JP2007058294A - 真空レギュレータ - Google Patents

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Abstract

【課題】 真空レギュレータの構成を簡素化して製作コストを引き下げるとともに、小型化を可能にする。
【解決手段】 真空源に接続される真空ポート11と、真空ポートから真空圧力が供給される調圧ポート12とが設けられたハウジング30、60に、前記調圧ポート12に連通する感圧室22および該感圧室と大気室75とを仕切る配置に設けられたダイアフラム70と、該ダイアフラムの一方の面に端面が当接し、前記真空ポートと前記調圧ポートを連絡する流路32aの中間で前記真空ポート11と前記調圧ポート12との間を開閉するバルブ部54を備えた主弁50と、付勢手段23を介して前記ダイアフラム70の他方の面に作用させる押圧力を調節する操作部80、83とを設けた真空レギュレータであって、前記主弁50に軸線方向に貫通する貫通孔50aを設けるとともに、前記ダイアフラム70に前記主弁50と同軸に開口孔72aを設け、前記貫通孔50aおよび前記開口孔72aを介して前記調圧ポート12側と前記感圧室22とを連通させたことを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は真空レギュレータに関し、より詳細には装置構成を簡素化し製作を容易にするとともに、装置の小型化を図ることを可能にする真空レギュレータに関する。
真空レギュレータはワークを真空吸着して搬送等の操作を行う装置において、真空ポンプ等の真空源から供給される真空の真空度を調圧して供給するために用いられる。真空レギュレータには真空度を調節する調節つまみが設けられ、調節つまみを操作して、調圧側が所定の真空度になるように調節される。
図5は、従来の真空レギュレータの構成例を示す。真空レギュレータは、真空ポンプに接続される1次側である真空ポート11と、真空圧力が調圧される2次側である調圧ポート12を備えるボディ部10と、ダイアフラム21および感圧室22を備えるハウジング部20とを備える。感圧室22には、ダイアフラム21を裏面側からボディ部10方向へ押圧するスプリング23が装着され、スプリング23による押圧力を調節する調圧ハンドル24が設けられる。
ボディ部10には軸線方向に進退動する主弁13が設けられ、主弁13の先端がダイアフラム21に当接するとともに、ダイアフラム21が軸線方向に移動する動作に応じて、主弁13の中途に設けられたバルブ14が弁座15に対して接離する。
図5に示す真空レギュレータにおいては、ダイアフラム21を挟んで感圧室22と大気室25とを設け、感圧室22と調圧ポート12とを連通流路28により連通している。これによって、調圧ポート12側の真空度が低い(圧力が高い)際には、ダイアフラム21がスプリング23によって押し上げられ、主弁13に設けられたバルブ14が弁座15から離間して真空ポート11と調圧ポート12とが連通し、調圧ポート12側の真空度が高くなると(圧力が低い)、ダイアフラム21は大気圧によって内側に引き込まれ(押し下げられ)バルブ14は弁座15に当接して真空ポート11と調圧ポート12とは閉鎖される。すなわち、調圧ポート12側の真空度に応じて真空ポート11と調圧ポート12との連通状態が制御され、調圧ポート12側の真空度が所要の真空度に制御される。
特開2000−276237号公報 特開2004−157591号公報
ところで、調圧側の真空度を検知するために、調圧ポート12側と感圧室22とを連絡する連通流路28を設けるが、従来の真空レギュレータでは、この連通流路28はダイアフラム21と干渉しないようにダイアフラム21の外側を迂回する配置となり、ダイアフラム21が配置される外側に連通流路28を通過させる領域を確保しなければならない。また、連通流路28は複数の部品間を屈曲するようにして連通する流路構成となることから、部品ごとに連通流路28を相互に位置合わせして加工する必要があり、部品間の接続部ではOリングを配してエアシールして接続しなければならないといったように、従来の真空レギュレータは構造が複雑で、製作コストが高くなるといった問題があった。
