TW202000355A - 光學組件和雷射系統 - Google Patents

光學組件和雷射系統 Download PDF

Info

Publication number
TW202000355A
TW202000355A TW108120934A TW108120934A TW202000355A TW 202000355 A TW202000355 A TW 202000355A TW 108120934 A TW108120934 A TW 108120934A TW 108120934 A TW108120934 A TW 108120934A TW 202000355 A TW202000355 A TW 202000355A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical
laser
channel
deflection
channels
Prior art date
Application number
TW108120934A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI743493B (zh
Inventor
托斯騰 貝克
丹尼爾 弗拉姆
安德烈亞斯 海梅斯
朱利安 赫爾斯特恩
克里斯蒂安 林格爾
費利克斯 馬歇爾
西爾克 蒂爾費爾德
克里斯托夫 帝爾柯恩
Original Assignee
德商創浦雷射與系統科技有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 德商創浦雷射與系統科技有限公司 filed Critical 德商創浦雷射與系統科技有限公司
Publication of TW202000355A publication Critical patent/TW202000355A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI743493B publication Critical patent/TWI743493B/zh

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10Beam splitting or combining systems
    • G02B27/1006Beam splitting or combining systems for splitting or combining different wavelengths
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0652Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising prisms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073Shaping the laser spot
    • B23K26/0738Shaping the laser spot into a linear shape
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0911Anamorphotic systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0972Prisms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0961Lens arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0966Cylindrical lenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

本發明涉及一種光學組件,用於將至少兩個雷射光源的雷射光束轉移到一組合光束中,其包括一光束導向光學系統,該光束導向光學系統被設計成,為該雷射光束提供至少兩個獨立的光學通道,其中各該光學通道具有一用於退出相應光學通道的通道輸出光束的終端光學裝置,其中提供至少一個僅分配給一光學通道的偏轉體,該偏轉體被設計成僅能檢測到所隸屬光學通道的通道輸出光束,而該被檢測到的通道輸出光束在聚焦區域的方向上偏轉。

