TW202111427A - 光敏組合物及色轉變膜、彼等之應用以及製備方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於光敏組合物及色轉變膜。本發明進一步係關於該光敏組合物在色轉變膜製作方法中之用途及該色轉變膜在光學裝置中之用途。本發明進一步係關於包括該色轉變膜之光學裝置及製備該色轉變膜及該光學裝置之方法。

Description

光敏組合物及色轉變膜、彼等之應用以及製備方法
本發明係關於光敏組合物及色轉變膜。本發明進一步係關於該光敏組合物在色轉變膜製作方法中之用途及該色轉變膜在光學裝置中之用途。本發明進一步係關於包括該色轉變膜之光學裝置及製備該色轉變膜及該光學裝置之方法。
包括奈米級螢光材料及聚合物之光敏組合物、包含螢光材料之色轉變膜及包括光轉變膜之光學裝置用於各種光學應用中，尤其用於光學裝置中。 舉例而言，如JP 2014-174406 A、WO 2014/129067 A1、WO 2012/059931A1、JP 3820633 B、EP 01403355 A、JP 2014-10398 A、EP 02056158 A、WO 2010/143461 A1中所闡述。專利文獻 1.     JP 2014-174406 A 2.     WO 2014/129067 A1 3.     WO 2012/059931 A1 4.     JP 3820633 B 5.     JP 2014-10398 A 6.     EP 01403355 A 7.     EP 02056158 A 8.     WO 2010/143461 A1
然而，發明者新近發現，仍存在一或多種期望改良之如下文所列示之重大問題。 1.     期望包括奈米級螢光材料(例如量子級材料)、潤濕及分散劑及聚合物之新穎光敏組合物可減小或防止光敏組合物之暗反應。 2.     需要包括奈米級螢光材料(例如量子級材料)、潤濕及分散劑及聚合物之新穎光敏組合物在顯影於鹼性顯影劑中時展示改良之顯影能力。 3.     包括奈米級螢光材料(例如量子級材料)、潤濕及分散劑及聚合物之新穎光敏組合物亦適用於較低溫度膜製備製程。 發明者旨在解決所有上文所提及之問題。令人驚訝的是，發明者已發現，包括複數種奈米級螢光材料、(甲基)丙烯酸系聚合物及潤濕及分散劑之新穎光敏組合物同時解決了所有問題1至3，其中潤濕及分散劑包括選自由以下組成之群之錨定基團：膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、三級胺、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸。 在另一態樣中，本發明係關於包括複數種奈米級螢光材料(110)、潤濕及分散劑(130)及聚合物基質(120)之色轉變膜(100)，其中潤濕及分散劑包括選自由以下組成之群之錨定基團：膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、三級胺、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸。 在另一態樣中，本發明係關於光敏組合物在色轉變膜製作製程中之用途。 在另一態樣中，本發明係關於色轉變膜(100)在光學裝置中之用途。 在另一態樣中，本發明進一步係關於包括色轉變膜(100)之光學裝置(200)。 在另一態樣中，本發明進一步係關於製備色轉變膜(100)之方法，其中該方法按此順序包括下列步驟(a)及(b)： (a)    在基板上提供光敏組合物，及 (b)    藉由熱處理或將光敏組合物曝光於光線下或藉由該等方式中之任一者之組合來使光敏組合物聚合。 在另一態樣中，本發明進一步係關於製備光學裝置(200)之方法，其中該方法包括下列步驟(A)： (A)   在光學裝置中提供色轉變膜(100)。 自下列詳細說明將明瞭本發明之其他優點。
根據本發明，發明者提供包括複數種奈米級螢光材料、(甲基)丙烯酸系聚合物及潤濕及分散劑(其中潤濕及分散劑包括選自由以下組成之群之錨定基團：膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、三級胺、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸)之光敏組合物以同時解決所有問題1至3。 -  潤濕及分散劑 根據本發明，光敏組合物包括含有選自由以下組成之群之錨定基團之潤濕及分散劑：膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、三級胺、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸。 在本發明之一較佳實施例中，潤濕及分散劑之錨定基團可選自由以下組成之群：三級胺、氧化膦基團、膦酸及磷酸基。 更佳地，為防止暗反應，錨定基團可為由下列化學式(I)代表之三級胺： -NR1 R2 - (I) 其中在化學式(I)中，R1 係氫原子、具有1至30個碳原子之烷基或具有1至30個碳原子之芳基；R2 係氫原子、具有1至30個碳原子之烷基或具有1至30個碳原子之芳基；R1 及R2 可彼此相同或不同。 甚至更佳地，R1 係具有1至30個碳原子之烷基； R2 係具有1至30個碳原子之烷基；R1 及R2 可彼此相同或不同。 另外較佳地，R1 係甲基、乙基、正丙基或正丁基；R2 係甲基、乙基、正丙基或正丁基。 根據本發明，錨定基團並非鹽。 不期望受限於理論，據信，包括選自由膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、三級胺、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸組成之群之錨定基團之分散劑可防止光敏組合物之暗反應。 在本發明之一較佳實施例中，可將潤濕及分散添加劑直接附接於奈米級螢光材料之表面上。藉由使用配體交換方法(例如闡述於Thomas Nann, Chem. Commun., 2005, 1735 - 1736, DOI: 10.1039/b-414807j中)，可將潤濕及分散添加劑引入奈米級螢光材料之表面上。 在本發明之一些實施例中，較佳地，潤濕及分散劑係選自由以下組成之群之共聚物：接枝共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物及隨機共聚物。 在本發明之一些實施例中，更佳地，共聚物包括含有錨定基團之聚合物單元A及並不含有任一錨定基團之聚合物單元B。 在本發明之一些實施例中，甚至更佳地，共聚物係由下列化學式(II)或(III)代表之嵌段共聚物或接枝共聚物： An - Bm -  (II) Bo - An - Bm -  (III) (其中在式(II)及(III)中，符號「A」代表包含錨定基團之聚合物單元A；符號「B」意指並不包含任一錨定基團之聚合物單元B；符號「n」、「m」及「o」係整數。)。 在本發明之一些實施例中，潤濕及分散劑之聚合物單元B包括選自由以下組成之群之聚合物鏈：聚乙二醇、聚酯、聚乳酸、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯啶酮、纖維素及該等物質中之任一者之衍生物。 在本發明之一較佳實施例中，聚合物單元B之聚合物鏈係聚乙二醇。 更佳地，聚合物單元B包括由下列化學式(IV)代表之化學結構。
Figure 02_image001
-化學式(IV) 其中在化學式(IV)中，R1 係氫原子或甲基；R2 係具有1至10個碳原子之烷基；且n係整數1至5。 甚至更佳地，R1 可為氫原子或甲基，R2 可為乙基，且n係整數1至5。 根據本發明，對於潤濕及分散劑之重量平均分子量並無特定限制。 較佳地，自較佳分散性及膜強度之角度考慮，其在2,000 - 100,000範圍內，更佳地，其在5,000 - 30,000範圍內。 根據本發明，藉助GPC (= 凝膠滲透層析)針對內部聚苯乙烯標準測定分子量Mw 。 對於潤濕及分散添加劑而言，可較佳使用可溶於非極性及/或低極性有機溶劑中之市售潤濕及分散添加劑。例如BYK-LPN6919、BYK-103、BYK-P104 ([商標]，來自BYK com.)、聚(乙二醇)甲基醚胺(Sigma-Ald 767565 [商標]，來自Sigma Aldrich)、聚酯bis-MPA (樹枝狀，32羥基，1硫醇) (Sigma-Ald 767115 [商標]，來自Sigma Aldrich)、LIPONOL DA-T/25 (來自Lion Specialty Chemicals Co.)、羧甲基纖維素(來自Polyscience等)、另一揭示於(例如) 「Marc Thiry等人，ACSNANO, American Chemical society，第5卷，第6期，第4965 - 4973頁，2011」、「Kimihiro Susumu,等人，J. Am. Chem. Soc. 2011, 133，第9480-9496頁」中之潤濕及分散添加劑。 -  奈米級螢光材料 在本發明之一較佳實施例中，奈米級螢光材料可選自由以下組成之群：奈米級無機磷光體材料、量子級材料(例如量子點及或量子棒)及該等物質中之任一者之組合。 不期望受限於理論，據信，奈米級螢光材料可因尺寸效應而以較高濃度比率使用且亦可實現色轉變膜之鮮明亮麗色彩。 更佳地，奈米級螢光材料係量子級材料，其另外較佳係量子點材料、量子棒材料或該等物質中之任一者之組合。 根據本發明，術語「奈米級」意指大小介於1 nm與900 nm之間。 因此，根據本發明，奈米級螢光材料意指整體直徑之大小在1 nm至900 nm範圍內之螢光材料。另外，在材料具有狹長形狀之情形下，螢光材料之整體結構之長度在1 nm至900 nm範圍內。 根據本發明，術語「量子級」意指不含配體或另一表面改質之無機半導體材料本身之大小可展示量子尺寸效應。 通常，量子級材料(例如量子點材料及/或量子棒材料)可因量子尺寸效應而發射鮮明亮麗色彩光。 對於量子點而言，可視需要較佳使用可公開獲得之量子點，例如來自Sigma-Aldrich之CdSeS/ZnS合金化量子點產品編號753793、753777、753785、753807、753750、753742、753769、753866、InP/ZnS量子點產品編號776769、776750、776793、776777、776785、PbS核心型量子點產品編號747017、747025、747076、747084或CdSe/ZnS合金化量子點產品編號754226、748021、694592、694657、694649、694630、694622。 