本発明は、これらの課題を解決すべくなされたものであり、装置の構成を簡素化することによって製作コストを引き下げることを可能とし、小型化をも可能にする真空レギュレータを提供することを目的とする。
本発明は、上記目的を達成するため次の構成を備える。
すなわち、真空源に接続される真空ポートと、真空ポートから真空圧力が供給される調圧ポートとが設けられたハウジングに、前記調圧ポートに連通する感圧室および該感圧室と大気室とを仕切る配置に設けられたダイアフラムと、該ダイアフラムの一方の面に端面が当接し、前記真空ポートと前記調圧ポートを連絡する流路の中間で前記真空ポートと前記調圧ポートとの間を開閉するバルブ部を備えた主弁と、付勢手段を介して前記ダイアフラムの他方の面に作用させる押圧力を調節する操作部とを設けた真空レギュレータであって、前記主弁に軸線方向に貫通する貫通孔を設けるとともに、前記ダイアフラムに前記主弁と同軸に開口孔を設け、前記貫通孔および前記開口孔を介して前記調圧ポート側と前記感圧室とを連通させたことを特徴とする。
また、前記ハウジングに、前記主弁を軸線方向に可動に支持するとともに、主弁の外周面との間が前記真空ポートと調圧ポートとを連通する流路となる装着孔が設けられ、該装着孔に、前記主弁の進退動とともに前記バルブ部が接離して前記真空ポートと前記調圧ポートとの間を開閉させる弁座が設けられ、前記真空ポートと調圧ポートの一方が、前記弁座よりも前方に前記流路に連通して設けられ、前記真空ポートと調圧ポートの他方が、前記弁座よりも後方に前記流路に連通して設けられていることを特徴とする。
また、前記弁座よりも前方に前記調圧ポートが、後方に前記真空ポートが設けられ、前記装着孔内に、前記主弁の前部が摺入するとともに主弁を前記ダイアフラムに向けて弾性的に押圧する付勢手段が介装されたスリーブ体が装着され、該スリーブ体の外周面と前記装着孔の内周面との間が前記流路に形成され、該スリーブ体に前記流路に連通する連通孔と、前記調圧ポートと連通する開口部とが設けられていることにより、調圧ポートと感圧室とが直線的に連通する形態となり、調圧ポートの圧力を的確に感知して調圧側の真空度を的確に調節することが可能になる。
また、前記弁座よりも前方に前記真空ポートが、後方に前記調圧ポートが設けられ、前記装着孔内に、前記主弁の前部が摺入するとともに主弁を前記ダイアフラムに向けて弾性的に押圧する付勢手段が介装されたスリーブ体が装着され、該スリーブ体の外周面と前記装着孔の内周面との間が前記流路に形成され、該スリーブ体に前記流路に連通する連通孔が設けられ、前記主弁の前記弁座よりも後方位置に、前記流路と前記主弁に設けられた貫通孔とを連通する連通孔が設けられていることを特徴とする。
また、前記ハウジングが、主弁が装着された第1のハウジングと、感圧室が形成された第2のハウジングとからなり、前記第1のハウジングと前記第2のハウジングとの間に、前記感圧室を仕切る配置に前記ダイアフラムを介装して組み立てられていることを特徴とする。ハウジングを第1のハウジングと第2のハウジングの2体構造とすることにより、各部品の製作および組立を容易にすることができる。
また、前記ダイアフラムは、ダイアフラムの中央部を第1のセンターディスクと前記開口孔が形成された第2のセンターディスクとにより両側から挟圧して組み付けて形成されたダイアフラム組立部品として形成されていることを特徴とする。このダイアフラム組立部品を使用することにより、前記主弁に設けた貫通孔とダイアフラムの開口孔とを容易に連通させる構造とすることができる。
また、前記主弁の後端面が前記第2のセンターディスクにメタルシールされた状態で当接することにより、真空レギュレータの調圧作用をより的確に行うことができる
本発明に係る真空レギュレータによれば、主弁に、調圧ポート側と感圧室とを連通する貫通孔を主弁に設ける構造としたことにより、調圧ポート側と感圧室とを連通させる連通流路を形成するための複雑な加工が不要となり、装置の構成を簡素化することが可能になるとともに、装置の小型化を図ることが可能になる。
