TW202032232A - 顯示基板、顯示面板以及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明關於一種顯示基板、顯示面板以及顯示裝置。顯示基板包括襯底層,襯底層包括相互連接的第一襯底部以及第二襯底部,第一襯底部的材料為第一襯底材料,且所述第一襯底部被配置為與光敏元件相對設置,第二襯底部部的材料為第二襯底材料,第一襯底材料的透光率大於或等於閾值透光率,第二襯底材料的透光率小於閾值透光率。
Description
本發明關於顯示技術領域,特別是關於一種顯示基板、顯示面板以及顯示裝置。
近年來,全螢幕技術興起。全螢幕的顯示裝置看上去更有科技感,並且機身正面的同樣面積可以容納更大的螢幕,對於視覺體驗有著顯著的提升。因此,其受到各大廠商的重視。
同時,全螢幕的顯示裝置(例如手機等)上通常還需要設有鏡頭等光敏元件。為了保證光敏元件可以進行正常工作,需要有足夠的光線進入光敏元件。
顯示裝置包括顯示面板。顯示面板通常是在顯示基板的基礎之上加工而成。用於製作柔性顯示面板的顯示基板通常包括支撑基底以及形成於支撑基底之上的柔性襯底層等,支撑基底在形成顯示面板後被剝離去除掉。如何使顯示基板適應全螢幕的需求,是目前急需解决的問題。
基於此,有必要提供一種顯示基板、顯示面板以及顯示裝置。
一種顯示基板,包括襯底層,所述襯底層包括相互連接的第一襯底部以及第二襯底部,所述第一襯底部的材料為第一襯底材料,且所述第一襯底部被配置為與光敏元件相對設置,所述第二襯底部的材料為第二襯底材料,所述第一襯底材料的透光率大於或等於閾值透光率,所述第二襯底材料的透光率小於所述閾值透光率。
一種顯示面板,包括襯底層,所述襯底層包括相互連接的第一襯底部以及第二襯底部,所述第一襯底部的材料為第一襯底材料,且所述第一襯底部被配置為與光敏元件相對設置,所述第二襯底部的材料為第二襯底材料,所述第一襯底材料的透光率大於或等於閾值透光率,所述第二襯底材料的透光率小於所述閾值透光率;以及發光組件,所述發光組件形成於所述襯底層遠離所述光敏元件的一側,且包括第一像素區和第二像素區,所述第一像素區設置於所述第一襯底部遠離所述光敏元件的一側,所述第二像素區設置於所述第二襯底部遠離所述光敏元件的一側。
一種顯示裝置,包括光敏元件以及上述的顯示面板,所述光敏元件與所述第一襯底部相對設置。
本發明提供的顯示基板包括襯底層,襯底層包括相互連接的第一襯底部以及第二襯底部。第一襯底部被配置為與光敏元件相對設置,且採用第一襯底材料,第二襯底部採用第二襯底材料。第一襯底材料的透光率大於等於閾值透光率,所以第一襯底部透光率比較大。利用本發明顯示基板加工形成的顯示面板,在第一襯底部對應的區域在可以進行正常顯示的同時,還可以透過足夠的光線使得光敏元件可以經由採集第一襯底部透過的光線而進行正常工作。
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合圖式及實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,並不用於限定本發明。
參考圖1,本發明提供了一種顯示裝置,包括光敏元件100以及顯示面板200。顯示裝置可以為手機等。光敏元件100可以為鏡頭和/或指紋感測器等。
顯示面板200包括發光組件210以及襯底層221。
襯底層221包括相互連接的第一襯底部2211和第二襯底部2212。發光組件210形成於襯底層221的上方。並且,發光組件210可以包括第一像素區和第二像素區。第一像素區設置於第一襯底部2211上方,第二像素區設置於第二襯底部2212上方。所以,顯示面板在第一襯底部2211對應的區域以及第二襯底部2212對應的區域均可以進行正常顯示。
具體地,發光組件210可以為有機發光組件,其可以具有陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、有機發光層、電子傳輸層以及電子注入層等。當然,發光組件210也可以為無機發光組件,本發明對此並沒有限制。
