TW202017953A - 樹脂及黏著劑組成物 - Google Patents
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- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本發明提供一種含有具有吲哚結構的結構單元的樹脂(A)。樹脂(A)較佳為在側鏈具有吲哚結構的結構單元的樹脂,玻璃轉移溫度較佳為40℃以下。再者,樹脂(A)較佳為滿足下述式(1)的樹脂。
ε(405)≧0.02 (1)
[式(1)中,ε(405)表示在波長405nm的樹脂(A)的克吸光係數;克吸光係數的單位為L/(g‧cm)]。
Description
本發明係關於樹脂、包含該樹脂的黏著劑組成物以及由該黏著劑組成物形成的黏著劑層所積層的光學積層體。
有機電激發光顯示器(有機EL顯示裝置)、液晶顯示裝置等顯示裝置(EPD:平面面板顯示器)中使用有機EL元件、液晶胞等顯示元件或偏光板等光學膜等的各種構件。該等構件中,由於有機EL發光元件及液晶化合物等為有機物,而容易產生因紫外線(UV)而劣化的問題。再者,已知使聚合性液晶化合物配向、光硬化而成的液晶系相位差膜及有機EL發光元件,不僅因紫外線劣化,更有在短波長的可見光中也劣化的傾向。為了解決前述課題,已知有設置含有吸收短波長的可見光的光之化合物的層。例如,在專利文獻1中,記載附有由黏著劑組成物所形成的黏著劑層的偏光板,該黏著劑組成物包含由丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-羥基乙酯及N,N-二甲基丙烯醯胺所形成的共聚物及吲哚系紫外線吸收劑。
[專利文獻1]日本特開2017-48340號公報
然而,將專利文獻1記載的包含紫外線吸收劑的黏著劑層作為光學積層體時,雖然可能抑制因紫外線、短波長的可見光造成的劣化,惟,已明白產生了因紫外線吸收劑遷移至其他層而損害光學特性的其他問題。其中,得知在具有液晶系相位差膜的積層體中,因紫外線吸收劑遷移至其他層導致的光學特性降低(相位差值的變化)變得顯著。
本發明包含下述的發明。
[1]一種樹脂,其係含有具有吲哚結構的結構單元的樹脂(A)。
[2]如[1]記載的樹脂,其中,樹脂(A)的玻璃轉移溫度為40℃以下。
[3]如[1]或[2]記載的樹脂,其中,樹脂(A)是滿足下述式(1)的樹脂,
ε(405)≧0.02 (1)
[式(1)中,ε(405)表示在波長405nm的樹脂(A)的克吸光係數,克吸光係數的單位為L/(g‧cm)]。
[4]如[1]至[3]中任一項記載的樹脂,其中,樹脂(A)是滿足下述式(2)的樹脂,
ε(405)/ε(440)≧5 (2)
[式(2)中,ε(405)表示在波長405nm的樹脂(A)的克吸光係數,ε(440)表示在波長440nm的樹脂的克吸光係數]。
[5]如[1]至[4]中任一項記載的樹脂,其中,樹脂(A)為包含在側鏈具有吲哚結構的結構單元的樹脂。
[6]如[5]記載的樹脂,其中,在側鏈具有吲哚結構的結構單元係源自具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物的結構單元。
[7]如[6]記載的樹脂,其中,具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物為滿足下述式(1-a)的化合物,
ε(405)≧5 (1-a)
[式(1-a)中,ε(405)表示在波長405nm的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數,克吸光係數的單位為L/(g‧cm)]。
[8]如[7]記載的樹脂,其中,具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物為滿足下述式(2-a)的化合物;
ε(405)/ε(440)≧10 (2-a)
[式(2-a)中,ε(405)表示在波長405nm的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數,ε(440)表示在波長440nm的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數]。
[9]如[5]記載的樹脂,其中,在側鏈具有吲哚結構的結構單元係源自式(I)表示的化合物的結構單元或源自式(II)表示的化合物的結構單元;
[式(I)中,R1、R2、R3、R4、R5及R6分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR1A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
R1A表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;
E1表示吸電子基(Electron withdrawing group);
Z表示連結基;
A表示聚合性基;
式(II)中,R12及R17分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-,可被-NR11A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
R11、R13、R14、R15及R16分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、包含聚合性基的基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
惟,R11、R13、R14、R15及R16中至少-者表示包含聚合性基的基;
R11A及R12A分別獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;
E11表示吸電子基]。
[10]如[9]記載的樹脂,其中,R2為苯基。
[11]如[9]記載的樹脂,其中,式(I)表示的化合物為式(III)表示的化合物;
[R1、R3、R4、R5、R6及E1表示與上述相同意義;
R7表示氫原子、甲基或苯基;
Z1表示碳數1至12的烷二基、碳數6至18的2價芳香族烴基、-O-R2A-*1、-S-R2B-*1或-NR1D-R2C-*1;
Z2表示單鍵、*2-CO-O-、*2-O-CO-、*2-S(=O)2-、*2-O-SO2-、*2-CO-NR1B-、*2-NR1C-CO-、*2-R2DO-P(=O)-OR2E-、*2-NR1E-CO-O-、*2-O-CO-NR1F-、*2-(OR2F)s1-、*2-CO-S-、*2-S-CO-或碳數1至4的全氟烷二基;
R1B、R1C、R1D、R1E及R1F分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基;
R2A、R2B、R2C、R2D、R2E及R2F分別獨立地表示碳數1至18的2價烴基;
*1表示與Z2的鍵結鍵;
*2表示與Z1的鍵結鍵]。
[12]如[1]至[11]中任一項記載的樹脂,其中,樹脂(A)更具有選自下述群A記載的結構單元中的至少1個結構單元;
群A:源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元、源自苯乙烯系單體的結構單元、源自乙烯系單體的結構單元、源自環氧化合物的結構單元、式(a)表示的結構單元、式(b)表示的結構單元及式(c)表示的結構單元;
[式中,Ra1表示2價烴基;
Rb1及Rb2分別獨立地表示氫原子或烴基;
Rc1及Rc2分別獨立地表示2價烴基]。
[13]如[12]記載的樹脂,其中,相對於樹脂(A)的全部結構單元,來自選自群A記載的結構單元中的至少1個結構單元的含量為50質量%以上。
[14]一種黏著劑組成物,該黏著劑組成物包含[1]至[13]中任一項記載的樹脂。
[15]如[14]記載的黏著劑組成物,該黏著劑組成物更包含交聯劑(B)。
[16]一種黏著劑層,該黏著劑層係由[14]或[15]記載的黏著劑組成物所形成者。
[17]如[16]記載的黏著劑層,該黏著劑層係滿足下述式(3)的黏著劑層,
A(405)≧0.5 (3)
[式(3)中,A(405)表示在波長405nm中的吸光度]。
[18]如[17]記載的黏著劑層,該黏著劑層滿足下述式(4),
A(405)/A(440)≧5 (4)
[式(4)中,A(405)表示在波長405nm中的吸光度;A(440)表示在波長440nm中的吸光度]。
[19]一種光學積層體,該光學積層體在[16]至[18]中任一項記載的黏著劑層的至少一面積層光學膜。
[20]如[19]記載的光學積層體,其中,光學膜為偏光板。
[21]一種影像顯示裝置,該影像顯示裝置包含[20]記載的光學積層體。
[22]一種化合物,該化合物係式(I)或式(IV)表示者,
[式(I)中,R1、R2、R3、R4、R5及R6分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR1A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
R1A表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;
E1表示吸電子基;
Z表示連結基;
A表示聚合性基;
式(IV)中,R12及R17分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取
代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR11A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
R11、R13、R14、R15及R16,分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、包含聚合性基的基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-,可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
惟,R11、R13、R14、R15及R16中至少一者表示包含聚合性基的基;
R11A及R12A分別獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;
E11表示吸電子基]。
[23]如[22]記載的化合物,其中,R2為苯基。
[24]如[22]記載的化合物,其中,式(I)表示的化合物為式(III)表示的化合物;
[R1、R3、R4、R5、R6及E1表示與上述相同意義;
R7表示氫原子、氰基、甲基或苯基;
Z1表示碳數1至12的烷二基、碳數6至18的2價芳香族烴基、-O-R2A-*1、-S-R2B-*1或-NR1D-R2C-*1;
Z2表示單鍵、*2-CO-O-、*2-O-CO-、*2-S(=O)2-、*2-O-SO2-、*2-CO-NR1B-、*2-NR1C-CO-、*2-R2DO-P(=O)-OR2E-、*2-NR1E-CO-O-、*2-O-CO-NR1F-、*2-(OR2F)s1-、*2-CO-S-、*2-S-CO-或碳數1至4的全氟烷二基;
R1B、R1C、R1D、R1E及R1F分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基;
R2A、R2B、R2C、R2D、R2E及R2F分別獨立地表示碳數1至18的2價烴基;
*1表示與Z2的鍵結鍵;
*2表示與Z1的鍵結鍵]。
[25]如[22]至[24]中任一項記載的化合物,其中,E1為氰基。
本發明係提供一種可抑制有機EL發光元件及液晶系相位差膜的劣化之黏著劑層及形成該黏著劑層的黏著劑組成物。再者,提供一種可形成可良好地抑制有機EL發光元件及液晶系相位差膜的劣化的黏著劑組成物之樹脂。
1‧‧‧黏著劑層
2‧‧‧剝離膜
10A、10B、10C、10D‧‧‧光學積層體
8‧‧‧保護膜
7‧‧‧接著劑層
7a‧‧‧黏著劑層
9‧‧‧偏光膜
30‧‧‧發光元件
40‧‧‧光學膜
50、50a‧‧‧1/4波長相位差層
60‧‧‧接著劑層或黏著劑層
70‧‧‧1/2波長相位差層
80‧‧‧正C層
100‧‧‧偏光板
110‧‧‧相位差膜
第1圖係表示本發明的黏著劑層的層構成之一例。
第2圖係表示本發明的光學積層體的層構成之一例。
第3圖係表示本發明的光學積層體的層構成之一例。
第4圖係表示本發明的光學積層體的層構成之一例。
第5圖係表示本發明的光學積層體的層構成之一例。
〈黏著劑組成物〉
本發明的黏著劑組成物包含樹脂(A),該樹脂(A)含有具有吲哚結構的結構單元。本發明的黏著劑組成物更包含交聯劑(B)、矽烷化合物(D)、抗靜電劑等。
〈樹脂(A)〉