以下、本発明に係る真空レギュレータの好適な実施の形態について、添付図面にしたがって詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1は真空レギュレータの第1の実施の形態の全体構成を示す断面図である。本実施形態の真空レギュレータは、真空ポンプ38が接続される真空ポート11とワーク45等を操作するための装置に調圧された真空を供給するための調圧ポート12を備えた第1のハウジング30と、調節ねじ80と圧力計66が接続される圧力計ポート65を備えた第2のハウジング60とを備える。以下では、第1のハウジング30における構成と第2のハウジング60の構成に分けて説明する。
図2は、第1のハウジング30についての構成部分を拡大して示した断面図である。
第1のハウジング30には軸芯方向に貫通する装着孔32が設けられ、装着孔32の一端に調圧ポート12が設けられ、軸芯方向と直交する第1のハウジング30の側面に、装着孔32に連通して真空ポート11が設けられている。すなわち、真空ポート11と調圧ポート12とは第1のハウジング30にL字形に折曲する配置に設けられる。
真空ポート11は、係止爪33、開放リング34、フィッティング本体35等を備えたワンタッチ継手構造に形成され、真空ポート11は樹脂チューブ等の接続管を介して真空ポンプ38に接続される。なお、真空ポート11の継手構造はワンタッチ継手構造に限られるものではない。
調圧ポート12は、第1のハウジング30の一端側から装着孔32にスリーブ体40を嵌入して形成される。スリーブ体40の一端側の内周面にはねじ孔40aが設けられ、ねじ孔40aにワーク45を操作する装置に連通する接続管が螺入して接続される。スリーブ体40の外周面には、スリーブ体40と装着孔32の内周面との間を気密にシールするOリング41が装着される。なお、本実施形態では、調圧ポート12を装置の基体等にねじ止めして固定するため、調圧ポート12が設けられる第1のハウジング30の外周面にねじ30aが形成されている。
スリーブ体40の内端側は装着孔32の内径よりも細径に形成された筒体部40bに形成され、筒体部40bに設けられた隔壁部に設けた開口部42を介して貫通孔50aとねじ孔40aとが連通する。ねじ孔40aの内底部の側面には、筒体部40bの外周面と装着孔32の内周面との間に形成される流路32aに連通して開口する連通孔44が設けられる。
装着孔32内で、スリーブ体40が装着された部位よりも内方には、装着孔32と同芯に、軸線方向に貫通する貫通孔50aが形成された主弁50が配置される。装着孔32の主弁50を内挿する部位は縮径して形成され、主弁50はこの縮径した内挿孔に外周面を摺接させて装着される。主弁50が内挿される内挿孔には主弁50の外周面に摺接するパッキン51が装着され、パッキン51により主弁50と装着孔32との間がエアシールされて主弁50が軸線方向に可動となる。
主弁50の調圧ポート12に対向する前端部は、スリーブ体40の筒体部40bに挿入され、主弁50の前端部と筒体部40bの隔壁部との間に付勢手段としてのバルブスプリング52が介挿される。バルブスプリング52は主弁50とスリーブ体40との間を離間させる向きに付勢する弾発スプリングである。
主弁50の外周面にはスリーブ体40に挿入される前端部よりも径大となる段差部50bが形成される。段差部50bの外周面には、段差部50bの外周面よりも外面が突出するようにOリング54が装着される。段差部50bよりも前端側がスリーブ体40の筒体部40bに挿入される部位であり、段差部50bにスリーブ体40の端面が当接することにより主弁50の前進位置(主弁50が調圧ポート12に向けて移動する場合を前進、調圧ポート12から離間する向きに移動する場合を後退)が規制される。段差部50bおよびOリング54がバルブ部を構成する。