Description

光學組件和雷射系統
本發明涉及一種用於將數個雷射光源的雷射光束轉換成具有光束束腰的組合光束的光學組件和包括此種光學組件的雷射系統。
用於光學組件的可能但非排他性的應用領域是雷射系統,其用於產生具有線性光束輪廓的有用光分佈,此種光束輪廓例如用於加工半導體或玻璃的表面,例如TFT顯示器的製造、半導體的摻雜、太陽能電池的製造或建築美觀設計用途玻璃表面的生產製造等;在此,垂直於線的延展方向的線狀光束輪廓沿著待處理表面上而被掃描;通過輻射可以觸發表面轉化過程(再結晶、熔化、擴散過程),並且可以實現所需的加工結果。
在上述雷射系統中,利用光學裝置可將雷射光束轉換形成所需的線性、有用的光分佈,所述光學裝置特別地可轉型和/或均勻化雷射輻射,例如,在WO2018 / 019374A1中描述了用於從雷射輻射形成線性有用光分佈的光學組件。
由於上述處理過程通常需要高強度輻射和/或長延展的線性強度分佈,因此通常需使用多個雷射光源來饋入所需的有用光分佈。
為了達到不必為每個雷射光源單獨提供用於線變形的有效光學器件,理想的是將不同雷射光源的雷射光束匯集在一起並將它們綑綁成一組合光束,特別是在空間上綑綁束縛它們;例如在WO201 / 019374A1中描述了一光學組件,其具有通過多個反射鏡和透鏡形成的折疊光束路徑,其中,數個雷射光源的雷射光束透過一聚光鏡並同時擴展所產生的光束而被合併在一起。而在DE 10 2008 027 229 B4中描述了一種用於光束變形和綑綁的裝置,在該裝置中雷射光束組在分開的光學通道中運行且利用作用於數個光束組的望遠鏡光學系統而合併在一起;此種配置方式包括數個光學元件,該些光學元件須同時檢測數個單獨延伸的雷射光束,因此必須具有大的入射口,但如此一來可能導致光學誤差(例如透鏡像差),並且可能使各光束彼此的調整或微調複雜化。此外,大尺寸透鏡部件會導致更高的成本和複雜的空間需求。
本發明的目的是提供一種用於數個雷射光束的光束合併,藉此實現適應空間要求和光學調整的靈活性。
該目的透過如請求項1的光學組件而實現。所述光學組件是用於將至少兩個雷射光源的雷射光束轉換成一組合光束的裝置,亦即形成一所有雷射光束的合併光束,特別是形成一種在空間上會聚的光束(組合光束);該光學組件被設計成使得組合光束具有光束束腰。
該光學組件包括一光束導向光學系統,其被設計成可提供至少兩個用於雷射光束的獨立光學通道;據此,每個雷射光束在至少兩個光學通道其中之一運行,每個光學通道都包括一個終端光學裝置,當使用雷射光源操作光學組件時,相應光學通道的通道輸出光束從該終端光學裝置離開。
對於該等光學通道中的至少一個提供一偏轉體,該偏轉體分配給相應的光學通道;該偏轉體被設計成使得僅能檢測所分配光學通道的通道輸出光束,且該偏轉體不檢測其餘光學通道的通道輸出光束;被檢測到的通道輸出光束由偏轉體引導或偏轉至組合光束的聚焦區域方向上。
因此,數個雷射光源的雷射光束在光束束腰前面的光束路徑中、在分離的光學通道中被引導;光學通道的特徵尤其在於,在通道中光束在空間上與其他光學通道分開和/或光學分離;光學通道可包括數個光學有效部件(透鏡、光圈、反射鏡等);各個光學通道的終點特別形成該終端光學裝置,其例如被設計為會聚透鏡。
在單獨的光學通道中引導雷射光束的優點在於,相應光學通道的光學有效部件僅需具有有限的尺寸,因為只有相應光學通道中的光必須被部件檢測到;特別地,根據不同配置可以省去大尺寸透鏡的設置,從而可以節省安裝空間並且可以減少透鏡像差;另外,在單獨的光學通道中,各種雷射光束的光束特性的變形和微調可以獨立完成;單獨的光學通道還可以提高整體結構的可擴展性,並可以添加額外的通道而無需改變整個光學結構。
藉助於至少一個偏轉體,從各種終端光學裝置離開的光束被會聚在一起以形成組合光束的光束束腰,據此,該光束束腰中的光分佈由幾個雷射光源饋入;組合光束中具有最小光束橫截面的區域,即組合光束的最窄點,被定義為光束束腰。
該偏轉體特別設計成使得,偏轉體前的光傳播方向偏離偏轉體後的傳播方向,據此可利用偏轉體而從不同通道輸出光束產生一會聚在光束束腰中的光束;較佳地,該偏轉體用於影響傳播方向,該些彼此間隔開的雷射光束可以在沒有設置大透鏡的情況下合併在一起,據此可以改善說明書一開始所描述的問題。
在所描述的組件中,還可以利用改變單個個別偏轉體的位置、方向和/或設計來調整組合光束的特性,特別是在光束束腰中來調整;據此,利用偏轉體的位置、方向和/或設計可以在光束束腰之後指定組合光束的有效發散角。
在本文中,一束(光束、雷射光束、通道輸出光束...)並不表示幾何光學意義上的理想光束,而是實際光束,該實際光束由於物理原因在橫截面上為有限延展,例如,若為雷射光束時,光束橫截面中的強度分佈過程受雷射光源中個別涉及的特定雷射模式的影響。
