TW201923537A - 光構件之生產方法、具備觸控感測器之製品的生產方法、光構件及觸控感測器裝置 - Google Patents

光構件之生產方法、具備觸控感測器之製品的生產方法、光構件及觸控感測器裝置 Download PDF

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Abstract

一種光構件之生產方法,該光構件係包含層積體且至少局部透明者,該方法包含以下程序:將透明的基材與透明的膜以透明的光硬化型黏合層夾於中間而相互貼合從而製作前驅層積體;為了使前述前驅層積體變化為前述層積體而對前述透明的光硬化型黏合層照射光,以依溫度25℃、頻率1Hz的條件而測定的前述層積體的前述透明的光硬化型黏合層的剪切模量G’成為屬於3×105Pa≦G’≦3×107Pa的範圍的值的方式,使前述透明的光硬化型黏合層硬化;將前述層積體切斷於厚度方向,從而形成包含前述透明的膜、前述透明的光硬化型黏合層及前述透明的基材的各切斷面的前述層積體的齊面的端面。

Description

光構件之生產方法、具備觸控感測器之製品的生產方法、光構件及觸控感測器裝置
本發明涉及光構件及其生產方法,該光構件係作為設於例如觸控感測器的接觸輸入面的蓋體而使用者,尤其涉及觸控感測器裝置及具備觸控感測器之製品的生產方法。
圖1係就作為具備此種光構件的構成的一例而記載於日本特許出願公開2014-160473號公報(2014年9月4日發行,以下稱文獻1)的攜帶式電子機器的橫截面的構成進行繪示者,攜帶式電子機器係構成為具有以下者:框體11、金屬嵌片12、導電襯墊13、觸控面板控制器14、背光15、液晶顯示部16、觸控面板部17、蓋玻璃18、飛散防止膜19、黏著劑20、屏蔽接地21及電池22。
示於此圖1的構成中,蓋玻璃18係保護觸控面板部17者,飛散防止膜19係為了在蓋玻璃18破損的情況下玻璃片不會飛散而進行保護者,在本例中,此等蓋玻璃18與飛散防止膜19層積配置於觸控面板部17之上表面(接觸輸入面)。
蓋玻璃18與飛散防止膜19透過黏著劑20固著,本例中蓋玻璃18與飛散防止膜19係具有相同的大小者。
如上所述,在文獻1中,在觸控面板部17的接觸輸入面上,具備以由蓋玻璃18、黏著劑20及飛散防止膜19的3層而成的層積體所構成的光構件,蓋玻璃18與飛散防止膜19作成相同的大小,3層構造的層積體係具有蓋玻璃18、黏著劑20及飛散防止膜19的各端面對齊的齊面的端面者。
然而,如記載於此文獻1的由3層構造的層積體而成的光構件,在由將透明的基材與透明的膜以黏著劑之層夾於中間而貼合的層積體所成的光構件方面,不容易以於層積體形成齊面的端面的方式將3層正確位置對準而貼合,耗費工夫,無法避免生產效率的劣化。
對此,採取例如使膜比基材小(面積狹小)而不以3層的端面的齊面為必要的貼合時,生產效率雖提升,基材表面的周緣存在無膜的部分,亦即光構件之表面的面的均勻性受損,會招致光構件之視覺上的品質的降低。
所以,在由3層構造的層積體所成的光構件方面,要生產效率佳地獲得齊面的端面,考量將3層的層積體以一次的切斷程序於厚度方向上切斷而形成齊面的端面如此的方法。
然而,在由以如此的方法而製作的層積體所成的光構件之端面,黏著劑之層的切斷面會曝露,故在將該光構件併入而組裝觸控感測器裝置或具備觸控感測器之製品的程序中,作業員處理時觸碰光構件之端面等有可能因而發生黏著劑之層的碎片剝離、脫落或於切斷面附著異物或膜更從端部剝離如此的品質劣化、瑕疵。另外,黏著劑之層柔軟,故亦存在不易切斷如此的問題。
本發明的目的在於鑒於如此的問題而提供一種光構件之生產方法及具備觸控感測器之製品的生產方法,尤其提供一種光構件及觸控感測器裝置,該光構件係以一層積體所成者,該層積體係在具有齊面的端面之下亦不會由於黏著劑之層曝露使得於後續的製品的組裝程序中產生各種的瑕疵者。
