TW202034740A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

本揭示的加熱調理器具備：殼體，具備一對左右側壁、上壁、下壁、及後壁，並具有加熱室；支撐壁，具有：第1壁部、第2壁部、及底壁，前述第1壁部從下方支撐左右側壁，並從下方對左右側壁接合，前述第2壁部在平面視角下，於第1壁部之內側中向下方凹陷，並承接下壁，前述底壁在平面視角下，於第2壁部之內側中向下方凹陷；及接著部，接著下壁之外周緣部與支撐壁。接著部在左右分別具有從下壁之外周緣部延伸至左右側壁與第1壁部之間的間隙為止的區域，來作為第1區域、第2區域。

Description

加熱調理器

發明領域 本揭示是有關於一種加熱調理器。

發明背景 在日本專利特開2010-261695號公報中，已提出有一種藉由微波來調理被加熱物即食品的加熱調理器。

該加熱調理器具有用以容置被加熱物的加熱室，並設置有區隔板，前述區隔板是將鄰接於加熱室之下方所設置的供電室與加熱室加以區隔。在區隔板的外周，塗佈有用以將區隔板固定於加熱室的壁部之接著材。

發明概要 然而，加熱室的壁部與壁部之間有間隙存在，在該間隙當中未填充接著材之處，會有在加熱室產生的蒸氣等從該間隙漏出之虞。尤其是，在區隔板之下方配置有馬達或電路等之內部零件，一旦蒸氣或水滴附著於該等之內部零件，便會有內部零件故障之虞。就結果而言，會有加熱調理器的信賴性降低之虞。

因此，本揭示之目的在於解決上述問題，並且在於提供一種提升了信賴性的加熱調理器。

本揭示之一態樣的加熱調理器具備：殼體，藉由一對左右側壁、上壁、下壁、及後壁來形成容置被加熱物之加熱室，且前述左右側壁與前述下壁在左右方向上空出間隔而設置；支撐壁，具有：第1壁部、第2壁部、及底壁，前述第1壁部從下方支撐前述左右側壁與前述下壁，並從下方對前述左右側壁接合，前述第2壁部在平面視角下，於前述第1壁部之內側中向下方凹陷，並承接前述下壁，前述底壁在平面視角下，於前述第2壁部之內側中向下方凹陷，並在與前述下壁之間形成供電室；及接著部，接著前述下壁之外周緣部與前述支撐壁。前述接著部在左右分別具有從前述下壁之前述外周緣部延伸至前述左右側壁與前述第1壁部之間的間隙為止的區域，來作為第1區域、第2區域。

根據本揭示的加熱調理器，可以提升信賴性。

用以實施發明之形態 在第1態樣的加熱調理器中，具備：殼體，藉由一對左右側壁、上壁、下壁、及後壁來形成容置被加熱物之加熱室，且前述左右側壁與前述下壁在左右方向上空出間隔而設置；支撐壁，具有：第1壁部、第2壁部、及底壁，前述第1壁部從下方支撐前述左右側壁與前述下壁，並從下方對前述左右側壁接合，前述第2壁部在平面視角下，於前述第1壁部之內側中向下方凹陷，並承接前述下壁，前述底壁在平面視角下，於前述第2壁部之內側中向下方凹陷，並在與前述下壁之間形成供電室；及接著部，接著前述下壁之外周緣部與前述支撐壁。前述接著部在左右分別具有從前述下壁之前述外周緣部延伸至前述左右側壁與前述第1壁部之間的間隙為止的區域，來作為第1區域、第2區域。

根據這樣的構成，藉由以接著部來將左右側壁與支撐壁之第1壁部的間隙密封，可防止在加熱室內產生的蒸氣從該間隙漏出，並朝設置於加熱調理器之下方空間的內部零件落下的情況。藉此，可以抑制加熱調理器之內部零件的故障，並可以提升加熱調理器的信賴性。