不期望受限於理論，據信，與來自量子點、有機螢光材料及/或有機磷光材料、磷光體材料之球形光發射之輸出耦合效率相比，來自具有狹長形狀之奈米級螢光材料之偶極矩之發光可產生較高輸出耦合效率。 換言之，據信，具有狹長形狀之奈米級螢光材料(例如量子棒)之長軸可平均而言以較高機率平行於基板表面而對準且其偶極矩亦可平均而言以較高機率平行於基板表面而對準。 因此，根據本發明，為同時實現裝置之鮮明亮麗色彩及較佳外耦合效應，視需要，量子棒材料更佳。 因此，在一些實施例中，奈米級螢光材料可選自量子棒材料以實現較佳外耦合效應。 在本發明之一較佳實施例中，量子棒材料可選自由以下組成之群：II-VI、III-V或IV-VI半導體及該等物質中之任一者之組合。 更佳地，量子棒材料可選自由以下組成之群：Cds、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、GaAs、GaP、GaAs、GaSb、HgS、HgSe、HgSe、HgTe、InAs、InP、InSb、AlAs、AlP、AlSb、Cu2 S、Cu2 Se、CuInS2、CuInSe2 、Cu2 (ZnSn)S4 、Cu2 (InGa)S4 、TiO2 合金及該等物質中之任一者之組合。 舉例而言，對於紅色發射應用而言，使用CdSe棒、於CdS棒中之CdSe點、於CdS棒中之ZnSe點、CdSe/ZnS棒、InP棒、CdSe/CdS棒、ZnSe/CdS棒或該等物質中之任一者之組合。對於綠色發射應用而言，使用(例如)CdSe棒、CdSe/ZnS棒或該等物質中之任一者之組合，且對於藍色發射應用而言，使用(例如) ZnSe、ZnS、ZnSe/ZnS核心-殼體棒或該等物質中之任一者之組合。 量子棒材料之實例已闡述於(例如)國際專利申請案特許公開號WO2010/095140A中。 在本發明之一較佳實施例中，量子棒材料/或量子點材料之整體結構長度為8 nm至500 nm。更佳為10 nm至160 nm。該量子棒材料之整體直徑在1 nm至20 nm範圍內。更特定而言，其為1 nm至10 nm。 較佳地，奈米級螢光材料(例如量子棒及/或量子點)包括表面配體。 量子棒及/或量子點材料之表面可上塗覆有一或多種表面配體。 不欲受限於理論，據信，此一表面配體可使得較容易地將奈米級螢光材料分散於溶劑中。 可藉由使用如「潤濕及分散劑」中所闡述之配體交換製程部分地或完全將潤濕及分散劑附接於奈米級螢光材料之配體表面上或直接附接於奈米級螢光材料之表面上。 根據本發明，較佳地，光敏組合物係含有複數種綠色可見光可發射奈米級螢光材料之綠色型光敏組合物、包括複數種紅色可見光可發射奈米級螢光材料之紅色型光敏組合物或含有複數種不同種類奈米級螢光材料之白色型光敏組合物，例如綠色可見光可發射奈米級螢光材料及紅色光可發射奈米級螢光材料之混合物。 -  (甲基)丙烯酸系聚合物 根據本發明，術語「(甲基)丙烯酸系聚合物」意指藉由使選自由以下組成之群之單體聚合獲得之聚合物的一般術語：丙烯酸酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯及該等物質中之任一者之組合。 對於(甲基)丙烯酸系聚合物而言，可使用公開已知之一或多種(甲基)丙烯酸系聚合物。 在本發明之一些實施例中，較佳地，(甲基)丙烯酸系聚合物包括含有酸基團之(甲基)丙烯酸單元。 在本發明之一較佳實施例中，包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元可為包含選自由以下組成之群之側鏈之(甲基)丙烯酸單元：羧基、磺基或酚型羥基。 不期望受限於理論，據信，包含含有酸基團之(甲基)丙烯酸單元之(甲基)丙烯酸系聚合物可使得光敏組合物之未固化部分在顯影劑中具有較佳溶解性。 根據本發明，對於酸基團之數量並無特定限制。為調節光敏組合物之較佳反應性及儲存穩定性，(甲基)丙烯酸系聚合物之酸值較佳地在5 mg KOH/g至500 mg KOH/g範圍內。更佳地，其為50 mg KOH/g至300 mg KOH/g。 另外，在本發明之一些實施例中，較佳地，(甲基)丙烯酸系聚合物進一步包括經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元。 對於經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元之實例而言，可較佳使用經矽氧基及/或矽醇基團取代之(甲基)丙烯酸單元、藉由與包含碳-碳不飽和鍵之矽烷偶合劑、聚矽氧寡聚物、聚矽氧油進行反應製得之(甲基)丙烯酸單元。 更佳地，可較佳使用自矽烷偶合劑及具有包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元之(甲基)丙烯酸系聚合物製得之共聚物。 在本文中，對於矽烷偶合劑之實例而言，可較佳使用KBM-1003、KME-1003、KBM-1403或 KBM-5103 (來自Shinetsu．Co.)，且對於聚矽氧油之實例而言，可較佳使用X-22-174DX、X-22-2426、X-22-2475或X-22-1602 (來自Shinetsu． Co.)。 藉由改變(甲基)丙烯酸系聚合物中包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元與經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元之莫耳比，可視需要調節(甲基)丙烯酸系聚合物在鹼性顯影劑中之溶解性。 在本發明之一較佳實施例中，自鹼性顯影劑中之較佳溶解性、包括複數種奈米級螢光材料、(甲基)丙烯酸系聚合物及潤濕及分散劑之光敏組合物之良好顯影性質之角度考慮，(甲基)丙烯酸系聚合物中包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元與經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元之莫耳比可為95 : 5 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元:經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元)至30: 70 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元:經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元)。 更佳地，其可為90 : 10 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元:經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元)至50 : 50 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸單元:經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元)。 根據本發明，對於經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元之不飽和鍵之數量並無特定限制。為調節與光敏組合物之另一成份之較佳反應性及相容性，(甲基)丙烯酸系聚合物中雙鍵等效物(乙烯系不飽和鍵等效物)之值較佳地在1 g/eq至500 g/eq範圍內。 在本發明之另一實施例中，(甲基)丙烯酸系聚合物可為包含含有酸基團之重複單元之(甲基)丙烯酸系聚合物。 對於包含含有酸基團之重複單元之(甲基)丙烯酸系聚合物而言，使用包含選自由以下組成之群之側鏈之(甲基)丙烯酸系聚合物：羧基、磺基或酚型羥基。 根據本發明，對於酸基團之數量並無特定限制。為調節光敏組合物之較佳反應性及儲存穩定性，(甲基)丙烯酸系聚合物之酸值較佳地在5 mg KOH/g至500 mg KOH/g範圍內。更佳地，其為50 mg KOH/g至300 mg KOH/g。 根據本發明，對於(甲基)丙烯酸系聚合物之重量-平均分子量並無特定限制。 較佳地，其在2,000 - 100,000範圍內，更佳地，其在3,000 - 30,000範圍內。 在本發明之一較佳實施例中，除包含含有酸基團之重複單元之(甲基)丙烯酸系聚合物外，光敏組合物可進一步包括經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物以調節光敏組合物之溶解性。 對於經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物之實例而言，可較佳使用經矽氧基及/或矽醇基團取代之(甲基)丙烯酸系聚合物、與包含碳-碳不飽和鍵之矽烷偶合劑、聚矽氧寡聚物或聚矽氧油反應之(甲基)丙烯酸系聚合物。 更佳地，可使用自矽烷偶合劑及(甲基)丙烯酸系聚合物製得之共聚物作為經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物。 在本文中，對於矽烷偶合劑之實例而言，可較佳使用KBM-1003、KME-1003、KBM-1403或 KBM-5103 (來自Shinetsu．Co.)，且對於聚矽氧油之實例而言，可較佳使用X-22-174DX、X-22-2426、X-22-2475或X-22-1602 (來自Shinetsu． Co.)。 根據本發明，對於不飽和鍵之數量並無特定限制。為調節較佳反應性及相容性，(甲基)丙烯酸系聚合物中之雙鍵等效物(乙烯系不飽和鍵等效物)之值較佳地在10 g/eq至500 g/eq範圍內。 在本發明之一較佳實施例中，自鹼性顯影劑中之較佳溶解性、包括至少複數種奈米級螢光材料、(甲基)丙烯酸系聚合物及潤濕及分散劑之光敏組合物之良好顯影性質之角度考慮，經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物中包含酸基團之(甲基)丙烯酸系聚合物與經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物之莫耳比可為95 : 5 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸系聚合物:經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物)至30: 70 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸系聚合物:經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物)。 