TW202015498A - 電路板的背鑽孔方法 - Google Patents

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TW202015498A TW107134639A TW107134639A TW202015498A TW 202015498 A TW202015498 A TW 202015498A TW 107134639 A TW107134639 A TW 107134639A TW 107134639 A TW107134639 A TW 107134639A TW 202015498 A TW202015498 A TW 202015498A
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鐘歡歡
張濤
范立文
孫奇
呂政明
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健鼎科技股份有限公司
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Abstract

一種電路板的製造方法,包括:提供鑽孔機,其包含工作台及設置於工作台上方的鑽頭;將電路板設置於工作台,其中,電路板具有頂面及底面、且包含由頂面至底面依序堆疊的多個板結構,電路板進一步定義有預設背鑽孔區域及背鑽孔深度測試區域,並且多個板結構的其中一個板結構在背鑽孔深度測試區域設置內層檢測金屬墊;依據背鑽孔深度測試區域以鑽頭接觸頂面,以獲得一第一高度資訊;依據背鑽孔深度測試區域以鑽頭接觸內層檢測金屬墊,以獲得第二高度資訊;依據第一高度資訊及第二高度資訊計算實際背鑽孔深度值。本發明另提供一種鑽孔機。

Description

電路板的製造方法及鑽孔機
本發明涉及一種電路板的製造方法及鑽孔機,尤其涉及一種能提升背鑽孔深度的加工精度的電路板的製造方法及鑽孔機。
現有的電路板的製造方法在進行背鑽孔作業時,其是以電路板的表面銅面為基準來統一下鑽設定的深度值,其並沒有考量到電路板與電路板之間的板厚差異或板厚均勻性不佳對背鑽孔深度(stub length)的加工精度帶來的影響。因此,當電路板與電路板之間的板厚差異較大或板厚均勻性不佳時,背鑽孔深度的加工精度會隨著背鑽孔的深度越深,其誤差範圍就會越大。舉例來說,當背鑽孔的深度大於90mil時,背鑽孔深度的加工精度的誤差範圍將達到正負5mil。
於是,本發明人認為上述缺陷可改善,乃特潛心研究並配合科學原理的運用,終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。
本發明實施例在於提供一種電路板的製造方法及一種鑽孔機,能有效改善現有的電路板及其製造方法所存在的缺陷。
本發明實施例公開一種電路板的製造方法,包括:提供一鑽孔機;其中,所述鑽孔機包含一工作台、間隔地設置於所述工作 台上方的一鑽頭、及電性連接所述鑽頭的一控制模組;將一電路板設置於所述鑽孔機的所述工作台上;其中,所述電路板具有一頂面及一底面,並且所述電路板包含有由所述頂面至所述底面依序堆疊的多個板結構;其中,所述電路板進一步定義有一預設背鑽孔區域及相鄰於所述預設背鑽孔區域的一背鑽孔深度測試區域,並且所述電路板的多個所述板結構的其中一個所述板結構在所述背鑽孔深度測試區域處設置有一內層檢測金屬墊;實施一第一檢測作業,包含:依據所述背鑽孔深度測試區域以所述鑽孔機的所述鑽頭接觸所述電路板的所述頂面,以獲得所