TW202330734A - 清漆、光學薄膜及光學薄膜之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明之清漆，係至少包含溶劑及聚醯亞胺系樹脂，且該清漆中之二羧酸的含量為10ppm以下。

Description

清漆、光學薄膜及光學薄膜之製造方法

本發明係有關一種具有特定的二羧酸含量之包含聚醯亞胺系樹脂的清漆、由該清漆所形成的光學薄膜、以及該光學薄膜之製造方法。

現在，液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等之圖像顯示裝置係不僅應用在電視，亦廣泛應用在如行動電話或智慧型手錶之各種用途。伴隨如此的用途之擴大，要求具有可撓性特性的圖像顯示裝置(有時稱為可撓性顯示器)。圖像顯示裝置係由液晶顯示元件或有機EL顯示元件等之顯示元件、以及偏光板或相位差板及前面板等之構成構件所構成。為了達成可撓性顯示器，此等全部之構成構件必須具有柔軟性。

至今為止，使用玻璃作為前面板。玻璃的透明度高，且依據玻璃之種類而可顯現高硬度，相反地，卻非常剛硬，且容易破裂，故難以利用來作為可撓性顯示器之前面板材料。因此，就取代玻璃的材料之一而言，有聚醯亞胺系樹脂，並已正在研究使用該聚醯亞胺系樹脂之光學薄膜(例如JP2017-203984A1)。使用聚醯亞胺系樹脂之光學薄膜通常係使用包 含該聚醯亞胺系樹脂之清漆而製造，亦有研究有關該清漆之長期保管性(例如JP2020-186369A1)。

使用聚醯亞胺系樹脂之光學薄膜例如長期間用作為圖像顯示裝置之前面板，但習知之光學薄膜會有經時性黃變的情形。若依據本發明人等，認為如此之經時性的黃變係因曝露於UV光之照射等的外在因素，導致光學薄膜所含有的聚醯亞胺系樹脂、視情況所含有的上藍劑及紫外線吸收劑等之添加劑被分解而產生。

以往，雖然已研究如在專利文獻1及專利文獻2所示的光學薄膜，但期望可更抑制如上述之經時性的光學薄膜之黃變的技術。

因此，本發明之課題在於提供一種可形成光學薄膜的清漆、及由該清漆所形成的光學薄膜，該光學薄膜可抑制因UV光之照射導致黃色度(以下，有時稱為YI值或僅稱為YI)上昇，亦即即使在UV光照射後YI值亦較低。

本發明人等為了解決上述課題，進行致力研究之結果，發現藉由將包含聚醯亞胺系樹脂之清漆所含有的二羧酸之含量設為既定值以下，可解決上述課題，終於完成本發明。

亦即，本發明係包含以下之態樣。

〔1〕一種清漆，係至少包含溶劑及聚醯亞胺系樹脂，且該清漆中之二羧酸的含量為10ppm以下。

〔2〕如〔1〕所述之清漆，其中，溶劑之在波長275nm的透光率為96%以上。

〔3〕如〔1〕或〔2〕所述之清漆，其中，溶劑為γ-丁內酯。

〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項所述之清漆，其中，二羧酸為碳數4至10之脂肪族二羧酸。

〔5〕如〔1〕至〔4〕中任一項所述之清漆，其中，二羧酸係選自由馬來酸及琥珀酸所組成群組中的至少1種二羧酸。

〔6〕如〔1〕至〔5〕中任一項所述之清漆，更包含至少1種上藍劑。

〔7〕如〔6〕所述之清漆，其中，上藍劑之吸光波峰的半值寬為70nm以上200nm以下。

〔8〕如〔6〕或〔7〕所述之清漆，其中，上藍劑為蒽醌系上藍劑。

〔9〕如〔1〕至〔8〕中任一項所述之清漆，其中，溶劑之含量依據清漆之總量為75至99質量%。

〔10〕如〔1〕至〔9〕中任一項所述之清漆，其中，聚醯亞胺系樹脂之含量依據清漆之總量為1至25質量%。

〔11〕如〔1〕至〔10〕中任一項所述之清漆，其中，聚醯亞胺系樹脂為聚醯胺醯亞胺樹脂。

〔12〕一種光學薄膜，係由〔1〕至〔11〕中任一項所述之清漆所形成。

〔13〕一種光學薄膜之製造方法，係至少包含下列步驟：

(a)製備二羧酸之含量為10ppm以下之溶劑的步驟；

(b)混合在步驟(a)製備的溶劑與聚醯亞胺系樹脂，調製成二羧酸之含量為10ppm以下之清漆的步驟；

(c)將所得到的清漆塗佈於支撐體上，而形成塗膜之步驟；及，

(d)使塗膜乾燥，而獲得光學薄膜之步驟。

若依據本發明，可提供一種能形成光學薄膜的清漆、及由該清漆所形成的光學薄膜，該光學薄膜係抑制因UV光照射導致光學薄膜之YI值上昇。

以下，詳細說明有關本發明之實施型態。又，本發明之範圍並不限定於在此說明之實施型態，在不超出本發明之旨意的範圍內可做各種變更。

本發明之清漆係至少包含溶劑及聚醯亞胺系樹脂之清漆，且該清漆中之二羧酸的含量為10ppm以下。清漆中所含有的二羧酸之含量為超過10ppm時，從該清漆所製造的光學薄膜中亦會包含二羧酸，其結果，光學薄膜容易經時性黃變。又，在本說明書中，係藉由對光學薄膜照射UV光之加速試驗而評估光學薄膜之經時性的黃變。從容易抑制光學薄膜之經時性的黃變之觀點而言，清漆中所含有的二羧酸之含量較佳為9ppm以下，更佳為7ppm以下，再更佳為5ppm以下。

又，在本說明書中，只要未特別言及，藉由二羧酸之濃度表示上述二羧酸之含量。

清漆中之二羧酸的含量可為1ppm以上。尤其為了使溶劑中之二羧酸量純化至未達1ppm，會需要長時間的純化，故若設為1ppm以上，可以合理的製造時間製造。

認為清漆中所含有的二羧酸係會與聚醯亞胺系樹脂、及/或視情況所含有的紫外線吸收劑、上藍劑等之添加劑經時性產生應。又，認為清漆中所含有的二羧酸亦包含於從清漆所製造的光學薄膜中，且會與光學薄膜所含有的聚醯亞胺系樹脂、及/或視情況所含有的紫外線吸收劑、上藍劑等之添加劑經時性產生反應。又，認為因光學薄膜曝露於UV等之外在因素，會促進如上述之反應，其結果，亦促進黃變。認為藉由將清漆中所含有的二羧酸之量設為既定值以下，抑制如此的經時性的反應，可防止黃變。

在二羧酸之中，將與聚醯亞胺系樹脂等之反應性高的二羧酸之量設為特定值以下，從更容易提高光學薄膜之黃變的抑制效果之觀點而言，二羧酸較佳為脂肪族二羧酸，更佳為碳數4至10之脂肪族二羧酸，再更佳為選自由馬來酸及琥珀酸所組成組群中之至少1種二羧酸。

清漆所含有的溶劑並無特別限定，例如可列舉：N,N-二甲基乙醯胺(以下，有時記載為DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺(以下，有時記載為DMF)等之醯胺系溶劑；γ-丁內酯(以下，有時記載為GBL)、γ-戊內酯等之內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等之含硫系溶劑；碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯等之碳酸酯系溶劑；及此等之組合。在此等溶劑之中，以醯胺系溶劑或內酯系溶劑為較佳。又，在清漆中亦可包含水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。

在清漆中含有二羧酸之原因並不明確，但例如起因於清漆中所含有的原料例如上述溶劑的製造步驟所含有的情形。尤其，有起因於清漆所含有的溶劑，而含有二羧酸之情形。

例如，就清漆之溶劑而言，可列舉GBL。GBL係可以馬來酸酐作為起始物質而製造。以馬來酸酐作為起始物質之GBL係可列舉三菱化學股份有限公司製之GBL。在以馬來酸酐作為起始物質時，可藉由氫化反應而使馬來酸酐轉換成琥珀酸酐，再藉由進行氫化反應而製造GBL。以如此的製造方法製造GBL時，起因於製造步驟，會有在GBL溶劑中含有作為雜質之馬來酸及/或琥珀酸。又，GBL係有以1,4-丁二醇作為起始物質，而藉由環化及脫水反應來製造之情形，但此時，起因於製造步驟，會有在GBL溶劑中含有作為雜質之馬來酸及/或琥珀酸的情形。因此，在清漆所含有的溶劑為GBL時，尤其以馬來酸酐或1,4-丁二醇作為起始物質而製造的GBL時，容易產生光學薄膜之黃變的馬來酸及/或琥珀酸容易經由溶劑而包含於清漆中。因而，清漆含有GBL作為溶劑之時，尤其在清漆包含以馬來酸酐或1,4-丁二醇(尤其馬來酸酐)作為起始物質並藉由氫化反應得到的GBL作為溶劑時，藉由將二羧酸之含量設為10ppm以下，容易獲得更明顯的效果。

又，使用N-甲基-2-吡咯啶酮(以下，有時記載為NMP)作為清漆之溶劑時，由於NMP有以GBL作為原料而製造的情形，故同樣地有含有二羧酸作為雜質的情形。

使用GBL以外之環狀酯作為清漆之溶劑時，亦因有環狀酯以與GBL類似之反應路徑所製造的情形，故有含有二羧酸作為雜質的情形。

NMP以外之內醯胺系溶劑亦因有以前述環狀酯溶劑作為原料所製造之情形，故同樣地有含有二羧酸作為雜質的情形。

測定清漆中之二羧酸的含量之方法並無特別限定，可鑑別出清漆中可含有的二羧酸之種類，並藉由離子層析-質譜等定量該二羧酸之量而測定。又，在清漆所含有的聚醯亞胺系樹脂、添加劑等之原料為純度高的原料時，可使清漆所含有的溶劑中之二羧酸的含量換算成清漆整體中之含量，而作為清漆中之二羧酸的含量。

又，在溶劑以外之成分中亦有明顯地含有二羧酸時，可以清漆作為測定試料而測定二羧酸量，亦可依需要而分離樹脂等之含有成分後，測定各含有成分所含有的二羧酸之總量。

將清漆中之二羧酸的含量設為上述之上限以下的方法係可列舉使用純度高的原料之方法。提高清漆所含有的聚醯亞胺系樹脂之純度的方法係可列舉不直接使用所合成的樹脂之反應溶液，而是先進行純化而使用。前述純化方法係有對於已溶解於良溶劑之樹脂溶液，滴入不良溶劑，或對不良溶劑中滴入樹脂溶液，而分析樹脂純分並進行過濾而取出的方法。

提高清漆所含有的溶劑之純度的方法係可列舉蒸餾、或化學處理、吸附、萃取、再結晶等。蒸餾較佳為組合複數之蒸餾塔而進行，並進行複數次之純化直到二羧酸被充分去除為止。又，在純化步驟後取樣一部分而定量二羧酸之量，且超過既定量時，再度進行純化，可確實地減少二羧酸之量。

在本發明之清漆所含有的溶劑之在波長275nm之透光率較佳為96%以上。認為在波長275nm具有吸收之成分本身並無助於光學薄膜之 黃變，但認為使用如在波長275nm之透光率為96%以上的高純度之溶劑時，所得到的清漆之二羧酸的含量亦容易調整至上述之範圍內。在此，本發明之清漆包含1種類之溶劑時，該溶劑之在波長275nm的透光率較佳為96%以上。又，本發明之清漆包含2種類以上之溶劑時，分別測定有關該2種類以上的溶劑之在波長275nm之透光率較佳可為96%以上，測定有關該2種類以上之溶劑的混合溶劑之在波長275nm的透光率較佳可為96%以上。

從容易將清漆中之二羧酸的含量設為上述之範圍之觀點而言，在本發明之清漆所含有的溶劑中之二羧酸的含量較佳為10ppm以下，更佳為7ppm以下，再更佳為5ppm以下。又，從清漆之製造效率的觀點而言，在清漆所含有的溶劑中之二羧酸的含量係可為1ppm以上。在此，本發明之清漆包含1種類之溶劑時，較佳為該溶劑之二羧酸的含量為上述之範圍內。又，本發明之清漆包含2種類以上之溶劑時，較佳為在該2種類以上之溶劑的混合溶劑中之二羧酸的量為上述之範圍內。

從容易抑制光學薄膜之經時性的黃變之觀點而言，在清漆所含有的溶劑之在波長275nm的透光率較佳為96%以上，更佳為97%以上，再更佳為98%以上。

相對於清漆之總量，在本發明之清漆中之溶劑的含量較佳為75至99質量%，更佳為78至95質量%，再更佳為80至90質量%。若溶劑之含量為上述之範圍內，因容易成為最適合於對清漆進行澆鑄製膜之黏度，故操作性成為良好，同時容易提高所得到的光學薄膜之辨識性。

依據清漆之總量，在本發明之清漆中的聚醯亞胺系樹脂之含量較佳為1至25質量%，更佳為5至22質量%，再更佳為10至20質量%。若聚醯亞胺系樹脂之含量為上述之範圍內，容易將所得到的光學薄膜中之二羧酸的含量設為既定之範圍內，容易抑制光學薄膜之經時性的黃變。又，因容易成為最適合於對清漆進行澆鑄製膜之黏度，故操作性成為良好，同時容易提高所得到的光學薄膜之辨識性。

<聚醯亞胺系樹脂>

在本發明之清漆所含有的聚醯亞胺系樹脂為聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂或屬於聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂之前驅體的聚醯胺酸樹脂。本發明之清漆係可含有1種類之聚醯亞胺系樹脂，亦可含有2種以上之聚醯亞胺系樹脂。從製膜性之觀點而言，聚醯亞胺系樹脂較佳為聚醯亞胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂，更佳為聚醯胺醯亞胺樹脂。

從光學薄膜之經時性的黃變抑制、薄膜之耐彎曲性的觀點而言，在本發明之清漆所含有的聚醯亞胺系樹脂之聚苯乙烯換算重量平均分子量較佳為200,000以上，更佳為250,000以上，再更佳為300,000以上。從清漆之容易製造性、或製造高分子材料時之成膜性的觀點而言，聚醯亞胺系樹脂之聚苯乙烯換算重量平均分子量較佳為800,000以下，更佳為600,000以下，再更佳為500,000以下，再更佳為450,000以下。上述重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析(GPC)來測定。測定條件係可使用記載於實施例之條件。

在本發明之一實施型態中，聚醯亞胺系樹脂較佳為具有以式(1)所示之構成單元的聚醯亞胺樹脂、或具有以式(1)所示之構成單元及以式 (2)所示之構成單元的聚醯胺醯亞胺樹脂。從透明性或彎曲性之觀點、及光學薄膜之經時性的黃變抑制之觀點而言，聚醯亞胺系樹脂更佳為具有以式(1)所示之構成單元及以式(2)所示之構成單元的聚醯胺醯亞胺樹脂。在下列中，說明有關式(1)及式(2)，但對於式(1)之說明係有關聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂之兩者，對於式(2)之說明係有關聚醯胺醯亞胺樹脂。

