CN112041708B - 光学膜、光学层叠体及柔性图像显示装置 - Google Patents

光学膜、光学层叠体及柔性图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供在合适地作为图像显示装置中的光学膜使用的情况下兼具优异的放出稳定性及优异的膜外观的光学膜。其为包含选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种的光学膜，并且满足式(1)：0.04≤反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≤1.5……(1)[式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*]。

Description

光学膜、光学层叠体及柔性图像显示装置
技术领域
本发明涉及包含选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种的光学膜。
背景技术
近年来，含有聚酰亚胺系树脂的光学膜被用作为了对例如电视、个人电脑、智能手机、平板电脑、及电子纸这样的图像显示装置赋予功能的功能性膜。由于这样的图像显示装置的使用者隔着该显示装置中使用的光学膜直接以目视对所显示的图像进行识别，因此对该光学膜要求优异的膜外观。
膜外观的不良例如包括源于光学膜的组成的不良、和源于光学膜的制造方法的不良。前者是例如添加剂(更具体而言，二氧化硅粒子等)与可见光发生相互作用而使外观受损的不良。后者是在以量产性优异的卷对卷方式制造光学膜的情况下，例如由于光学膜的粘性不适当而导致光学膜无法由卷顺利地放出，光学膜彼此滑动而在光学膜表面产生损伤的不良。因此，就后者而言，要求光学膜的放出稳定性(放卷稳定性)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-215412号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而，根据本申请的发明人的研究，上述两种外观不良存在此消彼长(trade-off)的关系，例如，专利文献1中记载的包含聚酰亚胺系树脂和二氧化硅粒子的光学膜存在无法以高水准兼顾两者的情况。
因此，本发明的目的在于提供兼具优异的放出稳定性及优异的膜外观的光学膜、以及含有光学膜的光学层叠体及柔性图像显示装置。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本申请的发明人进行了深入研究，结果发现，若在包含选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种的光学膜中，将反射(SCE)b*/反射(SCI)b*调整至规定范围内，则能够解决上述课题，从而完成了本发明。即本发明包括下述方式。
[1]光学膜，其包含选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种，并且满足式(1)：
0.04≤反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≤1.50……(1)
[式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*]。
[2]如[1]所述的光学膜，其还满足式(2)：
反射(SCE)a*/反射(SCI)a*≤2.5……(2)
[式(2)中，反射(SCE)a*表示以SCE方式求出的于上述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*，反射(SCI)a*表示以SCI方式求出的于上述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*]。
[3]如[1]或[2]所述的光学膜，其雾度为1％以下，全光线透过率Tt为85％以上。
[4]如[1]～[3]中任一项所述的光学膜，其还含有二氧化硅粒子。
[5]如[4]所述的光学膜，其中，上述二氧化硅粒子是对水溶性醇分散硅溶胶进行溶剂置换而得到的二氧化硅粒子。
[6]如[1]～[5]中任一项所述的光学膜，其还含有紫外线吸收剂。
[7]如[1]～[6]中任一项所述的光学膜，其还含有二氧化硅粒子，
由汉森溶解球法确定的三维距离Ra满足式(3)：
Ra≤8.0……(3)
[式(3)中，Ra表示溶解度参数空间中的、上述二氧化硅粒子与选自由上述聚酰亚胺、上述聚酰胺及上述聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种的三维距离]。
[8]光学层叠体，其具有：[1]～[7]中任一项所述的光学膜；和位于该光学膜的至少一面上的硬涂层。
[9]柔性图像显示装置，其具备[8]所述的光学层叠体。
[10]如[9]所述的柔性图像显示装置，其还具备偏光板。
[11]如[9]或[10]所述的柔性图像显示装置，其还具备触摸传感器。
发明的效果
根据本发明，能够提供在作为图像显示装置中的光学膜使用的情况下兼具优异的放出稳定性及优异的膜外观的光学膜。另外，根据本发明，能够提供含有兼具优异的放出稳定性及优异的膜外观的光学膜的光学层叠体及柔性图像显示装置。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式详细地进行说明。需要说明的是，本发明的范围并不限于此处说明的实施方式，可以在不超出本发明的主旨的范围内进行各种变更。
＜光学膜＞
本发明的光学膜包含选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种，并且满足式(1)：
0.04≤反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≤1.50……(1)
[式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*]。
[1.式(1)]
本发明的光学膜的式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]为0.1以上时，光学膜的表面具有适度的平滑性，因此光学膜具有适度的粘性，放出稳定性优异，不易发生由光学膜彼此的滑动导致的外观不良。另一方面，本发明的光学膜的式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]为1.9以下时，不易发生由光学膜的组成导致的外观不良，因此膜外观优异。因此，满足式(1)时，兼具优异的放出稳定性及优异的膜外观。从进一步提高放出稳定性及/或膜外观的观点考虑，光学膜的式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]优选为0.05以上，更优选为0.1以上，进一步优选为0.13以上。另外，从进一步提高放出稳定性及/或膜外观的观点考虑，光学膜的式(1)之比[反射(SCE)b*/反射(SCI)b*]优选为1.4以下，更优选为1.2以下，进一步优选为1.1以下。可以将这些多个上限值与下限值任意地组合。
(反射(SCE)b*)
光学膜的反射(SCE)b*为以SCE(Specular Component Excluded：排除镜面反射光)方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，本说明书中，是指相对于下述入射光的反射光中的、排除镜面反射光外的漫反射光在CIE1976L*a*b*表色系统中的b*值，所述入射光是从自光学膜平面的垂直方向倾斜了规定角度的方向入射的、波长380～780nm范围内的入射光。反射(SCE)b*优选为-2.5以上，优选为-2.4以上，进一步优选为-2.3以上。反射(SCE)b*优选为-0.08以下，优选为-0.1以下，进一步优选为-0.3以下。可以将这些多个上限值与下限值任意地组合。光学膜的反射(SCE)b*例如可以使用分光测色计来测定。就测定方法而言，可以利用实施例中记载的方法来测定。
(反射(SCI)b*)
光学膜的反射(SCI)b*为以SCI(Specular Component Included：包括镜面反射光)方式求出的于上述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，本说明书中，是指相对于下述入射光的反射光(包括镜面反射光在内的反射光)在CIE1976L*a*b*表色系统中的b*值，所述入射光是从自光学膜平面的垂直方向倾斜了规定角度的方向入射的、波长380～780nm范围内的入射光。反射(SCI)b*优选为-2.9以上，更优选为-2.7以上，进一步优选为-2.5以上。反射(SCI)b*优选为-1.4以下，更优选为-1.6以下，进一步优选为-2.0以下。可以将这些多个上限值与下限值任意地组合。光学膜的反射(SCI)b*例如可以使用分光测色计来测定。就测定方法而言，可以利用实施例中记载的方法来测定。
作为将式(1)的数值调整至规定的数值范围内的手段，例如，可举出使白色光与光学膜内的成分的相互作用减少的手段。作为将该相互作用减少的手段，例如，可举出将光学膜的膜厚、添加剂(更具体而言，二氧化硅粒子、紫外线吸收剂、及增白剂等)的添加、添加剂的特性(更具体而言，粒径、表面修饰、及含量等)调整至规定范围内的手段。其中，二氧化硅粒子的粒径、表面修饰、及含量的调整使得二氧化硅粒子不易在光学膜中凝集，能够以一次粒子的形态存在，因此二氧化硅粒子容易在光学膜中均匀地分散。而且，在光学膜表面，由凹凸形状引起的与白色光的相互作用减少，并且在光学膜内，其凝集体与白色光的相互作用减少，因此认为有助于抑制视觉辨认性的降低(抑制膜外观品质的降低)。
[2.式(2)]
本发明的光学膜优选满足式(2)：
反射(SCE)a*/反射(SCI)a*≤2.5……(2)
[式(2)中，反射(SCE)a*表示以SCE方式求出的于上述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*，反射(SCI)a*表示以SCI方式求出的于上述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*]。
光学膜满足式(2)时，光学膜的放出稳定性及/或膜外观进一步提高。从进一步提高光学膜的放出稳定性及/或膜外观的观点考虑，光学膜的式(2)之比[反射(SCE)a*/反射(SCI)a*]优选为2.2以下，更优选为2.0以下，进一步优选为1.8以下。另外，从进一步提高光学膜的放出稳定性及/或膜外观的观点考虑，光学膜的式(2)之比[反射(SCE)a*/反射(SCI)a*]优选为0.0以上，更优选为0.1以上。可以将这些多个上限值与下限值任意地组合。作为将式(2)的数值调整至规定数值范围内的手段，例如，可举出将上述的式(1)的数值调整至规定数值范围内的手段。
(反射(SCE)a*)
光学膜的反射(SCE)a*为以SCE方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*，本说明书中，是指相对于下述入射光的反射光中的、排除镜面反射光外的漫反射光在CIE1976L*a*b*表色系统中的a*值，所述入射光是从自光学膜平面的垂直方向倾斜了规定角度的方向入射的、波长380～780nm范围内的入射光。反射(SCE)a*优选为-0.01以上，优选为0.0以上。反射(SCE)a*优选为0.6以下，优选为0.5以下，进一步优选为0.4以下。可以将这些多个上限值与下限值任意地组合。光学膜的反射(SCE)a*例如可以使用分光测色计来测定。就测定方法而言，可以利用实施例中记载的方法来测定。
(反射(SCI)a*)
光学膜的反射(SCI)a*为以SCI方式求出的于上述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*，本说明书中，是指相对于下述入射光的反射光(包括镜面反射光在内的反射光)在CIE1976L*a*b*表色系统中的a*值，所述入射光是从自光学膜平面的垂直方向倾斜了规定角度的方向入射的、波长380～780nm范围内的入射光。反射(SCI)a*优选为-0.03以上，更优选为0.0以上，进一步优选为0.1以上。反射(SCI)a*优选为0.28以下，更优选为0.27以下，进一步优选为0.26以下。可以将这些多个上限值与下限值任意地组合。光学膜的反射(SCI)a*例如可以使用分光测色计来测定。就测定方法而言，可以利用实施例中记载的方法来测定。
[3.雾度]
从进一步提高光学膜的放出稳定性及/或膜外观的观点考虑，本发明的光学膜的雾度优选为1％以下，更优选为0.8％以下，进一步优选为0.5％以下，特别优选为0.3％以下。光学膜的雾度可以按照JIS K7136：2000来测定。测定方法在实施例中详细地说明。光学膜的雾度表示添加剂在光学膜中的分散性的程度，因此光学膜的雾度在上述范围内时，光学膜的放出稳定性及/或膜外观优异。
[4.全光线透过率]
本发明的光学膜的全光线透过率优选为85％以上，更优选为87％以上，进一步优选为89％以上。光学膜的全光线透过率可按照JIS K7361-1：1997来测定。测定方法在实施例中详细地说明。若光学膜的全光线透过率在上述数值范围内，则组装至图像显示装置中时，能够确保充分的膜外观。另外，若光学膜的全光线透过率在上述数值范围内，则可容易确保一定的亮度，因此例如能够抑制显示元件等的发光强度，能够削减图像显示装置的电力消耗。
