JP2022539890A - マルチチャネル光学機械アドレス指定部 - Google Patents
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- G02B3/00—Simple or compound lenses
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Abstract
Description
しかしながら、例えば光通信などの他の技術分野においても同様の問題が生じる。
有利には、光学装置は、第1のビーム束セットの各ビーム束用の光源を含み、そこからそれぞれのビーム束が光再配置部に衝突する。
ビーム束の光源は、1次元または2次元の方法で配置されてもよく、再配置は、1次元または2次元の方法で実施されてもよい。
特に好ましい実施形態では、重ね合わせが行われる光学素子の焦点面の上記距離は、入力側光学素子の焦点距離の0.5倍~1.5倍の範囲である。
さらにより好ましい実施形態では、距離は、
として、fT1+Δの0.5倍~1.5倍の範囲であり、
式中、fT1は入力側光学素子の焦点距離であり、fT2は光ビーム拡張部の出力側光学素子の焦点距離であり、fT1およびfT2は共に望遠鏡を構成する。
有利な実施形態による単純で低コストの設計は、光学素子が一段または多段屈折光学部として構成されることを可能にする。
有利な実施形態による特にコンパクトな設計は、光学素子が反射光学部、好ましくは放物面ミラーとして構成されることを可能にする。
製造および設定が簡単な実施形態によれば、光学装置の光再配置部は、機械的に調整可能なミラーを備える。
から発生し、異なる空間位置に位置するビームの近軸束の本来の剛性位置は、互いに平行に変位することができる。
一実施形態によれば、光ビーム拡張部は屈折望遠鏡として構成される。
いくつかの実施形態は、例として図面に示されており、以下に説明される。
は、画像表面190内の特定の目標点
に関連付けられるか、または画像化される。
の2倍以下の距離
+Δの地点Xの位置に向かって束ねるように構成されている。好ましくは第2のセットのビーム束の各々に固有の発散のために、第3のセットS3のビーム束は、拡張領域内の点Xにおいて互いに重なり合う。換言すれば、セットS2の各ビーム束は、光学素子150によって曲げられ、セットS3の束のうちの1つの束として点Xに向けられ、それにより、セット3の他の束と重ね合わされる。重畳は、拡張された表面積内で行われる。第3のセットS3の束が点Xに向けられる方向は、セットS2のビームの対応する束が光学素子に衝突する横方向の位置に双方向に依存する。
したがって、波長のビーム束は、
(1)
に従って、対応するウエストw0および角度
によって特徴付けられ、また、ウエスト
からの距離
に応じたビーム半径
(2)
によって特徴付けられ、式中、z0はレイリー長であって、
(3)
であり、これにより、ビーム半径はウエスト値
の√2倍に拡大される。
光学素子によって、ガウス形のウエストが互いに変換され、束断面はウエスト
から離れるにつれてサイズが増大し、ウエスト
に向かって先細になる。
およびウエスト平面からの距離
に関連する。ウエストサイズが小さいほど、束の開口の角度が大きくなり、これは、光学素子およびウエストから所与の距離を有すると、それに応じて光学素子の照明領域が大きくなることを意味する。ビームのガウス束内に99%より大きい十分なエネルギー包含を確保するために、光路内に配置され、束を制限する効果を潜在的に有する要素は、この点に存在する束半径の少なくとも3倍の直径をさらに有する必要がある。
を目標点
に関連付けるために必要な光源側配置またはビーム偏向のために生じる。
の空間分解されたアドレス指定を可能にするサイズwtargetのウエストを生成するために必要なもの、およびガウス束の99%より大きい透過を達成するために必要なものよりも実質的に小さくない。対物レンズ170は、焦点距離
および直径Dobjを含み、画像表面190に対応するその焦点面内のビーム束を、撮像タスクの要件に適合したガウスウエストWtargetに変換する。
例えば対物レンズの光学撮像部170の開口部は、この文脈では、