以式(1)所示之構成單元係四羧酸化合物與二胺化合物反應所形成的構成單元，以式(2)所示之構成單元係二羧酸化合物與二胺化合物反應所形成的構成單元。

聚醯亞胺系樹脂為具有以式(1)所示之構成單元的聚醯亞胺樹脂、或具有以式(1)所示之構成單元及以式(2)所示之構成單元的聚醯胺醯亞胺樹脂的本發明之一態樣中，式(1)中之Y互相獨立地表示4價有機基，較佳為表示碳數4至40之4價有機基。前述有機基係有機基中之氫原子可被烴基或經氟取代之烴基取代的有機基，此時，烴基及經氟取代之烴基的碳數較佳為1至8。本發明之一實施態樣的上述聚醯亞胺系樹脂係可包含複數種Y，複數種Y係可為互相相同，亦可為相異。Y可例示：以式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所示之基；以此等式(20)至式(29)所示之基中的氫原子被甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代的基；以及4價之碳數6以下的鏈式烴基。

[式(20)至式(29)中，

＊係表示鍵結鍵，

W¹係表示單鍵、-O-、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH(CH₃)-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-Ar-、-SO₂-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH₂-Ar-、-Ar-C(CH₃)₂-Ar-或-Ar-SO₂-Ar-。Ar係表示氫原子可被氟原子取代之碳數6至20的伸芳基，具體例係可列舉伸苯基。]

在式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所示的基之中，從包含該聚醯亞胺系樹脂而成的光學薄膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言，以式(26)、式(28)或式(29)所示之基為較佳，以式(26)所示之基為更佳。又，從包含該聚醯亞胺系樹脂而成的光學薄膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言，W¹較佳為互相獨立地為單鍵、-O-、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH(CH₃)-、-C(CH₃)₂-或-C(CF₃)₂-，更佳為 單鍵、-O-、-CH₂-、-CH(CH₃)-、-C(CH₃)₂-或-C(CF₃)₂-，再更佳為單鍵、-O-、-C(CH₃)₂-或-C(CF₃)₂-，又再更佳為-O-或-C(CF₃)₂-。

在上述態樣中，式(1)中之複數個Y之至少一部分係以式(5)所示之構成單元為較佳。若式(1)中之複數個Y之至少一部分為以式(5)所示之基，所得到的光學薄膜係容易顯現高的透明性。又，源自於高的彎曲性骨架，可提高該聚醯亞胺系樹脂之對溶劑的溶解性，並可抑制包含聚醯亞胺系樹脂之清漆黏度至較低，且可容易進行光學薄膜之加工。

[式(5)中，R¹⁸至R²⁵互相獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基或碳數6至12之芳基，R¹⁸至R²⁵所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代，

＊係表示鍵結鍵。]

在式(5)中，R¹⁸、R¹⁹、R²⁰、R²¹、R²²、R²³、R²⁴、R²⁵互相獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基或碳數6至12之芳基，較佳為表示氫原子或碳數1至6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1至3之烷基。碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基及碳數6至12之芳基係可列舉後述作為式(3)中之碳數1至6的烷基、碳數1至6之烷氧基或碳數6至12之芳基者。在此，R¹⁸至R²⁵所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代。從包含該聚醯亞胺系樹脂而成的光學薄膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言， R¹⁸至R²⁵互相獨立地再更佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，特別佳為氫原子或三氟甲基。

在本發明之適合的實施態樣中，以式(5)所示之構成單元係式(5’)所示之基，亦即，複數個Y的至少一部分係以式(5’)所示之構成單元。此時，含有該聚醯亞胺系樹脂而成的光學薄膜係可具有高的透明性。

[式(5’)中，＊係表示鍵結鍵]

在本發明之適合的實施態樣中，上述聚醯亞胺系樹脂中之Y較佳為50莫耳%以上(更佳為60莫耳%以上，再更佳為70莫耳%以上)為以式(5)尤其式(5’)所示者。若在上述聚醯亞胺系樹脂中之上述範圍內的Y為以式(5)尤其式(5’)所示者，則含有該聚醯亞胺系樹脂而成的光學薄膜係可具有高的透明性，再者，藉由含有氟元素之骨架提高該聚醯亞胺系樹脂之對溶劑的溶解性，可抑制包含聚醯亞胺系樹脂之清漆的黏度至較低，且容易製造光學薄膜。又，較佳為上述聚醯亞胺系樹脂中之Y的100莫耳%以下為以式(5)尤其式(5’)所示者。上述聚醯亞胺系樹脂中之Y係可為式(5)，尤其為式(5’)。上述聚醯亞胺系樹脂中之Y的以式(5)所示之構成單元的含有率係例如可使用¹H-NMR進行測定，亦可從原料之裝填比算出。

在聚醯亞胺系樹脂具有以式(1)所示之構成單元及以式(2)所示之構成單元的聚醯胺醯亞胺樹脂之本發明的一態樣中，式(2)中之Z互相獨立地表示2價有機基。在本發明之一實施型態中，聚醯胺醯亞胺樹脂係可含有複數種Z，複數種Z係可為互相相同，亦可為互相相異。前述2價 有機基較佳為表示碳數4至40之2價有機基。前述有機基係可被烴基或經氟取代之烴基取代，此時，烴基及經氟取代之烴基的碳數較佳為1至8。Z之有機基可列示在以式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所示之基的鍵結鍵之中不相鄰之2個取代成氫原子後的基、以及碳數6以下之2價鏈式烴基。從提高光學薄膜之光學特性，例如容易降低YI值之觀點而言，較佳為在以式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所示之基之鍵結鍵之中不相鄰之2個取代成氫原子後的基所示之基。在本發明之一實施型態中，聚醯胺醯亞胺樹脂可含有1種類之有機基作為Z，亦可含有2種類以上之有機基。

作為Z之有機基更佳為以式(20’)、式(21’)、式(22’)、式(23’)、式(24’)、式(25’)、式(26’)、式(27’)、式(28’)及式(29’)所示之2價有機基：

[式(20’)至式(29’)中，W¹及＊係如在式(20)至式(29)中定義]

又，在式(20)至式(29)及式(20’)至式(29’)中之環上的氫原子係可被碳數1至8之烴基、經氟取代之碳數1至8的烴基、碳數1至6之烷氧基、經氟取代之碳數1至6的烷氧基取代。

聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(2)中之Z為上述之以式(20’)至式(29’)之任一者所示的構成單元時，從容易降低清漆之黏度、容易提高清漆之成膜性、容易提高所得到的光學薄膜之均勻性的觀點而言，聚醯胺醯亞胺樹脂較佳為除了該構成單元以外，更更具有下述式(d1)所示之源自羧酸的構成單元：

[式(d1)中，R²⁴互相獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基或碳數6至12之芳基，R²⁵係表示R²⁴或-C(=O)-＊，＊係表示鍵結鍵]。

在R²⁴中，碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基及碳數6至12的芳基係分別可列舉有關後述之式(3)中的R¹至R⁸所例示者。構成單元(d1)具體而言，可列舉R²⁴及R²⁵任一者皆為氫原子之構成單元(源自二羧酸化合物之構成單元)、R²⁴皆為氫原子且R²⁵表示-C(=O)-＊之構成單元(源自三羧酸化合物之構成單元)等。

在本發明之一實施型態中，聚醯胺醯亞胺樹脂係可包含複數種Z，複數種Z係可為互相相同，亦可為互相相異。尤其，從容易提高所得到的薄膜之表面硬度及光學特性的觀點而言，較佳為Z之至少一部分為以式(3a)所示者：

[式(3a)中，R^g及R^h互相獨立地表示鹵素原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基、或碳數6至12之芳基，R^g及R^h所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代，A、m及＊係與式(3)中之A、m及＊為相同，t及u互相獨立地為0至4之整數]

更佳為以式(3)所示者：

[式(3)中，R¹至R⁸互相獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基、或碳數6至12之芳基，R¹至R⁸所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代，

A互相獨立地表示單鍵、-O-、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH(CH₃)-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-SO₂-、-S-、-CO-或-N(R⁹)-，R⁹係表示氫原子、可被鹵素原子取代之碳數1至12的1價烴基，

m為0至4之整數，

＊係表示鍵結鍵]。

在式(3)及式(3a)中，A互相獨立地表示單鍵、-O-、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH(CH₃)-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-SO₂-、-S-、-CO- 或-N(R⁹)-，從所得到的薄膜之耐彎曲性的觀點而言，較佳為表示-O-或-S-，更佳為表示-O-。

R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷及R⁸互相獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基、或碳數6至12之芳基。R^g及R^h互相獨立地表示鹵素原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基、或碳數6至12之芳基。碳數1至6之烷基例如可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基等。碳數1至6之烷氧基例如可列舉甲氧基、乙氧基、丙基氧基、異丙基氧基、丁氧基、異丁氧基、第三丁氧基、戊基氧基、己基氧基、環己基氧基等。碳數6至12之芳基例如可列舉苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基等。從清漆所得到的薄膜之表面硬度及柔軟性的觀點而言，R¹至R⁸較佳為互相獨立地表示氫原子或碳數1至6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1至3之烷基，再更佳為表示氫原子。在此，R¹至R⁸、R^g及R^h所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代。

R⁹係表示氫原子、可被鹵素原子取代之碳數1至12的1價烴基。碳數1至12之1價烴基例如可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等，此等係可被鹵素原子取代。前述鹵素原子可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。聚醯亞胺系樹脂係可包含複數種A，複數種A係可互相相同，亦可互相相異。

式(3a)中之t及u互相獨立地為0至4之整數，較佳為0至2之整數，更佳為0或1，再更佳為0。

在式(3)及式(3a)中，m係0至4之範圍的整數，若m為該範圍內，清漆之安定性、及從清漆所得到的薄膜之耐彎曲性或彈性模數容易變成良好。又，在式(3)及式(3a)中，m較佳為0至3之範圍的整數，更佳為0至2之範圍的整數，再更佳為0或1，又再更佳為0。若m為該範圍內，容易提高膜之耐彎曲性或彈性模數。又，Z係可包含1種或2種類以上之以式(3)或式(3a)所示之構成單元，從光學薄膜之彈性模數及耐彎曲性之提高、YI值降低之觀點，及光學薄膜之經時性的黃變抑制之觀點而言，尤其可包含m之值為相異的2種類以上之構成單元，較佳為包含m之值為相異的2種類或3種類之構成單元。此時，從容易顯現由清漆所得到的薄膜之高的彈性模數、耐彎曲性及低的YI值之觀點而言，在樹脂較佳為含有在Z中m為0之以式(3)或式(3a)所示之構成單元，更佳為除了該構成單元以外，更含有m為1之以式(3)或式(3a)所示之構成單元。又，亦較佳為除了具有m為0之以式(3)所示之Z的式(2)所示之構成單元以外，更更具有上述之以式(d1)所示之構成單元。

在本發明之較佳的一實施型態中，就以式(3)所示之構成單元而言，樹脂係具有m=0且R⁵至R⁸為氫原子之構成單元。在更佳的本發明之一實施型態中，就以式(3)所示之構成單元而言，樹脂係具有m=0且R⁵至R⁸為氫原子之構成單元、及以式(3’)所示之構成單元：

此時，容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度及耐彎曲性，容易降低YI值，且更容易抑制光學薄膜之經時性的黃變。

在本發明之較佳的一實施型態中，將聚醯胺醯亞胺樹脂之以式(1)所示之構成單元及以式(2)所示之構成單元的合計設為100莫耳%時，以式(3)或式(3a)所示之構成單元的比率較佳為20莫耳%以上，更佳為30莫耳%以上，再更佳為40莫耳%以上，又再更佳為50莫耳%以上，特別佳為60莫耳%以上，較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，再更佳為80莫耳%以下。若以式(3)或式(3a)所示之構成單元的比率為上述之下限以上，則容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度，且容易提高耐彎曲性或彈性模數。若以式(3)或式(3a)所示之構成單元的比率為上述之上限以下，則可抑制因源自式(3)或式(3a)之醯胺鍵結間氫鍵導致的含樹脂的清漆之黏度上昇，且容易提高膜之加工性。

又，聚醯胺醯亞胺樹脂為具有m=1至4之以式(3)或式(3a)的構成單元時，將聚醯胺醯亞胺樹脂之以式(1)所示的構成單元及以式(2)所示之構成單元的合計設為100莫耳%時，m為1至4之以式(3)或式(3a)的構成單元之比率較佳為2莫耳%以上，更佳為4莫耳%以上，再更佳為6莫耳%以上，又再更佳為8莫耳%以上，較佳為70莫耳%以下，更佳為50莫耳%以下，再更佳為30莫耳%以下，又再更佳為15莫耳%以下，特別佳為12莫耳%以下。若m為1至4之以式(3)或式(3a)之構成單元的比率為上述之下限以上，則容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度及耐彎曲性。若m為1至4之式(3)或式(3a)的構成單元之比率為上述之上限以下，則容易抑制因源自式(3)或式(3a)之醯胺鍵結間氫鍵導致的含樹脂之清漆的黏度上 昇，並容易提高膜之加工性。又，以式(1)、式(2)、式(3)或式(3a)所示之構成單元的含量例如可使用¹H-NMR進行測定，亦可從原料之裝填比算出。

在本發明之較佳的一實施型態中，上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z較佳為30莫耳%以上(更佳為40莫耳%以上，再更佳為45莫耳%以上，又再更佳為50莫耳%以上，特別佳為70莫耳%以上)係m為0至4之式(3)或式(3a)所示之構成單元。若Z之上述的下限以上係m為0至4之以式(3)或式(3a)所示的構成單元，則容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度，同時亦容易提高耐彎曲性及彈性模數。又，聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z的100莫耳%以下只要是m為0至4之以式(3)或式(3a)所示的構成單元即可。又，樹脂中之m為0至4的以式(3)或式(3a)所示之構成單元的比率係例如可使用¹H-NMR進行測定，亦可從原料之裝填比算出。

在本發明之較佳的一實施型態中，上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z較佳為5莫耳%以上(更佳為8莫耳%以上，再更佳為10莫耳%以上，又再更佳為12莫耳%以上)係m為1至4之以式(3)或式(3a)所示者。聚醯胺醯亞胺樹脂之Z在上述範圍內之比率若為m為1至4以式(3)或式(3a)所示者，則容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度，且容易提高耐彎曲性及彈性模數。又，Z較佳為90莫耳%以下(更佳為70莫耳%以下，再更佳為50莫耳%以下，又再更佳為30莫耳%以下)較佳係m為1至4之式(3)或式(3a)所示者。Z在上述上限之範圍內若為m為1至4之式(3)或式(3a)所示者，則抑制源自m為1至4之式(3)或式(3a)的醯胺鍵結間氫鍵結導致的含樹脂之清漆的黏度上昇，並容易提高薄膜之加工性。又，樹脂中之m 為1至4的以式(3)或式(3a)所示之構成單元的比率係例如可使用¹H-NMR進行測定，亦可從原料之裝填比算出。