本發明的樹脂(A)係含有具有吲哚結構的結構單元的樹脂,較理想為含有源自具有吲哚結構的光選擇性吸收化合物的結構單元的樹脂。
樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)較理想為40℃以下,更理想為20℃以下,更加理想為10℃以下,特別理想為0℃以下。再者,樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)通常為-80℃以上,較理想為-60℃以上,更理想為-50℃以上。樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)為40℃以下時,在提升由包含樹脂(A)的黏著劑組成物所形成的黏著劑層對被黏著體的密著性上有利。再者,樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)為-80℃以上時,在提升由包含樹脂(A)的黏著劑組成物所形成的黏著劑層的耐熱性上有利。此外,玻璃轉移溫度可藉由示差掃描量熱計(DSC)測定。
樹脂(A)較理想為滿足下述式(1)的樹脂。
ε(405)≧0.02 (1)
[式(1)中,ε(405)表示在波長405nm的樹脂的克吸光係數;克吸光係數的單位為L/(g‧cm)]。
此外,樹脂(A)的克吸光係數可用實施例記載的方法測定。
樹脂(A)之ε(405)的值越大越容易吸收波長405nm的光。ε(405)的值較理想為0.02L/(g‧cm)以上,更理想為0.1L/(g‧cm)以上,更加理想為0.2L/(g‧cm)以上,通常為10L/(g‧cm)以下。
將包含樹脂(A)的黏著劑組成物應用於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置時,樹脂(A)的ε(405)為0.02L/(g‧cm)以上時,由於400nm附近的可見光的吸收性能好,可抑制有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置所使用的相位差膜、有機EL發光元件因可見光導致的劣化。
樹脂(A)較理想為滿足下述式(2)的樹脂。
ε(405)/ε(440)≧5 (2)
[式(2)中,ε(405)表示在波長405nm的樹脂的克吸光係數,ε(440)表示在波長440nm的樹脂的克吸光係數]。
樹脂(A)的ε(405)/ε(440)的值越大,越可選擇性地吸收400nm附近波長的光。ε(405)/ε(440)的值較理想為5以上,更理想為10以上,更加理想為30以上。
樹脂(A)的ε(405)/ε(440)為5以上時,將含有樹脂(A)的黏著劑組成物應用於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置時,不阻礙顯示裝置的色彩表現,且可吸收400nm附近的可見光抑制相位差膜的光劣化。
樹脂(A)可含有在主鏈具有吲哚結構的結構單元,亦可含有在側鏈具有吲哚結構的結構單元。樹脂(A)較理想為含有在側鏈具有吲哚結構的結構單元。
側鏈具有吲哚結構的結構單元無特別限制,較理想為源自具有聚合性基及吲哚結構的化合物的結構單元。源自具有聚合性基及吲哚結構的化合物的結構單元較理想為源自具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物的結構單元。
具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物較理想為滿足下述式(1-a),又更理想為滿足下述式(2-a)。
ε(405)≧5 (1-a)
[式(1-a)中,ε(405)表示在波長405nm的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數,克吸光係數的單位為L/(g‧cm)]。
ε(405)/ε(440)≧10 (2-a)
[式(2-a)中,ε(405)表示在波長405nm中的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數,ε(440)表示在波長440nm中的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數]。
具有聚合性基及吲哚結構的化合物,ε(405)的值較理想為5L/(g‧cm)以上,更理想為10L/(g‧cm)以上,更加理想為20L/(g‧cm)以上,又更加理想為30L/(g‧cm)以上,通常為500L/(g‧cm)以下。ε(405)的值越大,越容易吸收波長405nm的光,容易表現抑制因紫外線、短波長導致的可見光的劣化之功能。
具有聚合性基及吲哚結構的化合物,ε(405)/ε(440)的值較理想為10以上,更理想為15以上。ε(405)/ε(440)的值越大的化合物,越不阻礙顯示裝置的色彩表現,可吸收波長405nm附近的光抑制相位差膜、有機EL元件等顯示裝置的光劣化。
在側鏈具有吲哚結構的結構單元較理想為源自式(I)表示的化合物的結構單元或源自式(II)表示的化合物的結構單元,更理想為源自式(I)表示的化合物的結構單元。
[式(I)中,R1、R2、R3、R4、R5及R6分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR1A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
R1A表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;
E1表示吸電子基;
Z表示連結基;
A表示聚合性基;
式(II)中,R12及R17分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取
代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR11A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
R11、R13、R14、R15及R16分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、包含聚合性基的基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;
惟,R11、R13、R14、R15及R16中至少一者表示包含聚合性基的基;
R11A及R12A分別獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;
E11表示吸電子基]。
E1及E11表示的吸電子基可列舉例如:氰基、硝基、鹵原子、經鹵原子取代的烷基、式(I-1)表示的基等。
*-X1-R111 (I-1)
[式中,R111表示氫原子或碳數1至25的烴基,該烷基所包含的亞甲基之至少一個可被氧原子取代。
X1表示-CO-*3、-COO-*3、-CS-*3、-CSS-*3、-CSNR112-*3、-CONR113-*3、-CNR114-*3或-SO2-*3。
R112、R113及R114分別獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基或苯基。
*3表示與R111的鍵結鍵。
*表示與碳原子的鍵結鍵。]
鹵原子可列舉例如:氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
經鹵原子取代的烷基可列舉例如:單氟甲基、單氟乙基、單氯甲基、單氯乙基、單溴甲基、單溴乙基、單碘甲基、單碘乙基、二氟甲基、二氟乙基、二氯甲基、二氯乙基、二溴甲基、二溴乙基、二碘甲基、二碘乙基、三氟甲基、三氯甲基、三溴甲基、三碘甲基的鹵化烷基等。經鹵原子取代的烷基的碳數通常為1至25。
R111表示的碳數1至25的烴基可列舉例如:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、異戊基、正己基、異己基、正辛基、異辛基、正壬基、異壬基、正癸基、異癸基、正十二烷基、異十二烷基、十一烷基、肉荳蔻基、十六烷基、硬脂基等碳數1至25的直鏈或分支鏈的烷基;環丙基、環丁基、環戊基、環己基等碳數3至25的環烷基;環丙基甲基、環己基甲基等碳數4至25的環烷基烷基;苯基、萘基、蒽基、聯苯基等碳數6至25的芳香基;苄基、苯基乙基、萘基甲基、苯基等碳數7至25的芳烷基。
R112、R113及R114表示的碳數1至6的烷基可列舉例如:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基等。
Z表示的連結基只要是2價的連結基,則無特別限制。
A表示的聚合性基無特別限制。例如,可為陽離子聚合性基,亦可為陰離子聚合性基,也可為自由基聚合性基。更具體而言,可列舉:乙烯基等烯基;環氧基;氧雜環丁烷基;乙烯醚基;丙烯腈基;甲基丙烯腈基;乙烯基、α-甲基乙烯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、烯丙基、苯乙烯基、丙烯醯胺基、甲基丙烯醯胺基等乙烯性不飽和基等。
R1至R6、R11至R17表示的鹵原子可列舉例如:氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
R1至R6、R11至R17表示的雜環基可舉出從雜環除去1個氫原子而成的基。具體而言,可列舉:吡咯啶環、吡咯啉環基、咪唑啉啶環基、咪唑啉環基、噁唑啉環基、噻唑啉環基、哌啶環基、嗎啉環基、哌環基、吲哚環基、異吲哚環基、喹啉環基、噻吩環基、吡咯環基、噻唑啉環基、呋喃環基、吡啶環基、二噁烷環基、嗎啉環基、噻環基、三唑環基、四唑環基、二氧呋喃環基、吡環基、嘌呤環基等碳數4至30的脂肪族雜環基或碳數3至20的芳香族雜環基等。該等的雜環基可為不飽和鍵經氫化的結構,又,也可為環狀骨架經縮環的結構(例如苯,並咪唑環)、雜環上的氫原子更經雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基等取代而成者。
R1至R6、R11至R17表示的碳數1至25的脂肪族烴基可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、異戊基、正己基、異己基、正辛基、異辛基、正壬基、異壬基、正癸基、異癸基、正十二烷基、異十二烷基、十一烷基、肉荳蔻基、十六烷基、硬脂基等碳數1至25的直鏈或分支鏈的烷基;環丙基、環丁基、環戊基、環己基等碳數3至25的環烷基;環丙基甲基、環己基甲基等碳數4至25的環烷基烷基等,從溶解性的觀點而言,較理想為2-乙基己基、2-丁基辛基等碳數3至25的分支鏈的烷基。
R1至R6、R11至R17表示的碳數1至25的脂肪族烴基可具有的取代基可列舉:雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、乙醯胺基、胺基、碳數1至12的烷基胺基等。雜環基可舉出與R1表示的雜環基相同者。
R1至R6、R11至R17表示的碳數6至18的芳香族烴基可列舉:苯基、萘基、蒽基、聯苯基、甲基苯基等碳數6至18的芳香基;苄基、苯乙基、萘甲基、苯氧基等碳數7至18的芳烷基等。R1至R6、R11至R17表示的碳數6至18的芳香族烴基所包含的-CH2-經-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代的基可列舉:苯氧基、萘氧基等芳香氧基等。從波長選擇性的觀點而言,R1至R6、R11至R17表示的碳數6至18的芳香族烴基較理想為碳數7至18的芳烷基或碳數6至18的芳香氧基,更理想為苄基或碳數6至18的芳香氧基。
R1至R6、R11至R17表示的碳數6至18的芳香族烴基可具有的取代基可列舉:雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、乙醯胺基、胺基、碳數1至12的烷基胺基等。雜環基可舉出與R1表示的雜環基相同者。
R11、R13、R14、R15及R16表示的包含聚合性基的基只要是末端具有聚合性基的基即可,無特別限制,具體而言,可舉出式(I-2)表示的基。
*-R115-X2 (I-2)
[式(I-2)中,X2表示聚合性基,
R115表示碳數1至12的烷二基,該烷二基所包含的-CH2-可被-O-、-CO-、-CS-或-NR116-取代,
R116表示氫原子或碳數1至6的烷基,
*表示與碳原子或氮原子的鍵結鍵]。
X2表示的聚合性基可舉出與A表示的聚合性基相同者,較理想為乙烯基、α-甲基乙烯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、烯丙基、苯乙烯基、丙烯醯胺基、甲基丙烯醯胺基等乙烯性不飽和基等。
Rl15表示的碳數1至12的烷二基可列舉:亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基及2-甲基丁烷-1,4-二基等。
