件3H、柱110、111、以及將該等柱110、111及熱電元件3連接之端部電極4T。
上部基板21及下部基板22形成由電性絕緣材料所形成之板狀。上部基板21於上方與下部基板22對向，且空出間隔而配置。上部基板21及下部基板22作為一例由陶瓷所形成。
如圖12所示，熱電元件3於上部基板21與下部基板22之間，在與該等上部基板21及下部基板22之厚度方向正交之面方向，彼此空出間隔成格子狀配置有複數個。亦即，熱電元件3配置為於下部基板22之上表面及上部基板21之下表面，隔著後述之連接電極4C而對向。於熱電元件3，對應於該熱電元件3所含之半導體之極性，含有p型熱電元件3P與n型熱電元件3N。本實施形態中，該等p型熱電元件3P與n型熱電元件3N排列為在剖視時成為交互。
連接電極4C包含上部電極41與下部電極42。如圖13或14所示，於p型熱電元件3P及n型熱電元件3N之上端面設有上部電極41，於下端面設有下部電極42。上部電極41及下部電極42皆係由金屬箔等於基板2上形成之佈線構件。p型熱電元件3P、及與該p型熱電元件3P相鄰之n型熱電元件3N係藉由下部電極42彼此連接。n型熱電元件3N、及與該n型熱電元件3N相鄰之p型熱電元件3P係藉由上部電極41彼此連接。藉此，p型熱電元件3P與n型熱電元件3N交互依次連接，形成串聯電路。
端部電極4T係配置於下部基板22之上表面22S，與位於上述串聯電路之端部之熱電元件3連接。端部電極4T具有負極側端部電極4N與正極側端部電極4P。如圖13所示，負極側端部電極4N係與上述串聯電路之端部之熱電元件3中位於電流之流動方向（通電方向：圖13中之箭頭）之最下游側之p型熱電元件3P連接。另一方面，如圖14所示，正極側端部電極4P係與上述串聯電路之端部之熱電元件3中位於通電方向（圖14中之箭頭）之最上游側之n型熱電元件3N連接。
於負極側端部電極4N上及正極側端部電極4P上，設有具有與串聯電路之端部之熱電元件3相同之極型之加熱用熱電元件3H。具體而言，於負極側端部電極4N上設有p型之熱電元件（加熱用p型熱電元件3Hp），該p型之熱電元件（加熱用p型熱電元件3Hp）具有與該負極側端部電極4N所相鄰之p型熱電元件3P相同之極型、亦即相同之多個載體。於正極側端部電極4P上設有n型之熱電元件（加熱用n型熱電元件3Hn），該n型之熱電元件（加熱用n型熱電元件3Hn）具有與該正極側端部電極4P所相鄰之n型熱電元件3N相同之極型、亦即相同之多個載體。
於各個加熱用熱電元件3H上立設有柱110、111。柱110、111透過端部電極4T，與位於上述串聯電路之端部之熱電元件3電性地連接。柱110係作為負極而發揮功能，柱111係作為正極而發揮功能。於柱110、111之上端面連接有用以從外部供給電流之導線112。亦即，透過該等柱110、111，電流從導線112供給至熱電元件3。
＜效果＞ 此處，若熱電元件3之調溫溫度低於周圍環境氛圍之露點，則存在於熱電模組1C產生結露之可能性。若產生結露，則會在上述柱110、111誘發被稱為電化學遷移之現象。所謂電化學遷移，係電性電路上之電極間之絕緣性因電性的、化學的或熱等之原因而發生不良，因電極金屬作為離子溶出、還原而引起短路之現象。若發生此種現象，則有對熱電模組1C之穩定動作招致障礙之可能性。
是以，本實施形態中，於各端部電極4T上分別設有加熱用熱電元件3H。具體而言，於負極側端部電極4N上設有p型之熱電元件（加熱用p型熱電元件3Hp）。於正極側端部電極4P上設有n型之熱電元件（加熱用n型熱電元件3Hn）。
於熱電模組1C處於通電狀態時，在電流從n型熱電元件3N朝向p型熱電元件3P流動之上部基板21側產生吸熱。另一方面，在電流從p型熱電元件3P朝向n型熱電元件3N流動之下部基板22側產生發熱。
此處，負極側端部電極4N上之加熱用p型熱電元件3Hp，係與該負極側端部電極4N所相鄰之p型熱電元件3P相同之極型。因此，加熱用p型熱電元件3Hp之上表面會發熱。又，正極側端部電極4P上之加熱用n型熱電元件3Hn，具有與該正極側端部電極4P所相鄰之n型熱電元件3N相同之極型、亦即相同之多個載體。因此，加熱用n型熱電元件3Hn之上表面會發熱。
亦即，於該等加熱用熱電元件3H分別配置之柱110、111被加熱，作為一例成為100℃以上的高溫。因此，於水滴附著於柱110、111之表面之情形，該水滴被加熱而沸騰，至終蒸發。其結果，可降低發生因水滴之滯留導致之電化學遷移之可能性。
