TW202001135A - 真空閥 - Google Patents

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Abstract

藉由將真空閥的主閥體以及副閥體予以改良，以實現該真空閥的小型化和構造的簡化。 具有：主流路(17)，是連結第1埠(15)和第2埠(16)；主閥座(19)，是包圍該主流路(17)；主閥體(20)，是藉由接觸和離開該主閥座(19)來開閉前述主流路(17)；副流路(21)，是形成於該主閥體(20)的內部；副閥座(24)，是形成於前述主閥體(20)的外面；副閥體(25)，是藉由在前述主閥體(20)的外部接觸和離開該副閥座(24)來開閉前述副流路(21)；以及桿(35)，是使前述主閥體(20)及副閥體(25)進行開閉，前述副閥體(25)是藉由以前述桿(35)直接操作來開閉前述副流路(21)，前述主閥體(20)是藉由以前述桿(35)經由前述副閥體(25)操作來開閉前述主流路(17)。

Description

真空閥
本發明有關於真空閥，更詳細地說是有關於為了段階性將連結兩個埠的流路予以開閉，將開度較大的主閥部和開度較小的副閥部並列設置的真空閥。
將連結兩個埠的流路為了段階性予以開閉，將開度較大的主閥部和開度較小的副閥部並列設置的真空閥，如專利文獻1-3揭示般已為公知。此類的真空閥，使用於例如在半導體處理裝置中連接於真空處理室和真空泵之間，且將前述真空處理室進行減壓的情況。
然而，因為公知的真空閥的構成，是在設置於前述主閥部的主閥體的內部，設置剖面積較小的副流路和包圍該副流路的副閥座，並且收容副閥體，使該副閥體在前述主閥體的內部移位，藉此使該副閥體接觸和離開前述副閥座來將前述副流路予以開閉，所以會有造成前述主閥體大形化的同時其構造也跟著複雜，容易導致真空閥整體的大形化以及構造複雜的問題。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1　日本特開昭52-16017號公報 專利文獻2　日本特開平9-137879號公報 專利文獻3　日本特開2007-16996號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明的技術的課題，在於藉由將真空閥的主閥體以及副閥體予以改良，以實現該真空閥的小型化和構造的簡化。 [解決問題之技術手段]
為了解決問題，所以本發明的真空閥，具有：第1埠和第2埠，是形成於殼體；主流路，是以在前述殼體的內部連結該第1埠和第2埠的方式形成；主閥座，是包圍該主流路；主閥體，是藉由接觸和離開該主閥座來將前述主流路予以開閉；副流路，是以在該主閥體的內部與前述主流路成為並列的方式形成；副閥座，是以在前述主閥體包圍該副流路的方式形成；副閥體，是藉由接觸和離開該副閥座來將前述副流路予以開閉；以及開閉操作機構，是將前述主閥體和副閥體予以開閉操作。在前述殼體的內部，配置成桿滑動自如貫穿前述主閥體，前述開閉操作機構連結於該桿的軸線方向的一端亦即基端部，並且在該桿的軸線方向的另一端亦即前端部，前述副閥體配置成在前述主閥體的外部接觸和離開該主閥體，前述副閥座形成於該主閥體的外面的前述副閥體所抵接的部分，前述副閥體是藉由以前述桿直接操作來將前述副流路予以開閉，前述主閥體是藉由以前述桿經由前述副閥體操作來開閉前述主流路。
在本發明中，前述桿具有以可分離方式連結的前端側的第1桿部和基端側的第2桿部，前述第1桿部是貫穿前述主閥體，且前述副閥體設置於該第1桿部的前端，前述第2桿部是連結於前述開閉操作機構，前述主閥體可藉由將前述第1桿部從前述第2桿部分離而從前述桿拆卸。