在式(1)及式(2)中，X互相獨立地表示2價有機基，較佳為碳數4至40之2價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4至40的2價有機基。環狀結構係可列舉脂環、芳香環、雜環結構。前述有機基中，有機基中之氫原子可被烴基或經氟取代之烴基取代，此時，烴基及經氟取代之烴基的碳數較佳為1至8。在本發明之一實施型態中，聚醯亞胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂係可含有複數種X，複數種X係可為互相相同，亦可為互相相異。X係可例示：式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所示之基；此等之式(10)至式(18)所示之基中之氫原子被甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代後的基；以及碳數6以下之鏈式烴基。

在式(10)至式(18)中，＊係表示鍵結鍵，

V¹、V²及V³互相獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH(CH₃)-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-SO₂-、-CO-或-N(Q)-。在此，Q係表示可被鹵素原子取代的碳數1至12之1價烴基。碳數1至12之1價烴基係可列舉在上述敘述有關R⁹之基。

其一例係V¹及V³為單鍵、-O-或-S-，且V²為-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-或-SO₂-。V¹與V²之相對於各環的鍵結位置、及V²與V³之相對於各環的鍵結位置較佳為互相獨立地相對於各環為間位或對位，更佳為對位。

在式(10)至式(18)所示之基之中，從容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度及耐彎曲性的觀點而言，以式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及式(17)所示之基為較佳，以式(14)、式(15)及式(16)所示之基為更佳。又，從容易提高本發明之清漆所得到的薄膜之表面硬度及柔軟性的觀點而言，V¹、V²及V³較佳為互相獨立地為單鍵、-O-或-S-，更佳為單鍵或-O-。

在本發明之較佳的一實施型態中，式(1)及式(2)中之複數個X之至少一部分係以式(4)所示之構成單元：

[式(4)中，R¹⁰至R¹⁷互相獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基或碳數6至12之芳基，R¹⁰至R¹⁷所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代，＊係表示鍵結鍵]

若式(1)及式(2)中之複數個X之至少一部分為以式(4)所示之基，則容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度及透明性。

在式(4)中，R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³、R¹⁴、R¹⁵、R¹⁶及R¹⁷互相獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基或碳數6至12之芳基。碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基或碳數6至12之芳基係可列舉例示作為在式(3)中之碳數1至6的烷基、碳數1至6之烷氧基或碳數6至12之芳基者。R¹⁰至R¹⁷較佳為互相獨立地表示氫原子或碳數1至6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1至3之烷基，在此，R¹⁰至R¹⁷所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代。鹵素原子例如可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。從光學薄膜之表面硬度、透明性及耐彎曲性之觀點而言，R¹⁰至R¹⁷再更佳為互相獨立地表示氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，又再更佳為R¹⁰、R¹²、R¹³、R¹⁴、R¹⁵及R¹⁶表示氫原子，R¹¹及R¹⁷表示氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，特別佳為R¹¹及R¹⁷表示甲基或三氟甲基。

在本發明之較佳的一實施型態中，以式(4)所示之構成單元係以式(4’所示之構成單元：

亦即，以式(1)及式(2)所示之複數個構成單元中之複數個X之至少一部分係以式(4’)所示之構成單元。此時，藉由含有氟元素之骨架，容易提高聚醯亞胺系樹脂之對溶劑的溶解性。又，容易降低清漆之黏度，且容易提高光 學薄膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提高從清漆所得到的薄膜之光學特性。

在本發明之較佳的一實施型態中，上述聚醯亞胺系樹脂中之X較佳為30莫耳%以上(更佳為50莫耳%以上，再更佳為70莫耳%以上)為以式(4)尤其式(4’)所示者。在聚醯亞胺系樹脂中之上述範圍內的X若為以式(4)尤其式(4’)所示者，則藉由含有氟元素之骨架容易提高聚醯亞胺系樹脂之對溶劑的溶解性。又，容易降低清漆之黏度，且容易提高從清漆所得到的薄膜之加工性。再者，藉由含有氟元素之骨架，亦容易提高從清漆所得到的薄膜之光學特性。又，較佳為上述聚醯亞胺系樹脂中之X的100莫耳%以下為以式(4)尤其式(4’)所示者。上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之X係可為式(4)，尤其可為式(4’)。上述樹脂中之X的以式(4)所示之構成單元的比率係例如可使用¹H-NMR而進行測定，亦可從原料之裝填比算出。

聚醯亞胺系樹脂係可包含以式(30)所示之構成單元及/或以式(31)所示之構成單元，亦可為在以式(1)及式(2)所示之構成單元中包含以式(30)所示之構成單元及/或式(31)所示之構成單元者。

在式(30)中，Y¹互相獨立地為4價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被烴基或經氟取代之烴基取代的有機基。Y¹可例示以式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29) 所示之基、此等之以式(20)至式(29)所示之基中的氫原子被甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代後之基、以及4價之碳數6以下的鏈式烴基。在本發明之一實施型態中，聚醯亞胺系樹脂係可包含複數種Y¹，複數種Y¹係可為互相相同，亦可為互相相異。

在式(31)中，Y²為3價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被烴基或經氟取代之烴基取代的有機基。Y²係可例示上述之以式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所示之基的鍵結鍵之任一者取代成氫原子後之基、及3價之碳數6以下之鏈式烴基。在本發明之一實施型態中，聚醯亞胺系樹脂係可包含複數種Y²，複數種Y²係可為互相相同，亦可為互相相異。

在式(30)及式(31)中，X¹及X²互相獨立地為2價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被烴基或經氟取代之烴基取代的有機基。作為X¹及X²可例示：上述之以式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所示之基；此等以式(10)至式(18)所示之基中之氫原子被甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代後的基；以及碳數6以下之鏈式烴基。

在本發明之一實施型態中，聚醯亞胺系樹脂係由以式(1)及/或式(2)所示之構成單元、以及視情形之以式(30)及/或式(31)所示之構成單元所構成。又，從清漆所得到的薄膜之光學特性、表面硬度及耐彎曲性之觀點而言，在上述聚醯亞胺系樹脂中，式(1)及式(2)所示之構成單元係依據式(1)及式(2)、以及視情形之以式(30)及式(31)所示的全部構成單元，較佳為80莫耳%以上，更佳為90莫耳%以上，再更佳為95莫耳%以上。又， 在聚醯亞胺系樹脂中，以式(1)及式(2)所示之構成單元係依據式(1)及式(2)、以及視情形之以式(30)及/或式(31)所示的全部構成單元，通常為100%以下。又，上述比率係例如可使用¹H-NMR而進行測定，亦可從原料之裝填比算出。

在本發明之一實施型態中，相對於該薄膜100質量份，從清漆所得到的薄膜中之聚醯亞胺系樹脂之含量較佳為10質量份以上，更佳為30質量份以上，再更佳為50質量份以上，較佳為99.5質量份以下，更佳為95質量份以下。若聚醯亞胺系樹脂之含量為上述範圍內，則容易提高從清漆所得到的薄膜之光學特性及彈性模數。

在聚醯胺醯亞胺樹脂中，相對於以式(1)所示之構成單元1莫耳，以式(2)所示之構成單元的含量較佳為0.1莫耳以上，更佳為0.5莫耳以上，再更佳為1.0莫耳以上，又再更佳為1.5莫耳以上，較佳為6.0莫耳以下，更佳為5.0莫耳以下，再更佳為4.5莫耳以下。若以式(2)所示之構成單元的含量為上述之下限以上，則容易提高從清漆所得到的薄膜之表面硬度。又，若以式(2)所示之構成單元之含量為上述之上限以下，則容易抑制因式(2)中之醯胺鍵結間之氫鍵導致的增黏，並容易提高光學薄膜之加工性。

在本發明之較佳的一實施型態中，聚醯亞胺系樹脂例如可含有能藉由上述含氟取代基等而導入的氟原子等之鹵素原子。聚醯亞胺系樹脂包含鹵素原子時，容易提高包含該聚醯亞胺系樹脂之薄膜的彈性模數，且容易降地YI值。若薄膜之彈性模數高，例如在可撓性顯示裝置中使用該薄膜時，容易抑制在該薄膜之損傷及皺褶等的發生。又，若薄膜之YI值 低，則容易提高該薄膜之透明性及辨識性。鹵素原子較佳為氟原子。為了使聚醯亞胺系樹脂含有氟原子，較佳的含氟取代基例如可列舉氟基及三氟甲基。

在聚醯亞胺系樹脂中之鹵素原子的含量係以聚醯亞胺系樹脂之質量作為基準，較佳為1至40質量%，更佳為5至40質量%，再更佳為5至30質量%。若鹵素原子之含量為上述之下限以上，則更提高包含該聚醯亞胺系樹脂之薄膜的彈性模數，降低吸水率，更降低YI值，更容易提高透明性及辨識性。若鹵素原子之含量為上述之上限以下，則樹脂之合成變容易。

聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率較佳為90%以上，更佳為93%以上，再更佳為96%以上。從容易提高包含該聚醯亞胺系樹脂之薄膜的光學均質性之觀點而言，醯亞胺化率較佳為上述之下限以上。又，醯亞胺化率之上限為100%以下。醯亞胺化率係表示聚醯亞胺系樹脂中之醯亞胺鍵結之莫耳量相對於聚醯亞胺系樹脂中之源自四羧酸化合物的構成單元之莫耳量的2倍之值的比率。又，聚醯亞胺系樹脂包含三羧酸化合物時，醯亞胺化率係表示聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯亞胺鍵結的莫耳量相對於聚醯亞胺系樹脂中之源自四羧酸化合物的構成單元之莫耳量的2倍之值、及源自於三羧酸化合物之構成單元的莫耳量之合計的比率。又，醯亞胺化率係可藉由IR法、NMR法等而求得，例如，在NMR法中，可藉由實施例記載之方法測定。

聚醯亞胺系樹脂係可使用市售品。聚醯亞胺樹脂之市售品例如可列舉三菱瓦斯化學股份有限公司製NEOPULIM(註冊商標)、河村產業 股份有限公司製KPI-MX300F等。又，使用市售之聚醯亞胺系樹脂時，較佳為藉由使樹脂進行純化，降低可包含於聚醯亞胺系樹脂原料之二羧酸的量而使用。

<聚醯亞胺系樹脂之製造方法>

聚醯亞胺樹脂係例如可以四羧酸化合物及二胺化合物作為主要的原料而製造，聚醯胺醯亞胺樹脂係例如可以四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物作為主要的原料而製造。在此，二羧酸化合物較佳為至少包含以式(3”)所示之化合物。

[在式(3”)中，R¹至R⁸互相獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基、或碳數6至12之芳基，在R¹至R⁸所含有的氫原子互相獨立地可被鹵素原子取代，

A係表示單鍵、-O-、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH(CH₃)-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-SO₂-、-S-、-CO-或-N(R⁹)-，

R⁹係表示氫原子、可被鹵素原子取代之碳數1至12的1價烴基，

m為0至4之整數，

R³¹及R³²互相獨立地表示羥基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基或氯原子。]

又，在聚醯亞胺系樹脂之製造使用二羧酸化合物時，為了避免在聚醯亞胺系樹脂中含有未反應之二羧酸化合物，希望使聚醯亞胺系樹 脂充分地純化。藉由使用純度高的聚醯亞胺系樹脂，容易將包含該聚醯亞胺系樹脂之清漆中的二羧酸之含量調整至10ppm以下。

在本發明之較佳的一實施型態中，二羧酸化合物係m為0之以式(3”)所示之化合物。就二羧酸化合物而言，更佳係除了使用m為0之以式(3”)所示的化合物以外，亦使用A為氧原子之以式(3”)所示的化合物。又，在其他較佳的一實施型態中，二羧酸化合物係R³¹及R³²為氯原子之以式(3”)所示的化合物。又，亦可使用二異氰酸酯化合物取代二胺化合物。

在樹脂之製造所使用的二胺化合物例如可列舉脂肪族二胺、芳香族二胺及此等之混合物。又，在本實施型態中所謂「芳香族二胺」係表示胺基直接鍵結於芳香環之二胺，亦可在其結構之一部分包含脂肪族基或其他之取代基。該芳香環係可為單環，亦可為縮合環，可例示苯環、萘環、蒽環及茀環等，但不限定於此等。此等之中，較佳為苯環。又，所謂「脂肪族二胺」係表示胺基直接鍵結於脂肪族基之二胺，亦可在其結構之一部分包含芳香環或其他之取代基。

脂肪族二胺例如可列舉六亞甲基二胺等之非環式脂肪族二胺、以及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降茨烷二胺及4,4’-二胺基二環己基甲烷等之環式脂肪族二胺等。此等係可單獨或組合2種以上而使用。

芳香族二胺係例如可列舉對-苯二胺、間-苯二胺、2,4-甲苯二胺、間-苯二甲胺、對-苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等之具有1個芳香環的芳香族二胺、4,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4’-二胺基二苯基丙烷、4,4’-二胺基二苯基醚、3,4’-二胺基二苯基醚、3,3’-二胺基二苯基醚、 4,4’-二胺基二苯基碸、3,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙〔4-(4-胺基苯氧基)苯基〕碸、雙〔4-(3-胺基苯氧基)苯基〕碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2’-二甲基聯苯胺、2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯(2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl；有時記載為TFMB)、4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等之具有2個以上之芳香環的芳香族二胺。此等係可單獨或組合2種以上而使用。

芳香族二胺較佳為4,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4’-二胺基二苯基丙烷、4,4’-二胺基二苯基醚、3,3’-二胺基二苯基醚、4,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙〔4-(4-胺基苯氧基)苯基〕碸、雙〔4-(3-胺基苯氧基)苯基〕碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2’-二甲基聯苯胺、2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯(TFMB)、4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯，更佳為4,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4’-二胺基二苯基丙烷、4,4’-二胺基二苯基醚、4,4’-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙〔4-(4-胺基苯氧基)苯基〕碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2’-二甲基聯苯胺、2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯(TFMB)、4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯。此等係可單獨或組合2種以上而使用。

上述二胺化合物之中，從光學薄膜之高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯 苯基結構之芳香族二胺所組成群組中之1種以上。更佳為使用選自由2,2’-二甲基聯苯胺、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4’-二胺基二苯基醚所組成群組中之1種以上，再更佳為使用2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯(TFMB)。

在樹脂之製造所使用的四羧酸化合物係可列舉：芳香族四羧酸二酐等之芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等之脂肪族四羧酸化合物等。四羧酸化合物係可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。四羧酸化合物除了二酐之外，亦可為醯氯化合物等之四羧酸化合物類似物。

芳香族四羧酸二酐之具體例係可列舉非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐、單環式之芳香族四羧酸二酐及縮合多環式之芳香族四羧酸二酐。非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐例如可列舉4,4’-氧雙鄰苯二甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2’,3,3’-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸二酐、2,2’,3,3’-聯苯基四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐(2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride)、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4’-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸二酐(有時記載為6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4’-(對-伸苯基二氧)雙鄰苯二甲酸二酐、4,4’-(間-伸苯基二氧)雙鄰苯二甲酸二酐。又，單環式之芳香族四羧酸二酐例如可列舉 1,2,4,5-苯四羧酸二酐，縮合多環式之芳香族四羧酸二酐例如2,3,6,7-萘四羧酸二酐。