装着孔32は軸線方向の中途部分が、調圧ポート12側よりもやや縮径する縮径部32bに形成され、縮径部32bと調圧ポート12側から形成されている装着孔32との境界部分が断面形状がテーパ状となる弁座32cとして形成される。前記主弁50を装着孔32に装着した状態で、段差部50bに取り付けたOリング54は弁座32cよりも前方(調圧ポート12側)に位置し、Oリング54と弁座32cとは対向する配置位置関係となる。主弁50の段差部50bと主弁50の他端との中間の外周面には突起50cが周設される。突起50cは、縮径部32bと主弁50を内挿する内挿孔との段差部分に当接する。真空ポート11と装着孔32とは、縮径部32bで開口する流路36を介して連通する。
図3は、第2のハウジング60についての構成部分を拡大して示した断面図である。
第2のハウジング60の一端側にはダイアフラム70が装着される。ダイアフラム70はリング状に形成され、ダイアフラム70の中央部を第1のセンターディスク71と第2のセンターディスク72とにより両側からエアシールするように挟圧して組み付けることによって一体化されたダイアフラム組立部品73として形成される。
第2のセンターディスク72の中心には主弁50に設けられた貫通孔50aと同径の開口孔72aが設けられている。開口孔72aの前記主弁50に対向する側の周縁部には、主弁50の後端面50dが当接する当接面72bが形成される。主弁50の後端面50dは球面に形成され、第2のセンターディスク72に設けられる当接面72bも、後端面50dと同曲率の球面に形成される。これによって、主弁50が第2のセンターディスク72に当接した際に、主弁50の後端面50dと第2のセンターディスク72に形成された当接面72bとはメタルシールされる状態になる。
真空レギュレータを組み立てる際には、ダイアフラム組立部品73は、第1のハウジング30の他端側の周縁部と第2のハウジング60の一端側の周縁部との間にダイアフラム70の周縁部を挟み込むように嵌合して挟圧することによって装着される。第1のハウジング30と第2のハウジング60とでダイアフラム組立部品73を挟圧するように装着することによって、ダイアフラム70によって仕切られた一側に大気室75が形成され、他側に感圧室22が形成される。第1のハウジング30には大気室75に連通する通気孔30dが設けられている。
第2のハウジング60の他端側には、感圧室22に内挿されるフランジ部80aと外周面にねじが形成されたねじ部80bからなる調節ねじ80が、スリーブ部60aにねじ部80bを螺入して取り付けられている。
フランジ部80aは感圧室22の内周面に外周面が摺接する円板状に形成され、フランジ部80aの感圧室22の内周面に摺接する周面には、フランジ部80aと感圧室22の内周面との間をエアシールするOリング81が周設されている。
フランジ部80aの前端面に当接してスプリングガイド82が配置され、スプリングガイド82と第1のセンターディスク71との間に付勢手段としてのスプリング23が介装されている。スプリング23は弾発スプリングである。
調節ねじ80の基端には調節ねじ80を回動操作するためのつまみ83が固定され、ねじ部80bに調節ねじ80の軸線方向での位置決め位置を固定するためのロックナット84が螺合されている。調節ねじ80およびつまみ83が調圧ポート12側の真空度を調節する操作部である。
圧力計66を接続する圧力計ポート65は、連通流路62を介して感圧室22と連通する。
図1は、第1のハウジング30と第2のハウジング60に所要の部品を組み込み、第1のハウジング30と第2のハウジング60とを組み合わせて真空レギュレータを組み立てた状態を示す。
本実施形態の真空レギュレータにおいて特徴的な構成は、主弁50に形成した貫通孔50aを介して調圧ポート12側と感圧室22とが、いわば直列的に連通する構造となっていることである。すなわち、主弁50に貫通孔50aを設け、ダイアフラム組立部品73の第2のセンターディスク72に開口孔72aを形成し、スリーブ体40に開口部42を形成したことによって、調圧ポート12と感圧室22とが常時連通する構成となる。