依本發明時,一種光構件之生產方法,該光構件係包含層積體且至少局部透明者,該方法包含以下程序:將透明的基材與透明的膜以透明的光硬化型黏合層夾於中間而相互貼合從而製作前驅層積體;為了使前述前驅層積體變化為前述層積體而對前述透明的光硬化型黏合層照射光,以依溫度25℃、頻率1Hz的條件而測定的前述層積體的前述透明的光硬化型黏合層的剪切模量G’成為屬於3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍的值的方式,使前述透明的光硬化型黏合層硬化;將前述層積體切斷於厚度方向從而形成包含前述透明的膜、前述透明的光硬化型黏合層及前述透明的基材的各切斷面的前述層積體的齊面的端面。
基於本發明下的具備觸控感測器之製品的生產方法包含以下程序:將透過上述光構件之生產方法而生產的光構件、和觸控感測器或內置觸控感測器的裝置以再一個透明的黏合層夾於中間而相互貼合。
依本發明的第1觀點時,一種光構件,其係包含依序層積透明的基材、透明的黏合層及透明的膜之層積體者,前述透明的黏合層包含由第1反應部位與第2反應部位形成的第1種的交聯、和以不飽和雙鍵的加成聚合而形成的第2種的交聯雙方,該第1反應部位係從由(甲基)丙烯酸系聚合物的羥基、羧基及胺基所成的第1群中選出者,該第2反應部位係從由異氰酸酯基、環氧基及金屬原子所成的第2群中選出者,前述層積體的端面包含前述透明的膜、前述透明的黏合層及前述透明的基材的各切斷面而作成齊面。
依本發明的第2觀點時,一種光構件,其係包含依序層積透明的基材、透明的黏合層及透明的膜之層積體者,前述透明的黏合層包含由多官能(甲基)丙烯酸酯交聯的(甲基)丙烯酸系聚合物,前述透明的黏合層的依溫度25℃、頻率1Hz的條件而測定的剪切模量G’作成屬於3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍的值,前述層積體的端面包含前述透明的膜、前述透明的黏合層及前述透明的基材的各切斷面而作成齊面。
基於本發明下的觸控感測器裝置具有上述任一個光構件、和觸控感測器或內置觸控感測器的裝置被以再一個的透明的黏合層夾於中間而相互接合的構造。
依本發明時,可良好地生產由膜、黏合層及基材的層積體所成並具有齊面的端面的光構件,此外儘管黏合層的端面曝露,作業員觸碰端面仍不會發生黏合層的碎片剝離、脫落如此的情形,亦不會發生異物往端面的附著、膜從端部剝落如此的瑕疵。
因此,可良好地進行後續的觸控感測器裝置或具備觸控感測器之製品的組裝。
以下,說明本發明的實施例。
圖2係就作為基於本發明下的光構件之一實施例而設於觸控感測器的接觸輸入面的蓋體的外觀概要進行繪示者,圖3A係示出其剖面構造者。另外,在圖3A係誇大顯示構成蓋體的各部分的厚度。
蓋體30以依序層積透明的基材31、透明的黏合層32及透明的膜33的層積體34而構成,在本例中進一步具備遮光性的設計部35。設計部35在本例中形成於基材31的與膜33相向之側的相反側的面的周緣部。圖2中將形成設計部35之部分附加虛線的影線而顯示,觸控感測器的接觸輸入面位於此形成為框狀的設計部35的框內的透明的區域36。另外,圖2中,37、38表示為了將按鍵等收容配置而貫穿形成於蓋體30的孔。
於具有如上述的構成的蓋體30,基材31基本上作用為保護觸控感測器者,膜33基本上作用為在基材31破損的情況下防止碎片的飛散的飛散防止膜。
基材31係玻璃或樹脂製,膜33方面採用PET(聚對苯二甲酸乙二酯)、TAC(三乙醯纖維素)、COP(環烯烴聚合物)等。此外,膜33方面亦可使用玻璃膜。黏合層32係包含(甲基)丙烯酸系聚合物的光硬化型的黏合層。
本發明的特徵在於適度使此包含(甲基)丙烯酸系聚合物的光硬化型的黏合層硬化,硬化狀態的指標方面採用剪切模量(儲能模量)G’。