(4)
によってサイズが規定される開口数(NA)と呼ばれる。
(1)および(4)によれば、99%より大きい透過率の要求を考慮しながら、対物レンズが最小で有さなければならない開口角は、
(5)、
と、目標平面または画像表面内の出力側目標点
との高精度の関連付けを同時に可能にし、目標点
は必ずしも静止していない。例えば、漂遊磁場によって影響を受ける負荷依存イオン間距離またはイオン位置は、例えばイオントラップ内で追跡することができる。対物レンズによって光軸OAに関して中心合わせされ、その直径に関して設定され、適切な微小光学機械によって可能にされる光学的全体配置は、開口数に関する仕様が本質的に目標面内の分解能要件のみに依存し、それらの焦点距離に関して、本質的に構造関連の理由による作動距離のみに依存する対物レンズの使用を可能にする。例えば、画像表面190がイオントラップ内にある場合、上述の作動距離は、例えば、真空窓の厚さおよび窓からのトラップの距離によって与えられ得る。したがって、より大きなイオン数へのスケーリング動作は、より大きな開口数またはより大きな直径を有する明らかにより高価な対物レンズによって、他の光学機械的アプローチの場合のように制限されない。同様に、装置100を適用する他の技術例についても同様である。本発明の実施形態で使用することができる限定された対物レンズ開口数は、さらに、より大きな焦点深度に起因して、例えばイオン面などの画像表面190に関して対物レンズを長手方向に調整するために必要な費用を制限する。折り畳まれ、対物レンズとは別に純粋に反射性である光学部は、独立した波長でもあるコンパクトな構成を可能にし、したがって、例えば40Ca+、138Ba+または他のイオンを含むイオントラップなどの様々な用途の場合に使用することができる。
は、100μmよりも小さくなるように選択されなければならない。図1は、コリメーションレンズ120の背後で弱く収束する束を有する有利な実施態様を示す。
、および対物レンズの焦点距離
は、適切な寸法にされるべきである。一般性を失うことなく、光源点Yの距離と目標点
の距離との間の相関については、いずれの場合もy方向における線形配置として、光学撮像素子150が焦点距離
を有し、光ビーム拡張部161、162が焦点距離fT、1およびfT、2の2つのレンズT1、T2を有する望遠鏡であると仮定すると、以下の相関が式の形で見出され得る。
(6)
光学撮像素子150が曲率半径Rc_mirrを有する放物面ミラーとして構成されている場合、(6)は適切な相関をもたらす。
(7)
によって指定された位置への光源位置
の変換を可能にする場合、光源点と目標点との自由な関連付けは、
(8)
によって、
および/または、撮像光学素子としての放物面ミラーの場合、
(9)
によってアドレス指定され得る。
と位置
との関連付けの可能な実装形態は、例として図3に概説されている。関連付けの変動性を示す目的で、様々な可能性が例示的な方法で示されており、適用の場合は、N個の光源チャネルまたは光源点
とN個の目標チャネルまたは目標点
との全単射関連付けを提供する。
の距離と目標点
の距離との比に対応する100:1の撮像スケールは、300mmの焦点距離を有する光学素子150、例えば600mmの曲率半径を有するミラーを用いて実施される。
に対応するビーム束の個々の位置pos.1~4は、ビーム束ごとに適切に移動可能および/または調整可能なミラー130a~130dおよびビーム束のすべてに設けられた剛性ミラー140によって、光学素子150上の位置pos1’~4’に関連付けられる。この文脈内で、ビームの個々の束は、相互に変位されるだけでなく、再配置されてもよい。図3では、位置pos1~4からpos.1’~4’への個々の変位が矢印で示されている。調整可能ミラー130a~130bは、好ましくは直線運動を可能にするように支持される。実施形態に応じて、光再配置部130、140全体またはその一部は、機械的および/または圧電的および/または磁気的に制御可能な作動素子によって制御されてもよい。光学装置100の光路に沿って、光再配置部130、140は、光路において調整可能ミラー130の背後に配置され、ビーム束がそれを介して光学素子150に向けられる剛性ミラー140を備える。