述頂面位於所述背鑽孔深度測試區域的一第一高度資訊;實施一第二檢測作業,包含:依據所述背鑽孔深度測試區域以所述鑽孔機的所述鑽頭對所述電路板進行鑽孔、直至所述鑽頭接觸所述電路板的所述內層檢測金屬墊,以獲得一第二高度資訊;依據所述第一高度資訊及所述第二高度資訊以所述鑽孔機的所述控制模組計算出一實際背鑽孔深度值;以及實施一背鑽孔作業,包含:依據所述實際背鑽孔深度值在所述預設背鑽孔區域處以所述鑽孔機的所述鑽頭對所述電路板進行背鑽孔,以使得所述電路板形成有一背鑽孔。
本發明實施例另公開一種鑽孔機,包含:一工作台:其中,所述工作台能提供一電路板設置於其上;一鑽頭,間隔地設置於所述工作台的上方;其中,所述鑽頭能於一第一檢測作業中依據所述電路板的一背鑽孔深度測試區域朝所述工作台的方向移動,以接觸所述電路板的一頂面;其中,所述鑽頭能於一第二檢測作業中依據所述電路板的所述背鑽孔深度測試區域朝所述工作台的方向移動、且對所述電路板進行鑽孔、直至所述鑽頭接觸設置於所述電路板的多個板結構中的其中一個所述板結構上的一內層檢測金屬墊;以及一控制模組,電性連接於所述鑽頭;其中,所述控制模組能於所述第一檢測作業中、發送一第一電流訊號至所述鑽頭,並且當所述鑽頭接觸所述電路板的所述頂面時,所述控制 模組能接收由所述鑽頭及所述頂面產生的一第一回饋訊號、且依據所述第一回饋訊號獲得一第一高度資訊;其中,所述控制模組能於所述第二檢測作業中、發送一第二電流訊號至所述鑽頭,並且當所述鑽頭接觸所述內層檢測金屬墊時,所述控制模組能接收由所述鑽頭及所述內層檢測金屬墊產生的一第二回饋訊號、且依據所述第二回饋訊號獲得一第二高度資訊;其中,所述控制模組能依據所述第一高度資訊及所述第二高度資訊計算出一實際背鑽孔深度值。
綜上所述,本發明實施例的電路板的製造方法及鑽孔機能通過所述鑽孔機的鑽頭分別於第一及第二檢測作業中對電路板的頂面及內層檢測金屬墊進行檢測、以分別獲得第一及第二高度資訊,並且能依據所述第一及第二高度資訊計算出一實際背鑽孔深度值,從而使得所述背鑽孔深度(stub length)的加工精度被大幅提升。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,但是此等說明與附圖僅用來說明本發明,而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
100‧‧‧鑽孔機
110‧‧‧工作台
111‧‧‧工作台面
120‧‧‧鑽頭
121‧‧‧主軸
122‧‧‧第一鑽針
123‧‧‧第二鑽針
124‧‧‧第三鑽針
125‧‧‧第四鑽針
130‧‧‧控制模組
200‧‧‧電路板
201‧‧‧頂面
202‧‧‧底面
210‧‧‧頂導電層
220‧‧‧底導電層
230‧‧‧板結構
231‧‧‧內層檢測金屬墊
232‧‧‧內層金屬導體
233‧‧‧窗口
234‧‧‧測試鑽孔
240‧‧‧通孔
250‧‧‧傳導層
260‧‧‧背鑽孔
DR‧‧‧預設背鑽孔區域
TR‧‧‧背鑽孔深度測試區域
TR1‧‧‧第一測試區域
TR2‧‧‧第二測試區域
H1‧‧‧第一高度資訊
H2‧‧‧第二高度資訊
SL‧‧‧背鑽孔深度
P‧‧‧投影平面
圖1為本發明實施例鑽孔機的示意圖。
圖2為本發明實施例電路板的製造方法步驟S101及步驟S102的示意圖。
圖3為本發明實施例電路板的製造方法步驟S103的示意圖(一)。
圖4為本發明實施例電路板的製造方法步驟S103的示意圖(二)。
圖5為本發明實施例電路板的製造方法步驟S104的示意圖。