[5.黄色指数]
本发明的光学膜的黄色指数优选为3.0以下，更优选为2.7以下，进一步优选为2.5以下。光学膜的黄色指数可按照JIS K 7373：2006来测定。测定方法在实施例中详细地说明。
[6.膜厚]
本发明的光学膜的膜厚优选为10μm以上，更优选为20μm以上，进一步优选为30μm以上。另外，该膜厚优选为120μm以下，更优选为100μm以下，进一步优选为80μm以下，特别优选为60μm以下。若膜厚为30μm以上，则从将光学膜制成器件时保护内部的观点考虑是有利的，若膜厚为120μm以下，则从耐折性、成本、透明性等观点考虑是有利的。测定方法在实施例中详细地说明。
[7.溶解度参数]
本申请的发明人发现，光学膜内的组成因分散不良而引起凝集等，使膜外观品质降低，作为对光学膜这样的固体体系中的溶质(例如添加剂，更具体而言，紫外线吸收剂、二氧化硅粒子、及增白剂等)与介质(例如树脂，更具体而言，选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种树脂)的亲和性进行评价的指标，导入了Hansen溶解度参数(Hansen Solubility Parameter；以下，有时简写为HSP)。本申请的发明人进行了深入研究，结果导出了下述的式(3)～式(5)。即，从抑制膜外观品质的降低的观点(特别是抑制带白色的不良情况的发生的观点)考虑，本发明的光学膜优选满足与HSP有关的式(3)：
Ra≤8.0……(3)
[式(3)中，Ra表示HSP空间中的上述溶质与上述介质之间的三维距离]。
另外，从进一步抑制膜外观品质的降低的观点考虑，更优选本发明的光学膜除满足式(3)外、还满足与HSP有关的式(4)或式(5)：
Δδt≤2.0……(4)
[式(4)中，Δδt表示上述溶质及上述介质之间的HSP的分散项、极性项及氢键项的合计δt之差]
Δδp≤4.5……(5)
[式(5)中，Δδp表示上述溶质及上述介质之间的HSP的极性项δp之差]。
另外，从进一步抑制膜外观品质的降低的观点考虑，进一步优选本发明的光学膜满足式(3)～式(5)中的全部。
(7-1.HSP值的计算方法)
HSP值使用汉森溶解球法(Hansen Solubility Sphere法)而算出。以下，对其详细内容进行说明。使作为对象的组成(上述溶质及上述介质)溶解或分散于HSP值已知的溶剂中，对该组成在特定溶剂中的溶解性或分散性进行评价。溶解性及分散性的评价以下述方式进行：分别通过目视来判定作为对象的组成是否溶解于溶剂中、及是否分散于溶剂中。针对多种溶剂进行该评价。就该溶剂的种类而言，优选使用δt大幅不同的溶剂，更具体而言，优选为10种以上，更优选为15种以上，进一步优选为18种以上。接着，将得到的溶解性或分散性的评价结果绘图成包含HSP的分散项δd、极性项δp及氢键项δh的三维空间(HSP空间)。制作使对象组成溶解或分散的溶剂被包含在内侧、并且不使对象组成溶解或分散的溶剂成为外侧、而且半径成为最小的球(Hansen球)。将得到的Hansen球的中心坐标(δd，δp，δh)作为对象组成的HSP。
(7-2.δt、Δδt、Δδp及Ra的计算方法)
使用7-1.HSP值的计算方法，算出光学膜内的两种成分、例如以树脂为成分1且以二氧化硅为成分2时的HSP值(δd1，δp1，δh1：成分1的HSP值；δd2，δp2，δh2：成分2的HSP值)。
就HSP的分散项、极性项及氢键项的合计δt以及成分1及成分2之间的该合计之差Δδt而言，分别使用式(6)及式(7)而算出。得到的δt相当于希尔德布兰德(Hildebrand)的HSP。
δt 2＝δd 2+δp 2+δh 2……(6)
Δδt＝|δt2-δt1|……(7)
从进一步抑制膜外观品质的降低的观点考虑，Δδt优选为3.5以下，更优选为3.0以下，进一步优选为2.0以下，更进一步优选为1.0以下，特别优选为0.5以下。
成分1及成分2之间的HSP的极性项之差Δδp使用式(8)而算出。
Δδp＝|δp2-δp1|……(8)
从进一步抑制膜外观品质的降低的观点考虑，Δδp优选为4.5以下，更优选为3.5以下，进一步优选为3.0以下，更进一步优选为2.0以下，特别优选为1.0以下。
HSP空间中的成分1与成分2之间的三维距离Ra(>0)使用式(9)而算出。
Ra2＝4(δd2-δd1)2+(δp2-δp1)2+(δh2-δh1)2……(9)
Ra值越小，表示成分1与成分2的亲和性越良好。从进一步抑制膜外观品质的降低的观点考虑，Ra值优选为8.0以下，更优选为7.0以下，进一步优选为6.0以下，更进一步优选为5.5以下，特别优选为5.0以下。
[8.聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺]
本发明的光学膜包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少一种树脂。所谓聚酰亚胺系树脂，表示选自由含有包含酰亚胺基的重复结构单元的聚合物(以下，有时记载为聚酰亚胺)、以及含有包含酰亚胺基及酰胺基两者的重复结构单元的聚合物(以下，有时记载为聚酰胺酰亚胺)组成的组中的至少一种聚合物。另外，聚酰胺系树脂表示含有包含酰胺基的重复结构单元的聚合物。
聚酰亚胺系树脂优选具有式(10)表示的重复结构单元。此处，G为四价有机基团，A为二价有机基团。聚酰亚胺系树脂可以包含G及/或A不同的、两种以上的式(10)表示的重复结构单元。
[化学式1]
Figure GDA0002743813050000101
聚酰亚胺系树脂可以在不损害光学膜的各种物性的范围内包含选自由式(11)、式(12)及式(13)表示的重复结构单元组成的组中的1种以上。
[化学式2]
Figure GDA0002743813050000102
式(10)及式(11)中，G及G1各自独立地为四价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团。作为G及G1，可示例式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)表示的基团以及四价的碳原子数6以下的链式烃基。从容易抑制光学膜的黄色指数(YI值)的方面考虑，其中，优选式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)或式(27)表示的基团。
[化学式3]
Figure GDA0002743813050000111
式(20)～式(29)中，
*表示化学键，
Z表示单键、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-Ar-、-SO2-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2-Ar-、-Ar-C(CH3)2-Ar-或-Ar-SO2-Ar-。Ar表示可以被氟原子取代的碳原子数为6～20的亚芳基，作为具体例，可举出亚苯基。
式(12)中，G2为三价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团。作为G2，可示例式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)表示的基团的化学键中的任意1个替换成氢原子而成的基团以及3价的碳原子数为6以下的链式烃基。
式(13)中，G3为二价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团。作为G3，可示例式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)表示的基团的化学键中不相邻的2个替换成氢原子而成的基团及碳原子数为6以下的链式烃基。
式(10)～(13)中，A、A1、A2及A3各自独立地为二价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团。作为A、A1、A2及A3，可示例式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)或式(38)表示的基团；它们被甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代而成的基团；以及碳原子数为6以下的链式烃基。
[化学式4]
Figure GDA0002743813050000121
式(30)～式(38)中，
*表示化学键，
Z1、Z2及Z3各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或-CO-。
作为1个例子，Z1及Z3为-O-、并且Z2为-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-或-SO2-。Z1和Z2相对于各环的键合位置、及Z2和Z3相对于各环的键合位置分别相对于各环为间位或对位是优选的。
从容易提高视觉辨认性(膜外观)的观点考虑，聚酰亚胺系树脂优选为至少具有式(10)表示的重复结构单元和式(13)表示的重复结构单元的聚酰胺酰亚胺。另外，聚酰胺系树脂优选至少具有式(13)表示的重复结构单元。
本发明的一个实施方式中，聚酰亚胺系树脂为使二胺及四羧酸化合物(酰氯化合物、四羧酸二酐等四羧酸化合物类似物)、以及根据需要的二羧酸化合物(酰氯化合物等二羧酸化合物类似物)、三羧酸化合物(酰氯化合物、三羧酸酐等三羧酸化合物类似物)等进行反应(缩聚)而得到的缩合型高分子。式(10)或式(11)表示的重复结构单元通常由二胺及四羧酸化合物衍生。式(12)表示的重复结构单元通常由二胺及三羧酸化合物衍生。式(13)表示的重复结构单元通常由二胺及二羧酸化合物衍生。
本发明的一个实施方式中，聚酰胺系树脂为使二胺与二羧酸化合物反应(缩聚)而得到的缩合型高分子。即，式(13)表示的重复结构单元通常由二胺及二羧酸化合物衍生。
作为四羧酸化合物，可举出芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；以及，脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物。四羧酸化合物可以单独使用，也可并用2种以上。对于四羧酸化合物而言，除了二酐之外，也可以是酰氯化合物等四羧酸化合物类似物。
作为芳香族四羧酸二酐的具体例，可举出4,4’-氧二邻苯二甲酸二酐(4,4’-oxydiphthalic dianhydride)、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸二酐、2,2’,3,3’-二苯甲酮四甲酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐、2,2’,3,3’-联苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基砜四甲酸二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-双(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4’-(六氟异丙叉)二邻苯二甲酸二酐(4,4’-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride，6FDA)、1,2-双(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-双(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、双(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、双(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4’-(对苯二氧基(p-phenylenedioxy))二邻苯二甲酸二酐及4,4’-(间苯二氧基(m-phenylenedioxy))二邻苯二甲酸二酐。它们可以单独使用或者也可组合2种以上而使用。
作为脂肪族四羧酸二酐，可举出环式或非环式的脂肪族四羧酸二酐。所谓环式脂肪族四羧酸二酐，是指具有脂环式烃结构的四羧酸二酐，作为其具体例，可举出1,2,4,5-环己烷四甲酸二酐、1,2,3,4-环丁烷四甲酸二酐、1,2,3,4-环戊烷四甲酸二酐等环烷烃四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四甲酸二酐、二环己基-3,3’,4,4’-四甲酸二酐及它们的位置异构体。它们可以单独使用或者也可组合2种以上而使用。作为非环式脂肪族四羧酸二酐的具体例，可举出1,2,3,4-丁烷四甲酸二酐、1,2,3,4-戊烷四甲酸二酐等，它们可以单独使用或者也可组合2种以上而使用。另外，可将环式脂肪族四羧酸二酐及非环式脂肪族四羧酸二酐组合使用。
上述四羧酸二酐中，从高透明性及低着色性的观点考虑，优选1,2,4,5-环己烷四甲酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四甲酸二酐及4,4’-(六氟异丙叉)二邻苯二甲酸二酐、以及它们的混合物。另外，作为四羧酸，可使用上述四羧酸化合物的酐的水加成物。