在第2態樣的加熱調理器中，尤其是第1態樣中的前述接著部更具有在左右方向上延伸以連接前述第1區域與前述第2區域的第3區域，前述第1區域之寬度及前述第2區域之寬度比前述第3區域之寬度更長。

根據這樣的構成，可以將左右側壁與支撐壁之第1壁部的間隙更確實地密封。

在第3態樣的加熱調理器中，尤其是在第1或第2態樣中的前述第1壁部之表面，描繪有引導前述接著部之塗佈區域的引導線。

根據這樣的構成，可以將左右側壁與支撐壁之第1壁部的間隙更確實地密封。 (實施形態)

以下，依據圖式詳細地說明本揭示之實施形態。

圖1至圖3是顯示實施形態的加熱調理器2之概略構成的圖。圖1、圖2是從不同的角度觀看加熱調理器2的立體圖，圖3是從正面觀看加熱室4之截面的示意圖。

圖1、圖2所示之加熱調理器2是加熱並調理被加熱物即食品(未圖示)的器具。本實施形態的加熱調理器2中，作為加熱被加熱物的加熱部，具備：磁控管(magnetron)、加熱器、及蒸氣產生部(皆未圖示)。磁控管是產生微波的微波產生部，並從設置於後述之供電室19內的天線(微波放射部)對加熱室4供給微波。加熱器是將加熱室4內之被加熱物進行輻射加熱的部。並且，蒸氣產生部是對加熱室4供給蒸氣的部。本實施形態的加熱調理器2具有藉由微波來調理被加熱物的功能而被稱作微波爐。

如圖1、圖2所示地，加熱調理器2具備：形成加熱室4的殼體6、門8、及操作部10。

加熱室4是用以配置被加熱物的空間。如圖1、圖2所示地，藉由殼體6之複數個內壁面，構成有加熱室4。具體而言，如圖3所示地，是藉由左右一對側壁12A、12B、上壁14、下壁16、及後壁18，形成有大致長方體的加熱室4。側壁12A、12B亦可稱為「左右側壁」、「側面」，上壁14亦可稱為「頂面」或是「上表面」，下壁16亦可稱為「底面」或是「下表面」，後壁18亦可稱為「後面」。

如圖3所示地，作為支撐側壁12A、12B與下壁16的構件，設置有支撐壁17。支撐壁17是從下方支撐下壁16，並在與下壁16之間形成供電室19(參照圖12)。作為接著下壁16與支撐壁17的構件，設置有接著部21A、21B。針對接著部21A、21B及支撐壁17，將於後敘述。

回到圖1、圖2，門8是開閉加熱室4的構件。門8是以可旋轉的狀態固定於殼體6的前表面40。本實施形態的門8是以在水平方向上延伸的軸作為旋轉軸而上下旋轉之「縱開」的門。

操作部10是用以供使用者選擇調理選單來進行操作的構件。本實施形態的操作部10是在殼體6的前表面40中，設置於不與門8相對向的位置。本實施形態的操作部10是藉由液晶、按鈕、刻度盤等而構成。 (選單顯示部)

如圖2所示地，本實施形態的加熱調理器2中，在加熱室4的下壁16設置有複數個顯示部20、22、24。針對該等顯示部，使用圖4至圖6來進行說明。

圖4是加熱室4的下壁16的平面圖。如圖4所示地，從加熱室4之後側Y1朝向前側Y2依序設置有：第1顯示部20、第2顯示部22、及第3顯示部24。

第1顯示部20是用以引導被加熱物之配置場所的引導顯示部。第2顯示部22是顯示了有關於加熱調理器2之使用的注意事項的注意顯示部。第3顯示部24是顯示了調理選單的選單顯示部。

尤其是，藉由將第3顯示部24記載於加熱室4的下壁16，使用者便可以在開啟了門8的狀態下觀看調理選單。由於前述之操作部10(圖1、圖2)設置於不與門8相對向的位置，因此使用者可以在開啟了門8的狀態下，一邊依據第3顯示部24觀看調理選單，一邊操作操作部10來選擇調理選單。