圖6為本發明實施例電路板的製造方法步驟S105的示意圖(一)。
圖7為本發明實施例電路板的製造方法步驟S105的示意圖(二)。
圖8為本發明實施例電路板的製造方法步驟S107的示意圖。
圖9為本發明實施例的內層檢測金屬墊電性連接於多個內層金屬導體的示意圖。
圖10為本發明實施例的測試鑽孔落在窗口的輪廓內側的示意圖。
請參閱圖1至圖10,為本發明的實施例,需先說明的是,本實施例對應附圖所提及的相關數量與外型,僅用來具體地說明本發明的實施方式,以便於了解本發明的內容,而非用來侷限本發明的保護範圍。
[電路板的製造方法]
本實施例公開一種電路板的製造方法。所述電路板的製造方法包含步驟S101、步驟S102、步驟S103、步驟S104、步驟S105、步驟S106、及步驟S107。必須說明的是,本實施例所載之各步驟的順序與實際的操作方式可視需求而調整,並不限於本實施例所載。
如圖1及圖2,步驟S101為提供一鑽孔機100。所述鑽孔機100包含一工作台110、一鑽頭120、及一控制模組130。其中,所述工作台110具有一工作台面111。所述鑽頭120包含一主軸121,所述主軸121能依據不同的製程需求更換且設置不同的鑽針(如下文所述的第一鑽針122、第二鑽針123、第三鑽針124、及第四鑽針125)。進一步地說,所述鑽頭120是間隔地設置於所述工作台110的工作台面111的上方、且能朝所述工作台面111的方向移動、以執行一檢測作業(如下文所述的第一檢測作業及第二檢測作業)或一鑽孔作業(如下文所述的背鑽孔作業)。所述控制模組130包含一電容式感應單元(圖未繪示)、一訊號處理單元(圖未繪示)、及一算術邏輯單元(圖未繪示),並且所述控制模組130是電性連接於所述鑽頭120。關於上述鑽頭120及控制模組130 的操作方式及能執行的功能將於下述步驟中適時地做說明。
請繼續參閱圖2,步驟S102為將一電路板200設置於工作台110的工作台面111上。更詳細地說,所述電路板200具有一頂面201及一底面202,並且所述電路板200包含有一頂導電層210、一底導電層220、及位於頂導電層210及底導電層220之間的多個板結構230。其中,所述頂導電層210的相反於多個板結構230的一側表面定義為所述頂面201,並且所述底導電層220的相反於多個板結構230的一側表面定義為所述底面202。也就是說,多個所述板結構230是由頂面201至底面202依序堆疊。進一步地說,在本實施例中,所述電路板200具有貫穿頂面201及底面202的一通孔240、及鍍設於所述通孔240孔壁上的一傳導層250,並且所述傳導層250是電性連接於頂導電層210及底導電層220。
值得一提的是,為了有利於後續各製造步驟的進行,本實施例的電路板200進一步定義有一預設背鑽孔區域DR及相鄰於所述預設背鑽孔區域DR的一背鑽孔深度測試區域TR。其中,上述電路板200的多個板結構230的其中一個板結構230在背鑽孔深度測試區域TR處設置有一內層檢測金屬墊231、以利於後續檢測作業的執行(如下文所述的第二檢測作業),並且上述電路板200的通孔240及傳導層250皆是位於預設背鑽孔區域DR的範圍內、以利於後續鑽孔作業的執行(如下文所述的背鑽孔作業)。
更詳細地說,本實施例的電路板200的背鑽孔深度測試區域TR進一步劃分為一第一測試區域TR1及相鄰於所述第一測試區域TR1的一第二測試區域TR2,並且所述內層檢測金屬墊231是位於第二測試區域TR2。再者,在本發明的一實施例中,所述電路板200具有不大於4毫米(mm)的板厚、不大於480毫米的板長、及不大於400毫米的板寬,但本發明不受限於此。