尤其是，上述構成中，於在電流之通電方向中之最下游側配置之熱電元件3為p型之情形，與該熱電元件3相鄰之加熱用熱電元件3H被設為p型。又，於在通電方向中之最上游側配置之熱電元件3為n型之情形，與該熱電元件3相鄰之加熱用熱電元件3H被設為n型。如此，僅藉由將具有與由複數個熱電元件3所形成之串聯電路之端部之熱電元件3相同之極型之熱電元件3設於端部電極4T上來加熱柱110、111，即可輕易抑制水滴之附著、滯留。
以上，雖參照圖式對本發明之實施形態進行了詳述，但具體構成並不限於該實施形態，亦包含不脫離本發明要旨之範圍之簡單變更等。例如，上述第一至第三實施形態中，針對熱電模組1A至1C作為光模組100之一個要素而被使用之情形進行了說明。然而，熱電模組1A至1C亦可適用於與光模組100不同之其他機械裝置。
此外，第三實施形態中，針對於在電流之通電方向中之最下游側配置之熱電元件3為p型之情形，與該熱電元件3相鄰之加熱用熱電元件3H被設為p型，於在通電方向中之最上游側配置之熱電元件3為n型之情形，與該熱電元件3相鄰之加熱用熱電元件3H被設為n型之例子進行了說明。然而，亦可採用於在電流之通電方向中之最下游側配置之熱電元件3為n型之情形，將與該熱電元件3相鄰之加熱用熱電元件3H設為n型，且於在通電方向中之最上游側配置之熱電元件3為p型之情形，將與該熱電元件3相鄰之加熱用熱電元件3H設為p型之構成。於採用此種構成之情形，與第三實施形態不同，可加熱上部基板21側。
100:光模組 1A、1B、1C:熱電模組 2:基板 21:上部基板 22:下部基板 22S:上表面 3:熱電元件 3H:加熱用熱電元件 3Hp:加熱用p型熱電元件 3Hn:加熱用n型熱電元件 3P:p型熱電元件 3N:n型熱電元件 4:電極 4A:第一電極 4B:第二電極 41:上部電極 42:下部電極 4C:連接電極 4T:端部電極 4N:負極側端部電極 4P:正極側端部電極 5:柱本體 5F:鈍態膜 50S、51S:對向面 50T、51T:外側面 6:中間層 7:鍍敷部 71:上部鍍敷部（第一鍍敷部） 72:下部鍍敷部（第二鍍敷部） 8:原料體 8G:鍍敷完畢原料體 101:發光元件 102:散熱片 103:第一頭座 104:受光元件 105:第二頭座 106:溫度感測器 107:金屬板 108:透鏡 109:透鏡保持具 110、111:柱 112:導線 113:殼體 114:開口部 115:光隔離器 116:光套管 117:光纖 118:套筒 A1:撥水塗佈層 A2:親水塗佈層 C1:對向面撥水塗佈層 C2:對向面親水塗佈層
[圖1]係表示本發明之第一至第三實施形態之光模組之構成之剖面圖。 [圖2]係表示本發明之第一實施形態之熱電模組之構成之剖面圖。 [圖3]係表示本發明之第一實施形態之柱之構成之立體圖。 [圖4]係表示本發明之第一實施形態之柱之製造方法之各步驟之流程圖。 [圖5]係表示本發明之第一實施形態之柱之製造方法中之準備步驟中之原料體構成之立體圖。 [圖6]係表示本發明之第一實施形態之柱之製造方法中之鍍敷處理步驟完畢後之鍍敷完畢原料體之構成之立體圖。 [圖7]係表示本發明之第一實施形態之柱之製造方法中之切割步驟完畢後之狀態之立體圖。 [圖8]係表示本發明之第二實施形態之熱電模組之構成之剖面圖。 [圖9]係表示本發明之第二實施形態之熱電模組之構成之俯視圖。 [圖10]係本發明之第二實施形態之熱電模組之要部擴大俯視圖。 [圖11]係本發明之第二實施形態之熱電模組之要部擴大側視圖。 [圖12]係本發明之第三實施形態之熱電模組之俯視圖。 [圖13]係圖12之III-III線之剖面圖。 [圖14]係圖12之IV-IV線之剖面圖。
5:柱本體
5F:鈍態膜
6:中間層
7:鍍敷部
71:上部鍍敷部(第一鍍敷部)
72:下部鍍敷部(第二鍍敷部)
111:柱

Claims (17)

  1. 一種熱電模組，其具備： 下部基板； 上部基板，於該下部基板之上方對向而配置； p型及n型之熱電元件，於該等下部基板與上部基板之間分別配置有複數個； 第一電極，配置於前述下部基板之上表面及前述上部基板之下表面，將前述p型及n型之熱電元件交互依次連接而形成串聯電路；以及 第二電極，設於前述下部基板上，將前述串聯電路之端部之熱電元件與柱連接； 前述柱具有： 柱本體，由鎳所形成；以及 鎳鈍態膜，覆蓋該柱本體之側面。