作为三羧酸化合物，可举出芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及它们的类似的酰氯化合物、酸酐等，也可并用2种以上。
作为具体例，可举出1,2,4-苯三甲酸的酐；2,3,6-萘三甲酸-2,3-酐；邻苯二甲酸酐与苯甲酸经单键、-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或亚苯基连接而成的化合物。
作为二羧酸化合物，可举出芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及它们的类似的酰氯化合物、酸酐等，可以并用它们中的2种以上。作为它们的具体例，可举出对苯二甲酰氯(TPC)；间苯二甲酰氯；萘二甲酰二氯；4,4’-联苯二甲酰二氯；3,3’-联苯二甲酰二氯；4,4’-氧基双(苯甲酰氯)(OBBC，4,4’-oxybis(benzoyl chloride))；碳原子数为8以下的链式烃的二羧酸化合物及2个苯甲酸经由单键、-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或亚苯基连接而成的化合物。
作为二胺，例如可举出脂肪族二胺、芳香族二胺或它们的混合物。需要说明的是，本实施方式中，所谓“芳香族二胺”，表示氨基直接键合于芳香环而成的二胺，其结构的一部分可包含脂肪族基团或其他的取代基。芳香环可以为单环也可以为稠环，可例举苯环、萘环、蒽环及芴环等，但不限于这些。这些中，芳香环优选为苯环。另外，所谓“脂肪族二胺”，表示氨基直接键合于脂肪族基团而成的二胺，其结构的一部分可包含芳香环、其他取代基。
作为脂肪族二胺，例如可举出1,6-己二胺等非环式脂肪族二胺及1,3-双(氨基甲基)环己烷、1,4-双(氨基甲基)环己烷、降冰片烷二胺、4,4’-二氨基二环己基甲烷等环式脂肪族二胺等。它们可以单独使用或者也可组合2种以上而使用。
作为芳香族二胺，可举出例如对苯二胺、间苯二胺、2,4-甲苯二胺、间苯二甲胺、对苯二甲胺、1,5-二氨基萘、2,6-二氨基萘等具有1个芳香环的芳香族二胺；4,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二苯基丙烷、4,4’-二氨基二苯基醚、3,4’-二氨基二苯基醚、3,3’-二氨基二苯基醚、4,4’-二氨基二苯基砜、3,4’-二氨基二苯基砜、3,3’-二氨基二苯基砜、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3-双(4-氨基苯氧基)苯、4,4’-二氨基二苯基砜、双〔4-(4-氨基苯氧基)苯基〕砜、双〔4-(3-氨基苯氧基)苯基〕砜、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2’-二甲基联苯胺、2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯(TFMB))、4,4’-双(4-氨基苯氧基)联苯、4,4’-二氨基二苯基醚、3,4’-二氨基二苯基醚、4,4’-二氨基二苯基甲烷、9,9-双(4-氨基苯基)芴、9,9-双(4-氨基-3-甲基苯基)芴、9,9-双(4-氨基-3-氯苯基)芴、9,9-双(4-氨基-3-氟苯基)芴等具有2个以上芳香环的芳香族二胺。它们可以单独使用或者也可组合2种以上而使用。
从高透明性及低着色性的观点考虑，上述二胺中，优选使用选自由具有联苯结构的芳香族二胺组成的组中的1种以上。进一步优选使用选自由2,2’-二甲基联苯胺、2,2’-双(三氟甲基)联苯胺、4,4’-双(4-氨基苯氧基)联苯及4,4’-二氨基二苯基醚组成的组中的1种以上，更进一步优选使用2,2’-双(三氟甲基)联苯胺。
聚酰亚胺系树脂可通过下述方式得到：利用惯用的方法、例如搅拌等方法，将上述二胺、四羧酸化合物、三羧酸化合物、二羧酸化合物等各原料混合，然后在酰亚胺化催化剂及根据需要的脱水剂的存在下，使得到的中间体酰亚胺化。聚酰胺系树脂可通过下述方式得到：利用惯用的方法、例如搅拌等方法，将上述二胺、二羧酸化合物等各原料混合。
作为酰亚胺化工序中使用的酰亚胺化催化剂，没有特别限定，可举出例如三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯烷、N-丁基哌啶、及N-丙基六氢氮杂
Figure GDA0002743813050000161
等脂环式胺(单环式)；氮杂双环[2.2.1]庚烷、氮杂双环[3.2.1]辛烷、氮杂双环[2.2.2]辛烷、及氮杂双环[3.2.2]壬烷等脂环式胺(多环式)；以及2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-环戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氢异喹啉、及异喹啉等芳香族胺。
作为酰亚胺化工序中使用的脱水剂，没有特别限定，可举出例如乙酸酐、丙酸酐、异丁酸酐、特戊酸酐、丁酸酐、异戊酸酐等。
在各原料的混合及酰亚胺化工序中，反应温度没有特别限定，例如为15～350℃，优选为20～100℃。反应时间也没有特别限定，例如为10分钟～10小时左右。根据需要，可在非活性气氛或减压的条件下进行反应。另外，反应可在溶剂中进行，作为溶剂，例如可举出作为清漆的制备中可使用的溶剂而例举的溶剂。反应后，将聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂纯化。作为纯化方法，例如可举出下述方法等：向反应液中添加不良溶剂，利用再沉淀法使树脂析出，进行干燥而取出沉淀物，根据需要，用甲醇等溶剂对沉淀物进行洗涤并使其干燥。
需要说明的是，聚酰亚胺系树脂的制造例如可以参照日本特开2006-199945号公报或日本特开2008-163107号公报中记载的制造方法。另外，就聚酰亚胺系树脂而言，也可以使用市售品，作为其具体例，可举出三菱瓦斯化学(株)制Neopulim(注册商标)、河村产业(株)制KPI-MX300F等。
聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂的重均分子量优选为200,000以上，更优选为250,000以上，进一步优选为300,000以上，优选为600,000以下，更优选为500,000以下。存在聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂的重均分子量越大、则越容易呈现形成膜时的高耐弯曲性的倾向。因此，从提高光学膜的耐弯曲性的观点考虑，重均分子量优选为上述的下限以上。另一方面，存在聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂的重均分子量越小、则越容易降低清漆的粘度从而容易提高加工性的倾向。另外，存在聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂的拉伸性容易提高的倾向。因此，从加工性及拉伸性的观点考虑，重均分子量优选为上述的上限以下。需要说明的是，本申请中，重均分子量可通过进行凝胶渗透色谱(GPC)测定、按照标准聚苯乙烯换算而求出，例如可利用实施例中记载的方法算出。
聚酰亚胺系树脂的酰亚胺化率优选为95～100％，更优选为97～100％，进一步优选为98～100％，特别优选为100％。从清漆的稳定性、得到的光学膜的机械物性的观点考虑，酰亚胺化率优选为上述的下限以上。需要说明的是，酰亚胺化率可利用IR法、NMR法等求出。从上述观点考虑，清漆中包含的聚酰亚胺系树脂的酰亚胺化率优选为上述范围内。
本发明的一个优选实施方式中，本发明的光学膜中包含的聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂可以包含例如可通过上述的含氟取代基等而导入的、氟原子等卤素原子。聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂含有卤素原子的情况下，容易提高光学膜的弹性模量、并且容易降低黄色指数(YI值)。光学膜的弹性模量高时，容易抑制该膜中的伤痕及褶皱等的产生，另外，光学膜的黄色指数低时，容易提高该膜的透明性。卤素原子优选为氟原子。作为为了使聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂含有氟原子而优选的含氟取代基，例如可举出氟基及三氟甲基。
以聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂的质量为基准，聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂中的卤素原子的含量优选为1～40质量％，更优选为5～40质量％，进一步优选为5～30质量％。若卤素原子的含量为1质量％以上，则容易进一步提高形成膜时的弹性模量，降低吸水率，进一步降低黄色指数(YI值)，进一步提高透明性。若卤素原子的含量为40质量％以下，则存在合成变得容易的倾向。
本发明的一个实施方式中，以光学膜的总质量为基准，光学膜中的聚酰亚胺系树脂及/或聚酰胺系树脂的含量优选为40质量％以上，更优选为50质量％以上，进一步优选为70质量％以上。从容易提高耐弯曲性等观点考虑，聚酰亚胺系树脂及/或聚酰胺系树脂的含量优选为上述的下限以上。需要说明的是，以光学膜的总质量为基准，光学膜中的聚酰亚胺系树脂及/或聚酰胺系树脂的含量通常为100质量％以下。
[9.添加剂]
本发明的光学膜可以还含有添加剂。作为这样的添加剂，例如，可举出二氧化硅粒子、紫外线吸收剂、增白剂、二氧化硅分散剂、抗氧化剂、pH调节剂、及流平剂。
(二氧化硅粒子)
本发明的光学膜可以还含有二氧化硅粒子作为添加剂。以该光学膜的总质量为基准，二氧化硅粒子的含量优选为1质量份以上，更优选为3质量份以上，进一步优选为5质量份以上，优选为60质量份以下，更优选为50质量份以下，进一步优选为45质量份以下。另外，就二氧化硅粒子的含量而言，可以在这些上限值及下限值中选择任意的下限值与上限值而组合。二氧化硅粒子的含量在上述上限值及/或下限值的数值范围内时，本发明的光学膜中，有二氧化硅粒子不易凝集、以一次粒子的状态均匀地分散的倾向，因此能够抑制本发明的光学膜的视觉辨认性的降低。
二氧化硅粒子的粒径优选为1nm以上，更优选为3nm以上，进一步优选为5nm以上，特别优选为8nm以上，优选为30nm以下，更优选为28nm以下，进一步优选为25nm以下，特别优选为20nm以下。就二氧化硅粒子的粒径而言，可以在这些上限值及下限值中选择任意的下限值与上限值而组合。二氧化硅粒子的含量在上述上限值及/或下限值的数值范围内时，本发明的光学膜中，不易与白色光中的特定波长的光发生相互作用，因此能够抑制本发明的光学膜的视觉辨认性的降低。本说明书中，二氧化硅粒子的粒径表示平均一次粒径。光学膜内的二氧化硅粒子的粒径可以根据使用了透射电子显微镜(TEM)的拍照来测定。制作光学膜之前(例如，添加于清漆之前)的二氧化硅粒子的粒径可以利用激光衍射式粒度分布计来测定。二氧化硅粒子的粒径的测定方法在实施例中详细地说明。
作为二氧化硅粒子的形态，例如，可举出二氧化硅粒子分散于有机溶剂等中而得到的硅溶胶、及利用气相法制备的二氧化硅粉末。这些之中，从操作性的观点考虑，优选硅溶胶。
就二氧化硅粒子而言，可以对其实施表面处理，例如，可以为由水溶性醇分散硅溶胶进行溶剂(更具体而言，γ-丁内酯等)置换而得到的二氧化硅粒子。水溶性醇是在1个该水溶性醇分子中每1个羟基的碳原子数为3以下的醇，可举出甲醇、乙醇、1-丙醇、及2-丙醇等。虽然也取决于二氧化硅粒子与聚酰亚胺系高分子的种类的相容性，但通常，若对二氧化硅粒子进行表面处理，则与光学膜中包含的聚酰亚胺系高分子的亲和性提高，有二氧化硅粒子的分散性提高的倾向，因此能够抑制本发明的视觉辨认性的降低。
(紫外线吸收剂)
本发明的光学膜可以还含有紫外线吸收剂。例如，可举出三嗪系紫外线吸收剂、二苯甲酮系紫外线吸收剂、苯并三唑系紫外线吸收剂、苯甲酸酯系紫外线吸收剂、及氰基丙烯酸酯系紫外线吸收剂等。这些可以单独使用，也可以并用两种以上。作为优选的市售紫外线吸收剂，例如，可举出Sumika Chemtex(株)制的Sumisorb(注册商标)340、(株)ADEKA制的Adekastab(注册商标)LA-31、及BASF JAPAN(株)制的TINUVIN(注册商标)1577等。以本发明的光学膜的质量为基准，紫外线吸收剂的含量优选为1phr以上且10phr以下，更优选为3phr以上且6phr以下。
(增白剂)
本发明的光学膜可以还含有增白剂。关于增白剂，例如，在添加了增白剂以外的添加剂的情况下，可以为了调节色调而添加增白剂。作为增白剂，可举出单偶氮系染料、三芳基甲烷系染料、酞菁系染料、及蒽醌系染料。这些之中优选蒽醌系染料。作为优选的市售增白剂，例如，可举出Lanxess公司制的Macrolex(注册商标)Violet B、Sumika Chemtex(株)制的Sumiplast(注册商标)Violet B、及三菱化学(株)制的Diaresin(注册商标)Blue G等。这些可以单独使用，也可以并用两种以上。以本发明的光学膜的质量为基准，增白剂的含量优选为5ppm以上且40ppm以下。
[10.光学膜的制造方法]