較佳地,該光學組件設計成用來組合不同雷射光源的多個(特別是大於3個)雷射光束;特別地,該光學組件包括數個(特別是大於3個)光學通道;例如,該光學組件可以被設計成使得該等雷射光束在光束導向光學系統的輸入側區域中彼此相鄰地運行延伸,特別是以彼此相鄰分組地運行延伸;特別地,所有光學通道被設計成使得每個通道僅運行一個雷射光源的雷射光束。
特別地,若不是一光學通道分配有一偏轉體,則是該從光學通道離開的通道輸出光束直接進入組合光束的光束束腰。
較佳地,每一光學通道都分配有一偏轉體;特別有利地,當各個光學通道的通道輸出光束在穿過相應的終端光學裝置之後不朝光束束腰方向行進。
例如,以下述方法可得到一簡化的結構:一光學通道只分配有一偏轉體,若該在組件操作期間從相應終端光學裝置離開的通道輸出光束具有傳播方向,則該傳播方向最初不指向聚焦區域的方向;據此,特別是只為那些光束束腰不在通道輸出光束出射方向上的光學通道提供偏轉體,而剩下的通道輸出光束因此可以在沒有偏轉體的情況下被導引至光束束腰。
在本文中,光束的傳播方向(光束、雷射光束,通道輸出光束...)代表空間平均的出射方向,特別是在坡印廷向量的空間均值意義上。
該光束導向光學系統較佳地被設計成使得從所有光學通道(或從其等的終端光學裝置)離開的通道輸出光束都具有平行於主方向的傳播方向,該主方向尤其形成為該光束導向光學系統的光軸,據此,通道輸出光束一開始從不同的光學通道彼此平行地出射,並且由偏轉體合併到聚焦區域中的光束束腰。
然而,還可以設想到是,該等通道輸出光束離開終端光學裝置之後直接於不同方向上運行延伸;例如,光束導向光學系統可以這樣設計,使得從該等光學通道離開的通道輸出光束部分或全部已經具有朝向聚焦區域的方向分量,因而可藉該偏轉體來減少所需的偏轉。
較佳地,該至少一個偏轉體設計為傳輸光學系統,以使被檢測到的通道輸出光束經由光入射面進入,並經由與其偏離的光出射面從偏轉體離開;較佳地,該光入射面傾斜於光出射面;較佳地,該光入射面和光出射面是平的。
根據一個有利的實施例,該偏轉體由用於雷射光束的透明材料一體形成,對於雷射光束而言,該材料較佳地具有大於1的折射率,可藉由偏轉體的邊界表面處的折射作用而發生偏轉。
有利地,該偏轉體被設計成使得被檢測到的通道輸出光束的發散角或空間發散角在偏轉體偏轉之前和之後基本保持不變;據此,偏轉體較佳地不做為用於光束綑綁和/或加寬的透鏡裝置,而是基本上僅用於在光束束腰方向上引導和偏轉相應光束;用於改變光束發散特性的光學功能可以由相應光學通道的透鏡裝置提供,特別是通過終端光學裝置來提供,在這樣的實施例中,可實現各式各樣任何的聚焦行為,以及實現不同光學元件所需的偏轉;將不同光學功能分離可以簡化光學組件的調整。
尤其可以設想到的是,該至少一個偏轉體設計為光學棱鏡。
在另一實施例中該光學組件尤其具有一透鏡裝置,該透鏡裝置設置於光束路徑中的光束束腰之後或是在光束束腰中;該透鏡裝置特別設計成用來形成一被耦合到隨後光束轉換件的組合光束;較佳地,該透鏡裝置被設計為準直透鏡,其用於在光束束腰之後對組合光束進行準直或平行化,並藉此防止組合光束在光束束腰之後再次進行不被期望的發散;之後該準直或遠心光束可以進行進一步的光學處理,例如形成線性光分佈。
該準直透鏡較佳地在至少一側具有一焦平面或焦線,該準直透鏡可以設置成使得焦平面或焦線穿過聚焦區域,亦即穿過光束束腰;據此,該光束束腰較佳地設置在準直透鏡的物體側焦距上;該準直透鏡例如設計為會聚透鏡;特別地,該準直透鏡形成光學組件的實際出射口,此後該組合光束可能在準直之後從該出射口離開並可進行進一步的處理。
在另一實施例中,在至少一些光學通道或每個光學通道中該光束導向光學系統包括一用於光束變形的變形光學系統,特別是用於光束變形的望遠鏡,其中相應光學通道的終端光學裝置做為該光學通道中的變形光學系統(特別是望遠鏡)的組成部件;望遠鏡可以特別地包括兩個在光束路徑中前後連續設置的會聚透鏡,該些會聚透鏡以增加的焦距距離間隔設置,以使它們相互面對的焦平面重合(例如,大約以克卜勒望遠鏡的方式);較佳地,該望遠鏡在至少一個光學通道中形成為變形望遠鏡,使得雷射光束在相應的光學通道中變形;特別地,該望遠鏡被設計成可以在光學通道中沿著垂直於雷射光束傳播方向的軸實現圖像比例的圓柱形變化。
較佳地,每個光學通道中的光束導向光學系統包括在光束路徑中串聯設置的兩個變形望遠鏡,其針對兩個不同失真方向起作用(特別是針對兩個垂直方向),藉此可以調整相對於該二垂直軸的光束特性。
