TW201917423A - 顯示面板的製造方法及顯示面板 - Google Patents

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Abstract

一種顯示面板的製造方法及顯示面板，製造方法包括：分別形成彩色濾光片與透明導電膜於第一基板的一表面，其中彩色濾光片位於第一基板與透明導電膜之間；形成靜電防護層於第一基板的另一表面；形成另一透明導電膜於第二基板；形成顯示分子層於第一基板與第二基板之間；進行一缺陷檢測於顯示面板；當發現一缺陷存在於顯示面板時，雷射照射於靜電防護層，使得對應於缺陷位置的靜電防護層形成碳化結構。將靜電防護層同時作為亮點修復層，當亮點出現時，無需製造額外的遮蓋層，即可簡單的通過碳化結構的方式實現亮點的暗化。

Description

顯示面板的製造方法及顯示面板
本發明涉及顯示面板的顯示面板的製造方法及顯示面板。
顯示器於日常生活中是常見的裝置，廣泛應用於手機及電腦中，尤其是智慧手機及觸控電腦中。液晶顯示器是一種非自發光的顯示器，其液晶是介於晶體與液體之間的物質，受到電場等外部的刺激，液晶分子的排列會受到電場而變化。液晶分子排列的不同而產生通過光線的偏極方向不同，利用此特性搭配上偏光片，可產生光柵，並可製作出顯示元件。而薄膜電晶體可由外部控制，提供所需控制電場給液晶，以控制液晶的亮與暗。
然而，在元件製造中，特別是薄膜電晶體的製造中，可能由於無塵室，或是儀器設備，及工藝條件的控制不佳，產生一些非預期微粒子，殘留或沉落於薄膜電晶體上。這些微粒子可能造成不正常短路或開路(依設計而定)，使此有缺陷的薄膜電晶體所對應的像素產生一固定亮點，此現象成為產品缺陷。這種問題，傳統上又稱之為亮點缺陷。
目前，針對上述的缺陷，常見的修補亮點方式，是利用雷射來碳化彩色濾光片。然而，在實際的應用下，由於彩色濾光片設置於顯示面板的內部，且與其它元件相互接觸，因此，雷射照射彩色濾光片時，容易損壞其它內部元件，像是透明導電層(用以觸控感測使用)。如此一來，顯示面板依舊會出現黑暈現象，而影響顯示功能。
本發明之實施例提出一顯示面板製造方法及顯示面板，以解決現有技術修復亮點工藝複雜的技術缺陷。
本發明的實施例提出一種顯示面板的製造方法，包括：分別形成彩色濾光片與透明導電膜於第一基板的表面，其中彩色濾光片位於第一基板與透明導電膜之間；形成靜電防護層於第一基板的另一表面；形成另一透明導電膜於第二基板；形成顯示分子層於第一基板與第二基板之間；進行一缺陷檢測於該顯示面板；當發現一缺陷存在於該顯示面板時，雷射照射於該靜電防護層，使得對應於該缺陷位置的該靜電防護層形成一碳化結構。
本發明的實施例提出一種顯示面板的製造方法，形成靜電防護層的步驟中，靜電防護層包含有機透明導電材料層。
本發明的實施例提出一種顯示面板的製造方法，有機透明導電材料為聚乙烯噻吩及以其為聚合基體的衍生物。
本發明的實施例提出一種顯示面板的製造方法，形成靜電防護層的步驟中，以濕膜狀態下塗佈有機透明導電材料層於第一基板。
本發明的實施例提出一種顯示面板的製造方法，有機透明導電材料層的厚度為1000nm~2500nm。
本發明的實施例提出一種顯示面板的製造方法，有機透明導電材料的阻值為107~109Ω。
本發明的實施例提出了一種顯示面板，包括：第一基板、彩色濾光片、第一透明導電膜、靜電防護層、第二基板、第二透明導電膜以及顯示分子層。彩色濾光片設置於第一基板的表面，第一透明導電膜設置於第一基板的表面，其中，彩色濾光片位於第一基板與透明導電膜之間。靜電防護層設置於第一基板的另一表面，而靜電防護層包括有機透明導電材料層，且有機透明導電材料層的厚度為1000~2500nm。第二透明導電膜設置於第二基板，且顯示分子層夾設於第一基板與第二基板之間。
本發明的實施例提出了一種顯示面板，有機透明導電材料的阻值為107~109Ω。
