TW201945472A - 光學膜、光學積層體及可撓性圖像顯示裝置 - Google Patents

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唐澤真義
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Abstract

本發明之目的在於提供一種光學膜，其於適當地用作圖像顯示裝置中之光學膜之情形時兼具優異之捲出穩定性及優異之膜外觀。
本發明係一種光學膜，其係包含選自由聚醯亞胺、聚醯胺及聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種者，且滿足式(1)；
0.04≦反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≦1.5 (1)
[式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*]。

Description

光學膜、光學積層體及可撓性圖像顯示裝置
本發明係關於一種光學膜，其包含選自由聚醯亞胺、聚醯胺及聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種。
近年來，包含聚醯亞胺系樹脂之光學膜例如用作用以對電視、電腦、智慧型手機、平板、及電子紙之類之圖像顯示裝置賦予功能之功能性膜。此種圖像顯示裝置之使用者係經由應用於該顯示裝置之光學膜直接以目視來視認所顯示之圖像，因此對於該光學膜要求優異之膜外觀。
膜外觀之不良例如存在源於光學膜之組成之不良、及源於光學膜之製造方法之不良。前者例如為添加劑(更具體而言，二氧化矽粒子等)與可見光相互作用而使外觀受損之不良。後者係以量產性優異之卷對卷方式製造光學膜之情形時，例如起因於光學膜之折縫不適當而引起光學膜無法自輥平滑地捲出，光學膜彼此滑動而於光學膜表面產生損傷之不良。因此，後者要求光學膜之捲出穩定性(展開穩定性)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-215412號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，根據本發明者之研究，上述2種外觀不良處於取捨之關係，例如，如專利文獻1中所記載之包含聚醯亞胺系樹脂及二氧化矽粒子之光學膜存在無法以較高之水準兼顧該等之情況。
因此，本發明之目的在於提供一種兼具優異之捲出穩定性及優異之膜外觀之光學膜、以及包含光學膜之光學積層體及可撓性圖像顯示裝置。
[解決問題之技術方法]
本發明者等人為了解決上述課題而進行了努力研究，結果發現：若於包含選自由聚醯亞胺、聚醯胺及聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種光學膜中，將反射(SCE)b*/反射(SCI)b*調整為特定範圍，則能夠解決上述問題，從而完成本發明。即，本發明中包含以下態樣。
[1]一種光學膜，其係包含選自由聚醯亞胺、聚醯胺及聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種者，且滿足式(1)；
0.04≦反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≦1.50 (1)
[式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*]。
[2]如[1]記載之光學膜，其進而滿足式(2)；
反射(SCE)a*/反射(SCI)a*≦2.5 (2)
[式(2)中，反射(SCE)a*表示以SCE方式所求出之於上述光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*，反射(SCI)a*表示以SCI方式所求出之於上述光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*]。
[3]如[1]或[2]記載之光學膜，其霧度為1%以下，全光線透過率Tt為85%以上。
[4]如[1]至[3]中任一項記載之光學膜，其進而包含二氧化矽粒子。
[5]如[4]記載之光學膜，其中上述二氧化矽粒子為對水溶性醇分散矽溶膠進行溶劑置換而得之二氧化矽粒子。
[6]如[1]至[5]中任一項記載之光學膜，其進而包含紫外線吸收劑。
[7]如[1]至[6]中任一項記載之光學膜，其進而包含二氧化矽粒子，且
以Hansen溶解球法所確定之三維距離Ra滿足式(3)；
Ra≦8.0 (3)
[式(3)中，Ra表示溶解度參數空間中之上述二氧化矽粒子與選自由上述聚醯亞胺、上述聚醯胺及上述聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種之三維距離]。
[8]一種光學積層體，其具有如[1]至[7]中任一項記載之光學膜、及位於該光學膜之至少一面之硬塗層。
[9]一種可撓性圖像顯示裝置，其具備如[8]記載之光學積層體。
[10]如[9]記載之可撓性圖像顯示裝置，其進而具備偏光板。
[11]如[9]或[10]記載之可撓性圖像顯示裝置，其進而具備觸控感測器。
[發明之效果]
根據本發明，可提供一種光學膜，其於用作圖像顯示裝置中之光學膜之情形時兼具優異之捲出穩定性及優異之膜外觀。又，根據本發明，可提供一種包含兼具優異之捲出穩定性及優異之膜外觀之光學膜之光學積層體及可撓性圖像顯示裝置。
以下，針對本發明之實施形態詳細地進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於此處所說明之實施形態，可於不脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
＜光學膜＞
本發明之光學膜包含選自由聚醯亞胺、聚醯胺及聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種，且滿足式(1)；
0.04≦反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≦1.50 (1)
[式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*]。
[1.式(1)]
若本發明之光學膜之式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]為0.1以上，則光學膜之表面具有適度之平滑性，故而光學膜具有適度之折縫，捲出穩定性優異，不易產生源自光學膜彼此之滑動之外觀不良。另一方面，若本發明之光學膜之式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]為1.9以下，則不易產生源自光學膜之組成之外觀不良，故而膜外觀優異。因此，若滿足式(1)，則兼具優異之捲出穩定性及優異之膜外觀。關於光學膜之式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]，就進一步提昇捲出穩定性及/或膜外觀之觀點而言，較佳為0.05以上，更佳為0.1以上，進而較佳為0.13以上。又，關於光學膜之式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]，就進一步提昇捲出穩定性及/或膜外觀之觀點而言，較佳為1.4以下，更佳為1.2以下，進而較佳為1.1以下。可將該等複數個上限值與下限值任意地組合。
(反射(SCE)b*)
光學膜之反射(SCE)b*係以SCE(Specular Component Excluded：除正反射光以外)方式所求出之於該光學膜反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，於本說明書中，係指對從自光學膜平面之垂直方向傾斜特定角度之方向入射之波長380～780 nm範圍內之入射光之反射光中除正反射光以外之漫反射光於CIE1976L*a*b*表色系統中之b*值。反射(SCE)b*較佳為-2.5以上，較佳為-2.4以上，進而較佳為-2.3以上。反射(SCE)b*較佳為-0.08以下，較佳為-0.1以下，進而較佳為-0.3以下。可將該等複數個上限值與下限值任意地組合。光學膜之反射(SCE)b*例如可使用分光測色計進行測定。測定方法可藉由實施例中記載之方法進行測定。
(反射(SCI)b*)
光學膜之反射(SCI)b*係以SCI(Specular Component Included：包含正反射光)方式所求出之於上述光學膜反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，於本說明書中，係指對從自光學膜平面之垂直方向傾斜特定角度之方向入射之波長380～780 nm範圍內之入射光之反射光(包含正反射光之反射光)於CIE1976L*a*b*表色系統中之b*值。反射(SCI)b*較佳為-2.9以上，更佳為-2.7以上，進而較佳為-2.5以上。反射(SCI)b*較佳為-1.4以下，更佳為-1.6以下，進而較佳為-2.0以下。可將該等複數個上限值與下限值任意地組合。光學膜之反射(SCI)b*例如可使用分光測色計進行測定。測定方法可藉由實施例中記載之方法進行測定。
作為將式(1)之數值調整至特定之數值範圍內之方法，例如可列舉減小白色光與光學膜內之成分之相互作用之方法。作為減小該相互作用之方法，例如可列舉將光學膜之膜厚、添加劑(更具體而言，二氧化矽粒子、紫外線吸收劑、及增白劑等)之添加、添加劑之特性(更具體而言，粒徑、表面改質、及含量等)調整至特定之範圍之方法。其中，二氧化矽粒子之粒徑、表面改質、及含量之調整能夠使二氧化矽粒子於光學膜中不易凝集而以一次粒子之形態存在，因此二氧化矽粒子於光學膜中變得容易均勻地分散。並且，可減小於光學膜表面中與起因於凹凸形狀之白色光之相互作用，且可減小光學膜內其凝集體與白色光之相互作用，因此認為有助於抑制視認性之降低(抑制膜外觀品質之降低)。
[2.式(2)]
本發明之光學膜較佳為滿足式(2)
反射(SCE)a*/反射(SCI)a*≦2.5 (2)
[式(2)中，反射(SCE)a*表示以SCE方式所求出之於上述光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*，反射(SCI)a*表示以SCI方式所求出之於上述光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*]。
若光學膜滿足式(2)，則光學膜之捲出穩定性及/或膜外觀進一步提昇。關於光學膜之式(2)之比[反射(SCE)a*/反射(SCI)a*]，就進一步提昇光學膜之捲出穩定性及/或膜外觀之觀點而言，較佳為2.2以下，更佳為2.0以下，進而較佳為1.8以下。又，關於光學膜之式(2)之比[反射(SCE)a*/反射(SCI)a*]，就進一步提昇光學膜之捲出穩定性及/或膜外觀之觀點而言，較佳為0.0以上，更佳為0.1以上。可將該等複數個上限值與下限值任意地組合。作為將式(2)之數值調整至特定之數值範圍內之方法，例如可列舉上述將式(1)之數值調整至特定之數值範圍內之方法。
(反射(SCE)a*)
光學膜之反射(SCE)a*係以SCE方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*，於本說明書中，係指對從自光學膜平面之垂直方向傾斜特定角度之方向入射的波長380～780 nm範圍內之入射光之反射光中，除正反射光以外之漫反射光於CIE1976L*a*b*表色系統中之a*值。反射(SCE)a*較佳為-0.01以上，較佳為0.0以上。反射(SCE)a*較佳為0.6以下，較佳為0.5以下，進而較佳為0.4以下。可將該等複數個上限值與下限值任意地組合。光學膜之反射(SCE)a*例如，可使用分光測色計進行測定。測定方法可藉由實施例中記載之方法進行測定。
(反射(SCI)a*)
光學膜之反射(SCI)a*係以SCI方式所求出之於上述光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*，於本說明書中，係指對從自光學膜平面之垂直方向傾斜特定角度之方向入射的波長380～780 nm範圍內之入射光之反射光(包含正反射光之反射光)於CIE1976L*a*b*表色系統中之a*值。反射(SCI)a*較佳為-0.03以上，更佳為0.0以上，進而較佳為0.1以上。反射(SCI)a*較佳為0.28以下，更佳為0.27以下，進而較佳為0.26以下。可將該等複數個上限值與下限值任意地組合。光學膜之反射(SCI)a*例如，可使用分光測色計進行測定。測定方法可藉由實施例中記載之方法進行測定。
[3.霧度]
關於本發明之光學膜之霧度，就進一步提昇光學膜之捲出穩定性及/或膜外觀之觀點而言，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.5%以下，尤佳為0.3%以下。光學膜之霧度可依據JIS K 7136:2000進行測定。測定方法以實施例詳細地說明。由於光學膜之霧度表示添加劑於光學膜中之分散性之程度，故而若光學膜之霧度為上述範圍內，則光學膜之捲出穩定性及/或膜外觀優異。