R116表示的碳數1至6的烷基可舉出與R112表示的碳數1至6的烷基相同者。
R11、R13、R14、R15及R16中至少一者表示包含聚合性基的基。
較理想為R13、R14、R15及R16中至少一者為包含聚合性基的基,更理想為R13、R14、R15或R16中之任一者為包含聚合性基的基。
R2較理想為碳數6至18的芳香族烴基或雜環基,更理想為碳數6至18的芳香族烴基或碳數3至20的芳香族雜環基。
A表示的聚合性基,較理想為乙烯性不飽和基。
E1及E11較理想為分別獨立地為氰基。
式(I)表示的化合物較理想為式(III)表示的化合物。
[R1、R3、R4、R5、R6及E1表示與上述相同意義;
R7表示氫原子、氰基、甲基或苯基;
Z1表示碳數1至12的烷二基、碳數6至18的2價芳香族烴基、-O-R2A-*1、-S-R2B-*1或-NR1D-R2C-*1;
Z2表示單鍵、*2-CO-O-、*2-O-CO-、*2-S(=O)2-、*2-O-SO2-、*2-CO-NR1B-、*2-NR1C-CO-、*2-R2DO-P(=O)-OR2E-、*2-NR1E-CO-O-、*2-O-CO-NR1F-、*2-(OR2F)s1-、*2-CO-S-、*2-S-CO-或碳數1至4的全氟烷二基;
R1B、R1C、R1D、R1E及R1F分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基;
R2A、R2B、R2C、R2D、R2E及R2F分別獨立地表示碳數1至18的2價烴基;
*1表示與Z2的鍵結鍵;
*2表示與Z1的鍵結鍵]。
Z1表示的碳數1至12的烷二基可舉出與R115表示的碳數1至12的烷二基相同者。
Z1表示的碳數6至18的2價芳香族烴基可列舉:伸苯基、伸萘基等。
R1B、R1C、R1D、R1E及R1F表示的碳數1至6的烷基可舉出與R112表示的碳數1至6的烷基者。
R2A、R2B、R2C、R2D、R2E及R2F表示的碳數1至18的2價烴基可列舉:亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷
-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基及2-甲基丁烷-1,4-二基等碳數1至18的烷二基;伸苯基、伸萘基等碳數6至18的2價芳香族烴基。
Z1較理想為-O-R2A-*1(R2A更理想為碳數1至8的烷二基,更加理想為碳數4至8的烷二基)。
Z2較理想為*2-O-CO-、*2-O-SO2-、*2-NR1C-CO-(R1C更理想為氫原子)。
式(II)表示的化合物較理想為式(IV)表示的化合物。
[R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及E11表示與上述相同的意義,惟,R13、R14、R15及R16中至少一者表示包含聚合性基的基]。
式(I)表示的化合物可舉出下列記載的化合物。
式(II)表示的化合物可舉出下列記載的化合物。
A為乙烯性不飽和基的式(I)表示的化合物,例如可藉由使式(Ia)表示的化合物與式(c1)表示的化合物反應而獲得。
[式(Ia)中的R1、R2、R3、R4、R5、R6及E1表示與上述相同意義,式(c1)中的Z3表示2價連結基,A1表示乙烯性聚合性基]。
相對於式(Ia)表示的化合物1莫耳,式(c1)表示的化合物的使用量較理想為0.5至5莫耳。
式(Ia)表示的化合物與式(c1)表示的化合物的反應可使用習知的酯化反應,較理想為在鹼及碳二亞胺縮合劑的存在下進行。鹼可列舉例如:三乙基胺、二異丙基乙基胺、吡啶、哌啶、吡咯啶、脯胺酸、N,N-二甲基胺基吡啶等。碳二亞胺縮合劑可列舉:N,N-二環己基碳二亞胺、N,N-二異丙基碳二亞胺、1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺鹽酸鹽等。相對於式(Ia)表示的化合物1莫耳,鹼的使用量較理想為0.001至0.5莫耳。相對於式(Ia)表示的化合物1莫耳,碳二亞胺縮合劑的使用量較理想為0.5至5莫耳。
式(Ia)表示的化合物與式(c1)表示的化合物的反應較理想為在有機溶劑中進行。有機溶劑可列舉:甲苯、乙腈、二氯甲烷、三氯甲烷等。
為了阻礙式(c1)表示的化合物所包含的乙烯性不飽和基彼此的反應亦可添加聚合抑制劑。聚合抑制劑可列舉:2,6-二第三丁基-4-甲基酚(BHT)、4-甲氧基酚等。
式(Ia)表示的化合物與式(c1)表示的化合物的反應,係藉由混合式(Ia)表示的化合物與式(c1)表示的化合物而實施。
式(Ia)表示的化合物與式(c1)表示的化合物的反應溫度較理想為-20至120℃,反應時間通常以1至50小時較理想。
式(Ia)表示的化合物可舉出下列記載的化合物。
式(c1)表示的化合物可列舉:丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸2-羥基乙酯等。
式(Ia)表示的化合物係可藉由使式(Ib)表示的化合物與式(c2)表示的化合物反應而得到。
[式中的R1、R2、R3、R4、R5、R6及E1表示與上述相同意義]。
相對於式(Ib)表示的化合物1莫耳,式(c2)表示的化合物的使用量較理想為0.5至5莫耳。
式(Ib)表示的化合物與式(c2)表示的化合物的反應較理想為在鹼的存在下進行。鹼可列舉例如:吡啶、吡咯啶、哌啶、三乙基胺、二異丙基乙基胺等。相對於式(Ib)表示的化合物1莫耳,鹼的使用量較理想為0.5至5莫耳。
式(Ib)表示的化合物與式(c2)表示的化合物的反應較理想為在有機溶劑中進行。有機溶劑可列舉:乙腈、異丙醇、甲苯、三氯甲烷、二氯甲烷等。
式(Ib)表示的化合物與式(c2)表示的化合物的反應係藉由混合式(Ib)表示的化合物與式(c2)表示的化合物而實施。
式(Ib)表示的化合物與式(c2)表示的化合物的反應溫度較理想為0至120℃,反應時間通常以1至50小時較理想。
樹脂(A)可為具有吲哚結構的結構單元的同元聚合物,亦可為包含具有吲哚結構的結構單元及其他結構單元的共聚物。樹脂(A)較理想為共聚物。
樹脂(A)可包含的具有吲哚結構的結構單元以外的結構單元可舉出例如下述群A記載的結構單元。
群A:源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元、源自苯乙烯系單體的結構單元、源自乙烯系單體的結構單元、源自環氧化合物的結構單元、式(a)表示的結構單元、式(b)表示的結構單元及式(c)表示的結構單元;
[式中,Ra1表示2價烴基;
Rb1及Rb2分別獨立地表示氫原子或烴基;
Rc1及Rc2分別獨立地表示2價烴基]。
(甲基)丙烯酸酯可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯
酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸的直鏈狀烷酯;
(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等(甲基)丙烯酸的分支狀烷酯;
(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異降莰酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二烷基酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸的含有脂環骨架的烷酯;(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸的含有芳香環骨架的酯;等。
源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元可舉出在(甲基)丙烯酸烷酯的烷基導入有取代基的含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯。含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯的取代基係取代烷基的氫原子的基,其具體例包含苯基、烷氧基、苯氧基。含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯,具體而言,可列舉:(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)酯等。
該等(甲基)丙烯酸酯可分別單獨地使用外,亦可使用不同的複數個。
本發明的樹脂(A)較佳為含有在(甲基)丙烯酸烷酯中,屬於同元聚合物的玻璃轉移溫度Tg未達0℃的源自(甲基)丙烯酸烷酯(a1)的結
構單元以及屬於同元聚合物的玻璃轉移溫度Tg為0℃以上的源自(甲基)丙烯酸烷酯(a2)的結構單元。此係提升有利於黏著層的高溫耐久性。(甲基)丙烯酸烷酯的同元聚合物的Tg可採用例如聚合物手冊(Polymer handbook;Wiley-Interscience)等的文獻值。
(甲基)丙烯酸烷酯(a1)的具體例包含:丙烯酸乙酯、丙烯酸正-及異-丙酯、丙烯酸正-及異-丁酯、丙烯酸正-戊酯、丙烯酸正-及異-己酯、丙烯酸正-庚酯、丙烯酸正-及異-辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正-及異-壬酯、丙烯酸正-及異-癸酯、丙烯酸正-十二烷基酯等烷基的碳數為2至12左右的(甲基)丙烯酸烷酯。
(甲基)丙烯酸烷酯(a1),可只使用1種,亦可併用2種以上。此外,從積層光學膜時的追隨性、重工性的觀點而言,較理想為丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
(甲基)丙烯酸烷酯(a2)為(甲基)丙烯酸烷酯(a1)以外的(甲基)丙烯酸烷酯。(甲基)丙烯酸烷酯(a2)的具體例包含:丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異降莰酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三丁酯等。
(甲基)丙烯酸烷酯(a2)可只使用1種,亦可併用2種以上。此外,從高溫耐久性的觀點而言,(甲基)丙烯酸烷酯(a2)較理想為包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異降莰酯,更理想為包含丙烯酸甲酯。
再者,源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元亦可舉出源自具有極性官能基的(甲基)丙烯酸酯的結構單元。
具有極性官能基的(甲基)丙烯酸酯單體可列舉:(甲基)丙烯酸1-羥基甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸
1-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥基己酯、(甲基)丙烯酸5-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸6-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸9-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十一烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十五烷基酯、(甲基)
丙烯酸12-羥基十二烷基酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十三烷基酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷基酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十四烷基酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十五烷基酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十五烷基酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十七烷基酯等具有羥基的(甲基)丙烯酸酯等。
苯乙烯系單體可列舉:苯乙烯;甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯;氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯;硝基苯乙烯;乙醯基苯乙烯;甲氧基苯乙烯;以及二乙烯基苯。