如圖3,步驟S103為實施一開窗作業。所述開窗作業包含:移除所述頂導電層210的位於背鑽孔深度測試區域TR的局部,以形成一窗口233。其中,所述窗口233的位置是對應於上述內層檢測金屬墊231的位置。
更詳細地說,請繼續參閱圖3,在本實施例中,所述窗口233的形成方式是通過在鑽頭120的主軸121上設置一第一鑽針122(如:直徑1毫米的鑽針)、且利用所述第一鑽針122對頂導電層210的位於背鑽孔深度測試區域TR的第二測試區域TR2的部分進行鑽孔,以使得所述頂導電層210的局部及多個板結構230的局部被移除,從而形成所述窗口233;在此情況下,所述窗口233的形狀是配合於第一鑽針122的形狀、呈倒圓錐狀,但本發明不受限於此。舉例來說,如圖4,在本發明的另一實施例中,所述窗口233的形成方式也可以例如是通過對頂導電層210的位於背鑽孔深度測試區域TR的第二測試區域TR2的部分進行蝕刻製程,以形成所述窗口233;在此情況下,所述蝕刻製程僅會將頂導電層210的局部移除、且不會對板結構230產生反應。
如圖5,步驟S104為實施一第一檢測作業。所述第一檢測作業包含:依據所述背鑽孔深度測試區域TR以鑽孔機100的鑽頭120接觸電路板200的頂面201,以獲得所述頂面201位於背鑽孔深度測試區域TR的一第一高度資訊H1。
更具體地說,在本實施例中,所述第一檢測作業是通過在鑽頭120的主軸121上設置一第二鑽針123(如:直徑0.4毫米的鑽針)、且利用所述鑽頭120的第二鑽針123接觸頂導電層210的頂面201位於背鑽孔深度測試區域TR的第一測試區域TR1的部分,以獲得所述第一高度資訊H1。
進一步地說,在實施所述第一檢測作業時,上述鑽孔機100的控制模組130的電容式感應單元(如:CBD電容式感應器)能 發送一第一電流訊號至鑽頭120的第二鑽針123,並且當所述鑽頭120的第二鑽針123接觸頂導電層210的頂面201、且與所述頂導電層210的頂面201電流導通時,上述鑽孔機100的控制模組130的訊號處理單元能接收由鑽頭120的第二鑽針123與所述頂導電層210的頂面201所共同產生的一第一回饋訊號、且依據所述第一回饋訊號進行訊號處理、以獲得所述第一高度資訊H1。
值得一提的是,在本發明的一實施例中,所述頂導電層210的頂面201的面積必須足夠大,以使得當所述鑽頭120的第二鑽針123接觸所述頂導電層210的頂面201時,能順利地啟動檢測作業(如:頂導電層210的頂面201的面積必須大於鑽頭120的主軸121的表面積,以利於形成足夠的電容、且能使得電容值大於標準值)。
如圖6及圖7,步驟S105為實施一第二檢測作業。所述第二檢測作業包含:依據所述背鑽孔深度測試區域TR以鑽孔機100的鑽頭120對電路板200進行鑽孔、直至所述鑽頭120接觸電路板200的內層檢測金屬墊231,以獲得一第二高度資訊H2。
更具體地說,在本實施例中,所述第二檢測作業是通過在鑽頭120的主軸121上設置一第三鑽針124(如:直徑0.4毫米的鑽針)、且利用所述鑽頭120的第三鑽針124通過上述窗口233對電路板200進行鑽孔、直至所述鑽頭120的第三鑽針124接觸位於背鑽孔深度測試區域TR的第二測試區域TR2的內層檢測金屬墊231,以獲得所述第二高度資訊H2(如圖6)、且使得所述電路板200形成有在空間上連通窗口233及內層檢測金屬墊231的一測試鑽孔234(如圖7)。其中,所述窗口233的孔徑較佳地是大於測試鑽孔234的孔徑,並且請一併參閱圖10,當所述電路板200沿其法線方向投影至一投影平面P上時,所述測試鑽孔234是落在窗口233的輪廓內側。