[4.全光線透過率]
本發明之光學膜之全光線透過率較佳為85%以上，更佳為87%以上，進而較佳為89%以上。光學膜之全光線透過率可依據JIS K 7361-1:1997進行測定。測定方法以實施例詳細地說明。若光學膜之全光線透過率為上述數值範圍，則於組裝於圖像顯示裝置時，能夠確保充分之膜外觀。又，若光學膜之全光線透過率為上述數值範圍，則可容易確保固定之亮度，因而例如能夠抑制顯示元件等之發光強度，從而能夠削減圖像顯示裝置之消耗電力。
[5.黃度]
本發明之光學膜之黃度較佳為3.0以下，更佳為2.7以下，進而較佳為2.5以下。光學膜之黃度可依據JIS K 7373:2006進行測定。測定方法以實施例詳細地說明。
[6.膜厚]
本發明之光學膜之膜厚較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為30 μm以上。又，該膜厚較佳為120 μm以下，更佳為100 μm以下，進而較佳為80 μm以下，尤佳為60 μm以下。若膜厚為30 μm以上，則就於將光學膜作為器件(device)時之內部之保護之觀點而言有利，若膜厚為120 μm以下，則就耐折性、成本、透明性等觀點而言有利。測定方法以實施例詳細地說明。
[7.溶解度參數]
本發明者發現光學膜內之組成會因分散不良而引起凝集等，致使膜外觀品質降低，且導入了Hansen溶解度參數(Hansen Solubility Parameter；以下，有時簡稱為HSP)作為評價光學膜之類之固體系中之溶質(例如添加劑，更具體而言，紫外線吸收劑、二氧化矽粒子、及增白劑等)與介質(例如樹脂，更具體而言，選自由聚醯亞胺、聚醯胺及聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種樹脂)之親和性之指標。本發明者進行了努力研究，結果導出下述式(3)～式(5)。即，本發明之光學膜就抑制膜外觀品質之降低之觀點(尤其是就抑制帶白色之不良情況之產生之觀點)而言，較佳為滿足關於HSP之式(3)
Ra≦8.0 (3)
[式(3)中，Ra表示HSP空間之上述溶質與上述介質之間之三維距離]。
又，本發明之光學膜就進一步抑制膜外觀品質之降低之觀點而言，更佳為滿足式(3)、以及關於HSP之式(4)
Δδt ≦2.0 (4)[式(4)中，Δδt 表示上述溶質及上述介質之間之HSP之分散項、極性項及氫鍵項之合計δt 之差]
、或式(5)
Δδp ≦4.5 (5)[式(5)中，Δδp 表示上述溶質及上述介質之間之HSP之極性項δp 之差]。
又，本發明之光學膜就進一步抑制膜外觀品質之降低之觀點而言，進而較佳為滿足式(3)～式(5)全部。
(7-1. HSP值之算出方法)
HSP值係使用Hansen溶解球法(Hansen Solubility Sphere法)算出。以下說明其詳細情況。使成為對象之組成(上述溶質及上述介質)溶解或分散於HSP值已知之溶劑中，評價該組成對特定之溶劑之溶解性或分散性。溶解性及分散性之評價分別係以目視判定作為對象之組成是否溶解及是否分散於溶劑中而進行。針對複數個溶劑進行該溶解性及分散性之評價。該溶劑之種類較佳為使用δt 極為不同之溶劑，更具體而言，較佳為10種以上，更佳為15種以上，進而較佳為18種以上。繼而，將所獲得之溶解性或分散性之評價結果繪製成包含HSP之分散項δd 、極性項δp 及氫鍵項δh 之三維空間(HSP空間)。製作於內側包含會溶解或分散對象之組成之溶劑且不會溶解或分散對象之組成之溶劑成為外側、進而半徑成為最小之球(Hansen球)。設為以所獲得之Hansen球之中心座標(δd 、δp 、δh )為對象之組成之HSP。
(7-2. δt 、Δδt 、Δδp 及Ra之算出方法)
使用7-1. HSP值之算出方法算出光學膜內之2種成分、例如將樹脂設為成分1且將二氧化矽設為成分2時之HSP值(δd1 、δp1 、δh1 ：成分1之HSP值；δd2 、δp2 、δh2 ：成分2之HSP值)。
HSP之分散項、極性項及氫鍵項之合計δt 以及成分1及成分2之間之該合計之差Δδt 可分別使用式(6)及式(7)算出。所獲得之δt 相當於希德布朗(Hildebrand)之HSP。
δt 2 ＝δd 2 ＋δp 2 ＋δh 2 (6)
Δδt ＝｜δt2 －δt1 ｜ (7)
關於Δδt ，就進一步抑制膜外觀品質之降低之觀點而言，較佳為3.5以下，更佳為3.0以下，進而較佳為2.0以下，進而更佳為1.0以下，尤佳為0.5以下。
成分1及成分2之間之HSP之極性項之差Δδp 可使用式(8)算出。
Δδp ＝｜δp2 －δp1 ｜ (8)
關於Δδp ，就進一步抑制膜外觀品質之降低之觀點而言，較佳為4.5以下，更佳為3.5以下，進而較佳為3.0以下，進而更佳為2.0以下，尤佳為1.0以下。
HSP空間中之成分1與成分2之間之三維距離Ra(＞0)可使用式(9)算出。
Ra2 ＝4(δd2 －δd1 )2 ＋(δp2 －δp1 )2 ＋(δh2 －δh1 )2 (9)
Ra值越小，表示成分1與成分2之親和性越良好。關於Ra值，就進一步抑制膜外觀品質之降低之觀點而言，較佳為8.0以下，更佳為7.0以下，進而較佳為6.0以下，進而更佳為5.5以下，尤佳為5.0以下。
[8.聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺]
本發明之光學膜包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂。聚醯亞胺系樹脂係表示選自由含有包含醯亞胺基之重複結構單元之聚合物(以下，有時記載為聚醯亞胺)、以及含有包含醯亞胺基及醯胺基兩者之重複結構單元之聚合物(以下，有時記載為聚醯胺醯亞胺)所組成之群中之至少1種聚合物。又，聚醯胺系樹脂係表示含有包含醯胺基之重複結構單元之聚合物。
聚醯亞胺系樹脂較佳為具有式(10)所表示之重複結構單元。此處，G為4價有機基，A為2價有機基。聚醯亞胺系樹脂亦可包含G及/或A不同之2種以上之式(10)所表示之重複結構單元。
[化1]
聚醯亞胺系樹脂亦可於無損光學膜之各種物性之範圍內包含選自由式(11)、式(12)及式(13)所表示之重複結構單元所組成之群之1種以上。
[化2]
式(10)及式(11)中，G及G1 分別獨立，為4價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G及G1 ，可例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所表示之基以及4價之碳數6以下之鏈式烴基。就容易抑制光學膜之黃度(YI值)之方面而言，尤佳為式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)或式(27)所表示之基。
[化3]
式(20)～式(29)中，
*表示鍵結鍵，
Z表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-Ar-、-SO2 -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2 -Ar-、-Ar-C(CH3 )2 -Ar-或-Ar-SO2 -Ar-。Ar表示可經氟原子取代之碳數6～20之伸芳基，作為具體例，可列舉伸苯基。
式(12)中，G2 為3價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G2 ，可例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所表示之基之鍵結鍵之任一者被取代為氫原子之基以及3價之碳數6以下之鏈式烴基。
式(13)中，G3 為2價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G3 ，可例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所表示之基之鍵結鍵中不鄰接之兩者被取代為氫原子之基及碳數6以下之鏈式烴基。
式(10)～(13)中，A、A1 、A2 及A3 分別獨立，為2價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為A、A1 、A2 及A3 ，可例示式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)或者式(38)所表示之基；該等經甲基、氟基、氯基或者三氟甲基取代而成之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。
[化4]
式(30)～式(38)中，
*表示鍵結鍵，
Z1 、Z2 及Z3 分別獨立，表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或-CO-。
作為一例，Z1 及Z3 為-O-且Z2 為-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -或-SO2 -。Z1 與Z2 相對於各環之鍵結位置、及Z2 與Z3 相對於各環之鍵結位置分別較佳為相對於各環為間位或對位。
關於聚醯亞胺系樹脂，就容易提昇視認性(膜外觀)之觀點而言，較佳為至少具有式(10)所表示之重複結構單元及式(13)所表示之重複結構單元之聚醯胺醯亞胺。又，聚醯胺系樹脂較佳為至少具有式(13)所表示之重複結構單元。
於本發明之一實施態樣中，聚醯亞胺系樹脂為使二胺及四羧酸化合物(醯氯化合物、四羧酸二酐等四羧酸化合物相關物)、以及視需要之二羧酸化合物(醯氯化合物等二羧酸化合物相關物)、三羧酸化合物(醯氯化合物、三羧酸酐等三羧酸化合物相關物)等反應(縮聚)而獲得之縮合型高分子。式(10)或式(11)所表示之重複結構單元通常由二胺及四羧酸化合物衍生。式(12)所表示之重複結構單元通常由二胺及三羧酸化合物衍生。式(13)所表示之重複結構單元通常由二胺及二羧酸化合物衍生。
於本發明之一實施態樣中，聚醯胺系樹脂為使二胺與二羧酸化合物反應(縮聚)而獲得之縮合型高分子。即，式(13)所表示之重複結構單元通常由二胺及二羧酸化合物衍生。
作為四羧酸化合物，可列舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物。四羧酸化合物可單獨使用，亦可將2種以上併用。四羧酸化合物除為二酐以外，亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物相關物。
作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯基四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為脂肪族四羧酸二酐，可列舉環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。環式脂肪族四羧酸二酐係具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可列舉1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3',4,4'-四羧酸二酐及該等之位置異構物。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可列舉1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，該等可單獨使用或將2種以上組合使用。又，亦可將環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐組合使用。
上述四羧酸二酐之中，就高透明性及低著色性之觀點而言，較佳為1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐及4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及該等之混合物。又，作為四羧酸，亦可使用上述四羧酸化合物之酐之水加成物。
作為三羧酸化合物，可列舉芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及該等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可將2種以上併用。作為具體例，可列舉1,2,4-苯三羧酸之酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸由單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或者伸苯基連結而成之化合物。
作為二羧酸化合物，可列舉芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及該等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可將該等併用2種以上。作為該等之具體例，可列舉：對苯二甲酸二氯化物(對酞醯氯(TPC))；間苯二甲酸二氯化物；萘二甲酸二氯化物；4,4'-聯苯基二羧酸二氯化物；3,3'-聯苯基二羧酸二氯化物；4,4'-氧雙(苯甲醯氯)(OBBC)；碳數為8以下之鏈式烴之二羧酸化合物及2個苯甲酸由單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或者伸苯基連結而成之化合物。