在此情況下，較理想為，前述主閥體，具有：圓盤構件，是接觸和離開前述主閥座；以及圓筒構件，是與該圓盤構件形成不同個體且組合於該圓盤構件，前述副流路形成於前述圓盤構件和圓筒構件之間，並且前述副閥座形成於前述圓盤構件，在前述圓筒構件的內周，設置：軸承構件，是導引前述桿；以及密封構件，是將該圓筒構件的內周和前述桿的外周之間予以密封。
另外，較理想為在前述桿，形成筒狀的彈簧承接構件被安裝成沿著該桿移位自如，但藉由卡止於前述第2桿部而無法從該第2桿部分離，在前述彈簧承接構件，設置：筒狀的蓋部，是前述主閥體的圓筒構件所嵌合；第1彈簧座；以及第2彈簧座，將前述主閥體朝抵接於前述主閥座的方向彈壓的主閥彈簧，是在壓縮狀態下介設於前述第1彈簧座和形成於前述殼體的主彈簧座之間，經由該桿將前述副閥體朝抵接於前述副閥座的方向彈壓的副閥彈簧，是在壓縮狀態下介設於前述第2彈簧座和形成於前述桿的副彈簧座之間，包圍前述主閥彈簧以及副閥彈簧的伸縮囊的一端連結於前述主閥體，該伸縮囊的另一端連結於前述殼體。
在本發明中，也可以構成前述副閥體是藉由前述桿的前進動作，從前述副閥座離開來開放前述副流路，前述主閥體是藉由前述桿的後退動作，經由前述副閥體而移位，從前述主閥座離開來開放前述主流路。
並且，尚構成前述開閉操作機構是由一個流體壓力缸所形成，具有：活塞，是連結於前述桿；第1壓力室，是形成於該活塞的一側；以及第2壓力室，是形成於該活塞的另一側，前述活塞是連結於前述桿，當將壓力流體供給於前述第1壓力室時，前述活塞以及桿前進且前述副閥體將副流路予以開放，當將壓力流體供給於前述第2壓力室時，前述活塞以及桿後退且前述主閥體將主流路予以開放。
另外，也可以前述真空閥具有調整前述副閥體的開度的開度調整機構，該開度調整機構，具有：調整螺帽，是可通過形成於前述殼體的側面的操作口進行旋轉操作；以及止動件，是與該調整螺帽嚙合，該止動件可藉由將前述調整螺帽進行旋轉操作來朝軸線方向移位，而構成依據該止動件的位置來調整前述副閥體的開度。 [發明效果]
本發明的真空閥，藉著構成將副閥座設置於主閥體的外部，並將此副閥座，以配置於前述主閥體的外部的副閥體來進行開閉，相較於如以往的真空閥般將設置於主閥體的內部的副閥座以收容於該主閥體的內部的副閥體進行開閉，更能夠實現真空閥的構造的簡化和小型化。
圖是表示本發明所涉及的真空閥的一個實施方式，此真空閥是使用於例如在半導體處理裝置中連接於真空處理室和真空泵之間，且將前述真空處理室進行減壓的用途上。 前述真空閥如從第1圖至第3圖所瞭解般，具有平面視形狀為矩形的殼體10，該殼體10是將中空的第1殼體構件11和中空的第2殼體構件12，經由矩形的間隔壁構件13以複數的連結螺子14在軸線L方向進行結合所形成。
前述第1殼體構件11具有朝前述軸線L方向開口的第1埠15、以及朝與該軸線L正交的方向開口的第2埠16，連結前述第1埠15和第2埠16的主流路17，形成於前述第1殼體構件11的內部。 前述第1埠15以及第2埠16的其中一方(例如第2埠16)是連接於半導體製造裝置的真空處理室，另一方(例如第1埠15)是連接於真空泵。
閥室18形成於前述主流路17的局部，在軸線L上的位置包圍前述主流路17的環狀的主閥座19形成於該閥室18的內部，並且收容有接觸和離開該主閥座19來開閉前述主流路17的主閥體20。
副流路21以與前述主流路17並列的方式形成在前述主閥體20的內部。該副流路21的一端是通過在前述主閥體20的底面開口的第1開口部22來連通於前述第1埠15，該副流路21的另一端是通過在前述主閥體20的頂面開口的第2開口部23來連通於前述第2埠16。前述副流路21的剖面積是比前述主流路17的剖面積更小。