本發明的實施例提出了一種顯示面板，靜電防護層包括表層、中間層及底層，中間層為有機透明導電材料，且透明導電材料的透光率大於90%。
本發明的實施例提出另一種顯示面板，包含第一基板、彩色濾光片、第一透明導電膜、靜電防護層、第二基板、第二透明導電膜以及顯示分子層。彩色濾光片設置於 第一基板的表面，第一透明導電膜設置於第一基板的表面，且彩色濾光片位於第一基板與第一透明導電膜之間。靜電防護層設置於第一基板的另一表面，其中靜電防護層具有碳化結構。第二透明導電膜設置於第二基板，而顯示分子層設置於第一基板與第二基板之間。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，靜電防護層包含有機導電透明層，且其阻值為107~109Ω。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，該有機透明導電材料為聚乙烯噻吩及以聚乙烯噻吩為聚合基體的衍生物。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，碳化結構的面積小於靜電防護層的面積。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，靜電防護層包含表層、中間層以底層，而中間層為有機透明導電材料。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，碳化結構位於中間層。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，彩色濾光片包含第一濾光結構、第二濾光結構與黑色結構，黑色結構位於第一濾光結構與第二濾光結構，且碳化結構位置對應於第一濾光結構。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，碳化結構的面積會等於或大於第一濾光結構，且碳化結構的面積會小於該第一濾光結構與第二濾光結構的面積總和。
本發明的實施例提出了另一種顯示面板，碳化結構位置也對應於第二濾光結構，且碳化結構的面積等於或大於第一濾光結構與第二濾光結構的面積總和。
S01~S06‧‧‧步驟
1‧‧‧彩色濾光片
2‧‧‧第一基板
3‧‧‧第二基板
4‧‧‧顯示分子層
5‧‧‧透明導電膜
6‧‧‧靜電防護層
7‧‧‧碳化結構
8‧‧‧凹坑
9‧‧‧污染物
601‧‧‧表層
602‧‧‧中間層
603‧‧‧底層
H‧‧‧靜電防護層厚度
H1‧‧‧碳化結構厚度
A‧‧‧表層厚度
B‧‧‧中間層厚度
C‧‧‧底層厚度
R‧‧‧第二濾光結構
G‧‧‧第三濾光結構
B‧‧‧第一濾光結構
BM‧‧‧黑色結構
為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之詳細說明如下：圖1為本發明的實施例的顯示面板的製造方法工藝流程圖。
圖2A及圖2B為本發明的實施例中靜電防護層厚度對碳化結果影響的示意圖。
圖3為本發明的一實施例的顯示面板的結構示意圖。
圖4為本發明的一實施例的顯示面板的結構示意圖。
圖5為本發明的另一實施例的顯示面板的結構示意圖。
圖6為本發明的一實施例中，具有碳化結構的顯示面板的結構示意圖。
圖7為本發明的另一實施例中，具有碳化結構的顯示面板的結構示意圖。
圖8為本發明的一實施例中，具有碳化結構的顯示面板的結構示意圖。
圖9為本發明的另一實施例中，具有碳化結構的顯示面板的結構示意圖。
圖10為本發明的另一實施例中，具有碳化結構的顯示面板觸的結構示意圖。
圖11為本發明的實施例中，雷射修補的顯示面板的上視圖。
以下將以圖式及詳細說明清楚說明本發明之精神，任何所屬技術領域中具有通常知識者在瞭解本發明之較佳實施例後，當可由本發明所教示之技術，加以改變及修飾，其並不脫離本發明之精神與範圍。