乙烯系單體可列舉:乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯;氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯;偏二氯乙烯等亞乙烯基鹵化物;乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基味唑等含氮雜芳香族乙烯;丁二烯、異戊二烯氯丁二烯等共軛二烯;以及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
所謂環氧化合物係指分子內具有環氧基的化合物。環氧基亦可為環氧基環戊烷結構、環氧基環己烷結構等與脂環式環鍵結的環氧基。
環氧化合物可列舉:3,4-環氧基環己烷羧酸3,4-環氧基環己基甲酯、3,4-環氧基-6-甲基環己烷羧酸3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯、伸乙烯基雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)、己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲酯)、己二酸雙(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯)、二乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、2,3,14,15-二環氧基-7,11,18,21-四氧
三螺環[5.2.2.5.2.2]二十一烷、3-(3,4-環氧基環己基)-8,9-環氧基-1,5二氧螺環[5.5]十一烷、4-乙烯基環己烯二氧化物、檸檬烯二氧化物、雙(2,3-環氧基環戊基醚)、二環戊二烯二氧化物、1,4-丁二醇二環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、新戊二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、季戊四醇四環氧丙基醚等。
衍生式(a)表示的結構單元的化合物,例如,可藉由二異氰酸酯化合物與聚醇的反應而合成。
衍生式(b)表示的結構單元的化合物,例如,可藉由使鹵化矽烷、具有羥基的矽烷反應而合成。
衍生式(c)表示的結構單元的化合物,例如,可藉由聚羧酸與聚醇的反應等而合成。
選自群A記載的結構單元中之結構單元較理想為源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元。源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元較理想為(甲基)丙烯酸烷酯及具有羥基的(甲基)丙烯酸烷酯。
本發明的樹脂(A)亦可更包含其他結構單元(有稱為結構單元(aa)的情況)。具體而言,可列舉:源自(甲基)丙烯醯胺系單體的結構單元、源自具有羧基的單體的結構單元、源自具有雜環基的單體的結構單元、源自具有取代或無取代的胺基的單體的結構單元等。
(甲基)丙烯醯胺系單體可列舉:N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯
醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-氧丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-氧-1-咪唑啉基)乙基](甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺等。其中,較理想為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺以及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
具有羧基的單體可列舉:(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基烷酯(例如,(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯)、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、巴豆酸,較理想為丙烯酸。
具有雜環基的單體可列舉:丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、己內酯改性丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、2,5-二氫呋喃等。
具有取代或無取代的胺基的單體可列舉:(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等。
具有吲哚結構的結構單元及選自群A的結構單元以外的結構單元(aa)較理想為具有羧基的單體。
相對於樹脂(A)所包含的全部結構單元100質量份,具有吲哚結構的結構單元的含量較理想為0.01至50質量份,更理想為0.1至20質量份,更加理想為0.5至15質量份。
相對於樹脂(A)的全部結構單元100質量份,選自群A記載的結構單元中至少一者的結構單元的含量較理想為50質量份以上,更理想為55至99.99質量份,更加理想為60至85質量份。
樹脂(A)含有結構單元(aa)時,相對於樹脂(A)的全部結構單元100質量份,較理想為20質量份以下,更理想為0.5質量份以上15質量份以下,更加理想為0.5質量份以上10質量份以下,特別理想為1質量份以上7質量份以下。
樹脂(A)含有源自具有羥基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元時,相對於樹脂(A)的全部結構單元100質量份,該結構單元的含量較理想為20質量份以下,更理想為0.5質量份以上15質量份以下,更加理想為0.5質量份以上10質量份以下,特別理想為1質量份以上7質量份以下。
從防止可積層於由黏著劑組成物形成的黏著劑層的外面之分隔膜的剝離力亢進的觀點而言,較理想為實質上不包含具有胺基的單體。在此,所
謂實質上不包含具有胺基的單體係指在構成樹脂(A)的全部結構單元100質量份中,源自具有胺基的單體的結構單元的含量為0.1質量份以下。
由樹脂(A)與後述交聯劑(B)的反應性的點而言,樹脂(A)較理想為包含源自具有羥基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元或源自具有羧基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元,更理想為包含源自具有羥基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元及源自具有羧基的(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元中之一。具有羥基的(甲基)丙烯酸烷酯較理想為丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸5-羥基戊酯、丙烯酸6-羥基己酯。特別是,藉由使用丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸4-羥基丁酯及丙烯酸5-羥基戊酯,可得到良好的耐久性。具有羧基的單體較理想為使用丙烯酸。
本發明的樹脂(A)的重量平均分子量(Mw),較理想為30萬至250萬,更理想為50萬至200萬。重量平均分子量為30萬以上時,提升高溫環境的黏著劑層的耐久性,容易抑制被黏著物與黏著劑層之間的浮起剝離、黏著劑層的聚集破壞等不良情形。重量平均分子量為250萬以下時,就將加工黏著劑組成物例如製成片狀(塗佈於基材)時的塗佈性的觀點而言為有利。從兼具黏著劑層的耐久性及黏著劑組成物的塗佈性的觀點而言,重量平均分子量較理想為60萬至180萬,更理想為70萬至170萬,更加理想為100萬至160萬。再者,以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)的比表示的分子量分佈(Mw/Mn),通常為2至10,較理想為3至8。重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析儀分析,並且為換算成聚苯乙烯的值。
本發明的樹脂(A)在使其溶解於乙酸乙酯並且成為濃度20質量%的溶液時,25℃下的黏度較理想為20Pa‧s以下,更理想為0.1至15Pa‧s。該範圍的黏度時,從於基材塗佈黏著劑組成物時的塗佈性的觀點而言為有利。此外,黏度可藉由布魯克菲爾德黏度計測定。
本發明的樹脂(A)可藉由例如溶液聚合法、總體聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等習知方法製造,特別理想是溶液聚合法。溶液聚合法可舉出混合具有吲哚結構的單體、因應所需的衍生為群A記載的結構單元之單體及有機溶劑,在氮環境下,添加熱聚合起始劑,在40至90℃,較理想為50至80℃左右的溫度條件下,攪拌3至15小時的方法。為了控制反應,亦可在聚合中連續地或間歇地添加單體、熱聚合起始劑。該單體、熱聚合起始劑亦可為添加於有機溶劑的狀態。
聚合起始劑可使用熱聚合起始劑、光聚合起始劑。光聚合起始劑可舉出4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑可列舉:2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等偶氮系化合物;十二烷基過氧化物、第三丁基過氧化氫、過氧化苯甲醯、過氧化苯甲酸第三丁酯、氫過氧化異丙苯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化新戊酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等有機過氧化物;過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。再者,亦可使用併用了過氧化物與還原劑的氧化還原系引發劑等。
相對於構成樹脂(A)的單體的總量100質量份,聚合起始劑的比例為0.001至5質量份左右。樹脂(A)的聚合亦可使用藉由活性能量線(例如,紫外線等)進行的聚合法。
有機溶劑可列舉:甲苯、二甲苯等芳香族烴類;乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類;丙醇、異丙醇等脂肪族醇類;丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
在黏著劑組成物的固體成分100質量%中,樹脂(A)的含量通常為60質量%至99.99質量%,較理想為70質量%至99.9質量%,更理想為80質量%至99.7質量%。
〈交聯劑(B)〉
本發明的黏著劑組成物可包含交聯劑(B)。
交聯劑(B)可列舉:異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、金屬螫合物系交聯劑等,特別是,從黏著劑組成物的適用期及黏著劑層的耐久性、交聯速度等觀點而言,較理想為異氰酸酯系交聯劑。
異氰酸酯系化合物較理想為在分子內具有至少2個異氰酸酯基(-NCO)的化合物,可列舉例如:脂肪族異氰酸酯系化合物(例如,六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如,異佛酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯等)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如,伸甲苯基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、二甲苯基甲烷二異氰酸酯、伸萘基二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。再者,交聯劑(B)亦可為前述異氰酸酯化合物與多元醇化合物的加成物(加合物)[例如,丙三醇、三羥甲基丙烷等的加成物]、與異氰脲酸酯化合物、
縮二脲型化合物、聚醚聚醇、聚酯聚醇、丙烯酸聚醇、聚丁二烯聚醇、聚異戊二烯聚醇等進行加成反應而成的胺甲酸乙酯預聚物型異氰酸酯化合物等的衍生物。交聯劑(B)可單獨或組合2種以上使用。該等之中,代表性者可列舉:由芳香族異氰酸酯系化合物(例如,伸甲苯基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如,六亞甲基二異氰酸酯)或該等多元醇化合物(例如,丙三醇、三羥甲基丙烷)而來的加成物或異氰脲酸酯。交聯劑(B)為由芳香族異氰酸酯系化合物及/或該等的多元醇化合物或異氰脲酸酯而來的加成物時,由於在最適合的交聯密度(或交聯結構)的形成上有利,故,可提升黏著劑層的耐久性。特別是,由伸甲苯基二異氰酸酯及/或該等的多元醇化合物而來的加成物時,例如即使將黏著劑層適用於偏光板時等,亦可提升耐久性。