作為二胺，例如可列舉脂肪族二胺、芳香族二胺或該等之混合物。再者，於本實施形態中，「芳香族二胺」係表示胺基直接鍵結於芳香環之二胺，亦可於其結構之一部分包含脂肪族基或其他取代基。芳香環可為單環亦可為縮合環，可例示苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並不限定於該等。該等之中，較佳為芳香環為苯環。又，「脂肪族二胺」係表示胺基直接鍵結於脂肪族基之二胺，亦可於其結構之一部分包含芳香環或其他取代基。
作為脂肪族二胺，例如可列舉六亞甲基二胺等之非環式脂肪族二胺及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降烷二胺、4,4'-二胺基二環己基甲烷等環式脂肪族二胺等。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。
作為芳香族二胺，例如可列舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺；4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、4,4'-二胺基二苯基碸、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺(2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB))、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯甲烷、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上芳香環之芳香族二胺。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。
上述二胺之中，就高透明性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群之1種以上。進而較佳為使用選自由2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基二苯醚所組成之群之1種以上，進而更佳為使用2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺。
聚醯亞胺系樹脂係藉由如下方式而獲得：將上述二胺、四羧酸化合物、三羧酸化合物、二羧酸化合物等各原料藉由慣用之方法、例如攪拌等方法進行混合，其後，將所獲得之中間物於醯亞胺化觸媒及視需要之脫水劑之存在下進行醯亞胺化。聚醯胺系樹脂係藉由如下方式而獲得：將上述二胺、二羧酸化合物等各原料藉由慣用之方法、例如攪拌等方法進行混合。
作為醯亞胺化步驟中所使用之醯亞胺化觸媒，並無特別限定，例如可列舉：三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基咯啶、N-丁基哌啶、及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷、及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉、及異喹啉等芳香族胺。
作為醯亞胺化步驟中所使用之脫水劑，並無特別限定，例如可列舉：乙酸酐、丙酸酐、異丁酸酐、特戊酸酐、丁酸酐、異戊酸酐等。
於各原料之混合及醯亞胺化步驟中，反應溫度並無特別限定，例如為15～350℃，較佳為20～100℃。反應時間亦無特別限定，例如為10分鐘～10小時左右。視需要於惰性氛圍或減壓之條件下進行反應即可。又，反應於溶劑中進行即可，作為溶劑，例如可列舉作為清漆之製備所使用之溶劑進行例示者。反應後，將聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂進行精製。作為精製方法，例如可列舉如下方法等：於反應液中加入不良溶劑，藉由再沈澱法使樹脂析出，進行乾燥並將沈澱物取出，視需要將沈澱物利用甲醇等溶劑進行洗淨並使之乾燥。
再者，聚醯亞胺系樹脂之製造例如亦可參照日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報中記載之製造方法。又，聚醯亞胺系樹脂亦可使用市售品，作為其具體例，可列舉Mitsubishi Gas Chemical(股)製造之Neopulim(註冊商標)、河村產業(股)製造之KPI-MX300F等。
聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量較佳為200,000以上，更佳為250,000以上，進而較佳為300,000以上，且較佳為600,000以下，更佳為500,000以下。存在如下傾向：聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量越大，越容易表現出膜化時之較高之耐屈曲性。因此，就提高光學膜之耐屈曲性之觀點而言，較佳為重量平均分子量為上述下限以上。另一方面，存在如下傾向：聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量越小，越容易降低清漆之黏度，從而越容易提昇加工性。又，存在聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之延伸性越容易提昇之傾向。因此，就加工性及延伸性之觀點而言，較佳為重量平均分子量為上述上限以下。再者，於本申請案中，重量平均分子量可進行凝膠滲透層析法(GPC)測定，藉由標準聚苯乙烯換算而求出，例如可藉由實施例中記載之方法而算出。
聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率較佳為95～100%，更佳為97～100%，進而較佳為98～100%，尤佳為100%。就清漆之穩定性、所獲得之光學膜之機械物性之觀點而言，較佳為醯亞胺化率為上述下限以上。再者，醯亞胺化率可藉由IR(Infrared Radiation，紅外線)法、NMR(Nuclear Magnetic Resonance，核磁共振)法等求出。就上述觀點而言，較佳為清漆中所包含之聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率為上述範圍內。
於本發明之較佳之一實施形態中，本發明之光學膜所包含之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂例如包含可藉由上述含氟取代基等導入之氟原子等鹵素原子即可。於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂包含鹵素原子之情形時，容易提昇光學膜之彈性模數且減小黃度(YI值)。若光學膜之彈性模數較高，則容易抑制該膜之傷痕及皺褶等之產生，又，若光學膜之黃度較低，則容易提昇該膜之透明性。鹵素原子較佳為氟原子。為了使聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂含有氟原子，作為較佳之含氟取代基，例如可列舉氟基及三氟甲基。
關於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之鹵素原子之含量，以聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之質量為基準，較佳為1～40質量%，更佳為5～40質量%，進而較佳為5～30質量%。若鹵素原子之含量為1質量%以上，則會使膜化時之彈性模數進一步提昇，使吸水率降低，使黃度(YI值)進一步減小，從而容易使透明性進一步提昇。若鹵素原子之含量為40質量%以下，則存在容易合成之傾向。
於本發明之一實施形態中，關於光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量，以光學膜之總質量為基準，較佳為40質量%以上，更佳為50質量%以上，進而較佳為70質量%以上。就容易提高耐屈曲性等之觀點而言，較佳為聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量為上述下限以上。再者，光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量以光學膜之總質量為基準，通常為100質量%以下。
[9.添加劑]
本發明之光學膜亦可進而包含添加劑。作為此種添加劑，例如可列舉：二氧化矽粒子、紫外線吸收劑、增白劑、二氧化矽分散劑、抗氧化劑、pH值調整劑、及調平劑。
(二氧化矽粒子)
本發明之光學膜亦可進而包含二氧化矽粒子作為添加劑。關於二氧化矽粒子之含量，以該光學膜之總質量為基準，較佳為1質量份以上，更佳為3質量份以上，進而較佳為5質量份以上，且較佳為60質量份以下，更佳為50質量份以下，進而較佳為45質量份以下。又，二氧化矽粒子之含量可選擇該等上限值及下限值中任意之下限值及上限值進行組合。若二氧化矽粒子之含量為上述上限值及/或下限值之數值範圍，則存在於本發明之光學膜中二氧化矽粒子不易凝集而以一次粒子之狀態均勻地分散之傾向，因此能夠抑制本發明之光學膜之視認性之降低。
二氧化矽粒子之粒徑較佳為1 nm以上，更佳為3 nm以上，進而較佳為5 nm以上，尤佳為8 nm以上，且較佳為30 nm以下，更佳為28 nm以下，進而較佳為25 nm以下，尤佳為20 nm以下。二氧化矽粒子之粒徑可選擇該等上限值及下限值中任意之下限值及上限值進行組合。若二氧化矽粒子之含量為上述上限值及/或下限值之數值範圍，則於本發明之光學膜中，不易與白色光中之特定之波長之光相互作用，因此能夠抑制本發明之光學膜之視認性之降低。於本說明書中，二氧化矽粒子之粒徑係表示平均一次粒徑。光學膜內之二氧化矽粒子之粒徑可根據使用穿透式電子顯微鏡(TEM)之拍攝圖像進行測定。製作光學膜之前(例如添加於清漆之前)之二氧化矽粒子之粒徑可藉由雷射繞射式粒度分佈計進行測定。關於二氧化矽粒子之粒徑之測定方法，以實施例詳細地進行說明。
作為二氧化矽粒子之形態，例如可列舉二氧化矽粒子分散於有機溶劑等中而成之矽溶膠、及利用氣相法所製備之二氧化矽粉末。該等之中，就作業性之觀點而言，較佳為矽溶膠。
關於二氧化矽粒子，亦可實施表面處理，例如亦可為由水溶性醇分散矽溶膠進行溶劑(更具體而言，γ-丁內酯等)置換而得之二氧化矽粒子。水溶性醇係於1個該水溶性醇分子中每1個羥基之碳數為3以下之醇，可列舉甲醇、乙醇、1-丙醇及2-丙醇等。雖取決於二氧化矽粒子與聚醯亞胺系高分子之種類之配合性，但通常存在如下傾向：若對二氧化矽粒子進行表面處理，則與光學膜所包含之聚醯亞胺系高分子之親和性提昇、二氧化矽粒子之分散性提昇，因而能夠抑制本發明之視認性之降低。
(紫外線吸收劑)
本發明之光學膜亦可進而包含紫外線吸收劑。例如可列舉：三系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、苯甲酸酯系紫外線吸收劑、及氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等。該等可單獨使用，亦可將2種以上併用。作為較佳之市售之紫外線吸收劑，例如可列舉Sumika Chemtex(股)製造之Sumisorb(註冊商標)340、ADEKA(股)製造之Adekastab(註冊商標)LA-31、及BASF JAPAN(股)製造之TINUVIN(註冊商標)1577等。關於紫外線吸收劑之含量，以本發明之光學膜之質量為基準，較佳為1 phr以上10 phr以下，更佳為3 phr以上6 phr以下。
(增白劑)
本發明之光學膜亦可進而包含增白劑。關於增白劑，例如於添加除增白劑以外之添加劑之情形時，可為了調整色調而添加。作為增白劑，可列舉單偶氮系染料、三芳基甲烷系染料、酞菁系染料、及蒽醌系染料。該等之中，較佳為蒽醌系染料。作為較佳之市售之增白劑，例如可列舉Lanxess公司製造之Macrolex(註冊商標)Violet B、Sumika Chemtex(股)製造之Sumiplast(註冊商標)Violet B、及三菱化學(股)製造之Diaresin(註冊商標)Blue G等。該等可單獨使用，亦可將2種以上併用。關於增白劑之含量，以本發明之光學膜之質量為基準，較佳為5 ppm以上40 ppm以下。
[10.光學膜之製造方法]
本發明之光學膜之用途並無特別限定，可使用於各種用途。本發明之光學膜可為如上述所述之單層，亦可為積層體，可將本發明之光學膜直接使用，亦可進而製成與其他膜之積層體而使用。本發明之光學膜由於具有優異之面品質，故而有效用作圖像顯示裝置等之光學膜。
本發明之光學膜有效用作圖像顯示裝置之前面板、尤其是可撓性顯示器之前面板(視窗膜)。可撓性顯示器例如具有可撓性功能層、及重疊於可撓性功能層作為前面板發揮功能之上述聚醯亞胺系膜。即，可撓性顯示器之前面板配置於可撓性功能層上之視認側。該前面板具有保護可撓性功能層之功能。