これらの調圧ポート12と感圧室22とを連通する構造に関与しているスリーブ体40、主弁50およびダイアフラム組立部品73の構成は、従来の真空レギュレータにおいても同様の部品を使用しており、本実施形態の真空レギュレータはこれらの部品の構造を変えることによって調圧ポート12側と感圧室22とを連通構造としたものである。
本実施形態の真空レギュレータでは、このように調圧ポート12側の真空度の変動を直接的に感圧室22によって検知し、感圧室22の作用を利用して調圧ポート12側の真空度を調圧する。
すなわち、真空レギュレータを組み立てた状態で、主弁50はバルブスプリング52の付勢力により、その後端面50dがダイアフラム組立部品73の第2のセンターディスク72に形成された当接面72bに当接し、ダイアフラム70を常時後方に押圧する。このとき、主弁50の段差部50bに設けたOリング54は装着孔32の弁座32cに当接する。
図1において、A−A線の下半部は、主弁50が後方に移動しOリング54が弁座32cに当接している状態を示す。この状態は、流路32aと流路36とが遮断され、真空ポート11と調圧ポート12とが遮断されている状態である。
この真空ポート11と調圧ポート12とが遮断される状態とは、調圧ポート12側の真空度が高い(圧力が低い)状態に相当する。調圧ポート12側の圧力が低い場合には感圧室22の圧力も低くなるから、ダイアフラム70にはスプリング23を圧縮させるように作用し、主弁50は後方に移動するようになる。すなわち、主弁50は真空ポート11と調圧ポート12間を閉鎖している。
一方、調圧ポート12側の真空度が低くなる(圧力が上がる)と、これに伴って感圧室22の圧力が上がるから、ダイアフラム70に対してはスプリング23を伸長させる方向の力が作用する。このスプリング23を伸長させる方向の力は、主弁50を前進させるように、いいかえれば主弁50に設けられているOリング54が弁座32cから離間するように作用する。Oリング54が弁座32cから離間すると、連通孔44、流路32a、流路36を介して調圧ポート12と真空ポート11とが連通する。すなわち、主弁50は真空ポート11と調圧ポート12間を開放し、調圧ポート12側が真空排気される。図1でA−A線の上半部はOリング54が弁座32cから離間して調圧ポート12と真空ポート11とが連通した状態を示す。
こうして、感圧室22に設けられたダイアフラム70に調圧ポート12側の圧力が作用し、感圧室22の圧力に応じて主弁50が軸線方向に進退動し、主弁50が前進した際にはバルブが開き、後退したときにはバルブが閉まるように作用することにより、調圧ポート12側が所定の真空度に調圧されることになる。
つまみ83を用いて調節ねじ80を操作することにより、スプリング23を介してダイアフラム70に作用する押圧力を増減することができる。調節ねじ80を前進させると、ダイアフラム70に作用する押圧力が大きくなり、調圧ポート12側の真空度が上昇し、調節ねじ80を後退させると、ダイアフラム70に作用する押圧力が小さくなり、真空度が低下する。この調節ねじ80による調圧作用は、従来の真空レギュレータによる調圧作用とまったく同様である。
なお、本実施形態において、主弁50に設けたOリング54と装着孔32の内面に設けた弁座32cとは、相互に接離して流路32aと流路36との連通状態を開閉するバルブ作用をなすもので、このようなバルブ作用をなすものであれば、Oリング54にかえて適宜シール部材を使用することが可能であり、主弁50に弁座を設け、装着孔32に、弁座に当接するシール部材を配置することも可能である。
本発明において真空ポートと調圧ポートとの間を開閉するバルブ部とは、このような構成を含むものとして考えている。
(第2の実施の形態)
上記実施形態においては、第1のハウジング30に設けた装着孔32の一端側に調圧ポート12を設け、装着孔32の側方に真空ポート11を設けたが、調圧ポート12と真空ポート11を逆の配置とすることも可能である。