相對於樹脂(A)100質量份,交聯劑(B)的含量通常為0.01至15質量份,較理想為0.05至10質量份,更理想為0.1至5質量份。
本發明的黏著劑組成物可更含有矽烷化合物(D)。
矽烷化合物(D)可列舉例如:乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物(D)亦可為聚矽氧寡聚物。以單體彼此組合的形態表示聚矽氧寡聚物的具體例時,係如下所述。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等的含有巰基丙基的寡聚物;巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、統基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等的含有巰基甲基的寡聚物;3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等的含有3-環氧丙氧基丙基的寡聚物;3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基的寡聚物;3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基
三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等的含有丙烯醯氧基丙基的寡聚物;乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等的含有乙烯基的寡聚物;3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有胺基的寡聚物等。
矽烷化合物(D)亦可為下述式(d1)表示的矽烷化合物。
(式中,A1表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的2價脂環式烴基,構成該烷二基及該脂環式烴基的-CH2-可被-O-或-CO-取代,R41表示碳數1至5的烷基,R42、R43、R44、R45及R46分別獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基)。
A1表示的碳數1至20的烷二基可列舉:亞甲基、1,2-乙烷二基、1,3-丙烷二基、1,4-丁烷二基、1,5-戊烷二基、1,6-己烷二基、1,7-庚烷二基、1,8-辛烷二基、1,9-壬烷二基、1,10-癸烷二基、1,12-十二烷二基、1,14-十四烷二基、1,16-十六烷二基、1,18-十八烷二基、1,20-二十烷二基。碳數3至20的2價脂環式烴基可列舉:1,3-環戊烷二基及1,4-環己烷二基。構成該烷二基及該脂環式烴基的-CH2-被-O-或-CO-取代的基可列舉:-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-CO-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-CO-O-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2-以及-CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2CH2CH2-。
R41至R45表示的碳數1至5的烷基可列舉:甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基及戊基,R42至R45表示的碳數1至5的烷氧基可列舉:甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、第三丁氧基及戊氧基。
式(d1)表示的矽烷化合物可列舉例如:(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)
戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷;雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷;1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基二C1-5烷基矽基)C1-10烷等。該等之中,較理想為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等的雙(三甲氧基矽基)C1-10烷,特別理想為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷。
相對於樹脂(A)100質量份,矽烷化合物(D)的含量通常為0.01至10質量份,較理想為0.03至5質量份,更理想為0.05至2質量份,更加理想為0.1至1質量份。
黏著劑組成物,可更含有抗靜電劑。
抗靜電劑可列舉:界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等,較理想為離子性化合物。離子性化合物可舉出慣用者。構成離子性化合物的陽離子成分可舉出有機陽離子、無機陽離子等。有機陽離子可列舉例如:吡啶陽離子、吡咯啶陽離子、哌啶陽離子、咪唑陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。無機陽離子可列舉例如:鋰陽離子、
鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子;鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。特別是,從與(甲基)丙烯酸系樹脂的相溶性的觀點而言,較理想為吡啶陽離子、咪唑陽離子、吡咯啶陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子。構成離子性化合物的陰離子成分可為無機陰離子及有機陰離子的任一者,惟,從抗靜電的點而言,較理想為包含氟原子的陰離子成分。包含氟原子的陰離子成分可列舉例如:六氟磷酸鹽陰離子(PF6 -)、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]等。該等的離子性化合物可單獨或組合2種以上使用。特別理想為雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]。
在由黏著劑組成物形成的黏著劑層的抗靜電功能的歷時安定性的點而言,較理想為室溫下為固體的離子性化合物。
相對於樹脂(A)100質量份,抗靜電劑的含量例如為0.01至20質量份,較理想為0.1至10質量份,更理想為1至7質量份。
黏著劑組成物可含有1種或2種以上的溶劑、交聯觸媒、增黏劑、塑化劑、柔軟劑、顏料、防鏽劑、無機填充劑、光散射性微粒子等添加劑。
〈黏著劑層〉
本發明的黏著劑層可藉由例如於溶劑溶解或分散前述黏著劑組成物製成含有溶劑的黏著劑組成物,然後,將其塗佈於基材表面,並使其乾燥而形成。
合適的基材是塑膠膜,具體而言,可舉出實施過離型處理的剝離膜。剝離膜可列舉在游聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等樹脂所構成的膜的一側面,實施過聚矽氧處理等離型處理者。
本發明的黏著劑層較理想為滿足下述式(3)的黏著劑層,更理想為滿足下述式(4)的黏著劑層。
A(405)≧0.5 (3)
[式(3)中,A(405)表示在波長405nm中的吸光度]。
A(405)/A(440)≧5 (4)
[式(4)中,A(405)表示在波長405nm中的吸光度;A(440)表示在波長440nm中的吸光度]。
A(405)的值越大,表示在波長405nm的吸收越高。A(405)的值未達0.5時,波長405nm的吸收低,容易引起因400nm波長附近的光導致的有機EL發光元件及液晶系相位差膜劣化。A(405)的值較理想為0.6以上,更理想為0.8以上,特別理想為1.0以上。上限沒有特別限制,通常為10以下。
A(405)/A(440)的值表示在波長405nm的吸收的大小相對於波長440nm的吸收的大小。A(405)/A(440)的值越大,表示在波長405nm附近的波長區域具有特異性吸收,將本發明的黏著劑層適用於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置時,不會阻礙顯示裝置的色彩表現,並且,可吸收400nm附近的光抑制有機EL發光元件及液晶系相位差膜的光劣化。A(405)/A(440)的值較理想為10以上,更理想為30以上,更加理想為60以上。
本發明的黏著劑層的厚度通常為0.1至100μm,較理想為3至50μm,更理想為4至25μm。
〈光學積層體〉
本發明的黏著劑組成物及由該黏著劑組成物形成的黏著劑層例如可使用於光學膜的貼合等。
在本發明的黏著劑層的至少一側面積層有光學膜的光學積層體也包含在本發明中。
本發明的光學積層體係可藉由將前述黏著劑組成物溶解或分散於溶劑成為含有溶劑的黏著劑組成物,然後,將其塗佈於光學膜的表面,並使其乾燥而形成。再者,也可藉由在剝離膜上同樣地形成黏著劑層,將該黏著劑層積層(轉印)至光學膜的表面而得。
針對包含本發明的黏著劑層之光學積層體一邊使用圖一邊說明。
於第1圖至第5圖表示本發明的黏著劑層及本發明的光學積層體的層構成的一例。
第1圖記載的黏著劑層1係為了暫時保護黏著劑層面,而為在黏著劑層面1貼附於著剝離膜2的狀態。
第2圖記載的光學積層體10A係包含光學膜40、本發明的黏著劑層1、剝離膜2的光學積層體。
第3圖記載的光學積層體10B係包含保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、保護膜8、本發明的黏著劑層1、剝離膜2的光學積層體。
第4圖記載的光學積層體10C及第5圖記載的光學積層體10D係包含保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、保護膜8、本發明的黏著劑層1、相位差膜110、黏著劑層7a、發光元件30(液晶胞、有機EL胞)的光學積層體。
光學膜40係具有穿透、反射、吸收光線等光學功能的膜。光學膜40可為單層膜,亦可為多層膜。光學膜40可列舉例如:偏光膜、相位差膜、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜、窗膜等,較理想為偏光膜、相位差膜、窗膜或該等的積層膜。
聚光膜係使用於光徑控制等目的,故,可為稜鏡陣列片、透鏡陣列片、附設點的片等。
增亮膜係為了提升適用了偏光板的液晶顯示裝置之亮度的目的而使用。具體而言,可列舉:以將複數片折射率的異方性互為不同的薄膜積層而使反射率產生異方性之方式設計成的反射型偏光分離片、膽固醇液晶聚合物的配向膜、在基材膜上支撐了該配向液晶層的圓偏光分離片。
窗膜係指可撓性顯示器等可撓性顯示裝置中之前面板,一般配置於顯示裝置的最表面。窗膜例如可舉出由聚醯亞胺樹脂所構成的樹脂膜。窗膜可為例如包含聚醯亞胺及氧化矽的樹脂膜之有機材料與無機材料的混合膜。再者,窗膜亦可在其表面配置用以賦予表面硬度、防污性、耐指紋性功能的硬塗層。窗膜可舉出日本特開2017-94488號記載的膜等。
偏光膜係具有將具有於其吸收軸平行的振動面的直線偏光吸收,將具有與吸收軸(平行穿透軸)直交的振動面的直線偏光穿透的性質的膜,可使用例如於聚乙烯醇系膜吸附配向有二色性色素的膜。
二色性色素可列舉例如:碘、二色性有機染料等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上100莫耳%以下,較理想為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改性,亦可使用例如經醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1,000以上10,000以下,較理想為1,500以上5,000以下。
通常,將聚乙烯醇系樹脂製膜而成者被使用為偏光膜的原料膜。聚乙烯醇系樹脂可用習知的方法進行製膜。原料膜的厚度通常為1至150μm,考慮延伸容易度等,較理想為10μm以上。
偏光膜係例如對原料膜實施下列步驟:單軸延伸的步驟、用二色性色素將膜染色而使該二色性色素吸附的步驟、用硼酸水溶液處理膜的步驟以及水洗膜的步驟,最後,進行乾燥而製造。偏光膜的厚度通常為1至30μm,從附黏著劑層的光學積層體的薄膜化的觀點而言,較理想為20μm以下,更理想為15μm以下,特別理想為10μm以下。
偏光膜的至少一側面較理想為隔著接著劑設置有保護膜。
接著劑可使用習知的接著劑,可為水系接著劑,亦可為活性能量線硬化型接著劑。