  2. 如請求項1所述之熱電模組，其中， 前述柱進而具有： 第一鍍敷部，設於與前述第二電極連接之該柱之第一面，由金與錫之合金所形成；以及 第二鍍敷部，設於與該柱之前述第一面對向之第二面，由金所形成。
  3. 如請求項2所述之熱電模組，其中， 前述柱進而具有： 中間層，設於前述第二鍍敷部與前述柱之間、及前述第一鍍敷部與前述柱之間之至少一者。
  4. 如請求項3所述之熱電模組，其中， 前述中間層係藉由從包含金、鈀、鉑、及銠之群中選擇之至少一種而形成。
  5. 一種熱電模組，其具備： 下部基板； 上部基板，於該下部基板之上方對向而配置； p型熱電元件及n型熱電元件，於該等下部基板與上部基板之間分別配置有複數個； 電極，配置於前述下部基板之上表面及前述上部基板之下表面，以形成串聯電路之方式，將前述p型熱電元件與n型熱電元件交互依次連接； 一對柱，於前述下部基板上空出間隔而立設，分別電性地連接於前述串聯電路之兩端；以及 撥水塗佈層，積層於前述下部基板上之前述一對柱之間之區域。
  6. 如請求項5所述之熱電模組，其進而具備： 親水塗佈層，積層於包圍前述下部基板上之前述一對柱之各柱外周部之區域。
  7. 如請求項5所述之熱電模組，其進而具備： 對向面撥水塗佈層，於前述一對柱之彼此對向之對向面分別形成。
  8. 如請求項7所述之熱電模組，其進而具備： 對向面親水塗佈層，於前述一對柱之與前述對向面不同之外側面分別形成。
  9. 如請求項5至8中任一項所述之熱電模組，其中， 前述上部基板、及前述下部基板之至少一者具有： 燒結體，成型為板狀；以及 浸透性撥水材料，含浸於該燒結體。
  10. 一種熱電模組，其具備： 下部基板； 上部基板，於該下部基板之上方對向而配置； p型及n型之熱電元件，於該等下部基板與上部基板之間分別配置有複數個； 連接電極，配置於前述下部基板之上表面及前述上部基板之下表面，以形成串聯電路之方式，將前述p型及n型之熱電元件交互依次連接； 端部電極，配置於前述下部基板之上表面，與前述串聯電路之端部之前述熱電元件連接； 加熱用熱電元件，配置於前述端部電極上，具有與前述串聯電路之端部之熱電元件相同之多個載體；以及 柱，立設於該加熱用熱電元件上。
  11. 如請求項10所述之熱電模組，其中， 前述串聯電路之端部之熱電元件係配置於電流之通電方向最下游側之p型之熱電元件； 前述加熱用熱電元件係p型之熱電元件。
  12. 如請求項11所述之熱電模組，其中， 前述串聯電路之端部之熱電元件係配置於電流之通電方向最上游側之n型之熱電元件； 前述加熱用熱電元件係n型之熱電元件。
  13. 如請求項10所述之熱電模組，其中， 前述串聯電路之端部之熱電元件係配置於電流之通電方向最下游側之n型之熱電元件； 前述加熱用熱電元件係n型之熱電元件。
  14. 如請求項13所述之熱電模組，其中， 前述串聯電路之端部之熱電元件係配置於電流之通電方向最上游側之p型之熱電元件； 前述加熱用熱電元件係n型之熱電元件。
  15. 一種熱電模組用柱之製造方法，其包含： 準備板狀之原料體之步驟，前述板狀之原料體由鎳所形成，且具有面向在厚度方向彼此分離之方向之一對端面； 形成鍍敷完畢原料體之步驟，前述鍍敷完畢原料體係藉由於該原料體之前述厚度方向之一側之端面實施金之鍍敷處理，且於該原料體之厚度方向之另一側之端面實施金與錫之合金之鍍敷處理來形成； 形成複數個柱之步驟，前述複數個柱係藉由從前述厚度方向將該鍍敷完畢原料體切割成格子狀來形成；以及 形成鎳鈍態膜之步驟，前述鎳鈍態膜係由將前述柱浸漬於氧化劑而於該柱之側面形成。
  16. 如請求項15所述之熱電模組用柱之製造方法，其中， 前述形成鍍敷完畢原料體之步驟中，在前述金之鍍敷處理及前述金與錫之合金之鍍敷處理之前，執行於前述原料體之厚度方向之一面形成中間層之步驟。
  17. 如請求項15所述之熱電模組用柱之製造方法，其中， 前述形成鍍敷完畢原料體之步驟中，在前述金之鍍敷處理及前述金與錫之合金之鍍敷處理之前，執行於前述原料體之厚度方向之兩面形成中間層之步驟。
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