另外，環狀的副閥座24以在軸線L上的位置包圍前述副流路21的第1開口部22的方式形成於前述主閥體20的底面，板狀的副閥體25以在該主閥體20的外部接觸和離開前述副閥座24的方式配設於前述主閥體20的下方，藉由該副閥體25來開閉前述副流路21。前述副閥體25的直徑是比前述主閥體20的直徑更小。
如此般，藉著構成將副閥座24設置於主閥體20的外部，將此副閥座24，以配置於前述主閥體20的外部的副閥體25來進行開閉，相較於如以往的真空閥般將設置於主閥體的內部的副閥座以收容於該主閥體的內部的副閥體來進行開閉的構件，更能夠實現真空閥的構造的簡化和小型化。
前述主閥體20如同從第4圖所瞭解般，由圓盤構件30、以及直徑比該圓盤構件30小的圓筒構件31所形成。 接觸和離開前述主閥座19的環狀的主閥密封件32安裝在前述圓盤構件30的底面，圓形的凹陷部33形成在該圓盤構件30的頂面。前述第1開口部22形成在前述凹陷部33的底面中央位置，形成前述第2開口部23的缺口部34被形成在前述凹陷部33的直徑方向的相對位置。
前述圓筒構件31具有在下端部形成凸緣狀的嵌合部31a，藉由將該嵌合部31a嵌合於前述圓盤構件30的凹陷部33的內部，該圓筒構件31和前述圓盤構件30相互組合，連結前述第1開口部22和前述第2開口部23的前述副流路21，形成在該圓筒構件31和前述圓盤構件30之間。在此情況下，前述圓盤構件30和圓筒構件31也可以藉壓入等的方法來彼此固定，較佳為設置成不相互固定，且可以在維修時分離。
另外，沿著前述軸線L延伸的桿35，以將前述間隔壁構件13氣密地且滑動自如地貫穿的方式，配設在前述殼體10的內部。該桿35的前端部(下端部)是貫穿前述主閥體20的中心往該主閥體20的下方延伸突出，前述副閥體25設置於該桿35的前端部，用來將前述副閥體25和主閥體20進行開閉操作的開閉操作機構50，連結於前述桿35的基端部(上端部)。
前述桿35，具有：貫穿前述主閥體20的圓盤構件30和圓筒構件31的前端側的第1桿部36、以及連結於前述開閉操作機構50的基端側的第2桿部37，前述第1桿部36和第2桿部37是藉由鎖入等的方法可分離地連結。而且，形成圓板狀的前述副閥體25被形成於前述第1桿部36的前端，前述開閉操作機構50的活塞51連結於前述第2桿部37的基端。 在圖示的例中，前述副閥體25是與前述第1桿部36一體形成，但該副閥體25也可以與前述第1桿部36形成不同個體且連結於該第1桿部36。圖中的符號38是安裝於前述副閥體25的環狀的副閥密封件。
將導引前述桿35的第1桿部36的軸承構件39、以及將該圓筒構件31的內周和前述第1桿部36的外周之間予以密封的密封構件40，被設置在前述主閥體20之前述圓筒構件31的內周。
因前述主閥體20如上述般安裝於前述桿35的第1桿部36，所以將前述殼體10的第1殼體構件11從間隔壁構件13分離後，藉由將前述桿35的第1桿部36從前述第2桿部37分離，可以將該主閥體20從前述桿35拆卸，並且也可以從前述第1桿部36拆卸。並且，從前述桿35拆卸的主閥體20，也可以將前述圓盤構件30和圓筒構件31予以分離。
另外，在前述桿35的外周，筒狀的彈簧承接構件41被配設於在比前述主閥體20的圓筒構件31更上方位置。此彈簧承接構件41可沿著前述桿35移位，但因為卡止於形成在前述第2桿部37的卡止環42，導致無法往比卡止的位置更下方移動。 往前述主閥體20側延伸突出的圓筒狀的蓋部41a形成於前述彈簧承接構件41，前述主閥體20的圓筒構件31分離自如地嵌合於該蓋部41a的內部。