更佳地，其可為90 : 10 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸系聚合物:矽烷修飾之(甲基)丙烯酸系聚合物)至50 : 50 (包含酸基團之(甲基)丙烯酸系聚合物:經矽烷改質之(甲基)丙烯酸系聚合物)。 根據本發明，視情況，光敏組合物可進一步包括聚矽氧烷以實現自光敏組合物製得之色轉變膜之較佳熱穩定性、透明性及化學穩定性。 在該情形下，對於(甲基)丙烯酸系聚合物與聚矽氧烷之摻和比率並無特定限制。 自色轉變膜之較佳熱穩定性、透明性及化學穩定性之角度考慮，(甲基)丙烯酸系聚合物與聚矽氧烷之摻和比率可較佳為100 : 0 ((甲基)丙烯酸系聚合物:聚矽氧烷)至10 : 90。 更佳地，自光敏組合物在鹼性顯影劑中之較佳溶解性及良好顯影能力之角度考慮，該比率在100 : 0至50 : 50範圍內。 根據本發明，光敏組合物可為正型光敏組合物或負型光敏組合物。 -正型光敏組合物 本發明之光敏組合物根據可進一步包括正型光敏材料，從而光敏組合物可用作正型光敏組合物。 -  正型光敏材料 若光敏材料對本發明之光敏組合物具有一定效應以使其可顯影以便在暴露區中擴散之組合物可溶於鹼性顯影劑中，含有光敏材料之光敏組合物用作正型光敏組合物。 具有上述效應之光敏材料之較佳實例包含重氮萘醌衍生物，其係含有酚類羥基之化合物與萘醌二疊氮化物磺酸之酯。對於重氮萘醌衍生物之結構並無特定限制，該衍生物較佳係衍生自具有一或多個酚類羥基之化合物之酯化合物。萘醌二疊氮化物磺酸之實例包含4-萘醌二疊氮化物磺酸及5-萘醌二疊氮化物磺酸。因在i-線光之波長範圍(波長：365 nm)中具有吸收帶，故4-萘醌二疊氮化物磺酸酯化合物適用於i-線曝光。另一方面，因在寬波長範圍中具有吸收帶，故5-萘醌二疊氮化物磺酸酯化合物適用於寬波長範圍中之曝光。因此，較佳根據曝光波長來選擇4-或5-萘醌二疊氮化物磺酸酯化合物。亦可使用二者之組合。 對於含有酚類羥基之化合物並無特定限制。其實例展示如下(其中除「雙酚A」外之所有化合物名稱皆係由HONSHU CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.製得之商品名[商標])。
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Figure 02_image005
-  負型光敏組合物 根據本發明，若光敏組合物並不含有任一正型光敏組合物，則光敏組合物用作負型光敏組合物。 在本發明之一些實施例中，較佳地，光敏組合物係包括聚合起始劑之負型光敏組合物。 -聚合起始劑 本發明之光敏組合物較佳地含有聚合起始劑。通常，存在兩類可用於本發明中之聚合起始劑：一類係在曝光於輻射時生成酸、鹼或自由基之聚合起始劑，且另一類係在暴露於熱時生成酸、鹼或自由基之聚合起始劑。 不期望受限於理論，據信，聚合起始劑可增強圖案形狀或可增加顯影反差以改良解析度。可用於本發明中之聚合起始劑係(例如)光酸生成劑，其在曝光於輻射時發生分解且釋放用作用於光固化組合物之活性物質之酸；光自由基生成劑，其釋放自由基；光鹼生成劑，其釋放鹼；熱酸生成劑，其在暴露於熱時發生分解且釋放用作用於熱固化組合物之活性物質之酸；熱自由基生成劑，其釋放自由基；及熱鹼生成劑，其釋放鹼。輻射之實例包含可見光、UV射線、IR射線、X-射線、電子束、α-射線及γ-射線。 聚合起始劑之最佳量取決於自分解起始劑釋放之活性物質之種類、所釋放物質之量、所需敏感性及暴露區與未暴露區之間之溶解反差。 在本發明之一較佳實施例中，基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，聚合起始劑之量在0.001重量份數至10重量份數、更佳地0.01重量份數至5重量份數之範圍內。大於0.001之重量份數較佳用於實現暴露區與未暴露區之間之較佳溶解反差且獲得起始劑之效應。另一方面，小於10重量份數之聚合起始劑較佳用於防止所製作色轉變膜(100)破裂，或防止所製作膜藉由分解起始劑引起之著色且實現針對光阻劑去除劑之良好抗塗覆性。 上述光酸生成劑之實例包含重氮甲烷化合物、二苯基錪鹽、三苯基鋶鹽、鋶鹽、銨鹽、鏻鹽及磺醯胺化合物。彼等光酸生成劑之結構可由式(A)代表： R+ X- (A). 其中在式(A)中，R+ 係氫或由碳原子或其他雜原子改質之有機離子，條件係該有機離子係選自由以下組成之群：烷基、芳基、烯基、醯基及烷氧基。舉例而言，R+ 係二苯基錪離子或三苯基鋶離子。 此外，X- 較佳係由下列式中之任一者代表之相對離子： SbY6 - ， AsY6 - ， Ra p PY6-p - ， Ra q BY4-q - ， Ra q GaY4-q - ， Ra SO3 - ， (Ra SO2 )3 C- ， (Ra SO2 )2 N- ， Ra COO- ，及 SCN- 其中 Y係鹵素原子， Ra 係具有1至20個碳原子之烷基或具有6至20個碳原子之芳基，條件係每一基團經選自由以下組成之群之取代基取代：氟、硝基及氰基， Rb 係氫或具有1至8個碳原子之烷基， P係0至6之數值，且 Q係0至4之數值。 相對離子之具體實例包含：BF4 - 、(C6 F5 )4 B- 、((CF3 )2 C6 H3 )4 B- 、PF6 - 、(CF3 CF2 )3 PF3 - 、SbF6 - 、(C6 F5 )4 Ga- 、((CF3 )2 C6 H3 )4 Ga- 、SCN- 、(CF3 SO2 )3 C- 、(CF3 SO2 )2 N- 、甲酸根離子、乙酸根離子、三氟甲烷磺酸根離子、九氟丁烷磺酸根離子、甲烷磺酸根離子、丁烷磺酸根離子、苯磺酸根離子、對甲苯磺酸根離子及磺酸根離子。 在可用於本發明中之光酸生成劑中，生成磺酸或硼酸者尤佳。其實例包含四(五氟苯基)硼酸酯枯基錪(PHOTOINITIATOR2074 [商標]，由Rhodorsil製得)、四(全氟苯基)硼酸二苯基錪及分別具有鋶離子及五氟硼酸根離子作為陽離子及陰離子部分之化合物。此外，光酸生成劑之實例亦包含三氟甲烷磺酸三苯基鋶、樟腦磺酸三苯基鋶、四(全氟苯基)硼酸三苯基鋶、六氟砷酸4-乙醯氧基苯基二甲基鋶、三氟甲烷磺酸1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鎓、三氟甲烷磺酸1-(4,7-二丁氧基-1-萘基)四氫噻吩鎓、三氟甲烷磺酸二苯基錪及六氟砷酸二苯基錪。此外，仍亦可採用由下列式代表之光酸生成劑：
Figure 02_image007
其中 每一A獨立地係選自由以下組成之群之取代基：具有1至20個碳原子之烷基、具有1至20個碳原子之烷氧基、具有6至20個碳原子之芳基、具有1至20個碳原子之烷基羰基、具有6至20個碳原子之芳基羰基、羥基及胺基； 每一p獨立地係0至5之整數；且 B- 係氟化烷基磺酸根基團、氟化芳基磺酸根基團、氟化烷基硼酸根基團、烷基磺酸根基團或芳基磺酸根基團。 亦可使用上述式中之陽離子及陰離子彼此交換或與上文所闡述之各種其他陽離子及陰離子進行組合之光酸生成劑。舉例而言，由上述式代表之任一鋶離子可與四(全氟苯基)硼酸根離子進行組合，且另外，由上述式代表之任一錪離子可與四(全氟苯基)硼酸根離子進行組合。彼等實例仍亦可用作光酸生成劑。 熱酸生成劑係(例如)能夠生成有機酸之鹽或酯。其實例包含：各種脂肪族磺酸及其鹽；各種脂肪族羧酸(例如檸檬酸、乙酸及馬來酸)及其鹽；各種芳香族羧酸(例如苯甲酸及苯二甲酸)及其鹽；芳香族磺酸及其銨鹽；各種胺鹽；芳香族重氮鹽；及膦酸及其鹽。在可用於本發明中之熱酸生成劑中，有機酸及有機鹼之鹽較佳，且另外較佳者係磺酸及有機鹼之鹽。 含有磺酸根離子之較佳熱酸生成劑之實例包含對甲苯磺酸酯、苯磺酸酯、對十二烷基苯磺酸酯、1,4-萘二磺酸酯及甲烷磺酸酯。 光自由基生成劑之實例包含偶氮化合物、過氧化物、醯基氧化膦、烷基酚、肟酯及環戊二烯鈦。 根據本發明，對於光自由基生成劑而言，醯基氧化膦、烷基酚、肟酯或該等物質中之任一者之組合更佳。舉例而言，可較佳使用2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羥基-環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基丙醯基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲基噻吩基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮、2-(二甲基胺基) -2-[(4-甲基苯酚)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦、1,2-辛二酮1-[4-(苯硫基)-2-(鄰苯甲醯基肟)]、乙酮1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(o-乙醯基肟)或該等物質中之任一者之組合。 對於熱自由基生成劑之實例而言，可較佳使用2,2‘偶氮雙(2-甲基戊腈)、2,2‘-偶氮雙(二甲基戊腈)或該等物質中之任一者之組合。 光鹼生成劑之實例包含具有醯胺基團之多取代醯胺化合物、內醯胺、亞醯胺化合物及具有彼等結構之化合物。 上述熱鹼生成劑之實例包含：咪唑衍生物，例如N-(2-硝基苄基氧基羰基)咪唑、N-(3-硝基苄基氧基羰基)咪唑、N-(4-硝基苄基氧基羰基)咪唑、N-(5-甲基-2-硝基苄基氧基羰基)咪唑及N-(4-氯-2-硝基苄基氧基羰基)咪唑；1,8-二氮雜二環(5,4,0)十一烯-7、三級胺、四級銨鹽及其混合物。彼等鹼生成劑以及酸生成劑及/或自由基生成劑可單獨使用或以混合物形式使用。 根據本發明，可較佳使用在曝光於輻射時生成酸、鹼或自由基之聚合起始劑。 因此，在本發明之一較佳實施例中，聚合起始劑可選自由以下組成之群：光自由基生成劑、光鹼生成劑、光酸生成劑及該等物質中之任一者之組合。 更佳地，聚合起始劑可為光自由基生成劑。 -  溶劑 根據本發明，可較佳使用各種公開已知之溶劑。對於溶劑並無特定限制，只要其可均勻地溶解或分散上述(甲基)丙烯酸系聚合物、聚合起始劑及視情況納入之添加劑。 