本發明的顯示面板亮點修復方法及製造方法是通過將顯示面板的靜電防護層同時集成為亮點修復層，無論是顯示面板製造過程中或者使用過程中出現亮點，簡單通過碳化靜電防護層的方式即可實現亮點的修復。
圖1為本發明的實施例的顯示面板的製造方法工藝流程圖，如圖1所示，本發明的實施例提出了一種顯示面板的製造方法，包括：步驟S01：分別形成彩色濾光片與透明導電膜於第一基板的表面，其中彩色濾光片位於第一基板與透明導電膜之間。步驟S02：形成靜電防護層於第一基板的另一表面。步驟S03：形成另一透明導電膜於第二基板。步驟S04：形成顯示分子層於第一基板與第二基板之間。步驟S05：進行缺陷檢測於顯示面板。步驟S06：當發現一缺陷存在於該顯示面板時，雷射照射於該靜電防護層，使得對應於該缺陷位置的該靜電防護層形成碳化結構。
本發明的實施例中，主要在於步驟S02中選用 有機透明導電材料作為靜電防護層材料，尤其選用聚乙烯噻吩(PEDOT)及以聚乙烯噻吩為聚合基體的衍生物，並設計靜電防護層的厚度在1000nm~2500nm，使靜電防護層實現釋放靜電和亮點缺陷修復的雙重功能。
本發明的實施例中，靜電防護層的厚度在1000nm~2500nm之間，較佳為1500~2000nm。當靜電防護層厚度大於2500nm時，經過雷射碳化後的碳化結構會具有表面突起，形成外觀缺陷。於本實施例中，碳化原理為通過高溫對採用有機透明導電材料的靜電防護層進行碳化。詳言之，高溫狀態下，有機層逐步失去H、O等元素後逐漸被碳化，H、O元素於高溫下溢出的狀況下，會使有機層失去原有結構，發生微觀爆炸，厚度越厚，形變越嚴重。請參閱圖2A與圖2B，圖2A及圖2B為本發明的實施例的靜電防護層厚度對碳化結果影響的示意圖。為了方便說明，圖2A與圖2B僅繪示靜電防護層6設置於第一基板2，其它層則忽略。如圖2A及圖2B所示，圖2A中靜電防護層6的厚度d在1000nm~2500nm之間，且經過雷射照射後，靜電防護層6則形成碳化結構7。碳化結構7表面略微形成突起，而不會影響顯示面板的外觀與顯示品質。圖2B中靜電防護層6的厚度D大於2500nm，受到雷射作用後，碳化結構7表面形成明顯突起，外觀形成明顯缺陷，進而影響顯示品質。因此，於本發明的實施例中，靜電防護層在2500nm以內，可有效避免上述形變問題。同時，當靜電防護層厚度大於1000nm，在完全碳化的狀態下，可實現對亮點有完美遮蔽效果。
本發明的實施例中，PEDOT作為雷射修復有機層，其自身擁有優越的光學性能，透光率大於90%，且為有機導電物質，其阻值較佳控制在107Ω~109Ω，不僅有助於靜電防護，釋放電荷，滿足顯示面板釋放電荷需求，也能有效提升顯示面板觸控功能的靈敏性。
請再參閱圖1，於本發明的實施例的步驟S02中，是於濕膜狀態下塗佈有機透明導電材料層(如PEDOT)於第一基板上方形成靜電防護層。詳言之，先對第一基板進行清洗，再塗佈有機透明導電材料層，最後再對有機透明導電材料進行烘烤至乾燥成膜。此外，利用塗佈工藝而使第一基板表面成膜時，由於濕膜狀態下的高流動性，可將有機透明導電材料層填充於第一基板外觀凹坑(Dimple)8。如圖3的實施例所示，第一基板2的表面具有外觀凹坑8，而通過塗佈濕膜狀態的靜電防護層6，使其能夠填入凹坑8，進而填補第一基板2外觀凹坑(Dimple)，提升顯示品質。
請再參閱圖1，本發明的實施例的步驟S02中，靜電防護層形成於第一基板的整個表面，以實現釋放靜電的作用。同時，當亮點出現時，無論出現在顯示面板的任何位置，均可以通過靜電防護層的碳化結構實現亮點暗化。因此，靜電防護層集成亮點修復功能，不需在原本的工藝中加入額外亮點修復層的工序。同時，除了修補亮點的作用外，本發明的靜電防護層具備填充基板上凹坑的作用，進而提升顯示品質與美觀。於另一實施例中，整面的靜電防護層易可協助觸控感測。進一步舉例說明，當使用者的手指或觸控筆 等觸碰靜電防護層時，會使得靜電防護層與其它金屬層之間的電容值發生變化，進而形成觸控感測。