在前述彈簧承接構件41，在其下端部形成具凸緣狀的第1彈簧座41b，並且在其上端部形成第2彈簧座41c。而且，主閥彈簧44在壓縮狀態，介設於前述第1彈簧座41b、以及形成於前述間隔壁構件13的主彈簧座13a之間，藉由該主閥彈簧44，前述主閥體20朝抵接於前述主閥座19的方向被彈壓。另外，副閥彈簧45在壓縮狀態，介設於前述第2彈簧座41c、以及形成於前述桿35的第2桿部37的副彈簧座35a之間，藉由該副閥彈簧45，前述副閥體25經由前述桿35朝抵接於前述副閥座24的方向被彈壓。
另一方面，由金屬所成的伸縮自如的伸縮囊46的一端，是經由與該伸縮囊46成為一體的環狀的安裝部46a且藉由溶接等的方法，固定於前述主閥體20的圓筒構件31，該伸縮囊46的另一端是連結於環狀的支撐構件47，該支撐構件47被夾在前述殼體10的第1殼體構件11和前述間隔壁構件13之間。 前述伸縮囊46是包圍前述桿35、彈簧承接構件41、主閥彈簧44、以及副閥彈簧45、前述主閥體20的局部，並且將該等與程序氣體遮斷的構件。
前述伸縮囊46是在將前述殼體10的第1殼體構件11從間隔壁構件13分離後，將前述桿35的第1桿部36從前述第2桿部37分離且將前述主閥體20從前述桿35拆卸時，可以與前述主閥體20一齊拆卸。 對此，因為前述彈簧承接構件41是卡止於前述桿35的第2桿部37而留在其位置，所以前述主閥彈簧44以及副閥彈簧45，也與該彈簧承接構件41一齊留在其位置。
如此般，前述真空閥為了進行因與程序氣體的接觸而容易劣化的前述伸縮囊46及主閥密封件32或副閥密封件38等的維修及交換等，因此可以將前述伸縮囊46及主閥體20或副閥體25等，簡單與其他的部品分離而往外部取出。因此，所以該真空閥的養護、維修較為容易，並且分解作業也較容易，另外，養護、維修後的再次組裝作業也容易。
接著，針對前述開閉操作機構50進行說明。如第2圖所示般，該開閉操作機構50是由一個的流體壓力缸所構成，本實施方式的流體壓力缸是氣缸。 前述開閉操作機構50是具有形成於前述第2殼體構件12的內部的圓形的缸孔52，前述活塞51經由安裝於該活塞51的外周的環狀的導引構件53和活塞密封件54，朝軸線L方向滑動自如地被收容於該缸孔52的內部。
前述缸孔52的一端是藉由氣密地安裝於前述第2殼體構件12的活塞密封件55來塞住，該缸孔52的另一端是藉由前述間隔壁構件13、以及構成後述的開度調整機構70的調整螺帽71和止動件72來塞住。 前述缸孔52的內部是藉由前述活塞51，劃分為：該活塞51和前述活塞密封件55之間的第1壓力室56、以及前述活塞51和前述間隔壁構件13以及調整螺帽71之間的第2壓力室57，前述第1壓力室56以及第2壓力室57是個別地連通於形成於前述第2殼體構件12的側面的第1操作埠58以及第2操作埠59。
前述桿35的基端部亦即上端部是將前述間隔壁構件13的中心孔氣密地貫穿而往前述缸孔52內延伸突出，且連結於前述活塞51。 圖中的符號60是介設於前述間隔壁構件13的內周和桿35的外周之間的軸承構件，同樣地符號61是將前述間隔壁構件13的內周和桿35的外周之間予以密封的密封構件。
前述活塞51是前述主閥體20抵接於前述主閥座19來閉鎖前述主流路17，並且前述副閥體25抵接於前述副閥座24來閉鎖前述副流路21時，藉由以前述副閥彈簧45往圖的上方彈壓，位於離開前述止動件72的上端的抵接面72a的位置(開閥位置)。