第一襯底部2211與光敏元件100相對設置。第一襯底部2211的材料為第一襯底材料,第二襯底部2212的材料為第二襯底材料。即第一襯底部2211與第二襯底部2212採用不同的材料。這裏,不同的材料指的是材料的組分不同,或者材料的比例不同,或者材料的組分和比例均不同。
第一襯底材料的透光率大於或等於閾值透光率,第二襯底材料的透光率小於閾值透光率。在本發明中,某種材料的閾值透光率是指該材料在特定厚度下,使得具有特定波長的光具有符合實際需求的光的穿透率。例如,某種材料的閾值透光率為80%,是指在該材料在10 μm厚度下,使得大於400 nm的光具有80%的透過率。也就是說,第一襯底材料和第二襯底材料的透光率與閾值透光率的關係是在相同的厚度條件和波長條件下進行比較而得到。
可選的,襯底層221各處的厚度相同。即第一襯底部2211與第二襯底部2212的厚度相同。
因此,顯示面板在第一襯底部2211對應的區域在可以進行正常顯示的同時,還可以透過足夠的光線使得光敏元件100可以通過採集從第一襯底部2211透過的光線而進行正常工作。
可選的,參考圖2,提供一種顯示基板220,用於加工形成上述顯示面板200。顯示基板220可以為陣列基板等。
顯示基板220包括襯底層221。襯底層221包括相互連接的第一襯底部2211以及第二襯底部2212。第一襯底部2211用於與光敏元件100相對設置。第一襯底部2211的材料為第一襯底材料,第二襯底部2212的材料為第二襯底材料。第一襯底材料的透光率大於或等於閾值透光率,第二襯底材料的透光率小於閾值透光率。
可選的,第一襯底材料可以選擇為透明聚醯亞胺,即透明PI。第二襯底材料可以為黃色聚醯亞胺,即黃色PI。透明PI與黃色PI由於分子結構不同,因此具有不同的透光性能。
將第一襯底部2211的第一襯底材料選擇透明PI,而第二襯底部2212的第二襯底材料選擇黃色PI,從而可以方便地實現第一襯底材料的透光率大於或等於閾值透光率,且第二襯底材料的透光率小於閾值透光率。當然,第一襯底材料和/或第二襯底材料也可以為其他柔性或者硬性材料,本發明對此沒有限制。
第一襯底材料(例如透明PI)的透光率大於或等於閾值透光率,所以第一襯底部2211透光率比較大。因此,利用本發明的顯示基板加工形成的顯示面板,在第一襯底部2211對應的區域在可以進行正常顯示的同時,還可以透過足夠的光線使得光敏元件100可以通過採集從第一襯底部2211透過的光線而進行正常工作。即,本發明的顯示基板可以良好地適應全螢幕的需求。
可選的,第二襯底材料(例如黃色PI)的透光率小於閾值透光率。透光率比較小的材料通常具有良好的熱學性能,例如其熱膨脹係數較小、熱分解溫度較高。例如,黃色PI可以在約500℃的溫度下進行加工而不會分解。但是,透明PI只能在390℃的溫度以下進行加工才不會分解,而大於390℃時,透明PI則很有可能分解。所以,材料為第二襯底材料的第二襯底部2212的生産穩定性更高,進而可以提高顯示面板的生産穩定性。
透光率比較小的材料通常還具有良好的機械性能,例如其拉伸强度高、楊氏模數大。所以,材料為第二襯底材料的第二襯底部2212可以有效提高顯示面板的信賴性(例如抗彎折性等等)。
可選的,繼續參考圖2,襯底層221的材料為柔性材料。顯示基板220還包括支撑基底222以及犧牲層223。支撑基底222可以為玻璃基底等剛性基底。犧牲層223由同一材料形成且形成在支撑基底222上。襯底層221形成在犧牲層223上。
當襯底層221的材料為柔性材料時,為了便於後續在襯底層221上進行加工,通常使其製備在具有一定强度的支撑基底222(例如玻璃基板)上。然後再在襯底層221上沉積各功能膜層,以便於後續形成顯示面板200。最後,再通過激光剝離工藝(LLO,laser lift off)將支撑基底222剝離,從而完成柔性顯示面板200的製作。
可選的,首先在支撑基底222上形成了犧牲層223,然後再在犧牲層223上形成柔性的襯底層221。在最後進行激光剝離時,由於犧牲層223由同種材料形成,相同功率的紫外激光可以從支撑基底222的背面照射到犧牲層223上,使得犧牲層223各處的分子結構被均勻地破壞,從而均勻地將襯底層221與支撑基底222剝離開。