進一步地說,在實施所述第二檢測作業時,上述鑽孔機100的控制模組130的電容式感應單元能發送一第二電流訊號至鑽頭120的第三鑽針124,並且當所述鑽頭120的第三鑽針124接觸內層檢測金屬墊231、且與內層檢測金屬墊231電流導通時,上述鑽孔機100的控制模組130的訊號處理單元能接收由鑽頭120的第三鑽針124與內層檢測金屬墊231所共同產生的一第二回饋訊號、且依據所述第二回饋訊號進行訊號處理、以獲得所述第二高度資訊H2。
值得一提的是,若僅是由所述內層檢測金屬墊231做為啟動第二檢測作業的導電體,可能會有電容值不足而無法順利檢測作業的問題。請一併參閱圖9,在本發明的一實施例中,為了增加導電面積、以利於提升電容值及順利地啟動檢測作業,在所述電路板200的多個板結構230中,設置有所述內層檢測金屬墊231的板結構230進一步設置有多個額外的內層金屬導體232(如:額外的金屬墊),並且所述內層檢測金屬墊231是電性連接於多個內層金屬導體232,從而增加導電的面積、以提升電容值及順利地啟動檢測作業,但本發明不受限於此。舉例來說,在本發明的另一實施例中(圖未繪示),所述內層檢測金屬墊231也可以例如是電性連接於鍍設於通孔240孔壁上的傳導層250、且通過傳導層250電性連接於其它額外的導電體(如:頂導電層210或底導電層220),從而增加導電的面積。
另外值得一提的是,在本實施例中,所述電路板200的位於內層檢測金屬墊231至窗口233之間的部分較佳地是僅包含有絕緣材料、且不包含有任何其它的金屬導體(如圖3及圖4)。藉此,在實施所述第二檢測作業時,所述鑽頭120的第三鑽針124在通過窗口233對電路板200進行鑽孔後及接觸電路板200的內層檢測金屬墊231前、不會接觸到任何其它的金屬導體(如圖6)。
需說明的是,在本實施例中,所述第一鑽針122的直徑是大於第三鑽針124的直徑,以使得所述窗口233的直徑大於測試鑽孔234的直徑(如圖7)。再者,由於所述第二鑽針123與第三鑽針124都是用來執行檢測作業,因此其較佳地是採用直徑規格相同的鑽針;或者,在本發明的一實施例中,所述第二鑽針123與第三鑽針124也可以是採用同一根鑽針來執行第一檢測作業及第二檢測作業,本發明並不予以限制。
步驟S106為依據所述第一高度資訊H1及第二高度資訊H2以上述鑽孔機100的控制模組130的算術邏輯單元計算出一實際背鑽孔深度值,以利於實施後續被鑽孔作業(步驟S107)。
更詳細地說,在本發明的一實施例中,所述實際背鑽孔深度值的計算方式包含:將所述第一高度資訊H1與第二高度資訊H2相減、且取絕對值,以獲得所述實際背鑽孔深度值,但本發明不受限於此。
如圖8,步驟S107為實施一背鑽孔作業。所述背鑽孔作業,包含:依據所述實際背鑽孔深度值在預設背鑽孔區域DR處以鑽孔機100的鑽頭120對電路板200進行背鑽孔,以使得所述電路板200形成有一背鑽孔260。
更具體地說,在本實施例中,所述背鑽孔作業是通過在鑽頭120的主軸121上設置一第四鑽針125、且利用所述鑽頭120的第四鑽針125朝位於預設背鑽孔區域DR處的通孔240及傳導層250進行鑽孔,以形成有所述背鑽孔260。其中,所述鑽頭120的第四鑽針125對電路板200進行鑽孔的一下鑽深度即為所述背鑽孔深度值。