圖4為本發明的實施例的顯示面板結構示意圖，如圖4所示，本發明的實施例的顯示面板，包括：第一基板2、彩色濾光片1、第一透明導電膜5、靜電防護層6、第二基板3、第二透明導電膜5與顯示分子層4。彩色濾光片1與第一透明導電膜5分別設置於第一基板2的同一表面，且彩色濾光片1位於第一基板2與第一透明導電膜5之間。靜電防護層6則設置於第一基板的另一表面，使得第一透明導電膜5與靜電防護層6位於第一基板2的相對兩表面。此外，第二透明導電膜5設置於第二基板3，而顯示分子層4則夾設於第一基板2與第二基板3之間。詳言之，顯示面板更包含薄膜電晶體(未繪示)，可設置於第二基板3，本領域技術人員都能理解其顯示面板的作動原理，在此就不進行贅述。
於本發明的實施例中，靜電防護層6包含有機透明導電材料層。當靜電防護層6由有機材料所組成時，則可通過雷射照射，使得有機材料中的氧、氫會被碳化，進而通過碳化結構成遮蔽缺陷來進行修補。另外，有機透明導電材料層的厚度為1000~2500nm，而最佳的厚度為1500~2000nm。當厚度小於1000nm，且其厚度1000nm都形成碳化(即完全碳化)時，其遮蔽缺陷的功效不足，顯示面板仍會視為不良品。當厚度大於2500nm時，則碳化結構的表面容易形成凹凸表面，影響顯示品質與美觀。因此，於本實施例中，有機透明導電材料層的厚度為1000~2500nm 時，其形成的碳化結構，能夠遮蔽缺陷，且保有良好的顯示品質與外觀。此外，於本實施例中，有機透明導電材料的阻值為107~109Ω，不僅有助於靜電防護，釋放電荷，滿足顯示面板釋放電荷需求，也能有效提升顯示面板觸控功能的靈敏性。
圖5為本發明的另一實施例的顯示面板結構示意圖，與圖4的實施例的差異在於，靜電防護層包括表層601、中間層602及底層603，其中，中間層為一有機透明導電材料。於本實施例中，中間層602用於雷射碳化，因此，中間層602為有機透明導電材料層，且其透光率大於90%。舉例來說，有機透明導電材料可為聚乙烯噻吩及以其為聚合基體的衍生物。
於圖5的實施例中，表層601作為保護層，防止中間層602因碳化而剝落。具體而言，表層601可為透明導電材料，其透光率大於90%，且較佳具有一定的靜電釋放能力。另外，底層603則主要作用為增加與基板的粘著力，舉例來說，底層603於濕膜狀態下具有較佳流動性，可助於提高黏著力。具體而言，底層603可為有機材料。於本實施例中，中間層602為PEDOT時，表層601的材料也可選用為PEDOT。當表層601與中間層602的材料相同時，受到PEDOT材料粘結性好的作用下，可有效防止中間層因碳化造成剝離，且具有優良導電性，可以起到釋放靜電的功效。同時，底層603材料易可選用PEDOT等透明高流動性成膜物質，其液態流動性好，可填補第一基板2的凹坑 (Dimple)，同時，PEDOT與玻璃(第一基板2的材料)之間粘著性好。於本實施例中，表層601可提供保護作用，而底層603則為增加與第一基板2的黏著力，中間層602則主要作為雷射修補的有機材料層。表層601、底層603與中間層602的材料選用則不以上述舉例為限，如能達到相同作用即可。舉例而言，為使得靜電防護層具有靜電釋放或協助觸控感測的作用時，可將表層601選用特定阻抗的透明導電材料，而中間層602則選用有機材料層，而於另外的變形例中，中間層602可選用有機透明導電材料，同時兼具雷射修復的碳化層外，也可作為靜電釋放層。。
本發明的實施例中，底層603的厚度C為20~100nm左右，底層603為增強粘性作用，因此保證穩定成膜(下限20nm)的狀態下，越薄越好。表層601的厚度A為100~300nm，表層601在起到保護作用的同時，仍兼備靜電釋放作用，以PEDOT材質為例，其最佳電阻為107~109Ω，此時膜厚約為115nm左右。靜電防護層的底層、中間層與上層因不同作用導致對其膜厚要求不同，底層603的厚度C小於表層601的厚度A，表層601的厚度A小於中間層602的厚度B，使得三層的厚度關係為C<A<B。