此等之中，較佳可列舉4,4’-氧雙鄰苯二甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2’,3,3’-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸二酐、2,2’,3,3’-聯苯基四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4’-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4’-(對-伸苯基二氧)雙鄰苯二甲酸二酐及4,4’-(間-伸苯基二氧)雙鄰苯二甲酸二酐，更佳可列舉4,4’-氧雙鄰苯二甲酸二酐、3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸二酐、2,2’,3,3’-聯苯基四羧酸二酐、4,4’-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4’-(p-伸苯基二氧)雙鄰苯二甲酸二酐。此等係可單獨或組合2種以上而使用。

脂肪族四羧酸二酐可列舉環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。所謂環式脂肪族四羧酸二酐係具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，其具體例可列舉1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等之環烷四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3’,4,4’-四羧酸二酐及此等之位置異構物。此等係可單獨或組合2種以上而使用。非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例可列舉1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，此等 係可單獨或組合2種以上而使用。又，可組合環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐而使用。

上述四羧酸二酐之中，從光學薄膜之高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性、及低著色性之觀點而言，較佳為4,4’-氧雙鄰苯二甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸二酐、2,2’,3,3’-聯苯基四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、4,4’-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸二酐、以及此等之混合物，更佳為3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸二酐及4,4’-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸二酐、以及此等之混合物，再更佳為4,4’-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸二酐(6FDA)。

在樹脂之製造所使用的二羧酸化合物較佳為使用對苯二甲酸、4,4’-氧雙苯甲酸或此等之醯氯化合物。除了對苯二甲酸或4,4’-氧雙苯甲酸或此等之醯氯化合物以外，亦可使用其他之二羧酸化合物。其他之二羧酸化合物可列舉芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及此等類似的醯氯化合物、酸酐等，可組合2種以上而使用。具體例係可列舉：間苯二甲酸；萘二羧酸；4,4’-聯苯基二羧酸；3,3’-聯苯基二羧酸；在碳數8以下之鏈式烴中二羧酸化合物及2個苯甲酸以單鍵、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-SO₂-或者伸苯基連結而成的化合物、以及此等之醯氯化合物。具體例係以4,4’-氧雙(苯甲醯氯)、對苯二甲醯氯為較佳，以組合4,4’-氧雙(苯甲醯氯)與對苯二甲醯氯而使用為再更佳。

又，在無損光學薄膜之各種物性的範圍內，上述聚醯亞胺系樹脂除了上述四羧酸化合物以外，亦可進一步與四羧酸及三羧酸以及此等之酸酐及衍生物反應。

四羧酸係可列舉上述四羧酸化合物之酸酐的水加成物。

三羧酸化合物係可列舉芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及此等之類似的醯氯化合物、酸酐等，可組合2種以上而使用。具體例係可列舉：1,2,4-苯三羧酸之酸酐；1,3,5-苯三羧酸之醯氯化合物；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；酞酸酐與苯甲酸以單鍵、-O-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-SO₂-或者伸苯基連結而成之化合物。

在樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及/或二羧酸化合物之使用量係可依照所希望之聚醯亞胺系樹脂的各構成單元之比率而適當選擇。

在樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物之反應溫度並無特別限定，例如為5至350℃，較佳為20至200℃，更佳為25至100℃。反應時間亦無特別限定，例如為30分鐘至10小時左右。依需要，可在非活性環境或減壓之條件下進行反應。較佳的態樣係反應在常壓及/或非活性氣體環境下一邊攪拌一邊進行。又，反應較佳為在對反應為非活性的溶劑中進行。作為溶劑係只要對反應不造成影響，並無特別限定，例如可列舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇、丙二醇單甲基醚等之醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、GBL、γ-戊內酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等之酯系溶劑；丙酮、甲基乙 基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、甲基異丁基酮等之酮系溶劑；戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑；乙基環己烷等之脂環式烴溶劑；甲苯、二甲苯等之芳香族烴溶劑；乙腈等之腈系溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等之醚系溶劑；氯仿及氯苯等之含氯的溶劑；DMAc、DMF等之醯胺系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等之含硫系溶劑；碳酸伸乙基酯、碳酸伸丙基酯等之碳酸酯系溶劑；及此等之組合等。此等之中，從溶解性之觀點而言，可適合使用醯胺系溶劑。

在聚醯亞胺系樹脂之製造中的醯亞胺化步驟係可在醯亞胺化觸媒之存在下進行醯亞胺化。醯亞胺化觸媒例如可列舉：三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等之脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶、及N-丙基六氫氮雜環庚三烯(N-propyl hexahydro Azepine)等之脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷、及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等之脂環式胺(多環式)；以及吡啶、2-甲基吡啶(2-甲基吡啶)、3-甲基吡啶(3-甲基吡啶)、4-甲基吡啶(4-甲基吡啶)、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯酮吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉、及異喹啉等之芳香族胺。又，從容易促進醯亞胺化反應之觀點而言，較佳為使用醯亞胺化觸媒以及酸酐。酸酐係可列舉在醯亞胺化反應所使用的慣用之酸酐等，其具體例係可列舉乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等之脂肪族酸酐、鄰苯二甲酸等之芳香族酸酐等。

聚醯亞胺系樹脂係可藉由慣用之方法，例如過濾、濃縮、萃取、晶析、再結晶、管柱層析等之分離手段、或組合此等之分離手段而進 行分離(分離純化)，在較佳的態樣係可在包含透明聚醯胺醯亞胺樹脂之反應液中，加入大量之甲醇等醇使樹脂析出，並藉由濃縮、過濾、乾燥等而進行分離。

(上藍劑)

本發明之清漆係可包含1種或2種以上之上藍劑。清漆包含上藍劑時，光學薄膜亦會包含上藍劑。上藍劑係為了調整光學薄膜之YI值所使用，但光學薄膜包含上藍劑時，有被認為因清漆所含有的二羧酸所致的光學薄膜之經時性的黃變變得明顯之情形。因此，對於包含上藍劑之清漆係將二羧酸之含量設為既定之範圍內所產生的效果會更明顯。

上藍劑係在可見光領域之中，吸收例如橙色至黃色等之波長區域的光，並調整色相之添加劑，例如屬於染料、顏料且例如群青、紺青、鈷藍等之無機系染料或顏料，例如可列舉酞菁系上藍劑、縮合多環系上藍劑等之有機系染料或顏料等。上藍劑之種類並無特別限定，但從提高總透光率之觀點而言，吸光波峰之半值寬較佳為使用70nm以上200nm以下，更佳為70nm以上195nm以下，再更佳為70nm以上190nm以下之上藍劑。

上藍劑並無特別限定，但從耐熱性、耐光性、及溶解性之觀點而言，以及容易提高所得到的光學薄膜之透明性的觀點而言，以縮合多環系上藍劑為較佳，以蒽醌系上藍劑為更佳。以往，使用如此的上藍劑時，雖然具有容易提高所得到的光學薄膜之透明性的優點，但有被認為因清漆所含有的二羧酸所致的光學薄膜之經時性的黃變變得明顯之情形。若依據本發明，即使使用如上述之上藍劑，亦可有效地抑制如此的黃變。

作為縮合多環系上藍劑例如可列舉蒽醌系上藍劑、靛藍系上藍劑、酞菁系上藍劑。

蒽醌系上藍劑係含有以式(a)所示之蒽醌環的上藍劑：

作為蒽醌系上藍劑，較佳可列舉以式(a1)所示之化合物：

[式(a1)中，M¹係表示OH、NHR^a或NR^aR^b，M²係表示NHR^c或NR^cR^d，R^a、R^b、R^c及R^d互相獨立地表示碳數1至6之直鏈狀或分枝狀烷基、或被碳數1至6之直鏈狀或分枝狀烷基取代後之苯基。]

及以式(a2)所示之化合物：

[式(a2)中，M³及M⁴互相獨立地表示OH、NH₂、NHR^a或NR^aR^b，較佳為表示NH₂，R^a及R^b係如上述定義，R^e係碳數1至6之直鏈狀或分枝狀烷基，而該烷基之至少1個-C-為可被-O-取代之基，較佳為表示碳數1至6之直鏈狀或分枝狀烷基之1個-C-被-O-取代後之基。]

在本發明之較佳的一態樣中，從容易防止從UV照射所產生的黃變之觀點、及、容易提高光學薄膜之透明性的觀點而言，本發明之清漆較佳係含有選自由以式(a1)所示之化合物及以式(a2)所示之化合物所組成群組中之至少1種化合物之上藍劑，更佳為含有以式(a2)所示之至少1種化合物之上藍劑。

作為蒽醌系上藍劑，更佳可列舉下列之以式(a3)至(a6)所示之化合物。

蒽醌系上藍劑亦可取自市售品。市售品例如可列舉Plast Blue 8510、Plast Blue 8514、Plast Blue 8516、Plast Blue 8520、Plast Blue 8540、Plast Blue 8580、Plast Blue 8590(以上，任一者皆為有本化學工業製)等，例如可列舉Macrolex Violet B、Macrolex Violet 3R、Macrolex Violet RR(以上，任一者皆為Bayer製)等，例如Diaresin Blue B、Diaresin Violet D、Diaresin Blue J、Diaresin Blue N(以上，任一者皆為三菱化學 股份有限公司製)等、例如Sumiplast Violet B、Sumiplast Blue OA、Sumiplast Blue GP、Sumiplast Dark Green G、Sumiplast Blue S、Sumiplast Green G(以上，任一者皆為住友化學股份有限公司製)、PET BLUE 2000(三井Chemical Fine股份有限公司製)等。

靛藍系上藍劑係含有吲哚酚(Indoxy)或硫代吲哚酚之上藍劑。靛藍系上藍劑亦可取自市售品。市售品例如可列舉Dystar Indigo 4B Coll Liq、DyStar Indigo Coat、Dystar Indigo Vat(以上，任一者皆為Dystar製)等。

酞菁系上藍劑係含有4個酞酸醯亞胺以氮原子交聯而成之環狀結構的上藍劑。酞菁系上藍劑亦可取自市售品。市售品例如可列舉Chromofine Blue、Chromofine Green(以上，任一者皆為大日本製化工業股份有限公司製)、Pigment Blue 15、Pigment Blue 16(以上，任一者皆為東京化成工業股份有限公司製)等。

從耐熱性、耐光性、及溶解性之觀點、以及容易提高所得到的光學薄膜之透明性的觀點而言，本發明之清漆係以含有蒽醌系上藍劑為較佳，以含有具有上述式(a)所示之結構的至少1種上藍劑為更佳，以含有具有上述式(a1)或(a2)所示之結構的至少1種上藍劑為再更佳，以含有選自由上述式(a3)至(a6)所示之化合物所組成群組中之至少1種上藍劑為特別佳。又，式(a3)至(a6)所示之化合物亦可取自市售品。作為市售品可列舉Sumiplast Violet B(式(a3)所示之化合物、吸光波峰之半值寬：117nm)、PET BLUE 2000(式(a4)所示之化合物、吸光波峰之半值寬：113nm)、 Sumiplast Blue OA(式(a5)所示之化合物)及Sumiplast Blue GP(式(a6)所示之化合物)。

上藍劑係可單獨使用1種，亦可併用2種以上。從維持高的總透光率之觀點而言，上藍劑之總使用量(調配量)係以相對少者為較佳，使用之上藍劑的種類亦以少者為較佳。

本發明之清漆含有上藍劑時，上藍劑之含量係以聚醯亞胺膜之總質量作為基準，較佳為5ppm以上，更佳為8ppm以上，再更佳為10ppm以上。上藍劑之含量為上述之下限以上時，因使YI充分地降低並提高辨識性，故為較佳。又，上述含量較佳為150ppm以下，更佳為120ppm以下，再更佳為100ppm以下。上藍劑之含量為上述之上限以下時，不會使總透光率過度降低，而容易提高辨識性，故為較佳。

(填充劑)

本發明之清漆係可包含填充劑。作為填充劑例如可列舉有機粒子、無機粒子等，較佳可列舉無機粒子。無機粒子係可列舉二氧化矽、氧化鋯、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物(有時記載為ITO)、氧化銻、氧化鈰等之金屬氧化物粒子、氟化鎂、氟化鈉等之金屬氟化物粒子等，此等之中，從容易提高所得到的光學薄膜之耐衝撃性的觀點而言，較佳可列舉二氧化矽粒子、氧化鋯、氧化鋁，更佳可列舉二氧化矽粒子。此等填充劑係可單獨或組合2種以上而使用。

填充劑(較佳為二氧化矽粒子)之平均一次粒徑為10nm以上，更佳為15nm以上，再更佳為20nm以上，較佳為100nm以下，更佳為90nm以下，再更佳為80nm以下，又再更佳為70nm以下，特別佳為60nm 以下，特別更佳為50nm以下，又特別再更佳為40nm以下。若二氧化矽粒子之平均一次粒徑為上述範圍，則可抑制二氧化矽粒子之凝聚，並容易提高所得到的光學薄膜之光學特性，填充劑之平均一次粒徑係可藉由BET法測定。又，依據穿透型電子顯微鏡或掃描型電子顯微鏡之圖像分析，可測定一次粒徑(亦稱為平均一次粒徑)。

本發明之清漆含有填充劑(較佳為二氧化矽粒子)時，填充劑(較佳為二氧化矽粒子)之含有率，相對於清漆中之固體成分，通常為0.1質量%以上，較佳為1質量%以上，更佳為5質量%以上，再更佳為10質量%以上，又再更佳為20質量%以上，特別較佳為30質量%以上，較佳為60質量%以下。若填充劑之含量為上述之下限以上，則容易提高所得到的光學薄膜之彈性模數。又，若填充劑之含量為上述之上限以下，則可提高清漆之保管安定性，並容易提高所得到的光學薄膜之光學特性。

(紫外線吸收劑)

本發明之清漆係可含有1種或2種以上之紫外線吸收劑。紫外線吸收劑係可適當選自在樹脂材料之領域一般用作為紫外線吸收劑者。紫外線吸收劑係可包含吸收400nm以下之波長的光之化合物。作為紫外線吸收劑例如可列舉選自由二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、苯并三唑系化合物、及三嗪系化合物所組成群組中之至少1種化合物。藉由使從本發明之清漆所得到的光學薄膜含有紫外線吸收劑，因抑制聚醯亞胺系樹脂之劣化，故可提高光學薄膜之辨識性。

又，在本說明書中，所謂「系化合物」係指該「系化合物」所賦予的化合物之衍生物。例如，所謂「二苯甲酮系化合物」係指具有作為母體骨架之二苯甲酮、及鍵結於二苯甲酮之取代基的化合物。