[11.光學膜之製造方法]
本發明之光學膜並無特別限定，例如可藉由包括以下步驟之方法而製造：
(a)製備包含上述樹脂及上述填料之液體(以下，有時記載為清漆)之步驟(清漆製備步驟)；
(b)將清漆塗佈於基材形成塗膜之步驟(塗佈步驟)；及
(c)使所塗佈之液體(塗膜)乾燥而形成光學膜之步驟(光學膜形成步驟)。
於清漆製備步驟中，藉由如下方式製備清漆：將上述樹脂溶解於溶劑中，添加上述填料及視需要之其他添加劑進行攪拌混合。再者，於使用二氧化矽作為填料之情形時，亦可將包含二氧化矽之矽溶膠之分散液利用能夠溶解上述樹脂之溶劑、例如下述清漆之製備所使用之溶劑進行置換，將所得之矽溶膠添加於樹脂中。
清漆之製備所使用之溶劑只要能夠溶解上述樹脂則無特別限定。作為該溶劑，例如可列舉：N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；γ-丁內酯(GBL)、γ-戊內酯等內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及該等之組合。該等之中，較佳為醯胺系溶劑或內酯系溶劑。該等溶劑可單獨使用或將兩種以上組合使用。又，清漆中亦可包含水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～20質量%。
於塗佈步驟中，藉由公知之塗佈方法於基材上塗佈清漆而形成塗膜。作為公知之塗佈方法，例如可列舉：線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥塗法、模嘴塗佈法、卡馬(comma)塗佈法、唇塗(lip-coating)法、旋轉塗佈法、篩網塗佈(screen coating)法、噴注式塗佈法、浸漬法、噴霧法、流延成形法等。
於光學膜形成步驟中，可藉由使塗膜乾燥並自基材進行剝離而形成光學膜。亦可於剝離後進而進行使光學膜乾燥之乾燥步驟。塗膜之乾燥通常可於50～350℃之溫度下進行。視需要於惰性氛圍或減壓之條件下進行塗膜之乾燥即可。
作為基材之例，若為金屬系，則可列舉SUS(Steel Use Stainless，日本不鏽鋼標準)板，若為樹脂系，則可列舉PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜、PEN(Polyethylene Naphthalate，聚萘二甲酸乙二醇酯)膜、其他聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂膜、環烯烴系聚合物(COP)膜、丙烯酸系膜等。其中，就平滑性、耐熱性優異之觀點而言，較佳為PET膜、COP膜等，進而就與光學膜之密接性及成本之觀點而言，更佳為PET膜。
＜光學積層體＞
本發明之光學積層體具有本發明之光學膜、及位於該光學膜之至少一者之硬塗層(保護膜)。光學積層體亦可進而具有黏著層。本發明之光學積層體例如亦可使本發明之光學膜與硬塗層經由黏著層接著而構成。
(硬塗層)
硬塗層之厚度並無特別限定，例如可為2～100 μm。若上述硬塗層之厚度處於上述範圍內，則能夠確保充分之耐擦傷性，又，存在耐屈曲性不易降低、不易產生因硬化收縮而產生捲曲之問題之傾向。
上述硬塗層可使包含藉由活性能量線照射、或熱能賦予可形成交聯結構之反應性材料之硬塗組合物硬化而形成，較佳為藉由活性能量線照射而得者。活性能量線可定義為能夠使產生活性種之化合物分解而產生活性種之能量線，可列舉可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子束等，較佳為可列舉紫外線。上述硬塗組合物含有自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。
上述自由基聚合性化合物係具有自由基聚合性基之化合物。作為上述自由基聚合性化合物具有之自由基聚合性基，只要為可產生自由基聚合反應之官能基即可，可列舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言，可列舉乙烯基、(甲基)丙烯醯基等。再者，於上述自由基聚合性化合物具有2個以上自由基聚合性基之情形時，該等自由基聚合性基可分別相同，亦可不同。關於上述自由基聚合性化合物於1分子中具有之自由基聚合性基之數，就提昇硬塗層之硬度之方面而言，較佳為2以上。作為上述自由基聚合性化合物，就反應性較高之方面而言，較佳為可列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言，可列舉於1分子中具有2～6個(甲基)丙烯醯基之被稱為多官能丙烯酸酯單體之化合物或分子內具有數個(甲基)丙烯醯基之分子量為數百至數千之被稱為環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯之低聚物，較佳為可列舉選自環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯之1種以上。
上述陽離子聚合性化合物係具有環氧基、氧雜環丁基、乙烯基醚基等陽離子聚合性基之化合物。關於上述陽離子聚合性化合物於1分子中具有之陽離子聚合性基之數，就提昇硬塗層之硬度之方面而言，較佳為2以上，更佳為3以上。
又，作為上述陽離子聚合性化合物，尤佳為具有環氧基及氧雜環丁基之至少1種作為陽離子聚合性基之化合物。就伴隨聚合反應之收縮較小之方面而言，較佳為環氧基、氧雜環丁基等環狀醚基。又，具有環狀醚基中之環氧基之化合物具有如下優勢：容易取得多種多樣之結構之化合物、不會對所獲得之硬塗層之耐久性產生不良影響、亦容易控制與自由基聚合性化合物之親和性。又，環狀醚基中之氧雜環丁基具有如下優勢等：與環氧基相比，聚合度容易變高；會加快所獲得之硬塗層之由陽離子聚合性化合物獲得之網狀物(network)形成速度；即便於與自由基聚合性化合物混合存在之區域亦會形成獨立之網狀物而不會於膜中殘留未反應之單體。
作為具有環氧基之陽離子聚合性化合物，例如可列舉：藉由將具有脂環族環之多元醇之聚縮水甘油醚、或含有環己烯環、環戊烯環之化合物利用過氧化氫、過酸等適當之氧化劑進行環氧化而獲得之脂環族環氧樹脂；脂肪族多元醇、或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚、脂肪族長鏈多元酸之聚縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之均聚物、共聚物等脂肪族環氧樹脂；藉由雙酚A、雙酚F或氫化雙酚A等雙酚類、或該等之環氧烷加成物、己內酯加成物等衍生物與表氯醇之反應而製造之縮水甘油醚、及酚醛清漆環氧樹脂等且由雙酚類所衍生之縮水甘油醚型環氧樹脂等。
上述硬塗組合物可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，可列舉自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇而使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱之至少一種進行分解而產生自由基或者陽離子從而進行自由基聚合及陽離子聚合者。
自由基聚合起始劑只要藉由活性能量線照射及加熱之至少任一者能夠釋出使自由基聚合開始之物質即可。例如，作為熱自由基聚合起始劑，可列舉過氧化氫、過苯甲酸等有機過氧化物、偶氮丁腈等偶氮化合物等。
作為活性能量線自由基聚合起始劑，有利用分子之分解生成自由基之Type1型自由基聚合起始劑、及與三級胺共存利用奪氫型反應生成自由基之Type2型自由基聚合起始劑，該等可單獨使用或併用使用。
陽離子聚合起始劑只要藉由活性能量線照射及加熱之至少任一者能夠釋出使陽離子聚合開始之物質即可。作為陽離子聚合起始劑，可使用芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽、環戊二烯基鐵(II)錯合物等。該等可根據結構之不同而以活性能量線照射或加熱之任一者使陽離子聚合開始或兩者皆可使陽離子聚合開始。
上述聚合起始劑之含量相對於上述硬塗組合物整體100質量%較佳為0.1～10質量%。若上述聚合起始劑之含量處於上述範圍內，則能夠充分地進行硬化，能夠將最終所獲得之塗膜之機械物性或密接力設為良好之範圍，又，存在如下傾向：不易產生因硬化收縮而引起之接著力不良或破裂現象及捲曲現象。
上述硬塗組合物進而可進而包含選自由溶劑、添加劑所組成之群之一者以上。
上述溶劑係能夠使上述聚合性化合物及聚合起始劑溶解或分散者，只要為作為本技術領域之硬塗組合物之溶劑為人所知之溶劑，則可於不阻礙本發明之效果之範圍內使用。
上述添加劑可進而包含無機粒子、調平劑、穩定劑、界面活性劑、抗靜電劑、潤滑劑、防污劑等。
本發明之積層體例如可使用於可撓性圖像顯示裝置，尤其可較佳地使用於可摺疊顯示裝置或可捲曲顯示裝置。
(具有圓偏光板之光學積層體之製造方法)
對具有圓偏光板之光學積層體之製造方法之一例進行說明。於製造依序具備偏光層/相位差層之具有圓偏光板之光學積層體之情形時，首先分別形成光學膜、偏光層、相位差層。藉由上述方法製造光學膜。例如於作為基材之保護膜上依序積層配向層、偏光元件、保護層而形成偏光層。又，使用黏著劑使λ/4相位差板與正C板貼合，形成相位差層。
繼而，使用黏著劑使所形成之光學膜、偏光層、及相位差層貼合，製造具有圓偏光板之光學積層體。偏光層與相位差層之貼合中，以偏光層之吸收軸相對於相位差層之遲相軸(光軸)實質上成為45°之方式使偏光層與相位差層貼合。以此方式能夠製造依序積層有光學膜/黏著劑層/偏光層(保護膜/配向層/偏光元件/保護層)/黏著劑層/相位差層(λ/4相位差板/正C板)之具有圓偏光板之光學積層體。
本發明之具有圓偏光板之光學積層體(以下，亦稱為積層體)包含本發明之光學膜。
(式(39))
本發明之具有圓偏光板之積層體滿足式(39)
透過b*－反射(SCE)b*≧4.0 (39)
[式(39)中，透過b*表示透過該積層體之光於L*a*b*表色系統中之b*，反射(SCE)b*表示以SCE方式所求出之於該積層體反射之光於L*a*b*表色系統中之b*]。若本發明之具有圓偏光板之積層體滿足式(39)，由自光源之光透過變大，外界光之反射變小，藉此接近於中性色相，故而具有優異之視認性。
關於式(39)之數值(透過b*－反射(SCE)b*)，就進一步提昇具有圓偏光板之積層體之視認性之觀點而言，較佳為4.2以上，更佳為4.5以上，進而較佳為5.0以上，尤佳為6.5以上。
(透過b*)
具有圓偏光板之積層體之透過b*係透過具有圓偏光板之積層體之光於L*a*b*表色系統中之b*，於本說明書中，係指對自具有圓偏光板之積層體平面之垂直方向入射之波長380～780 nm範圍內之入射光(白色光)之透過光於CIE1976L*a*b*表色系統中之b*值。透過b*較佳為4.0以上，更佳為5.0以上，進而較佳為6.0以上。具有圓偏光板之積層體之透過b*可使用紫外可見近紅外分光光度計進行測定，例如可藉由實施例中記載之方法進行測定。
(反射(SCE)b*)
具有圓偏光板之積層體之反射(SCE)b*係以SCE方式所求出之於該具有圓偏光板之積層體所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，於本說明書中，係指對從自具有圓偏光板之積層體平面之垂直方向傾斜特定角度之方向入射之波長380～780 nm之範圍內之入射光之反射光中除正反射光以外之漫反射光於CIE1976L*a*b*表色系統中之b*值。反射(SCE)b*較佳為1.5以下，較佳為1.0以下，進而較佳為0以下，尤佳為-1.5以下。圓偏光板之反射(SCE)b*可使用分光測色計進行測定，例如可藉由實施例中記載之方法進行測定。
(反射(SCI)b*)
圓偏光板之反射(SCI)b*係以SCI方式所求出之於上述圓偏光板所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，於本說明書中，係指對從自圓偏光板平面之垂直方向傾斜特定角度之方向入射之波長380～780 nm範圍內之入射光之反射光(包含正反射光之反射光)於CIE1976L*a*b*表色系統中之b*值。圓偏光板之反射(SCI)b*可使用分光測色計進行測定，例如可藉由實施例中記載之方法進行測定。
作為將式(39)中之透過b*－反射(SCE)b*調整至特定之數值範圍內之方法，例如可列舉將光學膜之透過b*－反射(SCE)b*調整至式(1)之數值範圍內之方法、及藉由變更光學膜之組成來進行色相調節。
＜可撓性圖像顯示裝置＞
本發明之可撓性圖像顯示裝置具備本發明之光學積層體。例如可撓性圖像顯示裝置包含光學積層體(可撓性圖像顯示裝置用積層體)、及有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示面板，可撓性圖像顯示裝置用積層體相對於有機EL顯示面板配置於視認側，可彎折地構成。可撓性圖像顯示裝置用積層體亦可進而含有視窗、偏光板、觸控感測器，該等之積層順序為任意，較佳為自視認側依序積層視窗、偏光板、觸控感測器或視窗、觸控感測器、偏光板。若於觸控感測器之視認側存在偏光板，則不易視認觸控感測器之圖案且顯示圖像之視認性變佳，故而較佳。各構件可使用接著劑、黏著劑等進行積層。又，可具備於上述視窗、偏光板、觸控感測器之任一層之至少一面所形成之遮光圖案。偏光板可為圓偏光板。