内であり、すべてのビーム束の共通の中心は、光学素子150の焦点内に位置する点Xによって画定される。この文脈内で、点Xの位置は、光ビーム拡張部161、162の入力側光学素子または入力側レンズT1の前に所定の距離
+Δで配置される。本実施形態では、入力側レンズT1からの点Xの距離は、光ビーム拡張部161、162によるビーム束の拡張が、出力側レンズT2を実質的に完全に照明するように、ならびにその下流に配置された例えば対物レンズなどの光学撮像部170が、例えば拡張された各ビーム束に関して50%超、具体的には例えば50%超を照明するように設定される。光学素子150によって、ビーム束の元の位置/向き、すなわち、ビームの近軸束の様々な位置および同一の角度は、同じ位置および様々な角度に伝達される。光源110、例えばモノモード光源はまた、一次元または二次元に配置されてもよい。
で一致するビーム束の束中心が、望遠鏡の出力側光学素子または出力側レンズT2の平面内で再び一致することである。図6では、個々のビームは、撮像光学素子150の異なる位置から発生し、光ビーム拡張部161、162に向かって延びるビームの個々の束のそれぞれの中心を表す。条件は、以下が適用される撮像タスクとして定式化することができる。
+
で、同じく光軸上に位置する像点に結像される。撮像タスクを満たすための定義量は、物体点XとT1との間の距離である。
この目的のために、
(ED1):
オブジェクト幅sとして、量fT1+Δ
画像距離s’として、量fT1+fT2
焦点距離fとして、量fT1、
が撮像方程式に挿入され、その結果、決定されるべき量Δは、
(ED2)
になる。
代替実施形態によれば、Δは、ED2による値の±50%の範囲内に位置すれば十分である。
と目標点
との距離が100倍異なる実施形態を説明する。したがって、図8のウエストサイズから収集され得るように、ビーム束、または束ウエストのサイズも縮小される。サイズを100:1に縮小するための開始点は、光源110のビーム束のウエストではなく、理想的なコリメーションを実行するように設定されていないコリメーションレンズ120によって生成されるウエストである。実施形態では、後者は89マイクロメートルに達し、対物レンズの焦点面内のサイズの100:1の縮小によって、0.89マイクロメートルのウエストサイズに変換される。
これらの結果をもたらした研究は、欧州連合によって支援されている。
110 光源
120a~120b コリメータ
130a~130b 調整可能なミラー
140 静止剛性ミラー
150 撮像光学素子
155 撮像光学素子(放物面ミラー)
170 光学撮像部、対物レンズ
190 画像表面、または画像平面
161、162 光ビーム拡張部(屈折望遠鏡)
165、166 光ビーム拡張部(反射望遠鏡)
POS1~POS4 再配置前のビーム束の位置
POS1’~POS4’ 再配置後のビーム束の位置
T1 入力側光学素子(161)または入力側レンズ鏡筒
T2 出力側光学素子(162)または出力側レンズ鏡筒
光学素子(150)の焦点距離
入力側素子光学系T1の焦点距離
出力側光学素子T2の焦点距離
D 直径
Δ 偏差
角度
波長
光源点または光源位置
画像表面(190)上の目標点または目標位置
放物面ミラーの半径(焦点距離)
撮像光学素子上の位置
撮像光学素子上の位置
しかしながら、例えば光通信などの他の技術分野においても同様の問題が生じる。
有利には、光学装置は、第1のビーム束セットの各ビーム束用の光源を含み、そこからそれぞれのビーム束が光再配置部に衝突する。
ビーム束の光源は、1次元または2次元の方法で配置されてもよく、再配置は、1次元または2次元の方法で実施されてもよい。
特に好ましい実施形態では、重ね合わせが行われる光学素子の焦点面の上記距離は、入力側光学素子の焦点距離の0.5倍~1.5倍の範囲である。
さらにより好ましい実施形態では、距離は、
として、fT1+Δの0.5倍~1.5倍の範囲であり、
式中、fT1は入力側光学素子の焦点距離であり、fT2は光ビーム拡張部の出力側光学素子の焦点距離であり、fT1およびfT2は共に望遠鏡を構成する。