說明書一開始所述目的還可以透過一雷射系統來實現,該雷射系統用於產生具有線性光束橫截面的有用光分佈;該雷射系統包括至少兩個用於發射雷射光束的雷射光源;該雷射系統還包括一上述類型的光學組件,其中該光學組件被設置成使得雷射光源的雷射光束被轉移到組合光束中;通過一設置在光束路徑之後的轉型光學系統可以進一步處理該組合光束,將其轉換成所需的線性有用光分佈,並使其盡可能地均勻化;該轉型光學系統設置在組合光束的光束束腰之後的光束路徑中;利用該光學組件可以產生由數個雷射光源饋入的一組合光束,該組合光束藉由該轉型光學系統轉換成所需的線性有用光分佈;透過調整光學組件,特別是調整偏轉體和/或終端光學裝置,組合光束的光束特性可以與轉型光學系統匹配。
如上所述,該轉型光學系統較佳地設置在光束束腰中或者在光束束腰附近空間中,可選地設置在準直透鏡之後的光束路徑中;藉此,該轉型光學系統可以以相對小的空間尺寸形成。
在以下說明和附圖中,相同的符號用於相同或相應的特徵。
第1圖示出一雷射系統10,其用於產生具有線性光束橫截面的有用光分佈(L)。
在一些圖中,示出了右手定向的笛卡爾坐標系,坐標系的定義方向用於描述幾何關係而非用於限制裝置的設置方式和方向。特別地,雷射系統10的各個單元可以具有不同的方向,在示例中,有用的光分佈沿X方向在X-Y平面中線性延伸。
該雷射系統10例如可以包括數個用於發射相應雷射光束14a-14f的雷射光源12a-12f,當然,也可以使用一個能夠發射數個雷射光束(例如14a-14c或14a-14f)的雷射光源;在示例中,該些雷射光源12a-12f被配置成使得在雷射系統10輸入側區域中該些雷射光束14a-14f運行延伸成兩組,每組各包括三個雷射光束;例如,雷射光束14a-14f設置於一共同的平面中(在示例中為設置於Y-Z平面中)。
該些雷射光束14a-14f進入一光學組件16中,該光學組件16用於將數個雷射光束(14a-14c和14d-14f)分別轉移到相應的組合光束18中;在示例中,該光學組件16被配置為使得第一組雷射光束14a-14c被合併為組合光束18,而第二組雷射光束14d-14f被合併為組合光束18'。在進一步的描述中將僅示例性地說明第一組雷射光束14a-14c以及作用在其上的光學部件,而第二組雷射光束14d-14f則比照第一組進行光學處理。
該等雷射光束14a-14c一開始在光束導向光學系統20的光學組件16中運行,該光束導向光學系統提供獨立的光學通道22a-22c;在示例中,各光學通道22a-22c中各自運行延伸一雷射光束14a-14c,在光學通道22a-22c中被引導的雷射光束14a-14c進入一光束合成光學系統24並在其中合併成為一組合光束18。
該組合光束18在進一步的過程中被引導穿過一轉型光學系統26,該轉型光學系統26將該組合光束18轉換形成所需的線性有用光分佈L;該轉型光學系統26可不同方式實施,例如該轉型光學系統26可以包括一光束轉換件28,該光束轉換件28最初可各向異性地改變該組合光束18的光束特性;在示例中,該光束轉換件28沿Y方向增加組合光束18的光束參數乘積或光束質量因子M2,並且沿X方向減小光束參數乘積或光束質量因子M2(參見第2圖)。
該轉型光學系統還可包括一被示意性示出的均化器30,該均化器被設計用於使沿較佳方向(例如Y方向)的強度分佈均勻化。
第2圖為根據第1圖的雷射系統10的側視示意圖。在示例中,雷射光束14a-14f全部在一個平面中運行,因此在第2圖中該些雷射光束上下疊置;基本上本發明可以是光學組件16僅相對於一作用方向(在示例中為Y方向)會聚和合併該些雷射光束14a-14f;據此,該光學組件16可以特別地設計成使得該等雷射光束14a-14f相對於垂直於較佳方向的方向(在示例中為X方向)基本上不受影響。
該光束導向光學系統20較佳地還被設計成可為在該等光學通道22a-22c中被引導的雷射光束14a-14c進行預成形;例如,該至少一個用於影響相應光學通道的光束特性的望遠鏡32、32'可以設置在至少一個光學通道22a-22c中,此種望遠鏡32、32'的作用如同光束變形光學系統,並且尤其可以被設計為用來改變光學通道14a-14f中的光束橫截面;可以設想該望遠鏡具有變形光學特性,例如,可以在光學通道22a-22c中提供一變形望遠鏡32,藉此來影響相對於第一方向(在示例中為Y方向)的光束特性。另外,在之前或之後的光束路徑中,可以提供另一個望遠鏡32',藉此可以改變與其垂直的方向上的光束特性(在示例中為X方向,參見第2圖),對於望遠鏡32、32'而言各種實施方式都是可能的,例如,望遠鏡32、32'可以形成為伽利略望遠鏡或克卜勒望遠鏡;特別地,可以設想到將望遠鏡32、32'設計為具有至少兩個會聚透鏡34a、34b或34a'、34b'的配置,其中該些會聚透鏡形成為使得它們的焦平面在它們之間的光束路徑中重合。