可選的,可以設置犧牲層223的厚度小於閾值厚度。這裏的「閾值厚度」,是指將襯底層221與支撑基底222剝離開後,襯底層221上不會留有犧牲層223材料,或者留有很少的犧牲層223材料而不會影響最終形成的顯示面板200的柔韌性以及剝離後的顯示基板220的透光性等。具體可以根據實際需求進行設置。例如,可以設置閾值厚度為50 nm。
可選的,犧牲層223的材料並不做過多限制。例如,其可以為通過物理氣相沉積法(PVD)或者化學氣相沉積法(CVD)等方法形成的非晶矽(a-Si)、氧化銦錫(ITO)等材料。或者,犧牲層223的材料也可以為經由塗布等方法形成的矽系有機薄膜層等。只要犧牲層223的材料的分子結構能夠在紫外激光照射下被破壞而使襯底層221與支撑基底222分離即可。
可選的,襯底層221的材料也可以為硬性材料。此時,顯示基板220也可以不包括支撑基底222以及犧牲層223。
可選的,參考圖1或圖2,顯示基板220還包括驅動電路層224。驅動電路層224用於驅動發光組件210工作,且驅動電路層224設置在發光組件210與襯底層221之間。
驅動電路層224包括第一電路部2241以及第二電路部2242。第一電路部2241位於第一襯底部2211上方,第二電路部2242位於第二襯底部2212上方。
本發明設置第一電路部2241的透光率大於第二電路部2242的透光率。因此,第一電路部2241可以透過更多的光線,進而有利於使得光敏元件100進行正常工作。
可選的,第一電路部2241可包括一個或者一個以上第一走線層。其中,至少一個第一走線層的材料為透明導電材料(例如氧化銦鋅(IZO)、氧化銦錫(ITO) 等),進而使得第一電路部2241具有較大的透光率。
可選的,第二電路部2242包括一個或者一個以上第二走線層,各第二走線層的材料均包括金屬,進而使得第二電路部2242具有較小的透光率。具體地,任意一個第二走線層均可以為一種金屬膜層[例如鋁(Al)、鈦(Ti)、鉬(Mo)、銀(Ag)]、或者多種金屬膜層形成的複合膜層(例如Mo/Al/Mo、Mo/Al/Mo)、或者金屬膜層與透明導電膜層形成的複合膜層(例如Ag/ITO/Ag)等,可以使得第二電路部2242的第二走線層的導電性能良好。
金屬材料相對於透明導電材料也可以使得驅動電路層224的驅動單元[例如薄膜晶體管(TFT)]的載流子遷移率、閥值電壓、漏電流等性能均有所提高。
可選的,第一電路部2241以及第二電路部2242也可以採用相同的材料,本發明對此並沒有限制。
可選的,設置第一電路部2241的電路密度小於第二電路部2242的電路密度。此時,第一電路部2241的結構相對於第二電路部2242的結構更簡單,因此便於使得第一電路部2241的透光率大於第二電路部2242的透光率。
具體地,可以設置第一電路部2241為被動式驅動電路而對其上方的發光組件210進行驅動,而第二電路部2242為主動式驅動電路而對其上方的發光組件210進行驅動。
可選的,為了使得第一電路部2241以及第二電路部2242上方的發光組件210具有均勻的顯示效果,還可以在第二電路部2242設置有第一電路部2241的調節電路,用於對第一電路部2241上的訊號達到調節補償的作用。或者,也可以在顯示面板220的驅動晶片內設置調節模組,對第一電路部2241上的訊號達到調節補償的作用。
可選的,當顯示基板220的襯底層221的材料為柔性材料,且顯示基板220包括驅動電路層224時,顯示基板220的製作方法,可以包括步驟S11至S13:
步驟S11,在支撑基底222上形成犧牲層223,參考圖3A。
犧牲層223由同一材料形成,且厚度小於閾值厚度。
步驟S12,在犧牲層223上形成襯底層221,參考圖3B。
首先,可以經由塗布等方式在犧牲層223上形成第二襯底部2212,第二襯底部2212具體可以為黃色PI,並經過熱真空乾燥設備(HVCD)乾燥。此時,犧牲層223上還預留出部分區域不塗覆第二襯底部2212。