而且，由此狀態，如第5圖所示般，當通過前述第1操作埠58將壓縮空氣供給於第1壓力室56，並且將前述第2壓力室57通過第2操作埠59往外部開放時，前述活塞51下降(前進)至抵接於止動件72的抵接面72a的位置，前述桿35也與該活塞51一齊下降(前進)。因此，前述副閥體25離開副閥座24且前述副流路21開放。如第2圖所示般，此時的前述副閥體25的行程S是該副閥體25位於前述開閥位置時的活塞51的底面和前述止動件72的抵接面72a的距離。
接下來，當通過前述第2操作埠59將壓縮空氣供給於前述第2壓力室57，並且將前述第1壓力室56通過第1操作埠58往外部開放時，如第6圖所示般，前述活塞51上升(後退)至抵接於活塞密封件55的位置，前述桿35也與該活塞51一齊上升(後退)。而且，因為在前述桿35上升途中，前述副閥體25抵接於主閥體20而將該主閥體20擡起，所以該主閥體20離開前述主閥座19且前述主流路17開放。此時，前述副閥體25抵接於副閥座24因此前述副流路21受到閉鎖，但真空閥的動作上不會有問題。
用來調整前述副閥體25的開度的前述開度調整機構70，設置在前述開閉操作機構50。此開度調整機構70是由前述調整螺帽71和前述止動件72所構成，其具體的構造是如下所述。
首先，說明前述間隔壁構件13的具體構造。如從第7圖所瞭解般，環狀的凹部13b形成於前述間隔壁構件13的頂面，與該凹部13b的深度大致相同高度的圓筒部13c形成於該凹部13b的中央位置，前述桿35貫穿該圓筒部13c的中心。另外，連通於前述凹部13b的操作口13d，被設置在前述間隔壁構件13的側面。
前述調整螺帽71，具有：嵌合於前述缸孔52的內部的圓筒狀的嵌合部71a、以及形成於該嵌合部71a的下部的環狀的操作部71b，在該調整螺帽71的中心，形成：前述間隔壁構件13的圓筒部13c所嵌合的嵌合孔71c、以及前述止動件72所嚙合的螺絲孔71d。前述操作部71b的外徑是比前述嵌合部71a的外徑更大，該操作部71b的軸線L方向高度稍微小於前述間隔壁構件13的凹部13b的深度。 前述調整螺帽71是將前述操作部71b收容於前述間隔壁構件13的凹部13b內，藉由將該操作部71b隔著微細間隙來介於前述間隔壁構件13的凹部13b的底面和前述第2殼體構件12的下端面之間，在軸線L方向的移動受到限制的狀態下，配設成以該軸線L為中心旋轉自如。
成為用來防滑的齒輪狀的凹凸71e，被形成在前述操作部71b的外周，該操作部71b的局部是通過前述操作口13d從間隔壁構件13的側面露出於外部，可以通過該操作口13d以指來旋轉操作前述操作部71b。另外，為了使前述調整螺帽71在開度調整時以外不旋轉，在前述間隔壁構件13的側面，安裝固定螺絲75，將此固定螺絲75旋緊來使其前端卡止於前述調整螺帽71的側面，藉以固定該調整螺帽71。
此外，圖中的符號73是將前述嵌合部71a的外周和前述缸孔52的內周之間予以密封的密封構件，同樣地符號74是將前述調整螺帽71的內周和前述間隔壁構件13的圓筒部13c的外周之間予以密封的密封構件。
前述止動件72是形成圓筒狀的構件，具有在外周嚙合於前述調整螺帽71的螺絲孔71d的公螺絲72b，且前述桿35滑動自如地貫穿該止動件72的中心孔72c。在此情況下，前述止動件72對於前述桿35，在軸線L方向相對移位自如，但為了使其不以該軸線L為中心進行相對旋轉，所以前述中心孔72c和桿35是以剖面形狀成為六角的方式形成。
前述桿35成為六角形的部分是如第5圖所示般，只有前述第2桿部37的基端側的大徑部37a，該第2桿部37的前端側的小徑部37b、以及連結於該小徑部37b的前述第1桿部36是剖面形狀為圓形，並且彼此直徑相同。因此，安裝於前述間隔壁構件13的中心孔的前述軸承構件60以及密封構件61可以對應於六角形的桿35。