図4は、第1の実施の形態とは真空ポート11と調圧ポート12の配置を逆にした真空レギュレータの構成を示す。本実施形態の真空レギュレータにおいても、貫通孔50aが形成された主弁500を第1のハウジング30に設けた装着孔32に装着し、主弁500に直列にスリーブ体400を配置する構成については第1の実施の形態と同様である。
本実施の形態において第1の実施の形態における真空レギュレータの構成と相違する点は、主弁50の段差部50bと突起50cとの中間に、軸線方向に直交する方向に貫通孔50aに連通する複数の連通孔502を設けたこと、装着孔32に装着されるスリーブ体400の隔壁部402に開口部42を設けず、隔壁部402によってスリーブ体400の筒体部40bとねじ孔40aとを遮断したことにある。
第1のハウジング30および第2のハウジング60に装着されるその他の部品についての構成は、第1の実施の形態におけるとまったく同様である。
本実施形態の真空レギュレータでは、調圧ポート12は、流路36、連通孔502、貫通孔50a、ダイアフラム組立部品73を介して感圧室22と常時連通する。
調圧ポート12側の真空度が高い(圧力が低い)場合には感圧室22の圧力が低くなって、主弁50は閉塞し(図4のB−B線の下半部の状態)、調圧ポート12側の真空度が低くなる(圧力が高くなる)と、ダイアフラム70によって主弁50が前方に押され、Oリング54が弁座32cから離間し、真空ポート11と調圧ポート12とが連通孔44、流路32a、流路36を介して連通する。
すなわち、感圧室22により調圧ポート12側の圧力が常時感知され、調圧ポート12側の圧力に応じて、主弁50が軸線方向に進退動し、主弁50により真空ポート11と調圧ポート12との連通状態が制御されて、調圧ポート12側が調圧される。
本実施形態の真空レギュレータによる調圧作用は、第1の実施の形態における真空レギュレータとまったく同様である。真空レギュレータの真空ポート11と調圧ポート12の配置については、使用機器における設置位置等に応じて適宜配置のものを使用すればよい。
上記各実施形態においては、主弁50とダイアフラム組立部品73の第2のセンターディスク72とを突き合わせ、主弁50と第2のセンターディスクとの接続をメタルシール構造としている。このようなメタルシール構造によると、真空ポート11と調圧ポート12との間が連通状態に切り替わる際に、大気室75からメタルシール部分を介して調圧ポート12側に大気が流入可能となる。切り替え時に、調圧ポート12側に大気を進入可とすると、切り替えタイミングが短縮でき、応答性のよい真空レギュレータとすることができるという利点がある。
また、上記各実施形態において説明したように、本発明に係る真空レギュレータでは、主弁50、500に貫通孔50aを設け、調圧ポート12と感圧室22とを連通する連通流路が貫通孔50aを介して連通する構造となっている。これによって、調圧ポート12と感圧室22とを連絡する連通流路を、従来のように、ダイアフラム70を迂回させて配置するといった必要がなくなり、主弁50、500に貫通孔50aを設けることで連通流路の流路構成をコンパクトにかつ簡素化して形成することができ、装置の小型化を図ることが可能となった。
連通流路は主弁50、500およびスリーブ体40、ダイアフラム組立部品73等に加工を施して形成することができ、部材に屈曲孔を形成するといった複雑な加工が不要となる。これによって、部品の製作が容易となり組立作業も容易になるという利点がある。
本発明に係る真空レギュレータの第1の実施の形態の構成と、その作用を示す断面図である。 真空レギュレータの第1のハウジング側の構成を示す断面図である。 真空レギュレータの第2のハウジング側の構成を示す断面図である。 本発明に係る真空レギュレータの第2の実施の形態の構成を示す断面図である。 従来の真空レギュレータの断面図である。
符号の説明
11 真空ポート
12 調圧ポート
13 主弁
22 感圧室
23 スプリング
28 連通流路
30 第1のハウジング
32 装着孔
32a 流路
32b 縮径部
32c 弁座
36 流路
38 真空ポンプ
40、400 スリーブ体
40b 筒体部