然後,使用塗布或噴墨打印(IJP)的方法,在犧牲層223上的預留區域形成第一襯底部2211,然後進行高溫固化。第一襯底部2211具體可以為透明PI膜層。第一襯底部2211與第二襯底部2212共同組成襯底層221。
步驟S13,在襯底層221上形成驅動電路層224,參考圖3C。
首先,可以在第二襯底部2212上方形成第二電路部2242。第二電路部2242可以包括一個或者一個以上金屬材料形成的第二走線層。然後,再在第一襯底部2211上形成第一電路部2241。第一電路部2241可以包括一個或者一個以上透明導電材料(例如IZO、ITO等)形成的第一走線層。第一電路部2241與第二電路部2242共同組成驅動電路層224。
可選的,本步驟第一襯底部2211與第二襯底部2212上的驅動電路層224也可以採用相同的材料,且在相同的製作過程之中同時形成,進而簡化製作過程。
可選的,當顯示基板220的襯底層221的材料為柔性材料,且顯示基板220包括驅動電路層224時,顯示基板220的製作方法,也可以包括步驟S21至S23:
步驟S21,在支撑基底222上形成犧牲層223,參考圖4A。
犧牲層223由同一材料形成,且厚度小於閾值厚度。
步驟S22,在犧牲層223上形成第二襯底部2212,且在第二襯底部2212上形成第二電路部2242,參考圖4B。
首先,可以經由塗布等方式在犧牲層223上形成第二襯底部2212,並經過熱真空乾燥設備(HVCD)乾燥。第二襯底部2212具體可以為黃色PI。此時,犧牲層223上還預留出部分區域不塗覆第二襯底部2212。
然後,在第二襯底部2212上形成第二電路部2242。第二電路部2242可以包括一個或者一個以上金屬材料形成的第二走線層。
步驟S23,在犧牲層223上形成第一襯底部2211,且在第一襯底部2211上形成第一電路部2241,參考圖4C。
首先,使用塗布或噴墨打印(IJP)的方法,在犧牲層223上的預留區域形成第一襯底部2211,然後進行高溫固化。第一襯底部2211具體可以為透明PI膜層。第一襯底部2211與第二襯底部2212共同組成襯底層221。
之後,在第一襯底部2211上形成第一電路部2241。第一電路部2241可以包括一個或者一個以上透明導電材料(例如IZO、ITO等)形成的第一走線層。第一電路部2241與第二電路部2242共同組成驅動電路層224。
透光率相近的膜層可以具有類似的製程加工溫度。具有較小透光率的第二襯底部2212與第二電路部2242均形成之後,再形成較大透光率的第一襯底部2211與第一電路部2241。
因此,可以經由合適的材料的選擇,使得顯示基板220的第一襯底部2211對應的區域的各膜層選擇在相近似的溫度(例如390℃-400℃)下進行加工,而第二襯底部2212對應的區域的各膜層選擇相近似的溫度(例如450℃-500℃)下進行加工。此時,有利於製程條件穩定性控制。
驅動電路層224除了包括走線層以外,還可以包括半導體活性層。此時,為了使得顯示基板220的第一襯底部2211對應的區域的各膜層在近似的溫度下加工,第二襯底部2212對應的區域的各膜層在近似的溫度下加工,可以選擇第一襯底部2211對應的區域的活性層材料為氧化銦鎵鋅(IGZO),第二襯底部2212對應的區域的活性層材料為低溫多晶矽(LTPS)。
第二襯底部2212對應的區域在相對較高溫度下進行加工,也有利於驅動電路層224的驅動單元[(例如薄膜晶體管(TFT)]的載流子遷移率、閥值電壓、漏電流等性能的提高。
利用上述實施例的方法製作的顯示基板220製作形成顯示面板200,可以包括下述步驟:
步驟S4,在驅動電路層224上形成發光組件210,參考圖5。
步驟S5,將支撑基底222與襯底層221相互剝離,參考圖6。
以上所述實施例僅表達了本發明的幾種實施方式,其描述較為具體和詳細,但並不能因此而理解為對本發明專利範圍的限制。應當指出的是,對於本領域具有通常知識者來說,在不脫離本發明構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬本發明的保護範圍。因此,本發明專利的保護範圍應以所附申請專利範圍為準。
100:光敏元件
200:顯示面板
210:發光組件