從第3圖中可以看出,光束導向光學系統20具有用於各光學通道22a-22c的終端光學裝置36a-36c;較佳地,每個單獨的光學通道22a-22c分配有獨立的終端光學裝置36a-36c;在相應的光學通道22a-22c中被引導的雷射輻射做為被分配的通道輸出光束38a-38c從相應的終端光學裝置36a-36c離開,據此,每一個別光學通道22a-22c恰好被分配有一通道輸出光束38a-38c。
有利地,該些終端光學裝置36a-36c可以由相應光學通道22a-22c中的望遠鏡32的透鏡提供;較佳地,相應望遠鏡32的輸出側透鏡34b分別在相應光學通道22a-22c中形成終端光學裝置36a-36c。
光束導向光學系統20可以被設計為使得從相應終端光學裝置36a-36c離開的通道輸出光束38a-38c最初全部都沿著一主方向40運行延伸(參見第3圖);特別地,可以設想到的是,該些光學通道22a-22c被設計為使得該些通道輸出光束38a-38c相對於光軸對稱佈置(其中光軸沿主方向40延伸);在第3圖的示例中,Y-Z平面中的通道輸出光束38a-38c以軸對稱的方式運行延伸至中間的通道輸出光束38b,據此,該中間的通道輸出光束38b沿著系統光軸的主方向40運行延伸;然而,該些實施方式並非強制性,該些通道輸出光束38a-38c也可以有利地相對於彼此部分地傾斜延伸,特別是使其等形成一收斂光束的方式運行延伸。
該光學組件16還包括數個偏轉體42a-42c,每一偏轉體42a-42c都被分配給該些光學通道22a-22c的其中之一;相應的偏轉體42a-42c的尺寸和設置方式使得其僅能檢測所隸屬光學通道22a-22c的通道輸出光束38a-38c;特別地,相應的偏轉體42a-42c設置在所隸屬終端光學裝置36a-36c區域中。
較佳地,該等偏轉體42a-42c被設計為傳輸光學系統,即傳輸用光學體;然而,還可以設想到的是,該等偏轉體42a-42c均設計為反射光學系統,特別是做為反射鏡的組合佈置;該等偏轉體作用於所隸屬通道輸出光束38a-38c上,使得由偏轉體42a-42c分別檢測到的通道輸出光束38a-38c被偏轉到光學組件16的聚焦區域44中,並且於此處形成組合光束18的光束束腰46。
特別地,分別檢測到的通道輸出光束38a-38c的偏轉藉助在偏轉體42a-42c邊界表面處的折射來進行;特別地,每個偏轉體都具有一光入射面48,該些分別檢測到的通道輸出光束38a-38c藉由該光入射面被耦合到所隸屬偏轉體42a-42c中;每一該偏轉體42a-42c都具有一光出射面50,該些被檢測到、被耦合的通道輸出光束38a-38c從該光出射面50再次離開該偏轉體42a-42c,然後即擁有朝向聚焦區域44的方向分量,這尤其可以透過光出射面傾斜於光入射面的方式來實現。
在示例中,偏轉體42a-42c設計為光學棱鏡形式的單體。
有利地,可將一偏轉體42a-42cc分配給一光學通道22a-22c (參見第3圖),藉此使得每個通道輸出光束38a-38c的傳播方向可被精確調整,從而影響光束束腰46中的組合光束18的特性。
若該等偏轉體42a-42c僅分配給下述此種光學通道22a-22c,其中在該光學通道中,通道輸出光束38a-38c不在所期望的聚焦區域44方向傳播,這也可能為有利地,第4圖中的示例概述了相應的實施例;從光學通道22b的終端光學裝置36b離開的通道輸出光束38b已經在系統的光軸上運行延伸於主方向40上並且朝向聚焦區域44,據此不得進行偏轉體的偏轉,然而,對邊緣位置的光學通道36a和36c分配有相應的偏轉體42a和42c;藉由上述實施方式可形成一緊湊的光束合成光學系統24。
為了準備用於耦合到隨後光束轉換件28的組合光束18,該光學組件16可以包括一透鏡裝置52;特別地,該透鏡裝置52可以形成為準直透鏡52,其用於對於組合光束18進行準直和/或相對於主方向40進行平行化;該準直透鏡52較佳地設置於光束束腰46之後的光束路徑中;較佳地,該準直透鏡52可以完全檢測組合光束18,且尤其與光束束腰46範圍內的發散角調諧。
較佳地,該準直透鏡設計為會聚透鏡,其定義有一焦平面54;該準直透鏡52尤其配置成使得焦平面54穿過光束束腰46,藉此可以實現組合光束18在穿過準直透鏡52之後被平行化,並因此在隨後的光束轉換件28上以低發散角形成;還可以設想到的是,該準直透鏡設計為發散透鏡,其設置於光束束腰46前方的光束路徑中。
通道輸出光束38a-38c的偏轉,原則上也可以通過單個圓柱透鏡56而實現,該圓柱透鏡設置在終端光學裝置36a-36c之後的光束路徑中(參見第6圖)。
該圓柱透鏡56尤其用於在光學通道22a、22b、22c並排設置的平面中綑綁光線;據此,該圓柱透鏡56較佳地具有一軸,其中該軸垂直於光學通道22a-22c並排延伸的平面。
