TW202105147A - 積層體、製造方法及圖像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明的目的在於提供一種積層體,該積層體包括偏光層、著色層及觸控感測器層,且當自可見側觀察電源斷開狀態的圖像顯示裝置時,顯示區域與非顯示區域的差異變得不明顯。本發明提供一種積層體,該積層體依序具有偏光層、貼合層及觸控感測器層,其中觸控感測器層包括配線及著色層,積層體在俯視時區分為顯示區域與非顯示區域,著色層設置於非顯示區域,且配置於較配線更靠偏光層側。
Description
本發明是有關於一種積層體及圖像顯示裝置。
專利文獻1中記載有於觸控感測器層上設置著色層的觸控面板(touch panel)。著色層不僅可具有圖像顯示裝置的設計功能,亦可具有作為形成非顯示區域的遮蔽層的功能。
專利文獻2中記載有一種觸控螢幕面板(touch screen panel),具有可觸控前表面的觸控板、與包含透明電極的積層體及顯示器基板,且記載有於觸控板或者顯示器基板形成凹部,以使印刷層嵌合。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]韓國公開專利第10-2019-0075666號公報
[專利文獻2]韓國公開專利第10-2013-0141780號公報
[發明所欲解決之課題]
本發明的目的在於提供一種積層體,該積層體包括偏光層、著色層及觸控感測器層,且當自可見側觀察電源斷開狀態的圖像顯示裝置時,顯示區域與非顯示區域的顏色差異變得不明顯。
[解決課題之手段]
本發明提供以下積層體及圖像顯示裝置。
[1] 一種積層體,依序具有偏光層、貼合層及觸控感測器層,其中
所述觸控感測器層包括配線及著色層,
所述積層體在俯視時區分為顯示區域與非顯示區域,
所述著色層設置於所述非顯示區域,且配置於較所述配線更靠所述偏光層側。
[2] 如[1]所述的積層體,其中自所述偏光層側觀察時的所述顯示區域與所述非顯示區域的色差的絕對值Δa*及Δb*均為0.3以下。
[3] 如[1]或[2]所述的積層體,其中所述著色層含有碳黑。
[4] 如[1]至[3]中任一項所述的積層體,其中自所述觸控感測器層側觀察時的最外表面的所述顯示區域與所述非顯示區域的階差為3 μm以下。
[5] 如[1]至[4]中任一項所述的積層體,其中所述著色層的厚度為2 μm以下,且光密度(optical density)為4以上。
[6] 如[1]至[5]中任一項所述的積層體,其中於所述觸控感測器層側的最外表面更包括有機電致發光(electroluminescence,EL)顯示元件。
[7] 一種圖像顯示裝置,包括如[1]至[6]中任一項所述的積層體。
[8] 一種製造方法,其是如[1]至[6]中任一項所述的積層體的製造方法,包括:
準備偏光層的步驟;
準備觸控感測器層的步驟;以及
經由貼合層將所述偏光層與所述觸控感測器層貼合的步驟,
其中所述準備觸控感測器層的步驟包括藉由光微影(photolithography)法來形成著色層的著色層形成步驟。
[發明的效果]
根據本發明,可提供一種積層體,該積層體包括偏光層、著色層及觸控感測器層,且當自可見側觀察電源斷開狀態的圖像顯示裝置時,顯示區域與非顯示區域的顏色差異變得不明顯。對於包括該積層體的圖像顯示裝置的使用者而言,非顯示區域亦如同顯示區域般可見,故可感覺到顯示區域大。
以下,參照圖式說明本發明的實施形態,但本發明並不限定於以下的實施形態。於以下的所有圖式中,為了使各構成部件容易理解而適當調整比例尺來進行表示,圖式中所示的各構成部件的比例尺與實際的構成部件的比例尺未必一致。
[積層體]
圖1是本發明的一實施形態的積層體的概略剖面圖。本實施形態的積層體100自可見側起依序包括偏光層101、貼合層102及觸控感測器層103。觸控感測器層103包括配線104及著色層105。積層體100在俯視時區分為顯示區域A與非顯示區域B,著色層105設置於非顯示區域B,且配置於較配線104更靠偏光層101側。配線104可設置於非顯示區域B。於本說明書中,俯視是指自層的厚度方向觀察。
根據本發明者的研究可知,觸控感測器層103包括配線104及著色層105,且著色層105設置於非顯示區域B,並且配置於較配線104更靠偏光層101側,藉此,於以偏光層101成為可見側的方式包括積層體100的圖像顯示裝置中,當自可見側觀察電源斷開狀態的圖像顯示裝置時,可使顯示區域與非顯示區域的顏色差異(以下亦稱為「可見性差異」)變得不明顯。於在偏光層的前表面板側的表面或前表面板的偏光層側的表面形成著色層的情況下,圖像顯示裝置的使用者直接可見著色層的顏色,因此著色層的顏色與偏光層的顏色差異容易變得明顯。另外,於在偏光層的觸控感測器層側的表面形成著色層的情況下,圖像顯示裝置的使用者可見著色層的平滑面,因此由於反射的影響,著色層的顏色與偏光層的顏色差異容易變得明顯。另一方面,本發明的積層體中,以偏光層為基準,在與前表面板側相反的一側配置包括著色層的觸控感測器層。圖像顯示裝置的使用者透過偏光層可見著色層。進而,著色層與偏光層隔開配置。此時,認為由於著色層的顏色接近偏光層的顏色,因此可緩和所述可見性差異。對於包括本發明的積層體的圖像顯示裝置的使用者而言,非顯示區域亦如同顯示區域般可見,故可感覺到顯示區域較實際的大小更大。
圖2是自偏光層101側觀察積層體100的俯視圖。就減小可見性差異的觀點而言,自偏光層側觀察時的顯示區域A與非顯示區域B的色相a*及色相b*之差(以下亦稱為色差)的絕對值Δa*及Δb*均可為例如0.3以下。就減小顯示區域A與非顯示區域B的色差的觀點而言,著色層105可為黑色。其原因在於,偏光層大多是以其顏色為中性灰色的方式製造。就減小顯示區域A與非顯示區域B的色差的觀點而言,著色層105較佳為包含碳黑。所述色差較佳為0.2以下,更佳為0.15以下。Δa*及Δb*是顯示區域A的L*a*b*色空間(國際照明委員會(international commission on illumination,CIE)1976)中的座標a*A
、座標b*A
與非顯示區域B的L*a*b*色空間(CIE 1976)中的座標a*B
、座標b*B
之差的絕對值,可由以下的式子求出。
Δa*=|a*A
-a*B
|
Δb*=|b*A
-b*B
|
積層體100較佳為自觸控感測器層103側觀察時的最外表面的顯示區域與非顯示區域的階差(以下有時亦省略稱為「階差」)為3 μm以下。於階差為3 μm以下的情況下,有可抑制將積層體的觸控感測器層與顯示部接合時由階差引起的氣泡的產生,與有機EL顯示元件的貼合容易變得良好的傾向。就防止接合步驟中發生不良的觀點而言,階差較佳為2 μm以下,更佳為1 μm以下,進而佳為0.5 μm以下。
為了使所述階差為3 μm以下,例如可列舉將著色層105的厚度設為2 μm以下的方法等。為了減小所述階差,只要減小著色層105的厚度即可。另一方面,若使著色層105的厚度變薄,則光學密度降低,而有遮蔽性受損的傾向。因此,本發明者查明,藉由將著色層105的厚度設為2 μm以下且將光密度設為4以上,可在不損害著色層105對配線104的遮蔽性的情況下,將所述階差設為3 μm以下。著色層105的厚度較佳為2 μm以下,光密度較佳為4以上。光密度可為7以下,亦可為6以下。著色層的光密度藉由光密度測定器進行測定,具體而言,藉由後述的實施例中記載的方法進行測定。
為了使著色層105的厚度及光密度為所述範圍,例如可列舉使用著色層形成用組成物藉由光微影法來形成著色層105的方法等。其原因在於,與印刷法相比,根據光微影法,容易使用著色劑含量多的著色層形成用組成物,容易提高著色層105的每單位膜厚的光密度。