如圖4所示地，第3顯示部24比位於加熱室4的下壁16之中心的第1顯示部20更設置於加熱室4的前側Y2。尤其是第3顯示部24比不同於第3顯示部24的顯示部即第1顯示部20及第2顯示部22更設置於加熱室4的前側Y2。根據這樣的配置，選單顯示會變得更容易觀看，而可以更加提升使用者的便利性。

此外，本實施形態中，設置有照亮加熱室4的室內燈(未圖示)。本實施形態的室內燈是設置於側壁12A或是側壁12B，並傾斜設置以照亮加熱室4的下壁16。本實施形態的室內燈是藉由控制部(未圖示)控制成在開啟門8後自動點燈。根據這樣的構成，藉由室內燈在開啟門8後自動點燈，第3顯示部24會變得容易觀看，而成為即便在暗處仍可容易地進行選單選擇。

接著，將第3顯示部24的局部放大圖顯示於圖5。如圖5所示地，第3顯示部24具有：選單名稱32、及符號34。選單名稱32是調理選單的名稱。符號34是對應於各調理選單的符號。本實施形態的符號34是對應於各調理選單的號碼。一併記載選單名稱32與符號34而構成第3顯示部24。根據這樣的構成，使用者可以容易地選擇調理選單。

接著，將門8的前表面26顯示於圖6。圖6是門8的正面圖。如圖6所示地，門8的前表面26具備：透明部28、及非透明部30。透明部28是藉由透明材料所構成的部分，非透明部30是塗佈了非透明材料的部分。使用者可以隔著透明部28目視確認加熱室4的內部。非透明部30構成門8的前表面26之外框。

如圖6所示地，在透明部28並未設置文字或記號等的顯示部。以往的加熱調理器中，雖然有在透明部28印刷選單顯示部的情況，但本實施形態的加熱調理器2中，由於在加熱室4的下壁16設置有第3顯示部24，因此並未在透明部28設置選單顯示部。藉此，可以擴展透明部28的目視確認區域，並提升隔著透明部28之加熱室4內部的目視確認性。此外，也可以提升門8的設計性。

如上述地，實施形態的加熱調理器2具備：殼體6，形成容置被加熱物之加熱室4；門8，開閉加熱室4；及操作部10，在殼體6的前表面40中，設置於不與門8相對向的位置。在這樣的構成中，在加熱室4之底面即下壁16設置有選單顯示部即第3顯示部24。

藉由像這樣地在加熱室4之底面設置選單顯示部，使用者可以在開啟了門8的狀態下，一邊觀看選單顯示部，一邊操作操作部10來選擇調理選單。藉此，可以提升使用者的便利性。又，由於不需要如以往地在門8的前表面26印刷選單顯示部，因此可以提升隔著門8之加熱室4內部的目視確認性，並且也可以提升門8的設計性。 (墊件)

回到圖1，在門8的背面36設置有墊件38。針對使用於本實施形態的加熱調理器2的墊件38，使用圖7至圖9C來進行說明。

圖7是門8的背面圖，並顯示門8的背面36。圖7所示之墊件38是安裝於門8的背面36的密封構件，並將門8與殼體6之間密封。在以門8關閉了加熱室4的狀態，亦即門8的關閉狀態中，在門8的背面36與殼體6的前表面40相對向的情況下，是以墊件38來將兩面的間隙密封。藉此，防止在加熱室4產生的蒸氣等漏出至加熱調理器2之外部。

如圖7所示地，本實施形態的墊件38是沿著門8之外框連續的環狀構件。

將圖7的A-A截面圖顯示於圖8。圖8是顯示門8已開啟的狀態，亦即門8的開放狀態。在圖8中，沿著紙面由下向上的方向是顯示門8之由前向後的方向，且圖8中的門8之下側的面是顯示前表面26，圖8中的門8之上側的面是顯示背面36。前表面26是對應於門8之外側面，且背面36是對應於門8之內側面。