進一步地說,由於所述鑽頭120的第四鑽針125是朝位於預設背鑽孔區域DR處的通孔240及傳導層250進行鑽孔,因此在實 施所述背鑽孔作業之後,所述電路板200的背鑽孔260是重疊於所述通孔240的至少局部,以使得所述傳導層250的至少局部被移除、且使得所述背鑽孔260的孔壁不具有任何的傳導層250。其中,所述鑽頭120的第四鑽針125的孔徑較佳地是大於通孔240的孔徑,以使得所述背鑽孔260的孔徑是大於通孔240的孔徑,但本發明不受限於此。
綜上所述,本發明實施例的電路板的製造方法能通過所述鑽孔機100的鑽頭120分別於第一及第二檢測作業中對電路板200的頂面201及內層檢測金屬墊231進行檢測、以分別獲得第一及第二高度資訊H1、H2,並且能依據所述第一及第二高度資訊H1、H2計算出一實際背鑽孔深度值,從而使得所述背鑽孔深度SL(stub length)的加工精度被大幅提升。
更詳細地說,現有的電路板的製造方法在進行背鑽孔作業時,其是以電路板的表面銅面為基準來統一下鑽設定的深度值,其並沒有考量到電路板與電路板之間的板厚差異或板厚均勻性不佳對背鑽孔深度(stub length)的加工精度帶來的影響。因此,當電路板與電路板之間的板厚差異較大或板厚均勻性不佳時,背鑽孔深度的加工精度會隨著背鑽孔的深度越深,其誤差範圍就會越大。舉例來說,當背鑽孔的深度大於90mil時,背鑽孔深度的加工精度的誤差範圍將達到正負5mil。
相對於上述缺失,本發明實施例的電路板的製造方法能使得被製造出來的電路板200的背鑽孔深度SL(如圖8)的加工精度被大幅地提升。舉例來說,當所述背鑽孔深度SL小於90mil時,所述背鑽孔深度SL的加工精度為正負1.5mil以內,並且當所述背鑽孔深度SL小於90mil時,所述背鑽孔深度SL的加工精度為正負2mil以內。
[鑽孔機]
以上為本發明實施例的電路板的製造方法的說明,而以下接著說明能用於上述電路板的製造方法的鑽孔機100。必須說明的是,雖然本實施例的鑽孔機100能用於上述電路板的製造方法,但本發明不受限於此。也就是說,本實施例的鑽孔機100也可以用於其它種類的電路板的製造方法。
如圖1及圖2,本實施例另公開一種鑽孔機100。所述鑽孔機100包含工作台110、間隔地設置於所述工作台110上方的一鑽頭120、及電性連接於所述鑽頭120的一控制模組130。
如圖2,所述工作台110能提供一電路板200設置於其上。如圖5及圖6,所述鑽頭120能於一第一檢測作業中依據電路板200的一背鑽孔深度測試區域TR朝工作台110的方向移動,以接觸所述電路板200的一頂面201(如圖5)。其中,所述鑽頭120能於一第二檢測作業中依據電路板200的背鑽孔深度測試區域TR朝工作台110的方向移動、且對所述電路板200進行鑽孔、直至所述鑽頭120接觸設置於電路板200的多個板結構230中的其中一個板結構230上的內層檢測金屬墊231(如圖6)。
所述控制模組130能於第一檢測作業中、發送一第一電流訊號至所述鑽頭120,並且當所述鑽頭120接觸電路板200的頂面201時,所述控制模組130能接收由鑽頭120及頂面201產生的一第一回饋訊號、且依據所述第一回饋訊號獲得一第一高度資訊H1。再者,所述控制模組130能於所述第二檢測作業中、發送一第二電流訊號至所述鑽頭120,並且當所述鑽頭120接觸內層檢測金屬墊231時,所述控制模組130能接收由鑽頭120及內層檢測金屬墊231產生的一第二回饋訊號、且依據所述第二回饋訊號獲得所述第二高度資訊H2。其中,所述控制模組130能依據第一高度資訊H1及第二高度資訊H2計算出一實際背鑽孔深度值。
[本發明實施例的技術功效]