(視窗)
視窗配置於可撓性圖像顯示裝置之視認側，承擔保護其他構成要素免受來自外部之衝擊或溫濕度等環境變化之影響之作用。先前，作為此種保護層，使用玻璃，可撓性圖像顯示裝置之視窗並非如玻璃般為剛性且堅硬者，具有可撓性之特性。上述視窗包含可撓性之透明基材，且可於至少一面包含硬塗層。視窗任意包含之硬塗層與上述光學積層體具有之硬塗層同義。
(透明基材)
透明基材之可見光範圍之透過率通常為70%以上，較佳為80%以上。作為上述透明基材，只要為具有透明性之高分子膜，則可於不阻礙本發明之效果之範圍內使用。具體而言，作為供使用之高分子膜，可列舉聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、具有包含降烯或環烯烴之單體單元之環烯烴系衍生物等聚烯烴類、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素、丙醯基纖維素等(改性)纖維素類、甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物等丙烯酸類、苯乙烯(共)聚合物等聚苯乙烯類、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物類、丙烯腈-苯乙烯共聚物類、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物類、聚氯乙烯類、聚偏二氯乙烯類、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等聚酯類、尼龍等聚醯胺類、聚醯亞胺類、聚醯胺醯亞胺類、聚醚醯亞胺類、聚醚碸類、聚碸類、聚乙烯醇類、聚乙烯醇縮醛類、聚胺基甲酸酯類、環氧樹脂類等之膜，就透明性及耐熱性優異之方面而言，較佳為可列舉聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺、聚酯、烯烴、丙烯酸系或纖維素系之膜。該等高分子可分別單獨使用或將2種以上混合使用。該等膜係以未延伸之狀態下直接使用、或以經單軸或雙軸延伸之膜之形式而使用。
亦較佳為使二氧化矽等無機粒子、有機微粒子、橡膠粒子等分散於高分子膜中。進而，亦可使之含有顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、塑化劑、熱穩定劑、光穩定劑、紅外線吸收劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等調配劑。上述透明基材之厚度通常為5～200 μm，較佳為20～100 μm。
(偏光板)
偏光板、尤其圓偏光板係具有藉由於直線偏光板積層λ/4相位差板而僅使右或者左圓偏光成分透過之功能之功能層。例如可用於如下用途：將外界光轉換為右圓偏光，由有機EL面板反射而成為左圓偏光，將該成為左圓偏光之外界光遮斷，而僅使有機EL之發光成分透過，藉此抑制反射光之影響從而使圖像容易看到。為了達成圓偏光功能，直線偏光板之吸收軸及λ/4相位差板之遲相軸理論上需要為45°，實用上為45±10°。直線偏光板與λ/4相位差板無需一定鄰接地積層，只要吸收軸與遲相軸之關係滿足上述範圍即可。較佳為於全波長中達成完全之圓偏光，但實用上並不一定需要，因此本發明之圓偏光板亦包含橢圓偏光板。亦較佳為藉由於直線偏光板之視認側進而積層λ/4相位差膜，將出射光設為圓偏光，而提昇佩戴偏光太陽眼鏡之狀態下之視認性。
直線偏光板係具有如下功能之功能層：使於透射軸方向振動之光通過，並遮斷與其垂直之振動成分之偏光。上述直線偏光板可為單獨為直線偏光元件之構成或為具備直線偏光元件及貼附於其至少一面之保護膜之構成。上述直線偏光板之厚度可為200 μm以下，較佳為0.5～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則存在柔軟性不易降低之傾向。
上述直線偏光元件亦可為將聚乙烯醇(PVA)系膜藉由染色、延伸而製造之膜型偏光元件。使碘等雙色性色素吸附於藉由延伸而配向之PVA系膜、或以吸附於PVA之狀態進行延伸，藉此使雙色性色素配向，而發揮偏光性能。於上述膜型偏光元件之製造中，亦可另外具有膨潤、藉由硼酸之交聯、藉由水溶液之洗淨、乾燥等步驟。延伸或染色步驟可PVA系膜單獨進行，亦可於與聚對苯二甲酸乙二酯之類之其他膜積層之狀態下進行。所使用之PVA系膜之厚度較佳為10～100 μm，延伸倍率較佳為2～10倍。
進而，作為上述偏光元件之另一例，亦可為塗佈液晶偏光組合物而形成之液晶塗佈型偏光元件。上述液晶偏光組合物可包含液晶性化合物及雙色性色素化合物。上述液晶性化合物只要具有呈現出液晶狀態之性質即可，尤其是若具有層列相等高次之配向狀態，則能夠發揮出較高之偏光性能，故而較佳。又，液晶性化合物亦較佳為具有聚合性官能基。
上述雙色性色素係與上述液晶化合物同時配向而呈現出雙色性之色素，雙色性色素本身可具有液晶性，亦可具有聚合性官能基。液晶偏光組合物中之任一化合物具有聚合性官能基。
上述液晶偏光組合物可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。
上述圓偏光板亦可為液晶偏光層。上述液晶偏光層可藉由如下方式而製造：於配向膜上塗佈液晶偏光組合物，形成液晶偏光層。
關於液晶偏光層，可以厚度薄於膜型偏光元件之方式而形成。上述液晶偏光層之厚度較佳為0.5～10 μm，更佳可為1～5 μm。
上述配向膜例如可藉由如下方式而製造：於基材上塗佈配向膜形成組合物，並藉由摩擦、偏光照射等賦予配向性。上述配向膜形成組合物可包含配向劑以及溶劑、交聯劑、起始劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。作為上述配向劑，例如可使用聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於應用光配向之情形時，較佳為使用包含肉桂酸酯基之配向劑。用作上述配向劑之高分子之重量平均分子量可為10,000～1,000,000左右。關於上述配向膜之厚度，就配向限制力之觀點而言，較佳為5～10,000 nm，更佳為10～500 nm。上述液晶偏光層可自基材剝離並進行轉印而積層，亦可將上述基材直接進行積層。亦較佳為上述基材承擔作為保護膜或相位差板、視窗之透明基材之作用。
作為上述保護膜，只要為透明之高分子膜即可，可使用上述透明基材所使用之材料、添加劑。較佳為纖維素系膜、烯烴系膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜。亦可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組合物或丙烯酸酯等自由基硬化組合物並進行硬化而獲得之塗佈型之保護膜。可視需要包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述保護膜之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若上述保護膜之厚度處於上述範圍內，則保護膜之柔軟性不易降低。保護膜亦可兼具視窗之透明基材之作用。
上述λ/4相位差板係於與入射光之行進方向正交之方向(膜之面內方向)賦予λ/4之相位差之膜。上述λ/4相位差板可為藉由將纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜進行延伸而製造之延伸型相位差板。可視需要包含相位差調整劑、塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述延伸型相位差板之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則存在膜之柔軟性不易降低之傾向。
進而，作為上述λ/4相位差板之另一例，亦可為塗佈液晶組合物而形成之液晶塗佈型相位差板。上述液晶組合物包含具有呈現出向列、膽甾、層列等液晶狀態之性質之液晶性化合物。液晶組合物中之包含液晶性化合物之任一化合物具有聚合性官能基。上述液晶塗佈型相位差板可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。上述液晶塗佈型相位差板可與於上述液晶偏光層之記載相同地藉由如下方式而製造：於配向膜上塗佈液晶組合物並進行硬化，形成液晶相位差層。關於液晶塗佈型相位差板，可以厚度薄於延伸型相位差板之方式而形成。上述液晶偏光層之厚度通常為0.5～10 μm，較佳可為1～5 μm。上述液晶塗佈型相位差板可自基材剝離並進行轉印而積層，亦可將上述基材直接進行積層。亦較佳為上述基材承擔作為保護膜或相位差板、視窗之透明基材之作用。
一般而言，越為短波長雙折射越大而越成為長波長呈現出越小之雙折射之材料較多。於此情形時，無法於全可見光區域達成λ/4之相位差，故而以成為如相對於視感度較高之560 nm附近成為λ/4之面內相位差100～180 nm、較佳為130～150 nm之方式進行設計之情況較多。通常較佳為使用應用有具有逆向之雙折射率波長分散特性之材料的逆相分散λ/4相位差板，其原因在於能夠使視認性變好。作為此種材料，亦較佳為：於延伸型相位差板之情形時，使用日本專利特開2007-232873號公報等記載者，於液晶塗佈型相位差板之情形時，使用日本專利特開2010-30979號公報記載者。
又，作為其他方法，亦已知有藉由與λ/2相位差板組合而獲得寬頻帶λ/4相位差板之技術(日本專利特開平10-90521號公報)。λ/2相位差板亦可利用與λ/4相位差板同樣之材料方法而製造。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板之組合為任意，不管何種情況下，使用液晶塗佈型相位差板均可將厚度減薄，故而較佳。
亦已知有為了提高斜方向之視認性而對上述圓偏光板積層正C板之方法(日本專利特開2014-224837號公報)。正C板亦為液晶塗佈型相位差板、或為延伸型相位差板均可。厚度方向之相位差通常為-200～-20 nm，較佳為-140～-40 nm。
(觸控感測器)
觸控感測器可用作輸入方法。作為觸控感測器，提出有阻力膜方式、表面彈性波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電電容方式等各種樣式，任一方式均可。尤佳為靜電電容方式。靜電電容方式觸控感測器被劃分為活性區域及位於上述活性區域之輪廓部之非活性區域。活性區域係與顯示面板中顯示畫面之區域(顯示部)對應之區域，係可感知使用者之觸控之區域，非活性區域係與顯示裝置中不可顯示畫面之區域(非顯示部)對應之區域。觸控感測器可包括：具有可撓性之特性之基板；形成於上述基板之活性區域之感知圖案；及形成於上述基板之非活性區域且用以將上述感知圖案經由墊部與外部之驅動電路連接之各感測線。作為具有可撓性之特性之基板，可使用與上述視窗之透明基板相同之材料。關於觸控感測器之基板，就抑制觸控感測器之裂紋(crack)之方面而言，較佳為其韌性為2,000 MPa%以上者。更佳為韌性可為2,000～30,000 MPa%。此處，韌性係定義為通過高分子材料之拉伸實驗而獲得之應力(MPa)-應變(%)曲線(Stress-strain curve)中破壞點之前之曲線之下部面積。
上述感知圖案可具備形成於第1方向之第1圖案及形成於第2方向之第2圖案。第1圖案與第2圖案配置於互不相同之方向。第1圖案及第2圖案形成於同一層，為了感知所觸控之地點，各圖案必須電性連接。第1圖案為各單位圖案經由接頭相互連接之形態，而第2圖案為各單位圖案為相互分離成島嶼形態之結構，故而為了將第2圖案電性連接，需要另外之橋接電極。感知圖案可應用周知之透明電極素材。例如可列舉銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅氧化物(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、銦鎵鋅氧化物(IGZO)、鎘錫氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-亞乙二氧基噻吩))、奈米碳管(CNT)、石墨烯、金屬線等，該等可單獨使用或2種以上混合使用。較佳為可使用ITO。金屬線所使用之金屬並無特別限定，例如可列舉銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、碲、鉻等。該等可單獨使用或2種以上混合使用。
橋接電極可於感知圖案上部經由絕緣層形成於上述絕緣層上部，且可於基板上形成橋接電極並於其上形成絕緣層及感知圖案。上述橋接電極可由與感知圖案相同之素材形成，亦可由鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或該等中之2種以上之合金等金屬形成。由於第1圖案與第2圖案必須電性絕緣，故而於感知圖案與橋接電極之間會形成絕緣層。絕緣層可僅於第1圖案之接頭與橋接電極之間形成，亦可形成為覆蓋感知圖案之層之結構。於後者之情形時，橋接電極可經由形成於絕緣層之接觸孔連接第2圖案。上述觸控感測器可於基板與電極之間進而包含光學調節層作為用以適當地補償由形成有圖案之圖案區域與未形成圖案之非圖案區域間之透過率之差、具體而言該等區域之折射率之差而誘發之透光率之差的方法，上述光學調節層可包含無機絕緣物質或有機絕緣物質。光學調節層可於基板上塗佈包含光硬化性有機黏合劑及溶劑之光硬化組合物而形成。上述光硬化組合物可進而包含無機粒子。藉由上述無機粒子，光學調節層之折射率能夠上升。