本發明之清漆含有紫外線吸收劑時，相對於清漆之固體成分，紫外線吸收劑之含有率較佳為1質量%以上，更佳為2質量%以上，再更佳為3質量%以上，較佳為10質量%以下，更佳為8質量%以下，再更佳為6質量%以下。適合的含有率係依使用的紫外線吸收劑而異，但若將紫外線吸收劑之含有率調節成400nm之透光率為20至60%左右，則可提高光學薄膜之耐光性，同時獲得透明性高的光學薄膜。

(其他之添加劑)

本發明之清漆係可更含有其他之添加劑。其他之成分例如可列舉抗氧化劑、離型劑、安定劑、阻燃劑、pH調整劑、二氧化矽分散劑、潤滑劑、增黏劑、及調平劑等。

含有其他之添加劑時，相對於清漆之固體成分，其含有率較佳為0.01質量%以上20質量%以下，更佳為0.01質量%以上10質量%以下。

〔光學薄膜〕

本發明係亦提供一種由本發明之清漆所形成的光學薄膜。本發明之光學薄膜係可藉由使本發明之清漆以例如後述之方法進行製膜來製造。該光學薄膜係因柔軟性、彎曲耐性及表面硬度優異，故適合作為圖像顯示裝置之前面板，尤其可撓性顯示器之前面板(有時亦稱為窗口膜)。光學薄膜係可 為單層，亦可為複層。光學薄膜為複層時，各層係可為相同之組成，亦可為相異的組成。

藉由對本發明之清漆進行澆鑄製膜而獲得光學薄膜時，相對於光學薄膜之總質量，在光學薄膜中之聚醯亞胺系樹脂的含有率較佳為40質量%以上，更佳為50質量%以上，再更佳為70質量%以上，特別佳為80質量%以上，非常佳為90質量%以上。若聚醯亞胺系樹脂之含有率為上述之下限以上，則光學薄膜之彎曲耐性為良好。又，相對於光學薄膜之總質量，在光學薄膜中之聚醯亞胺系樹脂的含有率通常為100質量%以下。

由本發明之清漆所得到的光學薄膜之厚度係可依照用途而適當調整，但通常為10至1,000μm，較佳為15至500μm，更佳為20至400μm，再更佳為25至300μm。又，在本發明中，厚度係可藉由接觸式之Digimatic Indicator進行測定。

從本發明之清漆所得到的光學薄膜之總透光率Tt較佳為70%以上，更佳為80%以上，再更佳為85%以上，又再更佳為89%以上，特別佳為90%以上。若光學薄膜之總透光率Tt為上述之下限以上，則將光學薄膜組裝於圖像顯示裝置之時，容易確保充分的辨識性。又，光學薄膜之總透光率Tt的上限值通常為100%以下。光學薄膜之霧度較佳為3.0%以下，更佳為2.0%以下，再更佳為1.0%以下，又再更佳為0.8%以下，特別佳為0.5%以下，特別更佳為0.3%以下。若光學薄膜之霧度為上述的上限以下，則將光學部薄膜組裝於圖像顯示裝置等之可撓性電子裝置時，容易確保充分的辨識性。又，上述霧度之下限值並無特別限定，只要為0%以 上即可。又，總透光率及霧度係可依據JIS K 7105：1981而使用霧度電腦來測定。

由本發明之清漆所得到的光學薄膜之YI值較佳為8以下，更佳為5以下，再更佳為3以下，又再更佳為2.8以下。若光學薄膜之YI值為上述之上限以下，則透明性成為良好，例如使用於圖像顯示裝置之前面板時，可有助於高的辨識性。又，YI值通常為-5以上，較佳為-2以上。又，YI值係使用紫外可見近紅外分光光度計而進行對300至800nm之光的穿透率測定，求得3刺激值(X、Y、Z)，依據YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y之式而算出。例如可藉由實施例記載之方法進行測定。從本發明之清漆所得到的光學薄膜係在24小時之UV照射後，例如以40W照射313nm之UV光24小時後，以具有上述之範圍的YI值為較佳。

(光學薄膜之製造方法)

可使用本發明之清漆，製造如上述之光學薄膜。光學薄膜之製造方法並無特別限定，例如可藉由至少包含以下之步驟的光學薄膜之製造方法進行製造：

(a)製備二羧酸之含量為10ppm以下之溶劑的步驟(溶劑製備步驟)；

(b)混合在步驟(a)製備的溶劑與聚醯亞胺系樹脂，調製成二羧酸之含量為10ppm以下之清漆的步驟(清漆調製步驟)；

(c)將所得到的清漆塗佈於支撐體上，而形成塗膜之步驟(塗佈步驟)；及、

(d)使塗膜乾燥，而獲得光學薄膜之步驟(形成步驟)。

本發明亦提供一種由本發明之清漆所形成的光學薄膜、及如上述之光學薄膜的製造方法。

在溶劑製備步驟中，例如作為提高清漆所含有的溶劑之純度的方法，較佳係以上述記載之方法純化溶劑，製備成二羧酸之含量為10ppm以下之溶劑。溶劑製備步驟係可更包含確認該溶劑所含有的二羧酸之含量為10ppm以下之步驟。

在上述之製造方法中，作為清漆所含有的溶劑以外之成分，具體而言為聚醯亞胺系樹脂、視情況所含有的其他之添加劑等較佳係使用純度高的原料。此時，對於清漆所含有的溶劑，藉由將二羧酸之含量設為10ppm以下，可將使清漆所含有的二羧酸之含量設為10ppm以下。

在清漆調製步驟中，使在步驟(a)製備之溶劑、與聚醯亞胺系樹脂與視情況之其他的添加劑一起混合，調製二羧酸之含量為10ppm以下之清漆。該聚醯亞胺系樹脂較佳為在製造聚醯亞胺系樹脂後，藉由以充分量之溶劑進行洗淨等的純化步驟而得到之聚醯亞胺系樹脂。

在塗佈步驟中，使在清漆調製步驟得到的清漆塗佈於支撐體上，而形成塗膜。塗膜之形成係例如可藉由公知之捲至捲(roll to roll)或批式方式，在樹脂基材、SUS輸送帶、或玻璃基材等之支撐體上，藉由垂流成形等而形成塗膜來進行。

在形成步驟中，可藉由使塗膜進行乾燥，並從基材剝離，以形成光學薄膜。在剝離後亦可進一步進行使光學薄膜乾燥之乾燥步驟。塗膜之乾燥通常可以50至350℃之溫度進行。依需要，可在非活性環境或減壓之條件下進行塗膜之乾燥。

可在光學薄膜之至少一表面，進行施予表面處理的表面處理步驟。作為表面處理係例如可列舉UV臭氧處理、電漿處理、及電暈放電處理。

樹脂基材之例係可列舉SUS等之金屬帶、PET薄膜、PEN薄膜、聚醯亞胺膜、及聚醯胺醯亞胺膜等。其中，從耐熱性優異之觀點而言，以PET薄膜、PEN薄膜、聚醯亞胺膜、及環他之聚醯胺醯亞胺膜為較佳。再者，從與光學薄膜之密著性及成本之觀點而言，以PET薄膜為更佳。

從容易製造YI經降低之光學薄膜的觀點而言，較佳為藉由至少包含下述步驟的製造步驟而製造光學薄膜：使本發明之清漆塗佈於支撐體上，而形成塗膜之步驟；及，使塗膜以100℃以上240℃以下之溫度乾燥，而獲得光學薄膜的步驟。塗膜之乾燥溫度較佳為100至240℃，更佳為120至220℃，再更佳為150至220℃。

可使用本發明之清漆而製造的光學薄膜較佳為具有高的彈性模數與柔軟性。在本發明之適合的實施態樣中，上述光學薄膜之彈性模數較佳為3.0GPa以上，更佳為4.0GPa以上，再更佳為5.0GPa以上，特別佳為6.0GPa以上，較佳為10.0GPa以下，更佳為8.0GPa以下，再更佳為7.0GPa以下。若光學薄膜之彈性模數為上述之上限以下，則可撓性顯示器彎曲時，可抑制因上述光學薄膜所造成的其他構件之損傷。彈性模數係例如可使用島津製作所股份有限公司製高壓釜AG-IS，使寬度10mm之試驗片以夾具間距離50mm、拉伸速度20mm/分鐘之條件測定S-S曲線，並從其斜率進行測定。

上述之光學薄膜較佳為具有優異的彎曲耐性。在本發明之適合的實施態樣中，光學薄膜在R=1mm、135°以加重0.75kgf、速度175cpm測定時產生破裂為止前之往返彎曲次數，較佳為10,000次以上，更佳為20,000次以上，再更佳為30,000次以上，又再更佳為40,000次以上，特別佳為50,000次以上。

若光學薄膜之往返彎曲次數為上述之下限以上，則可更抑制使光學薄膜彎曲時會產生的皺褶。又，光學薄膜之往返彎曲次數並無限制，但通常只要為1,000,000次之彎曲，即為充分實用。往返彎曲次數係例如可以東洋精機製作所股份有限公司製MIT耐折疲勞試驗機(型號0530)使用厚度50μm、寬度10mm之試驗片(光學薄膜)而求得。

上述光學薄膜係可顯現優異的透明性。因此，上述光學薄膜極可用作為圖像顯示裝置，尤其窗口膜。在本發明之適合的實施態樣中，光學薄膜依據JIS K 7373：2006之YI值較佳為5以下，更佳為3以下，再更佳為2.5以下，又再更佳為2.0以下。YI值為上述之上限以下的光學薄膜係可有助於顯示裝置等之高的辨識性。又，上述光學薄膜之YI值較佳為0以上。

〔光學積層體〕

本發明之光學薄膜係亦可在至少一面積層1個以上之功能層而形成光學積層體。作為功能層例如可列舉紫外線吸收層、硬塗層、底漆層、阻氣層、黏著層、色相調整層、折射率調整層等。功能層係可單獨或組合二種以上而使用。

紫外線吸收層係具有紫外線吸收之功能的層，例如，由選自紫外線硬化型之透明樹脂、電子線硬化型之透明樹脂及熱硬化型之透明樹脂的主材，以及分散於該主材之紫外線吸收劑所構成。

在本發明之光學薄膜的至少一面係可設有硬塗層。硬塗層之厚度並無特別限定，例如可為2至100μm。若前述硬塗層之厚度為前述之範圍，則容易提高耐衝撃性。硬塗層可使包含藉由活性能量線照射、或者賦予熱能量而形成交聯結構之反應性材料的硬塗組成物硬化而形成，並以活性能量線照射所產生者為較佳。活性能量線係定義為可使產生活性物種之化合物進行分解而產生活性物種的能量線，可列舉可見光、紫外線、紅外線、X線、α線、β線、γ線及電子線等，較佳可列舉紫外線。前述硬塗組成物係含有自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。

前述自由基聚合性化合物係具有自由基聚合性基之化合物。前述自由基聚合性化合物具有之自由基聚合性基只要為可產生自由基聚合反應之官能基即可，可列舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言，可列舉乙烯基、(甲基)丙烯醯基等。又，前述自由基聚合性化合物為具有2個以上之自由基聚合性基時，此等自由基聚合性基係可分別為相同，亦可相異。從提高硬塗層之硬度的點而言，在1分子中具有前述自由基聚合性化合物之自由基聚合性基的數量係較佳為2個以上。從反應性高度之點而言，前述自由基聚合性化合物較佳可列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言係可列舉被稱為在1分子中具有2至6個之(甲基)丙烯醯基的多官能丙烯酸酯單體之化合物或被稱為環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙 烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯之分子內具有數個之(甲基)丙烯醯基的分子量為從數百至數千之寡聚物，較佳可列舉選自環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯之1種以上。

前述陽離子聚合性化合物係具有環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基等之陽離子聚合性基的化合物。從提高硬塗層之硬度的點而言，在1分子中具有前述陽離子聚合性化合物之陽離子聚合性基的數量較佳為2個以上，更佳為3個以上。

又，前述陽離子聚合性化合物，尤其較佳為具有環氧基及氧雜環丁烷基之至少1種化合物作為陽離子聚合性基。從伴隨聚合反應之收縮小的點而言，環氧基、氧雜環丁烷基等之環狀醚基為較佳。又，在環狀醚基之中，具有環氧基的化合物係具有下列之優點：容易取得各種結構之化合物；不會對所得到的硬塗層之耐久性造成不良影響，而與自由基聚合性化合物之相溶性亦容易控制。又，在環狀醚基之中，氧雜環丁烷基係具有下列之優點：與環氧基相比，聚合度容易變高，且為低毒性，並使從所得到的硬塗層之陽離子聚合性化合物所得到的網絡形成速度加快，在與自由基聚合性化合物混合在一起的區域，亦不會使未反應之單體殘存於膜中而形成獨立之網絡等。

具有環氧基之陽離子聚合性化合物例如可列舉：具有脂環族環之多元醇的聚縮水甘油基醚、或藉由使含有環己烯環、環戊烯環的化合物以過氧化氫、過酸等之適當的氧化劑進行環氧化所得到的脂環族環氧樹脂；脂肪族多元醇、或其環氧烷加成物之聚縮水甘油基醚、脂肪族長鏈多元酸之聚縮水甘油基酯、縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯之均聚物、共聚物等之脂肪族環 氧樹脂；雙酚A、雙酚F或氫化雙酚A等之雙酚類、或藉由此等之環氧烷加成物、己內酯加成物等之衍生物、與表氯醇之反應所製造的縮水甘油基醚、及酚醛清漆環氧樹脂等且衍生自雙酚類之縮水甘油基醚型環氧樹脂等。

前述硬塗組成物係可更包含聚合起始劑。聚合起始劑係可列舉自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇而使用。此等之聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱之至少一種而被分解，產生自由基或陽離子而進行自由基聚合與陽離子聚合者。

自由基聚合起始劑係只要可釋出藉由活性能量線照射及加熱之至少任一者起始自由基聚合之物質即可。例如，作為熱自由基聚合起始劑係可列舉過氧化氫、過苯甲酸等之有機過氧化物、偶氮雙丁腈等之偶氮化合物等。

作為活性能量線自由基聚合起始劑係有以分子之分解生成自由基之Type1型自由基聚合起始劑、及與三級胺共存而以脫氫型反應生成自由基之Type2型自由基聚合起始劑，此等係可單獨或併用而使用。

陽離子聚合起始劑係只要可釋出藉由活性能量線照射及加熱之至少任一者起始陽離子聚合的物質即可。陽離子聚合起始劑係可使用芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽、環戊二烯基鐵(II)錯合物等。此等係因結構之差異，不論是活性能量線照射或加熱之任一者或兩皆可起始陽離子聚合。

相對於前述硬塗組成物整體100質量%，前述聚合起始劑較佳可包含0.1至10質量%。若前述聚合起始劑之含量為前述之範圍，可使硬化充分進行，可使最後所得到的塗膜之機械的物性或密著力設為良好的範圍，又，有不易發生因硬化收縮所產生的接著力不良或龜裂現象及翹曲現象的傾向。