有利な実施形態による単純で低コストの設計は、光学素子が一段または多段屈折光学部として構成されることを可能にする。
有利な実施形態による特にコンパクトな設計は、光学素子が反射光学部、好ましくは放物面ミラーとして構成されることを可能にする。
製造および設定が簡単な実施形態によれば、光学装置の光再配置部は、機械的に調整可能なミラーを備える。
から発生し、異なる空間位置に位置するビームの近軸束の本来の剛性位置は、互いに平行に変位することができる。
一実施形態によれば、光ビーム拡張部は屈折望遠鏡として構成される。
いくつかの実施形態は、例として図面に示されており、以下に説明される。
は、画像表面190内の特定の目標点
に関連付けられるか、または画像化される。
の2倍以下の距離
+Δの地点Xの位置に向かって束ねるように構成されている。好ましくは第2のセットのビーム束の各々に固有の発散のために、第3のセットS3のビーム束は、拡張領域内の点Xにおいて互いに重なり合う。換言すれば、セットS2の各ビーム束は、光学素子150によって曲げられ、セットS3の束のうちの1つの束として点Xに向けられ、それにより、セットS3の他の束と重ね合わされる。重畳は、拡張された表面積内で行われる。第3のセットS3の束が点Xに向けられる方向は、セットS2のビームの対応する束が光学素子に衝突する横方向の位置に双方向に依存する。
したがって、波長のビーム束は、
(1)
に従って、対応するウエストw0および角度
によって特徴付けられ、また、ウエスト
からの距離
に応じたビーム半径
(2)
によって特徴付けられ、式中、z0はレイリー長であって、
(3)
であり、これにより、ビーム半径はウエスト値
の√2倍に拡大される。
光学素子によって、ガウス形のウエストが互いに変換され、束断面はウエスト
から離れるにつれてサイズが増大し、ウエスト
に向かって先細になる。
およびウエスト平面からの距離
に関連する。ウエストサイズが小さいほど、束の開口の角度が大きくなり、これは、光学素子およびウエストから所与の距離を有すると、それに応じて光学素子の照明領域が大きくなることを意味する。ビームのガウス束内に99%より大きい十分なエネルギー包含を確保するために、光路内に配置され、束を制限する効果を潜在的に有する要素は、この点に存在する束半径の少なくとも3倍の直径をさらに有する必要がある。
を目標点
に関連付けるために必要な光源側配置またはビーム偏向のために生じる。
の空間分解されたアドレス指定を可能にするサイズwtargetのウエストを生成するために必要なもの、およびガウス束の99%より大きい透過を達成するために必要なものよりも実質的に小さくない。対物レンズ170は、焦点距離
および直径Dobjを含み、画像表面190に対応するその焦点面内のビーム束を、撮像タスクの要件に適合したガウスウエストWtargetに変換する。
例えば対物レンズの光学撮像部170の開口部は、この文脈では、
(4)
によってサイズが規定される開口数(NA)と呼ばれる。
(1)および(4)によれば、99%より大きい透過率の要求を考慮しながら、対物レンズが最小で有さなければならない開口角は、
(5)、
と、目標平面または画像表面内の出力側目標点
との高精度の関連付けを同時に可能にし、目標点
は必ずしも静止していない。例えば、漂遊磁場によって影響を受ける負荷依存イオン間距離またはイオン位置は、例えばイオントラップ内で追跡することができる。対物レンズによって光軸OAに関して中心合わせされ、その直径に関して設定され、適切な微小光学機械によって可能にされる光学的全体配置は、開口数に関する仕様が本質的に目標面内の分解能要件のみに依存し、それらの焦点距離に関して、本質的に構造関連の理由による作動距離のみに依存する対物レンズの使用を可能にする。例えば、画像表面190がイオントラップ内にある場合、上述の作動距離は、例えば、真空窓の厚さおよび窓からのトラップの距離によって与えられ得る。したがって、より大きなイオン数へのスケーリング動作は、より大きな開口数またはより大きな直径を有する明らかにより高価な対物レンズによって、他の光学機械的アプローチの場合のように制限されない。同様に、装置100を適用する他の技術例についても同様である。本発明の実施形態で使用することができる限定された対物レンズ開口数は、さらに、より大きな焦点深度に起因して、例えばイオン面などの画像表面190に関して対物レンズを長手方向に調整するために必要な費用を制限する。折り畳まれ、対物レンズとは別に純粋に反射性である光学部は、独立した波長でもあるコンパクトな構成を可能にし、したがって、例えば40Ca+、138Ba+または他のイオンを含むイオントラップなどの様々な用途の場合に使用することができる。