上述光硬化性有機黏合劑例如可包含丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體之共聚物。上述光硬化性有機黏合劑例如亦可為包含含有環氧基之重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等互不相同之各重複單元之共聚物。
上述無機粒子例如可包含氧化鋯粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。上述光硬化組合物亦可進而包含光聚合起始劑、聚合性單體、硬化輔助劑等各添加劑。
(接著層(黏著劑層))
形成上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之各層(視窗、偏光板、觸控感測器)以及構成各層之膜構件(直線偏光板、λ/4相位差板等)可藉由接著劑形成。作為接著劑，可使用水系接著劑、有機溶劑系、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮散型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑(黏著劑)、再濕型接著劑等通用地使用者。尤其可良好地使用水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著劑層之厚度可視所要求之接著力等適當地調節，通常為0.01～500 μm，較佳為0.1～300 μm，於上述可撓性圖像顯示裝置用積層體中存在複數層，各者之厚度及所使用之黏著劑之種類可相同亦可不同。
作為上述水系水系溶劑揮散型接著劑，可使用聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳液、苯乙烯-丁二烯系乳液等水分散狀態之聚合物作為主劑聚合物。可調配水、上述主劑聚合物、以及交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填料、有機溶劑等。於藉由上述水系水系溶劑揮散型接著劑進行接著之情形時，可藉由將上述水系水系溶劑揮散型接著劑注入至被接著層間將被接著層貼合之後使之乾燥而賦予接著性。於使用上述水系水系溶劑揮散型接著劑之情形時之接著層之厚度較佳為0.01～10 μm，更佳可為0.1～1 μm。於將上述水系溶劑揮散型接著劑用於複數層之形成之情形時，各層之厚度及上述接著劑之種類可相同亦可不同。
上述活性能量線硬化型接著劑可藉由照射活性能量線形成接著劑層之包含反應性材料之活性能量線硬化組合物之硬化而形成。上述活性能量線硬化組合物可含有與硬塗組合物相同之自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。上述自由基聚合性化合物與硬塗組合物相同，可使用與硬塗組合物相同之種類者。作為接著層所使用之自由基聚合性化合物，較佳為具有丙烯醯基之化合物。為了降低作為接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物。
上述陽離子聚合性化合物與硬塗組合物相同，可使用與硬塗組合物相同之種類者。作為活性能量線硬化組合物所使用之陽離子聚合性化合物，尤佳為環氧化合物。為了降低作為接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物作為反應性稀釋劑。
於活性能量線組合物中可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，為自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱之至少一種進行分解，產生自由基或者陽離子而使自由基聚合及陽離子聚合進行者。可使用硬塗組合物之記載中藉由活性能量線照射能夠使自由基聚合或陽離子聚合中之至少任一者開始之起始劑。
上述活性能量線硬化組合物可進而包含離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、密接賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑溶劑、添加劑、溶劑。於藉由上述活性能量線硬化型接著劑進行接著之情形時，可藉由如下方式進行接著：將上述活性能量線硬化組合物塗佈於被接著層之任一者或兩者之後進行貼合，通過任一被接著層或兩個被接著層照射活性能量線使之硬化。於使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時之接著層之厚度較佳為0.01～20 μm，更佳可為0.1～10 μm。於將上述活性能量線硬化型接著劑使用於複數層之形成之情形時，各層之厚度及所使用之接著劑之種類可相同亦可不同。
作為上述黏著劑，根據主劑聚合物被分類為丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等，使用任一者均可。於黏著劑中，除主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、黏著賦予劑、塑化劑、染料、顏料、無機填料等。使構成上述黏著劑之各成分溶解於溶劑中並進行分散而獲得黏著劑組合物，將該黏著劑組合物塗佈於基材上，其後使之乾燥，藉此形成黏著劑層接著層。黏著層可直接形成，亦可另行轉印形成於基材者。為了覆蓋接著前之黏著面，亦較佳為使用脫模膜。於使用上述黏著劑之情形時之接著層之厚度較佳為1～500 μm，更佳可為2～300 μm。於將上述黏著劑使用於複數層之形成之情形時，各層之厚度及所使用之黏著劑之種類可相同亦可不同。
(遮光圖案)
上述遮光圖案可作為上述可撓性圖像顯示裝置之邊框或外殼(housing)之至少一部分進行應用。藉由遮光圖案，配置於上述可撓性圖像顯示裝置之邊緣部之配線被隱藏而不易被視認，藉此圖像之視認性提昇。上述遮光圖案可為單層或複數層之形態。遮光圖案之顏色並無特別限制，可具有黑色、白色、金屬色等多種多樣之顏色。遮光圖案可由用以體現顏色之顏料、及丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧等高分子所形成。該等可單獨使用或亦可以2種以上之混合物之形式使用。上述遮光圖案可利用印刷、微影術、噴墨等各種方法而形成。遮光圖案之厚度通常為1～100 μm，較佳為2～50 μm。又，亦較佳為對光圖案之厚度方向賦予傾斜等形狀。
[實施例]
以下，藉由實施例進一步詳細地說明本發明。關於例中之「%」及「份」，只要未特別記載，則意指質量%及質量份。首先，針對評價方法進行說明。
＜1.測定方法＞
(光學膜之反射(SCE)a*、反射(SCE)b*、反射(SCI)a*、反射(SCI)b*)
將實施例及比較例中所獲得之光學膜切割成50 mm×50 mm之大小，其後，與黑色PET(巴川製作所(股)製造之「Kukkiri Mieru」)貼合，獲得反射光學測定用之樣品。
利用分光測色計(Konica Minolta(股)製造之「CM-3700A」)對所獲得之評價用樣品之SCE方式(除去正反射光)、及SCI方式(包含正反射光)之色相進行測定。測定徑係設為LAV：直徑8 mm；測定條件係設為di：8°、de：8°(擴散照明，8°方向受光)；測定視野係設為2°；光源係使用D65光源；UV(ultraviolet，紫外線)條件係設為100%Full。此處，色相係指CIE1976L*a*b*色空間之a*及b*。此外，光學膜之反射(SCE)a*及反射(SCI)a*亦以與上述相同之條件進行測定。
(具有圓偏光板之積層體之反射(SCE)b*)及反射(SCI)b*)
關於具有圓偏光板之積層體之反射(SCE)b*及反射(SCI)b*，將測定對象自光學膜變更為具有圓偏光板之積層體，除此以外，以與光學膜之測定方法相同之方式進行測定。又，亦以相同之方式測定反射(SCE)a*及反射(SCI)a*。
(具有圓偏光板之積層體之視感透過率Y)
視感透過率Y係XYZ表色系統中之表示物體顏色之亮度之物性值。SCI方式之SCE方式之視感透過率Y係使用分光測色計(Konica Minolta(股)製造之「CM-3700A」)所測得。
(光學膜之透過b*)
將實施例及比較例中所獲得之光學膜切割成50 mm×50 mm之大小，使用分光測色計(Konica Minolta(股)製造之「CM-3700A」)進行透過光學測定。測定徑係設為LAV：直徑25.4 mm，測定視野係設為2°。又，測定光源係使用D65光源，UV條件係設為100%Full。此處，色相係指CIE1976L*a*b*色空間之a*及b*。
(具有圓偏光板之積層體之透過b*)
關於具有圓偏光板之積層體之透過b*，將測定對象自光學膜變更為具有圓偏光板之積層體，除此以外，以與光學膜之測定方法相同之方式進行測定。又，亦以相同之方式測定具有圓偏光板之積層體之透過a*。
(光學膜及黏著劑層之膜厚)
使用測微計(Mitutoyo(股)製造之「ID-C112XBS」)對10處以上之光學膜之膜厚進行測定，並算出其平均值。以相同之方式測定黏著劑層之厚度，並算出其平均值。
(光學膜之全光線透過率及霧度)
光學膜之全光線透過率及霧度係分別依據JIS K 7361-1:1997、JIS K 7136:2000並使用Suga Test Instruments(股)製造之全自動直讀Haze Computer HGM-2DP所測得。測定試樣係將實施例及比較例之光學膜切割成30 mm×30 mm之大小所製作。
(光學膜之黃度)
光學膜之黃度(Yellow Index：YI值)係使用紫外可見近紅外分光光度計(日本分光(股)製造之「V-670」所測得。以無樣品之狀態進行背景測定後，將實施例及比較例中所獲得之光學膜設置於樣品固持器，進行對於300～800 nm之光之透過率測定，求出三刺激值(X、Y、Z)。根據所獲得之三刺激值並基於ASTM D1925之標準，基於下述式算出YI值。
YI＝100×(1.2769X－1.0592Z)/Y
(二氧化矽粒子之粒徑)
二氧化矽粒子之粒徑係依據JIS Z 8830，根據藉由BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)吸附法而得之比表面積測定值而算出。使用比表面積測定裝置(Yuasa-ionics(股)製造之「MONOSORB(註冊商標)MS-16」)，對使矽溶膠於300℃下進行乾燥而得之粉末之比表面積進行測定。
(重量平均分子量)
凝膠滲透層析法(GPC)測定
(1)預處理方法
使試樣溶解於γ-丁內酯(GBL)中製成20質量%溶液，其後，利用DMF(N,N-dimethylformamide，N,N-二甲基甲醯胺)溶離液稀釋至100倍，並以0.45 μm薄膜過濾器進行過濾，將所得物作為測定溶液。
(2)測定條件
管柱：TSKgel SuperAWM-H×2＋SuperAW2500×1(6.0 mm I.D.×150 mm×3根)
溶離液：DMF(添加10 mmol之溴化鋰)
流量：0.6 mL/分
檢測器：RI檢測器
管柱溫度：40℃
注入量：20 μL
分子量標準：標準聚苯乙烯
(醯亞胺化率)
醯亞胺化率係藉由1 H-NMR測定以下述方式求出。
(1)預處理方法
使包含聚醯亞胺系高分子之光學膜溶解於氘化二甲基亞碸(DMSO-d6 )中，製成2質量%溶液，將所得物作為測定試樣。
(2)測定條件
測定裝置：JEOL製造 400 MHz NMR裝置 JNM-ECZ400S/L1
標準物質：DMSO-d6 (2.5 ppm)
試樣溫度：室溫
累計次數：256次
緩和時間：5秒
(3)醯亞胺化率分析方法
(聚醯亞胺樹脂之醯亞胺化率)
將於由包含聚醯亞胺樹脂之測定試樣所獲得之1 H-NMR光譜中所觀測到之苯質子中，源自醯亞胺化前後無變化之結構之苯質子A的積分值作為IntA 。又，將所觀測到之源自殘存於聚醯亞胺樹脂中之醯胺酸結構之醯胺質子之積分值作為IntB 。根據該等積分值，基於以下式求出聚醯亞胺樹脂之醯亞胺化率。
醯亞胺化率(%)＝100×(1－α×IntB /IntA )
於上述式中，α為聚醯胺酸(醯亞胺化率0%)之情形時之苯質子A之個數相對於1個醯胺質子之比例。
(聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率)
將於由包含聚醯胺醯亞胺樹脂之測定試樣所獲得之1 H-NMR光譜中所觀測到之苯質子中，源自醯亞胺化前後無變化之結構且不受源自殘存於聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯胺酸結構之結構影響的苯質子C之積分值作為IntC 。又，將所觀測到之苯質子中，源自醯亞胺化前後無變化之結構且會受源自殘存於聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯胺酸結構之結構影響的苯質子D之積分值作為IntD 。根據所獲得之IntC 及IntD 並藉由以下式求出β值。