綜上所述,本發明實施例的電路板的製造方法及鑽孔機100能通過所述鑽孔機100的鑽頭120分別於第一及第二檢測作業中對電路板200的頂面201及內層檢測金屬墊231進行檢測、以分別獲得第一及第二高度資訊H1、H2,並且能依據所述第一及第二高度資訊H1、H2計算出一實際背鑽孔深度值,從而使得所述背鑽孔深度SL(stub length)的加工精度被大幅提升。
以上所述僅為本發明的優選可行實施例,並非用來侷限本發明的保護範圍,凡依本發明申請專利範圍所做的均等變化與修飾,皆應屬本發明的權利要求書的保護範圍。
100‧‧‧鑽孔機
110‧‧‧工作台
111‧‧‧工作台面
120‧‧‧鑽頭
121‧‧‧主軸
125‧‧‧第四鑽針
200‧‧‧電路板
201‧‧‧頂面
202‧‧‧底面
210‧‧‧頂導電層
220‧‧‧底導電層
230‧‧‧板結構
231‧‧‧內層檢測金屬墊
233‧‧‧窗口
234‧‧‧測試鑽孔
240‧‧‧通孔
250‧‧‧傳導層
260‧‧‧背鑽孔
DR‧‧‧預設背鑽孔區域
TR‧‧‧背鑽孔深度測試區域
TR1‧‧‧第一測試區域
TR2‧‧‧第二測試區域
SL‧‧‧背鑽孔深度

Claims (10)

  1. 一種電路板的製造方法,包括:提供一鑽孔機;其中,所述鑽孔機包含一工作台、間隔地設置於所述工作台上方的一鑽頭、及電性連接所述鑽頭的一控制模組;將一電路板設置於所述鑽孔機的所述工作台上;其中,所述電路板具有一頂面及一底面,並且所述電路板包含有由所述頂面至所述底面依序堆疊的多個板結構;其中,所述電路板進一步定義有一預設背鑽孔區域及相鄰於所述預設背鑽孔區域的一背鑽孔深度測試區域,並且所述電路板的多個所述板結構的其中一個所述板結構在所述背鑽孔深度測試區域處設置有一內層檢測金屬墊;實施一第一檢測作業,包含:依據所述背鑽孔深度測試區域以所述鑽孔機的所述鑽頭接觸所述電路板的所述頂面,以獲得所述頂面位於所述背鑽孔深度測試區域的一第一高度資訊;實施一第二檢測作業,包含:依據所述背鑽孔深度測試區域以所述鑽孔機的所述鑽頭對所述電路板進行鑽孔、直至所述鑽頭接觸所述電路板的所述內層檢測金屬墊,以獲得一第二高度資訊;依據所述第一高度資訊及所述第二高度資訊以所述鑽孔機的所述控制模組計算出一實際背鑽孔深度值;以及實施一背鑽孔作業,包含:依據所述實際背鑽孔深度值在所述預設背鑽孔區域處以所述鑽孔機的所述鑽頭對所述電路板進行背鑽孔,以使得所述電路板形成有一背鑽孔。
  2. 如請求項1所述的電路板的製造方法,其中,所述電路板具有貫穿所述頂面及所述底面的一通孔、及鍍設於所述通孔孔壁上的一傳導層;其中,所述電路板的所述通孔及所述傳導層皆是位於所述預設背鑽孔區域的範圍內;其中,在實施所述背鑽孔 作業之後,所述電路板的所述背鑽孔是重疊於所述通孔的至少局部,以使得所述傳導層的至少局部被移除、且使得所述背鑽孔的孔壁不具有任何的傳導層。
  3. 如請求項1所述的電路板的製造方法,其中,在實施所述第一檢測作業時,所述鑽孔機的所述控制模組能發送一第一電流訊號至所述鑽頭,並且當所述鑽頭接觸所述電路板的所述頂面時,所述控制模組能接收由所述鑽頭與所述頂面產生的一第一回饋訊號、且依據所述第一回饋訊號獲得所述第一高度資訊;其中,在實施所述第二檢測作業時,所述鑽孔機的所述控制模組能發送一第二電流訊號至所述鑽頭,並且當所述鑽頭接觸所述內層檢測金屬墊時,所述控制模組能接收由所述鑽頭及所述內層檢測金屬墊產生的一第二回饋訊號、且依據所述第二回饋訊號獲得所述第二高度資訊。