は、100μmよりも小さくなるように選択されなければならない。図1は、コリメーションレンズ120の背後で弱く収束する束を有する有利な実施態様を示す。
、および対物レンズの焦点距離
は、適切な寸法にされるべきである。一般性を失うことなく、光源点
の距離と目標点
の距離との間の相関については、いずれの場合もy方向における線形配置として、光学撮像素子150が焦点距離
を有し、光ビーム拡張部161、162が焦点距離fT、1およびfT、2の2つのレンズT1、T2を有する望遠鏡であると仮定すると、以下の相関が式の形で見出され得る。
(6)
光学撮像素子150が曲率半径Rc_mirrを有する放物面ミラーとして構成されている場合、(6)は適切な相関をもたらす。
(7)
によって指定された位置への光源位置
の変換を可能にする場合、光源点と目標点との自由な関連付けは、
(8)
によって、
および/または、撮像光学素子としての放物面ミラーの場合、
(9)
によってアドレス指定され得る。
と位置
との関連付けの可能な実装形態は、例として図3に概説されている。関連付けの変動性を示す目的で、様々な可能性が例示的な方法で示されており、適用の場合は、N個の光源チャネルまたは光源点
とN個の目標チャネルまたは目標点
との全単射関連付けを提供する。
の距離と目標点
の距離との比に対応する100:1の撮像スケールは、300mmの焦点距離を有する光学素子150、例えば600mmの曲率半径を有するミラーを用いて実施される。
に対応するビーム束の個々の位置pos.1~4は、ビーム束ごとに適切に移動可能および/または調整可能なミラー130a~130dおよびビーム束のすべてに設けられた剛性ミラー140によって、光学素子150上の位置pos1’~4’に関連付けられる。この文脈内で、ビームの個々の束は、相互に変位されるだけでなく、再配置されてもよい。図3では、位置pos1~4からpos.1’~4’への個々の変位が矢印で示されている。調整可能ミラー130a~130bは、好ましくは直線運動を可能にするように支持される。実施形態に応じて、光再配置部130、140全体またはその一部は、機械的および/または圧電的および/または磁気的に制御可能な作動素子によって制御されてもよい。光学装置100の光路に沿って、光再配置部130、140は、光路において調整可能ミラー130の背後に配置され、ビーム束がそれを介して光学素子150に向けられる剛性ミラー140を備える。
内であり、すべてのビーム束の共通の中心は、光学素子150の焦点内に位置する点Xによって画定される。この文脈内で、点Xの位置は、光ビーム拡張部161、162の入力側光学素子または入力側レンズT1の前に所定の距離
+Δで配置される。本実施形態では、入力側レンズT1からの点Xの距離は、光ビーム拡張部161、162によるビーム束の拡張が、出力側レンズT2を実質的に完全に照明するように、ならびにその下流に配置された例えば対物レンズなどの光学撮像部170が、例えば拡張された各ビーム束に関して50%超、具体的には例えば50%超を照明するように設定される。光学素子150によって、ビーム束の元の位置/向き、すなわち、ビームの近軸束の様々な位置および同一の角度は、同じ位置および様々な角度に伝達される。光源110、例えばモノモード光源はまた、一次元または二次元に配置されてもよい。
で一致するビーム束の束中心が、望遠鏡の出力側光学素子または出力側レンズT2の平面内で再び一致することである。図6では、個々のビームは、撮像光学素子150の異なる位置から発生し、光ビーム拡張部161、162に向かって延びるビームの個々の束のそれぞれの中心を表す。条件は、以下が適用される撮像タスクとして定式化することができる。