β＝IntD /IntC
繼而，針對複數個聚醯胺醯亞胺樹脂，求出上述式之β值及上述式之聚醯亞胺樹脂之醯亞胺化率，根據該等之結果獲得以下關聯式。
醯亞胺化率(%)＝k×β＋100
上述關聯式中，k為常數。
將β代入至關聯式，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率(%)。
(樹脂之HSP值之算出)
對聚醯胺醯亞胺樹脂1(PAI-1)對於溶劑之溶解性進行評價。於透明之容器中投入如表1所示之溶解度參數已知之溶劑(出處：聚合物手冊(Polymer Handbook)第4版)10 mL及0.1 g之聚醯胺醯亞胺樹脂1，製備混合液。對所獲得之混合物累計實施6小時超音波處理。以目視觀察超音波處理後之混合液之外觀，根據所獲得之觀察結果並基於下述評價基準對聚醯胺醯亞胺樹脂1對於溶劑之溶解性進行評價。將評價結果示於表1。再者，同樣地，關於聚醯胺醯亞胺樹脂2(PAI-2)及聚醯亞胺樹脂1(PI)，亦變更聚醯胺醯亞胺樹脂1-溶劑系中之聚醯胺醯亞胺樹脂1及樹脂之種類，除此以外，以相同之方式評價對於溶劑之溶解性。
(評價基準)
1：混合液之外觀白濁。
0：混合液之外觀透明。
[表1]
根據所獲得之樹脂對於溶劑之溶解性之評價結果，使用上述Hansen溶解球法製作Hansen球。將所獲得之Hansen球之中心座標作為HSP值。將其結果示於表2。
[表2]
(二氧化矽之HSP值之算出)
自矽溶膠1將溶劑去除，取出固形物成分即二氧化矽1。對該二氧化矽1對於溶劑之分散性進行評價。於透明之容器中投入如表3所示之溶解度參數已知之溶劑(出處：聚合物手冊(Polymer Handbook)第4版)10 mL及二氧化矽1 0.1 g，製備混合液。對所獲得之混合物實施累計6小時超音波處理。以目視觀察超音波處理後之混合液之外觀，根據所獲得之觀察結果，基於下述評價基準對二氧化矽1對於溶劑之分散性進行評價。將評價結果示於表3。再者，同樣地，關於針對甲醇分散矽溶膠(日產化學工業(股)製造之「MA-ST-L」，一次粒徑20～25 nm)、及甲醇分散矽溶膠(矽溶膠2，一次粒徑10～12 nm)，亦變更二氧化矽1-溶劑系中作為其原料之矽溶膠之種類，除此以外，以相同之方式評價對於溶劑之分散性。
(評價基準)
1：混合液之外觀白濁。
0：混合液之外觀透明。
[表3]
根據分散於矽溶膠中之各二氧化矽對於溶劑之分散性之評價結果，使用上述Hansen溶解球法製作Hansen球。將所獲得之Hansen球之中心座標設為HSP值。將其結果示於表4。
[表4]
(樹脂-二氧化矽系之HSP值)
根據表2及表4，使用式(6)～式(9)算出樹脂-二氧化矽系之HSP值。將其結果示於表5。
[表5]
如表5所示，二氧化矽1、2-樹脂系之Ra、Δδt 、及Δδp 分別小於二氧化矽(MA-ST-L)-樹脂系之Ra、Δδt 、及Δδp 。又，二氧化矽1、2-樹脂系之Ra、Δδt 、及Δδp 分別滿足式(3)～式(5)。
(彈性模數)
黏著劑層之彈性模數(拉伸彈性模數)G'係藉由依據JIS K 7127之拉伸試驗，並使用電力機械式萬能試驗機(Instron公司製造)進行測定。測定條件為試驗速度5 m/min及荷重元5 kN。
＜2.評價方法＞
(光學膜之捲出穩定性及膜外觀之評價)
以卷對卷製作實施例及比較例之光學膜。自輥捲出(捲出)該光學膜，以目視觀察捲出時之光學膜之狀態。根據觀察結果，基於下述評價基準對捲出穩定性進行評價。自優異者依序以◎、△、及×進行標記。
(光學膜之捲出性之評價基準)
◎：於自輥捲出膜端部時，可平滑地捲出。
○：於自輥捲出膜端部時，可確認到稍卡頓，但可平滑地捲出。
△：於自輥捲出膜端部時，雖可確認到卡頓，但膜中無傷痕並且膜不會被劃破。
×：於自輥捲出膜端部時，可確認到卡頓，膜中留下傷痕、或膜被劃破。
(具有圓偏光板之積層體之視認性評價)
於反射板(鋁板，反射率97%)之表面設置具有圓偏光板之積層體，觀察者從自具有圓偏光板之該積層體平面之垂直方向傾斜45°之角度以目視觀察具有圓偏光板之積層體。根據觀察結果，基於下述評價基準對具有圓偏光板之積層體之視認性進行評價。自優異者依序以〇、△及×進行標記。
(具有圓偏光板之積層體之視認性之評價基準)
〇：反射板上，相較於垂直方向於45°斜面無色相變化
△：反射板上，相較於垂直方向於45°斜面稍有色相變化。
×：反射板上，相較於垂直方向於45°斜面之色相變化較大。
(膜外觀品質之降低之抑制之評價)
製作實施例及比較例之光學膜。將黑紙重疊於光學膜，自光學膜側以目視觀察光學膜之外觀。確認是否帶白色(白濁之有無)。根據觀察結果，基於下述評價基準評價膜外觀品質之降低之抑制。
(膜外觀品質之降低抑制之評價基準)
◎(非常良好)：透明。
○(良好)：透明，但略帶白色。
×(較差)：不透明，且帶白色。
＜3.光學膜之製造＞
[3-1.聚醯亞胺系高分子之製造]
[製造例1：聚醯亞胺樹脂1]
準備於可分離式燒瓶中安裝有二氧化矽凝膠管、攪拌裝置、及溫度計之反應容器、及油浴。於設置於油浴之反應容器內投入4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)75.52 g、及2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)54.44 g。一面以400 rpm攪拌反應容器內之內容物一面進而於反應容器中投入N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)519.84 g，持續攪拌直至反應容器內之內容物成為均勻之溶液。繼而，使用油浴一面以容器內溫度成為20～30℃之範圍之方式進行調整一面進而持續20小時攪拌使之反應，而生成聚醯胺酸。30分後，將攪拌速度變更為100 rpm。攪拌20小時後，使反應系溫度恢復至室溫(25℃)，於反應容器內進而投入649.8 g之DMAc並以聚合物濃度以反應容器內之內容物之總重量為基準成為10重量%之方式進行調整。進而，於反應容器內投入吡啶32.27 g、及乙酸酐41.65 g，於室溫下攪拌10小時進行醯亞胺化。自反應容器取出聚醯亞胺清漆。將所獲得之聚醯亞胺清漆滴加至甲醇中進行再沈澱。利用過濾取出沈澱物並使之乾燥而獲得粉體。將所獲得之粉體進而進行加熱乾燥，將溶劑去除，以固形物成分之形式獲得聚醯亞胺樹脂1。所獲得之聚醯亞胺樹脂1之重量平均分子量為320,000，醯亞胺化率為98.6%。
[製造例2：聚醯胺醯亞胺樹脂1]
於氮氣氛圍下準備於容量1 L可分離式燒瓶中具備攪拌葉之反應容器、及油浴。於設置於油浴之反應容器內投入TFMB 45 g(140.52 mmol)及DMAc 768.55 g。於室溫下攪拌反應容器內之內容物使TFMB溶解於DMAc中。繼而，於反應容器內進而投入6FDA 18.92 g(42.58 mmol)，對反應容器內之內容物於室溫下攪拌3小時。其後，將4,4'-氧雙(苯甲醯氯)(OBBC)4.19 g(14.19 mmol)投入至反應容器中，繼而，將對酞醯氯(TPC)17.29 g(85.16 mmol)投入至反應容器中，對反應容器內之內容物於室溫下攪拌1小時。繼而，於反應容器內進而投入4-甲基吡啶4.63 g(49.68 mmol)及乙酸酐13.04 g(127.75 mmol)，對反應容器內之內容物於室溫下攪拌30分鐘。攪拌後，使用油浴使容器內溫度升溫至70℃，並維持於70℃進而對反應容器內之內容物攪拌3小時，獲得反應液。
將所獲得之反應液冷卻至室溫，絲狀地投入至大量之甲醇中，使沈澱物析出。將所析出之沈澱物取出，利用甲醇浸漬6小時，其後，利用甲醇進行洗淨。繼而，以100℃進行沈澱物之減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂。聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量為400,000，醯亞胺化率為98.8%。
[製造例3：聚醯胺醯亞胺樹脂2]
於氮氣氛圍下準備於容量1 L可分離式燒瓶中具備攪拌葉之反應容器、及油浴。於設置於油浴之反應容器中投入TFMB 45 g(140.52 mmol)及DMAc 768.55 g。於室溫下一面攪拌反應容器內之內容一面使TFMB溶解於DMAc中。繼而，於反應容器內進而投入6FDA 19.01 g(42.79 mmol)，並對反應容器內之內容物於室溫下攪拌3小時。其後，將OBBC 4.21 g(14.26 mmol)投入至反應容器中，繼而，將TPC 17.30 g(85.59 mmol)投入至反應容器中，並對反應容器內之內容物於室溫下攪拌1小時。繼而，於反應容器內進而投入4-甲基吡啶4.63 g(49.68 mmol)及乙酸酐13.04 g(127.75 mmol)，並對反應容器內之內容物於室溫下攪拌30分鐘。攪拌後，使用油浴使容器內溫度升溫至70℃，並維持於70℃進而攪拌3小時，獲得反應液。
將所獲得之反應液冷卻至室溫，絲狀地投入至大量之甲醇中，使沈澱物析出。將所析出之沈澱物取出，利用甲醇浸漬6小時，其後，利用甲醇進行洗淨。繼而，以100℃進行沈澱物之減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂。所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量為365,000，醯亞胺化率為98.9%。
[3-2.二氧化矽粒子之製造]
[製造例4 矽溶膠1]
準備作為反應容器之容量1 L之燒瓶、及熱水浴。於設置於熱水浴之反應容器內投入甲醇分散矽溶膠(一次粒徑25 nm，二氧化矽固形物成分30.5%)442.6 g、及γ-丁內酯301.6 g。使用熱水浴將容器內溫度設為45℃，並使用蒸發器將反應容器內之壓力設為400 hPa並維持1小時，繼而，將反應容器內之壓力設為250 hPa並維持1小時，使甲醇蒸發。進而，將反應容器內之壓力設為250 hPa，使容器內溫度升溫至70℃並保持加熱30分鐘。其結果，獲得γ-丁內酯分散矽溶膠(矽溶膠1，SGS7#09)。所獲得之γ-丁內酯分散矽溶膠之固形物成分為28.9%。
[製造例5 矽溶膠2]
將甲醇分散矽溶膠之一次粒徑變更為10 nm，並將二氧化矽固形物成分變更為22%，除此以外，利用與製造例4相同之方法進行溶劑置換，獲得固形物成分20%之γ-丁內酯分散矽溶膠(矽溶膠2)。
[製造例6 矽溶膠3]
將甲醇分散矽溶膠(一次粒徑25 nm，二氧化矽固形物成分30.5%)變更為甲醇分散矽溶膠(日產化學工業(股)製造之「MA-ST-L」，一次粒徑40～50 nm)，除此以外，利用與製造例4相同之方法進行溶劑置換，獲得固形物成分30.5%及一次粒徑50 nm之γ-丁內酯分散矽溶膠(矽溶膠3)。
[3-3.清漆之製造]
[製造例7 清漆1]
於γ-丁內酯中以表6所示之組成加入聚醯胺醯亞胺樹脂1、矽溶膠1、作為紫外線吸收劑之Sumisorb(註冊商標)340、作為增白劑之Sumiplast(註冊商標)Violet B，以固形物成分成為10.2%之方式製備清漆1。
表6中，「樹脂」及「二氧化矽粒子」欄之含量之單位(wt%)係表示相對於樹脂及二氧化矽粒子總質量之比率(質量%)。「紫外線吸收劑」欄之含量之單位phr係表示相對於樹脂及二氧化矽粒子之總質量之比率(質量%)。
[表6]
[製造例8～13：清漆2～8]
變更為表6所示之組成(成分之種類及/或含量)，將置換之溶劑自γ-丁內酯變更為N,N-二甲基乙醯胺，將樹脂之固形物成分濃度變更為11.0%，除此以外，利用與清漆1相同之方法製備清漆3。又，變更為表6所示之組成(成分之種類及/或含量)，除此以外，利用與清漆1相同之方法分別製備清漆2及4～8。
[實施例1]
[3-4.光學膜之製造]
將所獲得之清漆1於PET膜(TOYOBO(股)製造之「COSMOSHINE(註冊商標)A4100」)上進行流延成形，使塗膜成形。流延成形中之PET之搬送速度為0.3 m/min。其後，藉由以80℃加熱20分鐘、以90℃加熱20分鐘使塗膜乾燥，並自PET膜將塗膜剝離。其後，利用拉幅機以200℃且12分鐘一面使塗膜橫向延伸一面進行加熱，藉此獲得膜厚51 μm之聚醯胺醯亞胺膜1。
[實施例2]
變更塗佈之膜厚，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得膜厚29 μm之聚醯胺醯亞胺膜2。
[實施例3]
將清漆1變更為清漆2，除此以外，利用與實施例1相同之方法獲得膜厚50 μm之聚醯胺醯亞胺膜3。
[實施例4]
將清漆1變更為清漆3，除此以外，利用與實施例1相同之方法獲得膜厚49 μm之聚醯胺醯亞胺膜4。
[實施例5]
將清漆1變更為清漆4，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得膜厚48 μm之聚醯胺醯亞胺膜5。
[實施例6]
將清漆1變更為清漆5，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得膜厚48 μm之聚醯胺醯亞胺膜6。
[實施例7]
將清漆1變更為清漆6，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得膜厚78 μm之聚醯亞胺膜7。