本发明的光学膜的用途没有特别限定，可以用于各种用途中。本发明的光学膜可以如上文所述那样为单层，也可以为层叠体，可以直接使用本发明的光学膜，还可以以与其他膜的层叠体的形式使用。本发明的光学膜具有优异的面品质，因此作为图像显示装置等中的光学膜是有用的。
本发明的光学膜作为图像显示装置的前面板、特别是柔性显示器的前面板(窗膜)是有用的。柔性显示器例如具有柔性功能层、和被层叠于柔性功能层而作为前面板发挥功能的上述聚酰亚胺系膜。即，柔性显示器的前面板被配置于柔性功能层上的观看侧。该前面板具有保护柔性功能层的功能。
[11.光学膜的制造方法]
本发明的光学膜例如可通过包括以下工序的方法来制造，但没有特别限定：
(a)制备包含上述树脂及上述填料的液体(以下，有时记载为清漆)的工序(清漆制备工序)；
(b)将清漆涂布于基材而形成涂膜的工序(涂布工序)；以及
(c)使经涂布的液体(涂膜)干燥而形成光学膜的工序(光学膜形成工序)。
清漆制备工序中，将上述树脂溶解于溶剂中，添加上述填料及根据需要的其他添加剂，进行搅拌混合，由此制备清漆。需要说明的是，使用二氧化硅作为填料的情况下，也可以利用能够溶解上述树脂的溶剂、例如下述清漆的制备中使用的溶剂对包含二氧化硅的硅溶胶的分散液进行置换，并将由此得到的硅溶胶添加于树脂中。
清漆的制备中可使用的溶剂没有特别限定，只要能够溶解上述树脂即可。作为该溶剂，例如可举出：N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺等酰胺系溶剂；γ-丁内酯(GBL)、γ-戊内酯等内酯系溶剂；二甲基砜、二甲基亚砜、环丁砜等含硫系溶剂；碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯等碳酸酯系溶剂；以及它们的组合。这些之中，优选酰胺系溶剂或内酯系溶剂。这些溶剂可以单独使用或组合两种以上而使用。另外，清漆中可包含水、醇系溶剂、酮系溶剂、非环状酯系溶剂、醚系溶剂等。清漆的固态成分浓度优选为1～25质量％，更优选为5～20质量％。
涂布工序中，利用已知的涂布方法，将清漆涂布于基材上而形成涂膜。作为已知的涂布方法，例如可举出线棒涂布法、逆式涂布、凹版涂布等辊涂法、模涂法、逗号涂覆法、唇涂法、旋涂法、丝网涂布法、喷注涂布法、浸渍法、喷雾法、流延成型法等。
光学膜形成工序中，通过将涂膜干燥，从基材剥离，能形成光学膜。在剥离后，可进一步进行将光学膜干燥的干燥工序。涂膜的干燥通常可于50～350℃的温度进行。根据需要，可在非活性气氛或减压的条件下进行涂膜的干燥。
作为基材的例子，为金属系时，可举出SUS板，为树脂系时，可举出PET膜、PEN膜、其他聚酰亚胺系树脂或聚酰胺系树脂膜、环烯烃系聚合物(COP)膜、丙烯酸系膜等。其中，从平滑性、耐热性优异的观点考虑，优选PET膜、COP膜等，进而，从与光学膜的密合性及成本的观点考虑，更优选PET膜。
＜光学层叠体＞
本发明的光学层叠体具有本发明的光学膜、及位于该光学膜的至少一者上的硬涂层(保护膜)。光学层叠体可以还具有粘合层。本发明的光学层叠体例如可以使本发明的光学膜与硬涂层介由粘合层粘接而构成。
(硬涂层)
硬涂层的厚度没有特别限定，例如可以为2～100μm。上述硬涂层的厚度在上述的范围内时，能确保充分的耐擦伤性，另外，存在耐弯曲性不易下降、由于固化收缩而发生卷曲的问题不易发生的倾向。
上述硬涂层可以使包含可利用活性能量射线照射或热能赋予而形成交联结构的反应性材料的硬涂层组合物固化来形成，优选利用活性能量射线照射而得到。活性能量射线被定义为能将产生活性种的化合物分解而产生活性种的能量射线，可举出可见光、紫外线、红外线、X射线、α射线、β射线、γ射线及电子束等，优选可举出紫外线。上述硬涂层组合物含有自由基聚合性化合物及阳离子聚合性化合物中的至少一种的聚合物。
上述自由基聚合性化合物为具有自由基聚合性基团的化合物。作为上述自由基聚合性化合物所具有的自由基聚合性基团，为可发生自由基聚合反应的官能团即可，可举出包含碳-碳不饱和双键的基团等，具体而言，可举出乙烯基、(甲基)丙烯酰基等。需要说明的是，上述自由基聚合性化合物具有2个以上的自由基聚合性基团时，这些自由基聚合性基团分别可以相同，也可以不同。从提高硬涂层的硬度的方面考虑，上述自由基聚合性化合物在1分子中具有的自由基聚合性基团的数目优选为2以上。作为上述自由基聚合性化合物，从反应性的高度方面考虑，优选可举出具有(甲基)丙烯酰基的化合物，具体而言，可举出在1分子中具有2～6个(甲基)丙烯酰基的被称为多官能丙烯酸酯单体的化合物、被称为环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)、聚酯(甲基)丙烯酸酯的在分子内具有数个(甲基)丙烯酰基的分子量为数百至数千的低聚物，优选可举出选自环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯中的1种以上。
上述阳离子聚合性化合物为具有环氧基、氧杂环丁基、乙烯基醚基等阳离子聚合性基团的化合物。从提高硬涂层的硬度方面考虑，上述阳离子聚合性化合物在1分子中具有的阳离子聚合性基团的数目优选为2以上，更优选为3以上。
另外，作为上述阳离子聚合性化合物，其中优选具有环氧基及氧杂环丁基中的至少1种作为阳离子聚合性基团的化合物。环氧基、氧杂环丁基等环状醚基从聚合反应所伴随的收缩小这方面考虑是优选的。另外，环状醚基中，具有环氧基的化合物具有下述这样的优点：容易获得多种结构的化合物，不会对得到的硬涂层的耐久性造成不良影响，也容易控制与自由基聚合性化合物的亲和性。另外，环状醚基中，氧杂环丁基与环氧基相比，具有下述优点：聚合度容易提高，加快得到的硬涂层的由阳离子聚合性化合物得到的网络的形成速度，即使在与自由基聚合性化合物混合存在的区域，也不会在膜中残留未反应的单体，能形成独立的网络；等等。
作为具有环氧基的阳离子聚合性化合物，例如可举出具有脂环族环的多元醇的聚缩水甘油基醚或通过用过氧化氢、过氧酸等适当的氧化剂使含有环己烯环、环戊烯环的化合物进行环氧化而得到的脂环族环氧树脂；脂肪族多元醇、或其环氧烷加成物的聚缩水甘油基醚、脂肪族长链多元酸的聚缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯的均聚物、共聚物等脂肪族环氧树脂；通过双酚A、双酚F、氢化双酚A等双酚类、或它们的环氧烷加成物、己内酯加成物等衍生物、与表氯醇的反应而制造的缩水甘油基醚、及Novolac环氧树脂等、由双酚类衍生的缩水甘油基醚型环氧树脂等。
上述硬涂层组合物可以还包含聚合引发剂。作为聚合引发剂，可举出自由基聚合引发剂、阳离子聚合引发剂、自由基及阳离子聚合引发剂等，可适当选择使用。这些聚合引发剂是通过活性能量射线照射及加热中的至少一种而被分解，产生自由基或阳离子，进行自由基聚合和阳离子聚合的物质。
自由基聚合引发剂能通过活性能量射线照射及加热中的至少任一种而释放引发自由基聚合的物质即可。例如，作为热自由基聚合引发剂，可举出过氧化氢、过氧苯甲酸等有机过氧化物、偶氮双异丁腈等偶氮化合物等。
作为活性能量射线自由基聚合引发剂，有通过分子的分解而生成自由基的Type1型自由基聚合引发剂、和与叔胺共存而通过氢夺取型反应生成自由基的Type2型自由基聚合引发剂，它们可以单独使用，或者也可并用来使用。
阳离子聚合引发剂能通过活性能量射线照射及加热中的至少任一种而释放引发阳离子聚合的物质即可。作为阳离子聚合引发剂，可使用芳香族碘鎓盐、芳香族锍盐、环戊二烯基铁(II)络合物等。对于它们而言，根据结构差异，可通过活性能量射线照射或加热中的任意一者或两者而引发阳离子聚合。
相对于上述硬涂层组合物整体100质量％而言，上述聚合引发剂的含量优选为0.1～10质量％。上述聚合引发剂的含量在上述的范围内时，能使固化充分进行，能使最终得到的涂膜的机械物性、密合力为良好的范围，另外，存在因固化收缩而导致的粘接力不良、破裂现象及卷曲现象变得不易发生的倾向。
上述硬涂层组合物硬涂层组合物还可以进一步包含选自由溶剂、添加剂组成的组中的一种以上。
上述述溶剂是能将上述聚合性化合物及聚合引发剂溶解或分散的溶剂，只要是作为本技术领域的硬涂层组合物的溶剂而为人所知的溶剂即可，可以在不妨碍本发明的效果的范围内使用。
上述添加剂可以还包含无机粒子、流平剂、稳定剂、表面活性剂、抗静电剂、润滑剂、防污剂等。
本发明的层叠体例如可用于柔性图像显示装置中，其中，可合适地用于可折叠显示装置、可卷曲显示装置。
(具有圆偏光板的光学层叠体的制造方法)
对具有圆偏光板的光学层叠体的制造方法的一例进行说明。在制造具有依次具备偏光层/相位差层的圆偏光板的光学层叠体的情况下，首先，分别地形成光学膜、偏光层、相位差层。利用上述的方法制造光学膜。例如，在作为基材的保护膜上，依次层叠取向层、偏光片、保护层来形成偏光层。另外，使用粘合剂使λ/4相位差板与正C板贴合，形成相位差层。
接着，使用粘合剂，使形成的光学膜、偏光层、及相位差层贴合，制造具有圆偏光板的光学层叠体。偏光层与相位差层的贴合中，以偏光层的吸收轴相对于相位差层的慢轴(光轴)实质上成为45°的方式，使偏光层与相位差层贴合。通过这样的方式，能够制造依次层叠有光学膜/粘合剂层/偏光层(保护膜/取向层/偏光片/保护层)/粘合剂层/相位差层(λ/4相位差板/正C板)的具有圆偏光板的光学层叠体。
本发明的具有圆偏光板的光学层叠体(以下，也称为层叠体)包含本发明的光学膜。
(式(39))
本发明的具有圆偏光板的层叠体满足式(39)：
透射b*-反射(SCE)b*≥4.0……(39)
[式(39)中，透射b*表示从该层叠体透射的光在L*a*b*表色系统中的b*，反射(SCE)b*表示以SCE方式求出的于该层叠体反射的光在L*a*b*表色系统中的b*]。
本发明的具有圆偏光板的层叠体满足式(39)时，来自光源的光透射变大，外部光的反射变小，由此接近中性色相，因此具有优异的视觉辨认性。
从进一步提高具有圆偏光板的层叠体的视觉辨认性的观点考虑，式(39)的数值(透射b*-反射(SCE)b*)优选为4.2以上，更优选为4.5以上，进一步优选为5.0以上，特别优选为6.5以上。
(透射b*)
具有圆偏光板的层叠体的透射b*为从具有圆偏光板的层叠体透射的光在L*a*b*表色系统中的b*，本说明书中，是指相对于下述入射光(白色光)的透射光在CIE1976L*a*b*表色系统中的b*值，所述入射光(白色光)是从具有圆偏光板的层叠体平面的垂直方向入射的、波长380～780nm范围内的入射光(白色光)。透射b*优选为4.0以上，更优选为5.0以上，进一步优选为6.0以上。具有圆偏光板的层叠体的透射b*可以使用紫外可见近红外分光光度计来测定，例如可利用实施例中记载的方法进行测定。
(反射(SCE)b*)
具有圆偏光板的层叠体的反射(SCE)b*为以SCE方式求出的于该具有圆偏光板的层叠体反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，本说明书中，是指相对于下述入射光的反射光中的、排除镜面反射光外的漫反射光在CIE1976L*a*b*表色系统中的b*值，所述入射光是从自具有圆偏光板的层叠体平面的垂直方向倾斜了规定角度的方向入射的、波长380～780nm范围内的入射光。反射(SCE)b*优选为1.5以下，优选为1.0以下，进一步优选为0以下，特别优选为-1.5下。圆偏光板的反射(SCE)b*可以使用分光测色计来测定，例如可利用实施例中记载的方法进行测定。
(反射(SCI)b*)
圆偏光板的反射(SCI)b*为以SCI方式求出的于上述圆偏光板反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，本说明书中，是指相对于下述入射光的反射光(包括镜面反射光在内的反射光)在CIE1976L*a*b*表色系统中的b*值，所述入射光是从自圆偏光板平面的垂直方向倾斜了规定角度的方向入射的、波长380～780nm范围内的入射光。圆偏光板的反射(SCI)b*可以使用分光测色计来测定，例如可利用实施例中记载的方法进行测定。
作为将式(39)中的透射b*-反射(SCE)b*调整至规定数值范围内的手段，例如，可举出将光学膜的透射b*-反射(SCE)b*调整至式(1)的数值范围内的手段、及基于光学膜的组成变更的色相调节。
＜柔性图像显示装置＞
本发明的柔性图像显示装置具备本发明的光学层叠体。例如，柔性图像显示装置由光学层叠体(柔性图像显示装置用层叠体)和有机EL显示面板形成，柔性图像显示装置用层叠体被配置于有机EL显示面板的观看侧，以可折弯的方式构成。柔性图像显示装置用层叠体可进一步含有窗、偏光板、触摸传感器，它们的层叠顺序是任意的，优选从观看侧起按窗、偏光板、触摸传感器或者窗、触摸传感器、偏光板的顺序进行层叠。若在触摸传感器的观看侧存在偏光板，则触摸传感器的图案不易被观察到，显示图像的视觉辨认性变得良好，因此优选。各构件可以使用粘接剂、粘合剂等进行层叠。另外，可具备在上述窗、偏光板、触摸传感器中的任一层的至少一面上形成的遮光图案。偏光板可以为圆偏光板。
(窗)
窗被配置于柔性图像显示装置的观看侧，担负保护其他构成要素免受来自外部的冲击或者温湿度等环境变化影响的作用。以往，作为这样的保护层使用了玻璃，但柔性图像显示装置中的窗并非如玻璃那样刚性且坚硬，而是具有柔性的特性。上述窗由柔性的透明基材形成，可以在至少一面含有硬涂层。窗所任选含有的硬涂层与上述的光学层叠体所具有的硬涂层含义相同。
(透明基材)