+
で、同じく光軸上に位置する像点に結像される。撮像タスクを満たすための定義量は、物体点XとT1との間の距離である。
この目的のために、
(ED1):
オブジェクト幅sとして、量fT1+Δ
画像距離s’として、量fT1+fT2
焦点距離fとして、量fT1、
が撮像方程式に挿入され、その結果、決定されるべき量Δは、
(ED2)
になる。
代替実施形態によれば、Δは、ED2による値の±50%の範囲内に位置すれば十分である。
と目標点
との距離が100倍異なる実施形態を説明する。したがって、図8のウエストサイズから収集され得るように、ビーム束、または束ウエストのサイズも縮小される。サイズを100:1に縮小するための開始点は、光源110のビーム束のウエストではなく、理想的なコリメーションを実行するように設定されていないコリメーションレンズ120によって生成されるウエストである。実施形態では、後者は89マイクロメートルに達し、対物レンズの焦点面内のサイズの100:1の縮小によって、0.89マイクロメートルのウエストサイズに変換される。
これらの結果をもたらした研究は、欧州連合によって支援されている。
110 光源
120a~120b コリメータ
130a~130b 調整可能なミラー
140 静止剛性ミラー
150 撮像光学素子
155 撮像光学素子(放物面ミラー)
170 光学撮像部、対物レンズ
190 画像表面、または画像平面
161、162 光ビーム拡張部(屈折望遠鏡)
165、166 光ビーム拡張部(反射望遠鏡)
POS1~POS4 再配置前のビーム束の位置
POS1’~POS4’ 再配置後のビーム束の位置
T1 入力側光学素子(161)または入力側レンズ鏡筒
T2 出力側光学素子(162)または出力側レンズ鏡筒
光学素子(150)の焦点距離
入力側素子光学系T1の焦点距離
出力側光学素子T2の焦点距離
D 直径
Δ 偏差
角度
波長
光源点または光源位置
画像表面(190)上の目標点または目標位置
放物面ミラーの半径(焦点距離)
撮像光学素子上の位置
撮像光学素子上の位置
Claims (24)
- 互いに平行な第1の物体側ビーム束セット(S1)を画像表面上に撮像するための光学装置(100)であって、
光ビーム拡張部(161、162)と、
互いに平行を維持しながら、互いに平行な前記第1のビーム束セット(S1)を再配置して、互いに平行な第2のビーム束セット(S2)を得るように構成された光再配置部(130、140)と、
前記光ビーム拡張部(161、162)が第3のビーム束セット(S3)に到達するように、1つまたは複数の前記第2のビーム束セット(S2)を束ねることにより前記光ビーム拡張部(161、162)上に向けるように構成された光学素子(150)であって、前記光ビーム拡張部(161、162)は、拡張された第4のビーム束セット(S4)を得るように、前記第3のセット(S3)の各ビーム束を拡張するように構成されている、光学素子(150)と、
前記画像表面(190)上に前記拡張された第4のビーム束セット(S4)を撮像するように構成された光学撮像部(170)と、
を備える、光学装置(100)。 - 前記第1のビーム束セット(S1)の各ビーム束のための光源(110)であって、そこから前記各ビーム束が前記光再配置部(130、140)に衝突する、光源(110)、
を備える、請求項1に記載の光学装置。 - 前記第1のビーム束セット(S1)の各ビーム束の前記光源(110)が、
モノモード光源、または
マルチモード光源、または
マルチモード光源、
を含む、請求項2に記載の光学装置(100)。 - ビーム束の前記第1のセット(S1)の前記各ビーム束が前記光再配置部(130、140)の方向に通過する、ビーム束の前記第1のセット(S1)のビーム束ごとのコリメータ(120)
を備える、請求項3に記載の光学装置(100)。 - ビーム束の前記第1のセット(S1)のビーム束ごとに、コリメータとしてGRINレンズを備えるモノモードファイバを備えている、請求項1から4のいずれか一項に記載の光学装置(100)。