在本發明之一較佳實施例中，溶劑可選自由以下組成之群：乙二醇單烷基醚，例如乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單丙基醚及乙二醇單丁基醚；二乙二醇二烷基醚，例如二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇二丙基醚及二乙二醇二丁基醚；乙二醇烷基醚乙酸酯，例如乙酸甲賽珞蘇及乙酸乙賽珞蘇；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇單乙基醚乙酸酯及丙二醇單丙基醚乙酸酯；芳香族烴，例如苯、甲苯及二甲苯；酮，例如甲基乙基酮、丙酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮及環己酮；醇，例如乙醇、丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇及甘油；酯，例如3-乙氧基丙酸乙基酯、3-甲氧基丙酸甲基酯及乳酸乙酯；及環狀酯，例如γ-丁內酯。彼等溶劑係單獨使用或以兩種或更多種之組合形式使用，且其量取決於塗覆方法及塗層厚度。 更佳地，可使用丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇單甲基醚乙酸酯(在下文中係「PGMEA」)、丙二醇單乙基醚乙酸酯或丙二醇單丙基醚乙酸酯。 甚至更佳地，可使用PGMEA。 可根據塗覆組合物之方法自由控制光敏組合物中之溶劑之量。舉例而言，若擬噴塗組合物，其可以90 wt.%或更高之量含有溶劑。此外，若擬實施狹縫塗覆方法(其通常用於塗覆大基板)，則溶劑之含量通常為60 wt.%或更高、較佳地70 wt.%或更高。 -  包含兩種或更多種(甲基)丙烯醯基之化學化合物 在本發明之一些實施例中，較佳地，光敏組合物進一步包括含有兩種或更多種(甲基)丙烯醯基之化學化合物。 根據本發明，術語「(甲基)丙烯醯基」意指丙烯醯基及甲基丙烯醯基之一般術語。 包含兩種或更多種(甲基)丙烯醯基之化學化合物可與(甲基)丙烯酸系聚合物進行反應，且然後可產生交聯結構。 較佳地，化學化合物包括三種或更多種(甲基)丙烯醯基以與(甲基)丙烯酸系聚合物一起產生較高維度之交聯結構。 對於包含兩種或更多種(甲基)丙烯醯基之化學化合物之實例而言，可在本發明中較佳使用藉由使多元醇與兩種或更多種(甲基)丙烯酸酸進行反應所形成之酯。 根據本發明，多元醇具有選自由以下組成之群之基本結構：飽和或不飽和脂肪族烴、芳香族烴、雜環烴、一級、二級或三級胺、醚及兩個或更多個羥基取代基。本發明多元醇可進一步包含其他取代基，例如揭示於(例如) JP 2014-114176中者。 對於公開可獲得之官能丙烯酸酯而言，可較佳地單獨或以混合物形式使用雙功能丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯(例如A-DOD、A-DCP及/或A-9300 (來自Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.))。 在本發明之一較佳實施例中，基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，包括三種或更多種(甲基)丙烯醯基之化學化合物之量在0.001重量份數至90重量份數、更佳地3重量份數至60重量份數範圍內以實現與本發明之光敏組合物中所使用其他聚合物的較佳溶解性。甚至更佳地，基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其在5重量份數至50重量份數範圍內。 -  聚矽氧烷 在本發明之一些實施例中，視情況，光敏組合物可進一步包括含有由下列化學式I代表之倍半矽氧烷單元之聚矽氧烷： (RSiO1.5 )x -化學式I (其中，在化學式I中，R係選自由以下組成之群之不可水解基團：氫、經取代或未經取代之烷基、經取代或未經取代之芳基、經取代或未經取代之芳烷基及經取代或未經取代之雜環基；且符號x係整數。) 若並未另外定義，則烷基較佳係具有1至15個C原子之烷基。芳烷基代表-烷基-芳基且較佳係苄基。芳基較佳地係選自苯或萘，且最佳係苯環，其中該等基團視情況經Cl、F、1-7 C烷基、1-7 C烷氧基、CN、-(CO)烷基、-(CO)O-烷基取代。 在本發明之一較佳實施例中，R可選自由以下組成之群：甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、正己基、正癸基、正丁基、三氟甲基、2,2,2-三氟乙基、3,3,3-三氟丙基、環己基、苯基、甲苯基及萘基。 不期望受限於理論，據信，若R係苯基，則其可使得聚矽氧烷在溶劑中具有較佳溶解性且減小所製作膜之破裂，且若R係甲基，則原材料可較容易地自市場獲得且可使得所製作膜具有較高硬度及較佳化學穩定性。 因此，更佳地，R可為苯基或甲基。 在本發明之一些實施例中，較佳地，聚矽氧烷包括由下列化學式II代表之第一、第二及第三重複單元： (SiO2 )l + (R1 SiO1.5 )m + (R2 SiO1.5 )n - 化學式II (其中在化學式II中，R1 係選自由以下組成之群之不可水解基團：氫、經取代或未經取代之烷基、經取代或未經取代之芳基、經取代或未經取代之芳烷基及經取代或未經取代之雜環基；R2 係選自由以下組成之群之不可水解基團：氫、經取代或未經取代之烷基、經取代或未經取代之芳基、經取代或未經取代之芳烷基及經取代或未經取代之雜環基；且符號l、m、n係整數且0＜ m + n，其中R1 及R2 彼此不同。) 若並未另外定義，則烷基較佳係具有1至15個C原子之烷基。芳烷基代表-烷基-芳基且較佳係苄基。芳基較佳地係選自苯或萘，且最佳係苯環，其中該等基團視情況經Cl、F、1-7 C烷基、1-7 C烷氧基、CN、‑(CO)烷基、-(CO)O-烷基取代。 在本發明之一較佳實施例中，R1 可選自由以下組成之群：甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、正己基、正癸基、正丁基、三氟甲基、2,2,2-三氟乙基、3,3,3-三氟丙基、環己基、苯基、甲苯基及萘基；且R2 可選自由以下組成之群：甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、正己基、正癸基、正丁基、三氟甲基、2,2,2-三氟乙基、3,3,3-三氟丙基、環己基、苯基、甲苯基及萘基。 不期望受限於理論，據信，若R1 或R2 係苯基，則其可使得聚矽氧烷在溶劑中具有較佳溶解性且減小所製作膜之破裂且若R1 或R2 係甲基，則原材料可容易地自市場獲得且可使得所製作膜具有較高硬度及較佳化學穩定性。 因此，更佳地，R1 可為苯基且R2 可為甲基。 在本發明之一些實施例中，視情況，聚矽氧烷可進一步包括由化學式III代表之下列重複單元： (R3 SiO1.5 )o -化學式III (其中在化學式III中，R3 係選自烷氧基及/或羥基之可水解基團，符號o係零或整數。) 該等聚矽氧烷(例如闡述於(例如) JP 2014-114176, WO 2012/157696 A1, WO 2013/151166 A中者)可較佳地用作本發明之聚矽氧烷。 -  散射顆粒及/或反射率調節材料 在本發明之一些實施例中，光敏組合物可進一步包括選自由以下組成之群之添加劑：散射顆粒、反射率調節材料及該等物質中之任一者之組合。 根據本發明，對於光散射顆粒而言，可視需要較佳使用任一類型之公開已知光散射顆粒，其與包含該等光散射顆粒且可產生米氏散射效應(Mie scattering effect)之基質材料層具有不同折射率。 舉例而言，可較佳使用無機氧化物(例如SiO2 、SnO2 、CuO、CoO、Al2 O3 TiO2 、Fe2 O3 、Y2 O3 、ZnO、MgO)之小顆粒；有機顆粒，例如聚合聚苯乙烯、聚合PMMA；無機空心氧化物，例如空心二氧化矽；或該等物質中之任一者之組合。 上文所提及之光散射顆粒可用作指數調節材料。 較佳地，光散射顆粒及或反射率調節材料之平均顆粒直徑可在350 nm至5 μm範圍內。 較佳地，光散射顆粒及或反射率調節材料之平均顆粒直徑可在350 nm至5 μm範圍內。 不期望受限於理論，據信，大於350 nm之平均顆粒直徑可使得稍後藉由米氏散射引起強正向散射，即使光散射顆粒與層基質之間之折射率差小達0.1。 另一方面，為藉由使用光散射顆粒(150)獲得較佳層形成性質，最大平均顆粒直徑較佳為5 um或更小。更佳為500 nm至2 μm。 -  著色劑 在本發明之一些實施例中，光敏組合物可進一步包括選自由以下組成之群之著色劑：染料、顏料及該等物質中之任一者之組合。 根據本發明，對於可吸收可見光之著色劑而言，其可選自由以下組成之群：染料、顏料及該等物質中之任一者之組合。較佳地，可以此方式使用任一類型用於LCD色彩濾光片之公開已知染料及/顏料。 舉例而言，如「Technologies on LCD Color Filter and Chemicals」 CMC Publishing P. 53 (1998)中所展示，可使用偶氮螯合物顏料、稠合偶氮顏料、二氫喹吖啶顏料、異吲哚啉酮顏料、苝顏料芘酮顏料、不溶性偶氮顏料、酞菁顏料、二噁嗪顏料、蒽醌顏料、硫堇顏料或該等物質中之任一者之組合。 -  其他添加劑 本發明之光敏組合物可視需要含有其他添加劑。添加劑之實例包含顯影劑溶解促進劑、浮渣去除劑、黏著增強劑、聚合抑制劑、消泡劑、表面活性劑及敏化劑。 顯影劑溶解促進劑啟動子或浮渣去除劑用於控制所形成塗層在顯影劑中之溶解性且由此防止浮渣在顯影之後保留於基板上。對於此添加劑而言，可採用冠醚。具有最簡單結構之冠醚係由通式：(-CH2 -CH2 -O-)n 代表。在本發明中尤佳使用n為4至7之式之冠醚。同時，冠醚通常個別地稱為「x-冠-y-醚」，其中x及y分別代表形成環之總原子數及其中所包含之氧原子數。在本發明中，添加劑可較佳地選自由以下組成之群：X=12、15、18及21且y=x/3之冠醚、其苯并縮合產物及其環己基縮合產物。冠醚之較佳實例包含21-冠-7-醚、18-冠-6-醚、15-冠-5-醚、12-冠-4-醚、二苯并-21-冠-7-醚、二苯并-18-冠-6-醚、二苯并-15-冠-5-醚、二苯并-12-冠-4-醚、二環己基-21-冠-7-醚、二環己基-18-冠-6-醚、二環己基-15-冠-5-醚及二環己基-12-冠-4-醚。尤佳選自18-冠-6-醚及15-冠-5-醚之群之添加劑。基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其量較佳為0.05重量份數至15重量份數、更佳地0.1重量份數至10重量份數。 黏著增強劑用於在自本發明之光敏組合物形成固化膜時防止圖案因在固化之後施加之應力而剝離。對於黏著增強劑而言，較佳採用咪唑及矽烷偶合劑。咪唑之實例包括2-羥基苯并咪唑、2-羥乙基苯并咪唑、苯并咪唑、2-羥基咪唑、咪唑、2-巰基咪唑及2-胺基咪唑。