本發明的實施例中，當發現顯示面板存在缺陷時，便可利用雷射將對應缺陷位置處的靜電保護層進行碳化。請同時參閱圖1的步驟S05與步驟S06，舉例而言，在顯示面板的製作過程中，可能會有污染物留存在顯示面板內，如有粉塵、污染顆粒存在於彩色濾光層中。當後端進行 檢測時，發現顯示面板有亮點，其亮點則是由粉塵、污染顆粒處所引起。此時，利用雷射將其亮點區域的靜電防護層進行照射，而使其形成碳化結構。通過碳化結構來遮蔽其粉塵、污染顆粒，進而達到修補亮點的作用。
本發明的另一實施例提出一種顯示面板，此顯示面板的靜電防護層經過亮點碳化修復，圖6為本發明的實施例的顯示面板完全碳化的示意圖。圖6與圖4的元件符號及其名稱皆相同，在此不進行贅述，其差易在於：圖6的顯示面板中，靜電防護層6具有碳化結構7。於本實施例中，碳化結構7的厚度定義為H1，靜電防護層6的厚度定義為H，而碳化結構7的厚度H1與靜電防護層6的厚度H實質上相同。由於厚度實質相同，因此，稱為完全碳化。於另一實施例，如圖7所示，圖7顯示的為本發明的實施例的顯示面板部分碳化的示意圖。於本實施例中，碳化結構7的厚度定義為H1，靜電防護層6的厚度定義為H，而碳化結構7的厚度H1小於靜電防護層6的厚度H。換言之，靜電防護層6的部分深度(如厚度H1)受到雷射照射而形成碳化結構，部分深度(如厚度H扣除厚度H1)則保持靜電防護層的材料特性，因此，稱為部分碳化。於本實施例中，進行雷射修復時，通過控制雷射的能量，可使有機層部分碳化。部分碳化可避免碳化結構直接接觸第一基板2，減少碳化結構7與第一基板2剝離的機會。同時，雷射修復時，不會因雷射被第一基板2(如：玻璃材料)所反射，造成局部暈開的狀況，雷射形狀/面積均容易控制。於本實施例中，靜電防護層6可為有機導電透明 材料，舉例而言，材料可為PEDOT，且受到材料的穩定成膜特性，其靜電防護層6的厚度減去靜電防護層碳化的深度大於等於20nm，即，H-H1的厚度最小可為20nm。
請繼續參閱圖8、圖9與圖10，其中圖8、圖9與圖10為圖5的顯示面板的變形例，其中圖8、圖9與圖10的圖示及其名稱與圖5所繪皆相同，在此不進行贅述。圖8顯示本發明的實施例的顯示面板的中間層碳化的示意圖，圖9顯示本發明的實施例的顯示面板的中間層及部分底層碳化的示意圖，圖10顯示本發明的實施例的顯示面板的中間層及全部底層碳化的示意圖。於圖8的實施例中，中間層602為有機材料，因此，在通過雷射照射後，碳化結構7則形成於中間層602。於本實施例中，碳化結構7與第一基板2之間設有底層603，可以強化碳化結構7與第一基板2之間的黏著力，減少剝離的機會。同時，碳化結構7亦可受到表層601的保護，減少碳化結構7發生脆化落脫的現象。於圖9的實施例中，中間層602與底層603皆為有機材料，因此，通過特定的雷射能量與照射時間，可使得碳化結構7可形成於中間層602與底層603。於本實施例中，底層603的部分深度才能被雷射照射而形成碳化結構7，使得底層603為部分碳化。通過如此的設計，部分底層603結構(與第一基板2鄰接的區域)沒有形成碳化結構7，可助於增加黏著力。於圖10的變形例中，中間層602與底層603皆為完全碳化結構7，使得碳化結構7的遮蔽效果可提升。為了兼顧靜電釋放與協助觸控作用，表層601與中間層602可為特定電阻範圍的導電 透明材料，如阻值為107~109Ω。