如圖8所示地，門8的背面36是藉由門本體部41、及阻塞蓋(choke cover)42而構成。

門本體部41是門8的本體部分，為金屬製。門本體部41在外周設置環狀溝並形成阻塞構造44。阻塞構造44是用以防止微波的穿透之構造，且排列有複數個梳齒狀的金屬板。

阻塞蓋42是覆蓋形成為環狀之阻塞構造44的蓋構件。阻塞蓋42是在覆蓋阻塞構造44的位置安裝於門本體部41。

在門本體部41與阻塞蓋42之間形成有溝46。在溝46安裝墊件38。安裝於溝46的墊件38會將門本體部41與阻塞蓋42之間密封。墊件38是朝向離開門8的方向即C方向突出，並構成為可與殼體6的前表面40接觸。

針對墊件38之詳細的構成，使用圖9A至圖9C來進行說明。圖9A至圖9C是分別顯示墊件38之不同的狀態的截面圖。圖9A是對應於門8的開放狀態，且圖9B、圖9C是對應於門8的關閉狀態。圖9B是顯示門8被關閉途中的狀態，圖9C是顯示門8被關閉後的狀態。

如圖9A所示地，墊件38具備：安裝部48、第1立起部50、及第2立起部52。

安裝部48是用以將墊件38安裝於門8的部分。本實施形態的安裝部48是嵌合於阻塞蓋42之前端。

第1立起部50及第2立起部52皆為從安裝部48立起的部分。第1立起部50及第2立起部52是朝向離開門8的方向即C方向立起。

第1立起部50是從安裝部48中的第1位置P1立起的部分。第1立起部50與門本體部41的相對壁54相對向。相對壁54是在門本體部41的途中彎曲以進入門8之內部的部分。

第1立起部50具有：第1延伸部50A、及第2延伸部50B。第1延伸部50A是從安裝部48延伸的部分，第2延伸部50B是從第1延伸部50A傾斜延伸的部分。

第1延伸部50A是從相對壁54空出間隔而配置，並沿著相對壁54延伸。亦即，第1延伸部50A不接觸相對壁54。第2延伸部50B是從第1延伸部50A朝向相對壁54傾斜延伸，且前端接觸相對壁54。根據這樣的構成，在第1立起部50與相對壁54之間會產生間隙S1。

在安裝部48中也同樣地，在與相對壁54相對向之處形成有複數個突起56。突起56會接觸相對壁54，除了突起56以外之安裝部48的部分不接觸相對壁54。與前述之第1立起部50同樣地，在安裝部48與相對壁54之間會產生間隙S2。

第2立起部52是從與安裝部48中的第1位置P1不同的第2位置P2立起的部分。第2立起部52具有：連接部52A、第1傾斜部52B、第2傾斜部52C、及屈折部52D。

連接部52A是從安裝部48立起的部分。本實施形態的連接部52A是從安裝部48垂直立起。連接部52A連接至第1傾斜部52B。

第1傾斜部52B是從連接部52A傾斜延伸的部分。第1傾斜部52B是朝向接近前述之第1立起部50的方向即D1方向傾斜。本實施形態的D1方向是朝向門8的背面36之中央部的方向。

第2傾斜部52C是從第1傾斜部52B傾斜延伸的部分。第2傾斜部52C是朝向與第1傾斜部52B相反的方向，亦即從第1立起部50遠離的方向即D2方向傾斜。本實施形態的D2方向是與D1方向相反的方向。

藉由具有第1傾斜部52B與第2傾斜部52C，第2立起部52形成為「ㄑ字狀」。將第1傾斜部52B與第2傾斜部52C連接的點作為屈折點53。在圖9A所示之門8的開放狀態中，第1傾斜部52B與第2傾斜部52C皆未與第1立起部50接觸。第1立起部50與第2立起部52之間形成有間隙S3。間隙S3是袋狀的空間，其在門8的開放狀態中並未被閉塞，並且露出於外側。