尤佳者係2-羥基苯并咪唑、苯并咪唑、2-羥基咪唑及咪唑。 對於矽烷偶合劑而言，可較佳採用已知化合物(例如環氧-矽烷偶合劑、胺基-矽烷偶合劑及巰基-矽烷偶合劑)。其實例包含3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-脲基丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷及3-異氰酸根丙基三甲氧基矽烷。彼等材料可單獨使用或以兩種或更多種之組合使用。基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其量較佳為0.05重量份數至15重量份數。 亦可採用具有酸性基團之矽烷或矽氧烷化合物作為矽烷偶合劑。酸性基團之實例包含羧基、酸酐基團及酚類羥基。若具有一元酸基團(例如羧基或酚類羥基)，則該化合物較佳係具有兩個或更多個酸性基團之單一含矽化合物。 上述矽烷偶合劑之實例包含由下式(B)代表之化合物： Xn Si(OR4 )4-n (B) 及具有自其衍生之聚合單元之聚合物。彼等聚合物可包括複數種不同於X或R3 中之單元之組合。 在上式中，R4 係烴基團，例如較佳地具有1至10個C原子之烷基。其實例包含甲基、乙基、正丙基、異丙基及正丁基。式(A)含有複數個R4 ，其可彼此相同或不同。 在上式中，X包含酸性基團，例如硫醇、鏻、硼酸酯、羧基、酚、過氧化物、硝基、氰基、磺基或醇基團。可使用保護基團(例如乙醯基、芳基、戊基、苄基、甲氧基甲基、甲磺醯基、甲苯基、三甲氧基矽烷基、三乙氧基矽烷基、三異丙基矽烷基或三苯甲基)保護酸性基團。此外，X可為酸酐基團。 在上述基團中，R4 及X較佳地分別係甲基及羧酸酐基團。舉例而言，含有酸酐基團之聚矽氧較佳。其具體實例係由下式(B-1)代表之化合物(X-12-967C [商標]，由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製得)及在末端處或在側鏈中具有對應於該式之結構且重量平均分子量為1000或較小之含矽聚合物(例如聚矽氧)。亦較佳者係重量平均分子量為4000或較小且末端經酸性基團(例如硫醇、鏻、硼酸酯、羧基、酚、過氧化物、硝基、氰基或磺基)改質之二甲基聚矽氧。其實例包含由下列式(B-2)及(B-3)代表之化合物(X-22-2290AS及X-22-1821 [商標]，藉由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製得)。
Figure 02_image009
若矽烷偶合劑含有聚矽氧結構且具有過大分子量，則其與組合物具有較差相容性。因此，塗層不能充分溶於顯影劑中，從而反應性基團可保留於塗層中。此可引起諸多問題，舉例而言，塗層不能具有針對後製程之足夠抗化學性。鑒於此，含矽化合物具有較佳地5000或較小、更佳地1000至4000之重量平均分子量。此外，若採用含有酸性基團之矽烷或矽氧烷化合物作為矽烷偶合劑，則基於光敏組合物中之100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其量較佳為0.01重量份數至15重量份數。 對於聚合抑制劑而言，可納入硝酮衍生物、硝氧化自由基衍生物及氫醌衍生物(例如氫醌、甲基氫醌及丁基氫醌)。彼等材料可單獨使用或以兩種或更多種之組合使用。基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其量較佳為0.1重量份數至10重量份數。 消泡劑之實例包含：醇(C1 - C18 )；高級脂肪酸，例如油酸及硬脂酸；高級脂肪酸酯，例如甘油單月桂酸酯；聚醚，例如聚乙二醇(PEG) (Mn: 200 - 10000)及聚丙二醇(Mn: 200 - 10000)；聚矽氧化合物，例如二甲基聚矽氧油、經烷基改質聚矽氧油及氟-聚矽氧油；及下文所詳述之有機矽氧烷表面活性劑。彼等材料可單獨使用或以兩種或更多種之組合使用。基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其量較佳為0.1重量份數至3重量份數。 視需要，本發明之光敏組合物可進一步含有表面活性劑，其納入係旨在改良可塗覆性、可顯影性及諸如此類。可用於本發明中之表面活性劑係(例如)非離子、陰離子及兩性表面活性劑。 非離子表面活性劑之實例包含：聚氧乙烯烷基醚，例如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯油烯基醚及聚氧乙烯鯨蠟基醚；聚氧乙烯脂肪酸二醚；聚氧乙烯脂肪酸單醚；聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物；炔醇；炔二醇衍生物，例如炔二醇、炔醇之聚乙氧基化物及炔二醇之聚乙氧基化物；含矽表面活性劑，例如Fluorad ([商標]，由Sumitomo 3M Limited製得)、MEGAFAC ([商標]，由DIC Corporation製得)及Surufuron ([商標]，由Asahi Glass Co., Ltd.製得)；及有機矽氧烷表面活性劑，例如KP341 ([商標]，由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製得)。上述炔二醇之實例包含：3-甲基-1-丁炔-3-醇、3-甲基-1-戊炔-3-醇、3,6-二甲基-4-辛炔-3,6-二醇、2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇、3,5-二甲基-1-己炔-3-醇、2,5-二甲基-3-己炔-2,5-二醇及2,5-二甲基-2,5-己二醇。 陰離子表面活性劑之實例包含：烷基二苯基醚二磺酸之銨鹽及有機胺鹽、烷基二苯基醚磺酸之銨鹽及有機胺鹽、烷基苯磺酸之銨鹽及有機胺鹽、聚氧乙烯烷基醚硫酸之銨鹽及有機胺鹽及烷基硫酸之銨鹽及有機胺鹽。 此外，兩性表面活性劑之實例包含2-烷基-N-羧甲基-N-羥乙基咪唑鎓甜菜鹼及月桂酸醯胺基丙基羥基碸甜菜鹼。 彼等表面活性劑可單獨使用或以兩種或更多種之組合使用。基於本發明之光敏組合物，其量通常為50 ppm至2000 ppm、較佳地100 ppm至1000 ppm。 根據需要，可將敏化劑納入本發明之光敏組合物中。較佳用於本發明組合物中之敏化劑之實例包含香豆素、酮基香豆素、其衍生物、硫代吡喃鎓鹽及苯乙酮。具體而言，其具體實例包含：敏化染料，例如對雙(鄰甲基苯乙烯基)苯、7-二甲基胺基-4-甲基喹啉酮-2,7-胺基-4-甲基香豆素、4,6-二甲基-7-乙基胺基香豆素、2-(對二甲基胺基苯乙烯基)吡啶基碘甲烷、7-二乙基胺基香豆素、7-二乙基胺基-4-甲基香豆素、2,3,5,6-1H,4H-四氫-8-甲基喹啉子基-＜9,9a,1-gh＞香豆素、7-二乙基胺基-4-三氟甲基香豆素、7-二甲基胺基-4-三氟甲基香豆素、7-胺基-4-三氟甲基香豆素、2,3,5,6-1H,4H-四氫喹啉子基＜9,9a,1-gh＞香豆素、7-乙基胺基-6-甲基-4-三氟甲基香豆素、7-乙基胺基-4-三氟甲基香豆素、2,3,5,6-1H,4H-四氫-9-乙氧羰基喹啉子基-＜9,9a,1-gh＞香豆素、3-(2’-N-甲基苯并咪唑基)-7-N,N-二乙基胺基香豆素、N-甲基-4-三氟甲基六氫吡啶基-＜3,2-g＞香豆素、2-(對二甲基胺基苯乙烯基)苯并噻唑基碘乙烷、3-(2’-苯并咪唑基)-7-N,N-二乙基胺基香豆素、3-(2’-苯并噻唑基)-7-N,N-二乙基胺基香豆素及由下式代表之吡喃鎓或硫代吡喃鎓鹽。敏化染料使得可藉由使用便宜光源(例如高壓汞燈(360 - 430 nm))來實施圖案化。基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其量較佳為0.05重量份數至15重量份數、更佳地0.1重量份數至10重量份數。
Figure 02_image011
X R1 R2 R3 Y
S OC4 H9 H H BF4
S OC4 H9 OCH3 OCH3 BF4
S H OCH3 OCH3 BF4
S N(CH3 )2 H H CIO2
O OC4 H9 H H SbF6
對於敏化劑而言，亦可採用具有蒽骨架之化合物。其具體實例包含由下式(C)代表之化合物：
Figure 02_image013
其中 每一R31 獨立地係選自由以下組成之群之取代基：烷基、芳烷基、芳基、羥基烷基、烷氧基烷基、縮水甘油基及鹵化烷基； 每一R32 獨立地係選自由以下組成之群之取代基：氫、烷基、烷氧基、鹵素原子、硝基、磺酸基團、羥基、胺基及羧烷氧基；且 每一k獨立地係0及1至4之整數。 具有蒽骨架之敏化劑揭示於(例如)專利文件3及4中。在添加具有蒽骨架之敏化劑時，基於100重量份數之(甲基)丙烯酸系聚合物，其量較佳為0.01重量份數至5重量份數。 此外，視需要，亦可將穩定劑添加至本發明之光敏組合物中。穩定劑可自由地選自通常已知者。然而，在本發明中，芳香族胺較佳，此乃因其對穩定化具有較高效應。在彼等芳香族胺中，較佳者係吡啶衍生物且尤佳者係在2-及6位處具有巨大取代基之吡啶衍生物。其具體實例如下：
Figure 02_image015