於此,說明有關透過實驗就以下情況進行調查的結果:光硬化型的黏合層的粘性、因作業員觸碰而發生的剝離、脫落、再加上與黏合對象的密接性如此的光硬化型的黏合層具有的特性因剪切模量G’的值而如何變化。剪切模量G’的測定條件(動態粘彈性測定條件)設為以下。   ・測定溫度範圍:-40~+140℃   ・升溫速度:+3℃/min   ・測定溫度:25℃   ・扭曲:1%   ・頻率:1Hz   ・治具:平行板φ25mm   ・樣品厚度:400~600μm
亦即,剪切模量G’的值係作成在一面使上述測定溫度範圍(-40~+140℃)以上述升溫速度(+3℃/min)予以變化一面進行測定的過程中之上述測定溫度(25℃)時的測定值。
示於圖4的表係顯示剪切模量G’的值與特性的關係者,粘性及脫落的欄係無粘性、剝離、脫落的情況以YES表示,有的情況以NO表示。此外,密接性的欄係與黏合對象的密接性無問題的情況以YES表示,密接性不良而發生剝離的情況以NO表示。另外,剪切模量G’的值例如可透過改變丙烯酸的酯鍵的部分的烷基的長度從而改變。
根據示於表中的實驗結果得知:使光硬化型的黏合層的剪切模量G’的值為3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍時,可作成可消解粘性、剝離、脫落且密接性方面亦無問題的硬度的黏合層。
以下,基於上述實驗結果,就生產示於圖2及圖3A的蓋體30之際的生產方法依程序之順序具體進行說明。
(1)於基材局部印刷形成設計部。
(2)將基材與膜以光硬化型的黏合層在中間夾住而相互貼合,製作前驅層積體。光硬化型的黏合層係具體而言形成由第1反應部位與第2反應部位形成的熱交聯者,該第1反應部位係從(甲基)丙烯酸系聚合物的由羥基、羧基及胺基所成的第1群中選出者,該第2反應部位係從由異氰酸酯基、環氧基及金屬原子所成的第2群中選出者,該黏合層係作成具有黏著性的薄片狀,透過此黏著性使基材與膜貼合。
(3)為了使前驅層積體變化為層積體,對光硬化型的黏合層照射光。光係穿透未形成設計部的膜而照射於光硬化型的黏合層。此種的光硬化型的黏合層係一般而言紫外線硬化型,照射例如波長λ=365nm的紫外線。透過紫外線照射,以依溫度25℃、頻率1Hz如此的前述的測定條件而測定的光硬化型的黏合層的剪切模量G’成為屬於3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍的方式,使光硬化型的黏合層硬化。
(4)將如上述般使光硬化型的黏合層硬化而製作的層積體切斷於厚度方向。透過此切斷程序,層積體成為如示於圖3A的層積體34,亦即層積體34的各端面如表現於圖3A的端面34a、34b,成為包含膜33、黏合層32及基材31的各切斷面的齊面的端面。此齊面的端面亦包含設計部35的切斷面。另外,黏合層32的厚度超過30μm時開始引起粘性、剝離、脫落,故作成30μm以下,另一方面低於10μm時開始發生密接性的不良,故作成10μm以上,因此優選上作成10~30μm的範圍。
透過以上的程序完成蓋體30。
另外,對光硬化型的黏合層照射光從而使光硬化型的黏合層硬化,可使剪切模量G’成為屬於如上述的3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍的值係因為:(甲基)丙烯酸系聚合物為由多官能(甲基)丙烯酸酯交聯所致者,換言之熱交聯(第1種的交聯)以外,因不飽和雙鍵的加成聚合而形成的第2種的交聯(包含光交聯的交聯)形成於(甲基)丙烯酸系聚合物,2種類的交聯彼此牽扯而構成互穿聚合物網路。
根據此點,作為層積體34中的黏合層32(硬化後的黏合層)的條件界定,亦可代替(A)而界定為(B):   (A)黏合層32包含由多官能(甲基)丙烯酸酯交聯的(甲基)丙烯酸系聚合物,且依溫度25℃、頻率1Hz的條件而測定的剪切模量G’作成屬於3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍的值,   (B)黏合層32包含由(甲基)丙烯酸系聚合物的前述的第1反應部位與第2反應部位形成的第1種的交聯(熱交聯)、和以不飽和雙鍵的加成聚合形成的第2種的交聯(包含光交聯的交聯)雙方。