42 開口部
44 連通孔
45 ワーク
50、500 主弁
50a 貫通孔
50b 段差部
50d 後端面
52 バルブスプリング
54 Oリング
60 第2のハウジング
62 連通流路
65 圧力計ポート
66 圧力計
70 ダイアフラム
71 第1のセンターディスク
72 第2のセンターディスク
72a 開口孔
73 ダイアフラム組立部品
75 大気室
80 調節ねじ
402 隔壁部
502 連通孔

Claims (7)

  1. 真空源に接続される真空ポートと、真空ポートから真空圧力が供給される調圧ポートとが設けられたハウジングに、
    前記調圧ポートに連通する感圧室および該感圧室と大気室とを仕切る配置に設けられたダイアフラムと、
    該ダイアフラムの一方の面に端面が当接し、前記真空ポートと前記調圧ポートを連絡する流路の中間で前記真空ポートと前記調圧ポートとの間を開閉するバルブ部を備えた主弁と、
    付勢手段を介して前記ダイアフラムの他方の面に作用させる押圧力を調節する操作部とを設けた真空レギュレータであって、
    前記主弁に軸線方向に貫通する貫通孔を設けるとともに、前記ダイアフラムに前記主弁と同軸に開口孔を設け、前記貫通孔および前記開口孔を介して前記調圧ポート側と前記感圧室とを連通させたことを特徴とする真空レギュレータ。
  2. 前記ハウジングに、前記主弁を軸線方向に可動に支持するとともに、主弁の外周面との間が前記真空ポートと調圧ポートとを連通する流路となる装着孔が設けられ、
    該装着孔に、前記主弁の進退動とともに前記バルブ部が接離して前記真空ポートと前記調圧ポートとの間を開閉させる弁座が設けられ、
    前記真空ポートと調圧ポートの一方が、前記弁座よりも前方に前記流路に連通して設けられ、前記真空ポートと調圧ポートの他方が、前記弁座よりも後方に前記流路に連通して設けられていることを特徴とする請求項1記載の真空レギュレータ。
  3. 前記弁座よりも前方に前記調圧ポートが、後方に前記真空ポートが設けられ、
    前記装着孔内に、前記主弁の前部が摺入するとともに主弁を前記ダイアフラムに向けて弾性的に押圧する付勢手段が介装されたスリーブ体が装着され、
    該スリーブ体の外周面と前記装着孔の内周面との間が前記流路に形成され、
    該スリーブ体に前記流路に連通する連通孔と、前記調圧ポートと連通する開口部とが設けられていることを特徴とする請求項2記載の真空レギュレータ。
  4. 前記弁座よりも前方に前記真空ポートが、後方に前記調圧ポートが設けられ、
    前記装着孔内に、前記主弁の前部が摺入するとともに主弁を前記ダイアフラムに向けて弾性的に押圧する付勢手段が介装されたスリーブ体が装着され、
    該スリーブ体の外周面と前記装着孔の内周面との間が前記流路に形成され、
    該スリーブ体に前記流路に連通する連通孔が設けられ、
    前記主弁の前記弁座よりも後方位置に、前記流路と前記主弁に設けられた貫通孔とを連通する連通孔が設けられていることを特徴とする請求項2記載の真空レギュレータ。
  5. 前記ハウジングが、主弁が装着された第1のハウジングと、感圧室が形成された第2のハウジングとからなり、
    前記第1のハウジングと前記第2のハウジングとの間に、前記感圧室を仕切る配置に前記ダイアフラムを介装して組み立てられていることを特徴とする請求項1または2記載の真空レギュレータ。
  6. 前記ダイアフラムは、ダイアフラムの中央部を第1のセンターディスクと前記開口孔が形成された第2のセンターディスクとにより両側から挟圧して組み付けて形成されたダイアフラム組立部品として形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の真空レギュレータ。
  7. 前記主弁の後端面が前記第2のセンターディスクにメタルシールされた状態で当接することを特徴とする請求項6記載の真空レギュレータ。
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