水系接著劑可舉出慣用的水系接著劑(例如,由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑、水系二液型胺酯系乳化接著劑、醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等的交聯劑等)。該等之中,可適合地使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的水系接著劑。此外,使用水系接著劑時,將偏光膜與保護膜貼合後,為了除去水系接著劑中所包含有的水,較理想為實施乾燥
步驟。乾燥步驟後,可設置在例如20至45℃左右的溫度下熟化之熟化步驟。由水系接著劑形成的接著劑層通常為0.001至5μm。
所謂活性能量線硬化型接著劑係指藉由照射紫外線、電子線等活性能量線而硬化的接著劑,可列舉例如:包含聚合性化合物及光聚合起始劑的硬化性組成物、包含光反應性樹脂的硬化性組成物、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑的硬化性組成物等,較理想為紫外線硬化性接著劑。
將偏光膜與保護膜貼合的方法,可舉出對該等的至少一者的貼合面實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活化處理的方法等。在偏光膜的兩面貼合保護膜時,用以貼合該等的樹脂膜的接著劑可為相同種類的接著劑,亦可為不同種類的接著劑。
保護膜較理想為由具有透光性的熱塑性樹脂所形成的膜。具體而言,可舉出由聚烯烴系樹脂;纖維素系樹脂;聚酯系樹脂;(甲基)丙烯酸系樹脂;或該等的混合物、共聚物等所購成的膜。於偏光膜的兩面貼合保護膜時,所使用的保護膜可為由不同的熱塑性樹脂所構成的膜,亦可為由相同的熱塑性樹脂所構成的膜。
保護膜積層於偏光膜的至少一側面時,保護膜較理想為聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂所構成的保護膜。藉由使用該等膜,可不損害偏光膜的光學特性,並且,有效地抑制高溫環境之偏光膜的收縮。此外,保護膜也可為氧屏蔽層。
偏光板之較理想構成係在偏光膜的至少一側面,隔著接著劑層有積層保護膜的偏光板。保護膜只積層於偏光膜的一側面時,較理想為積層於觀看側。積層於觀看側的保護膜,較理想為由三乙醯基纖維素系樹
脂或環烯烴系樹脂所構成的保護膜。在觀看側積層有保護膜的表面亦可設置硬塗層、防眩光層等表面處理層。
保護膜積層於偏光膜的兩面時,面板側(與觀看側相反之側)的保護膜較理想為由三乙醯基纖維素系樹脂、環烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂所構成的保護膜或相位差膜。相位差膜亦可為後述的零延遲膜。
所謂相位差膜為顯示光學異方性的光學膜,可舉出例如:將聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物的皂化物、聚氯乙烯等所構成的高分子膜延伸1.01至6倍左右所得之延伸膜等。延伸膜中,較理想為將乙醯基纖維素、聚酯、聚碳酸酯膜、環烯烴系樹脂膜進行單軸延伸或二軸延伸而成的高分子膜。再者,相位差膜可為液晶性化合物藉由塗佈/配向於基材而表現光學異方性的相位差膜。
此外,於本說明書中,相位差膜包含零延遲膜,亦包含被稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等膜。
所謂零延遲膜係指正面的延遲Re與厚度方向的延遲Rth皆為-15至15nm,光學等方性的膜。零延遲膜可舉出由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所構成的樹脂膜,由容易控制延遲值、容易取得的點而言,較理想為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零延遲膜亦可使用為保護膜。零延遲膜可列舉:富士膜(FUJI FILM(股))販售的”Z-TAC”(商品名)、日本ZEON(股)販售的”ZF-14”(商品名)等。
於本發明的光學膜中,相位差膜較理想為藉由塗佈/配向液晶性化合物而表現光學異方性的相位差膜。
藉由液晶性化合物的塗佈/配向而表現光學異方性的相位差膜,可列舉下述第一形態至第五形態。
第一形態:相對於支撐基材,棒狀液晶化合物在水平方向配向而成的相位差膜;
第二形態:相對於支撐基材,棒狀液晶化合物在垂直方向配向而成的相位差膜;
第三形態:棒狀液晶化合物在面內呈螺旋狀變化配向方向的相位差膜;
第四形態:圓盤狀液晶化合物呈傾斜配向的相位差膜;
第五形態:相對於支撐基材,圓盤狀液晶化合物在垂直方向配向而成的二軸性相位差膜。
例如,於有機電激發光顯示器所使用的光學膜適合使用第一形態、第二形態、第五形態。再者,亦可使該等的形態的相位差膜積層使用。
相位差膜為由聚合性液晶化合物的配向狀態中之聚合物所構成的層(以下,也有稱為「光學異方性層」的情況)時,相位差膜較理想為具有反波長分散性。所謂反波長分散性係指在短波長的液晶配向面內相位差值小於在長波長的液晶配向面內相位差值的光學特性,較理想為光學膜滿足下述式(7)及式(8)。此外,Re(λ)表示為相對於波長λ nm的光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
於本發明的光學膜中,向相位差膜為第一形態且具有反波長分散性時,因減少顯示裝置的黑色顯示時的著色,所以較理想,在前述式(7),更理想為0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93。更理想120≦Re(550)≦150。
相位差膜為具有光學異方性層時的聚合性液晶化合物可列舉:液晶手冊(液晶手冊編輯委員會編,丸善(股),平成12年10月30日發行)的「3.8.6交聯(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」記載的化合物中具有聚合性基的化合物、以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2011-162678號公報、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及日本特表2011-207765號公報記載的聚合性液晶化合物等。
從液晶性化合物的配向狀態中的聚合物製造相位差膜的方法可舉出例如日本特開2010-31223號公報記載的方法等。
於第二形態時,面內相位差值Re(550)可調整為0至10nm的範圍,較理想為0至5nm的範圍,厚度方向的相位差值Rth可調整為-10至-300nm的範圍,較理想為-20至-200nm的範圍。意指厚度方向的折射率異方性之厚度方向的相位差值Rth,係可從將面內的前進軸作為傾斜軸並使其傾斜50度所測定的相位差值R50與面內相位差值R0算出。亦即,厚度方向的相位差值Rth,係可從面內相位差值R0、將面內的前進軸作為傾斜軸並使其傾斜50度所測定的相位差值R50、相位差膜的厚度d及相位差
膜的平均折射率n0,藉由下列式(10)至(12)求得nx、ny及nz,將此等帶入式(9)而算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)
R0=(nx-ny)×d (10)
(nx+ny+nz)/3=n0 (12)
此處,
藉由液晶性化合物的塗佈/配向而表現光學異方性的相位差膜、藉由無機層狀化合物的塗佈而表現光學異方性的相位差膜可列舉:被稱為溫度補償型相位差膜的膜、JX日礦日石能源(股)販售的”NH FILM”(商品名,棒狀液晶為傾斜配向的膜)、富士薄膜(FUJI FILM(股))販售的”WV FILM”(商品名,圓盤狀液晶為傾斜配向的膜)、住友化學(股)販售的”VAC FILM”(商品名,完全二軸配向型的膜)、住友化學(股)販售的”new VAC FILM”(商品名,二軸配向型的膜)等。
相位差膜亦可為具有2層以上的多層膜。例如,相位差膜的單面或兩面積層有保護膜者、2個以上相位差膜隔著黏著劑或接著劑積層而成者。
相位差膜為多層膜時,包含本發明的光學膜的光學積層體的構成可舉出如第4圖所示,包含將賦予穿過光1/4波長份的相位差之1/4
波長相位差層50及賦予穿過光1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70,隔著接著劑層或黏著劑層60積層而成的相位差膜110的構成。再者,亦可舉出如第5圖所示,包含將1/4波長相位差層50a及正C層80隔著接著劑層或黏著劑層60積層而成的光學膜40的構成。
第4圖的賦予1/4波長份的相位差之1/4波長相位差層50以及賦予穿過光1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70,可為上述第一形態的光學膜,亦可為第五形態的光學膜。第4圖的構成時,更理想為至少一者為第五形態。
第5圖的構成時,1/4波長相位差層50a較理想為上述第一形態的光學膜,又更理想為滿足式(7)、式(8)。
第4圖及第5圖中的黏著劑層7a係由黏著劑組成物所形成的層。黏著劑層7a可使用習知的黏著劑組成物,亦可使用本發明的黏著劑組成物。
〈液晶顯示裝置〉
本發明的樹脂、包含該樹脂的黏著劑組成物以及包含由前述黏著劑組成物所形成的黏著劑層的光學積層體,係可積層於有機EL元件、液晶胞等顯示元件,可使用於有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD:平面面板顯示器)。
以下,藉由實施例及比較例更詳細地說明本發明。實施例、比較例、聚合例中的「%」及「份」,在無特別說明下為「質量%」及「質量份」。
[實施例1]:具有吲哚結構及聚合性基的光選擇性吸收化合物的合成
將設置有吉姆羅斯(Dimroth)冷卻管及溫度計的1000mL四頸燒瓶內置換為氮環境後,饋入式(1)表示的化合物(1-甲基-2-苯基-1H-吲哚-3-甲醛)100份、氰基乙酸40份、哌啶76份及乙腈300份,一邊攪拌一邊在80℃下保溫4小時。從所得之混合物將析出的結晶過濾、取出。混合所得之結晶與5%硫酸500份,一邊攪拌一邊在80℃下保溫1小時。過濾所得之混合物而得到固體。將所得之固體用水300份洗淨,並使其乾燥,得到式(2)表示的化合物(2-氰基-3-(1-甲基-2-苯基-1H-吲哚-3-基)-2-丙烯酸)116份。
式(2)表示的化合物的鑑定
1H-NMR(CDCl3)δ:3.70(s,3H),7.30-7.42(dt,2H),7.50-7.55(m,2H),7.60-7.64(m,3H),7.68(d,1H),7.93(s,1H),8.26(d,1H)
將設置有溫度計的100mL四頸燒瓶內置換為氮環境後,饋入式(2)表示的化合物5份、丙烯酸-4-羥基丁酯2.3份、N,N-二甲基-4-胺基吡啶0.4份、2,6-二第三丁基-4-甲基酚0.2份及三氯甲烷50份並冷卻至0℃。一邊在所得之混合物中滴入N,N’-二異丙基碳二亞胺2.2份,一邊保持在0至5℃。滴入後,將所得之混合物在10℃下保溫4小時。過濾所得之混合物,得到濾液。濃縮所得之濾液而得到油。在所得之油中混合甲苯50份及水50份,進行分液而得到甲苯層。濃縮所得之甲苯層,得到黃色粗結晶。粗結晶用異丙醇進行再結晶,得到式(3)表示的化合物(2-氰基-3-(1-甲基-2-苯基-1H-吲哚-3-基)-2-丙烯酸-4-丙烯醯氧基丁酯)4.9份。式(3)表示的化合物的最大吸收波長為386nm。
式(3)表示的化合物的鑑定
1H-NMR(CDCl3)δ:1.75-1.80(m,4H),3.70(s,3H),4.15-4.20(t,2H),4.23-4.27(t,2H),5.78-5.82(dd,1H),6.06-6.14(dd,1H),6.36-6.41(dd,1H),7.35-7.43(m,5H),7.54-7.57(m,3H),8.12(s,1H),8.42-8.45(m,1H)
在1cm的石英皿中饋入所得之式(3)表示的化合物的甲基乙基酮溶液(0.006g/L),將石英皿設置於分光光度計UV-2450(島津製作所製),藉由雙光束法,以步長1nm在300至800nm的波長範圍測定吸光度。從所得之吸光度的值、溶液中化合物的濃度、石英皿的光徑長度,算出每個波長的克吸光係數。其結果,ε(405)=34.9L/(g‧cm),ε(440)=2.0L/(g‧cm),ε(405)/ε(440)=17.5。
ε(λ)=A(λ)/CL
〔式中,ε(λ)表示在波長λ nm中的式(3)表示的化合物的克吸光係數,A(λ)表示在波長λ nm中的吸光度,C表示濃度g/L,L表示石英皿的光徑長度cm。〕
[實施例2]:具有吲哚結構及聚合性基的光選擇性吸收化合物的合成