積層體100的厚度根據積層體100所要求的功能以及積層體100的用途等而不同,因此並無特別限定,例如可為20 μm以上且1000 μm以下,較佳為25 μm以上且500 μm以下,更佳為30 μm以上且300 μm以下。
積層體100的俯視時的形狀例如可為方形形狀,較佳為具有長邊及短邊的方形形狀,更佳為長方形。於積層體100的俯視時的形狀為長方形的情況下,長邊的長度例如可為10 mm以上且1400 mm以下,較佳為50 mm以上且600 mm以下。短邊的長度例如為5 mm以上且800 mm以下,較佳為30 mm以上且500 mm以下,更佳為50 mm以上且300 mm以下。
於積層體100的俯視時的形狀為方形形狀的情況下,構成積層體100的各層中的各邊的長度可彼此相同。構成積層體100的各層可對角部進行R加工、或對端部進行切口加工、或進行開孔加工。
積層體100較佳為能夠彎曲。能夠彎曲是指能夠實現彎曲半徑為2.5 mm以下的彎曲。積層體100更佳為即便積層體100的內表面的彎曲半徑為2.5 mm時的彎曲次數為1萬次,亦不會產生裂紋。
積層體100亦可在偏光層101側的最外表面更具有前表面板。積層體100亦可在觸控感測器103側的最外表面更具有有機EL顯示元件。
圖3是本發明的另一實施方式的積層體的概略剖面圖。本實施方式的積層體200自可見側起依序包括前表面板201、貼合層202、偏光層101、貼合層102、觸控感測器層103、貼合層203、有機EL顯示元件204。觸控感測器層103包括配線104及著色層105,且積層有基材層111。
積層體100例如可在圖像顯示裝置等中使用。圖像顯示裝置並無特別限定,例如可列舉有機電致發光(有機EL)顯示裝置、無機電致發光(無機EL)顯示裝置、液晶顯示裝置、場致發光顯示裝置等。於積層體100具有彎曲性的情況下,積層體100適於可撓性顯示器。
[偏光層]
偏光層101可為直線偏光層,亦可為直線偏光層與相位差層的組合。作為直線偏光層,可列舉包括吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層、或者塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜作為偏光片的膜等。作為二色性色素,具體而言,可使用碘或二色性的有機染料。二色性有機染料包括包含C.I.直接紅(C. I. DIRECT RED)39等雙偶氮化合物的二色性直接染料、包含三偶氮、四偶氮等化合物的二色性直接染料。
作為塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜,可列舉塗佈含有具有液晶性的二色性色素的組成物或含有二色性色素及聚合性液晶的組成物並使其硬化而獲得的層等包含聚合性液晶化合物的硬化物的膜。
與吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸層相比,塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜的彎曲方向並無限制,因此較佳。因此,就獲得至少在面內的一個方向及與其正交的方向、進而在面內的所有方向上進行所述反覆的彎曲時不產生裂紋的彎曲次數為所述範圍的積層體的方面而言,作為直線偏光層,較佳為包括塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而得的膜作為偏光片的膜。
(1)包括為拉伸膜或拉伸層的偏光片的直線偏光層
為吸附有二色性色素的拉伸膜的偏光片通常可經過如下步驟而製造:將聚乙烯醇系樹脂膜單軸拉伸的步驟;藉由利用二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色來吸附該二色性色素的步驟;及利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜進行處理的步驟;以及在利用硼酸水溶液的處理後進行水洗的步驟。可將該偏光片直接用作直線偏光層,亦可將在其單面或兩面貼合透明保護膜而得者用作直線偏光層。偏光片的厚度較佳為2 μm以上且40 μm以下。
聚乙烯醇系樹脂是藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂,除了作為乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外,亦可使用乙酸乙烯酯與能夠與其共聚合的其他單量體的共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其他單量體,例如可列舉不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%,較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質,例如亦可使用經醛類改質的聚乙烯縮甲醛(polyvinyl formal)或聚乙烯縮醛(polyvinyl acetal)。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000以上且10000以下,較佳為1500以上且5000以下。
為吸附有二色性色素的拉伸層的偏光片通常可經過如下步驟而製造:將含有所述聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材膜上的步驟;將所得的積層膜單軸拉伸的步驟;藉由利用二色性色素對經單軸拉伸的積層膜的聚乙烯醇系樹脂層進行染色來吸附該二色性色素而製成偏光片的步驟;利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素的膜進行處理的步驟;以及在利用硼酸水溶液的處理後進行水洗的步驟。
根據需要,可自偏光片剝離除去基材膜。基材膜的材料及厚度可與後述的熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
為拉伸膜或拉伸層的偏光片亦可以在其單面或兩面貼合有熱塑性樹脂膜的形態組裝於光學積層體中。該熱塑性樹脂膜可作為偏光片用保護膜或相位差膜發揮功能。
熱塑性樹脂膜例如可為包含鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降冰片烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂;三乙醯纖維素等纖維素系樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;(甲基)丙烯酸系樹脂;或者該些的混合物等的膜。
就薄型化的觀點而言,熱塑性樹脂膜的厚度通常為300 μm以下,較佳為200 μm以下,更佳為100 μm以下,進而佳為80 μm以下,進而更佳為60 μm以下,另外,通常為5 μm以上,較佳為20 μm以上。
熱塑性樹脂膜可具有相位差,亦可不具有相位差。
熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層貼合於偏光片。
(2)包括塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜作為偏光片的直線偏光層