  4. 如請求項1所述的電路板的製造方法,其中,所述電路板進一步包含有一頂導電層及一底導電層,多個所述板結構是位於所述頂導電層及所述底導電層之間,並且所述頂導電層的相反於多個所述板結構的一側表面為所述頂面;其中,在實施所述第二檢測作業前,所述電路板的製造方法進一步包含實施一開窗作業,並且所述開窗作業包含:移除所述頂導電層的位於所述背鑽孔深度測試區域的局部,以形成位置對應於所述內層檢測金屬墊的一窗口;其中,在實施所述第二檢測作業時,所述鑽孔機的所述鑽頭能通過所述窗口對所述電路板進行鑽孔,以使得所述電路板形成有連通所述窗口及所述內層檢測金屬墊的一測試鑽孔。
  5. 如請求項4所述的電路板的製造方法,其中,所述窗口的孔徑是大於所述測試鑽孔的孔徑,並且當所述電路板沿其法線方向投影至一投影平面上時,所述測試鑽孔是落在所述窗口的輪廓內側。
  6. 如請求項4所述的電路板的製造方法,其中,在實施所述開窗作業後,所述電路板的位於所述內層檢測金屬墊至所述窗口之間的部分僅包含有絕緣材料、且不包含有任何的金屬導體,以使得所述鑽孔機的所述鑽頭在通過所述窗口對所述電路板進行鑽孔後及接觸所述電路板的所述內層檢測金屬墊前、不會接觸到任何的金屬導體。
  7. 如請求項1所述的電路板的製造方法,其中,在所述電路板的多個所述板結構中,設置有所述內層檢測金屬墊的所述板結構進一步設置有多個內層金屬導體,並且所述內層檢測金屬墊是電性連接於多個所述內層金屬導體。
  8. 如請求項1所述的電路板的製造方法,其中,所述電路板的所述背鑽孔深度測試區域進一步劃分為一第一測試區域及相鄰於所述第一測試區域的一第二測試區域,並且所述內層檢測金屬墊是位於所述第二測試區域;其中,在實施所述第一檢測作業時,所述第一高度資訊是通過所述鑽孔機的所述鑽頭接觸所述頂面的位於所述第一測試區域的部分而獲得;其中,在實施所述第二檢測作業時,所述第二高度資訊是通過所述鑽孔機的所述鑽頭接觸位於所述第二測試區域的所述內層檢測金屬墊而獲得。
  9. 如請求項1至8中任一項所述的電路板的製造方法,其中,當所述背鑽孔的深度(stub length)小於90mil時,所述背鑽孔深度的加工精度為正負1.5mil以內;其中,當所述背鑽孔的深度(stub length)大於90mil時,所述背鑽孔深度的加工精度為正負2mil以內。
  10. 一種鑽孔機,包含:一工作台:其中,所述工作台能提供一電路板設置於其上;一鑽頭,間隔地設置於所述工作台的上方;其中,所述鑽頭能於一第一檢測作業中依據所述電路板的一背鑽孔深度測試 區域朝所述工作台的方向移動,以接觸所述電路板的一頂面;其中,所述鑽頭能於一第二檢測作業中依據所述電路板的所述背鑽孔深度測試區域朝所述工作台的方向移動、且對所述電路板進行鑽孔、直至所述鑽頭接觸設置於所述電路板的多個板結構中的其中一個所述板結構上的一內層檢測金屬墊;以及一控制模組,電性連接於所述鑽頭;其中,所述控制模組能於所述第一檢測作業中、發送一第一電流訊號至所述鑽頭,並且當所述鑽頭接觸所述電路板的所述頂面時,所述控制模組能接收由所述鑽頭及所述頂面產生的一第一回饋訊號、且依據所述第一回饋訊號獲得一第一高度資訊;其中,所述控制模組能於所述第二檢測作業中、發送一第二電流訊號至所述鑽頭,並且當所述鑽頭接觸所述內層檢測金屬墊時,所述控制模組能接收由所述鑽頭及所述內層檢測金屬墊產生的一第二回饋訊號、且依據所述第二回饋訊號獲得一第二高度資訊;其中,所述控制模組能依據所述第一高度資訊及所述第二高度資訊計算出一實際背鑽孔深度值。
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