較佳地,該圓柱透鏡56的尺寸設計為使得所有通道輸出光束38a-38c可以被檢測到並在聚焦區域44中被綑綁,且於此處形成一光束束腰;藉由這些實施方式可以形成一特別簡單的光束合成光學系統24',在該系統中基本上可以省去圓柱透鏡56附加部件的設置(參見第6圖)。
特別地,如果選擇使用具有大焦距的圓柱透鏡56時,則光束束腰46範圍內的組合光束18具有小的發散角,即可將該組合光束直接饋入隨後的光束轉換件28。
第6圖所示光束合成光學系統24'用於變形,從而在垂直於光束合成平面的截面中幾乎不影響組合光束18的光束特性(參見第5圖)。
第1至6圖示出了光學組件16,其通過示例的方式將在三個通道22a-22c中的雷射光束會聚一起以形成組合光束18,該實施方式並非強制性的,特別地,光學通道可以以其他數量實施。
請參見第7至9圖,其分別示出了適用於兩個光學通道的光學組件16。舉例來說,雷射光束分兩組運行延伸,每組包括兩個雷射光束,為簡化說明,將僅描述在光學通道22a、22b中具有該二雷射光束14a、14b的一組。
在類似於第1圖中的實施例,光學組件16中的雷射光束14a和14b最初在光束導向光學系統20中運行延伸,該光束導向光學系統提供兩個獨立的光學通道22a、22b,在光學通道22a和22b中被引導的雷射光束14a和14b進入光束合成光學系統24,並在其中合併到組合光束18中,然後,該組合光束18再由光束轉換件28引導,這將有助於將組合光束18轉換形成所需的線性有用光分佈L。
相關的通道輸出光束38a或38b分別通過相應光學通道22a或22b的終端光學裝置36a或36b離開(參見第8圖);在示例中,每一光學通道22a或22b分別分配有一偏轉體42a或42b,以使該些通道輸出光束以所描述的方式合併到光束束腰46中。
第9圖示出,在具有兩個光學通道22a和22b的配置情況下,藉助於圓柱透鏡56的通道輸出光束36a和36b的偏轉。該圓柱透鏡56設置於終端光學裝置36a和36b之後的光束路徑中,並用來檢測該二光學通道22a和22b。
10‧‧‧雷射系統 12a‧‧‧雷射光源 12b‧‧‧雷射光源 12c‧‧‧雷射光源 12d‧‧‧雷射光源 12e‧‧‧雷射光源 12f‧‧‧雷射光源 14a‧‧‧雷射光束 14b‧‧‧雷射光束 14c‧‧‧雷射光束 14d‧‧‧雷射光束 14e‧‧‧雷射光束 14f‧‧‧雷射光束 16‧‧‧光學組件 18‧‧‧組合光束 18'‧‧‧組合光束 20‧‧‧光束導向光學系統 22a‧‧‧光學通道 22b‧‧‧光學通道 22c‧‧‧光學通道 24‧‧‧光束合成光學系統 24'‧‧‧光束合成光學系統 26‧‧‧轉型光學系統 28‧‧‧光束轉換件 30‧‧‧均化器 32‧‧‧望遠鏡 32'‧‧‧望遠鏡 34a‧‧‧透鏡 34b‧‧‧透鏡 34a'‧‧‧透鏡 34b'‧‧‧透鏡 36a‧‧‧終端光學裝置 36b‧‧‧終端光學裝置 36c‧‧‧終端光學裝置 38a‧‧‧通道輸出光束 38b‧‧‧通道輸出光束 38c‧‧‧通道輸出光束 40‧‧‧主方向 42a‧‧‧偏轉體 42b‧‧‧偏轉體 42c‧‧‧偏轉體 44‧‧‧聚焦區域 46‧‧‧光束束腰 48‧‧‧光入射面 50‧‧‧光出射面 52‧‧‧透鏡裝置、準直透鏡 54‧‧‧焦平面 56‧‧‧圓柱透鏡 L‧‧‧光分佈
本發明將以參照附圖的方式搭配實施例進行更詳細的說明: 第1圖:所示係為用於產生線性有用光分佈的雷射系統的俯視示意圖; 第2圖:所示係為根據第1圖的雷射系統的側視示意圖; 第3圖:所示係為光學組件的俯視示意圖; 第4圖:所示係為另一光學組件的俯視示意圖; 第5圖:所示係為另一光學組件的側視示意圖; 第6圖:所示係為根據第5圖的光學組件的俯視示意圖; 第7圖:所示係為具有兩組的雷射系統的示意圖,其中每一組包括兩個光學通道; 第8圖:所示係為具有兩個光學通道的光學組件的示意圖; 第9圖:所示係為根據第6圖的具有兩個光學通道的配置方式的示意圖。
14a‧‧‧雷射光束
14b‧‧‧雷射光束
14c‧‧‧雷射光束
16‧‧‧光學組件
18‧‧‧組合光束
20‧‧‧光束導向光學系統
22a‧‧‧光學通道
22b‧‧‧光學通道
22c‧‧‧光學通道
28‧‧‧光束轉換件
32‧‧‧望遠鏡
36a‧‧‧終端光學裝置
36b‧‧‧終端光學裝置
36c‧‧‧終端光學裝置
38a‧‧‧通道輸出光束
38b‧‧‧通道輸出光束
38c‧‧‧通道輸出光束
40‧‧‧主方向
42a‧‧‧偏轉體
42b‧‧‧偏轉體
42c‧‧‧偏轉體
44‧‧‧聚焦區域
46‧‧‧光束束腰
48‧‧‧光入射面
50‧‧‧光出射面
52‧‧‧透鏡裝置
54‧‧‧焦平面