作為塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜,可列舉將含有具有液晶性的聚合性二色性色素的組成物、或者含有二色性色素及聚合性液晶的組成物塗佈於基材膜(或形成於基材膜上的配向膜)並使其硬化而獲得的層等包含聚合性液晶化合物的硬化物的膜等。
該膜可剝離基材或與基材一起用作直線偏光層。基材膜的材料及厚度可與所述熱塑性樹脂膜的材料及厚度相同。
塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜亦可以在其單面或兩面貼合有熱塑性樹脂膜的形態組裝於積層體中。作為熱塑性樹脂膜,可使用與為拉伸膜或拉伸層的偏光片中可使用的熱塑性樹脂膜相同者。
熱塑性樹脂膜例如可使用接著劑層而貼合於偏光片。
作為塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜,具體而言可列舉日本專利特開2013-37353號公報或日本專利特開2013-33249號公報等中記載者。
塗佈含有二色性色素及聚合性化合物的組成物並使其硬化而成的膜的厚度通常為10 μm以下,較佳為0.5 μm以上且8 μm以下,更佳為1 μm以上且5 μm以下。
偏光層101的厚度例如為2 μm以上且100 μm以下,較佳為10 μm以上且60 μm以下。
偏光層101可更包括相位差層。相位差層可包含一層或兩層以上的相位差層。作為相位差層,可為如λ/4板或λ/2板般的正A板及正C板。相位差層可包含所述作為保護膜的材料而例示的樹脂膜,亦可包含聚合性液晶化合物硬化而成的層。偏光層101可更包含配向膜或基材膜。
若以直線偏光層的吸收軸與相位差層的慢軸成為規定角度的方式配置直線偏光層與相位差層,則偏光層101具有防反射功能,即可作為圓偏光板發揮功能。於相位差層包含λ/4板的情況下,直線偏光層的吸收軸與λ/4板的慢軸所成的角度可為45°±10°。
於偏光層101包括相位差層的情況下,偏光層101與相位差層可經由後述的貼合層貼合。貼合層的厚度例如可為0.5 μm以上且25 μm以下,較佳為1 μm以上且25 μm以下。
積層體100藉由設為包括圓偏光板作為偏光層101的構成,可防止外部光的反射。圓偏光板的厚度例如為10 μm以上且200 μm以下,較佳為10 μm以上且100 μm以下。
[貼合層]
貼合層102可為介於偏光層101與觸控感測器層103之間的層,例如可為黏著劑層或接著劑層。貼合層102可為將偏光層與觸控感測器層103貼合的層、將後述的前表面板與偏光板貼合的層。就吸收著色層105的階差的觀點而言,貼合層102較佳為黏著劑層。積層體100可包括一個貼合層,亦可包括兩個以上。另外,一個黏著劑層可包括一層或兩層以上。於光學積層體包括多個貼合層20的情況下,多個貼合層彼此可為相同種類,亦可為不同種類。
黏著劑層可包含以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、矽酮系、聚乙烯醚系之類的樹脂為主成分的黏著劑組成物。其中,較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂為原料聚合物(base polymer)的黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型,亦可為熱硬化型。
作為黏著劑組成物中使用的(甲基)丙烯酸系樹脂(原料聚合物),例如可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之類的(甲基)丙烯酸酯的一種或兩種以上作為單體的聚合物或共聚物。原料聚合物中較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體,例如可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之類的具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可為僅含有所述原料聚合物者,但通常更含有交聯劑。作為交聯劑,可例示:為二價以上的金屬離子,且與羧基之間形成羧酸金屬鹽者;為多胺化合物,且與羧基之間形成醯胺鍵者;為聚環氧化合物或多元醇,且與羧基之間形成酯鍵者;為聚異氰酸酯化合物,且與羧基之間形成醯胺鍵者。其中,較佳為聚異氰酸酯化合物。
所謂活性能量線硬化型黏著劑組成物,是指具有受到紫外線或電子射線之類的活性能量線的照射而硬化的性質,且具有即便在活性能量線照射前亦具有黏著性而可與膜等被黏物密接,藉由活性能量線的照射而硬化,可調整密接力的性質的黏著劑組成物。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了原料聚合物、交聯劑以外,更含有活性能量線聚合性化合物。進而,根據需要,亦有時含有光聚合起始劑或光增感劑等。
黏著劑組成物可含有用於賦予光散射性的微粒子、珠(樹脂珠、玻璃珠等)、玻璃纖維、原料聚合物以外的樹脂、黏著性賦予劑、填充劑(金屬粉或其他無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
可藉由將所述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上並使其乾燥而形成。於使用活性能量線硬化型黏著劑組成物的情況下,藉由對所形成的黏著劑層照射活性能量線,可製成具有所期望的硬化度的硬化物。
作為接著劑層,可使用水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。作為水系接著劑,可列舉包含聚乙烯醇系樹脂水溶液的接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。
所謂活性能量線硬化性接著劑,是指藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑,例如可列舉:含有聚合性化合物及光聚合起始劑者、含有光反應性樹脂者、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑者等。作為聚合性化合物,可列舉:光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、或源自光聚合性單體的寡聚物等。作為光聚合起始劑,可列舉含有藉由紫外線等活性能量線的照射而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基之類的活性種的物質的光聚合起始劑。作為含有聚合性化合物及光聚合起始劑的活性能量線硬化性接著劑,可較佳地使用含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑者。
就減小階差的觀點而言,各貼合層的厚度例如為3 μm以上且100 μm以下,較佳為5 μm以上且50 μm以下,亦可為20 μm以上。
[觸控感測器層]
作為觸控感測器層103,只要為能夠檢測在後述的前表面板所觸控的位置的方式,則檢測方式不受限定。作為檢測方式,例如可列舉電阻膜方式、靜電電容方式、光感測器方式、超音波方式、電磁感應耦合方式、表面聲波方式等。就低成本而言,可較佳地使用電阻膜方式、靜電電容耦合方式的觸控感測器面板。
電阻膜方式的觸控感測器面板的一例包括彼此相向配置的一對基板、夾持於所述一對基板之間的絕緣性間隔物、在各基板的內側的前表面作為電阻膜設置的透明導電膜、以及觸控位置檢測電路。於設置電阻膜方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中,例如若觸控後述的前表面板的表面,則相向的電阻膜短路,電流在電阻膜中流動。觸控位置檢測電路檢測此時的電壓變化,從而檢測被觸控的位置。
靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的一例包括基材層、設置於基材層的整個面的位置檢測用透明電極層、以及觸控位置檢測電路。於設置靜電電容耦合方式的觸控感測器面板的圖像顯示裝置中,例如若觸控後述的前表面板的表面,則在被觸控的點,透明電極經由人體的靜電電容而接地。觸控位置檢測電路檢測透明電極的接地,從而檢測被觸控的位置。
觸控感測器層103例如可設為在玻璃板上介隔分離層形成所述電阻膜方式或靜電電容耦合方式的觸控感測器面板,在與分離層之間分離玻璃板並在分離層上設置基材層的構成,亦可設為在與分離層之間分離玻璃板並使分離層在最表面露出的構成。除了包括透明電極層及基材層以外,觸控感測器面板可更包括絕緣層、保護層及黏著劑層。
藉由於觸控感測器層103設置著色層105,而有即便當著色層105窄小時,著色層105對配線104的遮蔽性亦容易提高,觸控感測器層103與偏光片層101或後述的前表面板的貼合性亦容易提高的傾向。
近年來,隨著顯示區域的擴大而推進非顯示區域的窄小化,隨之,形成於非顯示區域的著色層105亦有窄小化為例如細線等微細形狀的傾向。另一方面,著色層105大多形成於偏光片層101上或前表面板上。於此種狀況下,以藉由窄小化的著色層105來遮蔽配線104的方式將偏光片層101或前表面板與觸控感測器層103貼合,不僅耗費時間,而且貼合精度(位置對準的精度)亦不充分。於無法充分獲得遮蔽性的情況下,於顯示區域中可見配線104而欠理想。然而,藉由如本發明的積層體100般於具有配線的觸控感測器層103形成著色層105,即便於著色層105窄小化的情況下,亦不需要著色層105與配線104的位置對準,因此偏光片層101或前表面板與觸控感測器層103的貼合極其簡單,有著色層105對配線104的遮蔽效果亦優異的傾向。
(著色層)
著色層105可配置於較配線104更靠偏光層101側,例如可形成於觸控感測器層103的貼合層102側的最外表面,於觸控感測器層103具有基材層的情況下,亦可配置於透明電極層與基材層之間。著色層105可由單層形成,亦可由多層形成。
著色層105可使用油墨或塗料等著色層形成用組成物藉由印刷法形成,或者於著色層形成用組成物為活性能量線硬化型的情況下可藉由光微影法形成。另外,亦可將該些方法組合。
作為印刷法的具體例,可列舉凹版印刷、膠版印刷、網版印刷、自轉印片的轉印印刷。亦可反覆進行利用印刷法的印刷,以獲得所期望厚度的著色層105。
用於形成著色層105的著色層形成用組成物例如包含黏合劑樹脂、著色劑、溶媒、任意的添加劑。於著色層形成用組成物為活性能量線硬化型的情況下,著色層形成用組成物更含有活性能量線聚合性化合物。進而,根據需要,有時亦含有光聚合起始劑或光增感劑等。
作為黏合劑樹脂,可列舉氯化聚烯烴(例如氯化聚乙烯、氯化聚丙烯)、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、纖維素系樹脂。黏合劑樹脂可單獨使用,亦可併用兩種以上。黏合劑樹脂可為熱聚合性樹脂,亦可為光聚合性樹脂。
就減小顯示區域與非顯示區域的可見性差異的觀點而言,著色劑可為黑色。於著色層105由多層形成的情況下,作為著色層105的顏色,只要最靠偏光層102側配置的著色層為黑色,則其他著色層可為黑色,亦可為黑色以外的顏色。
就減小可見性差異的觀點而言,著色層形成用組成物較佳為含有碳黑。作為碳黑以外的著色劑,例如可列舉:鈦白、鋅白、碳黑、鐵黑、赤鐵氧化物(red iron oxide)、含鉻鉛丹(chrome vermillion)、群青、鈷藍、鉻黃、鈦黃等無機顏料;酞青藍、陰丹士林藍、異吲哚啉酮黃、聯苯胺黃、喹吖啶酮紅、多偶氮紅、苝紅、苯胺黑等有機顏料或染料;包含鋁、黃銅等的鱗片狀箔片的金屬顏料;包含二氧化鈦被覆雲母、鹼性碳酸鉛等的鱗片狀箔片的珍珠光澤顏料(珍珠顏料)。相對於黏合劑樹脂100質量份,著色劑較佳為含有50質量份以上且200質量份以下。
就抑制階差並且提高遮蔽效果的觀點而言,著色層105的厚度較佳為0.5 μm以上且50 μm以下,更佳為1 μm以上且30 μm以下,亦可為1.5 μm以上且20 μm以下。
於著色層105為黑色的情況下,即便厚度薄,與其他顏色相比,亦可獲得較高的遮蔽效果。圖1中例示了著色層105的厚度均勻且剖面形狀為長方形的情況,但著色層105的厚度亦可不均勻,例如可為如具有厚度向內側變薄的錐形部般的剖面形狀。藉由具有錐形部,可抑制積層時容易產生的空氣的咬入。於著色層105的厚度並不均勻的情況下,所述中作為著色層105的厚度而記載的數值範圍視為著色層105的最大厚度。
著色層105不限定於設置在觸控感測器層103的周緣部的整周的形態,根據所期望的設計等,可為僅設置於周緣部的一部分的形態。於將著色層105設置於觸控感測器層103的周緣部的情況下,其寬度可根據顯示區域的大小、所期望的設計等適當決定,例如可為10 μm以上且50 mm以下的範圍,亦可為10 μm以上且5 mm以下。
(配線)
為了於觸控感測器面板內將觸控位置檢測電路與透明電極電性連接而可配置配線104。配線104可為將金屬膜圖案化而得者。金屬膜可將鋁或銅、銀、金或該些的合金等金屬藉由濺鍍法或蒸鍍法而形成的金屬膜,藉由光微影法及蝕刻法進行圖案化而形成。配線104可在非顯示區域設置於透明導電膜或透明電極層上。配線104的厚度例如可為30 nm以上且7 μm以下。配線104的線寬通常為1 μm以上且2 mm以下。
(基材層)
作為基材層,可列舉在其中一個表面蒸鍍形成有透明導電層的基材膜、經由接著層而轉印有透明導電層的基材膜等。或者,亦可設為將後述的分離層作為基材層而不具有其他基材膜的結構。
作為基材膜,只要為能夠透過光的樹脂膜則並無限定。例如可列舉:環狀聚烯烴系樹脂膜、包含三乙醯纖維素、二乙醯纖維素之類的樹脂的乙酸纖維素系樹脂膜、包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之類的樹脂的聚酯系樹脂膜、聚碳酸酯系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜、聚丙烯系樹脂膜等本領域中公知的膜。其中,較佳為環狀聚烯烴系樹脂膜。作為基材膜的厚度,通常為300 μm以下,較佳為200 μm以下,更佳為100 μm以下,另外,通常為5 μm以上,較佳為10 μm以上。基材層可在將透明導電層組裝至觸控感測器層之後自觸控感測器層除去。
(透明導電層)
透明導電層可為包含氧化銦錫(indium tin oxide,ITO)等金屬氧化物的透明導電層,亦可為包含鋁或銅、銀、金或者該些的合金等金屬的金屬層。透明導電層可藉由光微影法加以圖案化。觸控感測器層103可具有一個或兩個以上的透明導電層。透明導電層可為單層或多層,於為多層的情況下,形成各層的材料可為相同種類,亦可為不同種類。
(分離層)
分離層可為形成於玻璃板等基板上,用於將形成於分離層上的透明導電層與分離層一起自基板分離的層。分離層較佳為無機物層或有機物層。作為形成無機物層的材料,例如可列舉矽氧化物。作為形成有機物層的材料,例如可使用(甲基)丙烯酸系樹脂組成物、環氧系樹脂組成物、聚醯亞胺系樹脂組成物等。分離層可與基板一起除去以使觸控感測器層中不含該分離層。
(絕緣層)