如以圖9A之虛線所示地，在將第1立起部50與第2立起部52相對於門8垂直投影時，各個立起部50、52是彼此局部重疊。

屈折部52D是從第2傾斜部52C朝向內側屈折的部分。藉由設置這樣的屈折部52D，可以防止第2立起部52在離開門8的C方向上過度地立起。

如圖9B所示地，一旦對殼體6關上門8後，墊件38的第2立起部52便會與殼體6的前表面40接觸。第2立起部52被殼體6的前表面40按壓而被壓縮，因而逐漸彎曲。如前述地，由於第2立起部52是形成為「ㄑ字狀」，因此第1傾斜部52B與第2傾斜部52C在接近彼此的方向上彎曲，且屈折點53在接近第1立起部50的方向上移動。因此，如圖9B所示地，第1傾斜部52B與第1立起部50接觸，且間隙S3被閉塞。

如上述地，在門8的開放狀態中，第2立起部52不與第1立起部50接觸，在門8的關閉狀態中，第2立起部52接觸第1立起部50，且間隙S3被閉塞。藉此，在第2立起部52接觸到第1立起部50為止的階段中，墊件38所產生之反彈力會較弱，相對於此，在接觸之後的階段中，反彈力會變強。像這樣，便可以發揮墊件38所產生之階段性的緩衝性。

又，間隙S3雖然被閉塞，但由於第1立起部50與第2立起部52並非一體的構件，因此間隙S3的閉塞性弱。因此，在第1立起部50與第2立起部52接觸之後，墊件38所產生之反彈力也不會變得過強。藉此，可以發揮墊件38所產生之期望的緩衝性。

此處，作為比較例，可以想到以下的構成：一體地構成第1立起部50與第2立起部52，並使間隙S3隨時閉塞而形成中空部。然而，該比較例的構成中，由於中空部是隨時被密閉的空間，因此會有因溫度上升使得中空部之內部壓力增加而導致墊件38的反彈力變得過強的情況。又，為了要形成中空部，墊件38的製造方法會被限定於擠壓成形，而無法以其他的製造方法來製作。相對於此，本實施形態的墊件38中，由於間隙S3並非隨時被閉塞的間隙，因此可以防止墊件38的反彈力變得過強。此外，由於並不需要在墊件38形成中空部，因此不限於擠壓成形，亦可藉由壓製加工或射出成形等其他的工法來製作墊件38。

又，如以圖9A所示地，由於在將第1立起部50與第2立起部52相對於門8垂直投影時會有局部重疊的區域，因此如圖9B所示地，可以使第2立起部52更確實地接觸第1立起部50。

當墊件38的壓縮從圖9B所示之狀態更進一步地進展後，如圖9C所示地，第1立起部50會被第2立起部52按壓，並在接近相對壁54的D1方向上移動。如前述地，第1立起部50在與相對壁54之間形成有間隙S1，且間隙S1會隨著第1立起部50的移動而變小。藉由設置這樣的間隙S1，便能以第1立起部50來吸收第2立起部52從殼體6被按壓所產生之壓縮力。藉此，可以減緩墊件38的反彈力的上升程度，並可以使墊件38發揮期望的緩衝功能。

又，由於本實施形態的第2立起部52具有連接部52A，因此可以更加吸收第2立起部52從殼體6被按壓所產生之壓縮力。

在圖9C所示之狀態中，殼體6與門8之間是藉由墊件38而密封，以防止加熱室4的蒸氣等漏出至外部。

如上述地，實施形態的加熱調理器2具備：殼體6，形成容置被加熱物之加熱室4；門8，開閉加熱室4；及墊件38。墊件38是安裝於門8，並且將關閉狀態的門8與面對門8的殼體6的前表面40之間密封的彈性材。墊件38具備：安裝於門8之內側面即背面36的安裝部48、第1立起部50、及第2立起部52。第1立起部50及第2立起部52是分別從安裝部48中之彼此分開的第1位置P1及第2位置P2朝向離開門8的C方向立起的部分。第2立起部52具有：第1傾斜部52B、及第2傾斜部52C。第1傾斜部52B是朝向接近第1立起部50的D1方向傾斜，且第2傾斜部52C是從第1傾斜部52B延伸並朝向與第1立起部50分開的D2方向傾斜。在門8的關閉狀態中，第2立起部52是被殼體6的前表面40按壓而接觸第1立起部50。