- 前記光学撮像部(170)は、ビーム束の前記第4のセット(S4)のビーム束の断面の1.5倍以上の直径を含む、請求項5から8のいずれか一項に記載の光学装置。
- 前記光学素子(150)は、一段または多段の屈折光学素子として構成されている、
請求項1から9のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記光学素子(150)は、反射光学部として構成されている、
請求項1から9のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記光再配置部(130、140)は、ビーム束の前記第1のセット(S1)と比較して、ビーム束の前記第2のセット(S2)の再配置を設定するように制御され得る、請求項1から11のいずれか一項に記載の光学装置(100)。
- 前記光再配置部(130、140)が、機械的に調整可能なミラー(130)を備えている、請求項1から12のいずれか一項に記載の光学装置(100)。
- 軸受を備え、前記機械的に調整可能なミラー(130)が前記軸受を介して直線的に移動可能である、
請求項13に記載の光学装置(100)。 - 前記光再配置部(130、140)は、機械的および/または圧電的および/または磁気的に駆動可能な作動素子を含む、
請求項1から14のいずれか一項に記載の光学装置。 - 前記光再配置部(130、140)は、カバーされた距離が維持され、その結果、ビーム束の前記第2のセット(S2)のビーム束になるか、またはそれに寄与するように前記光再配置部(130、140)を通過するとき、ビーム束の前記第1のセット(S1)の各ビーム束が、前記再配置のいかなる設定からも独立した距離をカバーするように再配置を達成するように構成されている、
請求項1から15のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記光再配置部(130、140)は、前記光学装置(100)の光路に沿って前記調整可能ミラー(130)の背後に配置された剛性ミラー(140)を含む、
請求項14または15に記載の光学装置(100)。 - 前記光再配置部(130、140)は、ビーム束の前記第2のセット(S2)が前記ビーム方向と平行になるように、互いの、および前記ビーム方向との平行性を維持しつつ、前記ビーム方向と平行なビーム束の前記第1のセット(S1)を再配置するように構成されている、
請求項1から17のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記光ビーム拡張部(161、162)は、屈折望遠鏡として構成されている、
請求項1から18のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記光ビーム拡張部(161、162)は、反射望遠鏡として構成されている、
請求項1から19のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記第1のセットの前記ビーム束(S1)は単色光を含む、
請求項1から20のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記光ビーム拡張部は、ビーム束の前記第4のセット(S4)の各ビーム束によって前記光学撮像部(170)の50%超を照射する、
請求項1から21のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記第1のセットの前記ビーム束(S1)は、前記光学素子(150)によって相殺されない弱い発散で前記光学素子に衝突し、その結果、ビーム束の前記第3のセット(S3)の前記ビーム束は、弱く発散する、
請求項1から22のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記第1のセットの前記ビーム束(S1)は、前記光学素子(150)の前方でウエストと弱収束となるように生成され、または、弱発散となるように生成されている、
請求項1から23のいずれか一項に記載の光学装置(100)。
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