-  本發明之色轉變膜 在另一態樣中，本發明係關於包括複數種奈米級螢光材料(110)、潤濕及分散劑(130)及聚合物基質(120)之色轉變膜，其中潤濕及分散劑 (130)包括選自由以下組成之群之錨定基團：膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、胺基、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸。 根據本發明，術語「膜」包含「層」及「薄片」樣結構。 在本發明之一些實施例中，色轉變膜(100)進一步包括選自由以下組成之群之添加劑：散射顆粒、反射率調節材料及該等物質中之任一者之組合。 在本發明之一些實施例中，色轉變膜(100)進一步包括選自由以下組成之群之著色劑：染料、顏料及該等物質中之任一者之組合。 根據本發明，對於著色劑之主要要求之一係吸收來自光源之激發光，該光激發色轉變膜(100)中之奈米級螢光材料(110)以改良來自色轉變膜(100)之光之色彩純度。因此，若光轉變膜具有綠色亞色彩像素，則用於LCD色彩濾光片之市售黃色顏料亦可用於綠色亞色彩像素中。 在本發明之一較佳實施例中，色轉變膜(100)可為均質色轉變膜或可包括第一及第二亞色彩區(120)，其中在由光源照射時至少第一亞色彩區發射具有峰波長長於第二亞色彩區之光。 在本發明之一較佳實施例中，色轉變膜(100)可包括紅色亞色彩區、綠色亞色彩區及藍色亞色彩區。 在本發明之一些實施例中，色轉變膜(100)可主要由紅色亞色彩區、綠色亞色彩區及藍色亞色彩區組成，如圖1-7中所闡述。 甚至更佳地，在使用藍色發光光源(例如藍色LED)之情形下，藍色亞色彩區可在不使用藍色奈米級螢光材料(110)下製得。 在該情形下，藍色亞色彩區亦可在不使用藍色著色劑下製得。 在本發明之一些實施例中，視情況，色轉變膜(100)進一步包括黑色基質(下文中之「BM」)。 在一較佳實施例中，BM可置於亞色彩區之間，如圖1中所闡述。換言之，本發明之亞色彩區可由一或多種BM標誌出。 對於用於BM之材料並無特定限制。可視需要較佳使用用於色彩濾光片之熟知材料、尤其熟知BM材料。例如黑色染料分散性聚合物組合物，如JP 2008-260927A、WO 2013/031753A中所闡述。 對於BM之製作方法並無特定限制，可以此方式使用熟知技術。例如直接網版印刷、光微影、使用遮罩之氣相沈積。 在另一態樣中，本發明係關於光敏組合物在色轉變膜製作製程中之用途。 在另一態樣中，本發明亦係關於色轉變膜(100)在光學裝置中之用途。 在另一態樣中，本發明進一步係關於包括色轉變膜(100)之光學裝置(200)。 在本發明之一較佳實施例中，光學裝置(200)可涵蓋光源。 根據本發明，對於光學裝置中之光源類型並無特定限制。較佳地，可使用UV或藍色單色光源。 更佳地，光源發射具有藍色光區域中之峰波長之光，舉例而言，可使用藍色LED、CCFL、EL或該等物質中之任一者之組合。 出於本發明目的，術語「藍色」意指波長介於380 nm與515 nm之間之光。較佳地，「藍色」介於430 nm與490 nm之間。更佳地，其介於450 nm與470 nm之間。 甚至更佳地，光學裝置(200)之光源係藍色光源(例如藍色LED)且色轉變膜(100)包括綠色亞色彩區及紅色亞色彩區。 在本發明之一較佳實施例中，視情況，光源可涵蓋光導板以增加來自光源之光均勻性。 在本發明之一較佳實施例中，光學裝置(200)包括光調變器。 在本發明之一較佳實施例中，光調變器可選自由以下組成之群：液晶元件、微機電系統(下文中之「MEMS」)、電潤濕元件及電泳元件。 在光調變器係液晶元件之情形下，可以此方式使用任一類型之液晶元件。舉例而言，較佳者係常用於LCD之扭轉向列型模式、垂直對準模式、IPS模式、主客效應模式液晶元件。 此外，根據本發明，常黑TN模式液晶元件亦適於作為光調變器。 通常，不期望受限於理論，常黑TN模式可實現較高反差比，但製作製程較為複雜，此乃因在每一色彩像素中具有不同單元間隙以保持良好白色平衡。 根據本發明，無需改變每一像素下之常黑TN模式LC元件之單元間隙。 此乃因根據本發明，單色激發光源可較佳與色轉變膜(100)組合使用。舉例而言，使用UV LED、藍色LED作為單色激發光源。 在該情形下，光源發射具有一個峰波長區域之光且來自光源之激發光之強度可藉由在每一像素下具有相同單元間隙的常黑TN模式LC層來控制，然後，激發光進入色轉變膜(100)中且轉變成較長波長。 在本發明之一些實施例中，視情況，光學裝置(200)包括含有複數種光散射顆粒之光散射層。 在本發明之一較佳實施例中，光散射層可置於光源與色轉變膜(100)之間以減小由環境光散射引起之裝置之眩光狀態。 較佳地，複數種光散射顆粒可僅位於光散射層及/或一或多個置於色轉變膜(100)之光源側之其他層中。 不期望受限於理論，據信，該等實施例可使得元件在入射光下具有較小色彩偏移及/或較佳亮度反差。 較佳地，將光散射層置於色轉變膜(100)之光源側之表面上。 較佳地，在自光源觀看將光調變器置於色轉變膜(100)後方之情形下，複數種光散射顆粒可位於色轉變膜(100)中。 在本發明之一些實施例中，將光調變器置於色轉變膜(100)之光提取側上。 在本發明之一些實施例中，將光調變器置於光源與色轉變膜(100)之間。 根據本發明，在一些實施例中，較佳地，光學裝置進一步包括膜，在膜之一側具有奈米級結構且可將膜之另一側直接附接於色轉變膜(100)中光發射側之最外表面上以增加色轉變膜及光學裝置(200)之輸出耦合效率。 更佳地，可將具有奈米級結構之膜直接附接於色轉變膜(100)上 不期望受限於理論，據信，奈米級結構可增加離開光轉變膜之光之量。該等結構可藉由熟知技術(例如使用奈米印刷技術)製得。 一般而言，奈米級結構可與複數個亞色彩像素重疊。因此，奈米級結構較佳地可適用於較小大小之像素。 更佳地，具有奈米級結構之膜係蛾眼透鏡膜，如「Sang Soon Oh等人，Microelectronic Engineering」，第87卷，第11期，Nov. 2010，第2328 - 2331頁中所闡述。 根據本發明，在一些實施例中，色轉變膜(100)之表面(其係與光源相對之側)可具有奈米級結構而非具有奈米級結構之膜。不期望受限於理論，據信，奈米級結構結構可防止由全反射所致之光損失。 在本發明之一些實施例中，視情況，光源可切換。 根據本發明，術語「可切換」意指光可選擇性地切換至開啟或關斷。 在本發明之一較佳實施例中，可切換光源可選自由以下組成之群：主動基質EL、被動基質EL、複數種LED及該等物質中之任一者之組合。 在本發明之一些實施例中，視情況，光學裝置(200)可進一步包含色彩濾光片層。根據本發明，對於色彩濾光片而言，可以此方式較佳使用任一類型用於光學裝置之包含紅色、綠色及藍色亞色彩區域之公開已知色彩濾光片，例如LCD色彩濾光片。 在本發明之一較佳實施例中，色彩濾光片之紅色亞色彩區域可透過波長至少介於610 nm與640 nm之間之光，且色彩濾光片之綠色亞色彩區域透過波長至少介於515 nm與550 nm之間之光。 在本發明之一些實施例中，視情況，光學裝置(200)進一步包括置於光源與色轉變膜(100)之間之選擇性光反射層。 根據本發明，術語「光反射」意指反射至少約60%在操作偏振光發射裝置期間所使用波長或波長範圍之入射光。較佳地，其超過70%、更佳地超過75%，最佳地，其超過80%。 根據本發明，選擇性光反射層可通過來自光源之峰波長光且可反射來自色轉變膜(100)之轉變光。 對於用於選擇性光反射層之材料並無特定限制。可視需要較佳使用用於選擇性光反射層之熟知材料。 根據本發明，選擇性光反射層可為單一層或多個層。在一較佳實施例中，選擇性光反射層係選自由以下組成之群：Al層、Al + MgF2 堆疊層、Al + SiO堆疊層、Al +介電多層、Au層、介電多層、Cr + Au堆疊層；其中，選擇性光反射層更佳係Al層、Al + MgF2 堆疊層、Al + SiO堆疊層、膽固醇液晶層、堆疊膽固醇液晶層。 膽固醇液晶層之實例已闡述於(例如)國際專利申請案特許公開號WO 2013/156112A、WO 2011/107215 A中。 一般而言，製備選擇性光反射層之方法可視需要有所變化且選自熟知技術。 在一些實施例中，除膽固醇液晶層外之選擇性光反射層可藉由基於氣相之塗覆製程(例如濺鍍、化學氣相沈積、氣相沈積、快速蒸發)或基於液體之塗覆製程製得。 在膽固醇液晶層之情形下，其可藉由闡述於(例如) WO 2013/156112A或WO 2011/107215 A中之方法製得。 在本發明之一較佳實施例中，光學裝置(200)可選自由以下組成之群：液晶顯示器、電發光顯示器、MEMS顯示器、電潤濕顯示器及電泳顯示器。 更佳地，光學裝置(200)可為液晶顯示器，例如扭轉向列型液晶顯示器、垂直對準模式液晶顯示器、IPS模式液晶顯示器、主客效應模式液晶顯示器或常黑TN模式液晶顯示器。 光學裝置之實例已闡述於(例如) WO 2010/095140 A2及WO 2012/059931 A1中。 -  製作方法 在另一態樣中，本發明進一步係關於製備色轉變膜(100)之方法，其中該方法按此順序包括下列步驟(a)及(b)： (a)    在基板上提供光敏組合物 (b)    藉由熱處理或將光敏組合物曝光於光線下或藉由該等方式中之任一者之組合來使光敏組合物聚合。 在本發明之一些實施例中，步驟(b)中之熱處理之熱溫度可在40℃至150℃範圍內。在本發明之一較佳實施例中，烘焙步驟中之烘焙溫度在70℃至140℃範圍內。更佳地，其在80℃至120℃範圍內。 對於熱處理並無特定限制，較佳地，其為30秒至24小時、更佳地60秒至3小時。 -  塗覆步驟 根據本發明，為在基板上提供光敏組合物，可較佳使用任一類型之公開已知塗覆方法。舉例而言，浸塗、凹版塗覆、輥塗、棒塗、刷塗、噴塗、刮刀塗覆、流動塗覆、旋塗及狹縫塗覆。 對於擬在步驟(a)中使用光敏組合物塗覆之基板亦並無特定限制，且可適當地選自(例如)矽烷基板、玻璃基板及聚合物膜。另外，基板可為堅硬的或撓性的。 -  預烘焙步驟 在本發明之一較佳實施例中，視情況，在步驟(a)之後，可將預烘焙(預加熱處理)步驟施加至提供於基板上之光敏組合物以用於乾燥及減少保留於其中之溶劑之目的。可在通常50℃至150℃、較佳地90℃至120℃之溫度下於熱板上實施預烘焙步驟10秒至300秒、較佳地30秒至120秒或於清潔烘箱中實施1分鐘至30分鐘。 -  曝光步驟(作為步驟(b))，用以使光敏組合物聚合。 在本發明之一較佳實施例中，在形成塗層之後，可將其表面曝光於光。對於用於曝光之光源而言，可採用習用圖案形成製程中所使用之任一光源。光源之實例包含高壓汞燈、低壓汞燈、金屬鹵化物燈、氙燈、雷射二極體及LED。用於曝光之光通常係g-線、h-線、i-線或諸如此類之UV射線。除在超細製作半導體及諸如此類之情形下以外，通常使用360 nm至430 nm之光(高壓汞燈)用於以數微米至數十微米進行圖案化。特定而言，在產生液晶顯示器時，通常使用430 nm之光。如上所述，在該情形下，可有利地組合敏化染料與本發明之負工作型光敏組合物。曝光之光能量取決於光源及塗層厚度，但通常為10 mJ/cm2 至2000 mJ/cm2 、較佳地20 mJ/cm2 至1000 mJ/cm2 以獲得滿意解析度且避免暈光。 為使塗層可呈影像地曝光於光，可採用常用光罩。任一光罩可選自已知者。對於曝光中之環境條件並無特定限制，且曝光可在環境氣氛(正常氣氛)下或在氮氣氛下實施。若膜擬形成於基板之整個表面上，則將整個基板表面曝光於光。在本發明中，術語「圖案膜」包含由此形成於基板之整個表面上之膜。 -  曝光後烘焙步驟 在曝光步驟(b)之後，視情況，可根據需要實施曝光後烘焙以旨在促進由反應起始劑在塗層之曝光區中引起之互聚物反應。 曝光後烘焙之溫度較佳為40℃至150℃、更佳地60℃至120℃。 -  顯影步驟 在曝光步驟(b)之後，可視情況實施顯影步驟(c)。若膜擬形成於基板之整個表面上，則可省略顯影步驟(c)。對於顯影步驟中所使用之顯影劑而言，可採用任一用於顯影習用光敏組合物之顯影劑。