根據這樣的構成，第2立起部52在門8的開放狀態中不接觸第1立起部50，且在門8的關閉狀態中接觸第1立起部50。藉此，可以使墊件38發揮期望的緩衝功能。

又，根據實施形態的加熱調理器2，門8具備：門本體部41、及阻塞蓋42。門本體部41是形成用以防止微波的洩漏之阻塞構造44的構件。阻塞蓋42是安裝於門本體部41以被覆阻塞構造44之環狀溝的構件。墊件38配置於門本體部41與阻塞蓋42之間的溝46。根據這樣的構成，可以藉由阻塞構造44防止微波的洩漏，並將墊件38配置於阻塞蓋42與門本體部41之間的溝46而發揮密封性。

另外，上述內容中，雖然是針對第2立起部52中的第1傾斜部52B與第2傾斜部52C的截面形狀為直線延伸的情況進行了說明，但並不限於這種情況。例如，如圖10、圖11所示地，亦可使第2傾斜部58的截面形狀曲線地彎曲。又，如圖11所示地，亦可使屈折部59曲線地彎曲。 (接著部)

接著，針對圖3所示之接著部21A、21B、及支撐壁17，使用圖12至圖16來進行說明。

圖12是包含側壁12A、12B、下壁16、及支撐壁17的截面圖。圖13是已載置了下壁16之狀態的支撐壁17的平面圖。

如圖12所示地，支撐壁17具備：第1壁部60、第2壁部62、及底壁64。

第1壁部60是構成支撐壁17之左右端部的部分。第1壁部60是從下方支撐側壁12A、12B。第2壁部62是在第1壁部60之內側中從第1壁部60向下方凹陷的部分。第2壁部62是從下方支撐下壁16。底壁64是在第2壁部62之內側中更加向下方凹陷的部分。底壁64在與下壁16之間形成供電室19。

供電室19是設置了天線(未圖示)等的空間，前述天線是用以朝向加熱室4攪拌並放射微波。下壁16是將供電室19與加熱室4上下區隔的區隔構件。

如圖12所示地，本實施形態之左右的側壁12A、12B與下壁16是在左右方向即X方向上空出間隔X1而設置。在側壁12A、12B與下壁16之間設置有接著部21A、21B。

接著部21A、21B是用以接著下壁16與支撐壁17的構件。接著部21A、21B是藉由矽橡膠等之接著劑而構成。

針對接著部21A、21B的塗佈方法，使用圖14A、圖14B、圖14C來進行說明。圖14A、圖14B、圖14C是從正面觀看加熱室4時之左側中的接著部21A之周邊的放大截面圖。

如圖14A所示地，首先，將下壁16載置於支撐壁17之上。具體而言，是將下壁16載置於支撐壁17的第2壁部62之上。

接著，塗佈接著部21A。具體而言，如圖14B所示地，是塗佈接著部21A以將下壁16之外周緣部27與支撐壁17之間的間隙填滿。圖14B是與圖13對應。

此時，塗佈成接著部21A之一側之前端66會位於下壁16之上表面。同時，塗佈成接著部21A之另一側之前端67會到達支撐壁17之第1壁部60的預定位置。在第1壁部60之表面，描繪有引導接著部21A之前端67的位置的2條引導線68A、68B。在將接著部21A塗佈於第1壁部60時，控制塗佈量以使接著部21A之前端67位於2條引導線68A、68B之間，藉此便可以將接著部21A塗佈至預定位置為止。