前述硬塗組成物係可更包含選自由溶劑及添加劑所組成群組中之一種以上。

前述溶劑係可使前述聚合性化合物及聚合起始劑溶解或分散者，在不損及本發明之效果的範圍，若為已知作為本技術領域之硬塗組成物的溶劑之溶劑皆可使用。

前述添加劑係可更包含無機粒子、調平劑、安定劑、界面活性劑、抗靜電劑、潤潤滑劑、防汚劑等。

黏著層係具有黏著性之功能的層，並具有使光學薄膜接著於其他構件的功能。黏著層之形成材料係可使用通常為人所知者。例如可使用熱硬化性樹脂組成物或光硬化性樹脂組成物。此時，藉由在事後供給能量，可使樹脂組成物進行高分子化並硬化。

黏著層係可為被稱為壓敏性接著劑(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)之藉由按壓貼黏於對象物之層。壓敏性接著劑係可為屬於「在常溫下具有黏著性，且以輕的壓力接著於被附材之物質」(JIS K6800)之黏著劑，亦可為屬於「使特定成分包容於保護被膜(微膠囊)且藉由適當的手段(壓力、熱等)破壞被膜前係可保持安定性之接著劑」(JIS K6800)之微膠囊型接著劑。

色相調整層係具有色相調整之功能的層，且為可使光學積層體調整成目的之色相之層。色相調整層係例如含有樹脂及著色劑之層。作為該著色劑係例如可列舉：氧化鈦、氧化鋅、氧化鐵紅、氧化鈦系燒製顏料、群青、鋁酸鈷、及碳黑等之無機顏料；偶氮系化合物、喹吖酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹 酞酮系化合物、陰丹士林(threne)系化合物、及吡咯并吡咯二酮系化合物等之有機顏料；硫酸鋇、及碳酸鈣等之體質顏料；以及鹼性染料、酸性染料、及媒染染料等之染料。

折射率調整層係具有折射率調整之功能的層，例如具有與光學薄膜相異的折射率，且可對光學積層體賦予既定之折射率的層。折射率調整層係例如可為被適當選擇之樹脂、及視情形更含有顏料之樹脂層，亦可為金屬之薄膜。作為調整折射率之顏料例如可列舉氧化矽、氧化鋁、氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化鋯及氧化鉭。該顏料之平均一次粒徑可為0.1μm以下。藉由將顏料之平均一次粒徑設為0.1μm以下，可防止穿透折射率調整層之光的漫反射，並防止透明度之降低。被使用於折射率調整層之金屬例如可列舉氧化鈦、氧化鉭、氧化鋯、氧化鋅、氧化錫、氧化矽、氧化銦、氮氧化鈦、氮化鈦、氮氧化矽、氮化矽等之金屬氧化物或金屬氮化物。

光學積層體係可更含有保護膜。保護膜係可被積層於光學薄膜之單面或雙面。在光學薄膜之單面具有功能層時，保護膜係可被積層於光學薄膜側之表面或功能層側之表面，亦可被積層於光學薄膜側與功能層側之兩者。在光學薄膜之雙面具有功能層時，保護膜係可被積層於一者之功能層側的表面，亦可被積層於兩者之功能層的表面。保護膜係用以暫時保護光學薄膜或功能層之表面的薄膜，只要為可保護光學薄膜或功能層之表面的可剝離之薄膜，並無特別限定。作為保護膜例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚酯系樹脂膜；聚乙烯、聚丙烯膜等之聚烯烴系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜等，較佳為選自 由聚烯烴系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜及丙烯酸系樹脂膜所組成群組。光學積層體具有2個保護膜時，各保護膜係可為相同或相異。

保護膜之厚度並無特別限定，通常為10至100μm，較佳為10至80μm，更佳為10至50μm。光學積層體具有2個保護膜時，各保護膜之厚度可為相同，亦可為相異。

在本發明之一實施態樣中，光學積層體係可為在卷芯捲繞成卷狀之形態，該形態稱為積層體薄膜捲。構成卷芯之材料例如可列舉：聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、酚樹脂、三聚氰胺樹脂、矽樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、ABS樹脂等之合成樹脂；鋁等之金屬；纖維強化塑膠(FRP：在塑膠含有玻璃纖維等之纖維而提高強度之複合材料)等。卷芯係形成圓筒狀或圓柱狀等之形狀，其直徑例如為80至170mm。又，積層體薄膜捲之直徑，亦即卷取後之直徑並無特別限定，通常為200至800mm。在本發明之一實施態樣中，積層體薄膜捲係在光學薄膜之製造步驟中，不從光學薄膜不剝離支撐體，而具有支撐體、光學薄膜以及任意之功能層及保護膜的積層體可具有在卷芯卷繞成卷狀之形態。積層體薄膜捲係在連續性的製造中，較多為因間隔物等其他的限制而暫時以薄膜捲之形態進行保管，因以積層體薄膜捲之形態會更強烈地捲緊積層體，故支撐體上之白濁原因物質容易被轉印至光學薄膜上。然而，若使用具有既定之對水接觸角的支撐體，來自支撐體之白濁物質不易轉印至光學薄膜，即使其被積層體薄膜捲捲緊，亦不易產生白濁。

上述之光學薄膜係可具備紫外線吸收層、黏著層、色相調整層、折射率調整層等之功能層、硬塗層。

〔圖像顯示裝置〕

本發明之光學薄膜係由本發明之清漆所形成，且具有優易的光學特性，故可適合用作為圖像顯示裝置之窗口膜。本發明之光學薄膜係可配置於圖像顯示裝置，尤其可撓性顯示器之辨識側表面作為前面板。該前面板係具有保護可撓性顯示器內之圖像表示元件的功能。具備上述之光學薄膜的圖像顯示裝置係可具有高的柔軟性及彎曲耐性，同時可具有高的表面硬度，故彎曲時不損傷其他之構件，又，在光學薄膜本身亦不易產生皺摺，再者，亦可有利地抑制表面之刮傷。

圖像顯示裝置係可列舉電視、智慧型手機、行動電話、導航機、平板電腦、攜帶型遊戲機、電子紙、指示器、布告欄、時鐘、及智慧型手錶等之可穿戴裝置等。作為可撓性顯示器係具有可撓性特性之圖像顯示裝置，例如可列舉電視、智慧型手機、行動電話、智慧型手錶等。

在本發明之一實施態樣中，圖像顯示裝置係可包含選自由本發明之光學薄膜、以及偏光板、觸控感測器及顯示面板所組成群組中之至少1種。例如可為在該光學薄膜之單面隔著、或者不隔著透明接著劑或透明黏著劑，而積層偏光板、觸控感測器及顯示面板之圖像顯示裝置。上述圖像顯示裝置係亦可具備邊框，亦可具有後述之遮光圖型。又，本發明之光學薄膜係亦可被組裝於圖像顯示裝置作為上述光學積層體，以下，在圖像顯示裝置所含有的光學薄膜係可為上述光學積層體。

在本發明之一實施態樣中，圖像顯示裝置係可在前述光學薄膜或前述偏光板之至少一面具備包圍邊框並印刷之有顏色的遮光圖型，且該遮光圖型係可為單層或複層之形態。前述偏光板係可橫跨前述非顯示區 域或邊框而連續地延長，亦可為包含積層或貼合於聚乙烯醇系偏光片及前述聚乙烯醇系偏光片之至少一面的保護層之一般的偏光板。

在本發明之一實施態樣中，係在前述光學薄膜之一面使偏光板及觸控感測器一體化的結構中，偏光板及觸控感測器之配置順序係不受限定，亦可依序配置光學薄膜、偏光板、觸控感測器及顯示面板，亦可依序配置光學薄膜、觸控感測器、偏光板及顯示面板。依序配置光學薄膜、偏光板、觸控感測器及顯示面板時，係從辨識側觀看圖像顯示裝置時，觸控感測器存在於偏光板之下側，故有不易辨識觸控感測器之圖型的優點。如此的情形，觸控感測器之基板較佳為正面相位差為±2.5nm以下。就無延伸膜而言，作為該基板之原材料係例如可為選自由三乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素、環烯烴、環烯烴共聚物、聚降茨烯共聚物等之原材料所組成群組中之1個以上的原材料之薄膜。另一方面，可具有在無觸控感測器之基板的情況下僅將圖型轉印至光學薄膜及偏光板之結構。

前述偏光板及觸控感測器係可藉由透明黏著劑層或透明接著劑層而配置於光學薄膜與顯示面板之間，但適合為透明黏著劑層。依序配置光學薄膜、偏光板、觸控感測器及顯示面板時，透明黏著層可位置在光學薄膜與偏光板之間、觸控感測器與顯示面板之間。被依序配置光學薄膜、觸控感測器、偏光板及顯示面板時，可使透明黏著劑層配置於光學薄膜與觸控感測器之間、觸控感測器與偏光板之間、偏光板與顯示面板之間。

前述透明黏著層之厚度並無特別限定，例如可為1至100μm。在該透明黏著劑層中，較佳為屬於下半部之顯示面板側的透明黏著劑層之厚度為屬於上半部之光學薄膜側的透明黏著劑層之厚度以上，且在-20至 80℃下黏彈性為0.2MPa以下。此時，可降低因觸控感測器與顯示面板間之干渉而產生的雜訊，並可緩和彎曲時之界面應力而抑制上下部之構件的破壞。從抑制透明黏著劑之凝聚破壞的同時緩和界面應力之面而言，更佳為前述黏彈性可為0.01至0.15MPa。

<偏光板>

前述偏光板係例如可包含選自偏光片、以及依需要之支撐體、配向膜、相位差塗佈層、接著劑層、黏著劑層及保護層之至少1種。前述偏光板之厚度並無特別限定，例如可為100μm以下。若厚度為100μm以下，柔軟性不易降低。在前述範圍內，例如可為5至100μm。

前述偏光片係可為薄膜型偏光片，該薄膜型偏光片係使聚乙烯醇系薄膜藉由包含膨潤、染色、交聯、延伸、水洗、乾燥等階段的步驟所製造之該領域通常所使用者；前述偏光片亦可為塗佈型偏光片，該塗佈型偏光片係塗佈包含聚合性液晶及二色性染料之偏光塗佈層形成組成物所形成者(有時稱為偏光塗佈層)。前述偏光塗佈層(有時僅稱為偏光層)係例如可在支撐體上塗佈配向膜形成組成物，並賦予配向性而形成配向膜，在前述配向膜上塗佈包含聚合性液晶化合物及二色性染料之偏光塗佈層形成組成物，形成液晶塗佈層來製造。相較於包含藉由接著劑貼附在膜型偏光片之雙面的保護層之偏光板，如此的偏光塗佈層係可形成薄的厚度。前述偏光塗佈層之厚度係可為0.5至10μm，較佳可為2至4μm。前述支撐體係可使用上述例示作為保護膜之高分子膜。

(配向膜)

前述配向膜係可塗佈配向膜形成組成物而形成。配向膜形成組成物係可包含在該領域通常所使用之配向劑、光聚合起始劑及溶劑。作為前述配向劑並無特別限制，而可使用在該領域通常所使用的配向劑。例如可使用聚丙烯酸酯系高分子、聚醯胺酸、聚醯亞胺系高分子或包含肉桂酸酯基之高分子作為配向劑，應用光配向時，較佳為使用包含桂皮酸酯基之高分子。作為溶劑例如可列舉甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單甲基醚等之醇溶劑、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、GBL、丙二醇甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等之酯溶劑、丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮、甲基異丁基酮等之酮溶劑、戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑、甲苯、二甲苯等之芳香族烴溶劑、乙腈等之腈溶劑、四氫呋喃、二甲氧基乙烷等之醚溶劑、及氯仿、氯苯等之氯化烴溶劑等。溶劑係可單獨或組合二種以上而使用。

前述配向膜形成組成物之塗佈例如可列舉旋轉塗佈法、擠壓成形法、浸漬塗佈、垂流塗佈、噴霧塗佈、輥塗佈、凹版塗佈、微凹版塗佈等，較佳為使用線內式塗佈方式。前述配向膜形成組成物經塗佈及依需要而乾燥後係進行配向處理。前述配向處理係無限制而可採用在該領域周知之各式各樣的方法，較佳可使用光配向膜化。光配向膜通常係在支撐體上塗佈包含具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑的光配向膜形成用組成物，偏光較佳為藉由照射偏光UV所得到者。光配向膜係藉由選擇進行照射之偏光的偏光方向，就可任意地控制配向規制力之方向的點而言，為再更佳。

前述光配向膜之厚度通常為10至10,000nm，較佳為10至1,000nm，更佳為10至500nm。若光配向膜之厚度為前述範圍，可充分顯現配向規制力。

(偏光塗佈層)

前述偏光塗佈層係可塗佈偏光塗佈層形成組成物而形成。具體而言，偏光塗佈層形成組成物為包含二色性色素、以及作為主體化合物之1種以上之聚合性液晶(以下，有時稱為聚合性液晶(B))的聚合性液晶組成物(以下，有時稱為聚合性液晶組成物B)。

所謂「二色性色素」係意指具有下列性質之色素：在分子之長軸方向的吸光度與在短軸方向之吸光度為相異。若為具有如此的性質者，二色性色素並無限制，可為染料，亦可為顏料。可組合2種以上之染料而使用，亦可組合2種以上之顏料而使用，亦可組合染料與顏料而使用。

二色性色素較佳為在300至700nm之範圍具有極大吸收波長(λ_MAX)。如此的二色性色素係可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素，較佳為偶氮色素。作為偶氮色素係可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、參偶氮色素、肆偶氮色素及二苯基乙烯偶氮色素，較佳可列舉雙偶氮色素及參偶氮色素。

聚合性液晶(B)顯示之液晶狀態係以層列狀相為較佳，就可製造配向秩序度更高的偏光層之點而言，以高階層列狀相為更佳。顯示層列狀相之聚合性液晶(B)稱為聚合性層列狀液晶化合物。聚合性液晶(B)係可單獨、或組合而使用。又，組合2種以上之聚合性液晶時，較佳為至少1種為聚合性液晶(B)，更佳為2種以上為聚合性液晶(B)。藉由組合此等， 有時即使為液晶-結晶相轉移溫度以下之溫度，亦可暫時保持液晶性。聚合性液晶(B)係例如以Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)或日本專利第4719156號等記載之公知方法來製造。在聚合性液晶組成物B中之二色性色素的含量係可依照二色性色素之種類等而適當地調節，但相對於聚合性液晶(B)100質量份，較佳為0.1至50質量份，更佳為0.1至20質量份，再更佳為0.1至10質量份。若二色性色素之含量為前述範圍內，可在不擾亂聚合性液晶(B)之配向的情況下使其聚合，且阻礙聚合性液晶(B)之配向的傾向小。

聚合性液晶組成物B較佳為包含溶劑。一般，層列狀液晶化合物因黏度高，故容易塗佈包含溶劑之聚合性液晶組成物，結果較多容易形成偏光膜的情形。作為溶劑係可列舉與前述之配向性聚合物組成物所含有的溶劑為相同者，可依照聚合性液晶(B)及二色性色素之溶解性而適當地選擇。相對於聚合性液晶組成物B之總量，溶劑之含量較佳為50至98質量%。換言之，相對於聚合性液晶組成物B之總量，在聚合性液晶組成物B中之固體成分較佳為2至50質量%。