透明基材在可见光区域的透射率通常为70％以上，优选为80％以上。作为上述透明基材，只要是具有透明性的高分子膜，即可以在不损害本发明的效果的范围内使用。具体而言，作为使用的高分子膜，可举出聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、具有包含降冰片烯或环烯烃的单体单元的环烯烃系衍生物等聚烯烃类、二乙酰纤维素、三乙酰纤维素、丙酰基纤维素等(改性)纤维素类、甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物等丙烯酸类、苯乙烯(共)聚合物等聚苯乙烯类、丙烯腈·丁二烯·苯乙烯共聚物类、丙烯腈·苯乙烯共聚物类、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物类、聚氯乙烯类、聚偏二氯乙烯类、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚芳酯等聚酯类、尼龙等聚酰胺类、聚酰亚胺类、聚酰胺酰亚胺类、聚醚酰亚胺类、聚醚砜类、聚砜类、聚乙烯醇类、聚乙烯醇缩醛类、聚氨酯类、环氧树脂类等膜，从透明性及耐热性优异的方面考虑，优选可举出聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚酯、烯烃、丙烯酸系或纤维素系的膜。这些高分子可以各自单独使用或混合2种以上而使用。这些膜可以以未拉伸的状态使用，或者以经单轴拉伸或双轴拉伸的膜的形式使用。
高分子膜中，也优选分散有二氧化硅等无机粒子、有机微粒、橡胶粒子等。此外，也可以含有颜料、染料这样的着色剂、荧光增白剂、分散剂、增塑剂、热稳定剂、光稳定剂、红外线吸收剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、抗氧化剂、滑剂、溶剂等配合剂。上述透明基材的厚度通常为5～200μm，优选为20～100μm。
(偏光板)
偏光板、其中圆偏光板是通过在直线偏光板上层叠λ/4相位差板而具有仅使右旋或左旋圆偏振光成分透过的功能的功能层。例如可用于：将外界光线转换为右旋圆偏振光，将被有机EL面板反射而成为左旋圆偏振光的外界光线阻断，仅使有机EL的发光成分透过，由此抑制反射光的影响，从而使得容易观看图像。为了达成圆偏振光功能，直线偏光板的吸收轴与λ/4相位差板的慢轴理论上需要为45°，但在实际应用中为45±10°。直线偏光板与λ/4相位差板并非必须相邻层叠，吸收轴与慢轴的关系满足上述的范围即可。优选在全部波长下达成完全的圆偏振光，但在实际应用中并非必须如此，因此，本发明中的圆偏光板也包括椭圆偏光板。也优选在直线偏光板的观看侧进一步层叠λ/4相位差膜，使出射光成为圆偏振光，由此提高佩戴偏光太阳镜的状态下的视觉辨认性。
直线偏光板是具有下述功能的功能层：使在透射轴方向发生振动的光通过、而将与其垂直的振动成分的偏振光阻断。上述直线偏光板可以是单独的直线偏光片或具备直线偏光片及被贴合在其至少一面上的保护膜的结构。上述直线偏光板的厚度可以为200μm以下，优选为0.5～100μm。厚度在上述的范围内时，存在柔软性不易下降的倾向。
上述直线偏光片可以是通过对聚乙烯醇(PVA)系膜进行染色、拉伸而制造的膜型偏光片。通过在经拉伸而发生了取向的PVA系膜上吸附碘等二色性色素，或者在吸附于PVA上的状态下进行拉伸从而使二色性色素发生取向，可发挥偏光性能。上述膜型偏光片的制造中，还可以具有溶胀、基于硼酸的交联、基于水溶液的洗涤、干燥等工序。拉伸、染色工序可以以单独的PVA系膜的形式进行，也可在与聚对苯二甲酸乙二醇酯这样的其他膜层叠的状态下进行。使用的PVA系膜的厚度优选为10～100μm，拉伸倍率优选为2～10倍。
此外，作为上述偏光片的另一例，可以是涂布液晶偏光组合物而形成的液晶涂布型偏光片。上述液晶偏光组合物可包含液晶性化合物及二色性色素化合物。上述液晶性化合物具有呈现液晶状态的性质即可，尤其是在具有近晶相等高阶取向状态时，能发挥高的偏光性能，因而优选。另外，液晶性化合物还优选具有聚合性官能团。
上述二色性色素是与上述液晶化合物一同取向而显示二色性的色素，并且二色性色素本身可以具有液晶性，也可具有聚合性官能团。液晶偏光组合物中的任一种化合物具有聚合性官能团。
上述液晶偏光组合物可以还包含引发剂、溶剂、分散剂、流平剂、稳定剂、表面活性剂、交联剂、硅烷偶联剂等。
上述圆偏光板可以为液晶偏光层。上述液晶偏光层通过在取向膜上涂布液晶偏光组合物而形成液晶偏光层从而制造。
与膜型偏光片相比，液晶偏光层能形成较薄的厚度。上述液晶偏光层的厚度可以优选为0.5～10μm，更优选为1～5μm。
上述取向膜例如可通过以下方式制造：在基材上涂布取向膜形成组合物，通过摩擦、偏振光照射等而赋予取向性。对于上述取向膜形成组合物而言，除了取向剂之外，还可包含溶剂、交联剂、引发剂、分散剂、流平剂、硅烷偶联剂等。作为上述取向剂，例如可使用聚乙烯醇类、聚丙烯酸酯类、聚酰胺酸类、聚酰亚胺类。在应用光取向的情况下，优选使用包含肉桂酸酯基(cinnamate group)的取向剂。可作为上述取向剂使用的高分子的重均分子量可以为10,000～1,000,000左右。从取向限制力的观点考虑，上述取向膜的厚度优选为5～10,000nm，更优选为10～500nm。对于上述液晶偏光层而言，可从基材剥离后进行转印而进行层叠，也可直接层叠上述基材。还优选上述基材发挥作为保护膜、相位差板、窗的透明基材的作用。
作为上述保护膜，为透明的高分子膜即可，可使用可用于上述透明基材的材料、添加剂。优选纤维素系膜、烯烃系膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜。可以是涂布环氧树脂等阳离子固化组合物、丙烯酸酯等自由基固化组合物并使其固化而得到的涂布型保护膜。根据需要，可包含增塑剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、颜料、染料这样的着色剂、荧光增白剂、分散剂、热稳定剂、光稳定剂、防静电剂、抗氧化剂、润滑剂、溶剂等。上述保护膜的厚度可以为200μm以下，优选为1～100μm。上述保护膜的厚度在上述的范围内时，保护膜的柔软性不易下降。保护膜也可兼具窗的透明基材的作用。
上述λ/4相位差板是在与入射光的行进方向正交的方向(膜的面内方向)上赋予λ/4的相位差的膜。上述λ/4相位差板可以是通过对纤维素系膜、烯烃系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜进行拉伸而制造的拉伸型相位差板。根据需要，可包含相位差调节剂、增塑剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、颜料、染料这样的着色剂、荧光增白剂、分散剂、热稳定剂、光稳定剂、防静电剂、抗氧化剂、润滑剂、溶剂等。上述拉伸型相位差板的厚度可以为200μm以下，优选为1～100μm。厚度为上述的范围内时，存在膜的柔软性不易下降的倾向。
此外，作为上述λ/4相位差板的另一例，可以是涂布液晶组合物而形成的液晶涂布型相位差板。上述液晶组合物包含具有显示向列型、胆甾型、近晶型等的液晶状态的性质的液晶性化合物。液晶组合物中的包括液晶性化合物在内的任一种化合物具有聚合性官能团。上述液晶涂布型相位差板可以还包含引发剂、溶剂、分散剂、流平剂、稳定剂、表面活性剂、交联剂、硅烷偶联剂等。上述液晶涂布型相位差板可与上述液晶偏光层中的记载同样地通过在取向膜上涂布液晶组合物并使其固化而形成液晶相位差层从而制造。与拉伸型相位差板相比，液晶涂布型相位差板能形成较薄的厚度。上述液晶偏光层的厚度通常可以为0.5～10μm、优选1～5μm。对于上述液晶涂布型相位差板而言，可从基材剥离后进行转印而进行层叠，也可直接层叠上述基材。还优选上述基材发挥作为保护膜、相位差板、窗的透明基材的作用。
通常，波长越短则双折射越大、波长越长则显示越小的双折射的材料较多。这种情况下，无法在全部可见光区域达成λ/4的相位差，因此，常常以在可见度高的560nm附近成为λ/4那样的面内相位差成为100～180nm、优选130～150nm的方式设计。使用利用了具有与通常相反的双折射率波长分散特性的材料的逆分散λ/4相位差板时，能够使视觉辨认性良好，因而优选。作为这样的材料，在拉伸型相位差板的情况下，也优选使用日本特开2007-232873号公报等中记载的材料，在液晶涂布型相位差板的情况下，也优选使用日本特开2010-30979号公报中记载的材料。
另外，作为其他方法，通过与λ/2相位差板组合而得到宽带域λ/4相位差板的技术也是已知的(日本特开平10-90521号公报)。λ/2相位差板也可利用与λ/4相位差板同样的材料方法制造。拉伸型相位差板与液晶涂布型相位差板的组合是任意的，均使用液晶涂布型相位差板时能够使厚度变薄，因而优选。
对于上述圆偏光板，为了提高倾斜方向的视觉辨认性，层叠正C板的方法也是已知的(日本特开2014-224837号公报)。正C板同样可以是液晶涂布型相位差板，也可以是拉伸型相位差板。厚度方向的相位差通常为-200～-20nm、优选-140～-40nm。
(触摸传感器)
触摸传感器可作为输入机构使用。作为触摸传感器，提出了电阻膜方式、表面弹性波方式、红外线方式、电磁感应方式、静电电容方式等各种方式，可以是任意方式。其中，优选静电电容方式。静电电容方式的触摸传感器可被分为活性区域及位于上述活性区域的外围部的非活性区域。活性区域是与显示面板上显示画面的区域(显示部)对应的区域，是感应使用者的触摸的区域，非活性区域是与显示装置中不显示画面的区域(非显示部)对应的区域。触摸传感器可包括：具有柔性特性的基板；被形成在上述基板的活性区域的感应图案；和被形成在上述基板的非活性区域、并且用于将上述感应图案介由焊盘(pad)部与外部的驱动电路连接的各传感线。作为具有柔性特性的基板，可使用与上述窗的透明基板同样的材料。对于触摸传感器的基板而言，从抑制触摸传感器的裂纹的方面考虑，优选其韧性为2,000MPa％以上。可以更优选韧性为2,000～30,000MPa％。此处，韧性被定义为在通过高分子材料的拉伸实验而得到的应力(MPa)-应变(％)曲线(Stress-strain curve)中、直至破坏点为止的曲线的下部面积。
上述感应图案可具备沿第1方向形成的第1图案及沿第2方向形成的第2图案。第1图案与第2图案沿相互不同的方向被配置。第1图案及第2图案被形成在同一层，为了感应被触摸的位置，各图案必须被电连接。第1图案为各单元图案介由接头相互连接而成的形态，第2图案成为各单元图案相互分离成岛形态而成的结构，因此，为了将第2图案电连接，需要另外的桥电极。感应图案可应用公知的透明电极原材料。可举出例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)、铟锌锡氧化物(IZTO)、铟镓锌氧化物(IGZO)、镉锡氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-亚乙二氧基噻吩))、碳纳米管(CNT)、石墨烯、金属丝等，它们可以单独使用或混合2种以上而使用。优选可使用ITO。可用于金属丝的金属没有特别限制，可举出例如银、金、铝、铜、铁、镍、钛、硒、铬等。它们可以单独使用或混合2种以上而使用。
桥电极可在感应图案上部隔着绝缘层形成在上述绝缘层上部，在基板上形成有桥电极，可在其上形成绝缘层及感应图案。上述桥电极可由与感应图案相同的原材料形成，也可由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡、钛或它们中的2种以上的合金等金属形成。第1图案与第2图案必须电绝缘，因此，在感应图案与桥电极之间形成绝缘层。绝缘层可以仅形成在第1图案的接头与桥电极之间，也可形成为覆盖感应图案的层的结构。在后者的情况下，桥电极可介由在绝缘层上形成的接触孔将第2图案连接。对于上述触摸传感器而言，作为用于适当地补偿形成了图案的图案区域、与未形成图案的非图案区域间的透过率之差(具体为由这些区域中的折射率之差引起的透光率之差)的手段，可在基板与电极之间进一步包含光学调节层，上述光学调节层可包含无机绝缘物质或有机绝缘物质。光学调节层可通过将包含光固化性有机粘结剂及溶剂的光固化组合物涂布于基板上而形成。上述光固化组合物可以还包含无机粒子。可通过上述无机粒子来提高光学调节层的折射率。
上述光固化性有机粘结剂例如可包含丙烯酸酯系单体、苯乙烯系单体、羧酸系单体等各单体的共聚物。上述光固化性有机粘结剂例如可以为包含含有环氧基的重复单元、丙烯酸酯重复单元、羧酸重复单元等相互不同的各重复单元的共聚物。
上述无机粒子例如可包含二氧化锆粒子、二氧化钛粒子、氧化铝粒子等。上述光固化组合物也可还包含光聚合引发剂、聚合性单体、固化辅助剂等各添加剂。
(粘接层(粘合剂层))
形成上述柔性图像显示装置用层叠体的各层(窗、偏光板、触摸传感器)以及构成各层的膜构件(直线偏光板、λ/4相位差板等)可通过粘接剂形成。作为粘接剂，可使用水系粘接剂、有机溶剂系、无溶剂系粘接剂、固体粘接剂、溶剂挥发型粘接剂、湿气固化型粘接剂、加热固化型粘接剂、厌氧固化型、活性能量射线固化型粘接剂、固化剂混合型粘接剂、热熔融型粘接剂、压敏型粘接剂(粘合剂)、再湿型粘接剂等通常使用的粘接剂。其中，常用水系溶剂挥发型粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂、粘合剂。粘接剂层的厚度可根据所要求的粘接力等适当调节，通常为0.01～500μm，优选为0.1～300μm，上述柔性图像显示装置用层叠体中存在多层粘接层，各自的厚度及使用的粘合剂的种类可以相同也可以不同。