如圖14B所示地，接著部21A的橫寬度是成為寬度W1。

接著，將側壁12A接合於支撐壁17。具體而言，如圖14C所示地，是將側壁12A載置於支撐壁17的第1壁部60之上並接合。本實施形態中，是使用突出凸緣孔70來機械性地接合側壁12A與支撐壁17。具體而言，是將螺絲插接於突出凸緣孔70而螺合。不限定於螺合，亦可採用鉚合或熔接等任意之接合方法。

如圖14C所示地，在側壁12A與第1壁部60之間形成有間隙72。前述之引導線68A、68B的位置已事先設定，以使接著部21A到達側壁12A與第1壁部60的間隙72為止。因此，間隙72會如圖14C所示地被接著部21A填滿並密封。

像這樣，藉由以接著部21A來將間隙72密封，可以強化側壁12A與第1壁部60的接合。此外，雖然加熱調理器2運轉時在加熱室4會產生蒸氣等，但可以防止這種蒸氣等透過間隙72而漏出至加熱室4之外部。在支撐壁17之下方配置有馬達或控制電路等之內部零件(未圖示)，一旦蒸氣的水滴附著於這種內部零件，便會有故障之虞。因此，藉由將間隙72密封，可以防止水滴透過間隙72而附著於內部零件的情況。藉此，可以抑制加熱調理器2之內部零件的故障，並可提升加熱調理器2的信賴性。

在圖14A至圖14C中，雖然是針對從正面觀看加熱室4時之左側中的接著部21A及側壁12A進行了說明，但針對右側中的接著部21B也適用同樣的塗佈方法。具體而言，如圖15所示地，是塗佈接著部21B，以藉由接著部21B接著下壁16之外周緣部27與支撐壁17，並使接著部21B到達將側壁12B與第1壁部60之間的間隙74填滿的位置為止。藉此，可以提高插接於突出凸緣孔76的螺絲鎖緊所產生之側壁12B與支撐壁17的接合強度，並防止透過間隙74之蒸氣等的漏出。藉此，可以抑制加熱調理器2之內部零件的故障，並可以提升加熱調理器2的信賴性。

如圖15所示地，接著部21B的橫寬度是成為寬度W2。

如上述地，本實施形態的加熱調理器2中，接著部21A、21B在左右分別具有從下壁16之外周緣部27延伸至左右側壁12A、12B與第1壁部60之間的間隙72、74為止的區域，來作為第1區域、第2區域。藉此，可以抑制加熱調理器2之內部零件的故障，並可以提升加熱調理器2的信賴性。

回到圖13，在支撐壁17之前方部分(亦即，紙面前側)設置有第4壁部65。第4壁部65是設置於最靠近門8之位置的部分，且是從前述之第1壁部60連續而形成。與第1壁部60同樣地，第4壁部65是藉由接著部來與下壁16接著。

圖16是將第4壁部65與下壁16接著的接著部77之周邊的放大截面圖。如圖16所示地，接著部77接著下壁16之外周緣部27與支撐壁17，且橫寬度是寬度W3。

前述之接著部21A、21B是對應於第1區域、第2區域，相對於此，接著部77是對應於第3區域，前述第3區域是在左右方向上延伸以連接第1區域與第2區域。本實施形態中，第1區域之寬度W1及第2區域之寬度W2是設定成一律比第3區域之寬度W3更長。藉此，可以充分地確保接著部21A、21B的橫寬度，並可以更確實地將側壁12A、12B與第1壁部60的間隙72、74密封。

以上，雖然列舉上述之實施形態來說明了本揭示之發明，但本揭示之發明並非限定於上述之實施形態。

本揭示雖然已一邊參照附加圖式，一邊有關於較佳之實施形態充分地做出記載，但對熟練該技術之人們而言，各種變形或修正是無庸置疑的。只要不脫離由附加之申請專利範圍所訂定之本揭示之範圍，該種變形或修正就應理解為有包含於其中。又，各實施形態中之要素組合或順序變化是在不脫離本揭示之範圍及思想之下得以實現者。