除了使用丙烯酸-2-羥基乙酯2份取代丙烯酸-4-羥基丁酯2.3份外,其餘與實施例1同樣地施作,而得到式(4)表示的化合物(2-氰基-3-(1-甲基-2-苯基-1H-吲哚-3-基)-2-丙烯酸-2-丙烯醯氧基乙酯)4.3份。式(4)表示的化合物的最大吸收波長為388nm。與實施例1同樣地施作,求得克吸光係數,ε(405)=45.4L/(g‧cm),ε(440)=1.0L/(g‧cm),ε(405)/ε(440)=445.4。
式(4)表示的化合物的鑑定
1H-NMR(CDCl3)δ:3.70(s,3H),4.38-4.43(dt,2H),4.43-4.48(dt,2H),5.83-5.86(dd,1H),6.09-6.17(dd,1H),6.4-6.45(dd,1H),7.35-7.45(m,5H),7.52-7.58(m,3H),8.12(s,1H),8.42-8.45(m,1H)
[實施例3]:含有具有吲哚結構的結構單元的樹脂(A-1)的合成
在具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機的反應容器中,饋入作為溶劑的乙酸乙酯141份、丙烯酸丁酯94份、丙烯酸2-羥基乙酯3份、式
(3)表示的化合物3份的混合溶液,用氮氣置換裝置內的空氣,成為不含氧並且將內溫設為60℃。於所得之混合物中,將在乙酸乙酯10份中溶解有偶氮異丁腈(聚合起始劑)0.63份的溶液全量添加。將所得之混合物保持在60℃下7小時,然後,於所得之混合物中,將於乙酸乙酯5份中溶解有4-甲氧基酚(聚合抑制劑)0.0012份的溶液全量添加量。於所得之混合物中添加乙酸乙酯,以使具有吲哚結構的樹脂(A-1)的濃度成為20%之方式調整,而調製出具有吲哚結構的樹脂(A-1)的乙酸乙酯溶液。所得之具有吲哚結構的樹脂(A-1),藉由GPC並換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為74萬,Mw/Mn為5.2。藉由DSC的玻璃轉移溫度為-51℃。
〈克吸光係數ε的測定〉
將所得之樹脂(A-1)的甲基乙基酮溶液(0.11g/L)饋入1cm的石英皿中,將石英皿設置於分光光度計UV-2450(島津製作所製),藉由雙光束法,以步長1nm在300至800nm的波長範圍測定吸光度。從所得之吸光度的值、溶液中樹脂(A)的濃度、石英皿的光徑長度,算出每個波長的克吸光係數。結果,樹脂(A-1)的ε(405)=0.442L/(g‧cm)、ε(440)=0.008L/(g‧cm)、ε(405)/ε(440)=53.3。
ε(λ)=A(λ)/CL
〔式中,ε(λ)表示在波長λ nm中的樹脂(A)的克吸光係數,A(λ)表示在波長λ nm中的吸光度,C表示濃度g/L,L表示石英皿的光徑長度cm。〕
[實施例4]:含有具有吲哚結構的結構單元的樹脂(A-2)的合成
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器中,饋入作為溶劑的乙酸乙酯141份、丙烯酸丁酯94份、丙烯酸2-羥基乙酯3份、式(4)表示的化合物3份的混合溶液,用氮氣置換裝置內的空氣,成為不含氧並且將內溫設為60℃。於所得之混合物中,將於乙酸乙酯10份中溶解有偶氮異丁腈(聚合起始劑)0.63份的溶液全量添加。將所得之混合物保持在60℃下7小時,然後,於所得之混合物中,將於乙酸乙酯5份中溶解有4-甲氧基酚(聚合抑制劑)0.0012份的溶液全量量。於所得之混合物中添加乙酸乙酯,以使具有吲除結構的樹脂(A-2)的濃度成為20%之方式調整,而調製出具有吲哚結構的樹脂(A-2)的乙酸乙酯溶液。所得之具有吲哚結構的樹脂(A-2)藉由GPC並且換算聚苯乙烯的重量平均分子量Mw為67萬,Mw/Mn為4.9。藉由DSC的玻璃轉移溫度為-50℃。再者,以與實施例3相同的方法,測定樹脂(A-2)的克吸光係數的結果,ε(405)=0.336L/(g‧cm)、ε(440)=0.035L/(g‧cm)、ε(405)/ε(440)=9.5。
[聚合例1]:丙烯酸樹脂(A-3)的調製
饋入乙酸乙酯141份、丙烯酸丁酯94份、丙烯酸2-羥基乙酯3份,用氮氣置換裝置內的空氣成為不含氧,並且將內溫設為60℃。於所得之混合物中,將於乙酸乙酯10份溶解有偶氮異丁腈(聚合起始劑)0.63份的溶液全量添加。將所得之混合物保持在60℃下7小時,然後,於所得之混合物中,將於乙酸乙酯5份中溶解有4-甲氧基酚(聚合抑制劑)0.0012份的溶液全量添加。於所得之混合物中添加乙酸乙酯,以使具有吲哚結構的樹脂(A-3)的濃度成為20%之方式調整,而調製出具有吲哚結構的樹脂(A-3)的乙酸乙酯溶液。所得之具有吲哚結構的樹脂(A-3),藉由GPC並換算聚苯乙烯
的重量平均分子量Mw為60萬,Mw/Mn為6.0。藉由DSC的玻璃轉移溫度為-49℃。再者,使用與實施例3相同的方法,測定樹脂(A-3)的克吸光係數的結果,在波長405nm及在波長440nm中沒有吸收,任一者吸光度皆為0。
〈黏著劑組成物及黏著劑層的製作〉
(a)黏著劑組成物的調製
[實施例5]黏著劑組成物(1)的調製
在所得之具有吲哚結構的樹脂(A-1)的乙酸乙酯溶液(樹脂濃度:20%)中,相對於該溶液的固形份100份,混合交聯劑(CORONATE L,固形份75%:TOSOH公司製)0.5份及矽烷化合物(信越化學工業公司製:KBM-403)0.5份,進一步以使固形份濃度成為14%之方式添加2-丁酮,而得到黏著劑組成物(1)。此外,上述交聯劑(CORONATE L)的調配量,為作為有效成分的質量份數。
[實施例6]黏著劑組成物(2)的調製
在所得之具有吲哚結構的樹脂(A-2)的乙酸乙酯溶液(樹脂濃度:20%)中,相對於該溶液的固形份100份,混合交聯劑(CORONATE L,固形份75%:TOSOH公司製)0.5份及矽烷化合物(信越化學工業公司製:KBM-403)0.5份,進一步以使固形份濃度成為14%之方式添加2-丁酮,而得到黏著劑組成物(2)。此外,上述交聯劑(CORONATE L)的調配量,為作為有效成分的質量份數。
[比較例1]:黏著劑組成物(3)的調製
在丙烯酸樹脂(A-3)的乙酸乙酯溶液(樹脂濃度:20%)中,相對於該溶液的固形份100份,混合交聯劑(CORONATE L,固形份75%:TOSOH公司製)0.5份、矽烷化合物(信越化學工業公司製:KBM-403)0.5份及光吸收性化合物(紫外線吸收劑;東方化學(ORIENT Chemical)工業公司製BONASORB UA-3911)3份,進一步以使固形份濃度成為14%之方式添加2-丁酮,而得到黏著劑組成物(3)。此外,上述交聯劑(CORONATE L)的調配量,為作為有效成分的質量份數。
[製作例1]:黏著劑組成物(4)的調製
在丙烯酸樹脂(A-3)的乙酸乙酯溶液(樹脂濃度:20%)中,相對於該溶液的固形份100份,混合交聯劑(CORONATE L,固形份75%:TOSOH公司製)0.5份、矽烷化合物(信越化學工業公司製:KBM-403)0.5份,進一步以使固形份濃度成為14%之方式添加2-丁酮,而得到黏著劑組成物(4)。
(b)黏著劑層的製作
在離型處理過的聚對苯二甲酸乙二酯(Lintec公司製SP-PLR382050、以下簡稱為「分隔膜」)的離型處理面,使用塗佈器塗佈前述調製的各黏著劑組成物,100℃下乾燥1分鐘,製作出黏著劑層。所得之黏著劑層的厚度為15μm。
此外,將由實施例5所得之黏著劑組成物形成的黏著劑層作為黏著劑層(1),由實施例6所得之黏著劑組成物形成的黏著劑層作為黏著劑層(2),由比較例1所得之黏著劑組成物形成的黏著劑層作為黏著劑層(3),由製作例1所得之黏著劑組成物形成的黏著劑層作為黏著劑層(4)。
〈黏著劑層的吸光度測定〉
將所得之黏著劑層(1)貼合於無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名”EAGLE XG”〕,剝離分隔膜後,在黏著劑層(1)貼合環烯烴系樹脂膜(日本ZEON公司製ZF-14),製作出黏著劑層評估用積層體。將製成的黏著劑層評估用積層體,設置於分光光度計UV-2450(島津製作所製),藉由雙光束法,以步長1nm在300至800nm的波長範圍測定吸光度。此外,無鹼玻璃單純物質及環烯烴系樹脂膜單純物質的波長405nm及波長440nm的吸光度皆為0。
同樣地,也測定黏著劑層(2)及黏著劑層(3)的吸光度。將黏著劑層(1)至黏著劑層(3)的吸光度表示於表1。
〈光學積層體的製作〉
(i)偏光膜的製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上、厚度30μm的聚乙烯醇膜(「Kuraray Poval film VF-PE#3000」、Kuraray(股)公司製)浸漬於37℃的純水後,在30℃下浸漬於包含碘及碘化鉀的水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。然後,在56.5℃下浸漬於包含碘化鉀及硼酸的水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。然後,將膜以10℃的純水
洗淨後,在85℃下乾燥,得到碘吸附配向於聚乙烯醇的厚度約12μm的偏光膜A。延伸主要在碘染色及硼酸處理的步驟進行,全部的延伸倍率為5.3倍。
(ii)偏光板的製作
在(i)所得之偏光膜的單面,隔著由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑,貼合厚度25μm的對三乙醯基纖維素膜賦予7μm的硬塗層而得之透明保護膜(「25KCHCN-TC」、凸版印刷(股)製),在與前述透明保護膜相反側的面貼合厚度23μm的環烯烴系樹脂膜(日本ZEON公司製「ZF14-023」),製作出光學膜A(偏光板、厚度67μm)。
(iii)光配向膜形成用組成物的調製
使用日本特開2013-33248號公報記載的方法,合成出下述結構的化合物。將下述化合物5份及環己酮95份作為成分並混合,將所得之混合物在80℃下攪拌1小時,藉此,得到光配向膜形成用組成物。
(iv)包含聚合性液晶化合物的組成物的調製。
使用日本特開2010-31223號公報記載的方法,合成出下述結構的聚合性液晶化合物A。聚合性液晶化合物A的最大吸收波長λmax(LC)為350nm。
混合下述結構的聚合性液晶化合物A 12份、聚丙烯酸酯化合物(調平劑;BYK-Chemie公司製BYK-361N)0.12份、聚合起始劑(CIBA特殊化
學公司製Irgacure 369)0.72份及環戊酮100份,得到包含聚合性液晶化合物的組成物。
(v)光學異方性層的製造
將環烯烴系樹脂膜(日本ZEON公司製ZF-14),使用電暈處理裝置(AGF-B10、春日電機(股)公司製),以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘的條件,處理1次。在實施過電暈處理的表面,用棒塗器塗佈(iii)所得之光配向膜形成用組成物,80℃下乾燥1分鐘,使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7;USHIO電機公司製),以100mJ/cm2的累積光量實施偏光UV曝光。所得之配向膜的膜厚以橢圓儀測定時為100nm。
然後,在配向膜上,用棒塗器塗佈(iv)所得之包含聚合性液晶化合物的組成物A所構成的塗佈液,120℃下乾燥1分鐘,使用高壓水銀燈(UNICURE VB-15201BY-A、USHIO電機公司製),從塗佈有包含聚合性液晶化合物的組成物的面側,照射紫外線(氮環境下、波長313nm的累積光量:500mJ/cm2),形成包含光學異方性層1的光學膜。所得之光學異方性層1的膜厚以雷射顯微鏡測定時為2μm。
[實施例7]:光學積層體(1)的製作
在上述(ii)製作的偏光板的環烯烴系樹脂膜面貼合黏著劑層(1),並且剝離分隔膜。再將黏著劑層(1)的剝離分隔膜後的面與(v)製作的光學異方性
層的環烯烴系樹脂膜面的相反面貼合,剝離環烯烴系樹脂膜。在光學異方性層的剝離環烯烴系樹脂膜後的面,貼合附分隔膜的黏著劑層(4),而得到光學積層體(1)。
[實施例8]:光學積層體(2)的製作
除了使用黏著劑層(2)取代黏著劑層(1)外,其餘與實施例7同樣地,得到光學積層體(2)。
[比較例2]:光學積層體(3)的製作
除了使用黏著劑層(3)取代黏著劑層(1)外,其餘與實施例7同樣地,得到光學積層體(3)。
[製作例2]:光學積層體(4)的製作
除了使用黏著劑層(4)取代黏著劑層(1)外,其餘與實施例5同樣地,得到光學積層體(4)。
〈黏著劑層的耐滲出性評估〉
將所得之光學積層體(1)裁切為40mm×40mm的大小,剝離積層於黏著劑層(4)的分隔膜後,將其與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕貼合。將所得之附玻璃的光學積層體使用顯微鏡確認面內的化合物的結晶的析出。然後,將所得之附玻璃的光學積層體,投入溫度23℃、60%的烤箱500小時,使用顯微鏡確認面內的化合物的結晶的析出,確認到化合物的結晶的析出沒有增加。評估結果表示於表2。