絕緣層可以覆蓋配線104及透明導電層的方式形成。絕緣層可包含選自由硬化性預聚物、硬化性聚合物及塑膠聚合物所組成的群組中的至少一種材料。絕緣層亦可包含能夠形成膜的清漆型材料。清漆型材料可包含選自由聚矽酮、聚醯亞胺及聚胺基甲酸酯材料所組成的群組中的至少一種。絕緣層亦可設為後述的接著劑層。絕緣層亦可藉由光微影法加以圖案化。絕緣層可為單層或多層,於為多層的情況下,形成各層的材料可為相同種類,亦可為不同種類。
(接著劑層)
作為接著劑層,可列舉用於所述貼合層中的接著劑層或黏著劑層。接著劑層可含有選自由聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、環氧系樹脂、矽酮系樹脂及丙烯酸系樹脂所組成的群組中的至少一種材料。
[其他層]
積層體100可具有前表面板及有機EL顯示元件作為其他層。
(前表面板)
前表面板較佳為能夠透過光的板狀體。前表面板可僅由一層構成,亦可由兩層以上構成。前表面板可為構成圖像顯示裝置的最表面者。
作為前表面板,例如可列舉玻璃製的板狀體(例如玻璃板、玻璃膜等)、樹脂製的板狀體(例如樹脂板、樹脂片、樹脂膜等)。所述中,就積層體及包含該積層體的圖像顯示裝置的可撓性的觀點而言,較佳為樹脂膜等樹脂製的板狀體。
作為構成樹脂膜等樹脂製的板狀體的熱塑性樹脂,例如可列舉:鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚甲基戊烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降冰片烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂;三乙醯纖維素等纖維素系樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;乙烯-乙酸乙烯酯系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚醚醯亞胺系樹脂;聚(甲基)丙烯酸甲酯樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂;聚醯亞胺系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚碸系樹脂;聚氯乙烯系樹脂;聚偏二氯乙烯系樹脂;聚乙烯醇系樹脂;聚乙烯縮醛系樹脂;聚醚酮系樹脂;聚醚醚酮系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚醯胺醯亞胺系樹脂等。
熱塑性樹脂可單獨使用或混合使用兩種以上。
其中,就可撓性、強度及透明性的觀點而言,作為構成前表面板的熱塑性樹脂,可較佳地使用聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂。
前表面板亦可為在基材膜的至少其中一面設置硬塗層而使硬度進一步提高的膜。作為基材膜,可使用所述樹脂膜。
硬塗層可形成於基材膜的其中一面,亦可形成於兩面。藉由設置硬塗層,可提高硬度及劃傷性。硬塗層的厚度例如可為0.1 μm以上且30 μm以下,較佳為1 μm以上且20 μm以下,更佳為5 μm以上且15 μm以下。
硬塗層例如為紫外線硬化型樹脂的硬化層。作為紫外線硬化型樹脂,例如可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、矽酮系樹脂、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了提高強度,硬塗層可含有添加劑。添加劑並無限定,可列舉無機系微粒子、有機系微粒子、或者該些的混合物。
前表面板可為不僅具有保護圖像顯示裝置的前表面(畫面)的功能(作為視窗膜的功能),亦具有作為觸控感測器的功能、藍光截止功能、視角調整功能等者。
前表面板的厚度例如可為10 μm以上且2000 μm以下,可為20 μm以上且2000 μm以下,較佳為25 μm以上且1500 μm以下,更佳為30 μm以上且1000 μm以下,進而佳為40 μm以上且500 μm以下,特佳為40 μm以上且200 μm以下,進而更佳為40 μm以上且100 μm以下。
(有機EL顯示元件)
作為有機EL顯示元件,可使用現有公知者。
[積層體的製造方法]
本發明的一實施方式的積層體可藉由經由貼合層將構成積層體的層彼此貼合來製造。於經由貼合層將層彼此貼合的情況下,為了提高密接性,較佳為對貼合面的其中一者或兩者實施例如電暈處理等表面活性化處理。
積層體100的製造方法例如包括準備偏光層101的步驟、準備觸控感測器層103的步驟、以及經由貼合層將偏光層與觸控感測器層貼合的步驟,準備觸控感測器層103的步驟可包括藉由光微影法形成著色層105的著色層形成步驟。
偏光層101能夠直接或經由配向膜形成於前表面板或基材上,基材可組裝至積層體中,或者亦可自偏光層101剝離而不作為積層體的構成部件。
觸控感測器層103例如可以如下的第一方法~第四方法的方式進行製造。
第一方法中,首先,經由接著劑將基材層111積層至玻璃板。在基材層111上依序形成透明導電層、配線104、著色層105。藉由加熱而將玻璃基板與基材層111分離,獲得包含著色層105、配線104、透明導電層及基材層111的觸控感測器層103。
第二方法中,首先在玻璃板上形成分離層。在分離層上依序形成透明導電層、配線104、絕緣層、著色層105。在與分離層相反的一側的最外表面積層能夠剝離的熱塑性樹脂膜,將自著色層105至分離層轉印至能夠剝離的熱塑性樹脂膜,將玻璃板分離。接著,準備基材層111,將基材層111與分離層經由接著劑層貼合。藉由將能夠剝離的熱塑性樹脂膜剝離,獲得依序具有著色層105、絕緣層、配線104、透明導電層、分離層、接著劑層及基材層111的觸控感測器層103。於形成著色層105之前,亦可在絕緣層上形成另一透明導電層,並在該另一透明導電層上形成另一絕緣層。
第三方法中,首先在玻璃板上形成分離層。在分離層上依序形成透明導電層、配線104、絕緣層、著色層105。在與分離層相反的一側的最外表面,經由貼合層102貼合偏光層101。繼而,藉由將玻璃板分離,獲得依序具有著色層105、絕緣層、配線104、透明導電層及分離層的觸控感測器層103。亦可在絕緣層上進而形成另一透明導電層,在另一透明導電層上形成另一絕緣層,並在另一絕緣層上形成著色層105。
第四方法中,首先在玻璃板上形成分離層。在分離層上形成著色層105。繼而,在著色層105上依序形成透明導電層、配線104、絕緣層。在與分離層相反的一側的最外表面積層能夠剝離的熱塑性樹脂膜,將自分離層至絕緣層轉印至能夠剝離的熱塑性樹脂膜,將玻璃板分離。接著,準備基材層,將基材層與分離層經由接著劑層貼合。藉由將能夠剝離的熱塑性樹脂膜剝離,獲得依序具有絕緣層、配線104、透明導電層、著色層105、分離層、接著劑層及基材層的觸控感測器層103。於積層能夠剝離的熱塑性樹脂膜之前,亦可在絕緣層上形成另一透明導電層,並在該另一透明導電層上形成另一絕緣層。
著色層105較佳為藉由光微影法形成。於藉由光微影法形成著色層105的情況下,容易使著色層105的膜厚薄膜化,在積層體100的接觸傳感器103側的表面,有顯示區域與非顯示區域的階差變小的傾向。
光微影法可為將所述活性能量線硬化型的著色層形成用組成物塗佈於絕緣層或基材層上,使其乾燥而形成著色層形成用組成物層,介隔光罩對著色層形成用組成物層進行曝光、顯影的方法。亦可於顯影後進行後烘烤。
於將黏著劑層與偏光層101及觸控感測器層103貼合時,可對貼合面實施電暈處理、電漿處理等處理。
[圖像顯示裝置的用途]