220:顯示基板
221:襯底層
2211:第一襯底部
2212:第二襯底部
222:支撐基底
223:犧牲層
224:驅動電路層
2241:第一電路部
2242:第二電路部
為了更清楚地說明本發明實施,下面將對實施例中所使用的圖式作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的圖面僅僅是本發明的實施例的示意圖,對於本領域具有通常知識者來說,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據提供的圖面獲得其它的圖面。
圖1為一個實施例中的顯示裝置示意圖。
圖2為一個實施例中的顯示基板示意圖。
圖3A-圖3C為一個實施例中的顯示基板製作過程結構示意圖。
圖4A-圖4C為另一個實施例中的顯示基板製作過程結構示意圖。
圖5-圖6為一個實施例中的顯示面板製作過程結構示意圖。
100:光敏元件
200:顯示面板
210:發光組件
221:襯底層
2211:第一襯底部
2212:第二襯底部
224:驅動電路層
2241:第一電路部
2242:第二電路部
Claims (10)
- 一種顯示基板,包括: 一襯底層,所述襯底層包括相互連接的一第一襯底部以及一第二襯底部,所述第一襯底部的材料為一第一襯底材料,且所述第一襯底部被配置為與一光敏元件相對設置;所述第二襯底部的材料為一第二襯底材料,所述第一襯底材料的透光率大於或等於一閾值透光率,所述第二襯底材料的透光率小於所述閾值透光率。
- 如請求項1所述之顯示基板,其中,所述襯底層的材料為一柔性材料,所述顯示基板還包括一支撑基底以及一犧牲層,所述犧牲層由同一材料形成且形成在所述支撑基底上,所述襯底層形成在所述犧牲層上。
- 如請求項2所述之顯示基板,其中,所述犧牲層的厚度小於或等於一閾值厚度。
- 如請求項1所述之顯示基板,其中,所述第一襯底材料為透明聚醯亞胺,第二襯底材料為黃色聚醯亞胺。
- 如請求項1至4中任一項所述之顯示基板,其中,所述顯示基板還包括一驅動電路層,所述驅動電路層包括一第一電路部以及一第二電路部,所述第一電路部位於所述第一襯底部遠離所述光敏元件的一側,所述第二電路部位於所述第二襯底部遠離所述光敏元件的一側,所述第一電路部的透光率大於所述第二電路部的透光率。
- 如請求項5所述之顯示基板,其中,所述第一電路部包括至少一個第一走線層,至少一個所述第一走線層的材料為一透明導電材料。
- 如請求項5或6所述之顯示基板,其中,所述第二電路部包括至少一個第二走線層,各所述第二走線層的材料均包括金屬。
- 如請求項7所述之顯示基板,其中,所述第一電路部的電路密度小於所述第二電路部的電路密度。
- 一種顯示面板,包括: 一襯底層,所述襯底層包括相互連接的一第一襯底部以及一第二襯底部,所述第一襯底部的材料為一第一襯底材料,且所述第一襯底部被配置為與一光敏元件相對設置,所述第二襯底部的材料為一第二襯底材料,所述第一襯底材料的透光率大於或等於一閾值透光率,所述第二襯底材料的透光率小於所述閾值透光率;以及 一發光組件,所述發光組件形成於所述襯底層遠離所述光敏元件的一側,且包括一第一像素區和一第二像素區,所述第一像素區設置於所述第一襯底部遠離所述光敏元件的一側,所述第二像素區設置於所述第二襯底部遠離所述光敏元件的一側。
- 一種顯示裝置,其包括 一光敏元件以及一顯示面板,所述顯示面板包括: 一襯底層,所述襯底層包括相互連接的一第一襯底部以及一第二襯底部,所述第一襯底部的材料為一第一襯底材料,且所述第一襯底部被配置為與所述光敏元件相對設置,所述第二襯底部的材料為一第二襯底材料,所述第一襯底材料的透光率大於或等於一閾值透光率,所述第二襯底材料的透光率小於所述閾值透光率;以及 一發光組件,所述發光組件形成於所述襯底層遠離所述光敏元件的一側,且包括一第一像素區和一第二像素區,所述第一像素區設置於所述第一襯底部遠離所述光敏元件的一側,所述第二像素區設置於所述第二襯底部遠離所述光敏元件的一側。
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