聚合性液晶組成物B較佳為含有1種以上之調平劑。調平劑係具有調整組成物B之流動性，使藉由塗佈聚合性液晶組成物B所得到的塗佈膜形成更平坦之功能，具體而言，可列舉界面活性劑。聚合性液晶組成物B含有調平劑時，相對於聚合性液晶100質量份，其含量較佳為0.05至0.05質量份，更佳為0.05至3質量份。若調平劑之含量為前述之範圍內，容易使聚合性液晶水平配向，又，有所得到的偏光層成為更平滑之傾 向。若調平劑對聚合性液晶的含量為前述之範圍內，有在所得到的偏光層不太產生不均勻的傾向。

聚合性液晶組成物B較佳為含有1種以上之聚合起始劑。聚合起始劑係可起始聚合性液晶(B)之聚合反應的化合物，就可在更低溫條件下起始聚合反應之點而言，以光聚合起始劑為較佳。具體而言，可列舉可藉由光之作用而產生活性自由基或酸的光聚合起始劑，其中，較佳為藉由光之作用而產生自由基之光聚合起始劑。聚合起始劑係可列舉苯偶姻化合物、二苯甲酮化合物、烷基酚化合物、醯基氧化膦化合物、三嗪化合物、錪鹽及鋶鹽。

聚合性液晶組成物B含有聚合起始劑時，其含量係可依照在其聚合性液晶組成物所含有的聚合性液晶之種類及其量而適當地調節，但相對於聚合性液晶100質量份，較佳為0.1至30質量份，更佳為0.5至10質量份，再更佳為0.5至8質量份。若聚合起始劑之含量為該範圍內，可在不擾亂聚合性液晶(B)之配向的情況下使其聚合。聚合性液晶組成物B含有光聚合起始劑時，前述聚合性液晶組成物係可更含有光增減劑。聚合性液晶組成物B含有光聚合起始劑及光增減劑時，可更促進在其聚合性液晶組成物所含有的聚合性液晶之聚合反應。光增減劑之使用量係可依照光聚合起始劑及聚合性液晶之種類及其量而適當地調節，但相對於聚合性液晶100質量份，較佳為0.1至30質量份，更佳為0.5至10質量份，再更佳為0.5至8質量份。

為了使聚合性液晶之聚合反應更安定地進行，聚合性液晶組成物B係可含有適量之聚合抑制劑，藉此，成為容易控制聚合性液晶之聚 合反應的進行程度。聚合性液晶組成物B含有聚合抑制劑時，其含量係可依照聚合性液晶之種類及其量、及光增減劑之使用量等而適當地調節，但相對於聚合性液晶100質量份，較佳為0.1至30質量份，更佳為0.5至10質量份，再更佳為0.5至8質量份。若聚合抑制劑之含量為該範圍內，可在不擾亂聚合性液晶之配向的情況下使其聚合。

偏光塗佈層通常係使偏光塗佈層形成組成物塗佈於經施予配向處理之支撐體上，使所得到的塗佈膜中之聚合性液晶聚合而形成。塗佈前述偏光塗佈層形成組成物之方法並無限定。作為配向處理係可列舉先前所例示者。塗佈偏光塗佈層形成組成物，並以在所得到的塗佈膜所含有的聚合性液晶不聚合的條件使溶劑進行乾燥去除，以形成乾燥被膜。作為乾燥方法係可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法。聚合性液晶為聚合性層列狀液晶化合物時，較佳為在乾燥被膜所含有的聚合性層列狀液晶化合物之液晶狀態形成向列狀相(亦即，向列狀液晶狀態)之後，轉移至層列狀相。為了經過向列狀相而形成層列狀相，例如可採用將乾燥被膜加熱至乾燥被膜所含有的聚合性層列狀液晶化合物會相轉移至向列狀相之液晶狀態的溫度以上，繼而，冷卻至聚合性層列狀液晶化合物會顯示層列狀相之液晶狀態的溫度為止的方法。繼而，說明有關使在乾燥被膜中之聚合性液晶的液晶狀態形成層列狀相之後，在保持層列狀相之液晶狀態下使聚合性液晶光聚合的方法。在光聚合中，照射於乾燥被膜之光係可依照在前述乾燥被膜所含有的光聚合起始劑之種類、聚合性液晶之種類(尤其，聚合性液晶具有的光聚合基之種類)及其量而適當地選擇，其具體例係可列舉選自由可見光、紫外光及雷射光所組成群組中之活性能量線。此等 之中，就容易控制聚合反應之進行的點、或可使用在該領域被廣範圍用作為光聚合裝置之點而言，以紫外光為較佳。藉由進行光聚合，聚合性液晶係在保持層列狀相下(較佳為高階之層列狀相)的液晶狀態下進行聚合而形成偏光層。

(相位差塗佈層)

前述偏光板係可含有相位差塗佈層(有時僅稱為相位差層)。相位差塗佈層係依照光學特性而總稱為λ/2層、λ/4層、正型C層等。例如可在表面形成有配向膜的支撐體之配向膜上塗佈包含液晶化合物之相位差塗佈層形成組成物而形成液晶塗佈層之後，隔著接著層而將該液晶塗佈層與偏光層貼附後剝離支撐體而形成相位差塗佈層，但不限制於該方法。支撐體可使用上述例示作為保護膜之高分子膜，在支撐體之形成有配向膜及相位差層之側的面係亦可在形成配向膜之前施予表面處理。前述配向膜形成組成物及其塗佈及乾燥方法等係與在偏光塗佈層所說明者為相同。相位差塗佈層形成組成物之組成係除了不含有二色性染料以外，其餘係與前述偏光塗佈層所說明者為相同。又，相位差塗佈層形成組成物之塗佈、乾燥及硬化方法等亦與在前述偏光塗佈層所說明者為相同。

相位差塗佈層之厚度較佳可為0.5至10μm，更佳可為1至4μm。

在本發明之一實施型態中，相位差塗佈層係可依據塗佈層之厚度、聚合性液晶化合物之配向狀態等而調節光學特性。藉由調節相位差層之厚度，可製作賦予所希望之面內相位差的相位差層。面內相位差值(面 內遲延值、Re)係以數式(1)所定義的值，為了獲得所希望之Re係可調節△n與厚度(d)。

Re=d×△n(λ)‧‧‧數式(1)(其中，△n=nx-ny)

(數式(1)中，Re係表示面內相位差值，d係表示塗佈層之厚度，△n係表示複折射率。考量依據聚合性液晶化合物之配向所形成的折射率橢圓體時，如下列定義3方向之折射率，亦即nx、ny及nz。nx係表示由相位差層形成的折射率橢圓體中之與該相位差層平面為平行的方向之主折射率。ny係表示由相位差層形成的折射率楕圓體中之與該相位差層平面為平行且與nx之方向為正交的方向之折射率。nz係表示由相位差層形成的折射率楕圓體中之與該相位差層平面為垂直的方向之折射率。相位差層為λ/4層時，面內相位差值Re(550)之範圍通常為113至163nm，較佳為130至150nm。相位差層為λ/2層時，Re(550)之範圍通常為250至300nm，較佳為250至300nm)

又，可依照聚合性液晶化合物之配向狀態，製作顯現厚度方向之相位差的相位差層。所謂顯現厚度方向之相位差係以數式(2)表示厚度方向之相位差值Rth成為負的特性。

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d‧‧‧數式(2)

(數式(2)中，nx、ny、nz及d係與前述之定義為相同)

正型C層之面內相位差值Re(550)的範圍通常為0至10nm，較佳為0至5nm，厚度方向之相位差值Rth的範圍通常為-10至-300nm，較佳為-20至-200nm。偏光板係可具有2個以上之相位差塗佈層，具有2層的相位差塗佈層時，第1相位差塗佈層係用以製作圓偏光之λ/4層，第2相位 差塗佈層係可為用以改善從斜向觀看之色調的正型C層。又，第1相位差塗佈層係用以改善從斜向觀看之色調的正型C層，第2相位差塗佈層係可為用以製作圓偏光之λ/4層。

(接著劑層及黏著劑層)

前述偏光板係可包含接著劑層及/或黏著劑層。在本發明之一實施型態中，偏光塗佈層與第1相位差塗佈層、或第1相位差塗佈層與第2相位差塗佈層係可隔著黏著劑或接著劑而貼合。作為形成接著劑層之接著劑係可使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑或熱硬化性接著劑，較佳為水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。作為黏著劑層係可使用後述者。

作為水系接著劑係可列舉由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳化液接著劑等。其中，適合使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的水系接著劑。作為聚乙烯醇系樹脂係使屬於乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯進行皂化處理所得到的乙烯醇均聚物之外，尚可使用乙酸乙烯酯及可與乙酸乙烯酯共聚合的其他之單體的共聚物進行皂化處理所得到的聚乙烯醇系共聚合物、或使此等之羥基經部分改性的改性聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑係可包含醛化合物(乙二醛等)、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等之交聯劑。

使用水系接著劑時，較佳為貼合塗佈層之後，實施用以去除水系接著劑中所含有的水之乾燥步驟。

所謂上述活性能量線硬化性接著劑係含有藉由如紫外線、可見光、電子線、X線之活性能量線的照射而進行硬化的硬化性化合物之接著劑，較佳為紫外線硬化性接著劑。

上述硬化性化合物係可為陽離子聚合性之硬化性化合物或自由基聚合性之硬化性化合物。陽離子聚合性之硬化性化合物例如可列舉環氧系化合物(在分子內具有1個或2個以上之環氧基的化合物)、或氧雜環丁烷系化合物(在分子內具有1個或2個以上之氧雜環丁烷環的化合物)、或此等之組合。自由基聚合性之硬化性化合物例如可列舉(甲基)丙烯酸系化合物(在分子內具有1個或2個以上之(甲基)丙烯醯氧基的化合物)、或具有自由基聚合性之雙鍵的其他之乙烯基系化合物、或此等之組合。可併用陽離子聚合性之硬化性化合物與自由基聚合性之硬化性化合物。活性能量線硬化性接劑通常係更包含用以起始上述硬化性化合物之硬化反應的陽離子聚合起始劑及/或自由基聚合起始劑。

當貼合塗佈層時，為了提高接著性，亦可在進行接著之面的至少任一貼合面施予表面活性化處理。作為表面活性化處理係可列舉：如電暈處理、電漿處理、放電處理(輝光放電處理等)、火焰處理、臭氧處理、UV臭氧處理、電離活性線處理(紫外線處理、電子線處理等)之乾式處理；如使用水或丙酮等之溶劑的超音波處理、皂化處理、錨定塗佈處理之濕式處理。此等之表面活性化處理係可單獨進行，亦可組合2個以上。

前述接著層之厚度係可依照其接著力而調節，較佳可為0.1至10μm，更佳可為1至5μm。在本發明之一實施型態中，使用複數個之前述 接著層的構成時，可以相同的材料或相異的材料進行製造，並可具有相同的厚度或相異的厚度。

黏著劑層係可以如(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚乙烯基醚系樹脂的樹脂作為主成分之黏著劑組成物來構成。其中，適合為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的聚酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂作為基材聚合物之黏著劑組成物。黏著劑組成物係可為活性能量線硬化型、熱硬化型。

在本發明使用之黏著劑樹脂通常係使用重量平均分子量為30萬至400萬者。若考量耐久性，尤其耐熱性，重量平均分子量較佳為50萬至300萬，更佳為65萬至200萬。若重量平均分子量大於30萬，就耐熱性之點而言，為較佳，若重量平均分子量小於400萬，就貼合性、接著力降低之點而言，為較佳。又，重量平均分子量係指藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定，並藉由聚苯乙烯換算所算出之值。

再者，在黏著劑組成物係可含有交聯劑。作為交聯劑係可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合劑。作為有機系交聯劑係可列舉異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合劑係多價金屬為與有機化合物進行共價鍵結或配位鍵結者。作為多價金屬原子係可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為進行共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子係可列舉氧原子等，作為有機化合物係可列舉烷基酯、醇化合物、羧氧化合物、醚化合物、酮化合物等。

含有交聯劑時，相對於黏著劑樹脂100質量份，其使用量較佳為0.01至20質量份，更佳為0.03至10質量份。又，若交聯劑為超過0.01質量份，有黏著劑層之凝聚力無不足的傾向，且加熱時產生發泡之虞少，另一方面，若少於20質量份，耐濕性充分，且在可靠性試驗等不易產生剝離。

黏著劑組成物較佳為調配矽烷偶合劑作為添加劑。作為矽烷偶合劑係可列舉：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等之具有環氧結構的矽化合物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷等之含胺基的矽化合物；3-氯丙基三甲氧基矽烷；含乙醯乙醯基的三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等之含(甲基)丙烯酸基的矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等之含異氰酸酯基的矽烷偶合劑等。矽烷偶合劑係可賦予耐久性，尤其在加濕環境下抑制剝離之效果。相對於黏著劑樹脂100質量份，矽烷偶合劑之使用量較佳為1質量份以下，更佳為0.01至1質量份，再更佳為0.02至0.6質量份。

再者，黏著劑組成物亦可含有其他之公知的添加劑，例如，在黏著劑組成物中，可依照使用之用途而適當添加著色劑、顏料等之粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、老化抑制劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有 機之填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制之範圍內，可採用加入還原劑的氧化還原系。

黏著劑層之厚度並無特別限制，例如為1至100μm左右，較佳為2至50μm，更佳為3至30μm。

(保護層)

前述偏光板係可包含保護層。在本發明之一實施型態中，偏光板係可為至少具有一個以上之保護層的形態，當形成偏光板之偏光片之一面、或偏光片具有相位差層時，可位置於相位差層之與偏光片為相反的面上。

作為保護層係若為透明性、機械強度、熱安定性、水分遮蔽性、等向性等優異的薄膜，並無特別限制。具體而言，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等之聚酯系薄膜；二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素等之纖維素系薄膜；聚碳酸酯系薄膜；聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯等之丙烯酸系薄膜；聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚合物等之苯乙烯系薄膜；環烯烴、環烯烴共聚物、聚降茨烯、聚丙烯、聚乙烯、乙烯丙烯共聚物等之聚烯烴系薄膜；氯乙烯系薄膜；尼龍、芳香族聚醯胺等之聚醯胺系薄膜；醯亞胺系薄膜；碸系薄膜；聚醚酮系薄膜；硫化聚苯系薄膜；乙烯醇系薄膜；偏氯乙烯系薄膜；乙烯基丁縮醛系薄膜；芳酸酯系薄膜；聚氧亞甲基系薄膜；胺基甲酸酯系薄膜；環氧系薄膜；聚矽氧系薄膜等。此等之中，尤其，若考量偏光特性或耐久性，較佳為具有被鹼等皂化之表面的纖維素系薄膜。又，保護層係可為兼備如相位差功能之光學補償功能者。