作为上述水系溶剂挥发型粘接剂，可使用聚乙烯醇系聚合物、淀粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳液、苯乙烯-丁二烯系乳液等水分散状态的聚合物作为主剂聚合物。除了水、上述主剂聚合物之外，还可以配合交联剂、硅烷系化合物、离子性化合物、交联催化剂、抗氧化剂、染料、颜料、无机填料、有机溶剂等。通过上述水系溶剂挥发型粘接剂进行粘接的情况下，可以将上述水系溶剂挥发型粘接剂注入至被粘接层间，将被粘接层贴合后进行干燥，由此赋予粘接性。使用上述水系溶剂挥发型粘接剂时的粘接层的厚度可优选为0.01～10μm、更优选为0.1～1μm。将上述水系溶剂挥发型粘接剂用于多层的形成时，各层的厚度及上述粘接剂的种类可以相同也可以不同。
上述活性能量射线固化型粘接剂可通过活性能量射线固化组合物的固化而形成，所述活性能量射线固化组合物包含能通过照射活性能量射线而形成粘接剂层的反应性材料。上述活性能量射线固化组合物可含有与硬涂层组合物同样的自由基聚合性化合物及阳离子聚合性化合物中的至少1种的聚合物。前文所谓自由基聚合性化合物，与硬涂层组合物同样，可使用与硬涂层组合物同样的种类的自由基聚合性化合物。作为粘接层中可使用的自由基聚合性化合物，优选具有丙烯酰基的化合物。为了降低作为粘接剂组合物的粘度，还优选包含单官能的化合物。
上述阳离子聚合性化合物与硬涂层组合物同样，可使用与硬涂层组合物同样的种类的阳离子聚合性化合物。作为活性能量射线固化组合物中可使用的阳离子聚合性化合物，特别优选环氧化合物。为了降低作为粘接剂组合物的粘度，还优选包含单官能的化合物作为反应性稀释剂。
在活性能量射线组合物中，可以还包含聚合引发剂。作为聚合引发剂，为自由基聚合引发剂、阳离子聚合引发剂、自由基及阳离子聚合引发剂等，可适当选择使用。这些聚合引发剂是可通过活性能量射线照射及加热中的至少一种而被分解，产生自由基或阳离子从而使自由基聚合和阳离子聚合得以进行的物质。可使用硬涂层组合物的记载中的能通过活性能量射线照射而引发自由基聚合或阳离子聚合中的至少任一者的引发剂。
上述活性能量射线固化组合物可以还包含离子捕获剂、抗氧化剂、链转移剂、密合赋予剂、热塑性树脂、填充剂、流动粘度调节剂、增塑剂、消泡剂、添加剂、溶剂。通过上述活性能量射线固化型粘接剂进行粘接的情况下，可以通过下述方式粘接：将上述活性能量射线固化组合物涂布于被粘接层的某一方或两方后贴合，透过某一方的被粘接层或两方的被粘接层照射活性能量射线而使其固化。使用上述活性能量射线固化型粘接剂时的粘接层的厚度可优选为0.01～20μm、更优选为0.1～10μm。将上述活性能量射线固化型粘接剂用于多层的形成时，各层的厚度及使用的粘接剂的种类可以相同也可以不同。
作为上述粘合剂，根据主剂聚合物，可被分类为丙烯酸系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂等，均可使用。粘合剂中，除了主剂聚合物之外，还可以配合交联剂、硅烷系化合物、离子性化合物、交联催化剂、抗氧化剂、赋粘剂、增塑剂、染料、颜料、无机填料等。将构成上述粘合剂的各成分溶解·分散于溶剂中而得到粘合剂组合物，将该粘合剂组合物涂布于基材上，然后使其干燥，由此，能形成粘合剂层。粘合层可以直接形成，也可将另行在基材上形成的粘合层进行转印。为了覆盖粘接前的粘合面，还优选使用脱模膜。使用上述粘合剂时的粘接层的厚度可优选为1～500μm、更优选为2～300μm。将上述粘合剂用于多层的形成时，各层的厚度及使用的粘合剂的种类可以相同也可以不同。
(遮光图案)
上述遮光图案可作为上述柔性图像显示装置的边框(bezel)或外壳的至少一部分来应用。利用遮光图案将被配置在上述柔性图像显示装置的边缘部的布线隐藏，使其不易被观察到，从而使图像的视觉辨认性提高。上述遮光图案可以为单层或多层的形态。遮光图案的颜色没有特别限制，可具有黑色、白色、金属色等多种颜色。遮光图案可由用于呈现颜色的颜料、和丙烯酸系树脂、酯系树脂、环氧系树脂、聚氨酯、有机硅等高分子形成。它们可以单独使用，或者也可以以2种以上的混合物的形式使用。上述遮光图案可利用印刷、光刻、喷墨等各种方法形成。遮光图案的厚度通常为1～100μm，优选为2～50μm。另外，还优选向遮光图案的厚度方向赋予倾斜等形状。
实施例
以下，通过实施例对本发明更详细地进行说明。只要没有特别说明，则例中的“％”及“份”是指质量％及质量份。首先对评价方法进行说明。
＜1.测定方法＞
(光学膜的反射(SCE)a*、反射(SCE)b*、反射(SCI)a*、反射(SCI)b*)
将实施例及比较例中得到的光学膜切成50mm×50mm的大小，然后与黑色PET((株)巴川制作所制“Kukkiri Mieru”)贴合，得到反射光学测定用的样品。
利用分光测色计(Konica Minolta(株)制“CM-3700A”)，对得到的评价用样品的SCE方式(镜面反射光除去)、及SCI方式(包括镜面反射光在内)的色相进行测定。测定直径设为LAV：直径8mm，测定条件设为di：8°、de：8°(扩散照明·8°方向受光)，测定视野设为2°，光源使用D65光源，UV条件设为100％Full。此处，所谓色相，是指CIE1976L*a*b*颜色空间中的a*及b*。此外，光学膜的反射(SCE)a*及反射(SCI)a*也利用与上述同样的条件进行测定。
(具有圆偏光板的层叠体的反射(SCE)b*)及反射(SCI)b*)
就具有圆偏光板的层叠体的反射(SCE)b*及反射(SCI)b*而言，除了将测定对象从光学膜变更为具有圆偏光板的层叠体以外，与光学膜的测定方法同样地测定。另外，同样地，也测定反射(SCE)a*及反射(SCI)a*。
(具有圆偏光板的层叠体的视觉透射率Y)
视觉透射率Y为XYZ表色系统中的表示物体颜色的明度的物性值。视觉透射率Y使用分光测色计(Konica Minolta(株)制“CM-3700A”)来测定。
(光学膜的透射b*)
将实施例及比较例中得到的光学膜切成50mm×50mm的大小，使用分光测色计(Konica Minolta(株)制“CM-3700A”)，对透射光进行测定。测定直径设为LAV：直径25.4mm，测定视野设为2°。另外，测定光源使用D65光源，UV条件设为100％Full。此处，所谓色相，是指CIE1976L*a*b*颜色空间中的a*及b*。
(具有圆偏光板的层叠体的透射b*)
就具有圆偏光板的层叠体的透射b*而言，除了将测定对象从光学膜变更为具有圆偏光板的层叠体以外，与光学膜的测定方法同样地进行测定。另外，同样地，也测定具有圆偏光板的层叠体的透射a*。
(光学膜及粘合剂层的膜厚)
使用测微计((株)Mitutoyo制“ID-C112XBS”)，对光学膜的10处以上的膜厚进行测定，算出其平均值。同样地测定粘合剂层的厚度，算出其平均值。
(光学膜的全光线透过率及雾度)
光学膜的全光线透过率及雾度分别按照JIS K 7361-1：1997、JIS K 7136：2000，使用Suga Test Instruments(株)制的全自动直读式雾度计算机HGM-2DP进行测定。将实施例及比较例的光学膜切成30mm×30mm的大小而制作测定试样。
(光学膜的黄色指数)
对于光学膜的黄色指数(Yellow Index：YI值)而言，使用紫外可见近红外分光光度计(日本分光(株)制“V-670”)来测定。在没有样品的状态下进行背景测定，然后将实施例及比较例中得到的光学膜设置于样品支架，进行相对于300～800nm光的透射率测定，求出三刺激值(X、Y、Z)。根据得到的三刺激值，基于ASTM D1925标准，基于下式算出YI值。
YI＝100×(1.2769X-1.0592Z)/Y
(二氧化硅粒子的粒径)
对于二氧化硅粒子的粒径而言，按照JIS Z 8830，根据基于BET吸附法的比表面积测定值算出。使用比表面积测定装置(Yuasa-ionics(株)制“MONOSORB(注册商标)MS-16”)，对使硅溶胶于300℃干燥而得到的粉末的比表面积进行测定。
(重均分子量)
凝胶渗透色谱(GPC)测定
(1)前处理方法
使试样溶解于γ-丁内酯(GBL)中，制成20质量％溶液，然后，用DMF洗脱液稀释100倍，用0.45μm膜滤器进行过滤，将所得滤液作为测定溶液。
(2)测定条件
色谱柱：TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0mm I.D.×150mm×3根)
洗脱液：DMF(添加10mmol的溴化锂)
流量：0.6mL/分钟
检测器：RI检测器
柱温：40℃
进样量：20μL
分子量标准：标准聚苯乙烯
(酰亚胺化率)
酰亚胺化率通过1H-NMR测定，以下述方式求出。
(1)前处理方法
使包含聚酰亚胺系高分子的光学膜溶解于氘代二甲基亚砜(DMSO-d6)中，制成2质量％溶液，将其作为测定试样。
(2)测定条件
测定装置：JEOL制400MHz NMR装置JNM-ECZ400S/L1
标准物质：DMSO-d6(2.5ppm)
试样温度：室温
累积次数：256次
弛豫时间：5秒
(3)酰亚胺化率分析方法
(聚酰亚胺树脂的酰亚胺化率)
在针对包含聚酰亚胺树脂的测定试样而得到的1H-NMR波谱中所观测到的苯质子中，将来自在酰亚胺化前后未变化的结构的苯质子A的积分值设为IntA。另外，将观测到的来自在聚酰亚胺树脂中残留的酰胺酸结构的酰胺质子的积分值设为IntB。根据这些积分值，基于下式，求出聚酰亚胺树脂的酰亚胺化率。
酰亚胺化率(％)＝100×(1-α×IntB/IntA)
上述式中，α为聚酰胺酸(酰亚胺化率为0％)的情况下的苯质子A的个数相对于1个酰胺质子而言的比例。
(聚酰胺酰亚胺树脂的酰亚胺化率)
在针对包含聚酰胺酰亚胺树脂的测定试样而得到的1H-NMR波谱中所观测到的苯质子中，将来自在酰亚胺化前后未变化的结构、且不受来自在聚酰胺酰亚胺树脂中残留的酰胺酸结构的结构影响的苯质子C的积分值设为IntC。另外，将所观测到的苯质子中来自在酰亚胺化前后未变化的结构、且受到来自在聚酰胺酰亚胺树脂中残留的酰胺酸结构的结构影响的苯质子D的积分值设为IntD。根据得到的IntC及IntD，利用下式求出β值。
β＝IntD/IntC
接着，针对多个聚酰胺酰亚胺树脂，求出上述式的β值及上述式的聚酰亚胺树脂的酰亚胺化率，根据这些结果，得到以下的关联式。
酰亚胺化率(％)＝k×β+100
上述关联式中，k为常数。
将β代入关联式，得到聚酰胺酰亚胺树脂的酰亚胺化率(％)。
(树脂的HSP值的计算)
对聚酰胺酰亚胺树脂1(PAI-1)在溶剂中的溶解性进行评价。向透明的容器中，投入表1所示这样的溶解度参数已知的溶剂(出处：聚合物手册第4版)10mL和0.1g的聚酰胺酰亚胺树脂1，制备混合液。对得到的混合物实施累计6小时的超声波处理。通过目视对超声波处理后的混合液的外观进行观察，根据得到的观察结果，基于下述的评价基准，对聚酰胺酰亚胺树脂1在溶剂中的溶解性进行评价。将评价结果示于表1。需要说明的是，同样地，针对聚酰胺酰亚胺树脂2(PAI-2)及聚酰亚胺树脂1(PI)，变更聚酰胺酰亚胺树脂1-溶剂体系中的聚酰胺酰亚胺树脂1和树脂的种类，除此以外，同样地评价在溶剂中的溶解性。
(评价基准)
1：混合液的外观白浊。
0：混合液的外观透明。
[表1]
Figure GDA0002743813050000401
根据得到的树脂在溶剂中的溶解性的评价结果，使用上述的汉森溶解球法，制作汉森球。将得到的汉森球的中心坐标作为HSP值。将其结果示于表2。
[表2]
Figure GDA0002743813050000402
(二氧化硅的HSP值的计算)
从硅溶胶1中除去溶剂，将作为固态成分的二氧化硅1取出。对该二氧化硅1在溶剂中的分散性进行评价。向透明的容器中，投入表3所示这样的溶解度参数已知的溶剂(出处：聚合物手册第4版)10mL和0.1g的二氧化硅1，制备混合液。对得到的混合物实施累计6小时的超声波处理。通过目视，对超声波处理后的混合液的外观进行观察，根据得到的观察结果，基于下述的评价基准，对二氧化硅1在溶剂中的分散性进行评价。将评价结果示于表3。需要说明的是，同样地，针对甲醇分散硅溶胶(日产化学工业(株)制“MA-ST-L”，一次粒径为20～25nm)、及甲醇分散硅溶胶(硅溶胶2，一次粒径为10～12nm)，将二氧化硅1-溶剂体系中作为其原料的硅溶胶的种类进行变更，除此以外，同样地评价在溶剂中的分散性。
(评价基准)
1：混合液的外观白浊。
0：混合液的外观透明。
[表3]
Figure GDA0002743813050000411
根据硅溶胶中分散的各二氧化硅在溶剂中的分散性的评价结果，使用上述的汉森溶解球法，制作汉森球。将得到的汉森球的中心坐标作为HSP值。将其结果示于表4。
[表4]
Figure GDA0002743813050000421
(树脂-二氧化硅系的HSP值)
根据表2及表4，使用式(6)～式(9)算出树脂-二氧化硅体系的HSP值。将其结果示于表5。
[表5]
Figure GDA0002743813050000422
如表5所示，二氧化硅1、2-树脂体系的Ra、Δδt及Δδp分别小于二氧化硅(MA-ST-L)-树脂体系的Ra、Δδt及Δδp。另外，二氧化硅1、2-树脂体系的Ra、Δδt、及Δδp分别满足式(3)～式(5)。
(弹性模量)
粘合剂层的弹性模量(拉伸弹性模量)G’是通过遵照JIS K 7127的拉伸试验、使用电气机械式万能试验机(Instron公司制)而测定的。测定条件为试验速度5m/分钟及测力负载传感器(load cell)5kN。
＜2.评价方法＞