在前述開度調整機構70中，如第2圖所示般，當從前述止動件72的上端的抵接面72a位於與前述調整螺帽71的上端面相同位置的狀態，旋鬆前述固定螺絲75，操作前述操作部71b藉此使前述調整螺帽71朝一方向旋轉時，因為前述止動件72無法相對於前述桿35進行旋轉，所以如第7圖所示般，沿著前述軸線L往上方移位，且前述抵接面72a從調整螺帽71突出。而且，前述副閥體25的行程S亦即開度變小等同其突出量。
另外，在前述止動件72的抵接面72a從前述調整螺帽71的上端面突出的狀態下，當使該調整螺帽71朝反方向旋轉時，因為前述止動件72沿著軸線L下降，所以前述抵接面72a的突出量減少，且前述副閥體25的行程S變大等同其減少量。
此外，在前述實施方式中，前述開閉操作機構50由流體壓力缸所形成，此開閉操作機構50也可以由電動馬達來形成。在此情況下，前述開度調整機構70也可以省略。
10‧‧‧殼體 13‧‧‧間隔壁構件 13a‧‧‧主彈簧座 13d‧‧‧操作口 15‧‧‧第1埠 16‧‧‧第2埠 17‧‧‧主流路 18‧‧‧閥室 19‧‧‧主閥座 20‧‧‧主閥體 21‧‧‧副流路 24‧‧‧副閥座 25‧‧‧副閥體 30‧‧‧圓盤構件 31‧‧‧圓筒構件 35‧‧‧桿 35a‧‧‧副彈簧座 36‧‧‧第1桿部 37‧‧‧第2桿部 39‧‧‧軸承構件 40‧‧‧密封構件 41‧‧‧彈簧承接構件 41a‧‧‧蓋部 41b‧‧‧第1彈簧座 41c‧‧‧第2彈簧座 44‧‧‧主閥彈簧 45‧‧‧副閥彈簧 46‧‧‧伸縮囊 50‧‧‧開閉操作機構 51‧‧‧活塞 56‧‧‧第1壓力室 57‧‧‧第2壓力室 70‧‧‧開度調整機構 71‧‧‧調整螺帽 72‧‧‧止動件 L‧‧‧軸線
第1圖是本發明所涉及的真空閥的立體圖。 第2圖是第1圖的真空閥的中央縱剖面圖，且主流路以及副流路皆為閉鎖狀態的圖。 第3圖是第2圖的主要部分擴大圖。 第4圖是將第1圖的真空閥的局部分解展示的立體圖，在此立體圖中，省略殼體的局部亦即第1殼體構件。 第5圖是副閥體將副流路開放，且主閥體將主流路閉鎖的狀態的真空閥的剖面圖。 第6圖是主閥體將主流路開放的狀態的真空閥的剖面圖。 第7圖是表示藉由開度調整機構來調整副閥體的開度的狀態的真空閥的主要部分擴大剖面圖。
10‧‧‧殼體
11‧‧‧第1殼體構件
12‧‧‧第2殼體構件
13‧‧‧間隔壁構件
13c‧‧‧圓筒部
15‧‧‧第1埠
16‧‧‧第2埠
17‧‧‧主流路
18‧‧‧閥室
19‧‧‧主閥座
20‧‧‧主閥體
21‧‧‧副流路
22‧‧‧第1開口部
23‧‧‧第2開口部
24‧‧‧副閥座
25‧‧‧副閥體
32‧‧‧主閥密封件
35‧‧‧桿
36‧‧‧第1桿部
37‧‧‧第2桿部
38‧‧‧副閥密封件
41‧‧‧彈簧承接構件
42‧‧‧卡止環
46‧‧‧伸縮囊
50‧‧‧開閉操作機構
51‧‧‧活塞
52‧‧‧缸孔
53‧‧‧導引構件
54‧‧‧活塞密封件
55‧‧‧端板
56‧‧‧第1壓力室
57‧‧‧第2壓力室
58‧‧‧第1操作埠
59‧‧‧第2操作埠
60‧‧‧軸承構件
61‧‧‧密封構件
71‧‧‧調整螺帽
71a‧‧‧嵌合部
71b‧‧‧操作部
71c‧‧‧嵌合孔
71d‧‧‧螺絲孔
71e‧‧‧凹凸
72‧‧‧止動件
72a‧‧‧抵接面
73‧‧‧密封構件
74‧‧‧密封構件
75‧‧‧固定螺絲
S‧‧‧行程
L‧‧‧軸線

Claims (7)