在本發明中，使用TMAH水溶液來測定光敏組合物之溶解速率，但其決不限制用於形成固化膜之顯影劑。顯影劑之較佳實例包含鹼性顯影劑，其係鹼性化合物(例如四烷基氫氧化銨、膽鹼、鹼金屬氫氧化物、鹼金屬(偏)矽酸鹽(水合物)、鹼金屬(偏)磷酸鹽(水合物)、氨、烷基胺、烷醇胺及雜環胺)之水溶液。尤佳者係四烷基氫氧化銨之溶液。彼等鹼性顯影劑可視需要含有水溶性有機溶劑(例如甲醇及乙醇)或表面活性劑。顯影方法可自由選自已知方法，例如浸泡、槳式、淋浴、狹縫、蓋塗及噴霧顯影製程。因顯影，可獲得圖案。在使用顯影劑顯影之後，較佳地使用水洗滌圖案。或者，可視情況在顯影步驟之後增加丙酮洗滌製程。 較佳地，該方法進一步在步驟(a)之前包括步驟(d)： (d)使奈米級螢光材料與潤濕及分散添加劑進行配體交換。 使用配體交換製程，可將潤濕及分散添加劑引入奈米級螢光材料之表面上。較佳可使用闡述於(例如) Thomas Nann, Chem. Commun., 2005, 1735 - 1736, DOI: 10.1039/b-414807j中之該等配體交換製程。 在本發明之一些實施例中，視需要，可在奈米級螢光材料之配體交換製程之後施加超離心製程以在混合配體交換之奈米級螢光材料與(甲基)丙烯酸系聚合物混合物之前去除過量潤濕及分散添加劑。 在另一態樣中，本發明進一步係關於製備光學裝置(200)之方法，其中該方法包括下列步驟(A)： (A)在光學裝置中提供色轉變膜(100) 現將參照下列實例更詳細地闡述本發明，其僅具闡釋性且並非限制本發明範圍。實例 實例1：在本發明中，色轉變膜(100)可自基板剝離，如圖1中所展示。 在此實例中，色轉變膜具有紅色、綠色及藍色亞色彩區。在紅色及綠色亞色彩區中，至少納入複數種奈米級螢光材料(紅色或綠色)、(甲基)丙烯酸系聚合物及潤濕及分散劑。且視情況，可納入著色劑及散射顆粒。 實例2：圖2展示本發明之色轉變膜之一實例，其包含至少複數種奈米級螢光材料(例如紅色及/或綠色)、(甲基)丙烯酸系聚合物及潤濕及分散劑。可視情況納入其他組份，例如著色劑及散射顆粒。 實例3：圖3展示本發明之光學裝置之一實例。 在此實例中，省略色彩濾光片層。 實例4：圖4展示本發明之光學裝置之另一實例。 在此實例中，色彩濾光片層堆疊於色轉變膜上。 實例5：圖5展示本發明之光學裝置之另一實例。 在此實例中，將均質色轉變膜置於光調變器下方。 實例6：圖6展示本發明之光學裝置之另一實例。 在此實例中，主客效應模式液晶(623)與藍色光源(630)一起使用且由此可省略兩個偏振器，且將色轉變膜製作為TFT之絕緣層。 實例7：圖7展示本發明之另一實例。 在此實例中，較佳使用MEMS快門。 代之以圖7中所提及之色轉變膜(710)，色轉變膜可製作為MEMS快門系統之絕緣層。 除非另外陳述，否則本說明書中所揭示每一特徵皆可由用於相同、等效或類似目的之替代特徵代替。因此，除非另外陳述，否則每一所揭示特徵僅係一類等效或類似特徵之一實例。術語定義 根據本發明，術語「透明」意指在偏光發射裝置中所使用之厚度下及在偏光發射裝置操作期間所使用之波長或波長範圍下傳輸的入射光為至少約60%。較佳地，其超過70%、更佳地超過75%，最佳地，其超過80%。 術語「螢光」定義為藉由吸收光或其他電磁輻射之物質發射光之物理過程。其係發光形式。在大部分情形下，所發射光具有較長波長，且由此具有低於所吸收輻射之能量。 術語「半導體」意指室溫下之電導率在導體(例如銅)與絕緣體(例如玻璃)之間之材料。 術語「無機」意指不含有碳原子之任一材料或含有離子結合至其他原子之碳原子之任一化合物(例如一氧化碳、二氧化碳、碳酸鹽、氰化物、氰酸鹽、碳化物及硫氰酸鹽)。 術語「發射」意指由原子及分子中之電子轉移引起之電磁波發射。 術語「光敏」意指，各別組合物因應於適宜光輻照以化學方式發生反應。光通常選自可見光或UV光。光敏反應包含組合物之硬化或軟化、較佳地硬化。較佳地，光敏組合物係光可聚合組合物。 下文之工作實例1 - 6提供本發明之闡述以及其製作之詳細闡述。工作實例 工作實例 1 ：具有分散劑之光敏組合物及色轉變膜之製作 -  配體交換製程 將30 mg三正辛基氧化膦(下文中「TOPO」)覆蓋之紅色發射型棒形奈米晶體(來自QLight Nanotech Ltd)及13 mg潤濕及分散劑BYK-LPN6919 ([商標]，來自BYK公司)分散於1.5 ml氯仿中且在室溫下於空氣條件中攪拌過夜。 然後，將0.5 g PGMEA (丙二醇單甲基醚乙酸酯)添加至所獲得溶液中。 在添加PGMEA之後，將溶液中之氯仿在85℃下於油浴中蒸發120分鐘。 在氯仿之蒸發製程之後，向溶液中再次添加PGMEA以將所獲得溶液之總重量調節至260 mg。 最後，獲得含有潤濕及分散劑覆蓋之紅色發射型棒形奈米晶體及PGMEA溶劑之溶液。 -  本發明之光敏組合物之製作製程 在室溫下混合聚合物混合物L1 (來自Merck KGaA)及潤濕及分散添加劑覆蓋之紅色發射型棒形奈米晶體與PGMEA之所得溶液，其中聚合物混合物L1包括可溶於TMAH水溶液中之丙烯醯基聚合物混合物，該丙烯醯基聚合物混合物包含含有酸基之丙烯酸單元及經矽烷改質之丙烯酸單元、光自由基生成劑Irgacure OXE02及Irgacure 369 ([商標]，來自BASF SE，基於丙烯酸系聚合物混合物之重量，其各自為6 wt.%)、丙烯醯基單體A-DOD及A-DCP (來自Shin-Nakamura Chemical，基於丙烯酸系聚合物混合物之重量，其各自為20 wt.%)及70 wt.% PGMEA溶劑(基於丙烯酸系聚合物之重量)。 最後，製得第一紅色型光敏組合物(86 wt.%棒形奈米晶體，基於聚合物混合物L1之總固體組份之重量)。 -  本發明之色轉變膜之製作製程 藉由在丙酮中實施超音波處理來清洗玻璃基板。 然後使用棒塗技術將第一紅色型光敏組合物塗覆於經清洗玻璃基板上。將所得基板在100℃及空氣條件下加熱90秒以蒸發溶劑。 在烘焙之後，色轉變膜之一半面積由遮罩覆蓋以防止曝光。然後，將色轉變膜曝光於3.68 mW/cm2 i、g、h線光發射(100 mJ/ cm2 , USH-1005D，Ushio Co.) 28秒。 然後，使用四甲基氫氧化銨(TMAH)暴露紅色轉變膜5分鐘且使用流水在室溫下沖洗30秒。 在沖洗製程之後，將所獲得色轉變膜在100℃及空氣條件下固化90秒。 最後，獲得在基板上製作之1號紅色轉變膜。工作實例 2 ： 光敏組合物及色轉變膜之製作 以與如上文工作實例1中所闡述相同之方式，只是使用25 mg潤濕及分散劑BYK-LPN6919 ([商標]，來自BYK co.)代替13 mg潤濕及分散劑BYK-LPN6919，製得第二紅色型光敏組合物且製得2號色轉變膜。工作實例 3 ： 光敏組合物及色轉變膜之製作 -  配體交換製程 以與如在工作實例1之配體交換製程中所闡述相同之方式，只是使用19 mg、38 mg BYK-103 ([商標]，來自BYK Co.)代替BYK-LPN6919。 然後，獲得包括潤濕及分散添加劑覆蓋(19 mg BYK-103及38 mg BYK-103 [商標])之紅色發射型棒形奈米晶體及PGMEA溶劑之兩類溶液。 -  本發明之光敏組合物之製作製程 在室溫下混合聚合物混合物L1 (來自Merck KGaA)及潤濕及分散添加劑覆蓋之紅色發射型棒形奈米晶體與PGMEA之所得溶液，其中聚合物混合物L1包括可溶於TMAH水溶液中之丙烯醯基聚合物混合物，該丙烯醯基聚合物混合物包含含有酸基之丙烯酸單元及經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元、光自由基生成劑Irgacure OXE02及Irgacure 369 ([商標]，來自BASF SE，基於丙烯酸系聚合物混合物之重量，其各自為6 wt.%)、丙烯醯基單體A-DOD及A-DCP (來自Shin-Nakamura Chemical，基於丙烯酸系聚合物混合物之重量，其各自為20 wt.%)及70 wt.% PGMEA溶劑(基於丙烯酸系聚合物之重量)。 最後，製得第3及第4紅色型光敏組合物(各自86 wt. %棒形奈米晶體，基於丙烯醯基聚合物混合物之重量)。 -  本發明之色轉變膜之製作製程 藉由在丙酮中實施超音波處理來清洗玻璃基板。 然後使用棒塗技術將第3紅色型光敏組合物塗覆於經清洗玻璃基板上。將所得基板在100℃及空氣條件下加熱90秒以蒸發溶劑。 在烘焙之後，色轉變膜之一半面積由遮罩覆蓋以防止曝光。然後，將色轉變膜曝光於3.68 mW/cm2 i、g、h線光發射(100 mJ/ cm2 , USH-1005D，Ushio Co.) 28秒。 然後，使用四甲基氫氧化銨(TMAH)暴露紅色轉變膜5分鐘且使用流水在室溫下沖洗30秒。 在沖洗製程之後，將所獲得色轉變膜在100℃及空氣條件下固化90秒。 最後，獲得3號紅色轉變膜。 以與如上文工作實例3之色轉變膜之製作製程中所闡述相同之方式，只是使用第4紅色型光敏組合物代替第3紅色型光敏組合物，獲得4號紅色轉變膜。工作實例 4 ： 色彩轉變膜之顯影特性觀察 4-1：殘膜厚度觀察 使用Alpha-Step AS500 (KLA Tencor)量測色轉變膜之未暴露區域中之殘膜厚度。 圖8展示觀察結果。 如圖8中所展示，每一膜之殘餘率幾乎為零。成功達成顯影。 在觀察4-1及4-2之後，使用丙酮沖洗膜，在丙酮沖洗之後，觀察到在未暴露區域中並無剩餘層。 4-2：螢光觀察 使用配備有由激發濾光片(通過介於460 nm - 495 nm之間之激發光)及吸收濾光片/二色性鏡(通過510 nm或更長光波長)組成之螢光鏡單元U-MWIB3之顯微鏡OLYMPUS BX-51進行工作實例1至3中所製得之色轉變膜製作的顯微觀察。 以螢光觀察模式，藉由螢光鏡單元U-MWIB3之激發濾光片過濾來自100 W Hg燈之激發光，然後，使經過濾激發光進入色轉變膜中。 然後藉由吸收濾光片/二色性鏡過濾來自光源且通過色轉變膜之轉變光及激發光。 螢光觀察期間之放大率為×4。 在顯影之後對比色轉變膜之暴露區域及未暴露區域。在色轉變膜之暴露區域中獲得均勻紅色影像且在色轉變膜之未暴露區域中獲得黑色狀態。工作實例 5 ： 色轉變膜之精細圖案化 以與如工作實例1中所闡述相同之方式，只是使用30 mg三-正辛基氧化膦(下文中「TOPO」)覆蓋之綠色發射型棒形奈米晶體(來自QLight Nanotech Ltd)代替紅色發射型棒形奈米晶體，且在膜製作製程中使用精細圖案金屬遮罩代替遮罩，製得綠色轉變膜。 且然後，以與如工作實例4中所闡述相同之方式實施螢光觀察，只是使用在工作實例5中製得之色轉變膜。 圖9展示工作實例5之綠色轉變膜之精細圖案化結果。 如圖9中所展示，成功獲得精細圖案化綠色轉變膜。