圖11為本發明實施例的雷射修補的顯示面板的上視圖，其中為能清楚表達，圖11僅繪示出彩色濾光片與碳化結構，其它層別則忽略。本發明亦不限於圖11的各濾光結構R/G/B的排列方式，可依不同需求或設計，而有其他的排列方式。本發明的實施例中，雷射修復原理為將雷射聚焦在一點上對靜電防護層進行碳化，雷射具有高度的靶向性，雷射面積範圍控制力高，使得碳化結構大置上可落於R/G/B範圍，不會波及隔壁的R/G/B結構，可以準確修復缺陷處。於圖11的實施例中，彩色濾光片1包含第一濾光結構B、第二濾光結構R、第三濾光結構G與黑色結構BM，其中黑色結構BM可為格狀結構，而第一濾光結構B、第二濾光結構R與第三濾光結構G彼此之間是通過黑色結構BM來分離區隔。於本實施例中，污染物9存在於第一濾光結構B內，使得對應此第一濾光結構B的像素或子像素會形成亮點，而影響觀賞品質。通過雷射照射而進行缺陷修補後，可在對應的靜電防護層形成碳化結構7，用來遮蔽污染物9。具體而言，於圖11的實施例中，碳化結構7的位置對應於第一濾光結構B，使得碳化結構7與第一濾光結構B在垂直投影方向上有重迭面積。
於本實施例中，為了使得碳化結構7能夠完全遮蔽含有污染物的像素或子像素(即圖11的單一的第一濾光結構B)，則碳化結構7的面積要等於或大於第一濾光結構B。當碳化結構7的面積實質等於第一濾光結構B時，即碳化結 構7剛好遮蔽第一濾光片結構B；當碳化結構7的面積大於第一濾光結構B時，即碳化結構7會遮蔽第一濾光片結構B與鄰接第一濾光結構B的黑色結構BM，使得碳化結構7的面積會小於第一濾光結構B與其鄰接的黑色結構BM的面積總和。此外，雷射具有高度的靶向性且雷射面積範圍控制力高，再進行雷射修補時，並不影響其它區域的顏色濾光結構。換言之，如圖11的實施例所示，碳化面積的最小單位為一個像素或一個子像素，碳化像素的周邊鄰近像素/子像素不會發生形狀改變。為便於說明，圖11僅以污染物9存在於第一濾光結構B來舉例，但本發明不以此為限。
於另一實施例中，當污染物同時存在於第一濾光結構B與第二濾光結構R時，則碳化結構7會對應其第一濾光結構B與第二濾光結構R所形成，以達到碳化結構7遮蔽而修補。為了使得碳化結構7能夠完全遮蔽含有污染物的像素或子像素(如本實施例的第一濾光結構B與第二濾光結構R)，則碳化結構7的面積要等於第一濾光結構B與第二濾光結構R的面積總和。如當雷射照射的範圍能夠略大一點，即碳化結構7的面積要大於第一濾光結構B與第二濾光結構R的面積總和，使得碳化結構7除了能夠完全遮蔽第一濾光結構B與第二濾光結構R之外，也可覆蓋部分的黑色結構BM。於本實施例中，當進行雷射修復時，由於各濾光結構R/G/B之間設有黑色結構BM，即使雷射面積略大於濾光結構R/G/B範圍，也是落在黑色結構BM範圍，不會波及到四周正常像素，不會影響視覺。
傳統修復模式下，即利用雷射照射彩色濾光片來進行修復亮點時，也會有26.4%的比例而存在具有黑暈現象的顯示面板，即其修復成功率為73.6%。本發明的實施例中，利用雷射照射靜電防護層來形成碳化結構時，其修復成功率即可上升至96%或其以上。此資料的說明，即為表達本發明的實施例的可行性，但不以此為限。
本發明的實施例的顯示面板可用於手機、電腦等各種應用顯示面板的產品中，且均可採用本發明的實施例的方法簡單修復其亮點缺陷。
本發明的實施例中，本身利用的是顯示面板自身的靜電防護層來進行雷射修補，無需新增額外有機層。將靜電防護層作為亮點修復層，靜電防護層集成了釋放靜電及修復的功能，於其它實施例中，也可作為協助觸控感測所使用。當亮點出現時，無需製造額外的遮蓋層，即可簡單的通過碳化結構的方式實現亮點的暗化，大大簡化了製造工藝的複雜度，避免了因多餘工藝導致的產品缺陷，降低了產品的厚度。此外，靜電防護層設置於基板外側，亦可減少雷射對於顯示面板內的其它元件的影響，大幅提升良率。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (22)

  1. 一種顯示面板的製造方法，包含：分別形成一彩色濾光片與一透明導電膜於一第一基板的一表面，其中該彩色濾光片位於該第一基板與該透明導電膜之間；形成一靜電防護層於該第一基板的另一表面；形成另一透明導電膜於一第二基板；形成一顯示分子層於該第一基板及該第二基板之間；進行一缺陷檢測於該顯示面板；以及當發現一缺陷存在於該顯示面板時，雷射照射於該靜電防護層，使得對應於該缺陷位置的該靜電防護層形成一碳化結構。