除了使用光學積層體(2)取代光學積層體(1)外,其餘與上述同樣地進行黏著劑層的耐滲出性評估。評估結果表示於表2。
除了使用光學積層體(3)取代光學積層體(1)外,其餘與上述同樣地進行黏著劑層的耐滲出性評估。評估結果表示於表2。
〈因黏著劑層所致之對光學異方性層的相位差變化影響的確認〉
將所得之光學積層體(1)裁切為40mm×40mm的大小,剝離積層於黏著劑層(4)的分隔膜將其與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕貼合。將所得之附玻璃的光學積層體的波長450nm的相位差值,藉由複折射測定裝置(KOBRA-WR;王子計測機器(股)公司製)進行測定。然後,將附玻璃的光學積層體,投入溫度80℃的烤箱120小時,取出並放置在23℃、50%的環境24小時後,再次測定波長450nm的相位差值。
與上述同樣地,使用光學積層體(4)取代光學積層體(1),進行測定。
光學積層體(1)的相位差變化,係從光學積層體(1)的耐久前後的波長450nm的相位差值的變化量,減去光學積層體(4)的耐久前後的波長450nm的相位差值的變化量而求得。相位差值變化值表示於表2。
除了使用光學積層體(2)取代光學積層體(1)外,其餘與上述同樣地,進行因黏著劑層所致之對光學異方性層的相位差變化影響的確認。耐久前後的相位差值變化值表示於表2。
除了使用光學積層體(3)取代光學積層體(1)外,其餘與上述同樣地,進行因黏著劑層所致之對光學異方性層的相位差變化影響的確認。耐久前後的相位差值變化值表示於表2。
〈光學膜的吸光度測定〉
將所得之光學積層體(1)裁切為40mm×40mm的大小,剝離積層於黏著劑層(4)的分隔膜,將其與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名”EAGLE XG”〕貼合。對測定樣品使用附積分球的分光光度計〔日本分光(股)製的製品名「V7100」〕,測定波長380至780nm範圍的光學積層體(1)的穿透軸方向及吸收軸方向的穿透光譜,由光學積層體(1)的透過軸方向的透過光譜,算出光學積層體(1)的波長405nm的吸光度。此外,TAC膜單體、COP膜單體及無鹼玻璃單體在波長350nm、波長405nm及波長440nm的吸光度皆為0。
〈耐候性的評估〉
在63℃、50%濕度條件下,將光學積層體(1)投入陽光氣候計(Suga測試機(股)公司製:型號SUNSHINE WEATHER METER S80)24小時,實施24小時的耐候性測試。將取出的樣品的吸光度利用與上述〈光學膜的吸光度測定〉相同的方法測定。從測定的吸光度,根據下述式,求得在波長405nm中的樣品的吸光度保持率。結果表示於表1。吸光度保持率越高,表示沒有光選擇性吸收功能劣化之良好的耐候性。
吸光度保持率=(耐久測試後的A(405)/耐久測試前的A(405))×100
將由包含本發明的樹脂(A)的黏著劑組成物所形成的黏著劑層積層於光學膜時,相位差變化被抑制。此係認為,相較於單獨含有具有吲哚結構的光選擇性吸收化合物的黏著劑組成物,藉由將具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物摻入樹脂中,可抑制具有吲哚結構的光選擇性吸收化合物的遷移。
再者,由包含本發明的樹脂(A)的黏著劑組成物所形成的黏著劑層,即使在85下進行120小時的耐熱測試後,不會增加化合物的析出,具有良好的耐滲出性。再者,由包含本發明的樹脂(A)的黏著劑組成物所形成的黏著劑層係具有良好的A(405)/A(440)的值。
本發明的樹脂、包含該樹脂的黏著劑組成物、由前述黏著劑組成物所形成的黏著劑層及包含前述黏著劑層的光學積層體適合使用於液晶面板及液晶顯示裝置。
1‧‧‧黏著劑層
2‧‧‧剝離膜
Claims (25)
- 一種樹脂,其係含有具有吲哚結構的結構單元的樹脂(A)。
- 如申請專利範圍第1項所述之樹脂,其中,樹脂(A)的玻璃轉移溫度為40℃以下。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之樹脂,其中,樹脂(A)是滿足下述式(1)的樹脂,ε(405)≧0.02 (1)式(1)中,ε(405)表示在波長405nm中的樹脂(A)的克吸光係數,克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之樹脂,其中,樹脂(A)是滿足下述式(2)的樹脂,ε(405)/ε(440)≧5 (2)式(2)中,ε(405)表示在波長405nm中的樹脂(A)的克吸光係數,ε(440)表示在波長440nm中的樹脂的克吸光係數。
- 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之樹脂,其中,樹脂(A)為包含在側鏈具有吲哚結構的結構單元的樹脂。
- 如申請專利範圍第5項所述之樹脂,其中,在側鏈具有吲哚結構的結構單元係源自具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物的結構單元。
- 如申請專利範圍第6項所述之樹脂,其中,具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物為滿足下述式(1-a)的化合物,ε(405)≧5 (1-a)式(1-a)中,ε(405)表示在波長405nm中的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數,克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。
- 如申請專利範圍第7項所述之樹脂,其中,具有聚合性基及吲哚結構的光選擇性吸收化合物為滿足下述式(2-a)的化合物,ε(405)/ε(440)≧10 (2-a)式(2-a)中,ε(405)表示在波長405nm中的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數,ε(440)表示在波長440nm中的具有聚合性基及吲哚結構的化合物的克吸光係數。
- 如申請專利範圍第5項所述之樹脂,其中,在側鏈具有吲哚結構的結構單元係源自式(I)表示的化合物的結構單元或源自式(II)表示的化合物的結構單元,式(I)中,R1、R2、R3、R4、R5及R6分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR1A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;R1A表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;E1表示吸電子基;Z表示連結基;A表示聚合性基;式(II)中,R12及R17分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR11A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;R11、R13、R14、R15及R16分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、包含聚合性基的基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;惟,R11、R13、R14、R15及R16中之至少一者表示包含聚合性基的基;R11A及R12A分別獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;E11表示吸電子基。
- 如申請專利範圍第9項所述之樹脂,其中,R2為苯基。
- 如申請專利範圍第9項所述之樹脂,其中,式(I)表示的化合物為式(III)表示的化合物,R1、R3、R4、R5、R6及E1表示與上述相同意義;R7表示氫原子、氰基、甲基或苯基;Z1表示碳數1至12的烷二基、碳數6至18的2價芳香族烴基、-O-R2A-*1、-S-R2B-*1或-NR1D-R2C-*1;Z2表示單鍵、*2-CO-O-、*2-O-CO-、*2-S(=O)2-、*2-O-SO2-、*2-CO-NR1B-、*2-NR1C-CO-、*2-R2DO-P(=O)-OR2E-、*2-NR1E-CO-O-、*2-O-CO-NR1F-、*2-(OR2F)s1-、*2-CO-S-、*2-S-CO-或碳數1至4的全氟烷二基;R1B、R1C、R1D、R1E及R1F分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基;R2A、R2B、R2C、R2D、R2E及R2F分別獨立地表示碳數1至18的2價烴基;*1表示與Z2的鍵結鍵;*2表示與Z1的鍵結鍵]。
- 如申請專利範圍第12項所述之樹脂,其中,相對樹脂(A)的全部結構單元,選自群A記載的結構單元中的至少1個結構單元的含量為50質量%以上。
- 一種黏著劑組成物,該黏著劑組成物包含申請專利範圍第1項至第11項中任一項所述之樹脂。
- 如申請專利範圍第14項所述之黏著劑組成物,該黏著劑組成物更包含交聯劑(B)。
- 一種黏著劑層,該黏著劑層係由申請專利範圍第14或15項所述之黏著劑組成物所形成。
- 如申請專利範圍第16項所述之黏著劑層,該黏著劑層係滿足下述式(3),A(405)≧0.5 (3)式(3)中,A(405)表示在波長405nm中的吸光度。
- 如申請專利範圍第17項所述之黏著劑層,黏著劑層更滿足下述式(4),A(405)/A(440)≧5 (4)式(4)中,A(405)表示在波長405nm中的吸光度;A(440)表示在波長440nm中的吸光度。
- 一種光學積層體,該光學積層體係在申請專利範圍第16項至第18項中任一項所述之黏著劑層的至少一面積層有光學膜者。
- 如申請專利範圍第19項所述之光學積層體,其中,光學膜為偏光板。
- 一種影像顯示裝置,該影像顯示裝置包含申請專利範圍第20項所述之光學積層體。
- 一種化合物,該化合物係式(I)或式(IV)表示者,式(I)中,R1、R2、R3、R4、R5及R6分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR1A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;R1A表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;E1表示吸電子基;Z表示連結基;A表示聚合性基;式(IV)中,R12及R17分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR11A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;R11、R13、R14、R15及R16分別獨立地表示氫原子、雜環基、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、包含聚合性基的基、可具有取代基的碳數1至25的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6至18的芳香族烴基,該脂肪族烴基或芳香族烴基所包含的-CH2-可被-NR12A-、-SO2-、-CO-、-O-、-S-或-CF2-取代;惟,R11、R13、R14、R15及R16中之至少一者表示包含聚合性基的基;R11A及R12A分別獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或碳數6至18的芳香族烴基;E11表示吸電子基。
- 如申請專利範圍第22項所述之化合物,其中,R2為苯基。
- 如申請專利範圍第22項所述之化合物,其中,式(I)表示的化合物為式(III)表示的化合物,R1、R3、R4、R5、R6及E1表示與上述相同意義;R7表示氫原子、氰基、甲基或苯基;Z1表示碳數1至12的烷二基、碳數6至18的2價芳香族烴基、-O-R2A-*1、-S-R2B-*1或-NR1D-R2C-*1;Z2表示單鍵、*2-CO-O-、*2-O-CO-、*2-S(=O)2-、*2-O-SO2-、*2-CO-NR1B-、*2-NR1C-CO-、*2-R2DO-P(=O)-OR2E-、*2-NR1E-CO-O-、*2-O-CO-NR1F-、*2-(OR2F)s1-、*2-CO-S-、*2-S-CO-或碳數1至4的全氟烷二基;R1B、R1C、R1D、R1E及R1F分別獨立地表示氫原子或碳數1至6的烷基;R2A、R2B、R2C、R2D、R2E及R2F分別獨立地表示碳數1至18的2價烴基;*1表示與Z2的鍵結鍵;*2表示與Z1的鍵結鍵。
- 如申請專利範圍第22項至第24項中任一項所述之化合物,其中,E1為氰基。
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