在上述的例中,遮光性的設計部35雖透過印刷局部形成於基材31的與膜33相向之側的相反側的面(與膜33貼合之側的相反側的面),惟亦可設計部35局部形成於膜33的與基材31相向之側的面(與基材31貼合之側的面),亦即在設置設計部35的情況下採膜33的與基材31相向之側的面或基材31的與膜33相向之側的相反側的面中的任一者。
圖3B顯示設計部35形成於膜33的與基材31相向之側的面的蓋體30’,與圖3A對應之部分標注相同符號。此外,如同圖3A,誇大顯示各部分的厚度。
此圖3B的構成的情況下,為了使光硬化型的黏合層硬化,照射於光硬化型的黏合層的光(紫外線)被穿透未形成設計部的基材而照射。另外,如此的不具備設計部的構成的情況下對於光硬化型的黏合層的光的照射方向未特別限定。
以上,就基於本發明下的光構件及光構件之生產方法,以設於觸控感測器的接觸輸入面的蓋體為例進行說明,惟黏合層實現膜與基材的黏合後,透過光照射而適度硬化,故比起切斷未硬化的黏著劑之層的情況,可易於進行切斷,據此可良好地生產具有膜、黏合層及基材齊面的端面的蓋體。
此外,後續的觸控感測器裝置或具備觸控感測器之製品的組裝程序等中,即使作業員觸碰蓋體的端面,仍不會發生黏合層的碎片從黏合層的切斷面剝離、脫落如此的情形,亦不會發生異物往切斷面的附著、膜從端部剝落如此的瑕疵。因此,可良好地進行後續的觸控感測器裝置或具備觸控感測器之製品的組裝。
圖5及圖6係分別示意性就具備示於圖2及圖3A的蓋體30的觸控感測器裝置的剖面構成進行繪示者,圖5中,40表示觸控感測器,50表示畫面顯示裝置。此外,圖6中,70表示觸控感測器內置型畫面顯示裝置。
圖5中蓋體30將透明的黏合層61夾於中間而接合於觸控感測器40,觸控感測器40將透明的黏合層62夾於中間而接合於畫面顯示裝置50。此外,圖6中成為蓋體30將透明的黏合層63夾於中間而接合於觸控感測器內置型畫面顯示裝置70的構成。
另外,於如此般設置於觸控感測器的接觸輸入面的蓋體,為了防止觸控感測器裝置內部的構件被紫外線照射而隨時間劣化,再者為了從紫外線所致的劣化保護構成層積體34的膜33、基材31本身,多半要求紫外線吸收功能。
此外,膜33除飛散防止功能以外,多半作成具備反射防止性能的功能性膜,該情況下亦一方面於可見光區域具有高的透射率,另一方面紫外線的透射率多半低。
此等情況下,使光硬化型的黏合層為如前述的一般的紫外線硬化型的黏合層時,無法良好地進行光照射所致的硬化。本發明方面即使在此等情況下仍可良好地使光硬化型的黏合層硬化。
於此,使基材31與膜33中至少一者為含有紫外線吸收劑者、或具有基材31與膜33中至少一者於350~390nm的光波長範圍的全範圍不足50%、和於390-750nm的光波長範圍的全範圍中50%以上的透光率者,亦即作成基材31與膜33中至少一者係具有紫外線遮斷作用者。此情況下,   a)於基材31形成設計部35,至少膜33具有紫外線遮斷作用的情況   b)於膜33形成設計部35,至少基材31具有紫外線遮斷作用的情況   c)僅管未形成設計部35,惟膜33及基材31雙方具有紫外線遮斷作用的情況   如此的a)-c)3個情況下紫外線硬化型的黏合層方面無法良好地予以硬化。因此,此等3個情況下光硬化型的黏合層作成包含與屬於390-450nm的光波長範圍的一定波長成分光發生反應的光自由基引發劑與(甲基)丙烯酸系聚合物者,使光硬化型的黏合層硬化的程序中對光硬化型的黏合層照射的光作成包含前述波長成分光者。
使用如此的光硬化型的黏合層,使得即使於基材31、膜33存在紫外線遮斷作用仍可良好地使黏合層硬化。另外,如上述之與屬於390-450nm的光波長範圍的一定波長成分光發生反應的光自由基引發劑方面,可使用例如醯基氧化膦系光自由基引發劑。此外,對黏合層照射如上述的光波長範圍的光的光源方面可採用金屬鹵素燈等。