本發明的圖像顯示裝置可用作智慧型電話、輸入板等行動設備、電視機、數位相框(digital photo frame)、電子看板、測定器或儀表類、辦公用設備、醫療設備、電腦設備等。本發明的積層體可提供一種由於顯示區域寬、外觀上的凹凸亦少而擴大了顯示區域的高品質的圖像顯示裝置。
[實施例]
以下,藉由實施例更詳細地說明本發明,但本發明並不受該些例子限定。只要並無特別說明,則例中的「%」及「份」為質量%及質量份。
[色差]
使用積分球反射率測定器(柯尼卡美能達(KONICA MINOLTA),CM-3700d),自積層體的前表面板側分別測定非顯示區域及顯示區域的色相a*及色相b*,求出非顯示區域及顯示區域的色相之差的絕對值Δa*及Δb*。
[階差]
使用干涉儀顯微鏡(布魯克(Bruker)公司,康圖爾(Contour)GT),在積層體的觸控感測器側的表面,測定顯示區域與非顯示區域的階差。
[位置精度]
使用光學顯微鏡(奧林巴斯(Olympus)製造),測定圖4所示的觸控感測器對準標記(十字「+」型)(以下亦稱為TS標記)104a與著色層對準標記(十字「+」型)(以下亦稱為著色標記)105a的中心的距離La 131。距離La 131是根據TS標記104a與著色標記105a在x方向、y方向上的差的絕對值Δx、Δy,藉由以下的式子求出。
La=[(Δx)2
+(Δy)2
]1/2
距離La 131等於著色層105與配線104的距離L 132,距離La 131越小,著色層105與配線104的位置精度有越良好的傾向。將距離La 131為5 μm以下的情況表示為○,將超過5 μm且為50 μm以下的情況表示為△,超過50 μm則表示為×。
[光密度]
在透明玻璃基板上進行與實施例及比較例相同的操作,製作著色層的樣品膜,使用光密度測定器(製品名:361T,愛色麗(X-rite)公司製造)測定所獲得的各樣品膜的光密度(OD)。
<著色層形成用組成物1>
含有碳黑的活性能量線硬化型著色層形成用組成物(三星SDI(Samsung SDI)公司製造的「CR-BK0951L」)
<著色層形成用組成物2>
[油墨成分]
乙炔黑(碳黑)15質量%
聚酯75質量%
戊二酸二甲酯2.5質量%
琥珀酸2質量%
異佛爾酮5.5質量%
[硬化劑]
脂肪族聚異氰酸酯75質量%
乙酸乙酯25質量%
[溶媒]
異佛爾酮
[製造方法]
相對於油墨成分100質量份,添加10質量份的硬化劑、10質量份的溶媒,進行攪拌而獲得著色層形成用組成物2。
<黏著劑片1的製作>
以質量基準計,混合84份的丙烯酸2-乙基己酯、15份的丙烯酸異冰片酯、1份的丙烯酸羥基丙酯及作為聚合起始劑的0.02份的1-羥基環己基苯基酮。對混合液照射紫外線,使單體聚合。
其後,向所述混合液中添加作為聚合起始劑的0.4份的1-羥基環己基苯基酮、0.3份的丙烯酸月桂酯、0.05份的聚乙二醇(200)二丙烯酸酯、0.05份的(3-縮水甘油氧基丙基)三甲氧基矽烷,製備黏著劑組成物。
將黏著劑組成物塗敷於表面經矽處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜(脫模膜)上。塗敷厚度設為25 μm。準備另一脫模膜,使其積層於塗膜上。對具有脫模膜/黏著劑組成物的塗膜/脫模膜的層構成的積層體照射紫外線。於紫外線的照射步驟中,將300 nm~400 nm的紫外線(365 nm下發光強度極大)以累計光量為1500 mJ/cm2
的方式照射至積層體。以該方式製作包括厚度25 μm的(甲基)丙烯酸系黏著劑層1的黏著劑片1。
<黏著劑片2的製作>
向包括冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機的反應器中裝入丙酮81.8份、丙烯酸丁酯61.0份、甲基丙烯酸甲酯37份、丙烯酸1.0份及丙烯酸2-羥基乙酯1.0份的混合溶液,利用氮氣來置換裝置內的空氣而使其不含氧,同時使內溫上升至55℃。其後,添加將偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於丙酮10份中而得的溶液的總量。添加起始劑1小時後,以除單量體以外的丙烯酸樹脂的濃度為35%的方式,以添加速度17.3份/小時向反應器中連續添加丙酮,同時在內溫54℃~56℃下保溫12小時,最後添加乙酸乙酯,以丙烯酸樹脂的濃度為20%的方式進行調節。
將i)所述不揮發成分量丙烯酸樹脂:100份
ii)作為異氰酸酯系化合物的克羅耐德(Coronate)L:3.0份
iii)作為矽烷系化合物的KBM403:0.5份
混合。以總固體成分濃度為10%的方式添加乙酸乙酯,獲得黏著劑組成物。
利用塗佈器,以乾燥後的厚度為5 μm的方式將所得的黏著劑組成物塗佈於經脫模處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度38 μm)的脫模處理面。將塗佈層在100℃下乾燥1分鐘,獲得包括黏著劑層2的膜。其後,在黏著劑層2上貼合經脫模處理的另一聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度38 μm)。其後,在溫度23℃、相對濕度50%RH的條件下固化7天,製作黏著劑片2。
<實施例1>
1.觸控感測器層的製作
以下參照圖5來對觸控感測器層的製作順序進行說明。
1)分離層的形成(圖5的(a))
將丙烯酸系樹脂塗佈於玻璃板301,形成分離層302。
2)觸控感測器層的形成(圖5的(b))
在分離層302上依序形成第一ITO層303、配線(銅圖案)304、第一絕緣層305、第二ITO層306、第二絕緣層307。
第一ITO層303及第二ITO層306以及配線304分別以如下方式製作。藉由濺鍍法形成ITO膜或金屬膜。繼而,藉由光微影法(包括以下步驟:光致抗蝕劑塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟)在ITO膜或金屬膜上形成光致抗蝕劑膜圖案。藉由蝕刻法將ITO膜或金屬膜圖案化後,除去光致抗蝕劑膜圖案。當形成配線304時,在觸控感測器單元的外部區域形成用於確認位置精度及積層狀態的TS標記。
第一絕緣層305及第二絕緣層307藉由光微影法(包括以下步驟:絕緣層形成用組成物塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟及熱硬化步驟)而圖案化。
3)著色層的形成(圖5的(c))
著色層308是使用所述著色層形成用組成物1,以乾燥後的厚度為1.5 μm的方式形成於第二絕緣層307上。著色層308是藉由光微影法(包括以下步驟:著色層形成用組成物1塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟及熱硬化步驟)而形成。著色層308以配線304位於著色層308下部的方式形成於第二絕緣層307上部。著色層308是以著色標記形成在與TS標記相同的位置的方式形成。
4)觸控感測器層的轉印(圖5的(d))
在著色層308側的表面貼合帶黏著劑的聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)膜309(厚度52 μm)。將觸控感測器積層體300連同PET膜309一起自玻璃板301剝離。在分離層302側的面,經由接著劑層(光硬化性接著劑)310接著基材層311(環烯烴聚合物(cyclo olefin polymer,COP)膜,厚度23 μm)。