(光学膜的放出稳定性及膜外观的评价)
以卷对卷的方式制作实施例及比较例的光学膜。将该光学膜从卷中放出(放卷)、通过目视对放出时的光学膜的状态进行观察。根据观察结果，基于下述的评价基准，评价放出稳定性。从优异的情况起，依次以◎、△、及×表示。
(光学膜的放出性的评价基准)
◎：将膜端部从卷中放出时，顺利地放出。
○：将膜端部从卷中放出时，观察到略微勾挂，但顺利地放出。
△：将膜端部从卷中放出时，虽观察到勾挂，但膜中没有伤痕，并且膜不会断开。
×：将膜端部从卷中放出时，观察到勾挂，膜中产生伤痕或膜断开。
(具有圆偏光板的层叠体的视觉辨认性评价)
在反射板(铝板，反射率97％)的表面设置具有圆偏光板的层叠体，观察者从自具有圆偏光板的该层叠体平面的垂直方向倾斜45°的角度，通过目视对具有圆偏光板的层叠体进行观察。根据观察结果，基于下述的评价基准，对具有圆偏光板的层叠体的视觉辨认性进行评价。从优异的情况起，依次以〇、△及×表示。
(具有圆偏光板的层叠体的视觉辨认性的评价基准)
〇：反射板上，相较于垂直方向而言，45°斜面处没有色相变化。
△：反射板上，相较于垂直方向而言，45°斜面处略微有色相变化。
×：反射板上，相较于垂直方向而言，45°斜面处色相变化大。
(抑制膜外观品质的降低的评价)
制作实施例及比较例的光学膜。在光学膜上重叠黑纸，通过目视，从光学膜侧观察光学膜的外观。对是否带白色(白浊的有无)进行确认。根据观察结果，基于下述的评价基准，对抑制膜外观品质的降低进行评价。
(抑制膜外观品质的降低的评价基准)
◎(非常良好)：透明。
○(良好)：透明，但略带白色。
×(差)：不透明，且带白色。
＜3.光学膜的制造＞
[3-1.聚酰亚胺系高分子的制造]
〔制造例1：聚酰亚胺树脂1〕
准备在可分离式烧瓶上安装硅胶管、搅拌装置及温度计而成的反应容器、和油浴。向设置于油浴中的反应容器内，投入75.52g的4,4’-(六氟异丙叉)二邻苯二甲酸二酐(6FDA)、和54.44g的2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯(TFMB)。一边将反应容器内的内容物以400rpm进行搅拌，一边进一步将519.84g的N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)投入反应容器中，继续搅拌，直至反应容器内的内容物成为均匀的溶液。接着，一边使用油浴以容器内温度成为20～30℃的范围的方式进行调整，一边进一步继续搅拌20小时，进行反应，生成聚酰胺酸。30分钟后，将搅拌速度变更为100rpm。搅拌20小时后，使反应体系温度恢复至室温(25℃)，将649.8g的DMAc进一步投入反应容器内，以聚合物浓度成为10重量％(以反应容器内的内容物的总重量为基准)的方式进行调整。进而，将32.27g的吡啶和41.65g的乙酸酐投入反应容器内，于室温搅拌10小时，进行酰亚胺化。从反应容器中取出聚酰亚胺清漆。将得到的聚酰亚胺清漆滴加至甲醇中，进行再沉淀。通过过滤，取出沉淀物，进行干燥，得到粉体。对得到的粉体进一步进行加热干燥而除去溶剂，作为固态成分，得到聚酰亚胺树脂1。得到的聚酰亚胺树脂1的重均分子量为320,000，酰亚胺化率为98.6％。
〔制造例2：聚酰胺酰亚胺树脂1〕
在氮气气氛下，准备在容量1L的可分离式烧瓶中具备搅拌叶片的反应容器、和油浴。向设置于油浴中的反应容器内投入45g的TFMB(140.52mmol)和768.55g的DMAc。于室温对反应容器内的内容物进行搅拌，使TFMB溶解于DMAc中。接着，向反应容器内进一步投入18.92g(42.58mmol)的6FDA，将反应容器内的内容物于室温搅拌3小时。然后，向反应容器中投入4.19g(14.19mmol)的4,4’-氧双(苯甲酰氯)(OBBC)，接着投入17.29g(85.16mmol)的对苯二甲酰氯(TPC)，将反应容器内的内容物于室温搅拌1小时。接着，向反应容器内进一步投入4.63g(49.68mmol)的4-甲基吡啶和13.04g(127.75mmol)的乙酸酐，将反应容器内的内容物于室温搅拌30分钟。搅拌后，使用油浴将容器内温度升温至70℃，维持于70℃进一步搅拌反应容器内的内容物3小时，得到反应液。
将得到的反应液冷却至室温，以线状投入至大量的甲醇中，析出沉淀物。将析出的沉淀物取出，在甲醇中浸渍6小时后，用甲醇进行洗涤。接着，于100℃进行沉淀物的减压干燥，得到聚酰胺酰亚胺树脂。聚酰胺酰亚胺树脂的重均分子量为400,000，酰亚胺化率为98.8％。
〔制造例3：聚酰胺酰亚胺树脂2〕
在氮气气氛下，准备在容量1L的可分离式烧瓶中具备搅拌叶片的反应容器、和油浴。向设置于油浴中的反应容器中投入45g(140.52mmol)的TFMB和768.55g的DMAc。一边于室温搅拌反应容器内的内容物一边使TFMB溶解于DMAc中。接着，向反应容器内进一步投入19.01g(42.79mmol)的6FDA，于室温对反应容器内的内容物搅拌3小时。然后，向反应容器中投入4.21g(14.26mmol)的OBBC，接着投入17.30g(85.59mmol)的TPC，于室温将反应容器内的内容物搅拌1小时。接着，向反应容器内进一步投入4.63g(49.68mmol)的4-甲基吡啶和13.04g(127.75mmol)的乙酸酐，将反应容器内的内容物于室温搅拌30分钟。搅拌后，使用油浴将容器内温度升温至70℃，维持于70℃进一步搅拌3小时，得到反应液。
将得到的反应液冷却至室温，以线状投入至大量的甲醇中，析出沉淀物。将析出的沉淀物取出，在甲醇中浸渍6小时后，用甲醇进行洗涤。接着，于100℃进行沉淀物的减压干燥，得到聚酰胺酰亚胺树脂。得到的聚酰胺酰亚胺树脂的重均分子量为365,000，酰亚胺化率为98.9％。
[3-2.二氧化硅粒子的制造]
〔制造例4硅溶胶1〕
准备作为反应容器的容量1L的烧瓶、和热水浴。向设置于热水浴中的反应容器内，投入442.6g的甲醇分散硅溶胶(一次粒径为25nm，二氧化硅固态成分为30.5％)、和301.6g的γ-丁内酯。使用热水浴使容器内温度为45℃，使用蒸发器使反应容器内的压力为400hPa，维持1小时，接着，使反应容器内的压力为250hPa，维持1小时，使甲醇蒸发。进一步使反应容器内的压力为250hPa，将容器内温度升温至70℃，加热30分钟。结果，得到γ-丁内酯分散硅溶胶(硅溶胶1，SGS7#09)。得到的γ-丁内酯分散硅溶胶的固态成分为28.9％。
〔制造例5硅溶胶2〕
将甲醇分散硅溶胶的一次粒径变更为10nm，将二氧化硅固态成分变更为22％，除此以外，利用与制造例4同样的方法进行溶剂置换，得到固态成分为20％的γ-丁内酯分散硅溶胶(硅溶胶2)。
〔制造例6硅溶胶3〕
将甲醇分散硅溶胶(一次粒径为25nm，二氧化硅固态成分为30.5％)变更为甲醇分散硅溶胶(日产化学工业(株)制“MA-ST-L”，一次粒径为40～50nm)，除此以外，利用与制造例4同样的方法进行溶剂置换，得到固态成分为30.5％及一次粒径为50nm的γ-丁内酯分散硅溶胶(硅溶胶3)。
[3-3.清漆的制造]
〔制造例7清漆1〕
向γ-丁内酯中，以表6所示的组成，加入聚酰胺酰亚胺树脂1、硅溶胶1、作为紫外线吸收剂的Sumisorb(注册商标)340、和作为增白剂的Sumiplast(注册商标)violet B，以固态成分成为10.2％的方式制备清漆1。
表6中，“树脂”及“二氧化硅粒子”栏的含量的单位(wt％)表示相对于树脂及二氧化硅粒子的总质量而言的比例(质量％)。“紫外线吸收剂”栏的含量的单位phr表示相对于树脂及二氧化硅粒子的总质量而言的比例(质量％)。
[表6]
Figure GDA0002743813050000471
〔制造例8～13：清漆2～8〕
变更为表6所示的组成(成分的种类及/或含量)，将置换的溶剂从γ-丁内酯变更为N,N-二甲基乙酰胺，将树脂的固态成分浓度变更为11.0％，除此以外，利用与清漆1同样的方法，制备清漆3。另外，变更为表6所示的组成(成分的种类及/或含量)，除此以外，利用与清漆1同样的方法，分别制备清漆2及4～8。
〔实施例1〕
[3-4.光学膜的制造]
将得到的清漆1流延成型于PET膜(东洋纺(株)制“Cosmoshine(注册商标)A4100”)上，成型为涂膜。流延成型中的PET的搬运速度为0.3m/分钟。然后，于80℃加热20分钟，于90℃加热20分钟，由此将涂膜干燥，将涂膜从PET膜剥离。然后，一边用拉幅机于200℃将涂膜横向拉伸12分钟一边进行加热，由此得到厚度51μm的聚酰胺酰亚胺膜1。
〔实施例2〕
将涂布的膜厚变更，除此以外，与实施例1同样地操作，得到膜厚29μm的聚酰胺酰亚胺膜2。
〔实施例3〕
将清漆1变更为清漆2，除此以外，利用与实施例1同样的方法，得到膜厚50μm的聚酰胺酰亚胺膜3。
〔实施例4〕
将清漆1变更为清漆3，除此以外，利用与实施例1同样的方法，得到膜厚49μm的聚酰胺酰亚胺膜4。
〔实施例5〕
将清漆1变更为清漆4，除此以外，与实施例1同样地操作，得到膜厚48μm的聚酰胺酰亚胺膜5。
〔实施例6〕
将清漆1变更为清漆5，除此以外，与实施例1同样地操作，得到膜厚48μm的聚酰胺酰亚胺膜6。
〔实施例7〕
将清漆1变更为清漆6，除此以外，与实施例1同样地操作，得到膜厚78μm的聚酰亚胺膜7。
〔比较例1〕
将清漆1变更为清漆7，除此以外，与实施例1同样地操作，得到膜厚52μm的聚酰亚胺膜8。
〔比较例2〕
将清漆1变更为清漆8，除此以外，与实施例1同样地操作，得到膜厚50μm的聚酰胺酰亚胺膜9。
通过目视，对得到的聚酰胺酰亚胺膜1～6、9以及聚酰亚胺膜7、8的外观进行观察，确认白浊的有无。仅聚酰胺酰亚胺膜9确认到白浊的存在，除此以外的膜中未确认到白浊的存在。
[表7]
Figure GDA0002743813050000491
实施例1～7的光学膜包含聚酰胺酰亚胺，且满足式(1)，它们的放出稳定性的评价为◎、○及△中的任一者。比较例1～2的光学膜包含聚酰胺酰亚胺，不满足式(1)，它们的放出稳定性的评价结果均为×。
可知与比较例1～2的光学膜相比，实施例1～7的光学膜的放出稳定性及膜外观均优异。
另外，实施例1～7的光学膜中，由汉森溶解球法确定的三维距离Ra满足式(3)，它们的抑制膜外观品质的降低的评价结果均为○(良好)。比较例2的光学膜中，三维距离Ra不满足式(3)，其抑制膜外观品质的降低的评价结果为×(差)。BA表示丙烯酸丁酯。MMA表示甲基丙烯酸甲酯。HEA表示丙烯酸羟基乙酯。AA表示丙烯酸。交联剂及SC剂的添加量是相对于单体100份而言的质量。
[表8]
Figure GDA0002743813050000501
(粘合剂层1的形成)
在经脱模处理的基材(聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，厚度38μm)的脱模处理面上，利用涂敷器涂布粘合剂层形成用组合物1，形成涂布层。使涂布层于100℃干燥1分钟，形成粘合剂层1。粘合剂层1的厚度为25μm。
接着，在粘合剂层1上贴合经脱模处理的另一基材(聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，厚度38μm)。然后，在温度23℃、相对湿度50％RH的条件下熟化7天。由此，得到具备粘合剂层1的膜。对得到的粘合剂层1的弹性模量G’及厚度进行测定。将测定结果归纳于表9。
需要说明的是，以下，层叠粘合剂层的情况下，在层叠粘合剂层后将经脱模处理的基材剥离。
(粘合剂层2的形成)
将粘合剂层形成用组合物1变更为粘合剂层形成用组合物2，以粘合剂层的厚度成为5μm的方式涂布粘合剂层形成用组合物，除此以外，与粘合剂层1的形成同样地操作，形成粘合剂层2。将粘合剂层2的弹性模量及厚度归纳于表9。
[表9]
Figure GDA0002743813050000511
[3-6.偏光板的制造]
(取向膜形成用组合物的制备)
聚合物1是包含以下的结构单元的具有光反应性基团的聚合物。
Figure GDA0002743813050000512
根据GPC测定，得到的聚合物1的分子量以数均分子量计为28,200，分散度(Mw/Mn)为1.82，单体含量为0.5％。使用将聚合物1以5质量％的浓度溶解于环戊酮而得到的溶液作为取向膜形成用组合物。
(取向膜的形成)
在保护膜(三乙酰纤维素：TAC)上，利用棒涂法涂布上述取向膜形成用组合物，形成涂膜。使涂膜于80℃干燥1分钟。接着，使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7，USHIO INC(株)制)及线栅(USHIO INC(株)制“UIS-27132##”)，在曝光量为100mJ/cm2(365nm基准)的条件下，对涂膜照射偏振UV光。由此在保护膜上形成取向膜。取向膜具有取向性能，其厚度为100nm。
(偏光片形成用组合物的制备)
(聚合性液晶化合物)
聚合性液晶化合物使用式(5)表示的聚合性液晶化合物[以下，也称为化合物(5)]和式(6)表示的聚合性液晶化合物[以下，也称为化合物(6)]。
[化学式5]
Figure GDA0002743813050000521
[化学式6]
Figure GDA0002743813050000522
化合物(5)及化合物(6)利用Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas、115、321-328(1996)中记载的方法来合成。
(二向色性色素)