Claims (16)

  1. 一種光學組件(16),其用於將至少兩個雷射光源(12a-12f)的雷射光束(14a-14f)轉移到一具有光束束腰(46)的組合光束(18)中; 其中,所述光學組件(16)包括一光束導向光學系統(20),其被設計成為所述雷射光束(14a-14f)提供至少兩個獨立光學通道(22a-22c),其中各所述光學通道(22a-22c)具有一用於退出相對應光學通道(22a-22c)的通道輸出光束(38a-38c)的終端光學裝置(36a-36c); 其中,提供至少一個偏轉體(42a-42c),各所述偏轉體僅分配給一所述光學通道 (22a-22c),其中所述偏轉體(42a-42c)被設計成僅能檢測到所隸屬光學通道(22a-22c)的通道輸出光束(38a-38c),而該被檢測到的所述通道輸出光束(38a-38c)在聚焦區域(44)的方向上偏轉。
  2. 如請求項1所述之光學組件(16),其中各所述光學通道(22a-22c)至多分配有一所述偏轉體(42a-42c)。
  3. 如請求項1或2所述之光學組件(16),其中對於各所述光學通道(22a-22c)提供一所述偏轉體(42a-42c)。
  4. 如請求項1或2所述之光學組件(16),其中若從所述光學通道(22a、22c)的終端光學裝置(36a、36c)離開的通道輸出光束 (38a, 38c)具有一傳播方向,而所述傳播方向不指向所述聚焦區域(44),則各所述光學通道(22a-22c)僅分配有一所述偏轉體(42a-42c)。
  5. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述光束導向光學系統(20)被設計成從所述光學通道(22a-22c)離開的所述通道輸出光束(38a-38c)都具有平行於一共同主方向(40)的傳播方向。
  6. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述偏轉體(42a-42c)被設計為傳輸光學系統,其中所述被檢測到的通道輸出光束(38a-38c)從一光入射面(48)進入所述偏轉體(42a-42c),並從一光出射面(50)離開所述偏轉體(42a-42c)。
  7. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述光入射面(48)傾斜於所述光出射面(50)。
  8. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述偏轉體(42a-42c)由用於所述雷射光束的透明材料一體形成。
  9. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述偏轉體(42a-42c)被設計成使得所述被檢測到的通道輸出光束(38a-38c)的發散在所述偏轉體(42a-42c)偏轉之前和之後保持不變。
  10. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述偏轉體(42a-42c)形成為光學棱鏡。
  11. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述偏轉體(42a-42c)形成為反射光學系統。
  12. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中設有一透鏡裝置(52),其設置在所述光束束腰(46)之後或所述光束束腰(46)中的光束路徑上。
  13. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述透鏡裝置為準直透鏡(52),其在至少一側具有一焦平面(54)或焦線,且所述準直透鏡(52)被設置成使得所述焦平面(54)或焦線穿過所述聚焦區域(44)。
  14. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中各所述光學通道(22a-22c)中的所述光束導向光學系統(20)各自包括一用於光束變形的望遠鏡(32),其中所述終端光學裝置(36a-36c)做為相對應光學通道(22a-22c)中的望遠鏡(32)的組成部件。
  15. 如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述望遠鏡(32)為變形望遠鏡。
  16. 一種雷射系統(10),其用於產生具有線性光束橫截面的有用光分佈(L),包括: 至少兩個雷射光源(12a-12f),各所述雷射光源(12a-12f)用於發射至少一雷射光束(14a-14f); 一如前述請求項中任一項所述之光學組件(16),其中所述光學組件(16)被設置成將所述雷射光源(12a-12f)的雷射光束(14a-14f)轉移到所述組合光束(18)中; 一轉型光學系統(26),其用於從所述組合光束(18)形成線形強度輪廓; 其中,所述轉型光學系統(26)設置於所述組合光束(18)的光束束腰(46)之後的光束路徑中。
TW108120934A 2018-06-22 2019-06-17 光學組件和雷射系統 TWI743493B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018115102.0 2018-06-22
DE102018115102.0A DE102018115102B4 (de) 2018-06-22 2018-06-22 Lasersystem