2.偏光層的製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度30 μm的聚乙烯醇膜〔可樂麗(Kuraray)股份有限公司製造的商品名「可樂麗維尼綸(Kuraray vinylon)VF-PE#3000」〕浸漬於37℃的純水中後,浸漬於含有碘及碘化鉀的30℃的水溶液(碘/碘化鉀/水(質量比)=0.05/1.7/100)中。
浸漬於含有碘化鉀及硼酸的58℃的水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.2/100)中。利用15℃的純水對膜進行清洗後,在80℃下乾燥,獲得碘吸附配向於聚乙烯醇的厚度約12 μm的偏光片。拉伸主要在碘染色及硼酸處理的步驟中進行,總拉伸倍率為5.5倍。在所得的偏光片的單面經由接著劑層貼合厚度25 μm的三乙醯纖維素(TAC)膜。
在與TAC側相反的一側的面,貼合包含液晶化合物聚合且硬化而得的層的相位差層[厚度16 μm,層構成:黏著劑層(厚度5 μm)/包含液晶化合物硬化而得的層及配向膜的λ/4板(厚度3 μm)/黏著劑層(厚度5 μm)/包含液晶化合物硬化而得的層及配向膜的正C板(厚度3 μm)]的λ/4板側的黏著劑層。準備以該方式製作的偏光層(「TAC/偏光片/相位差層」的層構成,厚度53 μm)。偏光層為圓偏光板。
3.帶黏著劑層的前表面板的製作
準備在聚醯亞胺樹脂膜(厚度40 μm)的單面,使用含有末端具有多官能丙烯酸基的樹枝狀聚合物(dendrimer)化合物的組成物形成有硬塗層(厚度10 μm)的前表面板(厚度50 μm)。
準備以上所製作的黏著劑片1的黏著劑層1作為第一貼合層。對所述前表面板的與第一貼合層的貼合面、及第一貼合層的與前表面板的貼合面實施電暈處理。將前表面板與第一貼合層貼合而獲得帶黏著劑層的前表面板。
4.積層體的製作
以下參照圖5來對積層體的製作順序進行說明。
在分別對前表面板312的第一貼合層313側的貼合面及偏光層314的TAC側的貼合面實施電暈處理後,以該些面成為內側的方式將帶黏著劑層的前表面板312與偏光層314積層,使用輥接合機進行貼合(圖5的(e))。
準備以上所製作的黏著劑片1的黏著劑層1作為第二貼合層315。對偏光層314的相位差層側的面、及第二貼合層315的與偏光層314的貼合面實施電暈處理。將第二貼合層315貼合於偏光層314的相位差層側的面(圖5的(f))。
剝下帶黏著劑的PET膜309,將著色層308側的面與偏光層314的第二貼合層315貼合,獲得實施例1的積層體320(圖5的(g))。將結果示於表1中。
<實施例2>
除了以如下方式製作偏光層以外,以與實施例1相同的方式獲得實施例2的積層體。將結果示於表1中。
在25 μm的TAC膜的單面塗佈配向膜組成物,進行乾燥及偏光曝光而形成配向膜。在配向膜上塗佈含有二色性色素及聚合性液晶化合物的組成物,並進行乾燥。藉由紫外線照射,使聚合性液晶化合物硬化,形成塗佈型偏光片(厚度2 μm)。繼而,在偏光片的與TAC膜相反的面,塗敷含有聚乙烯醇及水的保護組成物並乾燥,形成保護層(厚度0.5 μm,圖中省略)。在所述保護層的與偏光片側相反的一側的面,貼合包含液晶化合物聚合並硬化而得的層的相位差層[厚度16 μm,層構成:黏著劑層(厚度5 μm)/包含液晶化合物硬化而得的層及配向膜的λ/4板(厚度3 μm)/黏著劑層(厚度5 μm)/包含液晶化合物硬化而得的層及配向膜的正C板(厚度3 μm)]。準備以該方式製作的偏光層(「TAC/偏光片/相位差層」的層構成,厚度43 μm)。
<實施例3>
1.觸控感測器層的製作
以下參照圖6來對觸控感測器層的製作順序進行說明。
1)分離層的形成(圖6的(a))
將丙烯酸系樹脂塗佈於玻璃板401,形成分離層402。
2)觸控感測器層的形成(圖6的(b))
在分離層402上依序形成第一ITO層403、配線(銅圖案)404、第一絕緣層405、第二ITO層406、第二絕緣層407。
第一ITO層403及第二ITO層406以及配線404分別以如下方式製作。藉由濺鍍法形成ITO膜或金屬膜。繼而,藉由光微影法(光致抗蝕劑塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟)在ITO膜或金屬膜上形成光致抗蝕劑膜圖案。藉由蝕刻法將ITO膜或金屬膜圖案化後,除去光致抗蝕劑膜圖案。當形成配線404時,在觸控感測器單元的外部區域形成用於確認位置精度及積層狀態的TS標記。
第一絕緣層405及第二絕緣層407藉由光微影法(包括以下步驟:絕緣層形成用組成物塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟及熱硬化步驟)而圖案化。
3)著色層的形成(圖6的(c))
著色層408是使用所述著色層形成用組成物1,以乾燥後的厚度為1.5 μm的方式形成於第二絕緣層407上。著色層408是藉由光微影法(包括以下步驟:著色層形成用組成物1塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟及熱硬化步驟)而形成。著色層408以配線404位於著色層408下部的方式形成於第二絕緣層407上部。著色層408是以著色標記形成在與TS標記相同的位置的方式形成。
2.偏光層的製作
以與實施例1的「2.偏光層的製作」相同的方式製作偏光層。
3.帶黏著劑層的前表面板的製作
以與實施例1的「3.帶黏著劑層的前表面板的製作」相同的方式製作帶黏著劑層的前表面板。
4.積層體的製作
以下參照圖6來對積層體的製作順序進行說明。
在分別對前表面板412的第一貼合層413側的貼合面及偏光層414的TAC側的貼合面實施電暈處理後,以該些面成為內側的方式將帶黏著劑層的前表面板412與偏光層414積層,使用輥接合機進行貼合(圖6的(d))。
準備以上所製作的黏著劑片2的黏著劑層2作為第二貼合層415。對偏光層414的相位差層側的面、及第二貼合層415的與偏光層414的貼合面實施電暈處理。將第二貼合層415貼合於偏光層414的相位差層側的面(圖6的(e))。
將著色層408側的面與偏光層414的第二貼合層415貼合,將玻璃板401自分離層402剝離,獲得實施例3的積層體420(圖6的(f))。將結果示於表1中。
<實施例4>
1.觸控感測器層的製作
以下參照圖7來對觸控感測器層的製作順序進行說明。
1)分離層的形成(圖7的(a))
將丙烯酸系樹脂塗佈於玻璃板501,形成分離層502。
2)著色層的形成(圖7的(b))
著色層508是使用所述著色層形成用組成物1,以乾燥後的厚度為1.5 μm的方式形成於分離層502上。著色層508是藉由光微影法(包括以下步驟:著色層形成用組成物1塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟及熱硬化步驟)而形成。
當形成著色層508時,在觸控感測器單元的外部區域形成著色標記。
3)觸控感測器層的形成(圖7的(c))
在分離層502的著色層508上依序形成第一ITO503層、配線(銅圖案)504、第一絕緣層505、第二ITO層506、第二絕緣層507。
第一ITO層503及第二ITO層506以及配線504分別以如下方式製作。藉由濺鍍法形成ITO膜或金屬膜。繼而,藉由光微影法(光致抗蝕劑塗佈步驟、曝光步驟、顯影步驟)在ITO膜或金屬膜上形成光致抗蝕劑膜圖案。藉由蝕刻法將ITO膜或金屬膜圖案化後,除去光致抗蝕劑膜圖案。配線504是以TS標記形成在與著色標記相同的位置的方式形成。
4)觸控感測器層的轉印(圖7的(d))
在第二絕緣層507側的表面貼合帶黏著劑的PET膜509(厚度52 μm)。在將觸控感測器積層體500連同PET膜509一起自玻璃板501剝離之後,在分離層502側的面,經由接著劑層(光硬化性接著劑)510接著基材層511(COP膜,厚度23 μm)。