本揭示只要是加熱調理被加熱物的加熱調理器皆可適用。

2:加熱調理器 4:加熱室 6:殼體 8:門 10:操作部 12A,12B:側壁 14:上壁 16:下壁 17:支撐壁 18:後壁 19:供電室 20:第1顯示部 21A,21B,77:接著部 22:第2顯示部 24:第3顯示部 26:前表面 27:外周緣部 28:透明部 30:非透明部 32:選單名稱 34:符號 36:背面 38:墊件 40:前表面 41:門本體部 42:阻塞蓋 44:阻塞構造 46:溝 48:安裝部 50:第1立起部 50A:第1延伸部 50B:第2延伸部 52:第2立起部 52A:連接部 52B:第1傾斜部 52C,58:第2傾斜部 52D、59:屈折部 53:屈折點 54:相對壁 56:突起 60:第1壁部 62:第2壁部 64:底壁 65:第4壁部 66,67:前端 68A,68B:引導線 70,76:突出凸緣孔 72,74:間隙 C,D1,D2,X:方向 P1:第1位置 P2:第2位置 S1,S2,S3:間隙 W1,W2,W3:寬度 X1:間隔 Y1:後側 Y2:前側

圖1是實施形態中的加熱調理器的立體圖。 圖2是實施形態中的加熱調理器的立體圖。 圖3是從正面觀看實施形態中的加熱室的示意圖。 圖4是實施形態中的加熱室的下壁的平面圖。 圖5是實施形態中的選單顯示部的局部放大圖。 圖6是實施形態中的門的正面圖。 圖7是實施形態中的門的背面圖。 圖8是圖7的A-A截面圖。 圖9A是顯示實施形態中的墊件(gasket)之一狀態的截面圖(門的開放狀態)。 圖9B是顯示實施形態中的墊件之一狀態的截面圖(門被關閉途中的狀態)。 圖9C是顯示實施形態中的墊件之一狀態的截面圖(門被關閉後的狀態)。 圖10是變形例中的墊件的截面圖。 圖11是其他變形例中的墊件的截面圖。 圖12是包含實施形態中的側壁、下壁、及支撐壁的截面圖。 圖13是顯示已載置了實施形態中的下壁之狀態的支撐壁的平面圖。 圖14A是實施形態中的接著部之周邊的放大截面圖(左側)。 圖14B是實施形態中的接著部之周邊的放大截面圖(左側)。 圖14C是實施形態中的接著部之周邊的放大截面圖(左側)。 圖15是實施形態中的接著部之周邊的放大截面圖(右側)。 圖16是實施形態中的接著部之周邊的放大截面圖(前側)。

4:加熱室

12A,12B:側壁

16:下壁

17:支撐壁

19:供電室

21A,21B:接著部

60:第1壁部

62:第2壁部

64:底壁

X:方向

X1:間隔

Claims (3)

1. 一種加熱調理器，具備： 殼體，藉由一對左右側壁、上壁、下壁、及後壁來形成容置被加熱物之加熱室，且前述左右側壁與前述下壁在左右方向上空出間隔而設置； 支撐壁，具有：第1壁部、第2壁部、及底壁，前述第1壁部從下方支撐前述左右側壁，並從下方對前述左右側壁接合，前述第2壁部在平面視角下，於前述第1壁部之內側中向下方凹陷，並承接前述下壁，前述底壁在平面視角下，於前述第2壁部之內側中向下方凹陷，並在與前述下壁之間形成供電室；及 接著部，接著前述下壁之外周緣部與前述支撐壁， 前述接著部在左右分別具有從前述下壁之前述外周緣部延伸至前述左右側壁與前述第1壁部之間的間隙為止的區域，來作為第1區域、第2區域。
2. 如請求項1之加熱調理器，其中前述接著部更具有在左右方向上延伸以連接前述第1區域與前述第2區域的第3區域， 前述第1區域之寬度及前述第2區域之寬度比前述第3區域之寬度更長。
3. 如請求項1或2之加熱調理器，其在前述第1壁部之表面，描繪有引導前述接著部之塗佈區域的引導線。

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