  1. 一種真空閥，其特徵為： 具有： 第1埠和第2埠，是形成於殼體；主流路，是以在前述殼體的內部連結該第1埠和第2埠的方式形成；主閥座，是包圍該主流路；主閥體，是藉由接觸和離開該主閥座來將前述主流路予以開閉；副流路，是以在該主閥體的內部與前述主流路成為並列的方式形成；副閥座，是以在前述主閥體包圍該副流路的方式形成；副閥體，是藉由接觸和離開該副閥座來將前述副流路予以開閉；以及開閉操作機構，是將前述主閥體和副閥體予以開閉操作， 在前述殼體的內部，配置成桿滑動自如貫穿前述主閥體，前述開閉操作機構連結於該桿的軸線方向的一端亦即基端部，並且在該桿的軸線方向的另一端亦即前端部，前述副閥體配置成在前述主閥體的外部接觸和離開該主閥體，前述副閥座形成於該主閥體的外面的前述副閥體所抵接的部分， 前述副閥體是藉由以前述桿直接操作來將前述副流路予以開閉， 前述主閥體是藉由以前述桿經由前述副閥體操作來開閉前述主流路。
  2. 如申請專利範圍第1項的真空閥，其中， 前述桿具有以可分離方式連結的前端側的第1桿部和基端側的第2桿部， 前述第1桿部是貫穿前述主閥體，且前述副閥體設置於該第1桿部的前端， 前述第2桿部是連結於前述開閉操作機構， 前述主閥體可藉由將前述第1桿部從前述第2桿部分離而從前述桿拆卸。
  3. 如申請專利範圍第2項的真空閥，其中， 前述主閥體，具有：圓盤構件，是接觸和離開前述主閥座；以及圓筒構件，是與該圓盤構件形成不同個體且組合於該圓盤構件，前述副流路形成於前述圓盤構件和圓筒構件之間，並且前述副閥座形成於前述圓盤構件，在前述圓筒構件的內周，設置：軸承構件，是導引前述桿；以及密封構件，是將該圓筒構件的內周和前述桿的外周之間予以密封。
  4. 如申請專利範圍第2或3項的真空閥，其中， 在前述桿，形成筒狀的彈簧承接構件被安裝成沿著該桿移位自如，但藉由卡止於前述第2桿部而無法從該第2桿部分離， 在前述彈簧承接構件，設置：筒狀的蓋部，是前述主閥體的圓筒構件所嵌合；第1彈簧座；以及第2彈簧座， 將前述主閥體朝抵接於前述主閥座的方向彈壓的主閥彈簧，是在壓縮狀態下介設於前述第1彈簧座和形成於前述殼體的主彈簧座之間， 經由該桿將前述副閥體朝抵接於前述副閥座的方向彈壓的副閥彈簧，是在壓縮狀態下介設於前述第2彈簧座和形成於前述桿的副彈簧座之間， 包圍前述主閥彈簧以及副閥彈簧的伸縮囊的一端連結於前述主閥體，該伸縮囊的另一端連結於前述殼體。
  5. 如申請專利範圍第1、2、或3項的真空閥，其中， 前述副閥體是藉由前述桿的前進動作，從前述副閥座離開來開放前述副流路， 前述主閥體是藉由前述桿的後退動作，經由前述副閥體而移位，從前述主閥座離開來開放前述主流路。
  6. 如申請專利範圍第1、2、或3項的真空閥，其中， 前述開閉操作機構是由一個流體壓力缸所形成，具有：活塞，是連結於前述桿；第1壓力室，是形成於該活塞的一側；以及第2壓力室，是形成於該活塞的另一側，前述活塞是連結於前述桿，當將壓力流體供給於前述第1壓力室時，前述活塞以及桿前進且前述副閥體將副流路予以開放，當將壓力流體供給於前述第2壓力室時，前述活塞以及桿後退且前述主閥體將主流路予以開放。
  7. 如申請專利範圍第1、2、或3項的真空閥，其中， 前述真空閥具有調整前述副閥體的開度的開度調整機構，該開度調整機構，具有：調整螺帽，是可通過形成於前述殼體的側面的操作口進行旋轉操作；以及止動件，是與該調整螺帽嚙合，該止動件可藉由將前述調整螺帽進行旋轉操作來朝軸線方向移位，而構成依據該止動件的位置來調整前述副閥體的開度。
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