  2. 如請求項1所述之顯示面板的製造方法，其中在形成該靜電防護層的步驟中，該靜電防護層包含一有機透明導電材料層。
  3. 如請求項2所述之顯示面板的製造方法，其中在形成該靜電防護層的步驟中，以濕膜狀態下塗佈該有機透明導電材料層於該第一基板。
  4. 如請求項2所述之顯示面板的製造方法，其中該有機透明導電材料層的厚度為1000nm~2500nm。
  5. 如請求項2所述之顯示面板的製造方法， 其中該有機透明導電材料層的阻值為10 7~10 9Ω。
  6. 如請求項2所述之顯示面板的製造方法，其中該有機透明導電材料層的材料為聚乙烯噻吩及以聚乙烯噻吩為聚合基體的衍生物。
  7. 一種顯示面板，包括：一第一基板；一彩色濾光片，設置於該第一基板的一表面；一第一透明導電膜，設置於該第一基板的該表面，其中，該彩色濾光片位於該第一基板與該透明導電膜之間；一靜電防護層，設置於該第一基板的另一表面，其中該靜電防護層包括一有機透明導電材料層，且該有機透明導電材料層的厚度為1000~2500nm；一第二基板；一第二透明導電膜，設置於該第二基板；以及一顯示分子層，夾設於該第一基板與該第二基板之間。
  8. 如請求項7所述之顯示面板，其中該有機透明導電材料層的阻值為10 7~10 9Ω。
  9. 如請求項7所述之顯示面板，其中該有機透明導電材料層的材料為聚乙烯噻吩及以聚乙烯噻吩為聚合基體的衍生物。
  10. 如請求項7所述之顯示面板，其中該靜電防護層包括一表層、一中間層及一底層，該中間層為該有機透明導電材料層。
  11. 如請求項10所述之顯示面板，其中該中間層的透光率大於90%。
  12. 如請求項10所述之顯示面板，其中該表層及該底層為相同的透明導電材料。
  13. 如請求項10所述之顯示面板，其中該底層的厚度小於該表層的厚度，該表層的厚度小於該中間層的厚度。
  14. 一種顯示面板，包括：一第一基板；一彩色濾光片，設置於該第一基板的一表面；一第一透明導電膜，設置於該第一基板的該表面，該彩色濾光片位於該第一基板與該第一透明導電膜之間；一靜電防護層，設置於該第一基板的另一表面，其中該靜電防護層具有一碳化結構；一第二基板；一第二透明導電膜，設置於該第二基板；以及一顯示分子層，設於該第一基板與該第二基板之間。
  15. 如請求項14所述之顯示面板，其中該靜電防護層包含一有機透明導電材料層，且該有機透明導電材料層的阻值為10 7~10 9Ω。
  16. 如請求項15所述之顯示面板，其中該有機透明導電材料層的材料為聚乙烯噻吩及以聚乙烯噻吩為聚合基體的衍生物。
  17. 如請求項14所述之顯示面板，其中該碳化結構的面積小於該靜電防護層的面積。
  18. 如請求項14所述之顯示面板，其中該靜電防護層包括一表層、一中間層及一底層，該中間層為一有機透明導電材料。
  19. 如請求項18所述之顯示面板，其中該碳化結構位於該中間層。
  20. 如請求項14所述之顯示面板，其中該彩色濾光片包含一第一濾光結構、一第二濾光結構與一黑色結構，該黑色結構位於該第一濾光結構與該第二濾光結構，且該碳化結構位置對應於該第一濾光結構。
  21. 如請求項20所述之顯示面板，其中該碳化結構的面積等於或大於該第一濾光結構，且該碳化結構 的面積小於該第一濾光結構與該該第二濾光結構的面積總和。
  22. 如請求項20所述之顯示面板，其中該碳化結構位置對應於該第二濾光結構，且該碳化結構的面積等於或大於該第一濾光結構與該該第二濾光結構的面積總和。
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