以上,以配置於觸控感測器的接觸輸入面的蓋體為例說明本發明,惟基於本發明下的光構件不限於例示的蓋體,以依序層積透明的基材、透明的黏合層及透明的膜而成的層積體而構成者為對象。
11‧‧‧框體
12‧‧‧金屬嵌片
13‧‧‧導電襯墊
14‧‧‧觸控面板控制器
15‧‧‧背光
16‧‧‧液晶顯示部
17‧‧‧觸控面板部
18‧‧‧蓋玻璃
19‧‧‧飛散防止膜
20‧‧‧黏著劑
21‧‧‧屏蔽接地
22‧‧‧電池
30、30'‧‧‧蓋體
31‧‧‧基材
32‧‧‧黏合層
33‧‧‧膜
34‧‧‧層積體
34a、34‧‧‧端面
35‧‧‧設計部
36‧‧‧透明的區域
37、38‧‧‧孔
40‧‧‧觸控感測器
50‧‧‧畫面顯示裝置
61、62、63‧‧‧黏合層
70‧‧‧觸控感測器內置型畫面顯示裝置
圖1係供於說明光構件之習知構成例所用的圖。   圖2係就基於本發明下的光構件之一實施例進行繪示的平面圖。   圖3A係供於說明示於圖2的光構件之剖面構造所用的圖。   圖3B係供於說明光構件之其他剖面構造所用的圖。   圖4係就黏合層的剪切模量G’的值與特性的關係進行繪示的表。   圖5係就基於本發明下的觸控感測器裝置的一實施例進行繪示的剖面圖。   圖6係就基於本發明下的觸控感測器裝置的其他實施例進行繪示的剖面圖。

Claims (19)

  1. 一種光構件之生產方法,該光構件係包含層積體且至少局部透明者,   包含以下程序:   將透明的基材與透明的膜以透明的光硬化型黏合層夾於中間而相互貼合,從而製作前驅層積體;   為了使前述前驅層積體變化為前述層積體而對前述透明的光硬化型黏合層照射光,以依溫度25℃、頻率1Hz的條件而測定的前述層積體的前述透明的光硬化型黏合層的剪切模量G’成為屬於3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍的值的方式,使前述透明的光硬化型黏合層硬化;   將前述層積體切斷於厚度方向,從而形成包含前述透明的膜、前述透明的光硬化型黏合層及前述透明的基材的各切斷面的前述層積體的齊面的端面。
  2. 如請求項1的光構件之生產方法,其中,   在前述製作前驅層積體的程序之前,進一步包含一程序,該程序係在將前述透明的膜的與前述透明的基材貼合之側的面或前述透明的基材的與前述透明的膜貼合之側的相反側的面中的任一者,局部印刷形成遮光性的設計部者,   於前述使透明的光硬化型黏合層硬化的程序,前述光係透射前述透明的膜與前述透明的基材之中的未印刷形成前述遮光性的設計部之一方而照射於前述透明的光硬化型黏合層,   於在前述形成層積體的齊面的端面的程序中形成的前述齊面的端面更亦包含前述遮光性的設計部的切斷面。
  3. 如請求項2的光構件之生產方法,其中,   前述透明的膜與前述透明的基材之中的未印刷形成前述遮光性的設計部之一方含有紫外線吸收劑,   前述透明的光硬化型黏合層包含與屬於390-450nm的光波長範圍的一定波長成分光發生反應的光自由基引發劑與(甲基)丙烯酸系聚合物而成,   於前述使透明的光硬化型黏合層硬化的程序中照射於前述透明的光硬化型黏合層的前述光包含前述一定波長成分光。
  4. 如請求項2的光構件之生產方法,其中,   前述透明的膜與前述透明的基材之中的未印刷形成前述遮光性的設計部之一方具有於350-390nm的光波長範圍的全範圍方面不足50%、和於390-750nm的光波長範圍的全範圍方面50%以上的透光率,   前述透明的光硬化型黏合層包含與屬於390-450nm的光波長範圍的一定波長成分光發生反應的光自由基引發劑與(甲基)丙烯酸系聚合物而成,   於前述使透明的光硬化型黏合層硬化的程序中照射於前述透明的光硬化型黏合層的前述光包含前述一定波長成分光。
  5. 一種製品的生產方法,該製品係具備觸控感測器者,   包含以下程序:將透過如請求項1~4中任一項的光構件之生產方法而生產的光構件、和觸控感測器或內置觸控感測器的裝置,以再一個透明的黏合層夾於中間而相互貼合。