二向色性色素使用下述式(7)、式(8)、式(9)表示的日本特开2013-101328号公报的实施例中记载的偶氮色素。
[化学式7]
Figure GDA0002743813050000523
[化学式8]
Figure GDA0002743813050000524
[化学式9]
Figure GDA0002743813050000525
(偏光片层形成用组合物的制备)
偏光片层形成用组合物通过下述方式制备：化合物(5)75质量份、化合物(6)25质量份、作为二向色性染料的上述式(7)、(8)、(9)表示的偶氮色素各2.5质量份、作为聚合引发剂的2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮(Irgacure 369，BASF Japan公司制)6质量份、以及作为流平剂的聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N，BYK-Chemie公司制)1.2质量份在甲苯400质量份中混合，将得到的混合物于80℃搅拌1小时。
(偏光片的制造)
在形成的取向膜上，利用棒涂法涂布上述偏光片形成用组合物，形成涂膜。使涂膜于100℃加热干燥2分钟。接着，冷却至室温。使用上述UV照射装置，在累积光量为1200mJ/cm2(365nm基准)的条件下，对涂膜照射紫外线。由此，在取向膜上形成偏光片。偏光片的厚度为3μm。
(保护层的形成)
在偏光片上，涂布包含聚乙烯醇和水的组合物，形成涂膜。将涂膜于80℃的温度干燥3分钟。由此，在偏光片上形成保护层。保护层的厚度为0.5μm。
通过上述方式，制造了依次层叠保护膜、取向膜、偏光片、及保护层而成的偏光层。
(λ/4相位差板及正C板的形成)
将以下所示的各成分混合，将得到的混合物于80℃搅拌1小时，由此得到λ/4相位差层形成用组合物。
下式所示的化合物b-1：80质量份
Figure GDA0002743813050000531
下式所示的化合物b-2：20质量份
Figure GDA0002743813050000541
聚合引发剂(Irgacure369，2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮，BASF Japan公司制)：6质量份
流平剂(BYK-361N，聚丙烯酸酯化合物，BYK-Chemie公司制)：0.1质量份
溶剂(环戊酮)：400质量份
在第1基材膜(厚度100μm，聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET))上，利用棒涂法涂布上述取向膜形成用组合物，在80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥被膜实施偏振UV光照射处理，形成第2取向膜。就偏振UV光处理而言，使用上述UV照射装置，以在波长365nm测得的累积光量为100mJ/cm2的条件进行。另外，以偏振UV光的偏振方向相对于偏光层的吸收轴成为45°的方式进行。通过这样的方式，得到由“第1基材膜/第2取向膜”形成的层叠体。第2取向膜的厚度为100nm。
在由“第1基材膜/第2取向膜”形成的层叠体的第2取向膜上，利用棒涂法涂布λ/4相位差层形成用组合物，在120℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟，然后冷却至室温。针对得到的干燥被膜，使用上述UV照射装置，照射累积光量为1000mJ/cm2(365nm基准)的紫外线，由此形成相位差层。利用激光显微镜(Olympus(株)制OLS3000)对得到的相位差层的厚度进行测定，结果为2.0μm。相位差层是在面内方向上呈现出λ/4的相位差值的λ/4板。通过这样的方式，得到由“第1基材膜/第2取向膜/λ/4相位差层”形成的层叠体。
将以下所示的各成分混合，将得到的混合物于80℃搅拌1小时，由此得到正C相位差层形成用组合物。
下式所示的化合物(LC242，BASF Japan公司制)：100质量份
Figure GDA0002743813050000551
聚合引发剂(Irgacure 907，2-甲基-4’-(甲硫基)-2-吗啉代苯丙酮，BASF Japan公司制)：2.6质量份
流平剂(BYK-361N，聚丙烯酸酯化合物，BYK-Chemie公司制)：0.5质量份
添加剂(LR9000，BASF Japan公司制)：5.7质量份
溶剂(丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯)：412质量份
与上述λ/4相位差板同样地，在第2基材膜(厚度100μm，聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET))上，利用棒涂法涂布上述取向膜形成用组合物，在90℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟，形成第3取向膜。然后，在第3取向膜上，利用棒涂法涂布正C相位差层形成用组合物，在90℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟，然后，在氮气氛下，使用上述UV照射装置，照射累积光量为1000mJ/cm2(365nm基准)的紫外线，由此形成正C板。利用激光显微镜(Olympus(株)制OLS3000)对得到的正C板的厚度进行测定，结果为1.8μm。
然后，使用粘合剂层2，将正C板的剥离了第2基材膜的面贴合于上述λ/4相位差板的与第1基材膜呈相反的一侧，由此制作相位差层。
形成的λ/4相位差板及正C板均包含聚合性液晶化合物以取向的状态固化而得到的层。
[3-7.具有圆偏光板的层叠体的制造]
使用聚酰胺酰亚胺膜1、偏光层、粘合剂层1及粘合剂层2，制造层叠体1。层叠体1依次具备聚酰胺酰亚胺膜1/粘合剂层1/偏光层(保护膜/取向膜/偏光片/保护层)/粘合剂层2。介由粘合剂层2，将相位差层的剥离了第1基材膜的面贴合于偏光层的与保护膜侧相反的一侧。相位差层是将λ/4相位差板(RWP)和正C板(PosiC)层叠而得到的层。然后，在上述相位差层的与偏光层相反的一侧，设置粘合剂层1。由此制造具有圆偏光板的层叠体1。层叠体1依次具备聚酰胺酰亚胺膜1/粘合剂层1/偏光层(保护膜/取向膜/偏光片/保护层)/粘合剂层2/相位差层(λ/4相位差板/正C板)/粘合剂层1。此处，相位差层中的取向膜的表述被省略。
需要说明的是，就偏光层与相位差层的贴合而言，以偏光层的吸收轴相对于相位差层的慢轴(光轴)实质上成为45°的方式，介由粘合剂层2，将偏光层与相位差层贴合。
针对具有圆偏光板的层叠体，测定、算出光学特性值。详细而言，对透射b*、透射a*、反射(SCE)方式的a*、b*及Y进行测定。根据得到的透射b*、反射(SCE)b*及反射(SCI)b*，算出透射b*-反射(SCE)b*。将测定结果及计算结果归纳于表10。
〔实施例9〕
代替聚酰胺酰亚胺膜1而将聚酰胺酰亚胺膜5应用于前面板，除此以外，与实施例8同样地操作，制造具有圆偏光板的层叠体2，测定、算出光学特性值。
〔实施例10〕
代替聚酰胺酰亚胺膜1而将聚酰亚胺膜7应用于前面板，除此以外，与实施例8同样地操作，制造具有圆偏光板的层叠体3，测定、算出光学特性值。
〔比较例3〕
代替聚酰胺酰亚胺膜1而将聚酰亚胺膜8应用于前面板，除此以外，与实施例8同样地操作，制造具有圆偏光板的层叠体4，测定、算出光学特性值。
[表10]
Figure GDA0002743813050000571
实施例8～10的具有圆偏光板的层叠体满足式(39)，它们的视觉辨认性的评价为○及△中的任一者。另外，实施例8～10的具有圆偏光板的层叠体也满足式(40)。
比较例3的圆偏光板不满足式(39)，其视觉辨认性的评价为X。另外，比较例3的具有圆偏光板的层叠体也不满足式(40)。
可知与比较例3的具有圆偏光板的层叠体相比，实施例8～10的具有圆偏光板的层叠体的视觉辨认性优异。

Claims (10)

1.光学膜，其包含选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种，并且满足式(1)：
0.04≤反射(SCE)b*/反射(SCI)b*≤1.5……(1)
式(1)中，反射(SCE)b*表示以SCE方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，反射(SCI)b*表示以SCI方式求出的于该光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的b*，
所述光学膜的膜厚为10μm以上且120μm以下，以光学膜的总质量为基准，聚酰亚胺系树脂及/或聚酰胺系树脂的含量为50质量％以上。
2.如权利要求1所述的光学膜，其还满足式(2)：
反射(SCE)a*/反射(SCI)a*≤2.5……(2)
式(2)中，反射(SCE)a*表示以SCE方式求出的于所述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*，反射(SCI)a*表示以SCI方式求出的于所述光学膜反射的光在L*a*b*表色系统中的a*。
3.如权利要求1或2所述的光学膜，其雾度为1％以下，全光线透过率Tt为85％以上。
4.如权利要求1或2所述的光学膜，其还含有二氧化硅粒子。
5.如权利要求4所述的光学膜，其中，所述二氧化硅粒子是对水溶性醇分散硅溶胶进行溶剂置换而得到的二氧化硅粒子。
6.如权利要求1或2所述的光学膜，其还含有紫外线吸收剂。
7.光学层叠体，其具有：权利要求1～6中任一项所述的光学膜；和位于该光学膜的至少一面上的硬涂层。
8.柔性图像显示装置，其具备权利要求7所述的光学层叠体。
9.如权利要求8所述的柔性图像显示装置，其还具备圆偏光板。
10.如权利要求8或9所述的柔性图像显示装置，其还具备触摸传感器。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11603440B2 (en) * 2019-09-12 2023-03-14 Dupont Electronics, Inc. Polyimide films and electronic devices
WO2021166578A1 (ja) * 2020-02-18 2021-08-26 住友化学株式会社 光学積層体
JP7193559B2 (ja) * 2020-02-18 2022-12-20 住友化学株式会社 光学積層体
WO2022010299A1 (ko) * 2020-07-10 2022-01-13 코오롱인더스트리 주식회사 광투과성 필름 및 이를 포함하는 표시장치
JPWO2022176884A1 (zh) * 2021-02-16 2022-08-25
KR102584535B1 (ko) * 2021-05-27 2023-09-27 인하대학교 산학협력단 흄드 실리카 나노입자를 포함하는 투명 하이브리드 필름 및 그 제조방법

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6186413A (ja) * 1984-10-03 1986-05-01 Natl Inst For Res In Inorg Mater 光彩色を呈する透明シリカ質ゾルの製造法
JP5061901B2 (ja) * 2005-08-29 2012-10-31 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 液晶表示装置
JP2007133162A (ja) * 2005-11-10 2007-05-31 Fujifilm Corp 防眩性フィルム、その製造方法、これを用いた偏光板および画像表示装置
TWI491649B (zh) * 2007-04-13 2015-07-11 Ube Industries Polyimide film with smoothness
JP2009122416A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Toppan Printing Co Ltd 光学薄膜フィルム
JP4957592B2 (ja) * 2008-03-10 2012-06-20 新日本理化株式会社 ポリイミド樹脂組成物及びその成形体
JP2011037956A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Mitsui Chemicals Tohcello Inc 樹脂組成物およびこれから得られる表面保護フィルム
JP5614218B2 (ja) * 2009-11-20 2014-10-29 東洋紡株式会社 黒色耐熱遮光フィルムとその製造方法、および、それを用いた絞り、光量調整モジュール並びに耐熱遮光テープ
JP2015134843A (ja) * 2012-03-30 2015-07-27 新日本理化株式会社 高透明性ポリイミド樹脂
KR102453716B1 (ko) * 2016-06-30 2022-10-11 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 위상차 필름

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