[比較例1]
將清漆1變更為清漆7，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得膜厚52 μm之聚醯亞胺膜8。
[比較例2]
將清漆1變更為清漆8，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得膜厚50 μm之聚醯胺醯亞胺膜9。
以目視觀察所獲得之聚醯胺醯亞胺膜1～6及9以及聚醯亞胺膜7及8之外觀，確認有無白濁。僅聚醯胺醯亞胺膜9確認到白濁之存在，除此以外之膜未確認到白濁之存在。
[表7]
實施例1～7之光學膜包含聚醯胺醯亞胺且滿足式(1)，該等之捲出穩定性之評價為◎、○及△之任一者。比較例1～2之光學膜包含聚醯胺醯亞胺而不滿足式(1)，該等之捲出穩定性之評價結果均為×。
關於實施例1～7之光學膜，明確：與比較例1～2之光學膜相比，捲出穩定性及膜外觀均優異。
又，就實施例1～7之光學膜而言，以Hansen溶解球法所確定之三維距離Ra滿足式(3)，該等之膜外觀品質之降低之抑制之評價結果均為○(良好)。就比較例2之光學膜而言，三維距離Ra不滿足式(3)，其膜抑制外觀品質降低之評價結果為×(較差)。表示丙烯酸丁酯。MMA表示甲基丙烯酸甲酯。HEA表示丙烯酸羥基乙酯。AA表示丙烯酸。交聯劑及SC劑之添加量為相對於單體100份之質量。
[表8]
(黏著劑層1之形成)
於經脫模處理之基材(聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度38 μm)之脫模處理面利用敷料器塗佈黏著劑層形成用組合物1，形成塗佈層。以100℃使塗佈層乾燥1分鐘，形成黏著劑層1。黏著劑層1之厚度為25 μm。
繼而，於黏著劑層1上貼合經脫模處理之另一基材(聚對苯二甲酸乙二酯膜，厚度38 μm)。其後，以溫度23℃、相對濕度50%RH之條件固化7天。藉此獲得具備黏著劑層1之膜。對所獲得之黏著劑層1之彈性模數G'及厚度進行測定。將測定結果彙總於表9。
再者，以下於積層黏著劑層之情形時，於積層黏著劑層之後將經脫模處理之基材剝離。
(黏著劑層2之形成)
將黏著劑層形成用組合物1變更為黏著劑層形成用組合物2，並以黏著劑層之厚度成為5 μm之方式塗佈黏著劑層形成用組合物，除此以外，以與黏著劑層1之形成相同之方式形成黏著劑層2。將黏著劑層2之彈性模數及厚度彙總於表9。
[表9]
[3-6.偏光板之製造]
(配向膜形成用組合物之製備)
聚合物1為包含以下結構單元之具有光反應性基之聚合物。

藉由GPC測定，所獲得之聚合物1之分子量為數量平均分子量28,200，分散度(Mw/Mn)呈現出1.82，單體含量為0.5%。使用將聚合物1以濃度5質量%溶解於環戊酮中而得之溶液作為配向膜形成用組合物。
(配向膜之形成)
於保護膜(三乙醯纖維素：TAC)上藉由棒式塗佈法塗佈上述配向膜形成用組合物，而形成塗膜。以80℃使塗膜乾燥1分鐘。繼而，使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7，USHIO INC(股)製造)及Wire Grid(USHIO INC(股)製造之「UIS-27132##」)以曝光量100 mJ/cm2 (365 nm基準)條件對塗膜照射偏光UV。藉此於保護膜上形成配向膜。配向膜具有配向性能，其厚度為100 nm。
(偏光元件形成用組合物之製備)
(聚合性液晶化合物)
聚合性液晶化合物係使用式(5)所表示之聚合性液晶化合物[以下，亦稱為化合物(5)]及式(6)所表示之聚合性液晶化合物[以下，亦稱為化合物(6)]。
[化5]

[化6]

化合物(5)及化合物(6)係藉由Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays – Bas, 115, 321 - 328(1996)記載之方法進行合成。
(雙色性色素)
對於雙色性色素，使用下述式(7)、式(8)、式(9)所表示之日本專利特開2013-101328號公報之實施例所記載之偶氮色素。
[化7]

[化8]

[化9]
(偏光元件層形成用組合物之製備)
偏光元件層形成用組合物係藉由如下方式而製備：將化合物(5)75質量份、化合物(6)25質量份、作為雙色性染料之上述式(7)、(8)、(9)所表示之偶氮色素各2.5質量份、作為聚合起始劑之2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369，BASF JAPAN公司製造)6質量份、及作為調平劑之聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N，BYK-Chemie公司製造)1.2質量份混合於甲苯400質量份中，將所獲得之混合物以80℃攪拌1小時。
(偏光元件之製造)
於所形成之配向膜上藉由棒式塗佈法塗佈上述偏光元件形成用組合物，而形成塗膜。將塗膜以100℃加熱2分鐘使之乾燥。繼而，冷卻至室溫。使用上述UV照射裝置，以累計光量1200 mJ/cm2 (365 nm基準)之條件對塗膜照射紫外線。藉此，於配向膜上形成偏光元件。偏光元件之厚度為3 μm。
(保護層之形成)
於偏光元件上塗佈包含聚乙烯醇及水之組合物，而形成塗膜。將塗膜以溫度80℃乾燥3分鐘。藉此於偏光元件上形成保護層。保護層之厚度為0.5 μm。
藉由以上而製造依序積層有保護膜、配向膜、偏光元件、及保護層之偏光層。
(λ/4相位差板及正C板之形成)
將下述所示之各成分混合，並將所獲得之混合物以80℃攪拌1小時，藉此獲得λ/4相位差層形成用組合物。
下述式所表示之化合物b-1：80質量份

下述式所表示之化合物b-2：20質量份

聚合起始劑(Irgacure369、2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-啉基苯基)丁烷-1-酮，BASF JAPAN公司製造)：6質量份
調平劑(BYK-361N，聚丙烯酸酯化合物，BYK-Chemie公司製造)：0.1質量份
溶劑(環戊酮)：400質量份
於第1基材膜(厚度100 μm，聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET))上藉由棒式塗佈法塗佈上述配向膜形成用組合物，於80℃之乾燥烘箱中加熱乾燥1分鐘。對所獲得之乾燥覆膜實施偏光UV照射處理，而形成第2配向膜。偏光UV處理係使用上述UV照射裝置以於波長365 nm所測得之累計光量為100 mJ/cm2 之條件而進行。又，以偏光UV之偏光方向相對於偏光層之吸收軸成為45°之方式而進行。以此方式而獲得包含「第1基材膜/第2配向膜」之積層體。第2配向膜之厚度為100 nm。
於包含「第1基材膜/第2配向膜」之積層體之第2配向膜上藉由棒式塗佈法塗佈λ/4相位差層形成用組合物，於120℃之乾燥烘箱中加熱乾燥1分鐘，其後冷卻至室溫。對所獲得之乾燥覆膜使用上述UV照射裝置照射累計光量1000 mJ/cm2 (365 nm基準)之紫外線，藉此形成相位差層。對所獲得之相位差層之厚度藉由雷射顯微鏡(Olympus(股)製造之OLS3000)進行測定，結果為2.0 μm。相位差層為於面內方向呈現出λ/4之相位差值之λ/4板。以此方式而獲得包含「第1基材膜/第2配向膜/λ/4相位差層」之積層體。
將下述所示之各成分混合，將所獲得之混合物以80℃攪拌1小時，藉此獲得正c相位差層形成用組合物。
下述式所表示之化合物(LC242，BASF JAPAN公司製造)：100質量份

聚合起始劑(Irgacure907，2-甲基-4'-(甲硫基)-2-啉基苯丙酮，BASF JAPAN公司製造)：2.6質量份
調平劑(BYK-361N，聚丙烯酸酯化合物，BYK-Chemie公司製造)：0.5質量份
添加劑(LR9000，BASF JAPAN公司製造)：5.7質量份
溶劑(丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯)：412質量份
與上述λ/4相位差板相同地於第2基材膜(厚度100 μm，聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET))上藉由棒式塗佈法塗佈上述配向膜形成用組合物，並於90℃之乾燥烘箱中加熱乾燥1分鐘而形成第3配向膜。其後，於第3配向膜上藉由棒式塗佈法塗佈正C相位差層形成用組合物，並於90℃之乾燥烘箱中加熱乾燥1分鐘，其後，於氮氣氛圍下使用上述UV照射裝置照射累計光量1000 mJ/cm2 (365 nm基準)之紫外線，藉此形成正C板。對所獲得之正C板之厚度藉由雷射顯微鏡(Olympus(股)製造之OLS3000)進行測定，結果為1.8 μm。
其後，使用黏著劑層2將正C板之剝去第2基材膜之面貼合於上述λ/4相位差板之第1基材膜之相反側，藉此製作相位差層。
所形成之λ/4相位差板及正C板均包含聚合性液晶化合物以配向之狀態硬化而成之層。
[3-7.具有圓偏光板之積層體之製造]
使用聚醯胺醯亞胺膜1、偏光層、黏著劑層1及黏著劑層2製造積層體1。積層體1依序具備聚醯胺醯亞胺膜1/黏著劑層1/偏光層(保護膜/配向膜/偏光元件/保護層)/黏著劑層2。經由黏著劑層2將相位差層之剝去第1基材膜之面貼合於偏光層之與保護膜側相反之側。相位差層為積層λ/4相位差板(RWP)與正C板(PosiC)而成之層。其後，於上述相位差層之與偏光層相反之側設置黏著劑層1。藉此製造具有圓偏光板之積層體1。積層體1依序具備聚醯胺醯亞胺膜1/黏著劑層1/偏光層(保護膜/配向膜/偏光元件/保護層)/黏著劑層2/相位差層(λ/4相位差板/正C板)/黏著劑層1。此處，相位差層中之配向膜之標記係省略。
再者，於偏光層與相位差層之貼合中，以偏光層之吸收軸相對於相位差層之遲相軸(光軸)實質上成為45°之方式經由黏著劑層2將偏光層與相位差層貼合。
針對具有圓偏光板之積層體，測定光學特性值並算出。詳細而言，對透過b*、透過a*、反射(SCE)方式之a*、b*及Y進行測定。根據所獲得之透過b*、反射(SCE)b*及反射(SCI)b*算出透過b*－反射(SCE)b*。將測定結果及算出結果彙總於表10。
[實施例9]
於前面板應用聚醯胺醯亞胺膜5代替聚醯胺醯亞胺膜1，除此以外，以與實施例8相同之方式製造具有圓偏光板之積層體2，測定光學特性值並算出。
[實施例10]
於前面板應用聚醯亞胺膜7代替聚醯胺醯亞胺膜1，除此以外，以與實施例8相同之方式製造具有圓偏光板之積層體3，測定光學特性值並算出。
[比較例3]
於前面板應用聚醯亞胺膜8代替聚醯胺醯亞胺膜1，除此以外，以與實施例8相同之方式製造具有圓偏光板之積層體4，測定光學特性值並算出。
[表10]
實施例8～10之具有圓偏光板之積層體滿足式(39)，該等之視認性之評價為○及△之任一者。又，實施例8～10之具有圓偏光板之積層體亦滿足式(40)。
比較例3之圓偏光板不滿足式(39)，其視認性之評價為×。又，比較例3之具有圓偏光板之積層體亦不滿足式(40)。
關於實施例8～10之具有圓偏光板之積層體，明確：與比較例3之具有圓偏光板之積層體相比，視認性優異。

Claims (13)

  1. 一種光學膜，其係包含選自由聚醯亞胺、聚醯胺及聚醯胺醯亞胺所組成之群中之至少1種者，且滿足式(1)； 0.04≦反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≦1.5 (1) [式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式所求出之於該光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之b*]。
  2. 如請求項1之光學膜，其進而滿足式(2)； 反射(SCE)a*/反射(SCI)a*≦2.5 (2) [式(2)中，反射(SCE)a*表示以SCE方式所求出之於上述光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*，反射(SCI)a*表示以SCI方式所求出之於上述光學膜所反射之光於L*a*b*表色系統中之a*]。
  3. 如請求項1之光學膜，其霧度為1%以下，全光線透過率Tt為85%以上。
  4. 如請求項2之光學膜，其霧度為1%以下，全光線透過率Tt為85%以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學膜，其進而包含二氧化矽粒子。
  6. 如請求項5之光學膜，其中上述二氧化矽粒子為對水溶性醇分散矽溶膠進行溶劑置換而得之二氧化矽粒子。
  7. 如請求項1至4中任一項之光學膜，其進而包含紫外線吸收劑。
  8. 如請求項5之光學膜，其進而包含紫外線吸收劑。
  9. 如請求項6之光學膜，其進而包含紫外線吸收劑。
  10. 一種光學積層體，其具有如請求項1至9中任一項之光學膜、及位於該光學膜之至少一面之硬塗層。
  11. 一種可撓性圖像顯示裝置，其具備如請求項10之光學積層體。
  12. 如請求項11之可撓性圖像顯示裝置，其進而具備圓偏光板。
  13. 如請求項11或12之可撓性圖像顯示裝置，其進而具備觸控感測器。
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