前述保護層係可為在與前述偏光片或前述相位差塗佈層接著的面施予用以提高接著力之易接著處理者。若為可提高接著力者，易接著處理並無特別限定，例如可列舉：底漆處理、電漿處理、電暈處理等之乾式處理；鹼處理、皂化處理等之化學處理；低壓UV處理等。

<觸控感測器>

前述圖像顯示裝置係可含有觸控感測器。觸控感測器係具有：支撐體、設於支撐體上之下部電極、與下部電極對向的上部電極、被下部電極與上部電極夾持的絕緣層。

若為具有光穿透性之可撓性的樹脂薄膜，支撐體係可採用各式各樣者。作為支撐體例如可列舉上述例示作為保護層之薄膜。

下部電極係例如以俯視具有正方形狀之複數小電極。複數個小電極係排列成矩陣狀。

又，複數個小電極係以相鄰於小電極之一對角線方向的小電極彼此間連接，並形成複數個電極列。複數個電極列係在端部互相連接，並可檢測出相鄰之電極列間的電性容量。

上部電極係例如以俯視具有正方形狀之複數個小電極。複數個小電極係以俯視不配置下部電極的位置上，互補地排列成矩陣狀。亦即，以俯視無間隙地配置上部電極與下部電極。

又，複數個小電極係以相鄰於小電極之另一對角線方向的小電極彼此間連接，並形成複數個電極列。複數個電極列係在端部互相連接，並可檢測出相鄰之電極列間的電性容量。

絕緣層係使下部電極與上部電極絕緣。絕緣層之形成材料係可使用通常已知作為觸控感測器之絕緣層材料的材料。

又，在本實施型態中，觸控感測器為所謂的投影型靜電容量方式之觸控感測器而進行說明，但在無損及發明之效果的範圍中，亦可採用膜阻抗方式等其他方式之觸控感測器。

<遮光圖型>

前述遮光圖型係可為應用光學薄膜或光學薄膜之顯示裝置的邊框或殼體之至少一部分。例如，有時藉由遮光圖型隱藏前述顯示裝置之各配線而不被使用者辨識。遮光圖型之色彩及/或材質並無特別限制，可以具有黑色、白色、金色等之多式各樣的色彩的樹脂物質形成。例如，遮光圖型係可以混合用以具體實現色彩之顏料的丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧等之樹脂物質形成。前述遮光圖型之材質及厚度係可考量光學薄膜或顯示裝置之保護及可撓性特性而決定。又，亦可以此等之單獨或2種類以上之混合物使用。前述遮光圖型係可以印刷、微影蝕刻、噴墨等各種之方法形成。遮光圖型之厚度通常為1至100μm，較佳為2至50μm。又，較佳為在遮光圖型之厚度方向賦予傾斜等之形狀。

[實施例]

以下，藉由實施例更詳細說明本發明。例中之「%」及「份」係只要無特別記載，意指質量%及質量份。

[聚苯乙烯換算重量平均分子量之測定]

凝膠浸透層析法(GPC)測定

(1)前處理方法

使試料溶解於GBL而形成20%溶液之後，以DMF溶離液稀釋成100倍，並以0.45μm過濾膜經過濾者作為測定溶液。

(2)測定條件

管柱：TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(內徑6.0mm、長度150mm、3根連結)

洗提液：包含10mmol/L溴化鋰之DMF溶液

流量：0.6mL/分鐘

檢測器：RI檢測器

管柱溫度：40℃

注入量：20μL

分子量標準：標準聚苯乙烯

[製造例1：聚醯胺醯亞胺樹脂(1)之合成]

在氮氣環境下，具備攪拌葉之1L分離式燒瓶中，加入DMAc 313.57g。然後，加入TFMB 18.36g(57.33mmol)，在室溫下一邊攪拌一邊使TFMB溶解於DMAc。其次，在燒瓶中添加6FDA 7.72g(17.38mmol)，冷卻至10℃，攪拌16小時。在此之後，在燒瓶中加入4,4’-氧雙(苯甲醯氯)(亦稱為「OBBC」)1.71g(5.81mmol)，然後，在燒瓶中加入對苯二甲醯氯(亦稱為「TPC」)6.35g(31.28mmol)，在10℃攪拌30分鐘。然後，加入DMAc 313.57g，攪拌10分鐘之後，再者，在燒瓶中加入TPC 0.71g(3.48mmol)，攪拌2小時。繼而，在燒瓶中加入二異丙基乙基胺5.24g(40.54mmol)、4-甲基吡啶3.78g(40.54mmol)、及乙酸酐12.42g(121.65mmol)，在10℃攪 拌30分鐘。在此之後，使用油浴以1小時從10℃階段性地昇溫至85℃為止，再者，在85℃攪拌3小時而獲得反應液。

使所得到的反應液冷卻至室溫，以絲線狀投入於大量之甲醇中。取出經析出之沉澱物，浸漬在甲醇中6小時。在此之後，以甲醇進行洗淨並減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂(1)。所得到的聚醯胺醯亞胺樹脂(1)之重量平均分子量為300000。

[製造例2：溶劑(GBL)之純化]

以三菱化學股份有限公司製之GBL作為原料，依據日本專利第2871841號所記載之蒸餾方法進行複數次之純化直至二羧酸含量被充分降低為止，獲得純化GBL(1)。

其次，以與前述相同的三菱化學股份有限公司製之GBL作為原料，依據日本專利第4154897號公報所記載的蒸餾方法進行純化，獲得純化GBL(2)。

以3：1之比率混合純化GBL(1)與純化GBL(2)，獲得純化GBL(3)。

以1：2之比率混合純化GBL(1)與純化GBL(2)，獲得純化GBL(4)。

以3：2之比率混合純化GBL(1)與純化GBL(2)，獲得純化GBL(5)。

在純化GBL(1)中添加5ppm之馬來酸，獲得純化GBL(6)。

又，在本實施例中，如上述，混合純化情形相異的2種類之GBL，但使蒸餾條件進行最適化，可獲得純化情形相異的GBL。

[溶劑中之二羧酸含量]

以純水稀釋如上述方式所得到的GBL，以下列之測定條件進行離子層析-質譜，定量屬於二羧酸之琥珀酸及馬來酸。測定係重複進行2次，以平均作為定量值。

分離管柱：IonPac AG11-HC(內徑2mm)+AS11-HC(內徑2mm)(任一者皆為ThermoScientific公司製)

洗提液、流速：10mmol/L KOH水溶液0.3mL/分鐘

管柱溫度：35℃

測定模式：選擇離子監視(SIM)模式m/z=115(相當於馬來酸)、m/z=117(相當於琥珀酸)

所得到的結果表示於表1中。

又，在本實施例及本比較例中，以濃度表示二羧酸含量。

(溶劑之在波長275nm的透光率)

使用紫外可見近紅外分光光度計(日本分光股份有限公司製、V-670型)測定如上述方式獲得的GBL之透光率。首先，使Milli-Q水填滿光程長1cm的石英槽，使該石英槽安裝於紫外可見近紅外分光光度計，進行空白測定。繼而，使GBL填滿光程長1cm之石英槽，使該石英槽安裝於前述分光光度計。照射波長250至850nm之白色光，進行穿透率測定，獲得各溶劑之波長275nm的透光率。所得到的結果表示於表1中。又，表1中，N.D.係表示未檢測出該二羧酸。

[表1]

[二氧化矽溶膠之溶劑替換]

在1L之燒瓶中置入於甲醇分散二氧化矽溶膠(平均一次粒徑：27nm、二氧化矽固體成分30質量%)300g及純化GBL(1)210g，使用真空蒸發器，在45℃之熱浴下，以400hPa使甲醇蒸發1小時，繼而以250hPa使甲醇蒸發1小時。再者，在250hPa下升溫至70℃而加熱30分鐘，獲得GBL分散二氧化矽溶膠(1)。

[實施例1]

混合GBL分散二氧化矽溶膠(1)與純化GBL(1)，相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與二氧化矽固體成分之合計質量而加入70ppm之作為上藍劑之PETBLUE 2000(三井化學Fine股份有限公司製，以下有時記載為「PB2000」)並使其溶解之後，加入聚醯胺醯亞胺樹脂(1)並使其溶解，獲得清漆。

此時，聚醯胺醯亞胺樹脂(1)與二氧化矽之固體成分的質量比為8：2(亦即，相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與二氧化矽之固體成分的合計質量，二氧化矽之量為20質量%)，以聚醯胺醯亞胺樹脂(1)與二氧化矽之固體成分的合計相對於清漆整體之濃度成為10.5質量%的方式，調製清漆。

[實施例2]

在實施例1中，使用純化GBL(3)取代純化GBL(1)，相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與二氧化矽固體成分之合計質量100份，加入5.7質量份之屬於紫外線吸收劑之Sumisorb(註冊商標)340(住化CHEMTEX股份有限公司製、以下有時記載為「SS340」)取代PB2000 70ppm，並相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與二氧化矽固體成分之合計質量，加入35ppm之屬於上藍劑之Sumiplast(註冊商標)Violet B(住化CHEMTEX股份有限公司製，以下有時記載為「Violet B」)，除此以外，其餘係與實施例1為相同方式而調製清漆。

[實施例3至7、比較例1至6]

除了如下述之表3所示般變更GBL之種類、二氧化矽之量、紫外線吸收劑及上藍劑之種類及量以外，其餘係與實施例1為同樣方式，調製清漆。

[實施例8]

在純化GBL(1)中，相對於聚醯胺醯亞胺樹脂之質量100份，加入3.5質量份之屬於紫外線吸收劑的Chiguard5599(Chitec製，以下有時記載為「CG5559」)，相對於聚醯胺醯亞胺樹脂之質量而加入45ppm之PB2000並使其溶解之後，再加入聚醯胺醯亞胺樹脂(1)並使其溶解，獲得清漆。此時，使聚醯胺醯亞胺樹脂(1)相對於清漆整體之濃度成為9質量%。

[上藍劑之吸光波峰半值寬的測定]

使在上述之實施例及比較例使用的屬於上藍劑之PB2000及Violet B分別溶解於三菱化學股份有限公司製GBL中，製作0.01質量%之上藍劑GBL溶液。使用紫外可見近紅外分光光度計(日本分光股份有限公司製「V- 670」)測定所得到的溶液之吸光波峰。首先，使Milli-Q水填滿光程長1cm的石英槽，使該石英槽安裝於紫外可見近紅外分光光度計，進行空白測定。繼而，使上藍劑GBL溶液填滿光程長1cm之石英槽，使該石英槽安裝於前述分光光度計。照射波長250至850nm之白色光，進行吸光度測定，求得其吸光波峰之極大波長及該波峰之半值寬。所得到的結果表示於表2中。

[表2]

[光學薄膜之製造]

使用薄塗器在聚酯基材(東洋紡股份有限公司製、商品名「A4100」)之平滑面上塗佈在實施例及比較例得到的清漆，在50℃乾燥30分鐘，然後在140℃乾燥15分鐘，獲得獨立膜。使獨立膜固定於金屬框，以40分鐘升溫至200℃為止，在200℃維持20分鐘並乾燥，獲得光學薄膜。所得到的光學薄膜之平均厚度為50μm。

[UV光照射試驗]

對所得到的光學薄膜施行使用Atras公司製之UVCON的QUV試驗。光源為UV-B 313nm，輸出為40W，將光學薄膜與光源之距離設定為5cm，對於所得到的光學薄膜照射紫外線24小時。

<YI值>

依據JIS K 7373：2006，使用日本分光股份有限公司製之紫外可見近紅外分光光度計「V-670」而測定UV光照射試驗後之光學薄膜之YI值。以無試樣之狀態進行背景測定之後，使光學薄膜安裝於試樣夾持具，進行對300至800nm之光的穿透率測定，求得3刺激值(X、Y、Z)，依據下述式而算出YI值。

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y

<總透光率之測定>

依據JIS K 7105：1981，藉由SUGA試驗機股份有限公司製之全自動直讀霧度電腦HGM-2DP測定UV光照射試驗後之光學薄膜的總透光率(Tt)。

[二羧酸含量之算出]

依據如上述方式測定出的各清漆所含有的溶劑中之二羧酸的含量、及各清漆所含有的溶劑之質量，算出在清漆中之二羧酸的含量。所得到的結果表示於表3中。

在實施例及比較例得到的清漆中，對於溶劑以外之成分係使用不含有二羧酸的高純度者。因此，依據表1所示的各溶劑所含有的二羧酸之含量，從清漆所含有的各溶劑之重量算出清漆中的二羧酸之含量。

在表3中表示有關各實施例及各比較例之清漆組成及光學薄膜的測定結果。

實施例1至4與比較例1至4係分別為組成相同僅溶劑相異的清漆。若比較此等例，相較於使用二羧酸之含量多的純化GBL(4)或(5)之情形，使用二羧酸之含量少的純化GBL(1)或(3)時，確認出UV照射後之YI值有變低的傾向。

從實施例1、3及比較例1、3、5之比較可確認，為了降低UV照射後之YI值，二羧酸之含量少時具有特別明顯的效果。該傾向係包含紫外線吸收劑時(實施例2及比較例2、6)亦相同。又，若比較在UV照射前後比較的YI之變化率，亦確認出藉由本發明之清漆可明顯減少YI之變化率。

Claims (13)

1. 一種清漆，係至少包含溶劑及聚醯亞胺系樹脂，且該清漆中之二羧酸的含量為10ppm以下。
2. 如請求項1所述之清漆，其中，溶劑之在波長275nm的透光率為96%以上。
3. 如請求項1或2所述之清漆，其中，溶劑為γ-丁內酯。
4. 如請求項1至3中任一項所述之清漆，其中，二羧酸為碳數4至10之脂肪族二羧酸。
5. 如請求項1至4中任一項所述之清漆，其中，二羧酸係選自由馬來酸及琥珀酸所組成群組中的至少1種二羧酸。
6. 如請求項1至5中任一項所述之清漆，更包含至少1種上藍劑。
7. 如請求項6所述之清漆，其中，上藍劑之吸光波峰的半值寬為70nm以上200nm以下。
8. 如請求項6或7所述之清漆，其中，上藍劑為蒽醌系上藍劑。
9. 如請求項1至8中任一項所述之清漆，其中，溶劑之含量依據清漆之總量為75至99質量%。
10. 如請求項1至9中任一項所述之清漆，其中，聚醯亞胺系樹脂之含量依據清漆之總量為1至25質量%。
11. 如請求項1至10中任一項所述之清漆，其中，聚醯亞胺系樹脂為聚醯胺醯亞胺樹脂。
12. 一種光學薄膜，係由請求項1至11中任一項所述之清漆所形成。
13. 一種光學薄膜之製造方法，係至少包含下列步驟：

    (a)製備二羧酸之含量為10ppm以下之溶劑的步驟；

    (b)混合在步驟(a)製備的溶劑與聚醯亞胺系樹脂，調製成二羧酸之含量為10ppm以下之清漆的步驟；

    (c)將所得到的清漆塗佈於支撐體上，而形成塗膜之步驟；及，

    (d)使塗膜乾燥，而獲得光學薄膜之步驟。