  6. 一種光構件,其係以依序層積透明的基材、透明的黏合層及透明的膜之層積體而構成者,   前述透明的黏合層包含由第1反應部位與第2反應部位形成的第1種的交聯、和以不飽和雙鍵的加成聚合而形成的第2種的交聯雙方,該第1反應部位係從由(甲基)丙烯酸系聚合物的羥基、羧基及胺基所成的第1群中選出者,該第2反應部位係從由異氰酸酯基、環氧基及金屬原子所成的第2群中選出者,   前述層積體的端面包含前述透明的膜、前述透明的黏合層及前述透明的基材的各切斷面而作成齊面。
  7. 如請求項6的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者含有紫外線吸收劑。
  8. 如請求項6的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者具有於350-390nm的光波長範圍的全範圍方面不足50%、和於390-750nm的光波長範圍的全範圍方面50%以上的透光率。
  9. 如請求項6的光構件,其中,   在前述透明的膜的與前述透明的基材相向之側的面或前述透明的基材的與前述透明的膜相向之側的相反側的面中的任一者,局部形成遮光性的設計部,   前述層積體的前述端面更包含前述遮光性的設計部的切斷面而作成齊面。
  10. 如請求項9的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者含有紫外線吸收劑。
  11. 如請求項9的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者具有於350-390nm的光波長範圍的全範圍方面不足50%、和於390-750nm的光波長範圍的全範圍方面50%以上的透光率。
  12. 一種光構件,其係包含依序層積透明的基材、透明的黏合層及透明的膜之層積體者,   前述透明的黏合層包含由多官能(甲基)丙烯酸酯交聯的(甲基)丙烯酸系聚合物,   前述透明的黏合層的依溫度25℃、頻率1Hz的條件而測定的剪切模量G’係作成屬於3×105 Pa≦G’≦3×107 Pa的範圍的值,   前述層積體的端面包含前述透明的膜、前述透明的黏合層及前述透明的基材的各切斷面而作成齊面。
  13. 如請求項12的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者含有紫外線吸收劑。
  14. 如請求項12的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者具有於350-390nm的光波長範圍的全範圍方面不足50%、和於390-750nm的光波長範圍的全範圍方面50%以上的透光率。
  15. 如請求項12的光構件,其中,   在前述透明的膜的與前述透明的基材相向之側的面或前述透明的基材的與前述透明的膜相向之側的相反側的面中的任一者,局部形成遮光性的設計部,   前述層積體的前述端面更包含前述遮光性的設計部的切斷面而作成齊面。
  16. 如請求項15的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者含有紫外線吸收劑。
  17. 如請求項15的光構件,其中,前述透明的基材與前述透明的膜中至少一者具有於350-390nm的光波長範圍的全範圍方面不足50%、和於390-750nm的光波長範圍的全範圍方面50%以上的透光率。
  18. 一種觸控感測器裝置,具有如請求項6~11中任一項的光構件、和觸控感測器或內置觸控感測器的裝置被以再一個的透明的黏合層夾於中間而相互接合的構造。
  19. 一種觸控感測器裝置,具有如請求項12~17中任一項的光構件、和觸控感測器或內置觸控感測器的裝置被以再一個的透明的黏合層夾於中間而相互接合的構造。
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