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202000355A true TW202000355A (zh) 2020-01-01
TWI743493B TWI743493B (zh) 2021-10-21

Family

ID=66821234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108120934A TWI743493B (zh) 2018-06-22 2019-06-17 光學組件和雷射系統

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20210103156A1 (zh)
JP (1) JP7431756B2 (zh)
KR (1) KR20210022040A (zh)
CN (1) CN112313559B (zh)
DE (1) DE102018115102B4 (zh)
TW (1) TWI743493B (zh)
WO (1) WO2019243043A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113991406B (zh) * 2021-10-27 2022-07-15 光惠(上海)激光科技有限公司 一种高功率光纤激光器
CN117666265A (zh) * 2022-03-31 2024-03-08 青岛海信激光显示股份有限公司 投影光源及投影设备

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5475416A (en) * 1992-06-03 1995-12-12 Eastman Kodak Company Printing system for printing an image with lasers emitting diverging laser beams
US5475415A (en) * 1992-06-03 1995-12-12 Eastman Kodak Company Optical head and printing system forming interleaved output laser light beams
US5513201A (en) * 1993-04-30 1996-04-30 Nippon Steel Corporation Optical path rotating device used with linear array laser diode and laser apparatus applied therewith
JP3098200B2 (ja) * 1996-12-27 2000-10-16 昭和オプトロニクス株式会社 レーザビームの補正方法及び装置
JP2002239773A (ja) * 2000-12-11 2002-08-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レーザー加工装置および半導体レーザー加工方法
JP3949564B2 (ja) * 2001-11-30 2007-07-25 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザ照射装置及び半導体装置の作製方法
JP4226482B2 (ja) * 2003-02-03 2009-02-18 富士フイルム株式会社 レーザ光合波装置
JP2008524662A (ja) * 2004-12-22 2008-07-10 カール・ツアイス・レーザー・オプティクス・ゲーエムベーハー 線ビームを生成するための光学照射系
JP2008071798A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Sharp Corp レーザ光源装置
DE102008027229B4 (de) 2008-06-06 2016-06-30 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Strahlformung
DE102009010693A1 (de) * 2009-02-26 2010-09-02 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung
PL217893B1 (pl) * 2009-10-10 2014-08-29 Inst Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk Sposób i urządzenie do wprowadzania do jednego światłowodu światła laserowego pochodzącego z co najmniej dwóch źródeł laserowych
TWI573650B (zh) * 2011-12-16 2017-03-11 應用材料股份有限公司 輻射源及用於結合同調光束的光束組合器
CN107073642B (zh) * 2014-07-14 2020-07-28 康宁股份有限公司 使用长度和直径可调的激光束焦线来加工透明材料的系统和方法
DE102016213561A1 (de) * 2016-07-25 2018-01-25 Trumpf Laser Gmbh Optische Anordnung mit scheibenförmigem laseraktiven Medium
EP4331768A3 (en) 2016-07-27 2024-04-24 TRUMPF Laser GmbH Laser line illumination

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021530860A (ja) 2021-11-11
JP7431756B2 (ja) 2024-02-15
KR20210022040A (ko) 2021-03-02
CN112313559B (zh) 2024-05-03
US20210103156A1 (en) 2021-04-08
TWI743493B (zh) 2021-10-21
DE102018115102A1 (de) 2019-12-24
WO2019243043A1 (de) 2019-12-26
CN112313559A (zh) 2021-02-02
DE102018115102B4 (de) 2024-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102700886B1 (ko) 레이저 라인 조명
US8662761B2 (en) Laser optical system using optical fiber transmission
US7110183B2 (en) Device for the optical beam transformation of a linear arrangement of several light sources
CN101878444B (zh) 波束成形设备
CN109073908B (zh) 平行光发生装置
US20220236384A1 (en) Focal plane optical conditioning for integrated photonics
CN102099726A (zh) 射束成形设备和方法
US8619370B2 (en) Optical combiner for combining multiple laser beams in a flow cytometer
WO2015001866A1 (ja) レーザ装置
US5850310A (en) Zoom device
KR20070118023A (ko) 레이저 방사선의 균일한 각 분포를 발생시키기 위한 장치
TWI743493B (zh) 光學組件和雷射系統
US8395844B2 (en) Apparatus for homogenizing light and laser apparatus for producing a linear intensity distribution in a work plane
US8967826B2 (en) Laser apparatus for generating a line-shaped intensity distribution in a working plane
KR20080039449A (ko) 선 초점을 생성하기 위한 광학 시스템, 그러한 광학시스템을 이용하는 스캐닝 시스템, 및 기판의 레이저 공정방법
JP7550221B2 (ja) 光学モジュールおよび距離測定装置
US20160033774A1 (en) Device for homogenizing a laser beam
TWI722760B (zh) 雷射系統
KR20160132376A (ko) 빔 노광 장치
US8587868B2 (en) Device for splitting a light beam
JP2019020731A (ja) レーザビームの線形強度分布を生成するための装置
TW202417934A (zh) 用於將輸入雷射光束轉換成線狀輸出射束之光學組件
KR20210121134A (ko) 레이저 시스템
JP2022539890A (ja) マルチチャネル光学機械アドレス指定部
CN112513706A (zh) 用于激光辐射的转变设备