工作實例 6 ： 具有分散劑之光敏組合物及膜之製作 製作兩類具有潤濕及分散劑對聚合物混合物S1之不同混合比率之光敏組合物。混合比率1為0.21 (潤濕及分散劑:聚合物混合物Si = 0.21 : 1)且混合比率2為0.43。 -  光敏組合物之製作製程 在室溫下混合聚合物混合物S1 (35 wt.% PGMEA溶液，來自Merck KGaA) (該聚合物混合物包括可溶於TMAH水溶液中之聚矽氧烷-丙烯醯基聚合物混合物，其中聚矽氧烷-丙烯醯基聚合物混合物包括30 wt.%由式(SiO2 )l + (R1 SiO1.5 )m + (R2 SiO1.5 )n + (R3 SiO1.5 )o 代表之聚矽氧烷(R1 係苯基，R2 係甲基，且R2 係羥基，l : m : n : o = 0 : 4 : 5 : 1)、35 wt.%經矽烷改質之丙烯醯基聚合物A1 (重量平均分子量：6,000；(甲基)丙烯酸系聚合物中之雙鍵等效物之值為24 g/ eq)、35 wt.%包含羧基之丙烯醯基聚合物(重量平均分子量：6,000)、光自由基生成劑OXE01及OXE02 (來自BASF SE，總共6 wt.%，基於聚矽氧烷-丙烯醯基聚合物混合物之重量)、丙烯醯基單體A-DOD、A-DCP、A-9300 (來自Shin-Nakamura Chemical，各自10 wt.%，基於聚矽氧烷-丙烯醯基聚合物混合物之重量))及潤濕及分散添加劑BYK-LPN6919 ([商標]，來自BYK)以製作兩類具有潤濕及分散劑對聚合物混合物L1之不同混合比率(混合比率1為0.21且混合比率2為0.43)之光敏組合物。 -  膜製作製程 藉由在丙酮中實施超音波處理來清洗玻璃基板。 然後，使用棒塗技術將具有混合比率0.21之光敏組合物塗覆於經清洗玻璃基板上。將所得基板在100℃及空氣條件下加熱90秒以蒸發溶劑。 在烘焙之後，色轉變膜之一半面積由遮罩覆蓋以防止曝光。然後，將色轉變膜曝光於3.68 mW/cm2 i、g、h線光發射(50 mJ/ cm2 , USH-1005D，Ushio Co.) 14秒。 然後，使用四甲基氫氧化銨(TMAH)暴露膜5分鐘且使用流水在室溫下沖洗30秒。 在沖洗製程之後，將所獲得色轉變膜在100℃及空氣條件下固化90秒。 然後，製得膜1。 以與在上文工作實例6中之膜製作製程中所闡述相同之方式，只是使用具有混合比率0.43之光敏組合物，製得膜2。 在顯影之前且在顯影之後使用Alpha-Step AS500 (KLA Tencor)量測膜1及膜2之未暴露區域中之殘膜厚度。對比實例 1 ： 具有分散劑之光敏組合物及膜之製作 以與如工作實例6中所闡述相同之方式，只是使用BYK 2000代替BYK - LPN6919，製得膜3 (混合比率0.21)及膜4 (混合比率0.43)。 在顯影之前且在顯影之後使用Alpha-Step AS500 (KLA Tencor)量測膜3及膜4之未暴露區域中之殘膜厚度。對比實例 2 ： 具有分散劑之光敏組合物及膜之製作 以與如工作實例6中所闡述相同之方式，只是使用BYK 2001代替BYK - LPN6919，製得膜5 (混合比率0.21)及膜6 (混合比率0.43)。 在顯影之前且在顯影之後使用Alpha-Step AS500 (KLA Tencor)量測膜5及膜6之未暴露區域中之殘膜厚度。 使用下列計算式計算膜1、2、3、4、5、6之殘膜率。 殘膜率=在顯影之後膜未暴露區域中之膜厚度/在顯影之前膜暴露區域中之膜厚度 圖10展示膜1、2、3、4、5及6之未暴露區域中之殘膜率。
100:色轉變膜 110:奈米級螢光材料 120:聚合物基質 130:潤濕及分散劑 140:著色劑(可選) 150:光散射顆粒；黑色基質(可選) 200:光學裝置 210:奈米級螢光材料 220:聚合物基質 230:光散射顆粒(可選) 240:著色劑(可選) 300:光學裝置 310:色轉變膜 311:奈米級螢光材料 312:聚合物基質 313:光散射顆粒(可選) 314:著色劑(可選) 315:黑色基質(可選) 320:光調變器 321:偏振器 322:電極 323:液晶層 330:光源 331:LED光源 332:光導板(可選) 400:光學裝置 410:色轉變膜 411:奈米級螢光材料 412:聚合物基質 413:光散射顆粒(可選) 414:著色劑(可選) 415:黑色基質(可選) 420:光調變器 421:偏振器 422:電極 423:液晶層 430:光源 431:LED光源 432:光導板(可選) 440:色彩濾光片(可選) 500:光學裝置 510:色轉變膜 511:奈米級螢光材料 512:聚合物基質 513:光散射顆粒(可選) 514:著色劑(可選) 520:光調變器 521:偏振器 522:電極 523:液晶層 530:光源 540:色彩濾光片 600:光學裝置 611:奈米級螢光材料 612:聚合物基質 613:光散射顆粒(可選) 614:著色劑(可選) 621:透明基板 622:透明電極 623:LC層(摻雜有二色性染料) 624:透明像素電極 625:TFT (薄膜電晶體) 630:光源 700:光學裝置 710:色轉變膜 711:奈米級螢光材料 712:聚合物基質 713:光散射顆粒(可選) 714:著色劑(可選) 715:黑色基質(可選) 720:光調變器 721:透明基板 722:TFT (薄膜電晶體) 723:MEMS (微機電系統)快門 730:光源 731:LED光源 732:光導板(可選)
圖 1 ： 展示色轉變膜(100)之一實施例之剖面示意圖。圖 2 ： 展示本發明色轉變膜之另一實施例之剖面示意圖。圖 3 ： 展示本發明光學裝置之一實施例之剖面示意圖。圖 4 ： 展示本發明光學裝置之另一實施例之剖面示意圖。圖 5 ： 展示本發明光學裝置之另一實施例之剖面示意圖。圖 6 ： 展示本發明光學裝置之另一實施例之剖面示意圖。圖 7 ： 展示本發明光學裝置之另一實施例之剖面示意圖。圖 8 ： 展示工作實例4中之觀察結果。圖 9 ： 展示工作實例5中之觀察結果。圖 10 ： 展示膜1、2、3、4、5及6之殘膜率。
100:色轉變膜
110:奈米級螢光材料
120:聚合物基質
130:潤濕及分散劑
140:著色劑(可選)
150:光散射顆粒；黑色基質(可選)

Claims (21)

  1. 一種組合物，其包括複數種奈米級螢光材料、(甲基)丙烯酸系聚合物及潤濕及分散劑，其中該潤濕及分散劑包括選自由以下組成之群之錨定基團：膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、三級胺、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸。
  2. 如請求項1之組合物，其中該潤濕及分散劑之該錨定基團係選自由以下組成之群：三級胺、氧化膦基團、膦酸及磷酸基。
  3. 如請求項1或2之組合物，其中該錨定基團係由下列化學式(I)代表之三級胺： -NR1 R2 - (I) (其中在該化學式(I)中，R1 係氫原子、具有1至30個碳原子之烷基或具有1至30個碳原子之芳基；R2 係氫原子、具有1至30個碳原子之烷基或具有1至30個碳原子之芳基；R1 及R2 可彼此相同或不同)。
  4. 如請求項1至3中任一項之組合物，其中該潤濕及分散劑係選自由以下組成之群之共聚物：接枝共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物及隨機共聚物。
  5. 如請求項4之組合物，其中該共聚物包括含有該錨定基團之聚合物單元A及並不含有任一該錨定基團之聚合物單元B。
  6. 如請求項4或5之組合物，其中該共聚物係由下列化學式(II)或(III)代表之嵌段共聚物或接枝共聚物： An - Bm -  (II) Bo - An - Bm -  (III) (其中在該等式(II)及(III)中，符號「A」代表包含該錨定基團之聚合物單元A；符號「B」意指並不包含任一該錨定基團之聚合物單元B；符號「n」、「m」及「o」係整數)。
  7. 如請求項5或6之組合物，其中該潤濕及分散劑之該聚合物單元B包括選自由以下組成之群之聚合物鏈：聚乙二醇、聚酯、聚乳酸、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯啶酮、纖維素及該等物質中之任一者之衍生物。
  8. 如請求項1至7中任一項之組合物，其中該組合物包括聚合起始劑。
  9. 如請求項1至8中任一項之組合物，其中該組合物進一步包括溶劑。
  10. 如請求項1至9中任一項之組合物，其中該組合物進一步包括含有兩個或更多個(甲基)丙烯醯基之化學化合物。
  11. 如請求項1至10中任一項之組合物，其中該(甲基)丙烯酸系聚合物包括含有酸基團之(甲基)丙烯酸單元。
  12. 如請求項1至11中任一項之組合物，其中該(甲基)丙烯酸系聚合物進一步包括經矽烷改質之(甲基)丙烯酸單元。
  13. 如請求項1至12中任一項之組合物，其中該組合物進一步包括選自由以下組成之群之添加劑：散射顆粒、反射率調節材料及該等物質中之任一者之組合。
  14. 如請求項1至13中任一項之組合物，其中該組合物進一步包括選自由以下組成之群之著色劑：染料、顏料及該等物質中之任一者之組合。
  15. 一種色轉變膜(100)，其包括複數種奈米級螢光材料(110)、潤濕及分散劑(130)及聚合物基質(120)，其中該潤濕及分散劑包括選自由以下組成之群之錨定基團：膦基團、氧化膦基團、磷酸基、膦酸基、硫醇基團、三級胺、羧基、雜環基團、矽烷基團、磺酸、羥基及膦酸。
  16. 如請求項15之色轉變膜(100)，其中該色轉變膜進一步包括選自由以下組成之群之添加劑：散射顆粒、反射率調節材料及該等物質中之任一者之組合。
  17. 如請求項15或16之色轉變膜(100)，其中該色轉變膜進一步包括選自由以下組成之群之著色劑：染料、顏料及該等物質中之任一者之組合。
  18. 一種如請求項15至17中任一項之色轉變膜(100)之用途，其係用於光學裝置中。
  19. 一種光學裝置(200)，其包括如請求項15至17中任一項之色轉變膜(100)。
  20. 如請求項19之光學裝置(200)，其中該光學裝置進一步包括具有奈米級結構之膜且該膜係附接於該色轉變膜(100)之最外表面上。
  21. 一種製備光學裝置(200)之方法，其中該方法包括下列步驟(A)： (A)     在光學裝置中提供如請求項15至17中任一項之色轉變膜(100)。
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