2.偏光層的製作
以與實施例1的「2.偏光層的製作」相同的方式製作偏光層。
3.帶黏著劑層的前表面板的製作
以與實施例1的「3.帶黏著劑層的前表面板的製作」相同的方式製作帶黏著劑層的前表面板。
4.積層體的製作
以下參照圖7來對積層體的製作順序進行說明。
在分別對前表面板512的第一貼合層513側的貼合面及偏光層514的TAC側的貼合面實施電暈處理後,以該些面成為內側的方式將帶黏著劑層的前表面板512與偏光層514積層,使用輥接合機進行貼合(圖7的(e))。
準備以上所製作的黏著劑片1的黏著劑層1作為第二貼合層515。對偏光層514的相位差層側的面、及第二貼合層515的與偏光層514的貼合面實施電暈處理。將第二貼合層515貼合於偏光層514的相位差層側的面(圖7的(f))。
將基材層511側的面與偏光層514的第二貼合層515貼合,獲得實施例4的積層體520(圖7的(g))。將結果示於表1中。
<實施例5>
於實施例3的觸控感測器層的製作中,以如下方式製作著色層,除此以外,以與實施例3相同的方式獲得實施例5的積層體。將結果示於表1中。
著色層形成於觸控感測器層的第二絕緣層上。油墨使用以上所準備的著色層形成用組成物2。藉由網版印刷法,反覆進行兩次乾燥後的塗佈厚度為3 μm的吐出量的印刷。網版使用460目的網版。
<比較例1>
除了在前表面板的用來貼合第一貼合層的面設置著色層,來代替在觸控感測器層的第二絕緣層上形成著色層以外,以與實施例1相同的方式製作比較例1的積層體。將結果示於表1中。
<比較例2>
除了在前表面板的用來貼合第一貼合層的面設置著色層,來代替在觸控感測器層的第二絕緣層上形成著色層以外,以與實施例2相同的方式製作比較例2的積層體。將結果示於表1中。
<比較例3>
除了在偏光層的相位差層側的面設置著色層,來代替在觸控感測器層的第二絕緣層上形成著色層以外,以與實施例1相同的方式製作比較例3的積層體。將結果示於表1中。
[表1]
實施例 | 比較例 | |||||||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 1 | 2 | 3 | |
前表面板厚度[μm] | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
偏光片 | 拉伸 | 塗佈 | 拉伸 | 拉伸 | 拉伸 | 拉伸 | 塗佈 | 拉伸 |
基材層 (觸控感測器層) | COP | COP | 無 | COP | 無 | COP | COP | COP |
著色層厚度[μm] | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 1.5 | 6 | 1.5 | 1.5 | 1.5 |
著色層形成法 | 光微影法 | 光微影法 | 光微影法 | 光微影法 | 網版印刷法 | 光微影法 | 光微影法 | 光微影法 |
第一貼合層厚度[μm] | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 |
第一貼合層種類 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 |
第二貼合層厚度[μm] | 25 | 25 | 5 | 25 | 5 | 25 | 25 | 25 |
第二貼合層種類 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層2 | 黏著劑層1 | 黏著劑層2 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 | 黏著劑層1 |
Δa* | 0.13 | 0.29 | 0.16 | 0.13 | 0.16 | 0.54 | 0.63 | 0.35 |
Δb* | 0.15 | 0.19 | 0.19 | 0.14 | 0.29 | 0.83 | 0.55 | 0.68 |
階差[μm] | 無 | 無 | 無 | 無 | 3.9 | 無 | 無 | 無 |
位置精度 | ○ | ○ | ○ | ○ | △ | △ | △ | △ |
著色層的OD | 4.7 | 4.8 | 4.7 | 4.9 | 5.1 | 4.8 | 4.7 | 4.9 |
100、200、320、420、520:積層體
101、314、414、514:偏光層
102、202、203:貼合層
103:觸控感測器層
104、304、404、504:配線
104a:TS標記
105、308、408、508:著色層
105a:著色標記
111:基材層
A:顯示區域
B:非顯示區域
131:距離La
132:距離L
201、312、412、512:前表面板
204:有機EL顯示元件
300、500:觸控感測器積層體
301、401、501:玻璃板
302、402、502:分離層
303、403、503:第一ITO層
305、405、505:第一絕緣層
306、406、506:第二ITO層
307、407、507:第二絕緣層
309、509:帶黏著劑的PET膜
310、510:接著劑層
311、511:基材層
313、413、513:第一貼合層
315、415、515:第二貼合層
Δx:TS標記104a與著色標記105a在x方向上的差的絕對值
Δy:TS標記104a與著色標記105a在y方向上的差的絕對值
圖1是表示本發明的一實施形態的積層體的概略剖面圖。
圖2是自偏光層側觀察積層體的俯視圖。
圖3是表示本發明的一實施形態的積層體的概略剖面圖。
圖4是對位置精度的說明進行示意性表示的概略圖。
圖5的(a)~圖5的(g)是示意性表示積層體的製造方法的概略剖面圖。
圖6的(a)~圖6的(f)是示意性表示積層體的製造方法的概略剖面圖。
圖7的(a)~圖7的(g)是示意性表示積層體的製造方法的概略剖面圖。
100:積層體
101:偏光層
102:貼合層
103:觸控感測器層
104:TS標記
105:著色標記
A:顯示區域
B:非顯示區域
Claims (8)
- 一種積層體,依序具有偏光層、貼合層及觸控感測器層, 所述觸控感測器層包括配線及著色層, 所述積層體在俯視時區分為顯示區域與非顯示區域, 所述著色層設置於所述非顯示區域,且配置於較所述配線更靠所述偏光層側。
- 如請求項1所述的積層體,其中自所述偏光層側觀察時的所述顯示區域與所述非顯示區域的色差的絕對值Δa*及Δb*均為0.3以下。
- 如請求項1或請求項2所述的積層體,其中所述著色層含有碳黑。
- 如請求項1至請求項3中任一項所述的積層體,其中自所述觸控感測器層側觀察時的最外表面的所述顯示區域與所述非顯示區域的階差為3 μm以下。
- 如請求項1至請求項4中任一項所述的積層體,其中所述著色層的厚度為2 μm以下,且光密度為4以上。
- 如請求項1至請求項5中任一項所述的積層體,其中於所述觸控感測器層側的最外表面更包括有機電致發光顯示元件。
- 一種圖像顯示裝置,包括如請求項1至請求項6中任一項所述的積層體。
- 一種製造方法,其是如請求項1至請求項6中任一項所述的積層體的製造方法,包括: 準備偏光層的步驟; 準備觸控感測器層的步驟;以及 經由貼合層將所述偏光層與所述觸控感測器層貼合的步驟, 所述準備觸控感測器層的步驟包括藉由光微影法來形成著色層的著色層形成步驟。
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